JPH09176239A - Optical disk substrate made from synthetic resin - Google Patents

Optical disk substrate made from synthetic resin

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JPH09176239A
JPH09176239A JP7339805A JP33980595A JPH09176239A JP H09176239 A JPH09176239 A JP H09176239A JP 7339805 A JP7339805 A JP 7339805A JP 33980595 A JP33980595 A JP 33980595A JP H09176239 A JPH09176239 A JP H09176239A
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JP
Japan
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ester
acid
dimer
trimer
meth
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Pending
Application number
JP7339805A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hitoshi Kikawa
仁 木川
Masaru Takagi
優 高木
Hiroshi Yamagishi
弘 山岸
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Lion Corp
Original Assignee
Lion Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Lion Corp filed Critical Lion Corp
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  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To produce an optical disk substrate made from a synthetic resin and having an excellent clarity, a low birefringence, and low water absorption properties. SOLUTION: This substrate is prepd. from a polymer which is prepd. by polymerizing an ester of a dimer diol with an α,β-unsatd. carboxylic acid compd. represented by the formula: R1 (R2 )C=C(R3 )COOR6 (wherein R1 , R2 , R3 , and R6 are each H or 1-6C alkyl) and/or an ester of a trimer triol with the α,β- unsatd. carboxylic acid compd. or by polymerizing a mixture comprising these esters and a monomer copolymerizable therewith. The dimer diol is obtd. by hydrogenating a dimer acid (or its ester) which is a dimer of an 11-22C unsatd. higher fatty acid (or its lower alcohol ester). The timer triol is obtd. by hydrogenating a trimer acid (or its ester) which is a trimer of an 11-22C unsatd. higher fatty acid (or its lower alcohol ester).

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、ドキュメントファイ
ル、ビデオファイル、コードデータメモリ、デジタルオ
ーディオディスク、家庭用及び業務用ビデオディスク、
光磁気ディスク(MO)等の光記録用ディスクに使用さ
れる合成樹脂製の光ディスク基盤に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to a document file, a video file, a code data memory, a digital audio disc, a home and professional video disc,
The present invention relates to an optical disk base made of synthetic resin used for optical recording disks such as magneto-optical disks (MO).

【従来の技術】従来から、コンパクトディスク(CD)
やレーザービデオディスク(LVD)に使用される光デ
ィスク基盤材料としては、その使用性から、PMMA、
PC、ガラス、エポキシ樹脂等が使用されてきた。特
に、再生専用型のCDには、PCが、再生専用型のLV
DにはPMMAが多く使用されている。光ディスク基盤
材料には、透明性、低複屈折率、低吸水性、高耐熱性等
の機能が求められているが、例えば、分子内にベンゼン
環を有するPCは複屈折率が大きくPCを採用した基盤
では、再生する音質や画像に悪影響を与えてしまう等の
問題点がある。また、PMMAは複屈折率は小さいもの
の吸水性が高く、基盤のソリが生ずる等の問題点を有し
ている。そこで、PCでは、一般の成型材料グレードよ
り分子量を低く、成型過程で生づる分子配向をコントロ
ールする等の工夫がなされている。また、PMMAの吸
水率の低下には、シクロヘキシルメタクリレートのよう
な(メタ)アクリル酸高級エステル等との共重合による
低吸水率化が施されている。しかしながら、これら低複
屈折率、低級水性を同時に満足する素材は未だ開発され
ていない。さらに、PCやPMMAは、その比重が1.2
程度と比較的大きく、大量の光ディスクの運搬を考えた
場合、軽量化された樹脂の使用が魅力的である。
2. Description of the Related Art Conventionally, compact discs (CDs)
As an optical disk base material used for a laser video disk (LVD), PMMA,
PC, glass, epoxy resin, etc. have been used. In particular, for a playback-only CD, a PC is a playback-only LV.
PMMA is often used for D. Optical disc base materials are required to have functions such as transparency, low birefringence, low water absorption, and high heat resistance. For example, PC with a benzene ring in the molecule has a large birefringence and PC is adopted. However, there is a problem in that the sound quality and the image to be reproduced are adversely affected by such a base. PMMA has a small birefringence but has a high water absorbency, and has problems such as warping of the substrate. Therefore, in PC, the molecular weight is lower than that of a general molding material grade, and various measures such as controlling the molecular orientation generated in the molding process are made. Further, in order to reduce the water absorption rate of PMMA, the water absorption rate is reduced by copolymerization with (meth) acrylic acid higher ester such as cyclohexyl methacrylate. However, a material satisfying both of these low birefringence and low-grade water has not been developed yet. Furthermore, PC and PMMA have a specific gravity of 1.2.
Considering the transportation of a large number of optical discs, which are relatively large, the use of a lightweight resin is attractive.

【0002】[0002]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、透明性に優
れ、複屈折率が小さく、低吸水性である合成樹脂製光デ
ィスク基盤を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a synthetic resin optical disk substrate which is excellent in transparency, has a small birefringence and has low water absorption.

