JPH09148074A - Electroluminescent display device - Google Patents

Electroluminescent display device

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JPH09148074A
JPH09148074A JP8258996A JP25899696A JPH09148074A JP H09148074 A JPH09148074 A JP H09148074A JP 8258996 A JP8258996 A JP 8258996A JP 25899696 A JP25899696 A JP 25899696A JP H09148074 A JPH09148074 A JP H09148074A
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transparent conductive
metal layer
thickness
display device
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達男 太田
Mayumi Okasato
麻由実 岡里
Hideo Watanabe
英生 渡辺
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electroluminescent display device having high adhesive strength and low resistance by laminating a transparent conductive laminated body composed of an organic high polymer base body, a transparent electrode layer and a metallic layer having the specified thickness to a luminescent layer laminated body. SOLUTION: A transparent conductive layer 3 formed of at least one oxide of In, Sn, Sb is formed on a high heat resistant organic high polymer base body 2 of polyimide by using a sputtering method or a reaction depositing method. A metallic layer 4 of In, Sn, Cd is attached on the transparent conductive layer 3 by the thickness of 200Å or more by a sputtering method or a depositing method. After the metallic layer 4 and the transparent conductive layer 3 are overlapped, cut, etched and patterned by using the specified mask as necessary, an obtained transparent conductive laminated body 1 is stuck to a laminated body 5 composed of a metallic electrode layer 6, an insulating layer 7 and a luminescent layer 8 by pressurizing and heating rollers 9 through the metallic layer 4 and the luminescent layer 8. Therefore, an electroluminescent display device having the light transmission factor, and in which luminous unevenness is not easily generated is provided.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、エレクトロルミネ
ッセンス表示装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electroluminescence display device.

【0002】[0002]

【発明が解決しようとする課題】透明導電膜または透明
導電性積層体は、例えば液晶ディスプレイ用の電極、エ
レクトロルミネッセンス表示装置用の電極、光導電性感
光体用の電極を始め、ブラウン管、各種測定器の窓部分
の静電遮蔽層、帯電防止層、発熱体などの電気・電子分
野において、透明導電膜(透明導電性積層体)が広く利
用されている。
A transparent conductive film or a transparent conductive laminate is used, for example, as an electrode for a liquid crystal display, an electrode for an electroluminescent display device, an electrode for a photoconductive photoreceptor, a cathode ray tube, and various measurements. BACKGROUND ART A transparent conductive film (transparent conductive laminate) is widely used in the electric and electronic fields such as an electrostatic shielding layer of a window portion of a container, an antistatic layer, and a heating element.

【0003】これらのうち、選択的光透過性を有する透
明導電性積層体は、その赤外光反射能によって太陽エネ
ルギー利用の為のコレクタ用窓材として、又は建物の窓
材として応用されている。又、情報処理の発展に伴って
ブラウン管に代わる表示装置としてエレクトロルミネッ
センス、液晶、プラズマ、強誘電体を用いた各種の固体
ディスプレイが開発されており、これらのディスプレイ
には透明電極が必ず用いられる。
[0003] Of these, the transparent conductive laminate having selective light transmittance is applied as a window material for a collector for utilizing solar energy or as a window material of a building due to its infrared light reflectivity. . In addition, with the development of information processing, various solid-state displays using electroluminescence, liquid crystal, plasma, and ferroelectric have been developed as display devices to replace cathode-ray tubes. Transparent electrodes are always used for these displays.

【0004】更に、電気信号と光信号との相互作用又は
相互変換による新しい電気光学素子や記録材料が今後の
情報処理技術にとって有用視されて来ているが、これに
も透明性及び導電性を兼備した膜が必要とされる。一
方、こうした透明導電性積層体は、自動車や飛行機など
における凝結防止用の窓ガラスとして、或いは高分子や
ガラス等の帯電防止膜、太陽エネルギーの拡散防止用の
透明断熱窓としても利用可能である。
Further, new electro-optical elements and recording materials based on the interaction or mutual conversion between electric signals and optical signals are considered useful for future information processing technology. A combined membrane is required. On the other hand, such a transparent conductive laminate can be used as a window glass for preventing condensation in automobiles and airplanes, or as an antistatic film of polymer or glass, or as a transparent heat insulating window for preventing diffusion of solar energy. .

