JPH09194798A - Tacky resin composition - Google Patents

Tacky resin composition

Info

Publication number
JPH09194798A
JPH09194798A JP357796A JP357796A JPH09194798A JP H09194798 A JPH09194798 A JP H09194798A JP 357796 A JP357796 A JP 357796A JP 357796 A JP357796 A JP 357796A JP H09194798 A JPH09194798 A JP H09194798A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
meth
acrylate
irradiation
rays
adhesiveness
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP357796A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toshihiko Takahashi
俊彦 高橋
Takashi Ukaji
孝志 宇加地
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JSR Corp
Original Assignee
Japan Synthetic Rubber Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Japan Synthetic Rubber Co Ltd filed Critical Japan Synthetic Rubber Co Ltd
Priority to JP357796A priority Critical patent/JPH09194798A/en
Publication of JPH09194798A publication Critical patent/JPH09194798A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a resin composition causing lowering of the adhesiveness by irradiation of high energy beam, containing a specific polymer and a (meth) acryloyl-containing compound, free from lowering of adhesiveness and discoloration under irradiation of visible light and ultraviolet rays and capable of readily releasing by irradiation of high energy beam. SOLUTION: This tacky resin composition does not cause lowering of adhesiveness by irradiation of light having >=300nm wavelength and develops lowering of adhesiveness by irradiation of high energy beam such as X rays, α rays, βrays or γ rays and the resin composition contains (A) 100 pts.wt. (co)polymer (e.g. having 5×10<3> to 5×10<6> weight average molecular weight) containing (meth) acrylic acid (ester) and (meth)acrylic amide as a monomer component and (B) 1-300 pts.wt. compound having (meth)acyloyl in the molecule (e.g. dipenta erythritol hexacrylate) and does not contain a photopolymerization initiator.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、粘着性樹脂組成物
に関する。さらに詳しくは、電子線、X線、α線、β
線、γ線などの高エネルギー線を照射する前は各種金
属、各種プラスチック、ガラスなどの被着体に対する接
着力が高いが上記高エネルギー線を照射した後はこれら
被着体に対する接着力が著しく低下して容易に剥離する
ことができる粘着性樹脂組成物に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to an adhesive resin composition. More specifically, electron beam, X-ray, α-ray, β
Before irradiation with high energy rays such as gamma rays and γ rays, the adhesive strength to adherends of various metals, various plastics, glass, etc. is high, but after irradiation with the above high energy rays, the adhesive strength to these adherends is remarkable. The present invention relates to a pressure-sensitive adhesive resin composition that can be easily peeled off.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、粘着テープなどに用いられる粘着
性組成物は、被着体に粘着されて使用されている間その
接着力はほぼ一定であり、強固な接着力を要する用途に
用いられる接着力の大きい粘着性組成物では剥がしたい
場合には容易に剥がれず、逆に簡単に剥がれるように設
計された粘着性組成物では必要な接着力が得られないと
いった問題がある。
2. Description of the Related Art Conventionally, an adhesive composition used for an adhesive tape or the like has a substantially constant adhesive force while being used by being adhered to an adherend, and is used for applications requiring a strong adhesive force. There is a problem in that a tacky composition having a large adhesive strength cannot be easily peeled off when it is desired to be peeled, and conversely, a tacky composition designed to be easily peeled cannot provide a necessary adhesive strength.

【0003】上記問題点を解決するために、従来は、粘
着剤組成物の中に熱で架橋する成分あるいは光照射によ
り架橋する成分を配合しておき、剥離したい場合には前
者では加熱することにより、後者では光を照射すること
で粘着剤組成物中に三次元架橋構造を生ぜしめ、これに
より接着力を低減させて容易に剥離する方法が採られて
きた。
In order to solve the above problems, conventionally, a heat-crosslinking component or a light-crosslinking component is mixed in the pressure-sensitive adhesive composition, and when peeling is desired, the former is heated. Therefore, in the latter, a method has been adopted in which a three-dimensional crosslinked structure is produced in the pressure-sensitive adhesive composition by irradiating light, thereby reducing the adhesive force and easily peeling.

【0004】しかしながら、粘着剤組成物の中に熱で架
橋する成分を配合して加熱することにより接着力を低減
させる方法では、加熱することにより被着体の変形、変
色、機能の劣化など好ましくない変質を招く恐れがあ
る。また、被着体の変質を防ぐため比較的低温でも架橋
反応が進行する粘着剤組成物を用いた場合には、常温で
も経時的に架橋反応が進行するため、徐々に接着力が低
下するという問題点がある。
However, in the method of reducing the adhesive force by blending a heat-crosslinking component into the pressure-sensitive adhesive composition and heating it, the adherend is preferably deformed, discolored, and deteriorated in function. There is a possibility that it may cause deterioration. Further, in the case of using a pressure-sensitive adhesive composition in which a crosslinking reaction proceeds even at a relatively low temperature in order to prevent deterioration of the adherend, the crosslinking reaction progresses with time even at room temperature, so that the adhesive strength gradually decreases. There is a problem.

【0005】一方、粘着剤組成物の中に光照射で架橋す
る成分を配合して必要な場合に光を照射することにより
接着力を低減させる方法は、既に半導体産業においてI
Cウェーハを個々のICチップに切断する際に用いるダ
イシングテープと呼ばれる粘着テープとして実用化され
ている(特公平6−16524号公報、特開平4−30
0981公報および特開平6−264033公報参
照)。しかしながら、光照射により接着力を低下させる
方法では通常の環境では可視光や紫外線の照射を受ける
ため接着力がしだいに低下してしまい剥がれて欲しくな
い場合でも剥がれてしまうという問題点がある。
On the other hand, a method of blending a component which crosslinks by light irradiation into the pressure-sensitive adhesive composition and irradiating with light when necessary to reduce the adhesive force has already been used in the semiconductor industry.
It has been put to practical use as an adhesive tape called a dicing tape used when cutting a C wafer into individual IC chips (Japanese Patent Publication No. 6-16524 and Japanese Patent Laid-Open No. 4-30).
0981 and Japanese Patent Laid-Open No. 6-264033). However, the method of lowering the adhesive force by light irradiation has a problem that the adhesive force gradually decreases because it is irradiated with visible light or ultraviolet rays in a normal environment and the adhesive force is peeled off even when it is not desired to peel it off.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、新規
な粘着性樹脂組成物を提供することにある。本発明の他
の目的は、可視光、紫外線の照射を受ける環境において
も必要とされる適度な接着力を長時間保持することがで
き、変色もせず、剥離したい場合には、電子線、X線、
α線、β線、γ線などの高エネルギー線を照射すること
により容易に剥離できる粘着性樹脂組成物を提供するこ
とにある。本発明のさらに他の目的および利点は、以下
の説明から明らかになろう。
An object of the present invention is to provide a novel adhesive resin composition. Another object of the present invention is to maintain a suitable adhesive force required for a long time even in an environment where it is exposed to visible light and ultraviolet rays, without discoloration, and when peeling is desired, an electron beam, X line,
An object of the present invention is to provide an adhesive resin composition that can be easily peeled off by irradiating high energy rays such as α rays, β rays, and γ rays. Still other objects and advantages of the present invention will become apparent from the following description.

【0007】[0007]

【課題を解決する手段】本発明によれば、本発明の上記
目的および利点は、(A)(メタ)アクリル酸、(メ
タ)アクリル酸エステルおよび(メタ)アクリルアミド
よりなる群から選ばれる少なくとも1種を単量体として
含む(共)重合体(以下、「重合体(A)」という)1
00重量部、および分子内に少なくとも1個の(メタ)
アクリロイル基を持つ化合物1〜300重量部を含有
し、光重合開始剤を実質的に含有せず、そして(B)波
長300nm以上の光線の照射によって接着性が実質的
に低下せず、しかしながら、高エネルギー線の照射によ
り接着性が低下する性質を示す、ことを特徴とする粘着
性樹脂組成物によって達成される。
According to the present invention, the above objects and advantages of the present invention are at least one selected from the group consisting of (A) (meth) acrylic acid, (meth) acrylic acid ester and (meth) acrylamide. (Co) polymer containing seed as a monomer (hereinafter referred to as "polymer (A)") 1
00 parts by weight, and at least one (meth) in the molecule
It contains 1 to 300 parts by weight of a compound having an acryloyl group, does not substantially contain a photopolymerization initiator, and (B) the adhesiveness is not substantially reduced by irradiation with light having a wavelength of 300 nm or more, however, This is achieved by an adhesive resin composition characterized by exhibiting a property of lowering adhesiveness by irradiation with high energy rays.

