JPH09208559A - 環式n−ビニル化合物の製造法 - Google Patents
環式n−ビニル化合物の製造法Info
- Publication number
- JPH09208559A JPH09208559A JP8020797A JP2079796A JPH09208559A JP H09208559 A JPH09208559 A JP H09208559A JP 8020797 A JP8020797 A JP 8020797A JP 2079796 A JP2079796 A JP 2079796A JP H09208559 A JPH09208559 A JP H09208559A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- catalyst
- cyclic
- ring
- formula
- compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 title claims abstract description 45
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 title claims abstract description 26
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 11
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 81
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 29
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 19
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 19
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 19
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims abstract description 19
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims abstract description 13
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 claims abstract description 13
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 claims abstract description 9
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 23
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 19
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 14
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims description 12
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 10
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 4
- 239000000470 constituent Substances 0.000 claims description 4
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 claims description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 4
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 4
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 3
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 claims description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 73
- 239000002994 raw material Substances 0.000 abstract description 16
- -1 vinyl compound Chemical class 0.000 abstract description 10
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 4
- 239000000571 coke Substances 0.000 abstract description 3
- 238000004939 coking Methods 0.000 abstract description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract description 3
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 abstract description 3
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 abstract description 2
- 239000003905 agrochemical Substances 0.000 abstract description 2
- 239000003814 drug Substances 0.000 abstract description 2
- 229920001002 functional polymer Polymers 0.000 abstract description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 abstract description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 abstract description 2
- 229940079593 drug Drugs 0.000 abstract 1
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Substances C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- ZIOLCZCJJJNOEJ-UHFFFAOYSA-N N-pyrrolyl-2-ethanol Natural products OCCN1C=CC=C1 ZIOLCZCJJJNOEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 14
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 11
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- OSSNTDFYBPYIEC-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylimidazole Chemical compound C=CN1C=CN=C1 OSSNTDFYBPYIEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- CTXUTPWZJZHRJC-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylpyrrole Chemical compound C=CN1C=CC=C1 CTXUTPWZJZHRJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- AMSDWLOANMAILF-UHFFFAOYSA-N 2-imidazol-1-ylethanol Chemical compound OCCN1C=CN=C1 AMSDWLOANMAILF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 6
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 6
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 1H-pyrrole Natural products C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N Pyrrolidine Chemical compound C1CCNC1 RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 3
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012024 dehydrating agents Substances 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 125000005677 ethinylene group Chemical group [*:2]C#C[*:1] 0.000 description 3
