JPH09152716A - Developing method, developing device and disk-like recording medium - Google Patents

Developing method, developing device and disk-like recording medium

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JPH09152716A
JPH09152716A JP33787595A JP33787595A JPH09152716A JP H09152716 A JPH09152716 A JP H09152716A JP 33787595 A JP33787595 A JP 33787595A JP 33787595 A JP33787595 A JP 33787595A JP H09152716 A JPH09152716 A JP H09152716A
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JP
Japan
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signal
resist layer
developing
exposure
recording signal
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JP33787595A
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Japanese (ja)
Inventor
Fusaaki Endou
惣銘 遠藤
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
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Pending legal-status Critical Current

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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Optical Recording Or Reproduction (AREA)
  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To form pits of the optimum shape with good accuracy by forming a first exposure part according to recording signals in a resist layer, forming a second exposure part according to recording signals in another specified area different from the first area, and stopping development based on the detection results of diffracted light from the second exposure part. SOLUTION: A resist master glass plate 2 is placed on a turntable 8 and a resist layer 2A is washed with pure water PW from a nozzle 15. A nozzle arm 11 is rotated to stop the nozzle 15 at a specified position on the resist layer 2A. Laser light L1 from a laser light source 16 is made to irradiate a monitoring area. A developer DE is sprayed from the nozzle 15 on the resist layer 2A. When pits or grooves as a latent image becomes to have a desired cross-sectional dimension, the signal level of signals S1 from a second detector 18 reaches the level of signals S1 which give the level to stop development. At this time, an electromagnetic valve 13 is controlled to spray pure water PW through the nozzle 15 instead of the developer DE on the resist layer 2A to stop development.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【目次】以下の順序で本発明を説明する。 発明の属する技術分野 従来の技術 発明が解決しようとする課題 課題を解決するための手段 発明の実施の形態 (1)実施例による現像装置の構成(図1及び図2) (2)実施例の動作及び効果 (3)他の実施例(図3〜図6) 発明の効果[Table of Contents] The present invention will be described in the following order. TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION Conventional Technology Problems to be Solved by the Invention Means for Solving the Problems Embodiments of the Invention (1) Configuration of Developing Device According to Examples (FIGS. 1 and 2) (2) Example Operations and Effects (3) Other Embodiments (FIGS. 3 to 6) Effects of the Invention

【0002】[0002]

【発明の属する技術分野】本発明は、現像方法、現像装
置及びデイスク状記録媒体に関し、例えば光デイスク等
でなるデイスク状記録媒体の成形時の金型となる光デイ
スク原盤(いわゆるスタンパ)の作製工程のうち現像処
理工程における現像方法及び現像装置に適用して好適な
ものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a developing method, a developing device, and a disk-shaped recording medium, for example, a method for producing an optical disk master (so-called stamper) which is a mold for molding a disk-shaped recording medium such as an optical disk. It is suitable for application to a developing method and a developing device in a developing treatment step among the steps.

【0003】[0003]

【従来の技術】従来、光デイスク及び光磁気デイスク等
でなるデイスク状記録媒体の製造工程においては、記録
信号に応じた所望の凹凸パターン(例えばピツト及び又
はグルーブ等)が表面に形成されたスタンパを作製する
工程と、当該スタンパの表面に形成された所望の凹凸パ
ターンをデイスク基盤上に転写することによつて当該デ
イスク基盤をデイスク状記録媒体として製品化するまで
の工程とに大別される。
2. Description of the Related Art Conventionally, in a manufacturing process of a disk-shaped recording medium including an optical disk and a magneto-optical disk, a stamper having a desired concavo-convex pattern (for example, pits and / or grooves) formed on a surface thereof in accordance with a recording signal. And a process of transferring a desired concavo-convex pattern formed on the surface of the stamper onto a disc substrate to commercialize the disc substrate as a disk-shaped recording medium. .

【0004】このうちスタンパを作製する工程において
は、まず極めて平滑に研磨されたガラス板の一面を洗浄
及び乾燥した後、当該一面上に感光材料でなるフオトレ
ジストを塗布することによりレジスト層を形成(以下、
このようなガラス板をレジストマスターガラス板と呼
ぶ)する。次いでこのレジスト層に所望の記録信号に基
づく光ビーム(例えばレーザ光等)を露光した後、これ
を現像することによりガラス板の一面上にレジスト層に
記録した信号に応じた凹凸パターンが形成される。
In the step of manufacturing the stamper, first, one surface of the glass plate that has been polished to be extremely smooth is washed and dried, and then a photoresist made of a photosensitive material is applied to the one surface to form a resist layer. (Less than,
Such a glass plate is referred to as a resist master glass plate). Next, after exposing a light beam (for example, a laser beam or the like) based on a desired recording signal to the resist layer and developing the same, an uneven pattern corresponding to the signal recorded in the resist layer is formed on one surface of the glass plate. You.

【0005】実際上、このような現像処理工程は、露光
処理工程が終了したレジストマスターガラス板のレジス
ト層に、例えばメタケイ酸ナトリウム等のアルカリ水溶
液でなる現像液を供給し、当該レジスト層の露光された
部分を当該現像液によつて溶解することにより行われ
る。
In practice, such a developing treatment step is performed by supplying a developing solution made of an alkaline aqueous solution such as sodium metasilicate to the resist layer of the resist master glass plate after the exposure treatment step, and exposing the resist layer. The developed portion is dissolved by the developing solution.

【0006】続いて当該凹凸パターンの表面上にスパツ
タリング、蒸着又は無電解メツキ等の手法により銀又は
ニツケル等でなる導電化膜層を形成する。この後、電鋳
によりこの導電化膜層上に所定の厚みを有するニツケル
等でなるメツキ層を形成する。さらにこの後、導電化膜
層及びメツキ層を一体にガラス板から引き剥がした後、
これを所定形状に打ち抜く。これにより記録信号に応じ
た凹凸パターンが一面に形成されてなるスタンパを得る
ことができる。
Subsequently, a conductive film layer made of silver, nickel, or the like is formed on the surface of the uneven pattern by a method such as sputtering, vapor deposition, or electroless plating. Thereafter, a plating layer made of nickel or the like having a predetermined thickness is formed on the conductive film layer by electroforming. Furthermore, after this, after peeling off the conductive film layer and the plating layer integrally from the glass plate,
This is punched into a predetermined shape. This makes it possible to obtain a stamper in which a concavo-convex pattern corresponding to a recording signal is formed on one surface.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】ところで、このように
光ビームを用いてレジストマスターガラス板のレジスト
層に記録信号を露光記録した後、これを現像することに
より当該記録信号に応じた凹凸パターンを形成する方法
によれば、この凹凸パターンでなるピツト及び又はグル
ーブに相当する部分(以下、この部分をピツト及び又は
グルーブ相当部と呼ぶ)は約1ミクロン単位での露光精
度が要求され、当該要求に応じて忠実にレジスト層に現
像されることが必要となる。
By the way, after the recording signal is exposed and recorded on the resist layer of the resist master glass plate using the light beam as described above, the uneven pattern corresponding to the recording signal is formed by developing the recording signal. According to the forming method, a portion corresponding to a pit and / or a groove formed by the concavo-convex pattern (hereinafter, this portion is referred to as a pit and / or a groove corresponding portion) is required to have an exposure accuracy of about 1 micron unit. Therefore, it is necessary to faithfully develop the resist layer.

【0008】すなわち現像処理工程によつてレジスト層
に形成されるピツト及び又はグルーブ相当部の深さ及び
幅は、照射される光ビームのトラツク方向に垂直な断面
の寸法として表されることから、光デイスクシステムに
おけるレーザ光による情報検出の精度に密接に関連す
る。従つて、現像処理工程は、このピツト及び又はグル
ーブ相当部の深さ及び幅(以下、この深さ及び幅を断面
寸法と呼ぶ)が所定範囲内の値となるように管理される
ことが必要となる。
That is, since the depth and width of the pit and / or the groove corresponding portion formed in the resist layer by the development processing step are expressed as the dimension of the cross section perpendicular to the track direction of the irradiated light beam, It is closely related to the accuracy of information detection by laser light in an optical disk system. Therefore, it is necessary that the development process is controlled so that the depth and width of the pit and / or groove equivalent portion (hereinafter, the depth and width are referred to as sectional dimensions) are within a predetermined range. Becomes

【0009】このため、平坦面上の凹凸による光の回折
現像を利用して、現像中にモニタ用のレーザ光をガラス
板のレジスト層に照射しつつピツト及び又はグルーブ相
当部によつて回折されたレーザ光成分を検出し、回折光
の強度が所定値に達したとき現像処理を停止させること
によつてピツト及び又はグルーブ相当部の断面寸法を制
御する方法が提案されている。
Therefore, by utilizing the diffraction development of light due to the unevenness on the flat surface, the resist layer of the glass plate is irradiated with the laser beam for monitoring during the development and is diffracted by the portion corresponding to the pit and / or the groove. It has been proposed to detect the laser beam component and stop the developing process when the intensity of the diffracted light reaches a predetermined value to control the cross-sectional dimension of the pit and / or groove.