【0008】本発明の粘着性樹脂組成物に含まれる重合
体(A)を構成する必須の単量体(以下、「単量体
(A)」という)は、上記のとおり、(メタ)アクリル
酸、(メタ)アクリル酸エステルまたは(メタ)アクリ
ルアミドである。(メタ)アクリル酸とは、アクリル酸
またはメタアクリル酸である。(メタ)アクリル酸エス
テル、すなわちアクリル酸エステルまたはメタクリル酸
エステルとしては、例えば2−ヒドロキシエチル(メ
タ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)ア
クリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレー
ト、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アク
リレート、プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピ
ル(メタ)アクリレート、nブチル(メタ)アクリレー
ト、イソブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メ
タ)アクリレート、アミル(メタ)アクリレート、イソ
アミル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリ
レート、ヘキシル(メタ)アクリレート、ヘプチル(メ
タ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、イ
ソオクチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル
(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、
デシル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アク
リレート、ウンデシル(メタ)アクリレート、ドデシル
(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレー
ト、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、ブ
トキシエチル(メタ)アクリレート、エトキシジエチレ
ングリコール(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)
アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、
フェノキシエチル(メタ)アクリレート、メトキシエチ
レングリコール(メタ)アクリレート、エトキシエトキ
シエチル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル
(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)ア
クリレート、トリシクロデカニル(メタ)アクリレー
ト、イソボルニル(メタ)アクリレート、ボルニル(メ
タ)アクリレートおよび分子構造中に式(1)
The essential monomer (hereinafter referred to as "monomer (A)") constituting the polymer (A) contained in the adhesive resin composition of the present invention is (meth) acrylic as described above. Acid, (meth) acrylic acid ester or (meth) acrylamide. (Meth) acrylic acid is acrylic acid or methacrylic acid. Examples of (meth) acrylic acid ester, that is, acrylic acid ester or methacrylic acid ester include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, and methyl (meth). Acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, amyl (meth) acrylate, isoamyl (meth) ) Acrylate, pentyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, heptyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl Le (meth) acrylate, nonyl (meth) acrylate,
Decyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, undecyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, butoxyethyl (meth) acrylate, ethoxydiethylene glycol (meth) Acrylate, benzyl (meth)
Acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate,
Phenoxyethyl (meth) acrylate, methoxyethylene glycol (meth) acrylate, ethoxyethoxyethyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, tricyclodecanyl (meth) acrylate, isobornyl (Meth) acrylate, bornyl (meth) acrylate and the formula (1) in the molecular structure

【0009】−SiR123 ・・・(1)-SiR 1 R 2 R 3 (1)

【0010】(式中、R1、R2およびR3は、同一でも
互いに異なっていてもよく、炭素数1〜6のアルキル基
または炭素数1〜6のアルコキシル基を表す。但し、R
1、R2およびR3の少なくとも1つは、炭素数1〜6の
アルコキシル基である。)で示されるケイ素含有基を平
均して少なくとも1個有する(メタ)アクリル酸エステ
ルが挙げられる。
(In the formula, R 1 , R 2 and R 3 , which may be the same or different, each represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an alkoxyl group having 1 to 6 carbon atoms.
At least one of 1 , R 2 and R 3 is an alkoxyl group having 1 to 6 carbon atoms. (Meth) acrylic acid ester having at least one silicon-containing group on average.

【0011】上記ケイ素含有基を持つ化合物としては、
例えば(メタ)アクリロキシメチルトリメトキシシラ
ン、(メタ)アクリロキシメチルトリエトキシシラン、
(メタ)アクリロキシメチルトリプロポキシシラン、
(メタ)アクリロキシメチルトリブトキシシラン、(メ
タ)アクリロキシメチルトリヘキシルオキシシラン、3
−(メタ)アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラ
ン、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシ
ラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルメチルジエト
キシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルメチル
ジブトキシシランなどが挙げられる。(メタ)アクリル
アミドとしては、例えばジアセトン(メタ)アクリルア
ミド、イソブトキシメチル(メタ)アクリルアミド、
N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジエ
チル(メタ)アクリルアミド、t−オクチル(メタ)ア
クリルアミド、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリル
アミド、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリルアミ
ド、7−アミノ−3,7−ジメチルオクチル(メタ)ア
クリルアミド、N,N’−ジメチルアミノプロピル(メ
タ)アクリルアミド、(メタ)アクリロイルモルホリン
などが挙げられる。上記単量体(A)は、単独でも2種
以上混合して用いることもできる。単量体(A)は、重
合体(A)中、通常40重量%以上、好ましくは50重
量%以上共重合される。
Examples of the compound having a silicon-containing group include
For example, (meth) acryloxymethyltrimethoxysilane, (meth) acryloxymethyltriethoxysilane,
(Meth) acryloxymethyltripropoxysilane,
(Meth) acryloxymethyltributoxysilane, (meth) acryloxymethyltrihexyloxysilane, 3
-(Meth) acryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane, 3- (meth) acryloxypropylmethyldiethoxysilane, 3- (meth) acryloxypropylmethyldibutoxysilane, etc. Can be mentioned. Examples of (meth) acrylamide include diacetone (meth) acrylamide, isobutoxymethyl (meth) acrylamide,
N, N-dimethyl (meth) acrylamide, N, N-diethyl (meth) acrylamide, t-octyl (meth) acrylamide, dimethylaminoethyl (meth) acrylamide, diethylaminoethyl (meth) acrylamide, 7-amino-3,7 -Dimethyloctyl (meth) acrylamide, N, N'-dimethylaminopropyl (meth) acrylamide, (meth) acryloylmorpholine and the like can be mentioned. The monomer (A) may be used alone or in combination of two or more. The monomer (A) is usually copolymerized in the polymer (A) by 40% by weight or more, preferably 50% by weight or more.

【0012】単量体(A)と共重合可能な重合性二重結
合を分子内に含む単量体(A)以外の単量体(以下、
「単量体(B)」という)を共重合体(A)を構成する
成分として含むことができる。この単量体(B)として
は、例えばN−ビニルピロリドン、N−ビニルカプロラ
クタム、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、無水マレイ
ン酸、イタコン酸、フマル酸、(メタ)アクリル酸、
(メタ)アクリロニトリル、スチレンなどが挙げられ
る。これらの単量体(B)は、単独でも2種以上混合し
ても用いられる。
Monomers other than the monomer (A) containing a polymerizable double bond copolymerizable with the monomer (A) in the molecule (hereinafter,
A "monomer (B)") can be contained as a component constituting the copolymer (A). Examples of the monomer (B) include N-vinylpyrrolidone, N-vinylcaprolactam, vinyl acetate, vinyl propionate, maleic anhydride, itaconic acid, fumaric acid, (meth) acrylic acid,
Examples thereof include (meth) acrylonitrile and styrene. These monomers (B) may be used alone or in combination of two or more.

【0013】重合体(A)を製造する方法としては、単
量体(A)または単量体(A)と単量体(B)の、ラジ
カル重合法、アニオン重合法またはカチオン重合法が挙
げられる。
Examples of the method for producing the polymer (A) include a radical polymerization method, an anionic polymerization method and a cationic polymerization method of the monomer (A) or the monomer (A) and the monomer (B). To be

【0014】本発明で用いる重合体(A)のゲルパーミ
エーションクロマトグラフィーによるポリスチレン換算
重量平均分子量(以下Mwという)は、5×103〜5
×106が好ましい。Mwが5×103より低いと十分な
接着強度が得られなかったり、高エネルギー線の照射後
に支持体から被着体に粘着剤組成物が転着したり、5×
106を越えると分子中に(メタ)アクリロイル基を少
なくとも3個有する化合物との相溶性が低下する場合が
ある。
The polystyrene equivalent weight average molecular weight (hereinafter referred to as Mw) of the polymer (A) used in the present invention by gel permeation chromatography is 5 × 10 3 to 5
× 10 6 is preferable. If the Mw is lower than 5 × 10 3 , sufficient adhesive strength cannot be obtained, or the pressure-sensitive adhesive composition may be transferred from the support to the adherend after irradiation with high energy rays.
If it exceeds 10 6 , the compatibility with a compound having at least three (meth) acryloyl groups in the molecule may decrease.

【0015】本発明で用いられる分子中に(メタ)アク
リロイル基を少なくとも1個有する化合物としては、2
−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロ
キシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブ
チル(メタ)アクリレート、メチル(メタ)アクリレー
ト、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリ
レート、イソプロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メ
タ)アクリレート、アミル(メタ)アクリレート、イソブ
チル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレー
ト、ペンチル(メタ)アクリレート、イソアミル(メタ)
アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、ヘプチル
(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、イ
ソオクチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル
(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、デ
シル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレー
ト、ウンデシル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)ア
クリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、テトラヒド
ロフルフリル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル
(メタ)アクリレート、エトキシジエチレングリコール
(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレー
ト、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、フェノキシ
エチル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール
モノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコール
モノ(メタ)アクリレート、メトキシエチレングリコー
ル(メタ)アクリレート、エトキシエトキシエチル(メ
タ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール
(メタ)アクリレート、メトキシポリプロピレングリコ
ール(メタ)アクリレート、ジシクロペンタジエン(メ
タ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリ
レート、、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、
トリシクロデカニル(メタ)アクリレート、イソボルニ
ル(メタ)アクリレート、ボルニル(メタ)アクリレー
ト、ジアセトン(メタ)アクリルアミド、イソブトキシ
メチル(メタ)アクリルアミド、N−ビニルピロリド
ン、N−ビニルカプロラクタム、N,N−ジメチル(メ
タ)アクリルアミド、t−オクチル(メタ)アクリルア
ミド、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジ
エチルアミノエチル(メタ)アクリレート、7−アミノ
−3,7−ジメチルオクチル(メタ)アクリレート、N,
N−ジエチル(メタ)アクリルアミド、N,N'−ジメチル
アミノプロピル(メタ)アクリルアミド、(メタ)アク
リロイルモルホリン、および下記の式(2)〜(4)で
表されるモノ(メタ)アクリル化合物、
The compound having at least one (meth) acryloyl group in the molecule used in the present invention is 2
-Hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, Butyl (meth) acrylate, amyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, isoamyl (meth)
Acrylate, hexyl (meth) acrylate, heptyl
(Meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, nonyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, undecyl (meth) acrylate, dodecyl (Meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, butoxyethyl (meth) acrylate, ethoxydiethylene glycol (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) Acrylate, polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, methoxyethylene glycol (meth) acrylate, Toxyethoxyethyl (meth) acrylate, methoxy polyethylene glycol (meth) acrylate, methoxy polypropylene glycol (meth) acrylate, dicyclopentadiene (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate,
Tricyclodecanyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, bornyl (meth) acrylate, diacetone (meth) acrylamide, isobutoxymethyl (meth) acrylamide, N-vinylpyrrolidone, N-vinylcaprolactam, N, N-dimethyl (Meth) acrylamide, t-octyl (meth) acrylamide, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, diethylaminoethyl (meth) acrylate, 7-amino-3,7-dimethyloctyl (meth) acrylate, N,
N-diethyl (meth) acrylamide, N, N'-dimethylaminopropyl (meth) acrylamide, (meth) acryloylmorpholine, and a mono (meth) acrylic compound represented by the following formulas (2) to (4),

