JPH09201771A - ショットピーニングによる表面改質方法 - Google Patents
ショットピーニングによる表面改質方法Info
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- JPH09201771A JPH09201771A JP3261696A JP3261696A JPH09201771A JP H09201771 A JPH09201771 A JP H09201771A JP 3261696 A JP3261696 A JP 3261696A JP 3261696 A JP3261696 A JP 3261696A JP H09201771 A JPH09201771 A JP H09201771A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ショット材を被処理物品の任意の部位に集中
的に当てたり、ショット材が被処理物品の局部に集中的
に当たるのを防止する。 【解決手段】 反射板26,26を、各インペラ10か
ら投射されて左レール部20の上方を通過したショット
材を、左レール部20の脚部18における頭部14の陰
となってショット材が直接当たり難い部位に向けて反射
するよう角度調整する。インペラ10,10からショッ
ト材を左レール部20に向けて投射すると、左レール部
20の頭部14および座部16にはショット材が直接当
たる。なお脚部18にも、頭部14の陰となっていない
部位にはショット材が直接当たる。左レール部20の上
方を通過して反射板26,26で反射したショット材
は、脚部18における頭部14の陰となってショット材
が当たり難い部位に当たる。
的に当てたり、ショット材が被処理物品の局部に集中的
に当たるのを防止する。 【解決手段】 反射板26,26を、各インペラ10か
ら投射されて左レール部20の上方を通過したショット
材を、左レール部20の脚部18における頭部14の陰
となってショット材が直接当たり難い部位に向けて反射
するよう角度調整する。インペラ10,10からショッ
ト材を左レール部20に向けて投射すると、左レール部
20の頭部14および座部16にはショット材が直接当
たる。なお脚部18にも、頭部14の陰となっていない
部位にはショット材が直接当たる。左レール部20の上
方を通過して反射板26,26で反射したショット材
は、脚部18における頭部14の陰となってショット材
が当たり難い部位に当たる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、ショットピーニ
ング装置から投射されるショット材を、被処理物品の表
面に当てることにより、該物品の表面改質を行なうショ
ットピーニングによる表面改質方法に関するものであ
る。
ング装置から投射されるショット材を、被処理物品の表
面に当てることにより、該物品の表面改質を行なうショ
ットピーニングによる表面改質方法に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】各種の産業分野で使用される鉄鋼製品
は、その使用部位によっては高度の耐久性が要求される
ために、その製品の表面には適宜の表面改質処理が施さ
れる。この表面改質処理としては、鋼球やカットワイヤ
等のショット材を被処理物品の表面に高速で当てるショ
ットピーニングが知られている。このショットピーニン
グ処理を行なうには、例えば図5に示すように、高速回
転する2基のインペラ10,10の下方に、被処理物品
としてのマンガンクロッシングレール12(以後、単に
「レール」とも称す)を位置決めした状態で、各インペラ
10にショット材を供給する。インペラ10に供給され
たショット材は、レール12に向けて高速で投射されて
表面に当たり、これによりレール表面の強度、耐久性、
特性等が高められるものである。
は、その使用部位によっては高度の耐久性が要求される
ために、その製品の表面には適宜の表面改質処理が施さ
れる。この表面改質処理としては、鋼球やカットワイヤ
等のショット材を被処理物品の表面に高速で当てるショ
ットピーニングが知られている。このショットピーニン
グ処理を行なうには、例えば図5に示すように、高速回
転する2基のインペラ10,10の下方に、被処理物品
としてのマンガンクロッシングレール12(以後、単に
「レール」とも称す)を位置決めした状態で、各インペラ
10にショット材を供給する。インペラ10に供給され
たショット材は、レール12に向けて高速で投射されて
表面に当たり、これによりレール表面の強度、耐久性、
特性等が高められるものである。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】前記マンガンクロッシ