【課題を解決するための手段】本発明は、特定のダイマ
ージオール及び/又はトリマートリオールと特定のα,
β−不飽和カルボン酸とのエステル化物を主成分とし、
これらエステル化物と共重合可能な単量体からなる混合
物を重合すると、透明性に優れ、しかも脂肪族炭化水素
鎖が多量に含有した構造のため優れた物理的特性を有す
る透明な架橋重合体が得られ、この重合体を使用すれば
上記課題を効率的に解決できるとの知見に基づいてなさ
れたのである。
The present invention is directed to specific dimer diols and / or trimer triols and specific α,
Mainly composed of an esterified product with β-unsaturated carboxylic acid,
By polymerizing a mixture of these esterified products and a monomer copolymerizable with each other, a transparent cross-linked polymer having excellent transparency and excellent physical properties due to a structure containing a large amount of aliphatic hydrocarbon chains is obtained. It was made based on the finding that the above problem can be efficiently solved by using this polymer.

【0003】すなわち、本発明は、炭素数が11〜22
の高級不飽和脂肪酸又はその低級アルコールエステルの
2量体であるダイマー酸又はダイマー酸エステルを水素
化してなるダイマージオールと一般式(I)で示される
α,β−不飽和カルボン酸類とのエステル化物(A)及
び/又は、炭素数が11〜22の高級不飽和脂肪酸又は
その低級アルコールエステルの3量体であるトリマー酸
又はトリマー酸エステルを水素化してなるトリマートリ
オールと一般式(I)で示されるα,β−不飽和カルボ
ン酸類とのエステル化物(B)を重合するか、又はこれ
らのエステル化物と共重合可能な単量体(C)からなる
混合物(D)を重合して得られる重合体からなることを
特徴とする合成樹脂製光ディスク基盤を提供する。
That is, the present invention has 11 to 22 carbon atoms.
Esterification product of dimer diol obtained by hydrogenating dimer acid or dimer acid ester which is a dimer of higher unsaturated fatty acid or lower alcohol ester thereof and α, β-unsaturated carboxylic acid represented by general formula (I) (A) and / or trimer triol obtained by hydrogenating trimer acid or trimer ester which is a trimer of a higher unsaturated fatty acid having 11 to 22 carbon atoms or a lower alcohol ester thereof and represented by the general formula (I) Obtained by polymerizing an esterified product (B) with an α, β-unsaturated carboxylic acid or a mixture (D) composed of a monomer (C) copolymerizable with these esterified products. Provided is an optical disc base made of synthetic resin, which is composed of a united body.

【化2】 R1 (R2)C=C(R3)COOR6 (式中、R1 、R2 及びR3 は、それぞれ独立に水素又
は炭素数1〜6のアルキル基、R6 は水素又は炭素数1
〜8までのアルキル基を示す。)
Embedded image R 1 (R 2 ) C═C (R 3 ) COOR 6 (wherein R 1 , R 2 and R 3 are each independently hydrogen or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and R 6 is Hydrogen or carbon number 1
Up to 8 alkyl groups are shown. )

【0004】本発明で使用するダイマージオールを製造
するためのダイマー酸又はダイマー酸エステルやトリマ
ートリオールを製造するためのトリマー酸又はトリマー
酸エステルは、原料として炭素数11〜22、好ましく
は14〜20、さらに好ましくは16〜18の高級不飽
和脂肪酸又は炭素数1〜6の低級アルコールとのエステ
ル化物を用い、この原料にルイス酸やブレンステッド酸
型の液体或いは固体状の触媒、好ましくはモンモリロナ
イト系活性白土を、原料に対して1〜20重量%、好ま
しくは2〜8重量%添加し、200〜270℃、好まし
くは220〜250℃で二量化反応を行うことにより得
られる。反応時の圧力は、通常やや加圧された状態であ
るが、常圧でも良い。反応時間は、触媒量と反応温度に
より変わるが、通常5〜7時間である。反応の進行につ
れて反応系は増粘する。反応終了後、触媒を濾別し、次
いで減圧蒸留して未反応原料や異性化脂肪酸類等を留去
し、その後、ダイマー酸留分を留出して得ることができ
る。更に、留出を行うとトリマー酸留分を得ることがで
きる。
The dimer acid or dimer acid ester for producing the dimer diol used in the present invention or the trimer acid or trimer acid ester for producing trimer triol has 11 to 22 carbon atoms, preferably 14 to 20 carbon atoms as a raw material. More preferably, an esterified product of a higher unsaturated fatty acid having 16 to 18 or a lower alcohol having 1 to 6 carbon atoms is used, and a Lewis acid or Bronsted acid type liquid or solid catalyst, preferably a montmorillonite-based catalyst is used as the raw material. It is obtained by adding activated clay to the raw material in an amount of 1 to 20% by weight, preferably 2 to 8% by weight, and carrying out a dimerization reaction at 200 to 270 ° C, preferably 220 to 250 ° C. The pressure during the reaction is usually slightly increased, but it may be normal pressure. The reaction time varies depending on the amount of the catalyst and the reaction temperature, but is usually 5 to 7 hours. The reaction system thickens as the reaction progresses. After completion of the reaction, the catalyst can be filtered off and then distilled under reduced pressure to distill off unreacted raw materials, isomerized fatty acids and the like, and then dimer acid fraction can be distilled off. Further, by distilling, a trimer acid fraction can be obtained.