【0010】かかる方法を具現化するにあたつて、例え
ば光デイスク又は光磁気(MO:Magnet Optical)デイ
スク等でなるデイスク状記録媒体のスタンパを作製する
際に用いられる現像装置について説明する。
In order to embody such a method, a developing device used for producing a stamper for a disk-shaped recording medium such as an optical disk or a magneto-optical (MO) disk will be described.

【0011】この現像装置においては、まずマスターコ
ードカツター等によつて予めレジスト層に所望の記録信
号に応じたピツト及び又はグルーブ相当部が潜像として
形成されてなるレジストマスターガラス板を回転しなが
ら、当該レジストマスターガラス板のレジスト層上に現
像液を散布する。
In this developing device, first, a resist master glass plate formed by previously forming a pit and / or a groove corresponding to a desired recording signal on the resist layer as a latent image is rotated by a master code cutter or the like. Meanwhile, the developing solution is sprayed on the resist layer of the resist master glass plate.

【0012】この状態において、レジストマスターガラ
ス板のレジスト層に形成されたピツト及び又はグルーブ
相当部の潜像は現像液によつて次第に溶解しつつあり、
これと同時にレジストマスターガラス板の上方に配置さ
れてなるレーザ光源からモニタ用のレーザ光が当該レジ
スト層に形成された潜像に照射される。
In this state, the latent image corresponding to the pits and / or the grooves formed on the resist layer of the resist master glass plate is gradually dissolved by the developing solution,
At the same time, a laser light source arranged above the resist master glass plate irradiates the latent image formed on the resist layer with laser light for monitoring.

【0013】ここで、レジストマスターガラス板に対す
るレーザ光源の反対側における当該レーザ光源から発射
されたレーザ光の光路外の所定位置にはデイテクタが設
けられている。この場合、レーザ光源から発射されたレ
ーザ光の一部がレジスト層に形成されつつあるピツト及
び又はグルーブ相当部で所定方向に回折されることか
ら、この回折されたレーザ光のうちの1次回折光が、レ
ジストマスターガラス板を透過した後、当該デイテクタ
に入射されるようになされている。
Here, a detector is provided at a predetermined position outside the optical path of the laser light emitted from the laser light source on the side opposite to the laser light source with respect to the resist master glass plate. In this case, since a part of the laser light emitted from the laser light source is diffracted in a predetermined direction by the pits and / or the groove corresponding to the part being formed in the resist layer, the first-order diffracted light of the diffracted laser light is However, after passing through the resist master glass plate, the light enters the detector.

【0014】実際上、レジストマスターガラス板のレジ
スト層に形成されたピツト及び又はグルーブ相当部の潜
像に現像しながらレーザ光を照射した場合、現像の進行
度に伴つてピツト及び又はグルーブ相当部の深さが増
し、これに応じて当該ピツト及び又はグルーブ相当部で
回折された1次回折光の光量が変化する。
In practice, when the latent image formed on the resist layer of the resist master glass plate is irradiated with the laser beam while developing the latent image of the portion corresponding to the pit and / or the groove, the portion corresponding to the pit and / or the groove is accompanied by the progress of development. Of the first diffracted light diffracted by the portion corresponding to the pit and / or the groove changes accordingly.

【0015】従つて、この現像装置においては、デイテ
クタによつて検出された1次回折光の光量を、予め設定
された所定の光量と比較することにより、当該比較結果
に基づいて現像を停止させる。これにより所望の深さで
なるピツト及び又はグルーブ相当部を得ることができ
る。
Therefore, in this developing device, the light amount of the first-order diffracted light detected by the detector is compared with a preset predetermined light amount, and the development is stopped based on the comparison result. This makes it possible to obtain a pit and / or a groove corresponding portion having a desired depth.

【0016】ところで、近年、デイスク状記録媒体とし
ては、再生専用光デイスク(CD)、プリフオーマツト
としての離散的情報パターン及び又はトラツキング用の
案内溝(グルーブ)が予め形成された書き込み可能な光
デイスク(MD)、又は1倍、2倍及び4倍密度等で書
き込まれた光磁気デイスク(MO)、さらにはデイジタ
ルビデオデイスク(DVD)等、多種多様のものが用い
られている。
By the way, in recent years, as a disc-shaped recording medium, a writable optical disc (CD), a writable optical disc (disc) in which a discrete information pattern as a pre-format and / or a guiding groove for tracking are formed in advance are provided. MD), or magneto-optical discs (MO) written at 1 ×, 2 × and 4 × density, and digital video discs (DVD).

【0017】ところが、このような種々のデイスク状記
録媒体の金型として用いられるスタンパを上述した現像
装置を用いてそれぞれ製造する場合、デイスク状記録媒
体の種類によつてそれぞれ記録領域が異なることから、
現像処理工程においてこれら種々のスタンパの前処理段
階としての各レジストマスターガラス板に対するレーザ
光の照射位置を全て同一の半径位置に設定することが困
難となる問題があつた。特にLDとMDとではそれぞれ
記録領域が極端に離間しているため、レーザ光源及びデ
イテクタの設置位置をLDとMDとで互換性を持たせる
ことが非常に困難であつた。
However, when stampers used as molds for such various disk-shaped recording media are manufactured by using the above-described developing device, the recording areas are different depending on the type of the disk-shaped recording medium. ,
In the development process, there is a problem that it is difficult to set all the irradiation positions of the laser light on the resist master glass plates as the pretreatment stage of these various stampers to the same radial position. Particularly, since the recording areas of the LD and the MD are extremely separated from each other, it is very difficult to make the LD and MD compatible with each other in the installation positions of the laser light source and the detector.

【0018】また2倍密度又は4倍密度で記録されたM
OやDVD等の高密度記録されたデイスク状記録媒体
は、通常の記録密度でなるCDとはトラツクピツチが異
なるため、上述した現像装置を用いた場合には、レジス
トマスターガラス板のピツト及び又はグルーブ相当部で
回折された1次回折光の回折角度が変化し、この結果デ
イテクタに当該1次回折光が入射しなくなるという問題
があつた。
M recorded at double density or quadruple density
Since a disk-shaped recording medium such as an O or a DVD having a high density recording has a different track pitch from a CD having a normal recording density, when the above-described developing device is used, the pits and / or the grooves of the resist master glass plate are used. There is a problem that the diffraction angle of the first-order diffracted light diffracted by the corresponding portion changes, and as a result, the first-order diffracted light does not enter the detector.

【0019】さらに、各デイスク状記録媒体毎に最適な
ピツト及び又はグルーブの断面寸法はそれぞれ異なるこ
とから、各々に対応した最適なピツト及び又はグルーブ
を形成するためには、上述した現像装置を用いて各レジ
ストマスターガラス板上のピツト及び又はグルーブ相当
部で回折された1次回折光の光量の変化に対応し得るよ
うに、デイテクタのダイナミツクレンジを大きくする必
要があつた。
Further, since the optimum pit and / or groove sectional size is different for each disk-shaped recording medium, the above-described developing device is used to form the optimum pit and / or groove corresponding to each. Therefore, it is necessary to increase the dynamic range of the detector so as to cope with the change in the amount of the first-order diffracted light diffracted by the pits and / or the grooves corresponding to each resist master glass plate.

【0020】さらに、MD等の光磁気デイスクでなるデ
イスク状記録媒体の金型として用いられるスタンパの前
処理段階としてのレジストマスターガラス板上にワイド
グルーブが潜像されており、上述した現像装置を用いて
当該ワイドグルーブを形成する場合には、当該ワイドグ
ルーブで回折された1次回折光の光量は、デイテクタに
入射開始直後には増加するが、次第に増加率が低くな
り、極大値を経た後、次第に減少する特徴を有する。こ
のため、1次回折光の光量が予め設定された所定の光量
以上のとき現像を停止する上述した現像装置を用いた現
像方法では現像することが非常に困難となる問題があつ
た。
Further, a wide groove is latently imaged on a resist master glass plate as a pretreatment step of a stamper used as a mold of a disc-shaped recording medium made of a magneto-optical disc such as MD, and the developing device described above is used. When the wide groove is formed by using, the light amount of the first-order diffracted light diffracted by the wide groove increases immediately after the incidence on the detector, but the rate of increase gradually decreases and after reaching the maximum value, It has the characteristic of gradually decreasing. Therefore, there is a problem that it is very difficult to perform development by the developing method using the above-described developing device that stops the development when the light amount of the first-order diffracted light is equal to or more than the predetermined light amount set in advance.