【0016】[0016]

【化1】 Embedded image

【0017】(式中、R4は水素原子またはメチル基で
あり、R5は炭素数2〜6、好ましくは2〜4のアルキ
レン基であり、R6は水素原子または炭素数1〜12、
好ましくは1〜9のアルキル基であり、mは0〜12、
好ましくは1〜8の整数である。)
(Wherein R 4 is a hydrogen atom or a methyl group, R 5 is an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms, preferably 2 to 4 carbon atoms, R 6 is a hydrogen atom or 1 to 12 carbon atoms,
Preferably it is a 1-9 alkyl group, m is 0-12,
It is preferably an integer of 1 to 8. )

【0018】[0018]

【化2】 Embedded image

【0019】(式中、R4の定義は前記のとおりであ
り、R7は炭素数2〜8、好ましくは2〜5のアルキレ
ン基であり、pは0〜8、好ましくは1〜4の整数であ
る。)
(In the formula, R 4 is as defined above, R 7 is an alkylene group having 2 to 8 carbon atoms, preferably 2 to 5 carbon atoms, and p is 0 to 8, preferably 1 to 4 It is an integer.)

【0020】[0020]

【化3】 Embedded image

【0021】[式中、R4、R7およびpの定義は前記の
とおりであり、R8およびR9は水素原子、炭素数1〜6
のアルキル基または−R10−Aで表される基(ここでR
10は炭素数1〜6のアルキレン基であり、Aは(メタ)
アクリロイルオキシ基を表す)である。]
[Wherein R 4 , R 7 and p are as defined above, R 8 and R 9 are hydrogen atoms and have 1 to 6 carbon atoms.
Alkyl group or a group represented by -R 10 -A (where R
10 is an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, and A is (meth)
It represents an acryloyloxy group). ]

【0022】エチレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、
1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6
−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペン
チルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロー
ルプロパントリオキシエチル(メタ)アクリレート、ト
リス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートジ(メ
タ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ
(メタ)アクリレート、ビスフェノールAのジグリシジ
ルエーテルに(メタ)アクリレートを付加させたエポキ
シ(メタ)アクリレートなどのジアクリレート、トリメ
チロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエ
リスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロー
ルプロパントリオキシエチル(メタ)アクリレート、ト
リス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートトリ
(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテト
ラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールモノ
ヒドロキシペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリ
スリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ヘキサメチロ
ールメラミントリ(メタ)アクリレート、ヘキサメチロ
ールメラミンテトラ(メタ)アクリレート、ヘキサメチ
ロールメラミンペンタ(メタ)アクリレート、ヘキサメ
チロールメラミンヘキサ(メタ)アクリレート、式
(5)で示される化合物、 R111213C−CH2OCH2−CR141516 ・・・(5) [(式中、R11、R12、R13、R14、R15およびR16
同じでも異なっていてもよく、下記式(6)、式
(7)、式(8)および式(9)で示される有機基のう
ちのいずれかを表す。但し、R11、R12、R13、R14
15およびR16のうち少なくとも3つは式(6)、式
(7)および式(8)のいずれかで示される有機基でな
ければならない。)
Ethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate,
1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1.6
-Hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane trioxyethyl (meth) acrylate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate di (meth) acrylate, tricyclodecane dimethanol di (Meth) acrylate, diacrylate such as epoxy (meth) acrylate obtained by adding (meth) acrylate to diglycidyl ether of bisphenol A, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane Trioxyethyl (meth) acrylate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, Trimethylolpropane tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol monohydroxypenta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, hexamethylolmelamine tri (meth) acrylate, hexamethylolmelamine tetra (meth) acrylate, hexamethylolmelamine penta (meth) acrylate, hexamethylol melamine hexa (meth) acrylate, a compound represented by the formula (5), R 11 R 12 R 13 C-CH 2 OCH 2 -CR 14 R 15 R 16 ··· (5) [ (In the formula, R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 and R 16 may be the same or different, and are represented by the following formula (6), formula (7), formula (8) and formula (9) Represents any one of the organic groups represented by, provided that R 11 , R 12 , R 13 , R 14 ,
At least three of R 15 and R 16 must be organic groups represented by any one of formula (6), formula (7) and formula (8). )

【0023】[0023]

【化4】 Embedded image

【0024】[0024]

【化5】 Embedded image

【0025】[0025]

【化6】 [Chemical 6]

【0026】−CH2OH ・・・(9) (式中、R17は炭素数2〜6のアルキレン基、R18は水
素原子またはメチル基を示し、q、nはそれぞれ1〜5
の整数を示す。)]式(10)または式(11)で示さ
れる化合物、 CH(OR19)(CH2OR20)(CH2OR21) ・・・(10)
--CH 2 OH (9) (wherein, R 17 is an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms, R 18 is a hydrogen atom or a methyl group, and q and n are 1 to 5 respectively.
Indicates an integer. )] A compound represented by formula (10) or formula (11), CH (OR 19 ) (CH 2 OR 20 ) (CH 2 OR 21 ) ... (10)

【0027】[0027]

【化7】 Embedded image

【0028】(式中、R19、R20、R21は同じでも異な
っていてもよく、下記式(12)で示される有機基を表
す。)
(In the formula, R 19 , R 20 , and R 21 may be the same or different and each represents an organic group represented by the following formula (12).)

【0029】[0029]

【化8】 Embedded image

【0030】(式中、R20は炭素数2〜6のアルキレン
基、R16は水素原子またはメチル基を示し、rは1〜5
の整数を示す。)
(In the formula, R 20 is an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms, R 16 is a hydrogen atom or a methyl group, and r is 1 to 5).
Indicates an integer. )

【0031】などの多官能アクリレートなどが挙げられ
る。
Examples thereof include polyfunctional acrylates and the like.

【0032】市販品としては、アローニクスM111,
M113,M114,M117(以上東亜合成化学
(株)製)、KAYARAD TC110S,R62
9,R644(以上日本化薬(株)製)、ビスコート3
700(大阪有機化学(株)製)、ユピマーUV、SA
1002,SA2007(以上三菱油化(株)製)、ビ
スコート700(大阪有機化学(株)製)、KAYAR
AD R−604,DPCA−20,−30,−60,
−120,HX−620,D−310,D−330(以
上日本化薬(株)製)、アロニックスM−210,M−
215,M−315,M−325(以上東亜合成化学
(株)製)などが挙げられる。
As commercially available products, Aronix M111,
M113, M114, M117 (all manufactured by Toagosei Kagaku Co., Ltd.), KAYARAD TC110S, R62
9, R644 (Nippon Kayaku Co., Ltd.), Viscoat 3
700 (Osaka Organic Chemical Co., Ltd.), Upimer UV, SA
1002, SA2007 (all manufactured by Mitsubishi Petrochemical Co., Ltd.), Viscoat 700 (manufactured by Osaka Organic Chemical Co., Ltd.), KAYAR
ADR-604, DPCA-20, -30, -60,
-120, HX-620, D-310, D-330 (all manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), Aronix M-210, M-
215, M-315, M-325 (all manufactured by Toa Gosei Kagaku Co., Ltd.) and the like.

【0033】また、ウレタンアクリレートも用いること
ができる。その例としては、水酸基含有(メタ)アクリレ
ート化合物とポリイソシアネート化合物のウレタン化反
応生成物、水酸基含有(メタ)アクリレート化合物とポリ
イソシアネート化合物とアルコール類の反応生成物、水
酸基含有(メタ)アクリレート化合物とポリイソシアネー
ト化合物とポリマージオール化合物の反応生成物、水酸
基含有(メタ)アクリレート化合物とポリイソシアネート
化合物とアルコール類とポリマージオール化合物の反応
生成物などが挙げられる。
Urethane acrylate can also be used. Examples thereof include a urethanization reaction product of a hydroxyl group-containing (meth) acrylate compound and a polyisocyanate compound, a reaction product of a hydroxyl group-containing (meth) acrylate compound, a polyisocyanate compound and alcohols, and a hydroxyl group-containing (meth) acrylate compound. Examples thereof include reaction products of polyisocyanate compounds and polymer diol compounds, reaction products of hydroxyl group-containing (meth) acrylate compounds, polyisocyanate compounds, alcohols and polymer diol compounds.