【0005】このようにして得たダイマー酸やトリマー
酸などを、ついで水素化する。この際、ダイマー酸やト
リマー酸は単独で使用してもよく、混合物のまま使用し
てもよい。次に、これらダイマー酸(そのエステルを含
む、以下同じ)をダイマージオールに、トリマー酸(そ
のエステルを含む、以下同じ)をトリマートリオールに
するには、水素ガスと触媒を使用する接触還元法や、水
素化リチウムアルミニウム、水素化ホウ素リチウム、金
属ナトリウム/アルコール系等の水素添加剤を用いる還
元法等公知の方法を採用することができる。即ち、触媒
として、ラネーニッケル、白金担持ニッケル珪藻土、銅
−クロム、銅−亜鉛等をダイマー酸又はトリマー酸に対
して0.1〜7重量%用い、反応温度を100〜300
℃、好ましくは250〜280℃、反応時の圧力を水素
圧で常圧〜300kg/cm2、好ましくは150〜250kg
/cm2、反応時間を1〜15時間、好ましくは4〜8時間
で接触還元を行うのがよい。
The dimer acid and trimer acid thus obtained are then hydrogenated. At this time, dimer acid and trimer acid may be used alone or as a mixture. Next, in order to convert these dimer acids (including their esters, hereinafter the same) to dimer diols and trimer acids (including their esters, the same below) to trimertriol, a catalytic reduction method using hydrogen gas and a catalyst is used. A known method such as a reduction method using a hydrogenating agent such as lithium aluminum hydride, lithium borohydride, and metal sodium / alcohol can be adopted. That is, as a catalyst, Raney nickel, platinum-supported nickel diatomaceous earth, copper-chromium, copper-zinc and the like are used in an amount of 0.1 to 7% by weight with respect to the dimer acid or trimer acid, and the reaction temperature is 100 to 300.
℃, preferably 250 ~ 280 ℃, the pressure during the reaction is hydrogen pressure normal pressure ~ 300kg / cm 2 , preferably 150 ~ 250kg
It is advisable to carry out the catalytic reduction at a reaction time of / cm 2 and a reaction time of 1 to 15 hours, preferably 4 to 8 hours.

【0006】また、ダイマー酸やトリマー酸に対して等
モル以上の水素化リチウムアルミニウム、水素化ホウ素
リチウム、金属ナトリウム/アルコール系等の水素添加
剤を用い、溶媒中で還元することもできる。具体的に
は、水素化リチウムアルミニウムをダイマー酸に対して
2倍モル、トリマー酸に対して3倍モル使用してジエチ
ルエーテルやジオキサン溶媒中に分散し、分散させた同
じ溶媒で希釈したダイマー酸やトリマー酸を滴下する。
反応温度は、0℃〜室温、反応時間は1〜2時間とする
のがよい。反応終了後、室温で30分程度撹拌した後、
水素化リチウムアルミニウムに対して約4倍モルの水を
徐々に滴下し反応を終了させるのがよい。次に、反応液
を水洗した後、溶媒層を留去するとダイマージオールや
トリマートリオールが得られる。次に、ダイマージオー
ルとトリマートリオール(以下、「多価アルコール」と
もいう)のエステル化或いはエステル交換反応を行う
が、ここで使用するα,β−不飽和カルボン酸類として
は、炭素数3〜6のα,β−不飽和カルボン酸及びその
炭素数1〜8のアルキル基を有するアルキルエステルが
好ましい。具体的には、アクリル酸、メタクリル酸、ク
ロトン酸或いはそれらのメチルエステル、エチルエステ
ル、プロピルエステル、ブチルエステル、ヘキシルエス
テル、オクチルエステル等をあげることができる。エス
テル化或いはエステル交換反応で使用する前記α,β−
不飽和カルボン酸類の量は、原料である多価アルコール
の−OH基に対して、カルボキル基量で1.0〜5.0、好
ましくは1.05〜2.0当量である。
It is also possible to carry out the reduction in a solvent using a hydrogenating agent such as lithium aluminum hydride, lithium borohydride, metallic sodium / alcohol system, etc., in an equimolar amount or more with respect to dimer acid or trimer acid. Specifically, lithium aluminum hydride is used in an amount of 2 times mol for dimer acid and 3 times mol for trimer acid to disperse in diethyl ether or dioxane solvent, and dimer acid diluted with the same dispersed solvent. Or trimeric acid is added dropwise.
The reaction temperature is preferably from 0 ° C. to room temperature, and the reaction time is preferably from 1 to 2 hours. After completion of the reaction, after stirring at room temperature for about 30 minutes,
It is advisable to gradually add about 4 times mol of water to lithium aluminum hydride to end the reaction. Next, the reaction solution is washed with water and the solvent layer is distilled off to obtain dimer diol and trimer triol. Next, an esterification or transesterification reaction of dimer diol and trimer triol (hereinafter, also referred to as “polyhydric alcohol”) is performed. The α, β-unsaturated carboxylic acid used here has 3 to 6 carbon atoms. [Alpha], [beta] -unsaturated carboxylic acid and its alkyl ester having an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms are preferable. Specifically, acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid or their methyl ester, ethyl ester, propyl ester, butyl ester, hexyl ester, octyl ester and the like can be mentioned. The α, β- used in the esterification or transesterification reaction
The amount of unsaturated carboxylic acids is 1.0 to 5.0, preferably 1.05 to 2.0 equivalents in terms of the amount of carboxylic groups with respect to the —OH group of the polyhydric alcohol as a raw material.