【0021】本発明は以上の点を考慮してなされたもの
で、デイスク状記録媒体の種類にかかわらず、最適な形
状でなるピツト及び又はグルーブを精度良く形成し得る
現像方法、現像装置及びデイスク状記録媒体を提案しよ
うとするものである。
The present invention has been made in consideration of the above points, and a developing method, a developing device, and a disk capable of accurately forming a pit and / or a groove having an optimum shape regardless of the type of the disk-shaped recording medium. It is intended to propose a recording medium.

【0022】[0022]

【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め本発明においては、基板の一面上にフオトレジストを
塗布することによりレジスト層が形成され、かつレジス
ト層が記録信号及び当該記録信号と同一又は類似でなる
信号に基づいて露光されてなるレジストマスタ板を回転
させると共に、レジスト層に現像液を供給して当該現像
液でレジスト層の記録信号に基づく第1の露光部と、記
録信号と同一又は類似でなる信号に基づく第2の露光部
とを溶かしながら、当該第2の露光部にレーザ光を照射
して得られる回折光の光量を検出して、当該検出結果に
基づいて現像を停止するようにする。
In order to solve such a problem, in the present invention, a resist layer is formed by applying a photoresist on one surface of a substrate, and the resist layer is the same as the recording signal and the recording signal. Alternatively, the resist master plate that has been exposed based on a similar signal is rotated, and a developing solution is supplied to the resist layer so that the first exposing section based on the recording signal of the resist layer by the developing solution and the recording signal. The amount of diffracted light obtained by irradiating the second exposure portion with laser light is detected while melting the second exposure portion based on the same or similar signal, and development is performed based on the detection result. Try to stop.

【0023】このようにしてレジストマスタ板のレジス
ト層に、所望の記録信号に応じた第1の露光部のみなら
ず、当該第1の露光部とは別の所定領域に当該記録信号
と同一又は類似でなる信号に応じた第2の露光部も形成
しておき、当該第2の露光部で回折された回折光の光量
の検出結果に基づいて現像を停止させるようにしたこと
により、デイスク状記録媒体の種類にかかわらず、最適
な形状でなるピツト及び又はグルーブを精度良く形成す
ることができる。
In this way, in the resist layer of the resist master plate, not only in the first exposed portion corresponding to the desired recording signal, but also in the predetermined area different from the first exposed portion, the same or the same as the recording signal. The second exposure portion corresponding to a similar signal is also formed, and the development is stopped based on the detection result of the light amount of the diffracted light diffracted by the second exposure portion. Regardless of the type of recording medium, it is possible to accurately form the pit and / or groove having an optimum shape.

【0024】[0024]

【発明の実施の形態】以下図面について、本発明の一実
施例を詳述する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

【0025】(1)実施例による現像装置の構成 図1において、1は全体として現像装置を示し、レジス
トマスターガラス板2を回転自在に保持する回転駆動部
3は、ベースプレート4に固定されたスピンドル5を有
し、このスピンドル5の端軸5Aがベースプレート4の
下側においてベルト6を介してサーボモータ7の出力軸
7Aと係合されている。
(1) Structure of Developing Device According to Embodiment In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a developing device as a whole, and a rotary drive unit 3 for rotatably holding a resist master glass plate 2 is a spindle fixed to a base plate 4. 5, the end shaft 5A of the spindle 5 is engaged with the output shaft 7A of the servomotor 7 via the belt 6 below the base plate 4.

【0026】またベースプレート4の上側においてスピ
ンドル5の端軸5Bには、ターンテーブル8が取り付け
られ、このターンテーブル8上に載置されたレジストマ
スターガラス板2を吸着保持するようになされている。
かくしてサーボモータ7の回転駆動に応じてベルト6、
スピンドル5及びターンテーブル8が連動することによ
り、レジストマスターガラス板2が矢印aで示す方向又
はこれとは逆方向に回転され得る。
A turntable 8 is attached to the end shaft 5B of the spindle 5 on the upper side of the base plate 4, and the resist master glass plate 2 placed on the turntable 8 is suction-held.
Thus, according to the rotational drive of the servo motor 7, the belt 6,
By interlocking the spindle 5 and the turntable 8, the resist master glass plate 2 can be rotated in the direction indicated by the arrow a or in the opposite direction.

【0027】またベースプレート4の上面には、スピン
ドル5の周囲に所定形状でなるチヤンバ9が設けられる
共に、当該チヤンバ9の隣接位置にアーム支持台10が
植立して固定されている。このアーム支持台10の上端
部にはアーム支持部10Aが矢印bで示す方向又はこれ
とは逆方向に回転自在に支持されており、当該アーム支
持部10Aにはノズルアーム11の一端及びパイプ12
の一端が互いに連通するように取り付けられている。
Further, a chamber 9 having a predetermined shape is provided around the spindle 5 on the upper surface of the base plate 4, and an arm support 10 is erected and fixed at a position adjacent to the chamber 9. An arm support 10A is rotatably supported at the upper end of the arm support 10 in a direction indicated by an arrow b or in a direction opposite thereto, and the arm support 10A has one end of a nozzle arm 11 and a pipe 12a.
Are attached so that one ends thereof communicate with each other.

【0028】このパイプ12の他端には電磁弁(三方向
弁)13の出力口が連結され、当該電磁弁13の2入力
口には現像液DE及び純水PWが外部接続されている。
さらにこの電磁弁13は、制御部14の制御に基づい
て、出力口が開閉動作されると共に2入力口が選択的に
開閉動作されるようになされている。これにより現像液
DE又は純水PWのいずれか一方が選択的に出力口を介
してパイプ12内に供給される。
An output port of an electromagnetic valve (three-way valve) 13 is connected to the other end of the pipe 12, and a developer DE and pure water PW are externally connected to two input ports of the electromagnetic valve 13.
Further, based on the control of the control unit 14, the solenoid valve 13 has an output port opened and closed and two input ports selectively opened and closed. Thereby, either the developer DE or the pure water PW is selectively supplied into the pipe 12 via the output port.

【0029】一方、ノズルアーム11の他端にはノズル
15が取り付けられ、このノズル15の先端からはパイ
プ12及びノズルアーム11を介して供給される現像液
DE又は純水PWが散布されるようになされている。
On the other hand, a nozzle 15 is attached to the other end of the nozzle arm 11, and the developer DE or pure water PW supplied through the pipe 12 and the nozzle arm 11 is sprayed from the tip of the nozzle 15. Has been done.

【0030】かくしてアーム支持部10Aの回転駆動に
よつてノズル15がレジストマスターガラス板2の上方
に配置された後、パイプ12、ノズルアーム11及びノ
ズル15を介して現像液DE又は純水PWがレジストマ
スターガラス板2のレジスト層2A上に散布される。こ
の後、散布された現像液DE又は純水PWはレジストマ
スターガラス板2上を流下した後、チヤンバ9内で回収
される。
Thus, after the nozzle 15 is arranged above the resist master glass plate 2 by the rotational driving of the arm supporting portion 10A, the developing solution DE or pure water PW is passed through the pipe 12, the nozzle arm 11 and the nozzle 15. It is sprayed on the resist layer 2A of the resist master glass plate 2. After that, the sprayed developing solution DE or pure water PW flows down on the resist master glass plate 2 and is then collected in the chamber 9.

【0031】ところで、レジストマスターガラス板2の
レジスト層2Aには、予めマスターコードカツター等に
よつて、所望の記録信号に応じて露光処理されたピツト
及び又はグルーブ相当部の潜像に見合う領域(以下、こ
れを記録信号領域と呼ぶ)が形成されている。さらに当
該記録信号領域とは別の所定領域でなり、かつ当該記録
信号と同一又は類似でなる信号に応じて露光処理された
ピツト及び又はグルーブ相当部の潜像に見合う領域(以
下、これを現像モニタ領域と呼ぶ)が形成されている。
By the way, in the resist layer 2A of the resist master glass plate 2, a region corresponding to the latent image of the pits and / or grooves corresponding to the pits and / or the grooves which have been subjected to the exposure processing in advance by a master code cutter or the like according to a desired recording signal. (Hereinafter, this is referred to as a recording signal area) is formed. Further, it is a predetermined area different from the recording signal area, and an area corresponding to the latent image of the pit and / or the groove corresponding to the exposed portion according to the signal which is the same as or similar to the recording signal (hereinafter, this area is developed. A monitor area) is formed.