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 3
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 3
- KDCGOANMDULRCW-UHFFFAOYSA-N 7H-purine Chemical group N1=CNC2=NC=NC2=C1 KDCGOANMDULRCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 9H-carbazole Chemical group C1=CC=C2C3=CC=CC=C3NC2=C1 UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N Morpholine Chemical compound C1COCCN1 YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 2
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N benzopyrrole Natural products C1=CC=C2NC=CC2=C1 SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HUCVOHYBFXVBRW-UHFFFAOYSA-M caesium hydroxide Chemical compound [OH-].[Cs+] HUCVOHYBFXVBRW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 2
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 2
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 description 2
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 2
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 2
- 238000005580 one pot reaction Methods 0.000 description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 2
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 2
- HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 1H-benzimidazole Chemical group C1=CC=C2NC=NC2=C1 HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ONUKJVAMEHIPPH-UHFFFAOYSA-N 2-(2,3-dihydropyrrol-1-yl)ethanol Chemical compound OCCN1CCC=C1 ONUKJVAMEHIPPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKFDCBRMNNSAAW-UHFFFAOYSA-N 2-(morpholin-4-yl)ethanol Chemical compound OCCN1CCOCC1 KKFDCBRMNNSAAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PKHVUMMJMYKRNO-UHFFFAOYSA-N 2-(triazol-1-yl)ethanol Chemical compound OCCN1C=CN=N1 PKHVUMMJMYKRNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMSODMZESSGVBE-UHFFFAOYSA-N 2-Oxazoline Chemical compound C1CN=CO1 IMSODMZESSGVBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFCSWCVEJLETKA-UHFFFAOYSA-N 2-piperazin-1-ylethanol Chemical compound OCCN1CCNCC1 WFCSWCVEJLETKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DXFBKDSQMUFYLD-UHFFFAOYSA-N 2-pyrazol-1-ylethanol Chemical compound OCCN1C=CC=N1 DXFBKDSQMUFYLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSEBUVRVKCANEP-UHFFFAOYSA-N 2-pyrroline Chemical compound C1CC=CN1 RSEBUVRVKCANEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 2h-oxazine Chemical compound N1OC=CC=C1 BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AGIJRRREJXSQJR-UHFFFAOYSA-N 2h-thiazine Chemical compound N1SC=CC=C1 AGIJRRREJXSQJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N C[CH]O Chemical group C[CH]O GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005696 Diammonium phosphate Substances 0.000 description 1
- WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N Pyrazole Chemical compound C=1C=NNC=1 WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052915 alkaline earth metal silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- ILRRQNADMUWWFW-UHFFFAOYSA-K aluminium phosphate Chemical compound O1[Al]2OP1(=O)O2 ILRRQNADMUWWFW-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910000323 aluminium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- ZSIQJIWKELUFRJ-UHFFFAOYSA-N azepane Chemical compound C1CCCNCC1 ZSIQJIWKELUFRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MVYYDFCVPLFOKV-UHFFFAOYSA-M barium monohydroxide Chemical compound [Ba]O MVYYDFCVPLFOKV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical group C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012964 benzotriazole Chemical group 0.000 description 1
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- MNNHAPBLZZVQHP-UHFFFAOYSA-N diammonium hydrogen phosphate Chemical compound [NH4+].[NH4+].OP([O-])([O-])=O MNNHAPBLZZVQHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000388 diammonium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019838 diammonium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBRDBODLCHKXHI-UHFFFAOYSA-N epolamine Chemical compound OCCN1CCCC1 XBRDBODLCHKXHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000004880 explosion Methods 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTNDZQHUAFNZQY-UHFFFAOYSA-N imidazoline Chemical compound C1CN=CN1 MTNDZQHUAFNZQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZOUSPYUWWUPPK-UHFFFAOYSA-N indole Natural products CC1=CC=CC2=C1C=CN2 PZOUSPYUWWUPPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N indolenine Natural products C1=CC=C2CC=NC2=C1 RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001041 indolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 1