【0007】エステル化反応は、触媒としてパラトルエ
ンスルホン酸、硫酸、フッ化水素、三フッ化水素及びメ
タンスルホン酸等を使用し、原料多価アルコールに対し
て0.1〜10重量%、好ましくは0.5〜5重量%用い
て、50〜150℃の反応温度で3〜10時間行うのが
よい。また、エステル交換反応は、金属原子としてチタ
ン、アルミニウムの中から選ばれた金属アルコキサイド
を触媒として原料アルコールに対して0.01〜10重量
%用いて、50〜150℃の反応温度で3〜10時間行
うのがよい。両反応では、重合禁止剤として2,4−ジ
メチル−6−t−ブチルフェノール、2,4,6−トリ
メチルフェノール、2,4−ジエチル−6−t−ブチル
フェノール、ハイドロキノンやパラメトキシフェノール
等を、最終生成物である多価アルコールのα、β−不飽
和カルボン酸エステル化物(以下、「α、β−不飽和カ
ルボン酸エステル」ともいう)に対し1〜5000pp
m、好ましくは10〜1000ppm添加するのがよ
い。生成したα、β−不飽和カルボン酸エステルは、必
要に応じて減圧蒸留するかアルカリ水溶液を用いて洗浄
する等して精製することもできる。このようにして得ら
れたα、β−不飽和カルボン酸エステルは、ダイマーエ
ステル単独、トリマーエステル単独、又はこれらの混合
物として用いることができる。このうち、ダイマーエス
テル/トリマーエステル=100/0〜20/80(重
量比)の混合比率で用いるのが好ましく、より好ましく
は97/3〜30/70(重量比)である。
The esterification reaction uses paratoluene sulfonic acid, sulfuric acid, hydrogen fluoride, hydrogen trifluoride, methane sulfonic acid, etc. as a catalyst, and is preferably 0.1 to 10% by weight with respect to the raw polyhydric alcohol, preferably Is used at a reaction temperature of 50 to 150 ° C. for 3 to 10 hours. In the transesterification reaction, a metal alkoxide selected from titanium and aluminum as a metal atom is used as a catalyst in an amount of 0.01 to 10% by weight based on the raw material alcohol, and a reaction temperature of 50 to 150 ° C. is 3 to 10%. Good time to do it. In both reactions, 2,4-dimethyl-6-t-butylphenol, 2,4,6-trimethylphenol, 2,4-diethyl-6-t-butylphenol, hydroquinone and paramethoxyphenol, etc. 1 to 5000 pp with respect to the α, β-unsaturated carboxylic acid ester product of the polyhydric alcohol (hereinafter, also referred to as “α, β-unsaturated carboxylic acid ester”) as the product
m, preferably 10 to 1000 ppm. The α, β-unsaturated carboxylic acid ester thus produced can be purified by distillation under reduced pressure or washing with an alkaline aqueous solution, if necessary. The α, β-unsaturated carboxylic acid ester thus obtained can be used as a dimer ester alone, a trimer ester alone, or a mixture thereof. Among these, dimer ester / trimer ester = 100/0 to 20/80 (weight ratio) is preferably used in a mixing ratio, and more preferably 97/3 to 30/70 (weight ratio).