【0032】またレジストマスターガラス板2の上方の
所定位置には、コヒーレント長の短い半導体レーザでな
るレーザ光源16が設けられ、当該レーザ光源16から
レーザ光L1がレジストマスターガラス板2のレジスト
層2Aに形成された現像モニタ領域に照射されるように
なされている。
A laser light source 16 made of a semiconductor laser having a short coherence length is provided at a predetermined position above the resist master glass plate 2, and the laser light L1 from the laser light source 16 causes the resist layer 2A of the resist master glass plate 2 to be irradiated. It is adapted to irradiate the development monitor area formed in the above.

【0033】因みに、レーザ光源16は、レジストマス
ターガラス板の表面の大きさ、すわなち当該レジストマ
スターガラス板から得られるスタンパを金型として成形
してなるデイスク状記録媒体の種類にかかわらず、現像
モニタ領域が常に一定の半径位置となるように固設され
ている。
Incidentally, regardless of the size of the surface of the resist master glass plate, that is, the type of the disk-shaped recording medium formed by molding the stamper obtained from the resist master glass plate as a mold, the laser light source 16 The development monitor area is fixed so as to always have a constant radial position.

【0034】一方、レジストマスターガラス板2に対す
るレーザ光源16の反対側における当該レーザ光源16
から発射されたレーザ光L1の光路上及び当該光路外の
所定位置には、それぞれ第1及び第2のデイテクタ17
及び18が設けられている。
On the other hand, the laser light source 16 on the side opposite to the laser light source 16 with respect to the resist master glass plate 2.
The first and second detectors 17 are provided at predetermined positions on the optical path of the laser light L1 emitted from the optical path and outside the optical path, respectively.
And 18 are provided.

【0035】すなわち現像モニタ領域に未だピツト及び
又はグルーブ相当部が形成されていない場合には、レー
ザ光源16から発射されたレーザ光L1の一部が現像モ
ニタ領域で回折されることなくそのまま0次回折光L1
Aとしてレジストマスターガラス板2を透過した後、第
1のデイテクタ17に入射される。
That is, when the pit and / or the groove corresponding portion is not yet formed in the development monitor area, a part of the laser beam L1 emitted from the laser light source 16 is not diffracted in the development monitor area and is directly processed for the next time. Origami L1
After passing through the resist master glass plate 2 as A, it is incident on the first detector 17.

【0036】一方、現像モニタ領域にピツト及び又はグ
ルーブ相当部が形成されつつある場合には、レーザ光源
16から発射されたレーザ光L1の一部が現像モニタ領
域で所定方向に回折されることから、この回折されたレ
ーザ光L1のうちの1次回折光L1Bが、レジストマス
ターガラス板2を透過した後、第2のデイテクタ18に
入射される。
On the other hand, when a pit and / or a groove corresponding portion is being formed in the development monitor area, a part of the laser beam L1 emitted from the laser light source 16 is diffracted in the predetermined direction in the development monitor area. The first-order diffracted light L1B of the diffracted laser light L1 is incident on the second detector 18 after passing through the resist master glass plate 2.

【0037】この場合、まず第2のデイテクタ18は、
入射された1次回折光L1Bの光量を検出した後、当該
検出結果でなる電気信号S1を比較部19に送出する。
この比較部19には、電気信号S1と外部から所定の信
号レベルでなる現像停止レベル信号S2とが入力され、
当該電気信号S1の信号レベルと現像停止レベル信号S
2の信号レベルとを比較することにより、当該比較結果
でなる比較信号S3を制御部14に送出する。
In this case, first, the second detector 18 is
After detecting the amount of the incident first-order diffracted light L1B, an electric signal S1 as a result of the detection is sent to the comparing unit 19.
The electrical signal S1 and a development stop level signal S2 having a predetermined signal level from the outside are input to the comparison unit 19,
The signal level of the electric signal S1 and the development stop level signal S
By comparing the signal level with the signal level of No. 2, a comparison signal S3, which is the result of the comparison, is sent to the control unit 14.

【0038】制御部14は、比較信号S3に基づいて、
電気信号S1の信号レベルが現像停止レベル信号S2の
信号レベルに達したときに現像停止信号S4を電磁弁1
3に送出する。このときレジストマスターガラス板2の
レジスト層2A上には現像液DEが散布されているた
め、電磁弁13は現像液DEの入力口が開動作されると
共に純水PWの入力口が閉動作された状態にある。
The control section 14 determines, based on the comparison signal S3,
When the signal level of the electric signal S1 reaches the signal level of the development stop level signal S2, the development stop signal S4 is sent to the solenoid valve 1
3 At this time, since the developing solution DE is scattered on the resist layer 2A of the resist master glass plate 2, the electromagnetic valve 13 has the opening for developing solution DE opened and the opening for pure water PW closed. It is in a broken state.

【0039】この状態において、電磁弁13に現像停止
信号S4が入力されると、当該電磁弁13は現像液DE
の入力口が閉動作にされると共に純水PWの入力口が開
動作された状態に切り替えられる。この結果、レジスト
マスターガラス板2のレジスト層2A上には純水PWが
散布されることにより、当該レジスト層2A上に散布さ
れた現像液DEが純水PWによつて洗い流され、かくし
て現像の進行が停止されることとなる。
In this state, when the development stop signal S4 is input to the solenoid valve 13, the solenoid valve 13 causes the developer DE to be discharged.
Are closed and the input port of pure water PW is opened. As a result, the pure water PW is sprinkled on the resist layer 2A of the resist master glass plate 2, so that the developing solution DE sprinkled on the resist layer 2A is washed away by the pure water PW, thus developing Progress will be stopped.

【0040】これに対して、第1のデイテクタ17は、
入射された0次回折光L1Aの光量を検出した後、当該
検出結果でなる電気信号S5を光量制御部20内の比較
部21に送出する。この光量制御部20において、比較
部19には、電気信号S5と外部から所定の信号レベル
でなる基準信号S6とが入力され、当該電気信号S5の
信号レベルと基準信号S6の信号レベルとを比較するこ
とにより、当該比較結果でなる比較信号S7を制御部2
2に送出する。
On the other hand, the first detector 17 is
After detecting the light amount of the incident zero-order diffracted light L1A, an electric signal S5, which is the detection result, is sent to the comparison unit 21 in the light amount control unit 20. In the light quantity control unit 20, the electric signal S5 and a reference signal S6 having a predetermined signal level from the outside are input to the comparison unit 19, and the signal level of the electric signal S5 is compared with the signal level of the reference signal S6. By doing so, the comparison signal S7, which is the result of the comparison, is
Send to 2.

【0041】制御部14は、比較信号S7に基づいて、
電気信号S5の信号レベルと基準信号S6の信号レベル
との差分を解消して同一の信号レベルとなるようにレー
ザドライバ23に制御信号S8を送出する。
The control section 14 determines, based on the comparison signal S7,
The control signal S8 is sent to the laser driver 23 so that the difference between the signal level of the electric signal S5 and the signal level of the reference signal S6 is eliminated and the signal level becomes the same.

【0042】レーザドライバ23は制御信号S8に基づ
いてレーザ光源16を駆動制御することにより、当該レ
ーザ光源16から発射されるレーザ光L1の光量を常に
安定した状態に保つようになされている。この結果、レ
ーザ光源16からレジストマスターガラス板2のレジス
ト層2Aに形成された現像モニタ領域に至るまでのレー
ザ光L1の光路上に、浮遊する塵埃や霧状の現像液のゆ
らぎ等の外乱要素が存在する場合でも、1次回折光L1
Bの光量を乱れのない安定した状態に保つことができ、
かくして第2のデイテクタ18において1次回折光L1
Bの光量の検出精度が劣化することを防止することがで
きる。
The laser driver 23 drives and controls the laser light source 16 based on the control signal S8, so that the light amount of the laser light L1 emitted from the laser light source 16 is always kept stable. As a result, disturbance elements such as fluctuations of floating dust or mist-like developer on the optical path of the laser beam L1 from the laser light source 16 to the development monitor area formed in the resist layer 2A of the resist master glass plate 2. Is present, the first-order diffracted light L1
It is possible to keep the light quantity of B in a stable state without disturbance,
Thus, in the second detector 18, the first-order diffracted light L1
It is possible to prevent the detection accuracy of the light amount of B from being deteriorated.