ングレール12は、頭部14と座部16および頭部14
と座部16とを連設する垂直な脚部18からなる2本の
レール部20,22が交差する形状を呈しているため、
該レール12のショットピーニング処理に際しては、左
レール部20または右レール部22を対象として別々に
処理している。例えば左レール部20を対象としてショ
ットピーニング処理を行なう場合は、前記2基のインペ
ラ10,10の間の略中央下部に左レール部20が臨む
ようにレール12を位置決めする。この状態で各インペ
ラ10から投射されるショット材が、左レール部20の
表面に当たって改質処理が施される。この場合におい
て、左レール部20に対して各インペラ10からのショ
ット材は斜め上方から投射されるため、頭部14より細
い脚部18には、頭部14の陰となってショット材が当
たらない部位を生ずる。また脚部18は垂直であるた
め、頭部14や座部16と比較してショット材の当たる
量は少なく、左レール部全体の均一な改質ができない問
題があった。
ングレール12は、頭部14と座部16および頭部14
と座部16とを連設する垂直な脚部18からなる2本の
レール部20,22が交差する形状を呈しているため、
該レール12のショットピーニング処理に際しては、左
レール部20または右レール部22を対象として別々に
処理している。例えば左レール部20を対象としてショ
ットピーニング処理を行なう場合は、前記2基のインペ
ラ10,10の間の略中央下部に左レール部20が臨む
ようにレール12を位置決めする。この状態で各インペ
ラ10から投射されるショット材が、左レール部20の
表面に当たって改質処理が施される。この場合におい
て、左レール部20に対して各インペラ10からのショ
ット材は斜め上方から投射されるため、頭部14より細
い脚部18には、頭部14の陰となってショット材が当
たらない部位を生ずる。また脚部18は垂直であるた
め、頭部14や座部16と比較してショット材の当たる
量は少なく、左レール部全体の均一な改質ができない問
題があった。
【0004】更に、前記インペラ10から投射されたシ
ョット材の一部が、処理対象となっている左レール部2
0に当たることなく処理対象となっていない隣接する右
レール部22の頭部14に当たり、このショット材が左
レール部20側に反射して座部16に集中的に当たるこ
とがある。この場合は、右レール部22側に位置する座
部16には、インペラ10から投射されて直接当たるシ
ョット材とは別に右レール部22から反射するショット
材も当たることとなり、該部位の改質度合が他の部位よ
りも高くなってしまう難点が指摘される。すなわち、イ
ンペラと被処理物品との位置関係や被処理物品の形状等
によって、被処理物品全体の改質度合を均一にすること
は困難で、品質の低い製品が製造される欠点があった。
ョット材の一部が、処理対象となっている左レール部2
0に当たることなく処理対象となっていない隣接する右
レール部22の頭部14に当たり、このショット材が左
レール部20側に反射して座部16に集中的に当たるこ
とがある。この場合は、右レール部22側に位置する座
部16には、インペラ10から投射されて直接当たるシ
ョット材とは別に右レール部22から反射するショット
材も当たることとなり、該部位の改質度合が他の部位よ
りも高くなってしまう難点が指摘される。すなわち、イ
ンペラと被処理物品との位置関係や被処理物品の形状等
によって、被処理物品全体の改質度合を均一にすること
は困難で、品質の低い製品が製造される欠点があった。
【0005】なお、被処理物品によっては、改質度合を
部分的に高くしたり低くすることが要請される場合もあ
るが、前述したインペラ10を用いた装置ではショット
材の投射範囲が広いために特定部分のみにショット材を
集中的に当てたり、または当てないようにすることはで
きなかった。
部分的に高くしたり低くすることが要請される場合もあ
るが、前述したインペラ10を用いた装置ではショット
材の投射範囲が広いために特定部分のみにショット材を
集中的に当てたり、または当てないようにすることはで
きなかった。
【0006】
【発明の目的】この発明は、前述した従来の技術に内在
している前記課題に鑑み、これを好適に解決するべく提
案されたものであって、ショット材を被処理物品の任意
の部位に集中的に当てたり、またはショット材が被処理
物品の局部に集中的に当たるのを防止することで、被処
理物品の全体を均一に改質処理したり、任意の部位の改
質度合を変えることのできるショットピーニングによる
表面改質方法を提供することを目的とする。
している前記課題に鑑み、これを好適に解決するべく提
