JPH09157352A - 感光性屈折率分布形成材料及びその製造方法 - Google Patents

感光性屈折率分布形成材料及びその製造方法

Info

Publication number
JPH09157352A
JPH09157352A JP7319076A JP31907695A JPH09157352A JP H09157352 A JPH09157352 A JP H09157352A JP 7319076 A JP7319076 A JP 7319076A JP 31907695 A JP31907695 A JP 31907695A JP H09157352 A JPH09157352 A JP H09157352A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
refractive index
forming material
index distribution
distribution forming
photosensitive
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP7319076A
Other languages
English (en)
Inventor
Takeshi Ishizuka
剛 石塚
Katsusada Motoyoshi
勝貞 本吉
Koji Tsukamoto
浩司 塚本
Shigenori Aoki
重憲 青木
Satoshi Tatsuura
智 辰浦
Wataru Toyama
弥 外山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP7319076A priority Critical patent/JPH09157352A/ja
Publication of JPH09157352A publication Critical patent/JPH09157352A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
  • Holo Graphy (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 光を照射する光照射工程だけで特別な硬化処
理を行うことなく屈折率分布を形成することができる感
光性屈折率分布形成材料及びその製造方法を提供する。 【解決手段】 感光性屈折率分布形成材料は、エポキシ
基を有する化合物を含むバインダと、エチレン性不飽和
基を有する重合性モノマと、光により重合性モノマを重
合させる光重合開始剤と、バインダを室温近傍で硬化さ
せる硬化剤とを有する。この感光性屈折率分布形成材料
を製造するには、エポキシ基を有する化合物を含むバイ
ンダと、エチレン性不飽和基を有する重合性モノマと、
光により重合性モノマを重合させる光重合開始剤とを溶
剤に溶解して溶液を作成し、溶液から溶剤を除去した
後、バインダを室温近傍で硬化させる硬化剤を添加す
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光を照射すること
により屈折率分布が形成される感光性屈折率分布形成材
料及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】感光性屈折率分布形成材料は、光や放射
線を照射することにより化学構造を変化させて屈折率分
布を形成する高分子材料である。従来、感光性屈折率分
布形成材料としては、熱可塑性のポリマバインダと、エ
チレン性不飽和基を有する重合性モノマと、光により重
合性モノマを重合するための光重合開始剤を有する材料
や、エポキシ基を有する化合物と、エチレン性不飽和基
を有する重合性モノマと、光により重合性モノマを重合
する光重合開始剤とを有する材料が提案されている。
【0003】また、他の感光性屈折率分布形成材料とし
て、オキシラン環を2個以上有する熱硬化性オリゴマ若
しくはポリマと、重合可能なエチレン性不飽和結合を有
する化合物と、可視光増感色素と、光重合開始剤と、エ
ポキシ樹脂重合触媒とを有する材料が知られており、ホ
ログラム記録用組成物として提案されている(特開平7
ー5796号公報参照)。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の感光性屈折率分布形成材料は、光を照射して感
光性屈折率分布形成材料に屈折率分布を形成した後、光
照射又は加熱により感光性屈折率分布形成材料を硬化す
る必要がある。このため、感光性屈折率分布形成材料に
屈折率分布を形成するためには、屈折率分布を形成する
ための光照射工程と、材料を硬化するための硬化工程と
いう少なくとも2つの工程が必要であり、この材料を用
いた光学素子の製造工程が複雑になっていた。
【0005】本発明の目的は、光を照射する光照射工程
だけで特別な硬化処理を行うことなく屈折率分布を形成
することができる感光性屈折率分布形成材料及びその製
造方法を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明による感光性屈折
率分布形成材料は、エポキシ基を有する化合物を含むバ
インダと、エチレン性不飽和基を有する重合性モノマ
と、光により重合性モノマを重合させる光重合開始剤