【0005】特に、近年、液晶ディスプレイ、エレクト
ロルミネッセンス、プラズマディスプレイ、エレクトロ
クロミックディスプレイ、蛍光表示装置などにおいては
高画素表示の要求が高まっており、これに伴って透明導
電層からなる電極によって画素部を構成すると共に、金
属層からなる低抵抗電極によって信号印加ラインを構成
し、画像の表示速度の向上と画像の改良とを図ることが
提案されている。
In particular, in recent years, there has been an increasing demand for high pixel display in liquid crystal displays, electroluminescence, plasma displays, electrochromic displays, fluorescent display devices, and the like. Accordingly, a pixel portion is formed by an electrode made of a transparent conductive layer. In addition, it has been proposed that a signal application line is formed by a low-resistance electrode made of a metal layer to improve an image display speed and an image.

【0006】しかしながら、従来のエレクトロルミネッ
センス表示装置においては、電極の低抵抗化が不十分で
あり、又、エレクトロルミネッセンス発光層と透明導電
層との接着強度が不十分な為、両者の間で剥離が起き、
動作時の発光ムラが生じる等の問題が有ることが判って
来た。従って、本発明が解決しようとする課題は、エレ
クトロルミネッセンス表示装置において電極占有面積の
大きな場合でも光透過率が高く、かつ、発光層との接着
強度が充分あり、発光ムラが起き難く、更にはシート抵
抗が低い透明導電性積層体を用いたエレクトロルミネッ
センス表示装置を提供することである。
However, in the conventional electroluminescent display device, the resistance of the electrode is not sufficiently reduced, and the adhesive strength between the electroluminescent light emitting layer and the transparent conductive layer is insufficient. Happens,
It has been found that there are problems such as uneven light emission during operation. Therefore, the problem to be solved by the present invention is that the electroluminescence display device has a high light transmittance even when the electrode occupied area is large, and has a sufficient adhesive strength with the light emitting layer, which makes it difficult for uneven light emission to occur. An object of the present invention is to provide an electroluminescent display device using a transparent conductive laminate having a low sheet resistance.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】前記の課題は、有機高分
子基体と、この有機高分子基体上に形成されたインジウ
ム、錫、アンチモンの少なくとも一種類の酸化物からな
る透明導電層と、この透明導電層上に被着された厚さ2
00Å以下の金属層とを有する透明導電性積層体を具備
してなることを特徴とするエレクトロルミネッセンス表
示装置によって解決される。
Means for Solving the Problems The above-mentioned problems are as follows: an organic polymer substrate, a transparent conductive layer formed on the organic polymer substrate and comprising at least one oxide of indium, tin and antimony; Thickness 2 deposited on the transparent conductive layer
The present invention provides a solution to an electroluminescence display device including a transparent conductive laminate having a metal layer of 00 Å or less.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】本発明のエレクトロルミネッセン
ス表示装置は、有機高分子基体と、この有機高分子基体
上に形成されたインジウム、錫、アンチモンの少なくと
も一種類の酸化物からなる透明導電層と、この透明導電
層上に被着された厚さ200Å以下の金属層とを有する
透明導電性積層体を具備する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION An electroluminescent display device of the present invention comprises an organic polymer substrate and a transparent conductive layer formed on the organic polymer substrate and comprising at least one oxide of indium, tin and antimony. And a transparent conductive laminate having a metal layer having a thickness of 200 Å or less, which is deposited on the transparent conductive layer.

【0009】特に、本発明のエレクトロルミネッセンス
表示装置は、前記透明導電性積層体の厚さ200Å以下
の金属層に対して一体化された(接着された、あるいは
貼り合わされた)発光層を具備する。本発明における図
1に示される如くの透明導電性積層体1を構成する各層
の材料について述べると、以下の通りである。
In particular, the electroluminescence display device of the present invention comprises a light emitting layer integrated (bonded or bonded) with the metal layer having a thickness of 200 Å or less of the transparent conductive laminate. . The material of each layer constituting the transparent conductive laminate 1 as shown in FIG. 1 in the present invention will be described below.