【0008】このダイマーエステル又はトリマーエステ
ルは単独で或いは両者の混合物で重合して架橋樹脂とす
ることができるが、これらのエステルは、本発明の主旨
を逸脱しない範囲で、共重合可能な単量体と共重合させ
ることもできる。この共重合可能な単量体(C)は混合
物(D)中、50重量%以下の量で使用するのが好まし
い。共重合可能な単量体としては、アクリル基、メタク
リル基、ビニル基等を有する種々の単量体をあげること
ができる。それらの具体例としては、メチル(メタ)ア
クリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メ
タ)アクリレート、イソブル(メタ)アクリレート、t
−ブチル(メタ)アクリレート、n−ヘキシル(メタ)
アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレ
ート等の脂肪族アルキル基を有する一般式(I)で示さ
れるα,β−不飽和カルボン酸エステル(但し、式中、
6 は炭素数1〜8までのアルキル基を示す)、フェニ
ル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アク
リレート、ナフチル(メタ)アクリレート、1,2,3
−トリブロモフェニル(メタ)アクリレート等の芳香族
基又は脂環式基を有する(メタ)アクリレート類、さら
には、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポ
リエチレングリコールポリ(メタ)アクリレート、プロ
ピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ブチレング
リコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコ
ールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオー
ルジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジ
(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ
(メタ)アクリレート、テトラメチロールメタントリ
(メタ)アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ
(メタ)アクリレート、2,2−ビス{4−(メタ)ア
クリロキシエトキシフェニル}プロパン、2,2−ビス
{4−(メタ)アクリロキシポリエトキシフェニル}プ
ロパン等の多官能性(メタ)アクリレート等であり、ス
チレン、ジビニルベンゼン、α−メチルスチレン、クロ
ロメチルスチレン等のビニル化合物も用いられる。
The dimer ester or trimer ester can be polymerized alone or as a mixture of the two to form a crosslinked resin. These esters are copolymerizable monomers in a range not departing from the gist of the present invention. It can also be copolymerized with the body. The copolymerizable monomer (C) is preferably used in the mixture (D) in an amount of 50% by weight or less. Examples of the copolymerizable monomer include various monomers having an acrylic group, a methacrylic group, a vinyl group and the like. Specific examples thereof include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, isoburu (meth) acrylate, and t.
-Butyl (meth) acrylate, n-hexyl (meth)
Α, β-unsaturated carboxylic acid ester represented by the general formula (I) having an aliphatic alkyl group such as acrylate and 2-hydroxyethyl (meth) acrylate (wherein,
R 6 represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms), phenyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, naphthyl (meth) acrylate, 1,2,3
-(Meth) acrylates having an aromatic group or an alicyclic group such as tribromophenyl (meth) acrylate, and further ethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol poly (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) ) Acrylate, butylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) ) Acrylate, tetramethylolmethane tri (meth) acrylate, tetramethylolmethane tetra (meth) acrylate, 2,2-bis {4- (meth) acryloxyethoxyphenyl} propane, 2,2-bis {4- (meth) acrylate Acry Carboxymethyl and polyfunctional (meth) acrylates such as polyethoxy phenyl} propane, styrene, divinylbenzene, alpha-methyl styrene, vinyl compounds such as chloromethylstyrene are also used.

【0009】なお、これら単量体は、単独で或いは2種
以上の混合物として用いることができる。また、本発明
で使用可能な共重合性単量体はこれらの単量体に限定さ
れるものではない。本発明では、上記エステル化物
(A)及び/又は(B)、又はこれらと上記単量体もし
くは単量体混合物を重合又は共重合することにより、本
発明の光ディスク基盤用樹脂が得られる。重合方法とし
ては、ラジカル重合、イオン重合、光重合等の方法を採
用することができ、通常のラジカル開始剤や光重合開始
剤を用いることができる。例えば、ラジカル重合による
方法においては、重合反応を30〜120℃の温度で開
始させる開始剤の使用が好ましい。また光重合において
は、室温程度の温度で行われ、光源として高圧水銀灯や
低圧水銀灯等が用いられる。しかしながら、本発明の樹
脂は、主成分であるダイマーエステル及びトリマーエス
テルが多官能性単量体であるため、架橋重合体として得
られる。従って、得られた樹脂を溶解或いは溶融を伴う
成型材料として用いることは、事実上不可能となるので
重合法としては、成型物が直接的に得られる、目的とす
る光ディスク基盤の形態に合った注型重合法を利用する
ことが好ましい。より具体的には、上記モノマー(A)
及び/又は(B)若しくは(D)を、所望の最終形状に
対応するキャビティーを有するガラス製などのモールド
に注入し、該モールドを、室温から70〜120℃の温
度に1〜30時間程度かけて昇温し、その後上記温度に
1〜10時間程度保ってラジカル重合を行って合成樹脂
製光ディスク基盤得ることができる。
These monomers can be used alone or as a mixture of two or more kinds. Moreover, the copolymerizable monomer usable in the present invention is not limited to these monomers. In the present invention, the resin for optical disc substrate of the present invention is obtained by polymerizing or copolymerizing the above-mentioned esterified products (A) and / or (B), or these with the above-mentioned monomer or monomer mixture. As the polymerization method, radical polymerization, ionic polymerization, photopolymerization or the like can be adopted, and a usual radical initiator or photopolymerization initiator can be used. For example, in the method of radical polymerization, it is preferable to use an initiator that starts the polymerization reaction at a temperature of 30 to 120 ° C. The photopolymerization is carried out at a temperature of about room temperature, and a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp or the like is used as a light source. However, the resin of the present invention is obtained as a cross-linked polymer because the main components, dimer ester and trimer ester, are polyfunctional monomers. Therefore, it is practically impossible to use the obtained resin as a molding material accompanied with melting or melting. Therefore, as a polymerization method, a molded product can be directly obtained, which is suitable for the intended optical disk substrate form. It is preferable to use the cast polymerization method. More specifically, the monomer (A)
And / or (B) or (D) is poured into a mold such as glass having a cavity corresponding to a desired final shape, and the mold is heated from room temperature to 70 to 120 ° C. for about 1 to 30 hours. A synthetic resin optical disc substrate can be obtained by raising the temperature and then radical polymerization while maintaining the above temperature for about 1 to 10 hours.