案されたものであって、ショット材を被処理物品の任意
の部位に集中的に当てたり、またはショット材が被処理
物品の局部に集中的に当たるのを防止することで、被処
理物品の全体を均一に改質処理したり、任意の部位の改
質度合を変えることのできるショットピーニングによる
表面改質方法を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】前述した課題を克服し、
所期の目的を好適に達成するため本発明に係るショット
ピーニングによる表面改質方法は、ショットピーニング
装置から投射されるショット材を、被処理物品の表面に
当てることにより、該物品の表面改質を行なうショット
ピーニングにおいて、前記ショットピーニング装置から
投射されるショット材を、反射板を介して被処理物品の
任意の個所に向けて反射させるようにしたことを特徴と
する。
所期の目的を好適に達成するため本発明に係るショット
ピーニングによる表面改質方法は、ショットピーニング
装置から投射されるショット材を、被処理物品の表面に
当てることにより、該物品の表面改質を行なうショット
ピーニングにおいて、前記ショットピーニング装置から
投射されるショット材を、反射板を介して被処理物品の
任意の個所に向けて反射させるようにしたことを特徴と
する。
【0008】前記目的を好適に達成するため本願の別の
発明に係るショットピーニングによる表面改質方法は、
ショットピーニング装置から投射されるショット材を、
被処理物品の表面に当てることにより、該物品の表面改
質を行なうショットピーニングにおいて、前記ショット
ピーニング装置から投射されて、被処理物品の処理部位
以外の部位や他の部材等に当たって反射したショット材
が、被処理物品の処理部位における局部に集中的に当た
る場合に、前記処理部位以外の部位や他の部材等を、表
面に凹凸が形成されてショット材を乱反射させる乱反射
板で覆い、この乱反射板によりショット材を乱反射させ
ることによって、被処理物品の処理部位における局部に
ショット材が集中的に当たるのを防止するようにしたこ
とを特徴とする。
発明に係るショットピーニングによる表面改質方法は、
ショットピーニング装置から投射されるショット材を、
被処理物品の表面に当てることにより、該物品の表面改
質を行なうショットピーニングにおいて、前記ショット
ピーニング装置から投射されて、被処理物品の処理部位
以外の部位や他の部材等に当たって反射したショット材
が、被処理物品の処理部位における局部に集中的に当た
る場合に、前記処理部位以外の部位や他の部材等を、表
面に凹凸が形成されてショット材を乱反射させる乱反射
板で覆い、この乱反射板によりショット材を乱反射させ
ることによって、被処理物品の処理部位における局部に
ショット材が集中的に当たるのを防止するようにしたこ
とを特徴とする。
【0009】
【発明の実施の形態】次に、本発明に係るショットピー
ニングによる表面改質方法につき、好適な実施例を挙げ
て、添付図面を参照しながら以下説明する。なお、図5
を参照して従来の技術で説明した部材と同一の部材につ
いては、同じ符号を付して説明するものとする。
ニングによる表面改質方法につき、好適な実施例を挙げ
て、添付図面を参照しながら以下説明する。なお、図5
を参照して従来の技術で説明した部材と同一の部材につ
いては、同じ符号を付して説明するものとする。
【0010】図1は、本発明に係る請求項1の方法を好
適に実施し得る装置の概略構成図であって、2基のイン
ペラ10,10を回転自在に備えたショットピーニング
装置24は、各インペラ10を適宜の駆動手段(図示せ
ず)により高速で回転させるよう構成されている。ま
た、図示しない供給器を介して鋼球やカットワイヤ等の
ショット材を各インペラ10に供給するよう構成され、
該インペラ10に供給されたショット材は、ショットピ
ーニング装置24の下方に位置決めされた被処理物品と
してのマンガンクロッシングレール12に向けて投射さ
れるようになっている。なおレール12は、両インペラ
10,10の間における略中央部下方に、左レール部2
0が臨むよう位置決めされて、該左レール部20の改質
処理を行なうよう設定される。前記ショット材として
は、直径が約2mmの鋼球が好適に使用される。
適に実施し得る装置の概略構成図であって、2基のイン
ペラ10,10を回転自在に備えたショットピーニング
装置24は、各インペラ10を適宜の駆動手段(図示せ
ず)により高速で回転させるよう構成されている。ま
た、図示しない供給器を介して鋼球やカットワイヤ等の
ショット材を各インペラ10に供給するよう構成され、
該インペラ10に供給されたショット材は、ショットピ
