JPH09197302A - 光強度制御装置 - Google Patents
光強度制御装置Info
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- JPH09197302A JPH09197302A JP8008262A JP826296A JPH09197302A JP H09197302 A JPH09197302 A JP H09197302A JP 8008262 A JP8008262 A JP 8008262A JP 826296 A JP826296 A JP 826296A JP H09197302 A JPH09197302 A JP H09197302A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 光軸をシフトさせることなく、レーザのバッ
クトークが発生しない光強度制御装置を提供する。 【解決手段】 レーザ光源１と２枚のウエッジフィルタ
ー６ａ，６ｂの間に、直線偏光手段２，３と１／４波長
板４を配設する。直線偏光手段は偏光ビームスプリッタ
２又は偏光板３、あるいはその両者を組み合わせたもの
とすることができる。制御手段２５は、光強度モニタ９
で検出されたレーザビームの光強度が所定値となるよう
に、モータ５ａ，５ｂをフィードバック制御する。
クトークが発生しない光強度制御装置を提供する。 【解決手段】 レーザ光源１と２枚のウエッジフィルタ
ー６ａ，６ｂの間に、直線偏光手段２，３と１／４波長
板４を配設する。直線偏光手段は偏光ビームスプリッタ
２又は偏光板３、あるいはその両者を組み合わせたもの
とすることができる。制御手段２５は、光強度モニタ９
で検出されたレーザビームの光強度が所定値となるよう
に、モータ５ａ，５ｂをフィードバック制御する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザ光源から射
出される直線偏光したレーザビームの光強度を制御する
光強度制御装置に関するものである。
出される直線偏光したレーザビームの光強度を制御する
光強度制御装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】レーザ光源は、レーザ加工装置、半導体
メモリ・リペア装置、種々の検査装置、測定装置など広
範な用途に利用されている。レーザビームを特定の用途
に利用しようとすると、レーザビームの光強度をその用
途に最適な強度に調整する必要がある。レーザビーム強
度は励起電圧の制御等によりレーザ光源側でもある程度
の制御は可能であるが、この方法で広い範囲にわたって
レーザ光強度を制御しようとするとレーザ発振が不安定
になるため、レーザ光源側でのレーザ光強度制御には限
界がある。そのため、レーザ光源はレーザ発振が安定に
生じる条件で駆動し、レーザ光源から射出されたレーザ
ビームの光路中に減光フィルターを配置することで所望
の光強度のレーザビームを得ることが行われている。
メモリ・リペア装置、種々の検査装置、測定装置など広
範な用途に利用されている。レーザビームを特定の用途
に利用しようとすると、レーザビームの光強度をその用
途に最適な強度に調整する必要がある。レーザビーム強
度は励起電圧の制御等によりレーザ光源側でもある程度
の制御は可能であるが、この方法で広い範囲にわたって
レーザ光強度を制御しようとするとレーザ発振が不安定
になるため、レーザ光源側でのレーザ光強度制御には限
界がある。そのため、レーザ光源はレーザ発振が安定に
生じる条件で駆動し、レーザ光源から射出されたレーザ
ビームの光路中に減光フィルターを配置することで所望
の光強度のレーザビームを得ることが行われている。
【０００３】図３、図４により、２枚のウエッジフィル
ター１２ａ，１２ｂを組み合わせた従来の光強度制御装
置の例を説明する。
ター１２ａ，１２ｂを組み合わせた従来の光強度制御装
置の例を説明する。
【０００４】この例のウエッジフィルター１２ａ，１２
ｂは、図３に模式的に示すように、円周方向に光透過率
が連続的に変化するフィルターである。レーザ光源１０
側から見て光透過率が次第に小さくなる方向が例えば左
回りである２枚のウエッジフィルター１２ａ，１２ｂを
図のように一部重なるようにして配置し、その重なった
部分にレーザビームＬＢを通す。２枚のウエッジフィル
ター１２ａ，１２ｂを各々モータ駆動装置１１ａ，１１