【0034】ここで、水酸基含有(メタ)アクリレート
化合物の例としては、例えば2−ヒドロキシエチル(メ
タ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)ア
クリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレー
ト、2−ヒドロキシ−3−フェニルオキシプロピル(メ
タ)アクリレート、1,4−ブタンジオールモノ(メ
タ)アクリレート、2−ヒドロキシアルキル(メタ)ア
クリロイルフォスフェート、4−ヒドロキシシクロヘキ
シル(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオール
モノ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールモ
ノ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンジ
(メタ)アクリレート、トリメチロールエタンジ(メ
タ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)
アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)
アクリレート、下記一般式(13)または(14)で表
される(メタ)アクリレートなどが挙げられる。
Here, examples of the hydroxyl group-containing (meth) acrylate compound include, for example, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, and 2-hydroxy-. 3-phenyloxypropyl (meth) acrylate, 1,4-butanediol mono (meth) acrylate, 2-hydroxyalkyl (meth) acryloyl phosphate, 4-hydroxycyclohexyl (meth) acrylate, 1,6-hexanediol mono ( (Meth) acrylate, neopentyl glycol mono (meth) acrylate, trimethylolpropane di (meth) acrylate, trimethylolethanedi (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate
Acrylate, dipentaerythritol penta (meth)
Examples thereof include acrylates and (meth) acrylates represented by the following general formula (13) or (14).

【0035】[0035]

【化9】 Embedded image

【0036】[0036]

【化10】 Embedded image

【0037】(式中、R4は水素原子またはメチル基を
示し、sは1〜15の数を示す。) さらに、アルキルグリシジルエーテル、アリールグリシ
ジルエーテル、グリシジル(メタ)アクリレートなどのグ
リシジル基含有化合物と(メタ)アクリル酸との付加反応
により得られる化合物を水酸基含有(メタ)アクリレー
ト化合物として用いることもできる。
(In the formula, R 4 represents a hydrogen atom or a methyl group, and s represents a number of 1 to 15.) Further, glycidyl group-containing compounds such as alkyl glycidyl ether, aryl glycidyl ether, and glycidyl (meth) acrylate. The compound obtained by the addition reaction of (meth) acrylic acid with (meth) acrylic acid can be used as the hydroxyl group-containing (meth) acrylate compound.

【0038】上記ポリイソシアネート化合物の例として
は、例えば2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−
トリレンジイソシアネート、1,3−キシリレンジイソ
シアネート、1,4−キシリレンジイソシアネート、1,
5−ナフタレンジイソシアネート、m−フェニレンジイ
ソシアネート、p−フェニレンジイソシアネート、3,
3’−ジメチル−4,4’−ジフェニルメタンジイソシ
アネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネー
ト、3,3’−ジメチルフェニレンジイソシアネート、
4,4’−ビフェニレンジイソシアネート、1,6−ヘキ
サンジイソシアネート、イソフォロンジイソシアネー
ト、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネ
ート、ビス(2−イソシアネートエチル)フマレート、
6−イソプロピル−1,3−フェニルジイソシアネー
ト、4−ジフェニルプロパンジイソシアネート、リジン
ジイソシアネート、水添ジフェニルメタンジイソシアネ
ート、水添キシリレンジイソシアネート、テトラメチル
キシリレンジイソシアネートなどが挙げられる。
Examples of the above polyisocyanate compound include, for example, 2,4-tolylene diisocyanate and 2,6-
Tolylene diisocyanate, 1,3-xylylene diisocyanate, 1,4-xylylene diisocyanate, 1,
5-naphthalene diisocyanate, m-phenylene diisocyanate, p-phenylene diisocyanate, 3,
3'-dimethyl-4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 3,3'-dimethylphenylene diisocyanate,
4,4'-biphenylene diisocyanate, 1,6-hexane diisocyanate, isophorone diisocyanate, 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, bis (2-isocyanatoethyl) fumarate,
6-isopropyl-1,3-phenyl diisocyanate, 4-diphenylpropane diisocyanate, lysine diisocyanate, hydrogenated diphenylmethane diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, tetramethyl xylylene diisocyanate and the like can be mentioned.

【0039】上記アルコール類としては、例えばメタノ
ール、エタノール、n−プロピルアルコール、iso−
プロピルアルコール、n−ブチルアルコール、iso−
ブチルアルコール、sec−ブチルアルコール、ter
t−ブチルアルコール、n−アミルアルコール、iso
−アミルアルコール、sec−アミルアルコール、te
rt−アミルアルコール、n−ヘキサノール、シクロヘ
キサノール、4−メチル−2−ペンタノール、n−ヘプ
タノール、3−メチル−1−ヘキサノール、5−メチル
−1−ヘキサノール、2−エチルヘキシルアルコール、
3,5,5−トリメチル−1−ヘキサノール、n−オクチ
ルアルコール、2−オクチルアルコール、エチレングリ
コールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエ
チルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテ
ル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレ
ングリコールモノ−2−エチルヘキシルエーテル、ジエ
チレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリ
コールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ
ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエ
ーテル、ジエチレングリコールモノ−2−エチルヘキシ
ルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテ
ル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、トリ
エチレングリコールモノブチルエーテル、テトラエチレ
ングリコールモノブチルエーテル、ペンタエチレングリ
コールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノ
メチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエ
ーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテ
ル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロ
ピレングリコールモノエチルエーテル、ベンジルアルコ
ールなどの一価アルコール、
Examples of the above alcohols include methanol, ethanol, n-propyl alcohol, iso-
Propyl alcohol, n-butyl alcohol, iso-
Butyl alcohol, sec-butyl alcohol, ter
t-butyl alcohol, n-amyl alcohol, iso
-Amyl alcohol, sec-amyl alcohol, te
rt-amyl alcohol, n-hexanol, cyclohexanol, 4-methyl-2-pentanol, n-heptanol, 3-methyl-1-hexanol, 5-methyl-1-hexanol, 2-ethylhexyl alcohol,
3,5,5-Trimethyl-1-hexanol, n-octyl alcohol, 2-octyl alcohol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monohexyl ether, ethylene glycol mono-2- Ethylhexyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monohexyl ether, diethylene glycol mono-2-ethylhexyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, triethylene glycol monobutyl ether, tetraethylene Glycol monob Ether, pentaethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, monohydric alcohols such as benzyl alcohol,

【0040】エチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコー
ル、ペンタエチレングリコールなどの一般式(16)で
表される(ポリ)エチレングリコール類、 HO−(C24O)t−H ・・・(16) (ここで、tは1〜20の整数である。) プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリ
プロピレングリコール、ヘキサプロピレングリコールな
どの一般式(17)で表される(ポリ)プロピレングリ
コール類、 HO−(C36O)t−H ・・・(17) (ここで、tは1〜20の整数である。) ブチレングリコール、ジブチレングリコール、トリブチ
レングリコールなどの一般式(18)で表される(ポ
リ)ブチレングリコール類、 HO−(C48O)t−H ・・・(18) (ここで、tは1〜20の整数である。)
(Poly) ethylene glycol represented by the general formula (16), such as ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, pentaethylene glycol, HO- (C 2 H 4 O) t -H. · (16) (Here, t is an integer of 1 to 20.) (Poly) propylene glycol represented by the general formula (17) such as propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, and hexapropylene glycol. s, HO- (wherein, t is an integer of 1~20.) (C 3 H 6 O) t -H ··· (17) butylene glycol, dibutylene glycol, formulas such as tri-butylene glycol ( 18) represented by the (poly) butylene glycol, HO- (C 4 H 8 O ) t -H ··· (18) (Here, t is an integer of 1 to 20.)

【0041】1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサ
ンジオール、グリセリン、トリメチロールプロパンおよ
びそのエチレンオキサイド・プロピレンオキサイド付加
体、ソルビトール、ペンタエリトリトール、ジペンタエ
リトリトール、1,4−シクロヘキサンジオール、1,4
−シクロヘキサンジメタノール、1,2−ビス(ヒドロ
キシエチル)シクロヘキサン、2,2−ジエチル−1,3
−プロパンジオール、アルキレンオキサイド付加ポリオ
ール、日本乳化剤(株)製TMP30、PNT4Gly
col、EDA P4、EDA P8、旭電化(株)製
クオドロール、ユニオンカーバイド社製のトーンポリオ
ール0200、0221、0301、0310、220
1、2221などのポリカプロラクトンなどの多価アル
コールが挙げられる。また、多価アルコールは、上記の
多価アルコールの飽和ポリエステルでもよい。このよう
な例としては、トリメチロールプロパンとε−カプロラ
クトンとの反応生成物、前記のエチレングリコール類、
プロピレングリコール類、ブチレングリコール類、1,
5−ペンタンジオール、1,6ヘキサンジオール、1,4
−シクロヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジ
メタノール、1,2−ビス(ヒドロキシエチル)シクロ
ヘキサン、2,2−ジエチル−1,3−プロパンジオール
などのジオール2モルに対して飽和ジカルボン酸1モル
の割合の反応生成物でもよい。なお、飽和ジカルボン酸
の例としては、蓚酸、マロン酸、メチルマロン酸、コハ
ク酸、エチルマロン酸、メチルコハク酸、グルタル酸、
アジピン酸、2,2−ジメチルコハク酸、2,3−ジメチ
ルコハク酸、3−メチルグルタル酸、2,2−ジメチル
グルタル酸、3,3−ジメチルグルタル酸、ピメリン
酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸などが挙げ
られる。
1,5-Pentanediol, 1,6-hexanediol, glycerin, trimethylolpropane and its ethylene oxide / propylene oxide adduct, sorbitol, pentaerythritol, dipentaerythritol, 1,4-cyclohexanediol, 1,4. Four
-Cyclohexanedimethanol, 1,2-bis (hydroxyethyl) cyclohexane, 2,2-diethyl-1,3
-Propanediol, alkylene oxide addition polyol, TMP30, PNT4Gly manufactured by Nippon Emulsifier Co., Ltd.
col, EDA P4, EDA P8, quadrol manufactured by Asahi Denka Co., Ltd., tone polyol 0200, 0221, 0301, 0310, 220 manufactured by Union Carbide.
And polyhydric alcohols such as polycaprolactone such as 1,2221. Further, the polyhydric alcohol may be a saturated polyester of the above polyhydric alcohol. As such an example, a reaction product of trimethylolpropane and ε-caprolactone, the above-mentioned ethylene glycols,
Propylene glycols, butylene glycols, 1,
5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 1,4
-Cyclohexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, ratio of 1 mol of saturated dicarboxylic acid to 2 mol of diol such as 1,2-bis (hydroxyethyl) cyclohexane and 2,2-diethyl-1,3-propanediol The reaction product of Incidentally, examples of the saturated dicarboxylic acid, oxalic acid, malonic acid, methylmalonic acid, succinic acid, ethylmalonic acid, methylsuccinic acid, glutaric acid,
Adipic acid, 2,2-dimethylsuccinic acid, 2,3-dimethylsuccinic acid, 3-methylglutaric acid, 2,2-dimethylglutaric acid, 3,3-dimethylglutaric acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, Sebacic acid etc. are mentioned.