【0010】透明導電性積層体1を構成する基体2の材
料としては、ポリイミド、ポリエーテルスルホン、ポリ
スルホンを始めとしてポリエチレンテレフタレート、ポ
リエチレン2,6−ナフタレンジカルボキシレート、ポ
リジアリルフタレート、ポリカーボネート等のポリエス
テル系樹脂、及び芳香族ポリアミド、ポリアミド、ポリ
プロピレン、セルローストリアセテート等が挙げられ
る。これらは、勿論、ホモポリマー、コポリマーとして
単独またはブレンドしても使用し得る。その他、耐熱性
に優れた有機高分子化合物であれば特には限定しない
が、80℃以上の耐熱性のあるものが好ましい。尚、有
機高分子基体はフレキシブルなフィルムが好ましい。
The material of the base 2 constituting the transparent conductive laminate 1 is made of polyimide, polyethersulfone, polysulfone, polyester such as polyethylene terephthalate, polyethylene 2,6-naphthalenedicarboxylate, polydiallyl phthalate, polycarbonate and the like. Base resin, aromatic polyamide, polyamide, polypropylene, cellulose triacetate and the like. These may of course be used alone or as a blend as a homopolymer or a copolymer. There is no particular limitation as long as it is an organic polymer compound having excellent heat resistance, but a compound having heat resistance of 80 ° C. or higher is preferable. The organic polymer substrate is preferably a flexible film.

【0011】基体2面上に設けられる透明導電層3の材
料としては、インジウム、錫、カドミウム、アンチモン
の群の中から選ばれる少なくとも一種類の酸化物からな
るものが挙げられる。代表的なものとしては、酸化イン
ジウム、酸化錫、酸化インジウム−錫混合体、酸化錫−
アンチモン混合体が挙げられる。透明導電層3面上に設
けられる金属層4の材料としては、インジウム、錫、カ
ドミウム、亜鉛、チタン、アンチモン、アルミニウム、
タングステン、モリブデン、クロム、タンタル、ニッケ
ル、白金、金、銀、銅、パラジウム等が挙げられる。
The material of the transparent conductive layer 3 provided on the surface of the substrate 2 includes a material made of at least one oxide selected from the group consisting of indium, tin, cadmium and antimony. Typical examples are indium oxide, tin oxide, indium-tin oxide mixture, tin oxide-
Antimony mixtures. As a material of the metal layer 4 provided on the surface of the transparent conductive layer 3, indium, tin, cadmium, zinc, titanium, antimony, aluminum,
Tungsten, molybdenum, chromium, tantalum, nickel, platinum, gold, silver, copper, palladium and the like can be mentioned.

【0012】透明導電性積層体1の製造方法としては、
すなわち透明導電層3の形成は、インジウム、錫、イン
ジウム−錫合金、錫−アンチモン合金あるいは前記の酸
化物材料を蒸発源としたスパッタ法や反応蒸着法、ある
いは前記材料の低級酸化物を同様に被着させ、この被着
層を加熱酸化、放電酸化、溶液酸化の少なくとも一つの
手段で酸化処理する方法、又はスプレー塗布などの方法
によれば良く、又、金属層4の形成はスパッタ法や蒸着
法などの方法によれば良い。
The method for producing the transparent conductive laminate 1 is as follows.
That is, the formation of the transparent conductive layer 3 is performed by a sputtering method or a reactive evaporation method using indium, tin, an indium-tin alloy, a tin-antimony alloy or the above-mentioned oxide material as an evaporation source, or a lower oxide of the above-mentioned material. The method may be performed by applying a method of oxidizing the adhered layer by at least one of heating oxidation, discharge oxidation, and solution oxidation, or a method such as spray coating. The metal layer 4 may be formed by a sputtering method or the like. A method such as a vapor deposition method may be used.