と、バインダを室温近傍で硬化させる硬化剤とを有する
ことを特徴とする。
【0007】ここで、重合性モノマとしては、芳香族環
又はハロゲンを有するモノマを含むことが望ましい。ま
た、重合性モノマとしては、2基以上のエチレン性不飽
和基を有するモノマを含むことが望ましい。バインダと
しては、少なくとも2基以上のエポキシ基を有する化合
物を含むことが望ましい。
【0008】光重合開始剤としては、イミダゾール化合
物、例えば、ビイミダゾール化合物と、増感色素、例え
ば、シクロペンタノン色素とを含むことが望ましい。ま
た、熱硬化剤としては、ポリアミン化合物、例えば、シ
アノエチル化ポリアミンを含むことが望ましい。また、
光重合開始剤としては、トリアジン化合物、例えば、
2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−1,3,5
−トリアジン,2,4−ビス(トリクロロメチル)−6
−(p−メトキシフェニルビニル)−1,3,5−トリ
アジンと、増感色素、例えば、シクロペンタノン色素や
スクアリリウム色素を含むことが望ましい。また、熱硬
化剤としては、ポリメルカプタン化合物、例えば、ペン
タエリスリトールテトラ(メルカプトプロピオネー
ト),トリメチロールプロパントリス(3−メルカプト
プロピオネート),トリメチロールプロパントリス(2
−メルカプトアセテート),ペンタエリスリトールテト
ラ(メルカプトアセテート)を含むことが望ましい。
【0009】これら光重合開始剤と熱硬化剤は、ともに
その反応性を維持して自由に組み合わせて使用すること
が可能である。したがって、熱硬化剤によりエポキシ基
を有する化合物を含むバインダを硬化させつつ、光重合
開始剤により光により重合性モノマを重合させることが
可能である。本発明による感光性屈折率分布形成材料
は、エポキシ基を有する化合物を含むバインダと、エチ
レン性不飽和基を有する重合性モノマと、光により重合
性モノマを重合させる光重合開始剤とを溶剤に溶解して
溶液を作成し、溶液から溶剤を除去した後、バインダを
室温近傍で硬化させることにより材料に屈折率分布を形
成することができる。
【0010】このように、光を照射して屈折率分布を形
成した後は、従来のように光照射したり加熱したりする
ような特別な硬化処理を施すことなく、ただ室温近傍に
放置しておけばよいので、非常に簡単な製造工程により
感光性屈折率分布形成材料に屈折率分布を形成すること
ができる。
【0011】
【実施例】
[実施例1] (感光性屈折率分布形成材料の製造)まず、溶媒である
テトラヒドロフラン6gに、バインダとして、脂環式エ
ポキシEHPE−3150(ダイセル化学工業)3g、
ビスフェノールA型エポキシエピコート828(油化シ
ェルエポキシ)3gと、重合性モノマとして、ビニルカ
ルバゾール1g、アリルカルバゾール1g、トリメチロ
ールプロパントリアクリレート1gと、光重合開始剤と
して、ビイミダゾール化合物(東京化成B1225)
0.06g、トリメチルアゾールチオール0.04g、
シクロペンタノン色素(日本感光色素NKX1460)
0.0006gとを溶解し溶液を作成した。
【0012】次に、この溶液を真空ボックスに入れ、攪
拌しながら減圧してテトラヒドロフランを溶液から除去
した。次に、化学式
【0013】
【化1】 で示すシアノエチル化ポリアミンを1.2g添加し、攪
拌混合して感光性屈折率分布形成材料を製造した。 (屈折率分布形成実験1)図1に示すように、厚さ0.
1mmのガラス板10をスペーサとして、感光性屈折率
分布形成材料12をガラス板14、16の間に挟んでサ
ンプルを作成した。
【0014】感光性屈折率分布形成材料12を製造して
2時間後に、このサンプルに対して直径100μmの露
光領域18aを有するマスク18を介して可視光(光源
ML150,HOYA−SCOTT)を照射した。光照
射後、感光性屈折率分布形成材料12を干渉顕微鏡で観
察した結果、露光領域に干渉縞のずれが観察でき、屈折
率分布が形成できたことが確認できた。
【0015】なお、このサンプルを24時間後に触診し
たとことろ、タックフリーな程度に硬化していた。ま
た、このとき干渉顕微鏡で観察したところ、依然として
露光領域に干渉縞のずれがあることが観察できた。 (屈折率分布形成実験2)図2に示すように、感光性屈
折率分布形成材料12と端面カットした光ファイバ20
を、厚さ0.1mmのガラス板10をスペーサとして、
感光性屈折率分布形成材料12をガラス板14、16の
間に挟んでサンプルを作成した。光ファイバ20の先端
を感光性屈折率分布形成材料12のほぼ中央に位置する
ようにした。
【0016】感光性屈折率分布形成材料12を製造して
2時間後に光ファイバ20の他端に可視光(光源ML1
50,HOYA−SCOTT)を導入して感光性屈折率
分布形成材料12に光を照射した。光照射後、感光性屈
折率分布形成材料12を干渉顕微鏡で観察した結果、露
光領域に干渉縞のずれが観察でき、屈折率分布が形成で
きたことが確認できた。 (屈折率分布形成実験3)図1に示すように、厚さ0.
1mmのガラス板10をスペーサとして、感光性屈折率
分布形成材料12をガラス板14、16の間に挟んでサ
ンプルを作成した。
【0017】感光性屈折率分布形成材料12を製造して
2時間後に、このサンプルに対してアルゴンレーザの波