ーニング装置24の下方に位置決めされた被処理物品と
してのマンガンクロッシングレール12に向けて投射さ
れるようになっている。なおレール12は、両インペラ
10,10の間における略中央部下方に、左レール部2
0が臨むよう位置決めされて、該左レール部20の改質
処理を行なうよう設定される。前記ショット材として
は、直径が約2mmの鋼球が好適に使用される。
【0011】前記レール12における処理部位となる左
レール部20を挟む両側に、ショット材が反射する材料
から形成された反射板26,26が配設され、各反射板
26は、適宜の調整手段(図示せず)によって左レール部
20に対する対向角度が可変されるよう構成される。な
お反射板26の材質としては、例えば高マンガン鋼が好
適に使用される。
レール部20を挟む両側に、ショット材が反射する材料
から形成された反射板26,26が配設され、各反射板
26は、適宜の調整手段(図示せず)によって左レール部
20に対する対向角度が可変されるよう構成される。な
お反射板26の材質としては、例えば高マンガン鋼が好
適に使用される。
【0012】前述したショットピーニング処理を実施す
る基本構成において、前記反射板26,26を、各イン
ペラ10から投射されて左レール部20に当たることな
く上方を通過したショット材を、該レール部20の脚部
18における頭部14の陰となってショット材が直接当
たり難い部位に向けて反射するよう角度調整する。この
状態で両インペラ10,10からショット材を左レール
部20に向けて投射すると、該左レール部20の頭部1
4および座部16にはショット材が直接当たる。なお脚
部18にも、頭部14の陰となっていない部位にはショ
ット材が直接当たる。また、左レール部20の上方を通
過したショット材は、前記反射板26,26に当って左
レール部20側に反射して脚部18における頭部14の
陰となってショット材が当たり難い部位に当たる。更
に、右側の反射板26によって右レール部22で反射す
るショット材の発生も防ぐことができるから、座部16
に反射ショット材が集中的に当たるのを防止し得る。す
なわち、処理対象である左レール部20の表面全体にシ
ョット材を均一に当てることができ、表面改質の均一化
を図ることができる。
る基本構成において、前記反射板26,26を、各イン
ペラ10から投射されて左レール部20に当たることな
く上方を通過したショット材を、該レール部20の脚部
18における頭部14の陰となってショット材が直接当
たり難い部位に向けて反射するよう角度調整する。この
状態で両インペラ10,10からショット材を左レール
部20に向けて投射すると、該左レール部20の頭部1
4および座部16にはショット材が直接当たる。なお脚
部18にも、頭部14の陰となっていない部位にはショ
ット材が直接当たる。また、左レール部20の上方を通
過したショット材は、前記反射板26,26に当って左
レール部20側に反射して脚部18における頭部14の
陰となってショット材が当たり難い部位に当たる。更
に、右側の反射板26によって右レール部22で反射す
るショット材の発生も防ぐことができるから、座部16
に反射ショット材が集中的に当たるのを防止し得る。す
なわち、処理対象である左レール部20の表面全体にシ
ョット材を均一に当てることができ、表面改質の均一化
を図ることができる。
【0013】図1に示す実施例では、次の条件で本発明
に係るショットピーニングによる表面改質方法を実施し
た。 被処理物品 :マンガンクロッシングレール ショット材 :直径2mmの鋼球 インペラの回転数 :2400R.P.M 処理時間 :8分 処理後における左レール部20の各部における表面のア
ークハイト値(mmA)を測定したところ、頭部14が
1.0〜1.5、脚部18が1.0〜1.5、座部16が
1.0〜1.5であった。すなわち、反射板26,26を
使用することによって左レール部20の表面全体にショ
ット材を均一に当てることができ、これによりアークハ
イト値を均一にすることができた。なお、実施例ではレ
ール表面の改質度合を均一にする場合としたが、反射板
26,26の角度を可変することにより、ショット材を
任意の部位に集中的に当てることにより、表面改質の度
合を故意に変えるようにすることも可能である。また、
表面改質方法を実施している間、前記反射板26,26
を所要範囲で揺動させることで、インペラ10,10か
ら投射されたショット材を所要範囲の部位に向けて反射
させることもできる。
に係るショットピーニングによる表面改質方法を実施し
た。 被処理物品 :マンガンクロッシングレール ショット材 :直径2mmの鋼球 インペラの回転数 :2400R.P.M 処理時間 :8分 処理後における左レール部20の各部における表面のア