【0042】分子中に(メタ)アクリロイル基を少なく
とも1個有する化合物の使用量は、重合体(A)100
重量部に対して、好ましくは1〜300重量部であり、
より好ましくは5〜100重量部である。分子中に(メ
タ)アクリロイル基を少なくとも1個有する化合物の使
用量が1重量部未満では、高エネルギー線の照射による
架橋密度が高くなり難く粘着性の低下幅が小さい。ま
た、分子中に(メタ)アクリロイル基を少なくとも1個
有する化合物の使用量が300重量部を越えると高エネ
ルギー線を照射した後に剥離した際に、粘着材の転着が
生じ易くなる傾向がある。
The amount of the compound having at least one (meth) acryloyl group in the molecule is such that the amount of the polymer (A) is 100.
It is preferably 1 to 300 parts by weight with respect to parts by weight,
More preferably, it is 5 to 100 parts by weight. When the amount of the compound having at least one (meth) acryloyl group in the molecule is less than 1 part by weight, the crosslink density due to irradiation with high energy rays is unlikely to be high and the decrease in adhesiveness is small. Further, when the amount of the compound having at least one (meth) acryloyl group in the molecule exceeds 300 parts by weight, transfer of the pressure-sensitive adhesive tends to occur when peeling after irradiation with high energy rays. .

【0043】本発明の組成物には、重合体(A)以外
に、天然ゴム、イソプレンゴム、スチレンブタジエンゴ
ム、スチレン・ブタジエンブロック共重合体、スチレン
・イソプレンブロック共重合体、ブチルゴム、ポリイソ
ブチレン、シリコーンゴム、ポリビニルイソブチルエー
テル、クロロプレンゴム、ニトリルゴム、グラフトゴ
ム、再生ゴムなどのゴム系樹脂類を必要に応じて加える
ことも可能である。
In the composition of the present invention, in addition to the polymer (A), natural rubber, isoprene rubber, styrene-butadiene rubber, styrene / butadiene block copolymer, styrene / isoprene block copolymer, butyl rubber, polyisobutylene, It is also possible to add rubber-based resins such as silicone rubber, polyvinyl isobutyl ether, chloroprene rubber, nitrile rubber, graft rubber and recycled rubber, if necessary.

【0044】また、本発明の組成物がケイ素含有基を有
する重合体(A)を含む場合には、組成物を支持体に塗
布する前に、重合体(A)中のケイ素基同士を縮合させ
るために、組成物にアミン類または有機錫化合物を加え
ることもできる。このようなアミン類としては、例えば
エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、
1,4−ジアザビシクロ[2,2,2]オクタン、1,4−
ジアザビシクロ−2−メチル[2,2,2]オクタン、γ
−(2−アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシ
ラン、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルメチル
ジメトキシシラン、γ−アニリノプロピルトリメトキシ
シラン、γ−ジブチルアミノプロピルトリメトキシシラ
ンなどが挙げられる。また、有機錫化合物としては、例
えばジラウリル酸ジ−n−ブチル錫、ビス(2−エチル
ヘキサン酸)ジ−n−ブチル錫、トリス(2−エチルヘ
キサン酸)n−ブチル錫、ジエタン酸ジ−n−ブチル
錫、ジ−n−デカン酸ジ−n−メチル錫、ジオクチル
酸、ジラウリル錫などが挙げられる。アミン類または有
機錫化合物の量は、重合体(A)と分子中に(メタ)ア
クリロイル基を少なくとも1個有する化合物の合計10
0重量部に対して0.01〜1重量部である。本発明の
組成物は、光重合開始剤を実質的に含有しない。光重合
開始剤を含有させると、赤外線、可視光線および紫外線
などの波長300nm以上の光線の照射を受ける通常の
環境下において接着性が低下する。
When the composition of the present invention contains the polymer (A) having a silicon-containing group, the silicon groups in the polymer (A) are condensed with each other before the composition is applied to the support. To this end, amines or organotin compounds can be added to the composition. Examples of such amines include ethylamine, diethylamine, triethylamine,
1,4-diazabicyclo [2,2,2] octane, 1,4-
Diazabicyclo-2-methyl [2,2,2] octane, γ
Examples include-(2-aminoethyl) aminopropyltrimethoxysilane, γ- (2-aminoethyl) aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-anilinopropyltrimethoxysilane, and γ-dibutylaminopropyltrimethoxysilane. Examples of the organic tin compound include di-n-butyltin dilaurate, bis (2-ethylhexanoic acid) di-n-butyltin, tris (2-ethylhexanoic acid) n-butyltin, and diethanoic acid di-n-butyltin. Examples thereof include n-butyltin, di-n-methyltin di-n-decanoate, dioctylic acid, and dilauryltin. The amount of amines or organotin compounds is 10 in total of the polymer (A) and the compound having at least one (meth) acryloyl group in the molecule.
It is 0.01 to 1 part by weight with respect to 0 part by weight. The composition of the present invention contains substantially no photopolymerization initiator. When the photopolymerization initiator is contained, the adhesiveness is lowered under a normal environment where it is irradiated with light having a wavelength of 300 nm or more such as infrared rays, visible rays and ultraviolet rays.

【0045】また、本発明の組成物には、必要に応じて
ロジン、水添ロジン、エステルガム、ポリテルペン樹
脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、芳香
族石油系樹脂、脂環族系水添石油樹脂などの粘着性付与
剤を加えることも可能である。
In the composition of the present invention, if necessary, rosin, hydrogenated rosin, ester gum, polyterpene resin, polyolefin resin, polystyrene resin, aromatic petroleum resin, alicyclic hydrogenated petroleum oil. It is also possible to add a tackifier such as a resin.

【0046】さらに、本発明の組成物には、老化防止
剤、紫外線吸収剤、溶剤、着色剤、光安定剤、カップリ
ング剤、熱重合禁止剤、レベリング剤、界面活性剤、保
存安定剤、可塑剤、フィラーなどを必要に応じて配合す
ることもできる。
Further, the composition of the present invention contains an antiaging agent, an ultraviolet absorber, a solvent, a coloring agent, a light stabilizer, a coupling agent, a thermal polymerization inhibitor, a leveling agent, a surfactant, a storage stabilizer, A plasticizer, a filler and the like can be added if necessary.

【0047】上記老化防止剤の例としては、Irgan
ox 245、259、565、1010、1035、
1076、1081、1098、1222、1330
(以上、チバガイギー社製)などを挙げることができ
る。
Examples of the above antiaging agents include Irgan
ox 245, 259, 565, 1010, 1035,
1076, 1081, 1098, 1222, 1330
(Above, manufactured by Ciba Geigy) and the like.

【0048】上記紫外線吸収剤としては、例えばTin
uvin P、213、234、320、326、32
7、328、329、(以上、チバガイギー社製)、S
EESORB 102、103、501、202、71
2、(以上、シプロ化成社製)などが挙げられ、光安定
剤としては、例えばTinuvin 292、144、
622LD、(以上、チバガイギー社製)、サノールL
S770、LS440(以上、三共社製)、Sumis
orb TM−061(住友化学社製)などが挙げられ
る。カップリング剤としては、例えばγ−アミノプロピ
ルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエ
トキシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリエト
キシシラン、市販品としてはSH6020、6020
P、6062、6030(以上、東レ・ダウコーニング
シリコーン社製)、KBE 903、603、403
(以上、信越化学社製)などが挙げられる。
Examples of the ultraviolet absorber include Tin.
uvin P, 213, 234, 320, 326, 32
7, 328, 329 (above, manufactured by Ciba Geigy), S
EESORB 102, 103, 501, 202, 71
2, (above, manufactured by Cypro Kasei Co., Ltd.) and the like, and as the light stabilizer, for example, Tinuvin 292, 144,
622LD (above, manufactured by Ciba Geigy), Sanol L
S770, LS440 (above, Sankyosha), Sumis
orb TM-061 (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) and the like. Examples of the coupling agent include γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, γ-methacryloxypropyltriethoxysilane, and commercially available products SH6020, 6020.
P, 6062, 6030 (above, manufactured by Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd.), KBE 903, 603, 403.
(Above, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and the like.