長488nmのレーザ光を用いて2光束干渉露光してホ
ログラムを作成した。このように作成したホログラムに
対して、所定時間(24時間)経過後、He−Neレー
ザを回折角から入射した結果、回折光が生じることが確
認できた。 (屈折率分布形成実験4)両端にFCコネクタが設けら
れた長さ20mの光ファイバ22(藤倉電線SMC−1
0/125)を用意し、一端にレーザ24を接続し、他
端にパワーメータ26を接続した。レーザ24から波長
λ=1.3μmのレーザ光を導入し、パワーメータ26
により伝搬された光強度を測定した。
【0018】次に、この光ファイバ22を中央で切断し
て2つの光ファイバ22A、22Bに分離した。次に、
図3に示すように、穴径145μmの横溝つきガラス筒
28(日本電気硝子GS1R−145−NS)を用意
し、ガラス筒28の両側から、分離した光ファイバ22
A、22Bの各切断端を挿入した。図3に示すように、
光ファイバ22A、22Bの端面が、横溝つきガラス筒
28の横溝に突出し、しかも、これら端面間の間隔が4
00μmになるように調整した。
【0019】次に、横溝付きガラス筒28の横溝に感光
性屈折率分布形成材料12を充填した。このとき、光フ
ァイバ22A、22Bの端面が感光性屈折率分布形成材
料12中に埋没するように十分な量を充填した。感光性
屈折率分布形成材料12を製造して2時間後に光ファイ
バ22Aに接続した光源から可視光(光源ML150,
HOYA−SCOTT)を導入し、感光性屈折率分布形
成材料12に光を照射した。このようにして感光性屈折
率分布形成材料12に屈折率分布を形成した。
【0020】このようにして作成した光結合器の特性を
調べるため、レーザ24から1.3μmのレーザ光を導
入し、パワーメータ26により伝搬された光強度を測定
した。切断する前に測定した光強度と比較したところ、
光強度は20%弱しか低下しておらず、80%以上の結
合効率が得られたことがわかった。なお、この光結合器
を24時間後放置した後、再びレーザ光を導入し伝搬す
る光強度を測定したところ、70%以上の結合効率を維
持していることが確認できた。 [実施例2] (感光性屈折率分布形成材料の製造)バインダとして、
脂環式エポキシEHPE−3150(ダイセル化学工
業)1g、ビスフェノールA型エポキシエピコート82
8(油化シェルエポキシ)1gと、重合性モノマとし
て、N−ビニルカルバール0.66g、トリメチロール
プロパントリアクリレート0.66gとを加熱攪拌して
溶液を作成した。
【0021】この溶液に、光重合開始剤として、2,
4,6−トリス(トリクロロメチル)−1,3,5−ト
リアジン0.04gと、シクロペンタノン色素(日本感
光色素NKX1460)0.0008gを添加して溶解
し、さらに、硬化剤として、ペンタエリスリトールテト
ラ(メルカプトプロピオネート)0.25gを添加し、
攪拌して材料を製造した。 (屈折率分布形成実験5)図2に示すように、感光性屈
折率分布形成材料12と端面カットした光ファイバ20
を、厚さ0.1mmのガラス板10をスペーサとして、
感光性屈折率分布形成材料12をガラス板14、16の
間に挟んでサンプルを作成した。光ファイバ20の先端
を感光性屈折率分布形成材料12のほぼ中央に位置する
ようにした。
【0022】感光性屈折率分布形成材料12を製造して
24時間後に光ファイバ20の他端に可視光(光源ML
150,HOYA−SCOTT)を導入して感光性屈折
率分布形成材料12に光を照射した。光照射後、感光性
屈折率分布形成材料12を干渉顕微鏡で観察した結果、
露光領域に干渉縞のずれが観察でき、屈折率分布が形成
できたことが確認できた。
【0023】なお、このサンプルを3日後に触診したと
ことろ、タックフリーな程度に硬化していた。また、こ
のとき干渉顕微鏡で観察したところ、依然として露光領
域に干渉縞のずれがあることが観察できた。 (屈折率分布形成実験6)両端にFCコネクタが設けら
れた長さ20mの光ファイバ22(藤倉電線SMC−1
0/125)を用意し、一端にレーザ24を接続し、他
端にパワーメータ26を接続する。レーザ24から波長
λ=1.3μmのレーザ光を導入し、パワーメータ26
により伝搬された光強度を測定した。
【0024】次に、この光ファイバ22を中央で切断し
て2つの光ファイバ22A、22Bに分離する。次に、
図3に示すように、穴径145μmの横溝つきガラス筒
28(日本電気硝子GS1R−145−NS)を用意
し、ガラス筒28の両側から、分離した光ファイバ22
A、22Bの切断端を挿入した。図3に示すように、光
ファイバ22A、22Bの端面が、横溝つきガラス筒2
8の横溝に突出し、しかも、これら端面間の間隔が40
0μmになるように調整した。
【0025】次に、横溝付きガラス筒28の横溝に感光
性屈折率分布形成材料12を充填した。このとき、光フ
ァイバ22A、22Bの端面が感光性屈折率分布形成材
料12中に埋没するように十分な量を充填した。感光性
屈折率分布形成材料12を製造して24時間後に光ファ
イバ22Aに接続された光源から可視光(光源ML15
0,HOYA−SCOTT)を導入し、感光性屈折率分
布形成材料12に光を照射した。このようにして感光性
屈折率分布形成材料12に屈折率分布を形成した。
【0026】このようにして作成した光結合器の特性を
調べるため、レーザ24から1.3μmのレーザ光を導