【0013】そして、上記のようにして構成された有機
高分子化合物からなる透明絶縁性基体2上に透明導電層
3を形成した後、この透明導電層3上に厚さ200Å以
下の金属層4を被着させてなる透明導電性積層体1と、
金属電極層6上に電気保護層としての絶縁層7と発光層
8とが被着されてなる発光層を設けた積層体5とを、図
2に示す如く、金属層4と発光層8とが貼り合わされる
ように加圧・加熱ローラ9によって一体化し、エレクト
ロルミネッセンス表示装置を得たのである。
After the transparent conductive layer 3 is formed on the transparent insulating substrate 2 composed of the organic polymer compound constituted as described above, the metal layer 4 having a thickness of 200 mm or less is formed on the transparent conductive layer 3. A transparent conductive laminate 1 having
As shown in FIG. 2, a laminate 5 having a light-emitting layer in which an insulating layer 7 as an electrical protection layer and a light-emitting layer 8 are adhered on a metal electrode layer 6 is combined with the metal layer 4 and the light-emitting layer 8 as shown in FIG. Are integrated by a pressure / heating roller 9 so that the electroluminescent display device is bonded.

【0014】この際、金属層4の厚さが200Å以下で
あると、金属層4を設けたことによって光透過率が低下
するものの、その程度は若干低下する程度に過ぎず、そ
して透明導電性積層体1と積層体5との接着強度は増す
ことが見出された。又、金属層4の厚さが200Åを越
え、特に、250Å以上になると、シート抵抗は低下す
るものの、光透過率及び接着強度は大幅に低下する傾向
の有ることが見出された。
At this time, when the thickness of the metal layer 4 is 200 Å or less, the light transmittance is lowered by providing the metal layer 4, but the light transmittance is only slightly decreased, and the transparent conductivity is reduced. It was found that the adhesive strength between the laminate 1 and the laminate 5 is increased. Further, it has been found that when the thickness of the metal layer 4 exceeds 200 °, particularly when it exceeds 250 °, the sheet resistance is reduced, but the light transmittance and the adhesive strength tend to be significantly reduced.

【0015】尚、金属が大気中に放置されていると、通
常、表面には数十Åの酸化膜が形成、例えばアルミニウ
ムでは約20Å、銀では約10Å、錫では約50Å、銅
では約40Åの自然酸化膜が形成されることが知られて
おり、従って本発明における金属層4も表面に自然酸化
膜が形成されているものもあり、この時、金属層4の厚
さを100Å以下のものにしていると、金属層4の大半
は自然酸化状態のものとなっていると予想される。
When a metal is left in the atmosphere, an oxide film of several tens of degrees is formed on the surface, for example, about 20 degrees for aluminum, about 10 degrees for silver, about 50 degrees for tin, and about 40 degrees for copper. It is known that a natural oxide film is formed on the surface of the metal layer 4. Therefore, there is also a metal layer 4 according to the present invention in which a natural oxide film is formed on the surface. Therefore, it is expected that most of the metal layer 4 is in a naturally oxidized state.

【0016】上記のような有機高分子基体上に透明導電
層3を形成した後、この透明導電層3上に前記金属層4
を被着させてなる透明導電性積層体1は、所定のマスク
を用いて金属層4と透明導電層3とを重ね切りエッチン
グすることによって所定のパターンに容易にパターニン
グすることが出来る。図3はパターニングされた透明導
電性積層体の一例を示す平面図、図4は図3におけるI
V−IV線での断面図である。絶縁性透明基体2上に
は、透明導電層3とその上に被着された金属層4とが所
定パターンに配置され、各画素の一端から透明導電性積
層体1の端部に向かってパターニングされた配線3a,
3bが延設されている。
After the transparent conductive layer 3 is formed on the organic polymer substrate as described above, the metal layer 4 is formed on the transparent conductive layer 3.
Can be easily patterned into a predetermined pattern by overlappingly cutting and etching the metal layer 4 and the transparent conductive layer 3 using a predetermined mask. FIG. 3 is a plan view showing an example of a patterned transparent conductive laminate, and FIG.
It is sectional drawing in the V-IV line. A transparent conductive layer 3 and a metal layer 4 deposited thereon are arranged in a predetermined pattern on the insulating transparent substrate 2, and are patterned from one end of each pixel toward the end of the transparent conductive laminate 1. Wiring 3a,
3b is extended.