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- AZHVQJLDOFKHPZ-UHFFFAOYSA-N oxathiazine Chemical compound O1SN=CC=C1 AZHVQJLDOFKHPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- ZVJHJDDKYZXRJI-UHFFFAOYSA-N pyrroline Natural products C1CC=NC1 ZVJHJDDKYZXRJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- CBDKQYKMCICBOF-UHFFFAOYSA-N thiazoline Chemical compound C1CN=CS1 CBDKQYKMCICBOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003852 triazoles Chemical class 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Pyrrole Compounds (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 副原料を一切用いること無く、環式N−(2
−ヒドロキシアルキル)化合物から直接一段反応で連続
的に、副原料由来の廃棄物の発生もなく、簡便かつ安全
に環式N−ビニル化合物を製造する方法を提供すること
である。 【解決手段】 環式N−(2−ヒドロキシアルキル)化
合物を、アルカリ金属元素および/またはアルカリ土類
金属元素とケイ素とを含有して成る酸化物を触媒に用
い、気相で分子内脱水反応させ、直接一段反応で環式N
−ビニル化合物に転化することを特徴とする。
−ヒドロキシアルキル)化合物から直接一段反応で連続
的に、副原料由来の廃棄物の発生もなく、簡便かつ安全
に環式N−ビニル化合物を製造する方法を提供すること
である。 【解決手段】 環式N−(2−ヒドロキシアルキル)化
合物を、アルカリ金属元素および/またはアルカリ土類
金属元素とケイ素とを含有して成る酸化物を触媒に用
い、気相で分子内脱水反応させ、直接一段反応で環式N
−ビニル化合物に転化することを特徴とする。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、下記一般式
(1):
(1):
【0002】
【化7】
【0003】(式中、Zは、環に窒素原子を含む5〜7
員環を表わし、前記窒素原子に、2−ヒドロキシアルキ
ル基が結合している。前記環には、前記窒素原子の他
に、窒素、酸素および硫黄からなる群より選ばれるヘテ
ロ原子を含んでいても良い。また前記環は不飽和結合を
含んでいても良く、また芳香族環と縮合していても良
い。Rは、水素または、置換基を有していてもよい炭素
数1〜6のの炭化水素基である。)で表される環式N−
(2−ヒドロキシアルキル)化合物から気相分子内脱水
反応により、直接一段で下記一般式(2):
員環を表わし、前記窒素原子に、2−ヒドロキシアルキ
ル基が結合している。前記環には、前記窒素原子の他
に、窒素、酸素および硫黄からなる群より選ばれるヘテ
ロ原子を含んでいても良い。また前記環は不飽和結合を
含んでいても良く、また芳香族環と縮合していても良
い。Rは、水素または、置換基を有していてもよい炭素
数1〜6のの炭化水素基である。)で表される環式N−
(2−ヒドロキシアルキル)化合物から気相分子内脱水
反応により、直接一段で下記一般式(2):
【0004】
【化8】
【0005】(式中、ZおよびRは、前記一般式(1)
と同じである。)で表される環式N−ビニル化合物を製
造する方法、およびそれに用いる触媒に関する。
と同じである。)で表される環式N−ビニル化合物を製
造する方法、およびそれに用いる触媒に関する。
【0006】本発明の方法により製造される3級N−ビ
ニル化合物は、医薬品、農薬、有機合製品および各種機
能性ポリマーの原料等として有用な化合物である。
ニル化合物は、医薬品、農薬、有機合製品および各種機
能性ポリマーの原料等として有用な化合物である。
【0007】
【従来の技術】環式N−ビニル化合物の一般的な製造方
法としては、環式2級アミン化合物とアセチレンを触媒
存在下に加圧下で反応させる方法(特開平7−1794
04号)が公知である。しかし、アセチレンを用いる方
法は、アセチレンの分解爆発の危険性を伴うことから、
それを避けるため大量の溶媒を用いる低濃度条件が必要
となったり、低収率であったり、反応に長時間を要する
等、工業生産においては生産性が不十分である事が多
い。
法としては、環式2級アミン化合物とアセチレンを触媒
存在下に加圧下で反応させる方法(特開平7−1794
04号)が公知である。しかし、アセチレンを用いる方
法は、アセチレンの分解爆発の危険性を伴うことから、
それを避けるため大量の溶媒を用いる低濃度条件が必要
となったり、低収率であったり、反応に長時間を要する
等、工業生産においては生産性が不十分である事が多
い。
【0008】従って、環式2級アミン化合物とオキソラ
ン化合物またはアルキレンカーボネート類との反応で容
易に製造できる環式N−(2−ヒドロキシアルキル)化
合物を原料に用い、分子内脱水反応により、高収率で環
式N−ビニル化合物に転化できれば、低コスト、省労力
型の工業的に優れた製造方法となり得る。
ン化合物またはアルキレンカーボネート類との反応で容
易に製造できる環式N−(2−ヒドロキシアルキル)化
合物を原料に用い、分子内脱水反応により、高収率で環
式N−ビニル化合物に転化できれば、低コスト、省労力
型の工業的に優れた製造方法となり得る。
【0009】この方法として、例えばドイツ特許第85
4955号明細書には、N−(2−ヒドロキシエチル)
イミダゾールを、気相で酸化アルミニウム触媒存在下に
脱水反応させ、N−ビニル−2−イミダゾールを製造す
る方法が開示されている(下記式(4))が、実施例記
載の収率は65%と低く、工業的に実施するには触媒性
能が不十分である。また、本発明者らが酸化アルミニウ
ムを用いて本発明と同じ反応条件下に行った実験(比較
例1)では、N−ビニルイミダゾールの選択率が低い結
果となった。
4955号明細書には、N−(2−ヒドロキシエチル)
イミダゾールを、気相で酸化アルミニウム触媒存在下に
脱水反応させ、N−ビニル−2−イミダゾールを製造す
る方法が開示されている(下記式(4))が、実施例記
載の収率は65%と低く、工業的に実施するには触媒性
能が不十分である。また、本発明者らが酸化アルミニウ
ムを用いて本発明と同じ反応条件下に行った実験(比較
例1)では、N−ビニルイミダゾールの選択率が低い結
果となった。
【0010】
【化9】
【0011】一方、特開平4−21672号明細書に
は、N−(2−ヒドロキシエチル)イミダゾールを、液
相でアルカリ金属の水酸化物またはアルコラートを脱水
剤に用いて脱水し、N−ビニルイミダゾールを製造する
方法が開示されている。更に、ソビエト連邦特許第17
28239号明細書には、N−(2−ヒドロキシエチ
ル)ピロールを液相で水酸化カリウムを脱水剤に用いて
脱水し、N−ビニルピロールを製造する方法が開示され
ている。しかし、この様な液相でアルカリを脱水剤とし
て用いる方法は、多量のアルカリを必要とする上に、反
応後のアルカリの処理が必要となることや、原料の環式
N−(2−ヒドロキシエチル)化合物の転化率が低いと
いう問題がある。
は、N−(2−ヒドロキシエチル)イミダゾールを、液
相でアルカリ金属の水酸化物またはアルコラートを脱水
剤に用いて脱水し、N−ビニルイミダゾールを製造する
方法が開示されている。更に、ソビエト連邦特許第17
28239号明細書には、N−(2−ヒドロキシエチ
ル)ピロールを液相で水酸化カリウムを脱水剤に用いて
脱水し、N−ビニルピロールを製造する方法が開示され
ている。しかし、この様な液相でアルカリを脱水剤とし
て用いる方法は、多量のアルカリを必要とする上に、反
応後のアルカリの処理が必要となることや、原料の環式
N−(2−ヒドロキシエチル)化合物の転化率が低いと
いう問題がある。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、前記
一般式(1)で表される環式N−(2−ヒドロキシアル
キル)化合物を、副原料や溶媒を一切用いずに、気相に
おいて直接一段で、相当する環式N−ビニル化合物に高
転化率で極めて高選択的に転化できる、簡便で合理的な
3級N−ビニル化合物の製造方法、およびそれに用いる
触媒を提供するものである。
一般式(1)で表される環式N−(2−ヒドロキシアル
キル)化合物を、副原料や溶媒を一切用いずに、気相に
おいて直接一段で、相当する環式N−ビニル化合物に高
転化率で極めて高選択的に転化できる、簡便で合理的な
3級N−ビニル化合物の製造方法、およびそれに用いる
触媒を提供するものである。