ｂに取り付け、互いに逆方向に同一角度だけ回転させ
る。このウエッジフィルターの回転角度を変えることに
よってレーザビームＬＢの光強度を制御することがで
き、またレーザビームＬＢの通過領域では２枚のウエッ
ジフィルター１２ａ，１２ｂの濃度勾配の方向が互いに
逆になっているので、レーザビームＬＢのビーム断面全
域で減衰率が等しくなってレーザビームＬＢは均一に減
衰される。
ｂは、図３に模式的に示すように、円周方向に光透過率
が連続的に変化するフィルターである。レーザ光源１０
側から見て光透過率が次第に小さくなる方向が例えば左
回りである２枚のウエッジフィルター１２ａ，１２ｂを
図のように一部重なるようにして配置し、その重なった
部分にレーザビームＬＢを通す。２枚のウエッジフィル
ター１２ａ，１２ｂを各々モータ駆動装置１１ａ，１１
ｂに取り付け、互いに逆方向に同一角度だけ回転させ
る。このウエッジフィルターの回転角度を変えることに
よってレーザビームＬＢの光強度を制御することがで
き、またレーザビームＬＢの通過領域では２枚のウエッ
ジフィルター１２ａ，１２ｂの濃度勾配の方向が互いに
逆になっているので、レーザビームＬＢのビーム断面全
域で減衰率が等しくなってレーザビームＬＢは均一に減
衰される。
【０００５】ところで、ウエッジフィルター１２ａ，１
２ｂは回転角度に応じて反射率の変化するハーフミラー
ということもでき、レーザビームＬＢの一部はウエッジ
フィルターで反射される。ウエッジフィルター１２ａ，
１２ｂで反射したレーザビームが入射光路を逆に辿って
レーザ光源１０に入射すると（バックトーク）、位相の
異なるレーザビームがレーザ共振器内に入るためレーザ
発振が不安定になってしまう。このバックトークを防止
するため、２つのウエッジフィルター１２ａ，１２ｂ
は、図４に示すように、レーザビームＬＢの光軸に対し
て角度θだけ傾けて配置されている。
２ｂは回転角度に応じて反射率の変化するハーフミラー
ということもでき、レーザビームＬＢの一部はウエッジ
フィルターで反射される。ウエッジフィルター１２ａ，
１２ｂで反射したレーザビームが入射光路を逆に辿って
レーザ光源１０に入射すると（バックトーク）、位相の
異なるレーザビームがレーザ共振器内に入るためレーザ
発振が不安定になってしまう。このバックトークを防止
するため、２つのウエッジフィルター１２ａ，１２ｂ
は、図４に示すように、レーザビームＬＢの光軸に対し
て角度θだけ傾けて配置されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】ウエッジフィルターを
光軸に対して角度θだけ傾けて配置すると、ウエッジフ
ィルターの厚み分の光の屈折により、光強度制御装置か
らの出力ビームは光強度制御装置への入力ビームに対し
て光軸がδだけシフトしてしまう。このように装置内に
組み込んだ光強度制御装置によって光軸がシフトする
と、装置の調整や設定が煩雑になるという問題を生じ
る。
光軸に対して角度θだけ傾けて配置すると、ウエッジフ
ィルターの厚み分の光の屈折により、光強度制御装置か
らの出力ビームは光強度制御装置への入力ビームに対し
て光軸がδだけシフトしてしまう。このように装置内に
組み込んだ光強度制御装置によって光軸がシフトする
と、装置の調整や設定が煩雑になるという問題を生じ
る。
【０００７】本発明は、このような従来技術の問題点に
鑑みてなされたもので、光軸をシフトさせることがな
く、しかもレーザのバックトークが発生しない光強度制
御装置を提供することを目的とする。
鑑みてなされたもので、光軸をシフトさせることがな
く、しかもレーザのバックトークが発生しない光強度制
御装置を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明では、レーザ光源
と光減衰手段の間に直線偏光手段と１／４波長板を配置
することで前記目的を達成する。すなわち、本発明は、
光減衰手段を備え、レーザ光源から射出された直線偏光
成分を有するレーザビームの光強度を制御する光強度制
御装置において、レーザ光源と光減衰手段との間で、所
定の直線偏光成分を透過させる直線偏光手段をレーザ光
源側に配設し、１／４波長板を光減衰手段側に配設した
ことを特徴とする。
と光減衰手段の間に直線偏光手段と１／４波長板を配置
することで前記目的を達成する。すなわち、本発明は、
光減衰手段を備え、レーザ光源から射出された直線偏光