【0017】通常、透明導電性積層体の特性としては、
光透過率(550mμの波長の光)が50%以上、好ま
しくは80%以上、シート抵抗は1.5kΩ/□以下、
好ましくは1000Ω/□以下、発光層を設けた積層体
との接着強度は200g/2.5cm以上であることが
望まれており、このような要望についても本発明の透明
導電性積層体1は満足している。
In general, the characteristics of the transparent conductive laminate are as follows:
The light transmittance (light having a wavelength of 550 mμ) is 50% or more, preferably 80% or more, and the sheet resistance is 1.5 kΩ / □ or less.
It is desired that the transparent conductive laminate 1 of the present invention is preferably 1000 Ω / □ or less, and has an adhesive strength to a laminate having a light emitting layer of 200 g / 2.5 cm or more. Is pleased.

【0018】以下、実施例により具体的に説明する。The present invention will be specifically described below with reference to examples.

【0019】[0019]

【参考例1】基体2として厚さ75μmのポリエチレン
テレフタレート(PET)フィルムを用い、そして酸化
インジウムと酸化錫との混合体(ITO、混合比は95
重量部:5重量部)からなる厚さ500Åの透明導電層
3をITOターゲット又はインジウムと錫(90重量
部:10重量部)合金ターゲットを用いた直流反応スパ
ッタリング(Arガス圧が10-3Torr)によって形
成し、その上に厚さ0〜800Åの錫からなる金属層4
を蒸着法(真空度が10-5〜10-6Torr)によって
形成して透明導電性積層体1を構成した。
Reference Example 1 A polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 75 μm was used as the substrate 2, and a mixture of indium oxide and tin oxide (ITO, the mixing ratio was 95).
500 parts by weight of a transparent conductive layer 3 having a thickness of 5 parts by weight was subjected to direct current reactive sputtering using an ITO target or an indium and tin (90 parts by weight: 10 parts by weight) alloy target (Ar gas pressure was 10 -3 Torr). ), On which a metal layer 4 made of tin having a thickness of 0 to 800 °
Was formed by a vapor deposition method (a degree of vacuum of 10 −5 to 10 −6 Torr) to form a transparent conductive laminate 1.

【0020】この透明導電性積層体1のシート抵抗及び
光透過率を測定したので、その結果を図5に示す。尚、
金属層4の厚さは、蒸着速度計指示値及び蒸着時間から
算出したものである。又、錫層の厚さが0,400Å,
600Å,800Åの各点は比較の透明導電性積層体に
ついての値である。
The sheet resistance and light transmittance of the transparent conductive laminate 1 were measured, and the results are shown in FIG. still,
The thickness of the metal layer 4 is calculated from the indicated value of the evaporation rate meter and the evaporation time. The thickness of the tin layer is 0,400 mm,
Each point of 600 ° and 800 ° is a value for the comparative transparent conductive laminate.

【0021】同図から、錫層の厚さを200Å以下とす
れば、50%以上の光透過率の得られることが判る。
又、シート抵抗は錫層の厚さが薄くなるにつれて増加す
るが、薄くしても1000Ω/□を越えることはないこ
とも判る。又、この透明導電性積層体1の表面をESC
Aにより測定したので、その結果を図6に示す。これに
よれば、Sn3d5/2 の結合エネルギーが486.4e
Vであることから、金属層4の表面は酸化錫の状態にな
っていることが判る。これは、金属が通常有する自然酸
化膜であり、通常、数十Åのものであり、本実施例にお
ける金属層4にあっても自然酸化膜を有していると考え
られる。
From the figure, it can be seen that when the thickness of the tin layer is 200 ° or less, a light transmittance of 50% or more can be obtained.
Further, it can be seen that the sheet resistance increases as the thickness of the tin layer decreases, but does not exceed 1000 Ω / □ even if the thickness is reduced. Also, the surface of the transparent conductive laminate 1 is ESC
The results are shown in FIG. According to this, the binding energy of Sn3d5 / 2 is 486.4e.
From V, it can be seen that the surface of the metal layer 4 is in the state of tin oxide. This is a natural oxide film that a metal usually has, usually several tens of mm, and it is considered that the metal layer 4 in this embodiment also has a natural oxide film.