【0013】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前述の従
来技術における種々の問題点を解消し、簡便で安全かつ
安価に環式N−ビニル化合物を製造する方法として、環
式N−(2−ヒドロキシアルキル)化合物を気相におい
て直接一段で脱水反応させ得る触媒について鋭意検討す
る中、アルカリ金属元素および/またはアルカリ土類金
属元素と、ケイ素とを含有して成る酸化物を触媒に用い
ると、環式N−(2−ヒドロキシアルキル)化合物が、
高転化率で高選択的に長期にわたり安定して、環式N−
ビニル化合物に転化できることを見いだし、本発明を完
成するに至った。
来技術における種々の問題点を解消し、簡便で安全かつ
安価に環式N−ビニル化合物を製造する方法として、環
式N−(2−ヒドロキシアルキル)化合物を気相におい
て直接一段で脱水反応させ得る触媒について鋭意検討す
る中、アルカリ金属元素および/またはアルカリ土類金
属元素と、ケイ素とを含有して成る酸化物を触媒に用い
ると、環式N−(2−ヒドロキシアルキル)化合物が、
高転化率で高選択的に長期にわたり安定して、環式N−
ビニル化合物に転化できることを見いだし、本発明を完
成するに至った。
【0014】すなわち、本発明の製造法は、前記一般式
(1)で表される環式N−(2−ヒドロキシアルキル)
化合物を、アルカリ金属元素および/またはアルカリ土
類金属元素と、ケイ素とを含有して成る酸化物触媒存在
下に気相で分子内脱水反応させることを特徴とする前記
一般式(2)で表される環式N−ビニル化合物の製造法
である。
(1)で表される環式N−(2−ヒドロキシアルキル)
化合物を、アルカリ金属元素および/またはアルカリ土
類金属元素と、ケイ素とを含有して成る酸化物触媒存在
下に気相で分子内脱水反応させることを特徴とする前記
一般式(2)で表される環式N−ビニル化合物の製造法
である。
【0015】また本発明の触媒は、前記一般式(1)で
表される環式N−(2−ヒドロキシアルキル)化合物
を、気相で脱水反応させて、前記一般式(2)で表され
る環式N−ビニル化合物を製造するために用いる触媒で
あって、該触媒が、アルカリ金属元素および/またはア
ルカリ土類金属元素とケイ素とを含有して成る酸化物触
媒であることを特徴とする環式N−ビニル化合物製造用
触媒である。
表される環式N−(2−ヒドロキシアルキル)化合物
を、気相で脱水反応させて、前記一般式(2)で表され
る環式N−ビニル化合物を製造するために用いる触媒で
あって、該触媒が、アルカリ金属元素および/またはア
ルカリ土類金属元素とケイ素とを含有して成る酸化物触
媒であることを特徴とする環式N−ビニル化合物製造用
触媒である。
【0016】前記酸化物触媒は、下記一般式(3):
【0017】
【化10】
【0018】(式中、Mはアルカリ金属元素およびアル
カリ土類金属元素より選ばれる1種以上の元素、Siは
ケイ素、XはB、Al、Pからなる群より選ばれる1種
以上の元素、Oは酸素を表す。また添字a、b、c、d
は、a=1のときb=1〜500、c=0〜1の範囲を
とり、dはa、b、cの値および各種構成元素の結合状
態により定まる数値である。)で表される酸化物である
ことが好ましい。
カリ土類金属元素より選ばれる1種以上の元素、Siは
ケイ素、XはB、Al、Pからなる群より選ばれる1種
以上の元素、Oは酸素を表す。また添字a、b、c、d
は、a=1のときb=1〜500、c=0〜1の範囲を
とり、dはa、b、cの値および各種構成元素の結合状
態により定まる数値である。)で表される酸化物である
ことが好ましい。
【0019】
【発明の実施の形態】以下に本発明を詳しく説明する。
【0020】本発明において、反応原料としては、本発
明の反応条件下に蒸気として触媒層に供給可能な蒸気圧
を有する前記一般式(1)で表される環式N−(2−ヒ
ドロキシアルキル)化合物が用いられる。
明の反応条件下に蒸気として触媒層に供給可能な蒸気圧
を有する前記一般式(1)で表される環式N−(2−ヒ
ドロキシアルキル)化合物が用いられる。
【0021】前記一般式(1)中において、Zは、環に
窒素原子を含む5〜7員環を表わし、前記窒素原子に、
2−ヒドロキシアルキル基が結合している。前記環に
は、前記窒素原子の他に、窒素原子、酸素原子および硫
黄原子からなる群より選ばれるヘテロ原子をさらに含ん
でいても良い。また前記環には不飽和結合を含んでいて
も良く、また芳香族環と縮合していても良い。
窒素原子を含む5〜7員環を表わし、前記窒素原子に、
2−ヒドロキシアルキル基が結合している。前記環に
は、前記窒素原子の他に、窒素原子、酸素原子および硫
黄原子からなる群より選ばれるヘテロ原子をさらに含ん
でいても良い。また前記環には不飽和結合を含んでいて
も良く、また芳香族環と縮合していても良い。
【0022】また前記環は、2−ヒドロキシアルキル基
が結合している窒素原子を除いた原子には置換基を有し
ていてもよく、該置換基としては、水酸基、アミノ基、
シアノ基、ニトロ基、アルコキシ基およびハロゲン基等
が挙げられる。
が結合している窒素原子を除いた原子には置換基を有し
ていてもよく、該置換基としては、水酸基、アミノ基、
シアノ基、ニトロ基、アルコキシ基およびハロゲン基等
が挙げられる。
【0023】前記一般式(1)中において、Rは、水素
または、置換基を有していてもよい炭素数1〜6のの炭
化水素基である。前記炭化水素基の有してもよい置換基
としては、水酸基、アミノ基、シアノ基、ニトロ基、ア
ルコキシ基およびハロゲン基等が挙げられる。
または、置換基を有していてもよい炭素数1〜6のの炭
化水素基である。前記炭化水素基の有してもよい置換基
としては、水酸基、アミノ基、シアノ基、ニトロ基、ア
ルコキシ基およびハロゲン基等が挙げられる。
【0024】前記一般式(1)で表される環式N−(2
−ヒドロキシアルキル)化合物の具体例としては、ピロ
リジン、ピペリジン、ヘキサメチレンイミンおよびモル
ホリン等の飽和環式アミンのN−(2−ヒドロキシエチ
ル)化合物またはN−(2−ヒドロキシプロピル)化合
物;ピロリン、オキサゾリン、チアゾリン、イミダゾリ
ン、オキサジン、チアジンおよびオキサチアジン等の不
飽和環式アミンのN−(2−ヒドロキシエチル)化合物
またはN−(2−ヒドロキシプロピル)化合物;ピロー
ル、イミダゾール、ピラゾールおよびトリアゾール等の
芳香族環式アミンのN−(2−ヒドロキシエチル)化合
物またはN−(2−ヒドロキシプロピル)化合物;イン
ドール、ベンゾイミダゾール、ベンゾトリアゾール、イ
ンドリン、プリンおよびカルバゾール等の芳香族環が縮
合したアミンのN−(2−ヒドロキシエチル)化合物ま
たはN−(2−ヒドロキシプロピル)化合物等が挙げら
れるが、これらに限られるものではない。中でも、前記
芳香族環式アミンのN−(2−ヒドロキシエチル)化合
物は非常に効率よく環式N−ビニル化合物に転化できる
ことから、特に好適である。
−ヒドロキシアルキル)化合物の具体例としては、ピロ
リジン、ピペリジン、ヘキサメチレンイミンおよびモル
ホリン等の飽和環式アミンのN−(2−ヒドロキシエチ
ル)化合物またはN−(2−ヒドロキシプロピル)化合
物;ピロリン、オキサゾリン、チアゾリン、イミダゾリ
ン、オキサジン、チアジンおよびオキサチアジン等の不
飽和環式アミンのN−(2−ヒドロキシエチル)化合物
またはN−(2−ヒドロキシプロピル)化合物;ピロー
ル、イミダゾール、ピラゾールおよびトリアゾール等の
芳香族環式アミンのN−(2−ヒドロキシエチル)化合
物またはN−(2−ヒドロキシプロピル)化合物;イン
ドール、ベンゾイミダゾール、ベンゾトリアゾール、イ
ンドリン、プリンおよびカルバゾール等の芳香族環が縮
合したアミンのN−(2−ヒドロキシエチル)化合物ま
たはN−(2−ヒドロキシプロピル)化合物等が挙げら
れるが、これらに限られるものではない。中でも、前記
芳香族環式アミンのN−(2−ヒドロキシエチル)化合
物は非常に効率よく環式N−ビニル化合物に転化できる
ことから、特に好適である。
【0025】本発明に係る触媒は、下記一般式(5)で
表される環式N−(2−ヒドロキシアルキル)化合物の
環式N−ビニル化合物への気相分子内脱水反応に極めて
有効に作用する。
表される環式N−(2−ヒドロキシアルキル)化合物の
環式N−ビニル化合物への気相分子内脱水反応に極めて
有効に作用する。
【0026】
【化11】
【0027】(式中、ZおよびRは、前記一般式(1)
と同じである。) 本発明に係る触媒の触媒活性は、長時間連続で反応して
も殆ど低下せず、また仮に、コーキング等で劣化して
も、空気を通しコークを燃焼すれば活性は回復する特性
を有している。
と同じである。) 本発明に係る触媒の触媒活性は、長時間連続で反応して
も殆ど低下せず、また仮に、コーキング等で劣化して
も、空気を通しコークを燃焼すれば活性は回復する特性
を有している。
【0028】本発明に係る触媒は、アルカリ金属元素お
よび/またはアルカリ土類金属元素と、ケイ素とを含有
して成る酸化物であり、好ましくは下記一般式(3):
よび/またはアルカリ土類金属元素と、ケイ素とを含有
して成る酸化物であり、好ましくは下記一般式(3):
【0029】
【化12】
【0030】(式中、Mはアルカリ金属元素およびアル
カリ土類金属元素より選ばれる1種以上の元素、Siは
ケイ素、XはB、AlおよびPからなる群より選ばれる
1種以上の元素、Oは酸素を表す。また添字a、b、
c、dは、a=1のときb=1〜500、c=0〜1の
範囲をとり、dはa、b、cの値および各種構成元素の
結合状態により定まる数値である。)で表される酸化物
である。
カリ土類金属元素より選ばれる1種以上の元素、Siは
ケイ素、XはB、AlおよびPからなる群より選ばれる
1種以上の元素、Oは酸素を表す。また添字a、b、
c、dは、a=1のときb=1〜500、c=0〜1の