入し、パワーメータ26により伝搬された光強度を測定
した。切断する前に測定した光強度と比較したところ、
光強度は20%弱しか低下しておらず、80%以上の結
合効率が得られたことがわかった。なお、この光結合器
を3日間放置した後、再びレーザ光を導入し伝搬する光
強度を測定したところ、70%以上の結合効率を維持し
ていることが確認できた。
【0027】
【発明の効果】以上の通り、本発明によれば、光を照射
して屈折率分布を形成した後は、従来のように光照射し
たり加熱したりするような特別な硬化処理を施すことな
く、ただ室温近傍に放置しておけばよいので、非常に簡
単な製造工程により感光性屈折率分布形成材料に屈折率
分布を形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による感光性屈折率分布形成材料を用い
た屈折率分布形成実験(その1)の説明図である。
【図2】本発明による感光性屈折率分布形成材料を用い
た屈折率分布形成実験(その2)の説明図である。
【図3】本発明による感光性屈折率分布形成材料を用い
た屈折率分布形成実験(その3)の説明図である。
【符号の説明】
10…スペーサ 12…感光性屈折率分布形成材料 14、16…ガラス板 18…マスク 18a…露光領域 20…光ファイバ 22、22A、22B…光ファイバ 24…レーザ 26…パワーメータ 28…横溝付きガラス筒
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 // G02B 5/32 G02B 5/32 (72)発明者 塚本 浩司 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 (72)発明者 青木 重憲 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 (72)発明者 辰浦 智 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 (72)発明者 外山 弥 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 エポキシ基を有する化合物を含むバイン
    ダと、エチレン性不飽和基を有する重合性モノマと、光
    により前記重合性モノマを重合させる光重合開始剤と、
    前記バインダを室温近傍で硬化させる硬化剤とを有する
    ことを特徴とする感光性屈折率分布形成材料。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の感光性屈折率分布形成材
    料において、 前記重合性モノマは、芳香族環又はハロゲンを有するモ
    ノマを含むことを特徴とする感光性屈折率分布形成材
    料。
  3. 【請求項3】 請求項1又は2記載の感光性屈折率分布
    形成材料において、 前記重合性モノマは、2基以上のエチレン性不飽和基を
    有するモノマを含むことを特徴とする感光性屈折率分布
    形成材料。
  4. 【請求項4】 請求項1乃至3のいずれか1項に記載の
    感光性屈折率分布形成材料において、 前記バインダは、少なくとも2基以上のエポキシ基を有
    する化合物を含むことを特徴とする感光性屈折率分布形
    成材料。
  5. 【請求項5】 請求項1乃至4のいずれか1項に記載の
    感光性屈折率分布形成材料において、 前記光重合開始剤はイミダゾール化合物を含み、前記熱
    硬化剤はポリアミン化合物を含むことを特徴とする感光
    性屈折率分布形成材料。
  6. 【請求項6】 請求項1乃至4のいずれか1項に記載の
    感光性屈折率分布形成材料において、 前記光重合開始剤はトリアジン化合物を含み、前記熱硬
    化剤はポリメルカプタン化合物を含むことを特徴とする
    感光性屈折率分布形成材料。
  7. 【請求項7】 エポキシ基を有する化合物を含むバイン
    ダと、エチレン性不飽和基を有する重合性モノマと、光
    により前記重合性モノマを重合させる光重合開始剤とを
    溶剤に溶解して溶液を作成する工程と、 前記溶液から前記溶剤を除去した後、前記バインダを室
    温近傍で硬化させる硬化剤を添加する工程とを有するこ
    とを特徴とする感光性屈折率分布形成材料の製造方法。
JP7319076A 1995-12-07 1995-12-07 感光性屈折率分布形成材料及びその製造方法 Pending JPH09157352A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7319076A JPH09157352A (ja) 1995-12-07 1995-12-07 感光性屈折率分布形成材料及びその製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7319076A JPH09157352A (ja) 1995-12-07 1995-12-07 感光性屈折率分布形成材料及びその製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH09157352A true JPH09157352A (ja) 1997-06-17