【0043】なお、このようにしてレジスト層2Aに形
成されたピツト及び又はグルーブ相当部を有するレジス
トマスターガラス板2の複製をニツケル等でなる導電化
膜層を形成した後、電鋳によつてメツキすることにより
スタンパを作製する。このスタンパを金型として用い
て、PMMA(ポリメチルメタクリレート)又はPC
(ポリカーボネイト)等でなる透明樹脂に成形を行うこ
とにより、ピツト及び又はグルーブが転写された透明基
盤を形成する。これらピツト及び又はグルーブを含む表
面には光を反射する金属膜又は光磁気膜等が設けられ、
さらに保護膜が信号ピツトや反射膜を保護するために設
けられ、かくしてCD、LD又はMO等のデイスク状記
録媒体が製造される。
After duplicating the resist master glass plate 2 having the pits and / or grooves corresponding to the resist layer 2A thus formed, a conductive film layer made of nickel or the like is formed, and then electroforming is performed. A stamper is manufactured by plating. Using this stamper as a mold, PMMA (polymethylmethacrylate) or PC
By molding a transparent resin such as (polycarbonate), a transparent substrate having pits and / or grooves transferred thereto is formed. A metal film or a magneto-optical film that reflects light is provided on the surface including these pits and / or grooves.
Further, a protective film is provided to protect the signal pits and the reflective film, and thus a disc-shaped recording medium such as a CD, LD or MO is manufactured.

【0044】因みに、図2に示すようにレジストマスタ
ーガラス板2のレジスト層2Aには記録信号領域A1
び現像モニタ領域A2 が形成されている。この結果、記
録信号領域A1 のピツトが所定の断面寸法になり、現像
モニタ領域A2 のピツトも所定の断面寸法になり、レジ
ストマスターガラス板2のレジスト層2Aには図2に示
すような干渉のパターンが現れる。
Incidentally, as shown in FIG. 2, a recording signal area A 1 and a development monitor area A 2 are formed in the resist layer 2A of the resist master glass plate 2. As a result, the pits of the recording signal area A 1 have a predetermined cross-sectional dimension, the pits of the development monitor area A 2 also have a predetermined cross-sectional dimension, and the resist layer 2A of the resist master glass plate 2 has the same shape as shown in FIG. A pattern of interference appears.

【0045】(2)実施例の動作及び効果 以上の構成において、レジストマスターガラス板2のレ
ジスト層2Aには、所望の記録信号に応じて露光処理さ
れたピツト及び又はグルーブ相当部の潜像が記録信号領
域として予め形成されると共に、当該記録信号領域とは
別の所定領域には当該記録信号と同一又は類似でなる信
号に応じて露光処理されたピツト及び又はグルーブ相当
部の潜像が現像モニタ領域として予め形成されている。
(2) Operation and effects of the embodiment With the above-mentioned structure, the resist layer 2A of the resist master glass plate 2 has a latent image of a portion corresponding to a pit and / or a groove, which has been exposed according to a desired recording signal. A latent image of a pit and / or a groove corresponding portion which has been previously formed as a recording signal area and which has been subjected to an exposure process in accordance with a signal which is the same as or similar to the recording signal is developed in a predetermined area different from the recording signal area. It is formed in advance as a monitor area.

【0046】この場合、レーザ光源16から発射される
モニタ用のレーザ光L1がレジストマスターガラス板2
のレジスト層2Aに形成された現像モニタ領域に照射さ
れると共に、当該現像モニタ領域で回折されることなく
透過した0次回折光L1A及び当該現像モニタ領域で所
定方向に回折された1次回折光L1Bがそれぞれ第1及
び第2のデイテクタ17及び18で受光し得るように、
レーザ光源16と第1及び第2のデイテクタ17及び1
8とがそれぞれ所定位置に固設されている。
In this case, the laser light L1 for monitoring emitted from the laser light source 16 is the resist master glass plate 2
The 0th-order diffracted light L1A, which is transmitted to the development monitor region formed on the resist layer 2A without being diffracted in the development monitor region and the 1st-order diffracted light L1B diffracted in a predetermined direction in the development monitor region, In order to receive light by the first and second detectors 17 and 18, respectively,
Laser light source 16 and first and second detectors 17 and 1
8 and 8 are fixed at predetermined positions.

【0047】ここで現像装置1においては、まずこのレ
ジストマスターガラス板2をターンテーブル8に載置し
て回転させながらノズル15から純水PWを散布してレ
ジスト層2Aを水洗する。この後、ノズルアーム11を
回転させてノズル15をレジスト層2A上の所定位置に
停止させると共に、レーザ光源16からレーザ光L1を
レジスト層2Aに形成された現像モニタ領域に照射す
る。
Here, in the developing device 1, first, the resist master glass plate 2 is placed on the turntable 8 and rotated while spraying pure water PW from the nozzles 15 to wash the resist layer 2A with water. Then, the nozzle arm 11 is rotated to stop the nozzle 15 at a predetermined position on the resist layer 2A, and the laser light L1 is emitted from the laser light source 16 to the development monitor area formed on the resist layer 2A.

【0048】続いてターンテーブル8の回転に応じてレ
ジストマスターガラス板2を回転させながら、ノズル1
5から現像液DEをレジスト層2A上に散布する。この
状態において、現像モニタ領域に形成された潜像でなる
ピツト及び又はグルーブ相当部が所望の断面寸法となる
と、これと同時に第2のデイテクタ18から出力される
電気信号S1の信号レベルが現像停止レベル信号S2の
信号レベルに達することとなる。このとき電磁弁13が
制御部13によつて切替え制御され、現像液DEに代わ
つてノズル15からは純水PWがレジスト層2A上に散
布されることにより、現像液DEを洗い流して現像を停
止させる。
Subsequently, while rotating the resist master glass plate 2 in accordance with the rotation of the turntable 8, the nozzle 1
The developer DE from 5 is sprinkled on the resist layer 2A. In this state, when the pit and / or the groove corresponding portion formed of the latent image formed in the development monitor area has a desired cross-sectional dimension, at the same time, the signal level of the electric signal S1 output from the second detector 18 stops development. The signal level of the level signal S2 is reached. At this time, the solenoid valve 13 is controlled to be switched by the control unit 13, and pure water PW is sprayed from the nozzle 15 instead of the developing solution DE onto the resist layer 2A to wash away the developing solution DE and stop the development. Let

【0049】このようにピツト及び又はグルーブ相当部
が所望の断面寸法となるときに現像を停止させる動作
を、記録信号領域ではなく現像モニタ領域で回折された
1次回折光L1Bの光量を検出することによつて行うこ
とにより、レジストマスターガラス板の表面の大きさに
かかわらず、常に現像を停止させる動作を行うことがで
きる。この結果、レジストマスターガラス板の表面の大
きさに応じてレーザ光源16と第1及び第2のデイテク
タ17及び18の配置を移動させる煩雑さを回避するこ
とができる。
As described above, the operation of stopping the development when the portion corresponding to the pit and / or the groove has a desired sectional size is detected by detecting the light amount of the first-order diffracted light L1B diffracted in the development monitor area, not in the recording signal area. By doing so, regardless of the size of the surface of the resist master glass plate, it is possible to always perform the operation of stopping the development. As a result, it is possible to avoid the complexity of moving the arrangement of the laser light source 16 and the first and second detectors 17 and 18 according to the size of the surface of the resist master glass plate.

【0050】以上の構成によれば、レジストマスターガ
ラス板2のレジスト層2Aに、所望の記録信号に応じた
ピツト及び又はグルーブ相当部の潜像でなる記録信号領
域のみならず、当該記録信号領域とは別の所定領域に当
該記録信号と同一又は類似でなる信号に応じたピツト及
び又はグルーブ相当部の潜像でなる現像モニタ領域も形
成しておき、当該現像モニタ領域で回折された1次回折
光L1Bの光量の検出結果に基づいて現像を停止させる
ようにしたことにより、デイスク状記録媒体の種類にか
かわらず、最適な形状でなるピツト及び又はグルーブを
精度良く形成することができる。
According to the above construction, the resist layer 2A of the resist master glass plate 2 is not limited to the recording signal area composed of the latent image of the pit and / or the groove corresponding to the desired recording signal, and the recording signal area. A development monitor area, which is a latent image of a pit and / or a groove corresponding to a signal that is the same as or similar to the recording signal, is also formed in a predetermined area different from By stopping the development based on the detection result of the light amount of the folding light L1B, the pits and / or the grooves having the optimum shape can be accurately formed regardless of the type of the disk-shaped recording medium.