【0049】上記溶剤としては、例えばベンゼン、トル
エン、キシレン、芳香族ナフサなどの芳香族炭化水素
類、n−ヘキサン、n−ヘプタン、n−オクタン、n−
デカン、ジペンテン、石油スピリット、石油ナフサ、テ
レピン油などの脂肪族炭化水素類、エチルアセテート、
n−アミルアセテート、3−メトキシブチルアセテー
ト、メチルベンゾエート、セロソルブアセテート、ブチ
ルセロソルブアセテートなどのエステル類、アセトン、
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホ
ロン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノンなど
のケトン類、メチルアルコール、エチルアルコール、n
−プロピルアルコール、i−プロピルアルコール、n−
ブチルアルコール、i−ブチルアルコール、sec−ブ
チルアルコール、t−ブチルアルコールなどのアルコー
ル類を挙げることができる。
Examples of the solvent include aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, aromatic naphtha, n-hexane, n-heptane, n-octane and n-.
Decane, dipentene, petroleum spirit, petroleum naphtha, aliphatic hydrocarbons such as turpentine oil, ethyl acetate,
Esters such as n-amyl acetate, 3-methoxybutyl acetate, methyl benzoate, cellosolve acetate, butyl cellosolve acetate, acetone,
Ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, isophorone, cyclohexanone, methyl cyclohexanone, methyl alcohol, ethyl alcohol, n
-Propyl alcohol, i-propyl alcohol, n-
Alcohols such as butyl alcohol, i-butyl alcohol, sec-butyl alcohol and t-butyl alcohol can be mentioned.

【0050】本発明の組成物は、上記必須成分および任
意成分を適宜組み合わせ、常法により混合することによ
り製造することができる。
The composition of the present invention can be produced by appropriately combining the above-mentioned essential components and optional components and mixing them by a conventional method.

【0051】本発明の組成物は、接着しようとする二つ
の被着体の一方または両方に塗布した後、50〜150
℃で1〜120分間加温し、被着体を張り合わせて使用
することもできる。また、被着体の一方に塗布し、50
〜150℃で1〜120分間加温した後、易剥離性フィ
ルムを張り合わせ、使用する前に易剥離性フィルムを剥
がして接着しようとするもう一方の被着体を張り合わせ
て使用することもできる。また、易剥離性フィルム上に
塗布し、50〜150℃で1〜120分間加温した後、
片方の被着体と張り合わせた後、易剥離性フィルムを剥
がして接着しようとするもう一方の被着体を張り合わせ
て使用することもできる。さらに別法として、易剥離性
フィルム上に塗布し、50〜150℃で1〜120分間
加温し、第二の易剥離性フィルムを張り合わせた後、片
方の易剥離性フィルムを剥がして接着しようとするもう
一方の被着体を張り合わせた後、もう一方の易剥離性フ
ィルムを剥がして接着しようとするもう他方の被着体を
張り合わせて使用することもできる。
The composition of the present invention is applied to one or both of two adherends to be adhered, and then 50 to 150
It is also possible to heat the substrate at 1 ° C. for 1 to 120 minutes and bond the adherends to each other for use. Also, apply to one of the adherends,
After heating at -150 ° C for 1 to 120 minutes, the easily peelable film may be laminated, and before use, the other adherend to be peeled off and adhered may be laminated and used. Moreover, after coating on the easily peelable film and heating at 50 to 150 ° C. for 1 to 120 minutes,
After being adhered to one adherend, the easily peelable film may be peeled off and the other adherend to be adhered may be stuck and used. As an alternative method, apply on an easily peelable film, heat at 50 to 150 ° C. for 1 to 120 minutes, bond a second easily peelable film, and then peel off one of the easily peelable films to adhere. After the other adherend to be bonded is adhered, the other easily peelable film can be peeled off and the other adherend to be adhered can be adhered and used.

【0052】本発明の組成物で接着する被着体として
は、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビ
ニル、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネー
ト、ポリスルホン、ポリメチルメタクリレート、ポリス
チレン、ポリブタジエン、ABS樹脂、AS樹脂、AE
S樹脂、ナイロン、セルロース、ニトロセルロース、ト
リアセチルセルロースなどのプラスチック類;フェノー
ルホルムアルデヒド樹脂、クレゾールホルムアルデヒド
樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂などの熱硬化性樹脂;
ガラス、陶器、磁器、セラミックス、石英、シリコン、
鉄、銅、アルミニウム、ニッケルなどの無機物が挙げら
れる。
The adherend to be adhered with the composition of the present invention is, for example, polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride, polyethylene terephthalate, polycarbonate, polysulfone, polymethylmethacrylate, polystyrene, polybutadiene, ABS resin, AS resin, AE.
Plastics such as S resin, nylon, cellulose, nitrocellulose and triacetyl cellulose; thermosetting resins such as phenol formaldehyde resin, cresol formaldehyde resin, melamine resin and urea resin;
Glass, pottery, porcelain, ceramics, quartz, silicon,
Inorganic substances such as iron, copper, aluminum and nickel can be mentioned.

【0053】本発明の組成物を用いて張り合わせた場
合、電子線、X線、α線、β線、γ線などの高エネルギ
ー線の照射を受けなければ目的を達成するに十分な剥離
接着力を示すが、高エネルギー線の照射を受けると剥離
接着力は照射前の1/10以下に低下し容易に剥離する
ことが可能となる。
When the composition of the present invention is laminated, the peeling adhesive strength sufficient to achieve the purpose is required unless it is irradiated with high energy rays such as electron rays, X rays, α rays, β rays and γ rays. However, when irradiated with a high energy ray, the peeling adhesive force is reduced to 1/10 or less of that before irradiation, and peeling can be easily performed.

【0054】[0054]

【実施例】以下、実施例を挙げて本発明をさらに詳細に
説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。なお、以下において部とあるのは重量部を意味す
る。なお、重合体(A)のMwは標準ポリスチレンを用
いたゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GP
C)法により測定した。測定条件は次の通りである。 装置:東ソー社製 高速GPC装置HLC−802A 検出法:RI カラム:東ソー社製 TSK−GEL、G4000
XL、G3000HXL、G2000HXL(2本) 溶出溶媒:テトラヒドロフラン、流速:1.1ml/分 カラム温度:40℃ 試料濃度:0.006g/ml(溶媒はテトラヒドロフ
ラン)
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of examples, but the present invention is not limited thereto. In the following, “parts” means “parts by weight”. The Mw of the polymer (A) is gel permeation chromatography (GP) using standard polystyrene.
It was measured by the C) method. The measurement conditions are as follows. Device: Tosoh high-speed GPC device HLC-802A Detection method: RI Column: Tosoh TSK-GEL, G4000
H XL , G3000H XL , G2000H XL (two) Elution solvent: tetrahydrofuran, flow rate: 1.1 ml / min Column temperature: 40 ° C Sample concentration: 0.006 g / ml (solvent is tetrahydrofuran)

【0055】また、重合反応後の重合体の濃度は、23
0℃に保持したホットプレート上で15分間加熱して揮
発成分を除去した後の不揮発分の濃度をもって重合体の
濃度とした。剥離強度は、温度23℃、相対湿度50%
の環境下、50mm/分のTピール剥離試験を行い測定
した。
The concentration of the polymer after the polymerization reaction is 23
The concentration of the non-volatile component after removing the volatile components by heating for 15 minutes on a hot plate kept at 0 ° C. was defined as the concentration of the polymer. Peel strength, temperature 23 ℃, relative humidity 50%
Under the environment, the T-peel peeling test was performed at 50 mm / min and the measurement was performed.

【0056】実施例1 攪拌機、温度計、バブリング用窒素導入管を備えた2リ
ットルの四口フラスコにメチルメタクリレート160g
(1.60モル)、n−ブチルアクリレート240g
(1.69モル)、2−ヒドロキシエチルアクリレート
100g(0.86モル)、3−(メタ)アクリロキシ
プロピルトリメトキシシラン5g(0.025モル)、
2,2’−アゾビス(イソブチロニトリル)0.5gおよ
びメチルエチルケトン500gを入れ、攪拌しながら窒
素バブリングにて原料モノマー中の酸素を窒素で置換し
た。引き続きオイルバスで加熱して内温を75〜85℃
に保持し6時間攪拌して重合反応を行った。上記重合反
応により得られた共重合体の濃度は49.5%であっ
た。また、本共重合体の重量平均分子量は、15,70
0であった。本反応で得られた共重合体溶液を、以下共
重合体溶液Aと称する。
Example 1 160 g of methyl methacrylate was placed in a 2-liter four-necked flask equipped with a stirrer, a thermometer, and a nitrogen introducing tube for bubbling.
(1.60 mol), n-butyl acrylate 240 g
(1.69 mol), 2-hydroxyethyl acrylate 100 g (0.86 mol), 3- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane 5 g (0.025 mol),
0.5 g of 2,2'-azobis (isobutyronitrile) and 500 g of methyl ethyl ketone were added, and the nitrogen in the raw material monomer was replaced with nitrogen by nitrogen bubbling while stirring. Continue heating in an oil bath to keep the internal temperature at 75-85 ° C.
The mixture was kept at the above temperature and stirred for 6 hours to carry out a polymerization reaction. The concentration of the copolymer obtained by the above polymerization reaction was 49.5%. The weight average molecular weight of this copolymer is 15,70.
It was 0. The copolymer solution obtained by this reaction is hereinafter referred to as a copolymer solution A.