成分を有するレーザビームの光強度を制御する光強度制
御装置において、レーザ光源と光減衰手段との間で、所
定の直線偏光成分を透過させる直線偏光手段をレーザ光
源側に配設し、１／４波長板を光減衰手段側に配設した
ことを特徴とする。
【０００９】直線偏光手段は偏光ビームスプリッタ又は
偏光板、あるいはその両者を組み合わせたものとするこ
とができ、例えば偏光板、偏光ビームスプリッタ及び１
／４波長板をレーザ光源側からみてこの順序で配設する
ことができる。光強度制御装置からの出射光を直線偏光
としたい場合には、光減衰手段の後方に１／４波長板を
配設すればよい。
偏光板、あるいはその両者を組み合わせたものとするこ
とができ、例えば偏光板、偏光ビームスプリッタ及び１
／４波長板をレーザ光源側からみてこの順序で配設する
ことができる。光強度制御装置からの出射光を直線偏光
としたい場合には、光減衰手段の後方に１／４波長板を
配設すればよい。
【００１０】光減衰手段を一対のウエッジフィルターで
構成し、ウエッジフィルターの位置を変えることによ
り、減衰率を可変とすることができる。
構成し、ウエッジフィルターの位置を変えることによ
り、減衰率を可変とすることができる。
【００１１】本発明によると、レーザ光源から射出され
たレーザビームは直線偏光手段を通り、続いて１／４波
長板を通ることで円偏光となって光減衰手段に入射す
る。光減衰手段の表面で一部反射された円偏光レーザビ
ームは、再び１／４波長板を通ることで、偏光方向が直
線偏光手段通過直後の偏光方向に対して９０゜回転した
直線偏光に変換される。したがって、光減衰手段で反射
されたレーザビームは直線偏光手段をレーザ光源側に通
過することができない。このため、光強度制御手段にお
いて入射側レーザビームの光軸と射出側レーザビームの
光軸を一致させてもレーザのバックトークが生じること
がない。
たレーザビームは直線偏光手段を通り、続いて１／４波
長板を通ることで円偏光となって光減衰手段に入射す
る。光減衰手段の表面で一部反射された円偏光レーザビ
ームは、再び１／４波長板を通ることで、偏光方向が直
線偏光手段通過直後の偏光方向に対して９０゜回転した
直線偏光に変換される。したがって、光減衰手段で反射
されたレーザビームは直線偏光手段をレーザ光源側に通
過することができない。このため、光強度制御手段にお
いて入射側レーザビームの光軸と射出側レーザビームの
光軸を一致させてもレーザのバックトークが生じること
がない。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を説明する。図１は、本発明による光強度制御
装置の一例を示す概略図である。レーザ光源１は、ＹＡ
Ｇレーザのような直線偏光を発生するレーザ光源であ
る。例えばＹＡＧレーザから発せられた波長１０４７ｎ
ｍのレーザビームＬＢは、偏光ビームスプリッタ２に入
射する。ここで、レーザビームＬＢのｓ偏光成分とｐ偏
光成分を図のように定義する。偏光ビームスプリッタ２
は、レーザビームＬＢのうちｓ偏光成分のみを透過さ
せ、ｐ偏光成分を−ｘ方向に反射する。偏光ビームスプ
リッタ２を透過したｓ偏光成分のレーザビームは、ｓ偏
光成分のみを透過するように配置された偏光板３を透過
し、１／４波長板４に達する。
施の形態を説明する。図１は、本発明による光強度制御
装置の一例を示す概略図である。レーザ光源１は、ＹＡ
Ｇレーザのような直線偏光を発生するレーザ光源であ
る。例えばＹＡＧレーザから発せられた波長１０４７ｎ
ｍのレーザビームＬＢは、偏光ビームスプリッタ２に入
射する。ここで、レーザビームＬＢのｓ偏光成分とｐ偏
光成分を図のように定義する。偏光ビームスプリッタ２
は、レーザビームＬＢのうちｓ偏光成分のみを透過さ
せ、ｐ偏光成分を−ｘ方向に反射する。偏光ビームスプ
リッタ２を透過したｓ偏光成分のレーザビームは、ｓ偏
光成分のみを透過するように配置された偏光板３を透過
し、１／４波長板４に達する。
【００１３】１／４波長板４は、ｓ偏光方向に対して光
学軸を４５°傾けて配置されており、ｓ偏光成分のレー
ザビームはこの１／４波長板４によって円偏光に変換さ
れた後、２枚のウエッジフィルター６ａ及び６ｂを透過
して適当な光強度に調整される。
学軸を４５°傾けて配置されており、ｓ偏光成分のレー
ザビームはこの１／４波長板４によって円偏光に変換さ
れた後、２枚のウエッジフィルター６ａ及び６ｂを透過