【0051】(3)他の実施例 なお上述の実施例においては、マスターコードカツター
等によつて予めレジスト層に所望の記録信号と同一又は
類似でなる信号に応じて露光処理されたピツト及び又は
グルーブ相当部の潜像を現像モニタ領域として形成する
ようにした場合について述べたが、本発明はこれに限ら
ず、現像モニタ領域を形成するための露光処理工程にお
いて、所望の記録信号と同一又は類似でなる信号に基づ
く露光の光量(以下、これを記録光量と呼ぶ)を変化さ
せるようにしても良い。
(3) Other Embodiments In the above-mentioned embodiments, the pits and the pits which have been previously subjected to the exposure processing by the master code cutter or the like according to the signal which is the same as or similar to the desired recording signal on the resist layer. Alternatively, the case where the latent image corresponding to the groove is formed as the development monitor area has been described, but the present invention is not limited to this, and in the exposure processing step for forming the development monitor area, the same as the desired recording signal is obtained. Alternatively, the exposure light amount (hereinafter, referred to as recording light amount) based on a similar signal may be changed.

【0052】すなわち図3に示すように、露光処理工程
において現像モニタ領域の記録光量をそれぞれ1.0
〔mJ/m〕、1.2〔mJ/m〕、1.5〔mJ/m〕及び1.8
〔mJ/m〕と設定して露光した場合、現像処理工程におい
て各々の現像時間の経過に伴う現像停止レベル信号S2
の信号レベルは各記録光量の大きさに比例して増加する
傾向にある。
That is, as shown in FIG. 3, in the exposure process, the recording light amount in the development monitor area is set to 1.0.
[MJ / m], 1.2 [mJ / m], 1.5 [mJ / m] and 1.8
When exposure is performed by setting [mJ / m], the development stop level signal S2 with the lapse of each development time in the development processing step.
Signal level tends to increase in proportion to the magnitude of each recording light quantity.

【0053】このグラフによれば、現像時間を30秒と
した場合、現像モニタ領域の記録光量が1.0〔mJ/
m〕、1.2〔mJ/m〕、1.5〔mJ/m〕及び1.8〔mJ/
m〕のとき、これらに対応する現像停止レベル信号S2
の信号レベルVb1 、Vb2 、Vb3 及びVb4 は、そ
れぞれ2.4〔V〕、4.2〔V〕、6.2〔V〕及び
6.8〔V〕となることが読み取れる。これにより現像
モニタ領域の各記録光量における現像停止レベル信号S
2の信号レベルが現像時間に依存していることがわか
る。
According to this graph, when the developing time is 30 seconds, the recording light amount in the developing monitor area is 1.0 [mJ /
m], 1.2 [mJ / m], 1.5 [mJ / m] and 1.8 [mJ / m
m], the development stop level signal S2 corresponding to these
It can be read that the signal levels Vb 1 , Vb 2 , Vb 3 and Vb 4 of the above are 2.4 [V], 4.2 [V], 6.2 [V] and 6.8 [V], respectively. As a result, the development stop level signal S for each recording light amount in the development monitor area
It can be seen that the signal level of 2 depends on the development time.

【0054】かくして現像モニタ領域の記録光量を変化
させることにより、当該記録光量の変化に応じて現像停
止信号S2の信号レベルを変化させることができる。と
ころで実際上、デイスク状記録媒体の種類に応じてそれ
ぞれ厚みが異なるのが一般的であり、現像処理工程にお
いてはレジスト層2Aの厚みに比例して当該レジスト層
2Aの現像モニタ領域で回折された1次回折光L1Bの
光量が増大する特徴がある。
Thus, by changing the recording light amount in the development monitor area, the signal level of the development stop signal S2 can be changed according to the change in the recording light amount. By the way, in practice, the thickness is generally different depending on the type of the disk-shaped recording medium, and in the development process, the light is diffracted in the development monitor region of the resist layer 2A in proportion to the thickness of the resist layer 2A. There is a feature that the light quantity of the first-order diffracted light L1B increases.

【0055】このため最適な形状でなるピツト及び又は
グルーブ相当部を形成するにあたつて、現像モニタ領域
の記録光量を変化に伴つて現像停止信号S2の信号レベ
ルを変化させることにより、1次回折光L1Bの光量の
変化をある程度抑えることができ、この結果第2のデイ
テクタ18のダイナミツクレンジを大きくする必要がな
くて済む。
Therefore, in forming the pit and / or the groove corresponding portion having the optimum shape, the signal level of the development stop signal S2 is changed in accordance with the change of the recording light amount in the development monitor area, so that the next time The change in the light amount of the folding light L1B can be suppressed to some extent, and as a result, it is not necessary to increase the dynamic range of the second detector 18.

【0056】また露光処理工程において現像モニタ領域
の記録光量を変化させるのみならず、現像モニタ領域に
形成されたピツトの割合(例えばデユーテイ比等)を変
化させることによつても、1次回折光L1Bの光量の変
化をある程度抑えることができ、上述の場合と同様の効
果を得ることができる。
Further, not only is the amount of recording light in the development monitor area changed in the exposure processing step, but the proportion of the pits formed in the development monitor area (for example, the duty ratio) is also changed. The change in the amount of light can be suppressed to some extent, and the same effect as the above case can be obtained.

【0057】さらに上述の実施例においては、対象とな
るデイスク状記録媒体を特に限定することなく、通常の
記録密度でなるCD等のデイスク状記録媒体に対応する
レジストマスターガラス板に現像装置1を適用した場合
について述べたが、本発明はこれに限らず、例えば2倍
密度又は4倍密度で記録されたMOやDVD等の高密度
記録されたデイスク状記録媒体に対応するレジストマス
ターガラス板に現像装置1を適用するようにしても良
い。
Further, in the above-mentioned embodiment, the developing device 1 is mounted on a resist master glass plate corresponding to a disk-shaped recording medium such as a CD having a normal recording density without particularly limiting the target disk-shaped recording medium. The case of application is described, but the present invention is not limited to this, and for example, a resist master glass plate corresponding to a high-density recorded disk-shaped recording medium such as MO or DVD recorded with double density or quadruple density. The developing device 1 may be applied.

【0058】この場合、一般的に通常の記録密度ではト
ラツクピツチが1.6〔μm〕となるが、高密度記録さ
れたデイスク状記録媒体に対応するレジストマスターガ
ラス板では、現像モニタ領域におけるピツト及び又はグ
ルーブ相当部のトラツクピツチが異なるため、当該ピツ
ト及び又はグルーブ相当部で回折された1次回折光L1
Bの回折角度が変化することとなる。このため1次回折
光L1Bの回折角度の変化の度合いによつては、第2の
デイテクタ18で受光され得なくなるおそれがある。
In this case, generally, the track pitch is 1.6 [μm] at the normal recording density, but in the resist master glass plate corresponding to the disk-shaped recording medium on which high density recording is performed, the pitch and Or, since the track pitch of the groove-corresponding portion is different, the first-order diffracted light L1 diffracted by the pit and / or the groove-corresponding portion.
The diffraction angle of B will change. Therefore, depending on the degree of change in the diffraction angle of the first-order diffracted light L1B, the second detector 18 may not be able to receive the light.

【0059】かかる問題を解決すべく、現像モニタ領域
は記録信号領域とは別の領域でなることから、露光処理
工程において当該現像モニタ領域におけるピツト及び又
はグルーブ相当部のトラツクピツチを約1.5〜1.7
〔μm〕に設定して露光処理しておくことにより、1次
回折光L1Bを第2のデイテクタ18で受光することが
できる。またこれにより第2のデイテクタ18及びレー
ザ光源16の配置を移動する煩雑さを回避することがで
き、かくして異なるトラツクピツチの各種の光デイスク
フオーマツトに対して汎用性を増すことができる。
In order to solve such a problem, the development monitor area is different from the recording signal area. Therefore, in the exposure processing step, the track pitch of the portion corresponding to the groove and groove in the development monitor area is about 1.5 to. 1.7
The first-order diffracted light L1B can be received by the second detector 18 by setting it to [μm] and performing exposure processing. Further, this makes it possible to avoid the complexity of moving the arrangement of the second detector 18 and the laser light source 16, and thus to increase the versatility for various optical disk formats of different track pitches.

【0060】さらに上述の実施例においては、現像装置
1では1次回折光L1Bの光量が予め設定された現像停
止レベル信号S2の信号レベルに対応する所定の光量に
達したときに現像を停止するようにした場合について述
べたが、本発明はこれに限らず、1次回折光L1Bの光
量が時間の経過に伴つて増加しないものについては所定
時間経過後に当該1次回折光L1Bの光量を検出するよ
うにしても良い。
Further, in the above-described embodiment, in the developing device 1, the development is stopped when the light amount of the first-order diffracted light L1B reaches the predetermined light amount corresponding to the preset signal level of the development stop level signal S2. However, the present invention is not limited to this, and in the case where the light quantity of the first-order diffracted light L1B does not increase with the passage of time, the light quantity of the first-order diffracted light L1B is detected after a lapse of a predetermined time. May be.