【0022】[0022]

【実施例1】厚さ0.2mmのアルミニウムプレート6
上に、BaTiO3 粉末を樹脂分散し、ワイヤーバーに
よって厚さ数μmに塗布乾燥し、更にその上に硫化亜鉛
及びマンガン粉末をシアノエチル化セルロース等のセル
ロース系樹脂中に分散させてなる塗布液を塗布・乾燥し
て、厚さ数十μmの発光層8を設けた積層体5(図2参
照)を用意した。発光層8は、前述の通り、粉末分散層
で形成されている為、数十μmの凹凸形状の表面を有し
ている。
Example 1 Aluminum plate 6 having a thickness of 0.2 mm
On top, BaTiO 3 powder is dispersed in a resin, coated and dried to a thickness of several μm with a wire bar, and further, zinc sulfide and manganese powder are further dispersed thereon in a cellulosic resin such as cyanoethylated cellulose to form a coating liquid. After coating and drying, a laminate 5 (see FIG. 2) provided with a light emitting layer 8 having a thickness of several tens of μm was prepared. As described above, since the light emitting layer 8 is formed of the powder dispersion layer, it has an uneven surface of several tens of μm.

【0023】そして、この発光層8を設けた積層体5と
前記参考例1の透明導電性積層体1(錫の金属層4の厚
さは20Å)とを、金属層4と発光層8とを合わせて加
熱・加圧ローラ9によって接着一体化し、エレクトロル
ミネツセンス表示装置とした。但し、ローラ圧力は1K
g/cm、ローラ温度は150℃、透明導電性積層体1
及び発光層を設けた積層体5の幅寸法はいずれも2.5
cmである。
Then, the laminate 5 provided with the light emitting layer 8 and the transparent conductive laminate 1 of Reference Example 1 (the thickness of the tin metal layer 4 is 20 °) are combined with the metal layer 4 and the light emitting layer 8. Were combined by a heating / pressing roller 9 to form an electroluminescent display device. However, the roller pressure is 1K
g / cm, roller temperature 150 ° C, transparent conductive laminate 1
And the width dimension of the laminate 5 provided with the light emitting layer is 2.5
cm.

【0024】この透明導電性積層体1のシート抵抗は3
30Ω/□、光透過率は82%であった。かくして得ら
れたエレクトロルミネッセンス表示装置を、東洋計測器
株式会社製テンシロンUTM−III型180°ピール
試験機によって上記接着部の接着強度を測定した。測定
方法の概要は、図7に示す如く、発光層8を設けた積層
体5の一端を固定し、透明導電性積層体1を180°方
向に引張って両者を剥し、引張距離と剥離に要した荷
重、すなわち接着強度との関係を求める方法である。
The sheet resistance of the transparent conductive laminate 1 is 3
30Ω / □, light transmittance was 82%. The thus obtained electroluminescent display device was measured for the adhesive strength of the above-mentioned bonded portion with a Tensilon UTM-III type 180 ° peel tester manufactured by Toyo Keiki Co., Ltd. As shown in FIG. 7, the outline of the measuring method is as follows. One end of the laminate 5 provided with the light emitting layer 8 is fixed, the transparent conductive laminate 1 is pulled in the 180 ° direction, and both are peeled off. This is a method for obtaining the relationship with the applied load, that is, the adhesive strength.

【0025】試験結果は図8に曲線aで示す通りであ
る。引張距離1mm以下で剥離荷重が小さくなっている
が、これは試験機のチャック部(図示せず)の遊びに基
くもので、真の荷重を示すものではない。同図には、比
較の為に、錫の金属層4を設けず、その他の条件は同様
にして得たエレクトロルミネッセンス表示装置について
同様の試験を行った結果を曲線bで併記してある。
The test results are as shown by the curve a in FIG. Although the peeling load is small when the tensile distance is 1 mm or less, this is based on the play of the chuck portion (not shown) of the testing machine, and does not indicate the true load. In the figure, for comparison, the results of the same test performed on an electroluminescent display device obtained without using the tin metal layer 4 and under the same conditions except for the other conditions are also indicated by a curve b.