Family

ID=18106239

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP7319076A Pending JPH09157352A (ja) 1995-12-07 1995-12-07 感光性屈折率分布形成材料及びその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH09157352A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6343171B1 (en) 1998-10-09 2002-01-29 Fujitsu Limited Systems based on opto-electronic substrates with electrical and optical interconnections and methods for making
US6785447B2 (en) 1998-10-09 2004-08-31 Fujitsu Limited Single and multilayer waveguides and fabrication process
JP2005181954A (ja) * 2003-11-28 2005-07-07 Konica Minolta Medical & Graphic Inc ホログラフィック記録メディア、ホログラフィック記録方法およびホログラフィック情報メディア

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03210324A (ja) * 1990-01-11 1991-09-13 Mitsubishi Electric Corp 2液混合型硬化樹脂組成物
JPH06298911A (ja) * 1993-04-16 1994-10-25 Toyo Ink Mfg Co Ltd 感光性組成物
JPH075796A (ja) * 1993-02-09 1995-01-10 Toyo Ink Mfg Co Ltd ホログラム記録用組成物、ホログラム記録用媒体およびそれを用いたホログラムの製造方法
JPH0736354A (ja) * 1993-07-23 1995-02-07 Toyo Ink Mfg Co Ltd ホログラム記録用感光材料
JPH07261640A (ja) * 1994-03-17 1995-10-13 Toyo Ink Mfg Co Ltd ホログラム感光性記録材料およびホログラム感光性記録媒体並びにそれを用いたホログラム製造方法
JPH0816080A (ja) * 1994-06-30 1996-01-19 Toppan Printing Co Ltd ホログラム感光性記録材料およびホログラム感光性記録媒体
JPH08160842A (ja) * 1994-10-03 1996-06-21 Nippon Paint Co Ltd 体積ホログラム記録用感光性組成物、及びそれを用いた記録媒体ならびに体積ホログラム形成方法