【0061】具体的に例えばMD等の光磁気デイスクで
なるデイスク状記録媒体では、露光処理工程においてレ
ジストマスターガラス板2のレジスト層2Aの現像モニ
タ領域にはワイドグルーブが潜像される。このワイドグ
ルーブで回折された1次回折光L1Bの光量は、例えば
図4に示すように第2のデイテクタ18に入射開始時点
0 から増加して、次第に増加率が低くなり、極大値を
経た後、次第に減少して時点t3 で予め設定された所定
の光量に達する。
Specifically, in a disk-shaped recording medium such as a magneto-optical disk such as MD, a wide groove is latently imaged in the development monitor area of the resist layer 2A of the resist master glass plate 2 in the exposure process. The light quantity of the first-order diffracted light L1B diffracted by the wide groove increases from the time t 0 of incidence on the second detector 18 as shown in FIG. 4, for example, and the increase rate gradually decreases, and after reaching the maximum value. , And gradually decreases to reach a predetermined light amount set in advance at time t 3 .

【0062】この場合、時点t1 においても時点t3
同じ信号レベルVbとなり、現像装置1を用いた現像方
法では時点t1 で現像を停止するおそれがある。このた
め時点t0 から時点t2 までの時間をマスク時間として
比較部19において予め設定することにより、当該マス
ク時間経過後に1次回折光L1Bの光量を検出するよう
にする。
In this case, the signal level Vb becomes the same as that at the time point t 3 at the time point t 1 , and the developing method using the developing device 1 may stop the development at the time point t 1 . Therefore, by setting the time from the time point t 0 to the time point t 2 as the mask time in the comparison unit 19 in advance, the light amount of the first-order diffracted light L1B is detected after the mask time has elapsed.

【0063】さらに上述の実施例においては、光量制御
部20を図1に示すような構成でなるようにした場合に
ついて述べたが、本発明はこれに限らず、図1との対応
部分に同一符号を付して示した図5のような光量制御部
31を用いても良い。
Further, in the above-described embodiment, the case where the light quantity control unit 20 is configured as shown in FIG. 1 has been described, but the present invention is not limited to this, and is the same as the corresponding portion to FIG. You may use the light quantity control part 31 like FIG. 5 which attached and shown the code | symbol.

【0064】この場合図5における現像装置30は、光
量制御部31以外はほぼ図1に示す現像装置1とほぼ同
様の構成からなる。すなわち光量制御部31の比較部3
2には、第1のデイテクタから0次回折光L1Aの光量
の検出結果でなる電気信号S5が入力されると共に、外
部から所定の信号レベルでなる基準信号S11とが入力
される。これにより比較部32は、電気信号S5の信号
レベルと基準信号S11の信号レベルとを比較すること
により、当該比較結果でなる比較信号S10を制御部3
3に送出する。
In this case, the developing device 30 in FIG. 5 has substantially the same configuration as that of the developing device 1 shown in FIG. 1 except for the light quantity control section 31. That is, the comparison unit 3 of the light amount control unit 31
An electric signal S5, which is the detection result of the light quantity of the 0th-order diffracted light L1A, is input to the second detector 2, and a reference signal S11, which is a predetermined signal level, is input from the outside. As a result, the comparison unit 32 compares the signal level of the electric signal S5 with the signal level of the reference signal S11, so that the comparison signal S10, which is the comparison result, is output to the control unit 3.
3

【0065】制御部33は、比較信号S10に基づい
て、電気信号S5の信号レベルと基準信号S11の信号
レベルとの差分を解消して同一の信号レベルとなるよう
にモジユレータドライバ34に制御信号S12を送出す
る。ここで、レーザ光源16からレジストマスターガラ
ス板2のレジスト層2Aに形成された現像モニタ領域に
至るまでのレーザ光L1の光路上に、例えばEO(電気
光学素子)、液晶及びAOM(音響光学偏向器)等でな
るモジユレータ35が取り付けられている。
Based on the comparison signal S10, the control unit 33 controls the modulator driver 34 so as to eliminate the difference between the signal level of the electric signal S5 and the signal level of the reference signal S11 so as to obtain the same signal level. The signal S12 is transmitted. Here, for example, EO (electro-optical element), liquid crystal, and AOM (acousto-optical deflection) are provided on the optical path of the laser beam L1 from the laser light source 16 to the development monitor region formed in the resist layer 2A of the resist master glass plate 2. A module 35 such as a container is attached.

【0066】これによりモジユレータドライバ34は、
制御信号S12に基づいてレーザ光源16及びモジユレ
ータ35を駆動制御することにより、レーザ光源16か
らレジストマスターガラス板2のレジスト層2Aに形成
された現像モニタ領域に至るまでのレーザ光L1の光路
上に、浮遊する塵埃や霧状の現像液のゆらぎ等の外乱要
素が存在する場合でも、1次回折光L1Bの光量を乱れ
のない安定した状態に保つことができ、かくして第2の
デイテクタ18において1次回折光L1Bの光量の検出
精度が劣化することを防止することができる。
As a result, the module driver 34 is
By controlling the driving of the laser light source 16 and the modulator 35 based on the control signal S12, the laser light L1 from the laser light source 16 to the development monitor region formed in the resist layer 2A of the resist master glass plate 2 is on the optical path. Even in the presence of disturbance elements such as floating dust and fluctuations of mist-like developer, the light quantity of the first-order diffracted light L1B can be maintained in a stable state without disturbance, and thus the second detector 18 can be used for the next time. It is possible to prevent the detection accuracy of the light amount of the folding light L1B from deteriorating.

【0067】さらにこの場合、実施例のように半導体レ
ーザのみならず、ヘリウム・ネオン(He−Ne)レーザ、
ヘリウム・カドミウム(He−Cd)レーザ、アルゴン(A
r)レーザ及びクリプトンレーザ(Kr+ )レーザ等のガ
スレーザを用いても良い。この場合ガスレーザは、半導
体レーザに比べて制御応答性の悪いレーザ光源でなる
が、モジユレータ35を用いたことにより現像装置30
において適用し得ることとなる。
Further, in this case, not only the semiconductor laser as in the embodiment but also a helium-neon (He-Ne) laser,
Helium-Cadmium (He-Cd) laser, Argon (A
A gas laser such as r) laser and krypton laser (Kr + ) laser may be used. In this case, the gas laser is a laser light source whose control response is poorer than that of the semiconductor laser, but by using the modulator 35, the developing device 30
Will be applicable in.

【0068】[0068]

【発明の効果】上述のように本発明によれば、レジスト
マスタ板のレジスト層に、所望の記録信号に応じた第1
の露光部のみならず、当該第1の露光部とは別の所定領
域に当該記録信号と同一又は類似でなる信号に応じた第
2の露光部も形成しておき、当該第2の露光部で回折さ
れた回折光の光量の検出結果に基づいて現像を停止させ
るようにしたことにより、デイスク状記録媒体の種類に
かかわらず、最適な形状でなるピツト及び又はグルーブ
を精度良く形成し得る現像方法、現像装置及びデイスク
状記録媒体を実現することができる。
As described above, according to the present invention, the first layer corresponding to a desired recording signal is formed on the resist layer of the resist master plate.
Not only the second exposure unit, but also a second exposure unit corresponding to a signal that is the same as or similar to the recording signal is formed in a predetermined area different from the first exposure unit. By stopping the development based on the detection result of the amount of the diffracted light diffracted by, it is possible to accurately form the pits and / or grooves having the optimum shape regardless of the type of the disk-shaped recording medium. The method, the developing device, and the disk-shaped recording medium can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】実施例による現像装置の全体構成を示す部分的
略線図である。
FIG. 1 is a partial schematic diagram showing an overall configuration of a developing device according to an embodiment.

【図2】実施例による現像モニタ領域の形成状態を示す
略線図である。
FIG. 2 is a schematic diagram showing a formation state of a development monitor area according to an embodiment.

【図3】他の実施例による現像モニタ領域の記録光量の
特性を表すグラフである。
FIG. 3 is a graph showing characteristics of recording light amount in a development monitor area according to another embodiment.

【図4】他の実施例におけるマスク時間の説明に供する
グラフである。
FIG. 4 is a graph for explaining a mask time in another example.