して適当な光強度に調整される。
【００１４】光減衰手段であるウエッジフィルター６
ａ，６ｂは、従来技術を示す図３に示したものと同様の
ものであり、円周方向に光透過率が連続的に変化するフ
ィルターである。また、ウエッジフィルター６ａ，６ｂ
は、光軸のずれが生じないように、光軸に対してほぼ垂
直に配置されている。モータ５ａ，５ｂは、ウエッジフ
ィルター６ａ，６ｂのそれぞれを円周方向に回転させる
ものである。制御装置２５は、モータ５ａ，５ｂを制御
してウエッジフィルター６ａ，６ｂの透過率を変化させ
るものである。すなわち、制御装置２５は、ウエッジフ
ィルター６ａ，６ｂの透過率を変化させるときのみモー
タ５ａ，５ｂを回転させるものである。なお、制御装置
２５は、ウエッジフィルター６ａ，６ｂの透過率の変化
量が少ないときはモータ５ａ，５ｂの一方のみを回転し
て透過率を設定し、ウエッジフィルター６ａ，６ｂの透
過率の変化量が大きいときはモータ５ａ，５ｂの両方を
回転して透過率を設定する。これは、透過率の変化量が
大きいときにはモータ５ａ，５ｂの両方を回転した方が
透過率の調整量を大きくとれるからである。ウエッジフ
ィルター６ａ，６ｂを透過した円偏光のレーザビーム
は、１／４波長板７によってｐ偏光に変換され、レーザ
リペア装置等のレーザビーム利用装置に導かれる。
ａ，６ｂは、従来技術を示す図３に示したものと同様の
ものであり、円周方向に光透過率が連続的に変化するフ
ィルターである。また、ウエッジフィルター６ａ，６ｂ
は、光軸のずれが生じないように、光軸に対してほぼ垂
直に配置されている。モータ５ａ，５ｂは、ウエッジフ
ィルター６ａ，６ｂのそれぞれを円周方向に回転させる
ものである。制御装置２５は、モータ５ａ，５ｂを制御
してウエッジフィルター６ａ，６ｂの透過率を変化させ
るものである。すなわち、制御装置２５は、ウエッジフ
ィルター６ａ，６ｂの透過率を変化させるときのみモー
タ５ａ，５ｂを回転させるものである。なお、制御装置
２５は、ウエッジフィルター６ａ，６ｂの透過率の変化
量が少ないときはモータ５ａ，５ｂの一方のみを回転し
て透過率を設定し、ウエッジフィルター６ａ，６ｂの透
過率の変化量が大きいときはモータ５ａ，５ｂの両方を
回転して透過率を設定する。これは、透過率の変化量が
大きいときにはモータ５ａ，５ｂの両方を回転した方が
透過率の調整量を大きくとれるからである。ウエッジフ
ィルター６ａ，６ｂを透過した円偏光のレーザビーム
は、１／４波長板７によってｐ偏光に変換され、レーザ
リペア装置等のレーザビーム利用装置に導かれる。
【００１５】レーザビーム利用装置に導かれるレーザビ
ームの一部は、ハーフミラー８で反射されて光強度モニ
タ９に入射する。制御装置２５は、光強度モニタ９で検
出されたレーザビームの光強度を設定値と比較し、ウエ
ッジフィルター６ａ，６ｂを駆動する２つのモータ５
ａ，５ｂをフィードバック制御することで自動的に設定
した光強度を得ることができる。
ームの一部は、ハーフミラー８で反射されて光強度モニ
タ９に入射する。制御装置２５は、光強度モニタ９で検
出されたレーザビームの光強度を設定値と比較し、ウエ
ッジフィルター６ａ，６ｂを駆動する２つのモータ５
ａ，５ｂをフィードバック制御することで自動的に設定
した光強度を得ることができる。
【００１６】ウエッジフィルター６ａ，６ｂは、回転角
度が変化する毎に反射率の変化するハーフミラーの構造
であるから、表面で反射光が発生し、この反射光はレー
ザ光源１の方向に戻ろうとする。しかし、ウエッジフィ
ルター６ａ，６ｂで反射した円偏光は、１／４波長板４
を通ることで直線偏光（ｐ偏光）に変換される。ｐ偏光
は偏光板３を通過することができず、もし通過する成分
があったとしても次に偏光ビームスプリッタ２で反射さ
れるため、レーザ光源１に戻ることがない。
度が変化する毎に反射率の変化するハーフミラーの構造
であるから、表面で反射光が発生し、この反射光はレー
ザ光源１の方向に戻ろうとする。しかし、ウエッジフィ
ルター６ａ，６ｂで反射した円偏光は、１／４波長板４
を通ることで直線偏光（ｐ偏光）に変換される。ｐ偏光
は偏光板３を通過することができず、もし通過する成分
があったとしても次に偏光ビームスプリッタ２で反射さ
れるため、レーザ光源１に戻ることがない。
【００１７】偏光ビームスプリッタ２と偏光板３は、そ
のいずれか一方のみを用いてもレーザ光源１へのバック