【0057】共重合体溶液A101gおよびジペンタエ
リスリトールヘキサアクリレート25gを混合した後、
一方の被着体である厚さ75μmのPET(ポリエチレ
ンテレフタレート)フィルム(商品名 ルミラー、東レ
(株)製)に熊谷理機工業(株)製アプリケーターバー
127μmを用いて塗布し、空気循環式オーブン中で8
0℃で20分間加熱し揮発成分を除去して粘着フィルム
を作製した。該粘着フィルムを室温に戻した後、他の被
着体である厚さ25μmのPETフィルムを上記粘着フ
ィルムに貼り付け温度23℃、相対湿度50%の環境に
1時間放置した。その後、貼り合わせたフィルムの一部
を切り取り剥離試験を行ったところ、剥離強度は122
0g/25mmと大きな剥離強度を有していた。一方、
貼り合わせたフィルムの残りを厚さ25μmのPETフ
ィルムの側から加速電圧165kV、照射量1Mrad
で電子線を照射した後の剥離強度は5g/25mmと非
常に小さかった。また、剥離後の粘着層は全て75μm
厚のPETフィルムの側についており、25μm厚のP
ETフィルムへの転着現象は生じなかった。
After mixing 101 g of the copolymer solution A and 25 g of dipentaerythritol hexaacrylate,
One of the adherends, a PET (polyethylene terephthalate) film with a thickness of 75 μm (trade name Lumirror, manufactured by Toray Industries, Inc.) was applied using an applicator bar 127 μm manufactured by Kumagai Riki Kogyo Co., Ltd. 8 in
The adhesive film was produced by heating at 0 ° C. for 20 minutes to remove volatile components. After the pressure-sensitive adhesive film was returned to room temperature, another adherend, a PET film having a thickness of 25 μm, was attached to the pressure-sensitive adhesive film and left in an environment of a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 50% for 1 hour. After that, when a peeling test was performed by cutting out a part of the laminated films, the peeling strength was 122.
It had a large peel strength of 0 g / 25 mm. on the other hand,
The rest of the laminated films is accelerated from a 25 μm-thick PET film side at an acceleration voltage of 165 kV and an irradiation dose of 1 Mrad.
The peel strength after irradiating with the electron beam at 5 g / 25 mm was very small. Also, the adhesive layer after peeling is all 75 μm
It is on the side of thick PET film and has a thickness of 25 μm.
The transfer phenomenon to the ET film did not occur.

【0058】実施例2 実施例1で用いたジペンタエリスリトールヘキサアクリ
レート25gの代わりにトリメチロールプロパントリア
クリレート6gを用いて粘着剤組成物を調製した後、実
施例1と同様にして粘着フィルムを作製して剥離試験を
行ったところ、930g/25mmと大きな剥離強度を
有していた。一方、加速電圧165kV、照射量1Mr
adの電子線照射後の剥離強度は10g/25mmと小
さく顕著な剥離強度の低下を示した。また転着現象も生
じなかった。
Example 2 A pressure-sensitive adhesive composition was prepared by using 6 g of trimethylolpropane triacrylate instead of 25 g of dipentaerythritol hexaacrylate used in Example 1, and then an adhesive film was prepared in the same manner as in Example 1. Then, a peeling test was performed, and it had a large peeling strength of 930 g / 25 mm. On the other hand, accelerating voltage 165 kV, irradiation dose 1 Mr
The peel strength of the ad after irradiation with the electron beam was as small as 10 g / 25 mm, showing a remarkable decrease in the peel strength. In addition, the transfer phenomenon did not occur.

【0059】実施例3 攪拌機、温度計、バブリング用窒素導入管を備えた2リ
ットルの四口フラスコにメチルメタクリレート 160
g(1.60モル)、n−ブチルアクリレート240g
(1.69モル)、2ーヒドロキシエチルアクリレート
100g(0.86モル)、2,2’−アゾビス(イソ
ブチロニトリル) 0.5gおよびメチルエチルケトン
500gを入れ、攪拌しながら窒素バブリングにて原
料モノマー中の酸素を窒素で置換した。引き続きオイル
バスで加熱し内温を75〜85℃に保持し6時間攪拌し
て重合反応を行った。上記重合反応により得られた共重
合体の濃度は49.3%であった。また、本共重合体の
重量平均分子量は16500であった。本反応で得られ
た共重合体溶液を、以下共重合体溶液Bと称する。
Example 3 Methyl methacrylate 160 was placed in a 2-liter four-necked flask equipped with a stirrer, a thermometer, and a nitrogen introducing tube for bubbling.
g (1.60 mol), n-butyl acrylate 240 g
(1.69 mol) 100 g (0.86 mol) of 2-hydroxyethyl acrylate, 0.5 g of 2,2'-azobis (isobutyronitrile) and 500 g of methyl ethyl ketone were added, and nitrogen bubbling was carried out while stirring. The oxygen inside was replaced with nitrogen. Then, the mixture was heated in an oil bath, the internal temperature was kept at 75 to 85 ° C., and the mixture was stirred for 6 hours to carry out a polymerization reaction. The concentration of the copolymer obtained by the above polymerization reaction was 49.3%. The weight average molecular weight of this copolymer was 16,500. The copolymer solution obtained by this reaction is hereinafter referred to as a copolymer solution B.

【0060】共重合体溶液B101gおよびジペンタエ
リスリトールヘキサアクリレート25gを混合して粘着
剤組成物を調製した後、実施例1と同様にして粘着フィ
ルムを作製して剥離試験を行ったところ、1050g/
25mmと大きな剥離強度を有していた。一方、加速電
圧165kV、照射量1Mradの電子線照射後の剥離
強度は5g/25mmと小さかった。
After preparing a pressure-sensitive adhesive composition by mixing 101 g of the copolymer solution B and 25 g of dipentaerythritol hexaacrylate, a pressure-sensitive adhesive film was prepared in the same manner as in Example 1 and a peeling test was carried out.
It had a large peel strength of 25 mm. On the other hand, the peeling strength after the electron beam irradiation with the acceleration voltage of 165 kV and the irradiation amount of 1 Mrad was as small as 5 g / 25 mm.

【0061】実施例4 実施例3で用いたジペンタエリスリトールヘキサアクリ
レート25gの代わりにジトリメチロールプロパンテト
ラアクリレート15gを用いて粘着剤組成物を調製した
後、実施例1と同様にして粘着フィルムを作製して剥離
試験を行ったところ、1050g/25mmと大きな剥
離強度を有していた。一方、加速電圧165kV、照射
量1Mradの電子線照射後の剥離強度は3g/25m
mと小さく顕著な剥離強度の低下を示した。また転着現
象も生じなかった。
Example 4 A pressure-sensitive adhesive composition was prepared by using 15 g of ditrimethylolpropane tetraacrylate instead of 25 g of dipentaerythritol hexaacrylate used in Example 3, and then an adhesive film was prepared in the same manner as in Example 1. Then, a peeling test was performed, and it had a large peeling strength of 1050 g / 25 mm. On the other hand, the peel strength after irradiation with an electron beam with an acceleration voltage of 165 kV and a dose of 1 Mrad is 3 g / 25 m.
It was as small as m and showed a remarkable decrease in peel strength. In addition, the transfer phenomenon did not occur.

【0062】実施例5 実施例1で用いたジペンタエリスリトールヘキサアクリ
レート25gの代わりにトリプロピレングリコールジア
クリレート15gを用いて粘着剤組成物を調製した後、
実施例1と同様にして粘着フィルムを作製して剥離試験
を行ったところ、1160g/25mmと大きな剥離強
度を有していた。一方、加速電圧165kV、照射量1
Mradの電子線照射後の剥離強度は4g/25mmと
小さく顕著な剥離強度の低下を示した。また転着現象も
生じなかった。
Example 5 A pressure-sensitive adhesive composition was prepared by using 15 g of tripropylene glycol diacrylate instead of 25 g of dipentaerythritol hexaacrylate used in Example 1, and
When an adhesive film was prepared and a peeling test was conducted in the same manner as in Example 1, it had a large peeling strength of 1160 g / 25 mm. On the other hand, accelerating voltage 165 kV, irradiation dose 1
The peel strength after irradiation of Mrad with an electron beam was as small as 4 g / 25 mm, showing a marked decrease in peel strength. In addition, the transfer phenomenon did not occur.

【0063】実施例6 実施例1で用いたジペンタエリスリトールヘキサアクリ
レート25gの代わりにフェノキシエチルアクリレート
15gを用いて粘着剤組成物を調製した後、実施例1と
同様にして粘着フィルムを作製して剥離試験を行ったと
ころ、1050g/25mmと大きな剥離強度を有して
いた。一方、加速電圧165kV、照射量1Mradの
電子線照射後の剥離強度は3g/25mmと小さく顕著
な剥離強度の低下を示した。また転着現象も生じなかっ
た。
Example 6 A pressure-sensitive adhesive composition was prepared by using 15 g of phenoxyethyl acrylate instead of 25 g of dipentaerythritol hexaacrylate used in Example 1, and then an adhesive film was prepared in the same manner as in Example 1. When a peeling test was conducted, it had a large peeling strength of 1050 g / 25 mm. On the other hand, the peel strength after irradiation with an electron beam having an accelerating voltage of 165 kV and an irradiation dose of 1 Mrad was as small as 3 g / 25 mm, showing a remarkable decrease in peel strength. In addition, the transfer phenomenon did not occur.