範囲をとり、dはa、b、cの値および各種構成元素の
結合状態により定まる数値である。)で表される酸化物
である。
【0031】前記一般式(3)中のM元素(アルカリ金
属元素およびアルカリ土類金属元素より選ばれる1種以
上の元素)に対するケイ素の割合は、原子比で1〜50
0倍の範囲であり、好ましくは5〜200倍の範囲であ
る。
属元素およびアルカリ土類金属元素より選ばれる1種以
上の元素)に対するケイ素の割合は、原子比で1〜50
0倍の範囲であり、好ましくは5〜200倍の範囲であ
る。
【0032】また、必要に応じて添加するB、Alおよ
びPからなる群より選ばれる1種以上の元素XのMに対
する割合は、Mの種類およびケイ素の割合にもよるが、
通常は原子比で0〜1が適当である。
びPからなる群より選ばれる1種以上の元素XのMに対
する割合は、Mの種類およびケイ素の割合にもよるが、
通常は原子比で0〜1が適当である。
【0033】本発明に係る触媒の触媒調製法としては、
特に限定されるものではなく、従来公知のあらゆる方法
が適用できる。触媒の必須成分の一つであるアルカリ金
属元素および/またはアルカリ土類金属元素は、その原
料として、酸化物、水酸化物、ハロゲン化物、塩類(炭
酸塩、硝酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、硫酸塩等)お
よび金属などが用いられる。もう一方の必須成分である
ケイ素は、その原料として酸化ケイ素、ケイ酸、ケイ酸
塩類(アルカリ金属ケイ酸塩、アルカリ土類金属ケイ酸
塩等)、ケイ素含有モレキュラシーブス(アルミノシリ
ケート、シリコアルミノホスフェート等)および有機ケ
イ酸エステルなどが用いられる。さらに、必要に応じて
加えられる第3成分Xの原料としては、酸化物、水酸化
物、ハロゲン化物、塩類(炭酸塩、硝酸塩、カルボン酸
塩、リン酸塩、硫酸塩等)および金属などが用いられ
る。
特に限定されるものではなく、従来公知のあらゆる方法
が適用できる。触媒の必須成分の一つであるアルカリ金
属元素および/またはアルカリ土類金属元素は、その原
料として、酸化物、水酸化物、ハロゲン化物、塩類(炭
酸塩、硝酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、硫酸塩等)お
よび金属などが用いられる。もう一方の必須成分である
ケイ素は、その原料として酸化ケイ素、ケイ酸、ケイ酸
塩類(アルカリ金属ケイ酸塩、アルカリ土類金属ケイ酸
塩等)、ケイ素含有モレキュラシーブス(アルミノシリ
ケート、シリコアルミノホスフェート等)および有機ケ
イ酸エステルなどが用いられる。さらに、必要に応じて
加えられる第3成分Xの原料としては、酸化物、水酸化
物、ハロゲン化物、塩類(炭酸塩、硝酸塩、カルボン酸
塩、リン酸塩、硫酸塩等)および金属などが用いられ
る。
【0034】本発明に係る触媒の調製法例を挙げれば、
アルカリ金属元素源および/またはアルカリ土類金属
元素源とケイ素源を水中に溶解もしくは懸濁させ、攪拌
下加熱濃縮し、乾燥後成型し、焼成を経て触媒とする方
法。アルカリ金属元素源および/またはアルカリ土類
金属元素源の水溶液中に酸化ケイ素成型体を浸した後、
加熱乾固し、乾燥、焼成を経て触媒とする方法。各種
ケイ酸塩あるいはケイ素含有酸化物に、アルカリ金属元
素源および/またはアルカリ土類金属元素源の水溶液を
加え混合した後、乾燥、成型、焼成を経て触媒とする方
法。ケイ素含有モレキュラシーブスに、アルカリ金属
元素および/またはアルカリ土類金属元素源をイオン交
換法によりドープした後、乾燥、成型、焼成を経て触媒
とする方法等がある。
アルカリ金属元素源および/またはアルカリ土類金属
元素源とケイ素源を水中に溶解もしくは懸濁させ、攪拌
下加熱濃縮し、乾燥後成型し、焼成を経て触媒とする方
法。アルカリ金属元素源および/またはアルカリ土類
金属元素源の水溶液中に酸化ケイ素成型体を浸した後、
加熱乾固し、乾燥、焼成を経て触媒とする方法。各種
ケイ酸塩あるいはケイ素含有酸化物に、アルカリ金属元
素源および/またはアルカリ土類金属元素源の水溶液を
加え混合した後、乾燥、成型、焼成を経て触媒とする方
法。ケイ素含有モレキュラシーブスに、アルカリ金属
元素および/またはアルカリ土類金属元素源をイオン交
換法によりドープした後、乾燥、成型、焼成を経て触媒
とする方法等がある。
【0035】なお、触媒に第3成分Xを含有させるに
は、アルカリ金属元素源および/またはアルカリ土類金
属元素源、またはケイ素源中にX成分を含有する原料を
用いても良いし、触媒調製途中でX成分原料を加えても
良い。
は、アルカリ金属元素源および/またはアルカリ土類金
属元素源、またはケイ素源中にX成分を含有する原料を
用いても良いし、触媒調製途中でX成分原料を加えても
良い。
【0036】また前記触媒は、公知の坦体(例えば、ア
ルミナ、シリコンカーバイド等)に坦持または混合して
用いることもできる。
ルミナ、シリコンカーバイド等)に坦持または混合して
用いることもできる。
【0037】前記触媒の焼成温度は、用いる触媒原料の
種類にもよるが、300〜1000℃の広い範囲をと
れ、好ましくは400〜800℃の範囲である。
種類にもよるが、300〜1000℃の広い範囲をと
れ、好ましくは400〜800℃の範囲である。
【0038】本発明の実施にあたり反応器は、固定床流
通型、流動床型のいずれでも使用できる。反応は、原料
の環式N−(2−ヒドロキシアルキル)化合物が、気相
状態を維持し得る反応温度および反応圧力下で行う。反
応圧力は通常、常圧または減圧であるが、加圧も可能で
ある。反応温度は、他の反応条件によっても異なるが、
250〜450℃、好ましくは300〜400℃の範囲
が適当である。反応温度が250℃より低いと原料の環
式N−(2−ヒドロキシアルキル)化合物の転化率が大
幅に低下し、450℃より高いと目的の環式N−ビニル
化合物の選択率が著しく低下する。原料の環式N−(2
−ヒドロキシアルキル)化合物は、窒素、ヘリウム、ア
ルゴン、炭化水素等の、目的反応に不活性な物質による
希釈および/または減圧により、環式N−(2−ヒドロ
キシアルキル)化合物の分圧を5〜600mmHgとし
て触媒層に供給する。原料の環式N−(2−ヒドロキシ
アルキル)化合物の空間速度(GHSV)は、原料の種
類および他の反応条件によっても異なり、1〜1000
h-1、好ましくは10〜500h-1の範囲である。
通型、流動床型のいずれでも使用できる。反応は、原料
の環式N−(2−ヒドロキシアルキル)化合物が、気相
状態を維持し得る反応温度および反応圧力下で行う。反
応圧力は通常、常圧または減圧であるが、加圧も可能で
ある。反応温度は、他の反応条件によっても異なるが、
250〜450℃、好ましくは300〜400℃の範囲
が適当である。反応温度が250℃より低いと原料の環
式N−(2−ヒドロキシアルキル)化合物の転化率が大
幅に低下し、450℃より高いと目的の環式N−ビニル
化合物の選択率が著しく低下する。原料の環式N−(2
−ヒドロキシアルキル)化合物は、窒素、ヘリウム、ア
ルゴン、炭化水素等の、目的反応に不活性な物質による
希釈および/または減圧により、環式N−(2−ヒドロ
キシアルキル)化合物の分圧を5〜600mmHgとし
て触媒層に供給する。原料の環式N−(2−ヒドロキシ
アルキル)化合物の空間速度(GHSV)は、原料の種
類および他の反応条件によっても異なり、1〜1000
h-1、好ましくは10〜500h-1の範囲である。
【0039】
【実施例】以下、実施例により、本発明を具体的に説明
するが、本発明はこれらにより何等限定されるものでは
ない。
するが、本発明はこれらにより何等限定されるものでは
ない。
【0040】なお、実施例中の転化率、選択率、および
単流収率は、次の定義に従う。
単流収率は、次の定義に従う。
【0041】
【数1】
【0042】実施例1 (触媒調製)LiOH・H2O(0.70g)を水10
0gに溶解させた液中に、球状シリカゲル(5−10メ
ッシュ)30gを2時間浸漬した。その後、湯浴上で加
熱乾固し、空気中120℃で20時間乾燥後、空気中6
00℃で2時間焼成して酸素を除く原子比でLi1Si
30なる組成の触媒を調製した。
0gに溶解させた液中に、球状シリカゲル(5−10メ
ッシュ)30gを2時間浸漬した。その後、湯浴上で加
熱乾固し、空気中120℃で20時間乾燥後、空気中6
00℃で2時間焼成して酸素を除く原子比でLi1Si
30なる組成の触媒を調製した。
【0043】(反応)この触媒5mlを、内径10mm
のステンレス製反応管に充填した後、380℃の溶融塩
浴に浸漬し、該反応管内にN−(2−ヒドロキシエチ
ル)ピロールを、その分圧が76mmHgとなるまで窒
素で希釈した原料ガスを、N−(2−ヒドロキシエチ
ル)ピロールの空間速度200h-1 で供給し、常圧で
反応を行った。供給開始1時間後の反応管出口ガスをメ
タノールに捕集し、ガスクロマトグラフにより分析した
結果、N−(2−ヒドロキシエチル)ピロールの転化
率、N−ビニルピロールの選択率および単流収率は、そ
れぞれ71.2モル%,78.4モル%,55.8モル
%であった。
のステンレス製反応管に充填した後、380℃の溶融塩
浴に浸漬し、該反応管内にN−(2−ヒドロキシエチ
ル)ピロールを、その分圧が76mmHgとなるまで窒
素で希釈した原料ガスを、N−(2−ヒドロキシエチ
ル)ピロールの空間速度200h-1 で供給し、常圧で
反応を行った。供給開始1時間後の反応管出口ガスをメ
タノールに捕集し、ガスクロマトグラフにより分析した
結果、N−(2−ヒドロキシエチル)ピロールの転化
率、N−ビニルピロールの選択率および単流収率は、そ
れぞれ71.2モル%,78.4モル%,55.8モル
%であった。
【0044】実施例2 (触媒調製)実施例1においてLiOH・H2O(0.