【0026】比較の透明導電性積層体を使用したエレク
トロルミネッセンス表示装置では接着強度が70〜12
0g/2.5cmの間で変化しており、満足し得る接着
強度を示していない。これに対して、本発明のエレクト
ロルミネッセンス表示装置では、接着強度が250g/
2.5cm程度も有り、充分な接着強度を示している。
The electroluminescent display device using the comparative transparent conductive laminate has an adhesive strength of 70 to 12
It varies between 0 g / 2.5 cm and does not show satisfactory adhesive strength. In contrast, the electroluminescent display device of the present invention has an adhesive strength of 250 g /
It is about 2.5 cm, indicating a sufficient adhesive strength.

【0027】[0027]

【実施例2】実施例1において、透明導電層3を厚さ5
00ÅのITOとし、金属層4をインジウムで厚さ30
0Å以下にした他は同様にし、エレクトロルミネッセン
ス表示装置を得た。そして、このエレクトロルミネッセ
ンス表示装置におけるシート抵抗、光透過率、及び接着
強度を測定したので、その結果を図9に示す。
Second Embodiment In the first embodiment, the transparent conductive layer 3 has a thickness of 5
The ITO is 00Å, and the metal layer 4 is indium and has a thickness of 30.
An electroluminescent display device was obtained in the same manner except that the temperature was set to 0 ° or less. Then, the sheet resistance, light transmittance, and adhesive strength of this electroluminescent display device were measured, and the results are shown in FIG.

【0028】尚、金属層4を設けない場合の値は、破線
で示す矢印に括弧を付して記入した(以下、同様)。
The values in the case where the metal layer 4 is not provided are described by adding parentheses to arrows indicated by broken lines (the same applies hereinafter).

【0029】[0029]

【実施例3】実施例2において、金属層4を錫で厚さ6
00Å以下にした他は同様にし、エレクトロルミネッセ
ンス表示装置を得た。そして、このエレクトロルミネッ
センス表示装置におけるシート抵抗、光透過率、及び接
着強度を測定したので、その結果を図10に示す。
Third Embodiment In the second embodiment, the metal layer 4 is made of tin and has a thickness of 6
An electroluminescent display device was obtained in the same manner except that the temperature was set to 00 ° or less. Then, the sheet resistance, light transmittance, and adhesive strength of the electroluminescent display device were measured, and the results are shown in FIG.

【0030】[0030]

【実施例4】実施例2において、金属層4をアルミニウ
ムで厚さ600Å以下にした他は同様にし、エレクトロ
ルミネッセンス表示装置を得た。そして、このエレクト
ロルミネッセンス表示装置におけるシート抵抗、光透過
率、及び接着強度を測定したので、その結果を図11に
示す。
Example 4 An electroluminescence display device was obtained in the same manner as in Example 2, except that the metal layer 4 was made of aluminum and had a thickness of 600 Å or less. Then, the sheet resistance, light transmittance, and adhesive strength of this electroluminescence display device were measured, and the results are shown in FIG.

【0031】[0031]

【実施例5】実施例2において、金属層4を銅で厚さ4
00Å以下にした他は同様にし、エレクトロルミネッセ
ンス表示装置を得た。そして、このエレクトロルミネッ
センス表示装置におけるシート抵抗、光透過率、及び接
着強度を測定したので、その結果を図12に示す。
Fifth Embodiment In the second embodiment, the metal layer 4 is made of copper and has a thickness of 4
An electroluminescent display device was obtained in the same manner except that the temperature was set to 00 ° or less. The sheet resistance, light transmittance, and adhesive strength of the electroluminescent display device were measured, and the results are shown in FIG.

【0032】[0032]

【実施例6】実施例2において、金属層4をクロムで厚
さ500Å以下にした他は同様にし、エレクトロルミネ
ッセンス表示装置を得た。尚、金属層4の形成はスパッ
タによるものである。そして、このエレクトロルミネッ
センス表示装置におけるシート抵抗、光透過率、及び接
着強度を測定したので、その結果を図13に示す。
Example 6 An electroluminescent display device was obtained in the same manner as in Example 2, except that the metal layer 4 was made of chromium and had a thickness of 500 Å or less. The metal layer 4 is formed by sputtering. Then, the sheet resistance, the light transmittance, and the adhesive strength of this electroluminescent display device were measured, and the results are shown in FIG.