ークハイト値(mmA)を測定したところ、頭部14が
1.0〜1.5、脚部18が1.0〜1.5、座部16が
1.0〜1.5であった。すなわち、反射板26,26を
使用することによって左レール部20の表面全体にショ
ット材を均一に当てることができ、これによりアークハ
イト値を均一にすることができた。なお、実施例ではレ
ール表面の改質度合を均一にする場合としたが、反射板
26,26の角度を可変することにより、ショット材を
任意の部位に集中的に当てることにより、表面改質の度
合を故意に変えるようにすることも可能である。また、
表面改質方法を実施している間、前記反射板26,26
を所要範囲で揺動させることで、インペラ10,10か
ら投射されたショット材を所要範囲の部位に向けて反射
させることもできる。
【0014】なお、前述した実施例と同一の条件で、反
射板26,26を使用しない状態で左レール部20の表
面改質を実施した比較例では、処理後における左レール
部20の各部における表面のアークハイト値(mmA)
は、頭部14が1.0〜1.5、脚部18が0.5〜0.
8、座部16が2.0以上であった。
射板26,26を使用しない状態で左レール部20の表
面改質を実施した比較例では、処理後における左レール
部20の各部における表面のアークハイト値(mmA)
は、頭部14が1.0〜1.5、脚部18が0.5〜0.
8、座部16が2.0以上であった。
【0015】図2は、本発明に係る請求項2の方法を好
適に実施し得る装置の概略構成図であって、前記ショッ
トピーニング装置24の下方に、マンガンクロッシング
レール12における左レール部20を改質処理するよう
該レール12を位置決めした状態で、右レール部22を
乱反射板28で覆う。この乱反射板28は、ショット材
が反射する、例えば高マンガン鋼を材質として表面に多
数の凸部30を形成した反射面34を備えたものであっ
て(図3参照)、この反射面34が左レール部20を指向
する状態で右レール部22に被覆される。
適に実施し得る装置の概略構成図であって、前記ショッ
トピーニング装置24の下方に、マンガンクロッシング
レール12における左レール部20を改質処理するよう
該レール12を位置決めした状態で、右レール部22を
乱反射板28で覆う。この乱反射板28は、ショット材
が反射する、例えば高マンガン鋼を材質として表面に多
数の凸部30を形成した反射面34を備えたものであっ
て(図3参照)、この反射面34が左レール部20を指向
する状態で右レール部22に被覆される。
【0016】この状態で両インペラ10,10からショ
ット材を左レール部20に向けて投射すると、左レール
部20の頭部14、脚部18および座部16にショット
材が直接当たる。またショット材の一部は、右レール部
22に被覆された乱反射板28の凹凸面に当って乱反射
し、この反射後のショット材も左レール部20に当た
る。この場合に、乱反射板28から反射するショット材
は左レール部20の特定部位(座部16)に集中的に当た
ることはないので、改質処理の度合が局部的に高くなる
のを防止することができる。
ット材を左レール部20に向けて投射すると、左レール
部20の頭部14、脚部18および座部16にショット
材が直接当たる。またショット材の一部は、右レール部
22に被覆された乱反射板28の凹凸面に当って乱反射
し、この反射後のショット材も左レール部20に当た
る。この場合に、乱反射板28から反射するショット材
は左レール部20の特定部位(座部16)に集中的に当た
ることはないので、改質処理の度合が局部的に高くなる
のを防止することができる。
【0017】なお、ショットピーニングを行なう際に、
ショット材の飛散を防止するために設けられるカバー等
に反射したショット材が被処理物品の処理対象部位に当
たる場合には、該カバーの内面に乱反射板28を配設す
るようにしてもよい。また、改質処理を必要としない部
位を乱反射板28で覆って、必要な個所のみを改質処理
することも可能である。
ショット材の飛散を防止するために設けられるカバー等
に反射したショット材が被処理物品の処理対象部位に当
たる場合には、該カバーの内面に乱反射板28を配設す
るようにしてもよい。また、改質処理を必要としない部
位を乱反射板28で覆って、必要な個所のみを改質処理
することも可能である。
【0018】図4は、乱反射板26の別例を示すもので
あって、平面において三角形を呈する上下に延在する凸
条32を幅方向に多数突設したものである。この別例に
係る乱反射板26においても、インペラ10から投射さ
れたショット材を乱反射させて、左レール部20の局部
にのみ反射ショット材が集中的に当たるのを防止するこ