70g)をNaNO3(4.3g)、に変更した他は実
施例1と同様にして酸素を除く原子比でNa1Si10な
る組成の触媒を調製した。
70g)をNaNO3(4.3g)、に変更した他は実
施例1と同様にして酸素を除く原子比でNa1Si10な
る組成の触媒を調製した。
【0045】(反応)この触媒を用いて、実施例1と同
様にして反応を行った。供給開始1時間後のN−(2−
ヒドロキシエチル)ピロールの転化率、N−ビニルピロ
ールの選択率および単流収率は、それぞれ74.9モル
%,80.3モル%,60.1モル%であった。
様にして反応を行った。供給開始1時間後のN−(2−
ヒドロキシエチル)ピロールの転化率、N−ビニルピロ
ールの選択率および単流収率は、それぞれ74.9モル
%,80.3モル%,60.1モル%であった。
【0046】実施例3 (触媒調製)K2CO3(3.46g)を水50gに溶解
させ、90℃で加熱、攪拌しながら、SiO2(30
g)を加え、加熱濃縮後、空気中120℃で20時間乾
燥した。得られた固体を9〜16メッシュに破砕し、空
気中500℃で2時間焼成し、酸素を除く原子比でK1
Si10なる組成の触媒を調製した。
させ、90℃で加熱、攪拌しながら、SiO2(30
g)を加え、加熱濃縮後、空気中120℃で20時間乾
燥した。得られた固体を9〜16メッシュに破砕し、空
気中500℃で2時間焼成し、酸素を除く原子比でK1
Si10なる組成の触媒を調製した。
【0047】(反応)この触媒を用いて、反応温度を3
70℃に変えた他は実施例1と同様にして反応を行っ
た。供給開始1時間後のN−(2−ヒドロキシエチル)
ピロールの転化率、N−ビニルピロールの選択率および
単流収率は、それぞれ84.6モル%,95.2モル
%,80.5モル%であった。
70℃に変えた他は実施例1と同様にして反応を行っ
た。供給開始1時間後のN−(2−ヒドロキシエチル)
ピロールの転化率、N−ビニルピロールの選択率および
単流収率は、それぞれ84.6モル%,95.2モル
%,80.5モル%であった。
【0048】実施例4 (触媒調製)実施例3においてK2CO3(3.46g)
を、RbNO3(3.69g)に変更し、焼成温度を6
00℃とした他は実施例3と同様にして、酸素を除く原
子比でRb1Si20なる組成の触媒を調製した。
を、RbNO3(3.69g)に変更し、焼成温度を6
00℃とした他は実施例3と同様にして、酸素を除く原
子比でRb1Si20なる組成の触媒を調製した。
【0049】(反応)この触媒を用いて、実施例3と同
じ反応を行った。供給開始1時間後のN−(2−ヒドロ
キシエチル)ピロールの転化率、N−ビニルピロールの
選択率および単流収率は、それぞれ98.3モル%,9
9.0モル%,97.3モル%であった。
じ反応を行った。供給開始1時間後のN−(2−ヒドロ
キシエチル)ピロールの転化率、N−ビニルピロールの
選択率および単流収率は、それぞれ98.3モル%,9
9.0モル%,97.3モル%であった。
【0050】実施例5 (触媒調製)実施例3においてK2CO3(3.46g)
を、Cs2CO3(4.07g)に変更した他は実施例3
と同様にして、酸素を除く原子比でCs1Si20なる組
成の触媒を調製した。
を、Cs2CO3(4.07g)に変更した他は実施例3
と同様にして、酸素を除く原子比でCs1Si20なる組
成の触媒を調製した。
【0051】(反応)この触媒を用いて、実施例3と同
じ反応を行った。供給開始1時間後のN−(2−ヒドロ
キシエチル)ピロールの転化率、N−ビニルピロールの
選択率および単流収率は、それぞれ100.0モル%,
99.5モル%,99.5モル%であった。
じ反応を行った。供給開始1時間後のN−(2−ヒドロ
キシエチル)ピロールの転化率、N−ビニルピロールの
選択率および単流収率は、それぞれ100.0モル%,
99.5モル%,99.5モル%であった。
【0052】実施例6 Cs2CO3(0.41g)を水50gに溶解させた液中
に、球状シリカゲル(5−10メッシュ)30gを2時
間浸漬した。その後、湯浴上で加熱乾固し、空気中12
0℃で20時間乾燥後、空気中500℃で2時間焼成し
て酸素を除く原子比でCs1Si200なる組成の触媒を調
製した。
に、球状シリカゲル(5−10メッシュ)30gを2時
間浸漬した。その後、湯浴上で加熱乾固し、空気中12
0℃で20時間乾燥後、空気中500℃で2時間焼成し
て酸素を除く原子比でCs1Si200なる組成の触媒を調
製した。
【0053】(反応)この触媒を用いて、実施例5と同
じ反応を行った。供給開始1時間後のN−(2−ヒドロ
キシエチル)ピロールの転化率、N−ビニルピロールの
選択率および単流収率は、それぞれ72.4モル%,9
9.3モル%,71.9モル%であった。
じ反応を行った。供給開始1時間後のN−(2−ヒドロ
キシエチル)ピロールの転化率、N−ビニルピロールの
選択率および単流収率は、それぞれ72.4モル%,9
9.3モル%,71.9モル%であった。
【0054】実施例7 実施例3においてK2CO3(3.46g)を(1.15
g)に変更し、焼成温度を700℃とした他は実施例3
と同様にして、酸素を除く原子比でK1Si30なる組成
の触媒を調製した。
g)に変更し、焼成温度を700℃とした他は実施例3
と同様にして、酸素を除く原子比でK1Si30なる組成
の触媒を調製した。
【0055】(反応)この触媒を用いて、反応原料をN
−(2−ヒドロキシエチル)イミダゾールに変更し、反
応温度を300℃とした他は実施例1と同様にして反応
および分析を行った。供給開始1時間後のN−(2−ヒ
ドロキシエチル)イミダゾールの転化率、N−ビニルイ
ミダゾールの選択率および単流収率は、それぞれ57.
5モル%,84.5モル%,48.6モル%であった。
−(2−ヒドロキシエチル)イミダゾールに変更し、反
応温度を300℃とした他は実施例1と同様にして反応
および分析を行った。供給開始1時間後のN−(2−ヒ
ドロキシエチル)イミダゾールの転化率、N−ビニルイ
ミダゾールの選択率および単流収率は、それぞれ57.
5モル%,84.5モル%,48.6モル%であった。
【0056】実施例8 実施例5においてCs2CO3(4.07g)を(8.1
4g)に変更した他は実施例5と同様にして、酸素を除
く原子比でCs1Si10なる組成の触媒を調製した。
4g)に変更した他は実施例5と同様にして、酸素を除
く原子比でCs1Si10なる組成の触媒を調製した。
【0057】(反応)この触媒を用いて、実施例7と同
じ反応を行った。供給開始1時間後のN−(2−ヒドロ
キシエチル)イミダゾールの転化率、N−ビニルイミダ
ゾールの選択率および単流収率は、それぞれ84.5モ
ル%,91.3モル%,77.1モル%であった。
じ反応を行った。供給開始1時間後のN−(2−ヒドロ
キシエチル)イミダゾールの転化率、N−ビニルイミダ
ゾールの選択率および単流収率は、それぞれ84.5モ
ル%,91.3モル%,77.1モル%であった。
【0058】実施例9 (触媒調製)実施例3においてK2CO3(3.46g)
を、BaOH・8H2O(5.26g)に変更し、焼成
温度を600℃とした他は実施例3と同様にして、酸素
を除く原子比でBa1Si30なる組成の触媒を調製し
た。
を、BaOH・8H2O(5.26g)に変更し、焼成
温度を600℃とした他は実施例3と同様にして、酸素
を除く原子比でBa1Si30なる組成の触媒を調製し
た。
【0059】(反応)この触媒を用いて、反応温度を3
20℃に変更した他は実施例7と同様にして反応を行っ
た。供給開始1時間後のN−(2−ヒドロキシエチル)
イミダゾールの転化率、N−ビニルイミダゾールの選択
率および単流収率は、それぞれ62.1モル%,81.
4モル%,50.5モル%であった。
20℃に変更した他は実施例7と同様にして反応を行っ
た。供給開始1時間後のN−(2−ヒドロキシエチル)
イミダゾールの転化率、N−ビニルイミダゾールの選択
率および単流収率は、それぞれ62.1モル%,81.
4モル%,50.5モル%であった。
【0060】比較例1 実施例8において触媒を活性アルミナ(500℃、2時
間焼成品)に変更した他は全く同様にして反応および分
析を行った。供給開始1時間後のN−(2−ヒドロキシ
エチル)イミダゾールの転化率、N−ビニルイミダゾー
ルの選択率および単流収率は、それぞれ75.9モル
%,48.8モル%,37.0モル%であった。
間焼成品)に変更した他は全く同様にして反応および分
析を行った。供給開始1時間後のN−(2−ヒドロキシ
エチル)イミダゾールの転化率、N−ビニルイミダゾー
ルの選択率および単流収率は、それぞれ75.9モル
%,48.8モル%,37.0モル%であった。
【0061】実施例10 (触媒調製)実施例3においてK2CO3(3.46g)
を、LiOH・H2O(0.21g)およびCsOH
(3.0g)に変更し、焼成温度を600℃とした他は
実施例3と同様にして、酸素を除く原子比でCs0.8L
i0.2Si20なる組成の触媒を調製した。
を、LiOH・H2O(0.21g)およびCsOH
(3.0g)に変更し、焼成温度を600℃とした他は
実施例3と同様にして、酸素を除く原子比でCs0.8L
i0.2Si20なる組成の触媒を調製した。
【0062】(反応)この触媒を用いて、反応温度を3
30℃に変更した他は実施例7と同様にして反応を行っ
た。供給開始1時間後のN−(2−ヒドロキシエチル)
イミダゾールの転化率、N−ビニルイミダゾールの選択
率および単流収率は、それぞれ90.1モル%,90.