【0010】また、単量体成分には、生成する共重合体
に期待される用途に応じて、帯電防止剤、着色剤、充填
剤、紫外線吸収剤、熱安定化剤、酸化防止剤、その他の
補助剤を含有させることができる。本発明では、上記の
方法により、比重が1.1以下、好ましくは0.97〜1.0
5で、光透過度が90%〜93%、平衡吸水率が0.3〜
0.9重量%、複屈折特性はダブルエリプソメーター(6
33nm)の測定で20nm以下となる光ディスク基盤
が得られる。尚、本光ディスク基盤に使用される樹脂の
架橋密度は、50%〜100%程度のものが好ましい。
尚、光ディスク基盤の厚みは上記光透過度の範囲内であ
れば任意とすることができるが、0.01〜1.0cmの厚み
のものとするのが好ましい。さらには、本光ディスク基
盤に使用される樹脂は、荷重5kg温度100℃での針入
度が0.2mm以下、好ましくは0.1mm以下の架橋重合体で
ある。
The monomer component may be an antistatic agent, a colorant, a filler, a UV absorber, a heat stabilizer, an antioxidant, or the like, depending on the intended use of the resulting copolymer. Can be included. In the present invention, the specific gravity is 1.1 or less, preferably 0.97 to 1.0 by the above method.
5, the light transmittance is 90% to 93%, the equilibrium water absorption is 0.3 to
0.9% by weight, the birefringence characteristic is a double ellipsometer (6
An optical disk substrate having a thickness of 20 nm or less can be obtained by measuring (33 nm). The crosslink density of the resin used for the optical disc substrate is preferably about 50% to 100%.
The thickness of the optical disk substrate may be any as long as it is within the above range of light transmittance, but a thickness of 0.01 to 1.0 cm is preferable. Further, the resin used for the present optical disk substrate is a cross-linked polymer having a penetration of 0.2 mm or less, preferably 0.1 mm or less at a load of 5 kg and a temperature of 100 ° C.

【発明の効果】本発明によれば、透明性に優れ、しかも
低吸水性、低複屈折、耐熱性に優れた光ディスク基盤が
提供される。さらには、従来のアクリル樹脂にはない低
比重であるという特長を有しているため、無機ガラスや
従来のアクリル樹脂が使用されしかも軽量化が要求され
ている用途には最適である。つぎに本発明を実施例に基
づいて説明するが、本発明はこれらに限定されるもので
はない。なお、以下において示す%はことわりのない限
り重量%である。
According to the present invention, there is provided an optical disk substrate having excellent transparency, low water absorption, low birefringence, and heat resistance. Furthermore, since it has a feature that it has a low specific gravity that conventional acrylic resins do not have, it is optimal for applications in which inorganic glass or conventional acrylic resins are used and weight reduction is required. Next, the present invention will be described based on examples, but the present invention is not limited thereto. The% shown below is% by weight unless otherwise specified.

【0011】[0011]

【実施例】【Example】

参考例 実施例で使用したダイマージオール、トリマートリオー
ル、ダイマージオール/トリマートリオール=7/3の
メタクリルエステル化物を、次ぎのようにして調製し
た。オレイン酸メチル72%とリノール酸メチル18%
その他高級飽和脂肪酸メチル10%を含有する高級不飽
和脂肪酸メチルエステルを原料とし、活性白土(7%)
を触媒として220℃で7時間二量化反応を行った。引
き続き得られた生成物から、未反応脂肪酸メチルエステ
ル留分と異性化脂肪酸メチルエステル留分を減圧蒸留
(150℃/0.1torr) で除去し、残留物を分子蒸留
(280℃/0.1torr)して、ダイマー酸ジメチルを
得、蒸留残物としてトリマー酸トリメチルを得た。次
に、ダイマー酸ジメチル単品、トリマー酸トリメチル単
品、及びダイマー酸ジメチル/トリマー酸トリメチル=
75/25(重量比率)混合品について、高圧水素条件
下(220kg/cm2)、銅−クロム触媒を3%使用して2
70℃で10時間接触還元を行い、ダイマージオール、
トリマートリオール、及びダイマージオール/トリマー
トリオール=75/25を調製した。次に、ダイマージ
オール、トリマートリオール、及びダイマージオール/
トリマートリオール=75/25を原料として、高級多
価アルコールの−OH基に対し1.05当量のメタクリル
酸、共沸溶媒としてシクロヘキサンを原料高級多価アル
コールに対して30%加え、触媒としてパラトルエンス
ルホン酸を0.5%添加し105℃で6時間エステル化反
応、その後冷却し水洗、シクロヘキサンを除去し、ダイ
マージオールのメタクリルエステル化物(化合物a)、
トリマートリオールのメタクリルエステル化物(化合物
b)、及びダイマージオール/トリマートリオール=7
5/25のメタクリルエステル化物(化合物c)を得
た。
Reference Example The dimer diol, trimer triol, and methacrylic ester compound of dimer diol / trimer triol = 7/3 used in the examples were prepared as follows. 72% methyl oleate and 18% methyl linoleate
Others Higher unsaturated fatty acid methyl ester containing 10% higher saturated fatty acid methyl is used as raw material, and activated clay (7%)
Was used as a catalyst to carry out a dimerization reaction at 220 ° C. for 7 hours. Unreacted fatty acid methyl ester fraction and isomerized fatty acid methyl ester fraction were removed from the product obtained by vacuum distillation (150 ° C / 0.1 torr), and the residue was subjected to molecular distillation (280 ° C / 0.1 torr). ) To obtain dimethyl dimer acid and trimethyl trimerate as a distillation residue. Next, dimethyl dimer acid alone, trimethyl trimer acid alone, and dimethyl dimer acid / trimethyl trimerate =
75/25 (weight ratio) mixture under high pressure hydrogen condition (220 kg / cm 2 ) using copper-chromium catalyst 3% 2
Catalytic reduction is performed at 70 ° C. for 10 hours to obtain dimer diol,
Trimer triol and dimer diol / trimer triol = 75/25 were prepared. Next, dimer diol, trimer triol, and dimer diol /
Using trimertriol = 75/25 as a raw material, 1.05 equivalents of methacrylic acid to the -OH group of the higher polyhydric alcohol and 30% of cyclohexane as an azeotropic solvent to the raw higher polyhydric alcohol were added, and paratoluene was used as a catalyst. Sulfonic acid was added at 0.5% and the esterification reaction was carried out at 105 ° C. for 6 hours, followed by cooling and washing with water to remove cyclohexane, and a methacrylic esterified product of dimer diol (compound a),
Methacrylic ester of trimertriol (compound b), and dimerdiol / trimertriol = 7
A methacrylic ester compound (compound c) of 5/25 was obtained.