トークを除去することができる。しかし、偏光ビームス
プリッタ２は消光比が１：１００程度であり、偏光板３
は消光比が１：５００程度であるため、両者を併用する
ことで消光比を高めバックトークを完全に除去すること
ができる。
のいずれか一方のみを用いてもレーザ光源１へのバック
トークを除去することができる。しかし、偏光ビームス
プリッタ２は消光比が１：１００程度であり、偏光板３
は消光比が１：５００程度であるため、両者を併用する
ことで消光比を高めバックトークを完全に除去すること
ができる。
【００１８】偏光ビームスプリッタ２と偏光板３の配置
は、図１と逆にしてレーザ光源側に偏光板３を配置し、
１／４波長板側に偏光ビームスプリッタ２を配置しても
構わない。そのような配置とした場合には、偏光板３を
マニュアル回転することによりレーザ光源１の非偏光成
分（偏光誤差）を補正することができる。なお、レーザ
ビーム利用装置で利用するレーザビームが円偏光でも良
い場合には、図示した１／４波長板７は不要である。
は、図１と逆にしてレーザ光源側に偏光板３を配置し、
１／４波長板側に偏光ビームスプリッタ２を配置しても
構わない。そのような配置とした場合には、偏光板３を
マニュアル回転することによりレーザ光源１の非偏光成
分（偏光誤差）を補正することができる。なお、レーザ
ビーム利用装置で利用するレーザビームが円偏光でも良
い場合には、図示した１／４波長板７は不要である。
【００１９】図１では、光減衰手段としてドーナツ状の
ウエッジフィルターを２枚組み合わせたものを用いた
が、光減衰手段として用いるのはドーナツ状のウエッジ
フィルターに限らない。例えば、図２に示すように、矩
形（リニア）ウエッジフィルターを用いることもでき
る。
ウエッジフィルターを２枚組み合わせたものを用いた
が、光減衰手段として用いるのはドーナツ状のウエッジ
フィルターに限らない。例えば、図２に示すように、矩
形（リニア）ウエッジフィルターを用いることもでき
る。
【００２０】図２において、直線偏光を有するレーザ光
源１を発したレーザビームＬＢは、まず偏光ビームスプ
リッタ２及び偏光板３を透過し、ｓ偏光成分のみとされ
て１／４波長板４に達する。そして、１／４波長板４に
て円偏光に変換された後、２枚のリニアウエッジフィル
ター１８ａ及び１８ｂを透過して、適当な光強度に設定
される。２枚のリニアウエッジフィルター１８ａ，１８
ｂは、光軸に垂直に配置されている。続いて別の１／４
波長板７を透過することによってｐ偏光に変換され、レ
ーザビーム利用装置に導かれる。制御装置２５は、光強
度モニタ９によって検出した光強度の値が設定値となる
ように、ウエッジフィルター１８ａ，１８ｂを直線駆動
する２つのモータ駆動ユニット１７ａ，１７ｂをフィー
ドバック制御することによって、自動的に設定した光強
度を得る。出力側の１／４波長板は、出力光が円偏光状
態でもよければ不要である。
源１を発したレーザビームＬＢは、まず偏光ビームスプ
リッタ２及び偏光板３を透過し、ｓ偏光成分のみとされ
て１／４波長板４に達する。そして、１／４波長板４に
て円偏光に変換された後、２枚のリニアウエッジフィル
ター１８ａ及び１８ｂを透過して、適当な光強度に設定
される。２枚のリニアウエッジフィルター１８ａ，１８
ｂは、光軸に垂直に配置されている。続いて別の１／４
波長板７を透過することによってｐ偏光に変換され、レ
ーザビーム利用装置に導かれる。制御装置２５は、光強
度モニタ９によって検出した光強度の値が設定値となる
ように、ウエッジフィルター１８ａ，１８ｂを直線駆動
する２つのモータ駆動ユニット１７ａ，１７ｂをフィー
ドバック制御することによって、自動的に設定した光強
度を得る。出力側の１／４波長板は、出力光が円偏光状
態でもよければ不要である。
【００２１】図２の例においても、光軸にずれを生じさ
せることなくレーザ光源１へのバックトークを除去する
ことができる。なお、本実施の形態において、偏光ビー
ムスプリッタ２と偏光板３とのそれぞれが直線偏光手段
に相当する。
せることなくレーザ光源１へのバックトークを除去する
ことができる。なお、本実施の形態において、偏光ビー
ムスプリッタ２と偏光板３とのそれぞれが直線偏光手段
に相当する。
【００２２】
【発明の効果】本発明によれば、光軸をシフトさせるこ
となく、光強度の制御が可能であるから、精密な光軸出
しを要求される光学系に有効である。