【0064】比較例1 共重合体溶液Aをそのまま粘着剤組成物として併用した
以外は、実施例1と同様にして粘着フィルムを作製して
剥離試験を行ったところ、5g/25mmと小さな剥離
強度を有していた。一方、加速電圧165kV、照射量
1Mradの電子線照射後の剥離強度も5g/25mm
と小さかった。
Comparative Example 1 A pressure-sensitive adhesive film was prepared in the same manner as in Example 1 except that the copolymer solution A was used as it was as a pressure-sensitive adhesive composition, and a peeling test was conducted. The peeling strength was as small as 5 g / 25 mm. Had. On the other hand, the peeling strength after the electron beam irradiation with the acceleration voltage of 165 kV and the irradiation amount of 1 Mrad is also 5 g / 25 mm.
Was small.

【0065】比較例2 共重合体溶液Bをそのまま粘着剤組成物として使用した
以外は実施例1と同様にPETフィルムに塗布して粘着
フィルムを作製して剥離試験を行ったところ、5g/2
5mmと小さな剥離強度を有していた。また、加速電圧
165kV、照射量1Mradの電子線照射後も剥離強
度は5g/25mmと小さかった。
Comparative Example 2 An adhesive film was prepared by applying it to a PET film in the same manner as in Example 1 except that the copolymer solution B was used as it was as an adhesive composition.
It had a peel strength as small as 5 mm. Further, the peel strength was as small as 5 g / 25 mm even after irradiation with an electron beam having an accelerating voltage of 165 kV and an irradiation dose of 1 Mrad.

【0066】[0066]

【発明の効果】本発明の高エネルギー線剥離性粘着性樹
脂組成物は、可視光、紫外線の照射を受ける環境におい
ても必要とされる適度な接着力を長時間保持することが
でき、変色もせず、剥離したい場合には、電子線、X
線、α線、β線、γ線などの高エネルギー線を照射する
ことにより用意に剥離できる。
EFFECT OF THE INVENTION The high energy ray releasable pressure-sensitive adhesive resin composition of the present invention can maintain an appropriate adhesive force required for a long time even in an environment where it is exposed to visible light and ultraviolet rays, and is not discolored. If you want to peel it off, electron beam, X
It can be easily peeled off by irradiating a high energy ray such as a ray, an α ray, a β ray, and a γ ray.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (A)(メタ)アクリル酸、(メタ)ア
クリル酸エステルおよび(メタ)アクリルアミドよりな
る群から選ばれる少なくとも1種を単量体として含む
(共)重合体100重量部、および分子内に少なくとも
1個の(メタ)アクリロイル基を持つ化合物1〜300
重量部を含有し、光重合開始剤を実質的に含有せず、そ
して(B)波長300nm以上の光線の照射によって接
着性が実質的に低下せず、高エネルギー線の照射により
接着性が低下する性質を示す、ことを特徴とする粘着性
樹脂組成物。
1. (A) 100 parts by weight of a (co) polymer containing, as a monomer, at least one selected from the group consisting of (meth) acrylic acid, (meth) acrylic acid ester and (meth) acrylamide, and Compounds 1 to 300 having at least one (meth) acryloyl group in the molecule
By weight, it does not substantially contain a photopolymerization initiator, and (B) the adhesiveness is not substantially reduced by irradiation with light having a wavelength of 300 nm or more, and the adhesiveness is reduced by irradiation with high energy rays. An adhesive resin composition characterized by exhibiting the following properties.
JP357796A 1996-01-12 1996-01-12 Tacky resin composition Pending JPH09194798A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP357796A JPH09194798A (en) 1996-01-12 1996-01-12 Tacky resin composition

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP357796A JPH09194798A (en) 1996-01-12 1996-01-12 Tacky resin composition

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH09194798A true JPH09194798A (en) 1997-07-29

Family

ID=11561316

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP357796A Pending JPH09194798A (en) 1996-01-12 1996-01-12 Tacky resin composition

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH09194798A (en)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002173656A (en) * 2000-12-04 2002-06-21 Nitto Denko Corp Pressure-sensitive adhesive composition, pressure- sensitive adhesive sheet and optical film
WO2003085060A1 (en) * 2002-04-04 2003-10-16 Sekisui Chemical Co., Ltd. Acrylic pressure sensitive adhesive and pressure sensitive adhesive tape
JP2003535921A (en) * 1999-10-28 2003-12-02 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー High refractive index pressure sensitive adhesive
US7166686B2 (en) 2000-06-28 2007-01-23 3M Innovative Properties Company High refractive index pressure-sensitive adhesives
JP2007039698A (en) * 2006-10-11 2007-02-15 Toagosei Co Ltd Adhesive composition
US7335425B2 (en) 2000-06-28 2008-02-26 3M Innovative Properties Company High refractive index pressure-sensitive adhesives
JP2008222781A (en) * 2007-03-09 2008-09-25 Lintec Corp Adhesive sheet

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003535921A (en) * 1999-10-28 2003-12-02 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー High refractive index pressure sensitive adhesive
US7166686B2 (en) 2000-06-28 2007-01-23 3M Innovative Properties Company High refractive index pressure-sensitive adhesives
US7335425B2 (en) 2000-06-28 2008-02-26 3M Innovative Properties Company High refractive index pressure-sensitive adhesives
JP2002173656A (en) * 2000-12-04 2002-06-21 Nitto Denko Corp Pressure-sensitive adhesive composition, pressure- sensitive adhesive sheet and optical film
JP4640740B2 (en) * 2000-12-04 2011-03-02 日東電工株式会社 Pressure-sensitive adhesive composition, pressure-sensitive adhesive sheet, and optical film
WO2003085060A1 (en) * 2002-04-04 2003-10-16 Sekisui Chemical Co., Ltd. Acrylic pressure sensitive adhesive and pressure sensitive adhesive tape
CN1323123C (en) * 2002-04-04 2007-06-27 积水化学工业株式会社 Acrylic pressure sensitive adhesive and pressure sensitive adhesive tape
US7258919B2 (en) 2002-04-04 2007-08-21 Sekisui Chemical Co., Ltd. Acrylic pressure sensitive adhesive and pressure sensitive adhesive tape
JP2007039698A (en) * 2006-10-11 2007-02-15 Toagosei Co Ltd Adhesive composition
JP4518060B2 (en) * 2006-10-11 2010-08-04 東亞合成株式会社 Adhesive composition for tiling method
JP2008222781A (en) * 2007-03-09 2008-09-25 Lintec Corp Adhesive sheet

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101393922B1 (en) Pressure-sensitive adhesive compound, pressure-sensitive adhesive tape, and wafer treatment method
KR101866606B1 (en) Photo curable adhesive composition and adhesive sheet
JP2017082196A (en) Adhesive composition, detachable adhesive obtained by using the same, detachable adhesive sheet and application method of detachable adhesive
JP5992692B2 (en) Adhesive composition and adhesive sheet using the same
JP3262607B2 (en) Active energy ray-curable adhesive composition and tape
JP2009127023A (en) Photocurable composition for production of photocurable pressure-sensitive adhesive and photocurable pressure-sensitive adhesive sheet
WO2019139055A1 (en) Photocurable adhesive composition and adhesive sheet
JPH09194798A (en) Tacky resin composition
JP2009146974A (en) Double-sided adhesive tape for semiconductor processing
JP2005239856A (en) Curable resin composition and curable adhesive composition using the same
JP2013231159A (en) Adhesive composition, adhesive tape, and method for processing wafer
JPH08259908A (en) Double-side pressure-sensitive adhesive tape, laminate of double-side pressure-sensitive adhesive tape and production of double-side pressure-sensitive adhesive type
JPH05214298A (en) Pressure-sensitive adhesive composition curable by actinic radiation
JP4707809B2 (en) Re-peelable pressure-sensitive adhesive composition
JP2003113355A (en) Photo-curing type sheet for temporary fixing
JP5196894B2 (en) Resin composition, temporary surface protecting pressure-sensitive adhesive, pressure-sensitive adhesive sheet, method of using pressure-sensitive adhesive sheet, and method of manufacturing pressure-sensitive adhesive sheet
JPH08209078A (en) Acrylic tacky tape
JPH10130586A (en) Adhesive composition, cured material, article and bonding
KR101750589B1 (en) Solvent-type adhesive composition by photopolymerisation
JP2000281993A (en) Pressure-sensitive adhesive sheet for use in processing semiconductor wafer
JP2002317155A (en) Energetic ray curing adhesive composition and adhesive sheet
KR101108583B1 (en) Acrylate-Adhesive Resin Composition, Photocurable Removable Adhesive Composition Comprising the Same and Adhesive Tape Comprising the Same
TW201932560A (en) Back grinding tape
JP3384980B2 (en) Baseless pressure-sensitive double-sided adhesive tape / sheet and method for producing the same
JPH04345015A (en) Resist removing method as well as pressure sensitive adhesive and adhesive sheet, etc., applicable to the same

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20040205

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20040506

A02 Decision of refusal

Effective date: 20040913

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02