【0012】実施例1 メタクリルエステル化物(化合物a、化合物b、化合物
c)単品又はこれらと共重合可能な単量体であって、表
−1に記載の単量体d1、単量体d2、単量体d3を表
−2に示した組成で各々混合し、混合物に対してラジカ
ル重合開始剤として0.5%のパーブチルPB(日本油脂
株式会社製)を添加して重合用組成物を調製した。続い
てこの重合用組成物に窒素を15分間通した後、深さ1.
2mm、横25cm、縦30cmのキャビティーを有するガラ
ス製モールドに注入した。次にガラス製モールドを、室
温から80℃まで3時間かけて昇温し、その後80℃に
6時間保ってラジカル重合を行って合成樹脂製光ディス
ク基盤を得た(本発明品1〜7及び比較例1)。なお、
ポリカーボネートを使用した比較例2は、ビスフェノー
ルAとジフェニルカーボネートのエステル交換反応によ
りPCを生成させた後、射出成型により深さ1.2mm、横
25cm、縦30cmの樹脂板を作成した。
Example 1 Methacrylic ester compounds (compound a, compound b, compound c) alone or as a monomer copolymerizable therewith, the monomers d1 and d2 shown in Table 1 were used. Monomers d3 were mixed in the compositions shown in Table-2, and 0.5% perbutyl PB (manufactured by NOF Corporation) was added to the mixture as a radical polymerization initiator to prepare a composition for polymerization. did. Subsequently, nitrogen was passed through the composition for polymerization for 15 minutes, and the depth was 1.
It was poured into a glass mold having a cavity of 2 mm, 25 cm in width, and 30 cm in length. Next, the glass mold was heated from room temperature to 80 ° C. over 3 hours and then kept at 80 ° C. for 6 hours to carry out radical polymerization to obtain a synthetic resin optical disc substrate (the present invention products 1 to 7 and comparative examples). Example 1). In addition,
In Comparative Example 2 using polycarbonate, PC was produced by transesterification reaction of bisphenol A and diphenyl carbonate, and then a resin plate having a depth of 1.2 mm, a width of 25 cm, and a length of 30 cm was prepared by injection molding.

【0013】[0013]

【表1】 表−1 共重合用単量体 ───────────────────────────────── 略号 化合物名 単量体d1 メタクリル酸メチル 単量体d2 メタクリル酸t−ブチル 単量体d3 ジビニルベンゼン [Table 1] Table-1 Copolymerization monomers ───────────────────────────────── Abbreviation Compound name Single Polymer d1 Methyl methacrylate monomer d2 t-Butyl methacrylate monomer d3 Divinylbenzene

【0014】このようにして得られた本発明の光ディス
ク基盤の性状を次ぎのようにして評価した。比重:AS
TM D792に準じて測定した。 全光線透過率:JIS K7105に準じて行った。 吸湿率:樹脂(15cmx15cmx1.2mm)を50℃で1
週間乾燥機で乾燥後、25℃の水に2週間浸し重量変化
より含水率を算出した。 複屈折特性:樹脂(1cmx1cmx1.2mm)について、ダ
ブルエリプソメーターを使用し、633nmで測定した 結果を表−2に示す。
The properties of the optical disk substrate of the present invention thus obtained were evaluated as follows. Specific gravity: AS
It was measured according to TM D792. Total light transmittance: Performed according to JIS K7105. Moisture absorption rate: Resin (15cmx15cmx1.2mm) 1 at 50 ℃
After drying with a weekly drier, it was immersed in water at 25 ° C. for 2 weeks, and the water content was calculated from the weight change. Birefringence property: The resin (1 cm x 1 cm x 1.2 mm) was measured at 633 nm using a double ellipsometer, and the results are shown in Table-2.