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03210324A (ja) * 1990-01-11 1991-09-13 Mitsubishi Electric Corp 2液混合型硬化樹脂組成物
JPH075796A (ja) * 1993-02-09 1995-01-10 Toyo Ink Mfg Co Ltd ホログラム記録用組成物、ホログラム記録用媒体およびそれを用いたホログラムの製造方法
JPH06298911A (ja) * 1993-04-16 1994-10-25 Toyo Ink Mfg Co Ltd 感光性組成物
JPH0736354A (ja) * 1993-07-23 1995-02-07 Toyo Ink Mfg Co Ltd ホログラム記録用感光材料
JPH07261640A (ja) * 1994-03-17 1995-10-13 Toyo Ink Mfg Co Ltd ホログラム感光性記録材料およびホログラム感光性記録媒体並びにそれを用いたホログラム製造方法
JPH0816080A (ja) * 1994-06-30 1996-01-19 Toppan Printing Co Ltd ホログラム感光性記録材料およびホログラム感光性記録媒体
JPH08160842A (ja) * 1994-10-03 1996-06-21 Nippon Paint Co Ltd 体積ホログラム記録用感光性組成物、及びそれを用いた記録媒体ならびに体積ホログラム形成方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6343171B1 (en) 1998-10-09 2002-01-29 Fujitsu Limited Systems based on opto-electronic substrates with electrical and optical interconnections and methods for making
US6785447B2 (en) 1998-10-09 2004-08-31 Fujitsu Limited Single and multilayer waveguides and fabrication process
JP2005181954A (ja) * 2003-11-28 2005-07-07 Konica Minolta Medical & Graphic Inc ホログラフィック記録メディア、ホログラフィック記録方法およびホログラフィック情報メディア

Similar Documents

Publication Publication Date Title
AU684891B2 (en) Photosensitive recording material, photosensitive recording medium, and process for producing hologram using this photosensitive recording medium
EP0697631B1 (en) Photosensitive recording material, photosensitive recording medium, and process for producing hologram using this photosensitive recording medium
JP5400090B2 (ja) 封入光学素子を提供するための光デバイスの連結方法
EP3594725A1 (en) Optical component and method for producing optical component
US5776634A (en) Photosensitive recording medium and method of preparing volume type phase hologram member using same
US5104771A (en) Optical components
CN109689826A (zh) 快速固化光学粘合剂
KR20040043869A (ko) 고분자 광도파관 그레이팅 제조방법
JP2004504415A (ja) Uv光で開始するカチオン重合を実行することにより得られる複製品及び複製品の製造方法
Huimin et al. A study on the preparation of polymer/montmorillonite nano‐composite materials by photo‐polymerization
JPH09157352A (ja) 感光性屈折率分布形成材料及びその製造方法
EP1834977B1 (en) Optical refractive index-modifying polymer composition, holographic recording material and method of controlling refractive index
JP2002504701A (ja) 光信号装置のための回折格子の製作方法および該回折格子を備えた光信号装置
Ley et al. Application of high performance photoinitiating systems for holographic grating recording
JP4496319B2 (ja) 光導波路及びその製造方法
CN112764159B (zh) 光波导元件及其制备方法以及全息光波导显示设备
US6209356B1 (en) Method of making polarization-maintaining optical fibers
JPH05181403A (ja) 体積ホログラム光学フィルム、その製造方法及びそれを用いた液晶光学素子
TW202031715A (zh) 全像記錄用組合物、全像記錄媒體、全像光學元件、及使用此之光學裝置、光學零件與全像繞射光柵之形成方法
JP3180566B2 (ja) ホログラム感光性記録材料およびホログラム感光性記録媒体並びにそれを用いたホログラム製造方法
JP4087207B2 (ja) 光伝送路形成用材料、光伝送路および光伝送路の製造方法
JP2003021735A (ja) 光導波路素子
JP3389669B2 (ja) ホログラム感光性記録材料およびホログラム感光性記録媒体並びにそれを用いたホログラム製造方法
JP3399196B2 (ja) 光増幅機能を有するレンズ素子及びその製造方法
ITAN20070022A1 (it) Composizione di miscele organiche sensibili al blu usabili per l' immagazzinamento olografico dell' informazione

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20040527

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20040615

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20041207