となく、光強度の制御が可能であるから、精密な光軸出
しを要求される光学系に有効である。
【図１】本発明による光強度制御装置の一例の概略図。
【図２】本発明による光強度制御装置の他の例の概略
図。
図。
【図３】ウエッジフィルターの説明図。
【図４】従来の光強度制御装置の概略図。
１…レーザ光源 ２…偏光ビームスプリッタ ３…偏光板 ４，７…１／４波長板 ５ａ，５ｂ…モータ ６ａ，６ｂ…ウエッジフィルター ８…ハーフプリズム ９…光強度モニタ １７ａ，１７ｂ…モータ １８ａ，１８ｂ…リニアウエッジフィルター
Claims (5)
- 【請求項１】 光減衰手段を備え、レーザ光源から射出
された直線偏光成分を有するレーザビームの光強度を制
御する光強度制御装置において、 前記レーザ光源と前記光減衰手段との間で、所定の直線
偏光成分を透過させる直線偏光手段を前記レーザ光源側
に配設し、１／４波長板を前記光減衰手段側に配設した
ことを特徴とする光強度制御装置。 - 【請求項２】 光減衰手段を備え、レーザ光源から射出
された直線偏光成分を有するレーザビームの光強度を制
御する光強度制御装置において、 前記レーザ光源と前記光減衰手段との間に、偏光板、偏
光ビームスプリッタ及び１／４波長板を前記レーザ光源
側からみてこの順序で配設したことを特徴とする光強度
制御装置。 - 【請求項３】 前記光減衰手段の後方に１／４波長板を
配設したことを特徴とする請求項１又は２記載の光強度
制御装置。 - 【請求項４】 前記光減衰手段は、一対のウエッジフィ
ルターで構成され、減衰率が可変であることを特徴とす
る請求項１、２又は３記載の光強度制御装置。 - 【請求項５】 前記光減衰手段に対する入射レーザビー
ムと射出レーザビームの光軸が一致していることを特徴
とする請求項１〜４のいずれか１項記載の光強度制御装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8008262A JPH09197302A (ja) | 1996-01-22 | 1996-01-22 | 光強度制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8008262A JPH09197302A (ja) | 1996-01-22 | 1996-01-22 | 光強度制御装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09197302A true JPH09197302A (ja) | 1997-07-31 |
Family
ID=11688246
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8008262A Pending JPH09197302A (ja) | 1996-01-22 | 1996-01-22 | 光強度制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09197302A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1635207A3 (en) * | 2004-09-14 | 2006-04-12 | Barco NV | Variable intensity dimmer for projection systems having substantially constant dimming behaviour over the cross section of the electromagbnetic radiation beam |
| JP2009257804A (ja) * | 2008-04-14 | 2009-11-05 | Hitachi High-Technologies Corp | 電気泳動装置 |
| JP2011221444A (ja) * | 2010-04-14 | 2011-11-04 | Ricoh Opt Ind Co Ltd | 光アッテネータ及び光アッテネータモジュール |
| JP2012173361A (ja) * | 2011-02-17 | 2012-09-10 | Ricoh Opt Ind Co Ltd | 光アッテネータ及び光アッテネータモジュール |
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