3モル%,81.4モル%であった。
30℃に変更した他は実施例7と同様にして反応を行っ
た。供給開始1時間後のN−(2−ヒドロキシエチル)
イミダゾールの転化率、N−ビニルイミダゾールの選択
率および単流収率は、それぞれ90.1モル%,90.
3モル%,81.4モル%であった。
【0063】実施例11 (触媒調製)Cs2CO3(8.15g)、リン酸アルミ
ニウム(0.61g)およびSiO2(30g)に水1
50gを加え、湯浴上で加熱混合しながら濃縮乾固し
た。次いで、空気中120℃で20時間乾燥し、9−1
6メッシュに破砕後空気中600℃で2時間焼成して、
酸素を除く原子比でCs1Si10Al0.1P0.1なる組成
の触媒を調製した。
ニウム(0.61g)およびSiO2(30g)に水1
50gを加え、湯浴上で加熱混合しながら濃縮乾固し
た。次いで、空気中120℃で20時間乾燥し、9−1
6メッシュに破砕後空気中600℃で2時間焼成して、
酸素を除く原子比でCs1Si10Al0.1P0.1なる組成
の触媒を調製した。
【0064】(反応)この触媒を用いて、反応温度を3
30℃に変更した他は実施例7と同様にして反応を行っ
た。供給開始1時間後のN−(2−ヒドロキシエチル)
イミダゾールの転化率、N−ビニルイミダゾールの選択
率および単流収率は、それぞれ86.3モル%,89.
5モル%,77.2モル%であった。
30℃に変更した他は実施例7と同様にして反応を行っ
た。供給開始1時間後のN−(2−ヒドロキシエチル)
イミダゾールの転化率、N−ビニルイミダゾールの選択
率および単流収率は、それぞれ86.3モル%,89.
5モル%,77.2モル%であった。
【0065】実施例12−17 実施例5の触媒を用いて、反応原料をN−(2−ヒドロ
キシエチル)ピロリジン(実施例12)、N−(2−ヒ
ドロキシエチル)ピロリン(実施例13)、N−(2−
ヒドロキシエチル)ピペラジン(実施例14)、N−
(2−ヒドロキシエチル)モルホリン(実施例15)、
N−(2−ヒドロキシエチル)ピラゾール(実施例11
6)およびN−(2−ヒドロキシエチル)トリアゾール
(実施例17)に変更し、表−1に記載の反応条件で、
実施例5と同様にして反応を行った。供給開始1時間後
の原料N−(2−ヒドロキシエチル)化合物の転化率、
生成N−ビニル化合物の選択率および単流収率を表−1
に示した。
キシエチル)ピロリジン(実施例12)、N−(2−ヒ
ドロキシエチル)ピロリン(実施例13)、N−(2−
ヒドロキシエチル)ピペラジン(実施例14)、N−
(2−ヒドロキシエチル)モルホリン(実施例15)、
N−(2−ヒドロキシエチル)ピラゾール(実施例11
6)およびN−(2−ヒドロキシエチル)トリアゾール
(実施例17)に変更し、表−1に記載の反応条件で、
実施例5と同様にして反応を行った。供給開始1時間後
の原料N−(2−ヒドロキシエチル)化合物の転化率、
生成N−ビニル化合物の選択率および単流収率を表−1
に示した。
【0066】
【表1】
【0067】実施例18 (触媒調製)Cs2CO3(8.15g)、リン酸第2ア
ンモニウム(1.32g)およびSiO2(30g)に
水150gを加え、湯浴上で加熱混合しながら濃縮乾固
した。次いで、空気中120℃で20時間乾燥し、9−
16メッシュに破砕後空気中60℃で2時間焼成して、
酸素を除く原子比でCs1Si10P0.2なる組成の触媒を
調製した。
ンモニウム(1.32g)およびSiO2(30g)に
水150gを加え、湯浴上で加熱混合しながら濃縮乾固
した。次いで、空気中120℃で20時間乾燥し、9−
16メッシュに破砕後空気中60℃で2時間焼成して、
酸素を除く原子比でCs1Si10P0.2なる組成の触媒を
調製した。
【0068】(反応)この触媒5mlをステンレス製反
応管に充填した後、350℃の溶融塩浴に浸した。次い
で、該反応管内を真空ポンプで減圧し、N−(2−ヒド
ロキシエチル)イミダゾールを出口圧76mmHg、空
間速度200hr-1の条件で供給した。反応を50時間
連続して行った。供給開始1時間後のN−(2−ヒドロ
キシエチル)イミダゾールの転化率、N−ビニルイミダ
ゾールの選択率および単流収率は、それぞれ95.4モ
ル%,92.3モル%,88.1モル%であり、50時
間後ではそれぞれ93.2モル%,93.3モル%,8
7.0モル%であった。
応管に充填した後、350℃の溶融塩浴に浸した。次い
で、該反応管内を真空ポンプで減圧し、N−(2−ヒド
ロキシエチル)イミダゾールを出口圧76mmHg、空
間速度200hr-1の条件で供給した。反応を50時間
連続して行った。供給開始1時間後のN−(2−ヒドロ
キシエチル)イミダゾールの転化率、N−ビニルイミダ
ゾールの選択率および単流収率は、それぞれ95.4モ
ル%,92.3モル%,88.1モル%であり、50時
間後ではそれぞれ93.2モル%,93.3モル%,8
7.0モル%であった。
【0069】
【発明の効果】本発明の製造法を用いれば、副原料を一
切用いること無く、環式N−(2−ヒドロキシアルキ
ル)化合物から直接一段反応で連続的に環式N−ビニル
化合物を製造でき、副原料由来の廃棄物の発生もなく、
簡便かつ安全な環式N−ビニル化合物の製造が可能とな
る。
切用いること無く、環式N−(2−ヒドロキシアルキ
ル)化合物から直接一段反応で連続的に環式N−ビニル
化合物を製造でき、副原料由来の廃棄物の発生もなく、
簡便かつ安全な環式N−ビニル化合物の製造が可能とな
る。
【0070】本発明の触媒を用いれば、副原料を一切用
いること無く、環式N−(2−ヒドロキシアルキル)化
合物から直接一段反応で連続的に環式N−ビニル化合物
を製造でき、副原料由来の廃棄物の発生もなく、簡便か
つ安全な環式N−ビニル化合物の製造が可能となる。ま
た本発明の触媒の触媒活性は、長時間連続で反応しても
殆ど低下せず、また仮に、コーキング等で劣化しても、
空気を通しコークを燃焼すれば活性は回復する特性を有
している。
いること無く、環式N−(2−ヒドロキシアルキル)化
合物から直接一段反応で連続的に環式N−ビニル化合物
を製造でき、副原料由来の廃棄物の発生もなく、簡便か
つ安全な環式N−ビニル化合物の製造が可能となる。ま
た本発明の触媒の触媒活性は、長時間連続で反応しても
殆ど低下せず、また仮に、コーキング等で劣化しても、
空気を通しコークを燃焼すれば活性は回復する特性を有
している。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 B01J 29/86 B01J 29/86 X C07D 207/08 C07D 207/08 207/20 207/20 231/12 231/12 Z 233/60 103 233/60 103 249/08 512 249/08 512 295/08 295/08 A Z // C07B 61/00 300 C07B 61/00 300
Claims (4)
- 【請求項1】 下記一般式(1): 【化1】 (式中、Zは、環に窒素原子を含む5〜7員環を表わ
し、前記窒素原子に、2−ヒドロキシアルキル基が結合
している。前記環には、前記窒素原子の他に、窒素、酸
素および硫黄からなる群より選ばれるヘテロ原子を含ん
でいても良い。また前記環は不飽和結合を含んでいても
良く、また芳香族環と縮合していても良い。Rは、水素
または、置換基を有していてもよい炭素数1〜6の炭化
水素基である。)で表される環式N−(2−ヒドロキシ
アルキル)化合物を、アルカリ金属元素および/または
アルカリ土類金属元素とケイ素とを含有して成る酸化物
触媒の存在下に、気相で分子内脱水反応させることを特
徴とする、下記一般式(2): 【化2】 (式中、ZおよびRは前記一般式(1)と同じであ
る。)で表される環式N−ビニル化合物の製造法。 - 【請求項2】 前記触媒が、下記一般式(3): 【化3】 (式中、Mはアルカリ金属元素およびアルカリ土類金属
元素より選ばれる1種以上の元素、Siはケイ素、Xは
B、AlおよびPからなる群より選ばれる1種以上の元
素、Oは酸素を表す。また添字a、b、c、dは、それ
ぞれの元素の原子数を表し、a=1のときb=1〜50
0、c=0〜1の範囲をとり、dはa、b、cの値およ
び各種構成元素の結合状態により定まる数値である。)
で表される酸化物である請求項1に記載の製造法。 - 【請求項3】 下記一般式(1): 【化4】 (式中、Zは、環に窒素原子を含む5〜7員環を表わ
し、前記窒素原子に、2−ヒドロキシアルキル基が結合