【0015】[0015]

【表2】 表−2 No. 1 2 3 4 5 化合物a 100 30 組 化合物b 70 成 化合物c 100 80 80 比 単量体d1 10 (%) 単量体d2 10 単量体d3 10 10 比 重 0.973 0.981 0.977 0.990 0.980 全光線透過率(%) 91.5 91.8 91.7 91.6 92.0 吸水率(%) 0.41 0.40 0.40 0.54 0.53 複屈折特性(nm) <20 <20 <20 <20 <20 [Table 2] Table-2 No. 1 2 3 4 5 Compound a 100 30 sets Compound b 70 Composition compound c 100 80 80 Ratio Monomer d1 10 (%) Monomer d2 10 Monomer d3 10 10 Specific gravity 0.973 0.981 0.977 0.990 0.980 Total light Transmittance (%) 91.5 91.8 91.7 91.6 92.0 Water absorption (%) 0.41 0.40 0.40 0.54 0.53 Birefringence (nm) <20 <20 <20 <20 <20

【0016】[0016]

【表3】 表−2(続き) No. 6 7 比較例 1 比較例 2 組 化合物c 70 60 成 単量体d1 100 比 単量体d2 15 20 (%) 単量体d3 15 20 比 重 0.998 1.021 1.19 1.19 全光線透過率(%) 91.3 91.7 92.1 90.1 吸水率(%) 0.61 0.67 2.12 0.41 複屈折特性(nm) <20 <20 <20 <60 表−2に示した結果から明らかなように、本発明の光デ
ィスク基盤(本発明品1〜7)はいずれも比重が1.1以
下、吸水率も低くしかも複屈折特性や全光線透過率が良
好であることが判る。
[Table 3] Table-2 (continued) No. 6 7 Comparative Example 1 Comparative Example 2 sets Compound c 70 60 Monomer d1 100 ratio Monomer d2 15 20 (%) Monomer d3 15 20 Specific gravity 0.998 1.021 1.19 1.19 Total light transmittance (%) 91.3 91.7 92.1 90.1 Water absorption (%) 0.61 0.67 2.12 0.41 Birefringence characteristics (nm) <20 <20 <20 <60 As is clear from the results shown in Table-2, the optical disc substrate of the present invention (the present invention product 1 It can be seen that all of 7 to 7) have a specific gravity of 1.1 or less, a low water absorption rate, and good birefringence characteristics and total light transmittance.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 炭素数が11〜22の高級不飽和脂肪酸
又はその低級アルコールエステルの2量体であるダイマ
ー酸又はダイマー酸エステルを水素化してなるダイマー
ジオールと一般式(I)で示されるα,β−不飽和カル
ボン酸類とのエステル化物(A)及び/又は、炭素数が
11〜22の高級不飽和脂肪酸又はその低級アルコール
エステルの3量体であるトリマー酸又はトリマー酸エス
テルを水素化してなるトリマートリオールと一般式
(I)で示されるα,β−不飽和カルボン酸類とのエス
テル化物(B)を重合して得られるか、又はこれらのエ
ステル化物と共重合可能な単量体(C)からなる混合物
(D)を重合して得られる重合体からなることを特徴と
する合成樹脂製光ディスク基盤。 【化1】 R1 (R2)C=C(R3)COOR6 ・・・(I) (式中、R1 、R2 及びR3 は、それぞれ独立に水素又
は炭素数1〜6のアルキル基、R6 は水素又は炭素数1
〜8までのアルキル基を示す。)
1. A dimer diol obtained by hydrogenating a dimer acid or a dimer acid ester, which is a dimer of a higher unsaturated fatty acid having 11 to 22 carbon atoms or a lower alcohol ester thereof, and an α represented by the general formula (I). By hydrogenating a trimer acid or trimer acid ester which is a trimer of an esterified product (A) with β-unsaturated carboxylic acids and / or a higher unsaturated fatty acid having 11 to 22 carbon atoms or a lower alcohol ester thereof Obtained by polymerizing an esterified product (B) of the trimertriol and an α, β-unsaturated carboxylic acid represented by the general formula (I), or a monomer (C An optical disc substrate made of a synthetic resin, characterized by comprising a polymer obtained by polymerizing a mixture (D) consisting of Embedded image R 1 (R 2 ) C═C (R 3 ) COOR 6 ... (I) (wherein R 1 , R 2 and R 3 are each independently hydrogen or C 1-6). Alkyl group, R 6 is hydrogen or carbon number 1
Up to 8 alkyl groups are shown. )
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001070847A1 (en) * 2000-03-23 2001-09-27 Bayer Aktiengesellschaft Polyester carbonate and a data carrier therefrom

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