とができる。
あって、平面において三角形を呈する上下に延在する凸
条32を幅方向に多数突設したものである。この別例に
係る乱反射板26においても、インペラ10から投射さ
れたショット材を乱反射させて、左レール部20の局部
にのみ反射ショット材が集中的に当たるのを防止するこ
とができる。
【0019】実施例では被処理物品として2本のレール
部が隣接するマンガンクロッシングレールを例に挙げて
説明したが、1本のレールの表面改質を行なう場合にも
好適に使用し得る。またレールに限らず、ショットピー
ニング装置と被処理物品との位置関係や被処理物品の形
状によって、ショット材が物品全体に亘って均一に当た
らなかったり局部に集中する他の物品の表面改質にも好
適に使用し得るものである。なお、乱反射板に形成され
る凸部や凸条は、実施例の形状や配置に限定されるもの
でなく、ショット材を乱反射し得る形状や配置であれ
ば、三角形状の凸部や多角形の凸条または千鳥状の配置
等のものが適宜に採用可能である。
部が隣接するマンガンクロッシングレールを例に挙げて
説明したが、1本のレールの表面改質を行なう場合にも
好適に使用し得る。またレールに限らず、ショットピー
ニング装置と被処理物品との位置関係や被処理物品の形
状によって、ショット材が物品全体に亘って均一に当た
らなかったり局部に集中する他の物品の表面改質にも好
適に使用し得るものである。なお、乱反射板に形成され
る凸部や凸条は、実施例の形状や配置に限定されるもの
でなく、ショット材を乱反射し得る形状や配置であれ
ば、三角形状の凸部や多角形の凸条または千鳥状の配置
等のものが適宜に採用可能である。
【0020】
【発明の効果】以上説明した如く、本発明に係るショッ
トピーニングによる表面改質方法によれば、ショットピ
ーニング装置と被処理物品との相対的な位置関係や、被
処理物品の形状等によって該物品の表面全体にショット
材を直接当てることができない場合であっても、反射板
を用いて間接的にショット材を当てることができる。す
なわち、被処理物品の表面全体にショット材を均一に当
てて、改質処理の均一化を達成し得る。また反射板を利
用することで、被処理物品の任意の部位にショット材を
集中的に当てることも可能となり、被処理物品の改質度
合を部分的に変えることができる。なおこの効果は、シ
ョット材の直径が1.0mm以上の大径のものの場合に
顕著に得られる。
トピーニングによる表面改質方法によれば、ショットピ
ーニング装置と被処理物品との相対的な位置関係や、被
処理物品の形状等によって該物品の表面全体にショット
材を直接当てることができない場合であっても、反射板
を用いて間接的にショット材を当てることができる。す
なわち、被処理物品の表面全体にショット材を均一に当
てて、改質処理の均一化を達成し得る。また反射板を利
用することで、被処理物品の任意の部位にショット材を
集中的に当てることも可能となり、被処理物品の改質度
合を部分的に変えることができる。なおこの効果は、シ
ョット材の直径が1.0mm以上の大径のものの場合に
顕著に得られる。
【0021】また、被処理物品の処理部位以外の部位や
他の部材等に当たって反射したショット材が、被処理物
品の処理部位における局部に集中的に当たる場合は、処
理部位以外の部位や他の部材等を乱反射板で覆うこと
で、反射するショット材が処理部位の局部に集中的に当
たるのを防ぐことができる。これにより、被処理物品の
局部のみの改質度合が高くなるのを防止し得る。
他の部材等に当たって反射したショット材が、被処理物
品の処理部位における局部に集中的に当たる場合は、処
理部位以外の部位や他の部材等を乱反射板で覆うこと
で、反射するショット材が処理部位の局部に集中的に当
たるのを防ぐことができる。これにより、被処理物品の
局部のみの改質度合が高くなるのを防止し得る。
【図1】第1の発明に係るショットピーニングによる表
面改質方法を好適に実施する装置の概略構成図である。
面改質方法を好適に実施する装置の概略構成図である。
【図2】第2の発明に係るショットピーニングによる表
面改質方法を好適に実施する装置の概略構成図である。
面改質方法を好適に実施する装置の概略構成図である。
【図3】図2に示す実施例装置に使用される乱反射板を
示す要部概略斜視図である。
示す要部概略斜視図である。
【図4】図2に示す実施例装置に使用される別例に係る
乱反射板を示す要部概略斜視図である。
乱反射板を示す要部概略斜視図である。
【図5】従来技術に係るショットピーニングによる表面
改質方法を説明する概略図である。
改質方法を説明する概略図である。
12 マンガンクロッシングレール(被処理物品) 24 ショットピーニング装置 26 反射板 28 乱反射板