している。前記環には、前記窒素原子の他に、窒素、酸
素および硫黄からなる群より選ばれるヘテロ原子を含ん
でいても良い。また前記環は不飽和結合を含んでいても
良く、また芳香族環と縮合していても良い。Rは、水素
または、置換基を有していてもよい炭素数1〜6の炭化
水素基である。)で表される環式N−(2−ヒドロキシ
アルキル)化合物を、気相で分子内脱水反応させて、下
記一般式(2): 【化5】 (式中、ZおよびRは前記一般式(1)と同じであ
る。)で表される環式N−ビニル化合物を製造するため
に用いる触媒であって、該触媒が、アルカリ金属元素お
よび/またはアルカリ土類金属元素とケイ素とを含有し
て成る酸化物触媒であることを特徴とする環式N−ビニ
ル化合物製造用触媒。 - 【請求項4】 前記触媒が、下記一般式(3): 【化6】 (式中、Mはアルカリ金属元素およびアルカリ土類金属
元素より選ばれる1種以上の元素、Siはケイ素、Xは
B、AlおよびPからなる群より選ばれる1種以上の元
素、Oは酸素を表す。また添字a、b、c、dは、それ
ぞれの元素の原子数を表し、a=1のときb=1〜50
0、c=0〜1の範囲をとり、dはa、b、cの値およ
び各種構成元素の結合状態により定まる数値である。)
で表される酸化物である請求項3に記載の触媒。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8020797A JPH09208559A (ja) | 1996-02-07 | 1996-02-07 | 環式n−ビニル化合物の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8020797A JPH09208559A (ja) | 1996-02-07 | 1996-02-07 | 環式n−ビニル化合物の製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09208559A true JPH09208559A (ja) | 1997-08-12 |
Family
ID=12037064
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8020797A Pending JPH09208559A (ja) | 1996-02-07 | 1996-02-07 | 環式n−ビニル化合物の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH09208559A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006046540A1 (ja) * | 2004-10-25 | 2006-05-04 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | N-ビニルカルバゾール類の製法 |
CN116496196A (zh) * | 2023-04-14 | 2023-07-28 | 上海宇昂水性新材料科技股份有限公司 | 一种n-乙烯基吡咯烷酮的制备方法 |
-
1996
- 1996-02-07 JP JP8020797A patent/JPH09208559A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006046540A1 (ja) * | 2004-10-25 | 2006-05-04 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | N-ビニルカルバゾール類の製法 |
JPWO2006046540A1 (ja) * | 2004-10-25 | 2008-05-22 | 株式会社日本触媒 | N−ビニルカルバゾール類の製法 |
JP4503021B2 (ja) * | 2004-10-25 | 2010-07-14 | 株式会社日本触媒 | N−ビニルカルバゾール類の製法 |
CN116496196A (zh) * | 2023-04-14 | 2023-07-28 | 上海宇昂水性新材料科技股份有限公司 | 一种n-乙烯基吡咯烷酮的制备方法 |
CN116496196B (zh) * | 2023-04-14 | 2024-01-23 | 上海宇昂水性新材料科技股份有限公司 | 一种n-乙烯基吡咯烷酮的制备方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100242734B1 (ko) | 촉매로서 염기-처리된 제올라이트를 사용한 트리에틸렌디아민합성 | |
US5625076A (en) | Catalyst for production of tertiary N-alkenyl carboxylic acid amide, and process for production of tertiary N-alkenyl carboxylic acid amide using said catalyst | |
EP0239954B1 (en) | A method of synthesizing acid amide | |
JP2939433B2 (ja) | 環式n−ビニルカルボン酸アミドの製造方法 | |
WO1991019696A1 (en) | Process for producing n-substituted aziridine compound | |
JPH09208559A (ja) | 環式n−ビニル化合物の製造法 | |
JP2793485B2 (ja) | アルカノールアミンの製造方法およびこれに用いる触媒ならびに触媒の調製法 | |
JP3784878B2 (ja) | ビニルエーテルの製造法 | |
JP2660169B2 (ja) | 3級n−アルケニルカルボン酸アミド類の製造用触媒及び3級n−アルケニルカルボン酸アミド類の製造方法 | |
KR100289682B1 (ko) | 3급아민화합물의제조법 | |
JPH08165256A (ja) | 1,1,1,2,3,3−ヘキサフルオロプロパンの製造方法 | |
JPS603296B2 (ja) | インド−ル類の製造法 | |
WO1999054281A1 (fr) | Procede de production de dimethylacetamide | |
JPS5923306B2 (ja) | インド−ルまたはインド−ル誘導体の製造方法 | |
RU2780406C2 (ru) | Способ получения винил-н-бутилового эфира | |
JPH0212219B2 (ja) | ||
JPH09227465A (ja) | 3級n−ビニル化合物の製造法 | |
JP3004053B2 (ja) | N置換アジリジン化合物の製造方法および触媒 | |
JPS62152539A (ja) | アルカノ−ルアミン類の気相分子内脱水反応用触媒 | |
Junfeng et al. | Efficient Oxidative Coupling of Isochroman with Primary Arylamines Catalyzed by Heterogeneous Ni-Containing Layered Double Oxide | |
JP3736871B2 (ja) | N−(1−アルキルオキシアルキル)−2−オキサゾリドン類の気相分子内脱アルコール反応用触媒およびn−ビニル−2−オキサゾリドン類の製造方法 | |
JPS61291549A (ja) | 芳香族第二級アミノ化合物の製造方法 | |
JPS63211264A (ja) | インドリン類の製造法 | |
JPH08143497A (ja) | 不飽和エーテル類の製造法および不飽和エーテル類製造用触媒 | |
JPS58128371A (ja) | インド−ル類の製法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050614 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050614 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20050729 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060110 |