【図5】他の実施例による現像装置の全体構成を示す部
分的略線図である。
FIG. 5 is a partial schematic diagram showing an overall configuration of a developing device according to another embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1、30……現像装置、2……レジストマスターガラス
板、2A……レジスト層、3……回転駆動部、13……
電磁弁、14……制御部、15……ノズル、16……レ
ーザ光源、17……第1のデイテクタ、18……第2の
デイテクタ、19……比較部、20、31……光量制御
部、DE……現像液、PW……純水。
1, 30 ... Developing device, 2 ... Resist master glass plate, 2A ... Resist layer, 3 ... Rotation drive unit, 13 ...
Solenoid valve, 14 ... Control unit, 15 ... Nozzle, 16 ... Laser light source, 17 ... First detector, 18 ... Second detector, 19 ... Comparison unit, 20, 31 ... Light quantity control unit , DE ... Developer, PW ... Pure water.

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】基板の一面上にフオトレジストを塗布する
ことによりレジスト層が形成され、かつ上記レジスト層
が記録信号及び当該記録信号と同一又は類似でなる信号
に基づいて露光されてなるレジストマスタ板を回転させ
ると共に、 上記レジスト層に現像液を供給して当該現像液で上記レ
ジスト層の上記記録信号に基づく第1の露光部と、上記
記録信号と同一又は類似でなる信号に基づく第2の露光
部とを溶かしながら、当該第2の露光部にレーザ光を照
射して得られる回折光の光量を検出して、当該検出結果
に基づいて現像を停止することを特徴とする現像方法。
1. A resist master in which a resist layer is formed by applying a photoresist on one surface of a substrate, and the resist layer is exposed on the basis of a recording signal and a signal which is the same as or similar to the recording signal. While the plate is rotated, a developing solution is supplied to the resist layer so that the developing solution supplies the developing solution with the first exposing section based on the recording signal of the resist layer and the second exposing section based on the same or similar signal as the recording signal. The developing method, wherein the amount of diffracted light obtained by irradiating the second exposed portion with a laser beam is detected while melting the exposed portion, and the development is stopped based on the detection result.
【請求項2】上記第2の露光部は、上記レジスト層の所
定の半径位置に設けられたことを特徴とする請求項1に
記載の現像方法。
2. The developing method according to claim 1, wherein the second exposed portion is provided at a predetermined radial position of the resist layer.
【請求項3】上記第2の露光部は、上記記録信号と同一
又は類似でなる信号に基づく露光の光量分布が均一とな
るように上記レジスト層に露光されてなることを特徴と
する請求項1に記載の現像方法。
3. The second exposure section is formed by exposing the resist layer so that a light amount distribution of exposure based on a signal that is the same as or similar to the recording signal becomes uniform. 1. The developing method according to 1.
【請求項4】上記記録信号と同一又は類似でなる信号の
ピツトの割合を変化して露光することにより、上記第2
の露光部で回折される上記回折光の光量を変化させるこ
とを特徴とする請求項1に記載の現像方法。
4. The second signal is obtained by changing the ratio of the pits of the signal which is the same as or similar to the recording signal and exposing the second signal.
2. The developing method according to claim 1, wherein the light amount of the diffracted light diffracted by the exposed portion is changed.
【請求項5】上記記録信号と同一又は類似でなる信号の
トラツクピツチを変化して露光することにより、上記第
2の露光部で回折される上記回折光を検出位置に照射さ
せることを特徴とする請求項1に記載の現像方法。
5. A detection position is irradiated with the diffracted light diffracted by the second exposure section by changing the track pitch of a signal that is the same as or similar to the recording signal to perform exposure. The developing method according to claim 1.
【請求項6】上記第2の露光部で回折される上記回折光
の光量を検出するタイミングを所定時間遅延させること
により、上記第1の露光部に所望のパターン形状を形成
させることを特徴とする請求項1に記載の現像方法。
6. A desired pattern shape is formed on the first exposure section by delaying a timing for detecting a light amount of the diffracted light diffracted by the second exposure section by a predetermined time. The developing method according to claim 1.
【請求項7】基板の一面上にフオトレジストを塗布する
ことによりレジスト層が形成され、 かつ上記レジスト層が記録信号及び当該記録信号と同一
又は類似でなる信号に基づいて露光されてなるレジスト
マスタ板を回転させる回転手段と、 上記レジスト層に現像液を供給する現像液供給手段と、 上記現像液供給手段から供給される現像液を用いて上記
レジスト層に設けられた上記記録信号に基づく第1の露
光部と、上記記録信号と同一又は類似でなる信号に基づ
く第2の露光部とを現像する現像手段と、 上記現像手段による上記レジスト層の現像中に上記第2
の露光部にレーザ光を照射するレーザ光源と、 上記第2の露光部から出射する上記レーザ光の回折光の
光量を検出する光量検出手段とを具え、上記光量検出手
段による検出結果に基づいて現像を停止することを特徴
とする現像装置。
7. A resist master formed by applying a photoresist on one surface of a substrate to form a resist layer, and exposing the resist layer based on a recording signal and a signal which is the same as or similar to the recording signal. Rotating means for rotating the plate, developing solution supplying means for supplying a developing solution to the resist layer, and developing means for supplying a developing solution to the resist layer based on the recording signal provided on the resist layer using the developing solution supplied from the developing solution supplying means. Developing means for developing one exposed portion and a second exposed portion based on a signal which is the same as or similar to the recording signal, and the second portion during the development of the resist layer by the developing means.
A laser light source for irradiating the exposure unit with a laser beam, and a light amount detection unit for detecting the amount of diffracted light of the laser beam emitted from the second exposure unit, based on the detection result by the light amount detection unit. A developing device characterized by stopping development.
【請求項8】上記第2の露光部は、上記レジスト層の所
定の半径位置に設けられたことを特徴とする請求項7に
記載の現像装置。
8. The developing device according to claim 7, wherein the second exposure section is provided at a predetermined radial position of the resist layer.
【請求項9】上記第2の露光部は、上記記録信号と同一
又は類似でなる信号に基づく露光の光量分布が均一とな
るように上記レジスト層に露光されてなることを特徴と
する請求項7に記載の現像装置。
9. The second exposure section is formed by exposing the resist layer so that the exposure light amount distribution based on a signal that is the same as or similar to the recording signal is uniform. 7. The developing device according to 7.
【請求項10】上記記録信号と同一又は類似でなる信号
のピツトの割合を変化して露光することにより、上記第
2の露光部で回折される上記回折光の光量を変化させる
ことを特徴とする請求項7に記載の現像装置。
10. The light quantity of the diffracted light diffracted by the second exposure section is changed by changing the ratio of the pits of a signal that is the same as or similar to the recording signal and performing exposure. The developing device according to claim 7.
【請求項11】上記記録信号と同一又は類似でなる信号
のトラツクピツチを変化して露光することにより、上記
第2の露光部で回折される上記回折光を検出位置に照射
させることを特徴とする請求項7に記載の現像装置。
11. The detection position is irradiated with the diffracted light diffracted by the second exposure unit by changing and exposing the track pitch of a signal that is the same as or similar to the recording signal. The developing device according to claim 7.
【請求項12】上記第2の露光部で回折される上記回折
光の光量を検出するタイミングを所定時間遅延させるこ
とにより、上記第1の露光部に所望のパターン形状を形
成させることを特徴とする請求項7に記載の現像装置。
12. A desired pattern shape is formed on the first exposure section by delaying a timing for detecting a light amount of the diffracted light diffracted by the second exposure section by a predetermined time. The developing device according to claim 7.
【請求項13】基板の一面上にフオトレジストを塗布す
ることによりレジスト層が形成され、かつ上記レジスト
層が記録信号及び当該記録信号と同一又は類似でなる信
号に基づいて露光されてなるレジストマスタ板を回転さ
せると共に、 上記レジスト層に現像液を供給して当該現像液で上記レ
ジスト層の上記記録信号に基づく第1の露光部と上記記
録信号と同一又は類似でなる信号に基づく第2の露光部
とを溶かしながら、当該第2の露光部にレーザ光を照射
して得られる回折光の光量を検出して、当該検出結果に
基づいて現像を停止するようにして作製されたことを特
徴とするデイスク状記録媒体。
13. A resist master formed by applying a photoresist on one surface of a substrate to form a resist layer, and exposing the resist layer based on a recording signal and a signal which is the same as or similar to the recording signal. While the plate is rotated, a developing solution is supplied to the resist layer, and the developing solution supplies the developing solution to the first exposure section based on the recording signal of the resist layer and the second exposing section based on a signal that is the same as or similar to the recording signal. The second exposure portion is melted with the exposure portion, and the light amount of the diffracted light obtained by irradiating the second exposure portion with laser light is detected, and the development is stopped based on the detection result. And a disk-shaped recording medium.
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