Claims (3)
- 【請求項1】 ショットピーニング装置(24)から投射さ
れるショット材を、被処理物品(12)の表面に当てること
により、該物品(12)の表面改質を行なうショットピーニ
ングにおいて、 前記ショットピーニング装置(24)から投射されるショッ
ト材を、反射板(26)を介して被処理物品(12)の任意の個
所に向けて反射させるようにしたことを特徴とするショ
ットピーニングによる表面改質方法。 - 【請求項2】 ショットピーニング装置(24)から投射さ
れるショット材を、被処理物品(12)の表面に当てること
により、該物品(12)の表面改質を行なうショットピーニ
ングにおいて、 前記ショットピーニング装置(12)から投射されて、被処
理物品(12)の処理部位以外の部位や他の部材等に当たっ
て反射したショット材が、被処理物品(12)の処理部位に
おける局部に集中的に当たる場合に、前記処理部位以外
の部位や他の部材等を、表面に凹凸が形成されてショッ
ト材を乱反射させる乱反射板(28)で覆い、この乱反射板
(28)によりショット材を乱反射させることによって、被
処理物品(12)の処理部位における局部にショット材が集
中的に当たるのを防止するようにしたことを特徴とする
ショットピーニングによる表面改質方法。 - 【請求項3】 前記被処理物品(12)は、マンガンクロッ
シングレールである請求項1または2記載のショットピ
ーニングによる表面改質方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3261696A JPH09201771A (ja) | 1996-01-26 | 1996-01-26 | ショットピーニングによる表面改質方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3261696A JPH09201771A (ja) | 1996-01-26 | 1996-01-26 | ショットピーニングによる表面改質方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09201771A true JPH09201771A (ja) | 1997-08-05 |
Family
ID=12363795
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3261696A Pending JPH09201771A (ja) | 1996-01-26 | 1996-01-26 | ショットピーニングによる表面改質方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH09201771A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006346775A (ja) * | 2005-06-14 | 2006-12-28 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 超音波ショットピーニング装置及び超音波ショットピーニング方法 |
JP2007163242A (ja) * | 2005-12-13 | 2007-06-28 | Toshiba Corp | 原子炉内構造物の超音波ショットピーニング施工装置および同施工方法 |
JP2011016213A (ja) * | 2009-07-10 | 2011-01-27 | Canon Inc | ホーニング装置用ノズル、ホーニング装置およびホーニング方法 |
-
1996
- 1996-01-26 JP JP3261696A patent/JPH09201771A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006346775A (ja) * | 2005-06-14 | 2006-12-28 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 超音波ショットピーニング装置及び超音波ショットピーニング方法 |
JP2007163242A (ja) * | 2005-12-13 | 2007-06-28 | Toshiba Corp | 原子炉内構造物の超音波ショットピーニング施工装置および同施工方法 |
JP2011016213A (ja) * | 2009-07-10 | 2011-01-27 | Canon Inc | ホーニング装置用ノズル、ホーニング装置およびホーニング方法 |
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