【0033】[0033]

【実施例7】実施例6において、金属層4をパラジウム
で厚さ400Å以下にした他は同様にし、エレクトロル
ミネッセンス表示装置を得た。そして、このエレクトロ
ルミネッセンス表示装置におけるシート抵抗、光透過
率、及び接着強度を測定したので、その結果を図14に
示す。
Example 7 An electroluminescent display device was obtained in the same manner as in Example 6, except that the metal layer 4 was made of palladium and had a thickness of 400 Å or less. The sheet resistance, light transmittance, and adhesive strength of this electroluminescent display device were measured, and the results are shown in FIG.

【0034】[0034]

【実施例8】実施例3において、透明導電層3を直流反
応スパッタ法により形成した厚さ700Åの酸化錫とア
ンチモンとの混合体(アンチモン2重量%)とした他は
同様にし、エレクトロルミネッセンス表示装置を得た。
そして、このエレクトロルミネッセンス表示装置におけ
るシート抵抗、光透過率、及び接着強度を測定したの
で、その結果を図15に示す。
[Embodiment 8] The same procedure as in Embodiment 3 was carried out except that the transparent conductive layer 3 was a mixture of tin oxide and antimony (antimony 2% by weight) having a thickness of 700 Å formed by the DC reactive sputtering method. I got the device.
Then, the sheet resistance, light transmittance, and adhesive strength of this electroluminescent display device were measured, and the results are shown in FIG.

【0035】[0035]

【実施例9】実施例4において、透明導電層3を実施例
8と同様にした他は同様にし、エレクトロルミネッセン
ス表示装置を得た。但し、アルミニウム層の厚さは30
0Å以下である。そして、このエレクトロルミネッセン
ス表示装置におけるシート抵抗、光透過率、及び接着強
度を測定したので、その結果を図16に示す。
Example 9 An electroluminescent display device was obtained in the same manner as in Example 4, except that the transparent conductive layer 3 was the same as in Example 8. However, the thickness of the aluminum layer is 30
0 ° or less. Then, the sheet resistance, light transmittance, and adhesive strength of this electroluminescent display device were measured, and the results are shown in FIG.

【0036】又、上記実施例2〜実施例9の結果を纏め
て表1及び表2に示す。
The results of Examples 2 to 9 are summarized in Tables 1 and 2.

【0037】[0037]

【表1】 [Table 1]

【0038】[0038]

【表2】 [Table 2]

【0039】そして、これら実施例の結果から、次のこ
とが理解される。 (1) 金属層4の厚さが或る値を越えると光透過率が
低下するが、200Å以下のものであれば50%以上の
光透過率を確保でき、そして金属層4の厚さが100Å
以下であれば光透過率は75%以上となり、金属層4の
厚さが50Å以下であれば光透過率は80%以上とな
る。 (2) 金属層4の厚さが薄くなるとシート抵抗が高く
なるものの、如何に薄くなってもシート抵抗は1000
Ω/□以下である。 (3) 接着強度は金属層4の厚さが50Å〜100Å
の範囲で極大値を示し、これより厚くなると、接着強度
は低下するものの、金属層4の厚さが200Å以下であ
れば200g/2.5cm以上の接着強度が確保され
る。金属層4の厚さが1Å〜2Åといった薄い場合で
も、200g/2.5cm以上の接着強度が確保され
る。 (4) 接着強度の観点からみれば、金属層4の厚さは
3Å以上、さらに望ましくは5Å以上とするのが好まし
い。光透過率の観点からみれば、金属層4の厚さは20
0Å以下、望ましくは100Å以下、さらに望ましくは
50Å以下であることが好ましい。従って、最も好まし
い金属層4の厚さは5Å〜50Åである。
The following is understood from the results of these examples. (1) When the thickness of the metal layer 4 exceeds a certain value, the light transmittance decreases. However, when the thickness is 200 ° or less, a light transmittance of 50% or more can be secured. 100Å
If it is less than or equal to 75%, the light transmittance becomes 75% or more, and if the thickness of the metal layer 4 is 50 ° or less, the light transmittance becomes 80% or more. (2) Although the sheet resistance increases when the thickness of the metal layer 4 is reduced, the sheet resistance is 1000 regardless of the thickness.
Ω / □ or less. (3) The adhesive strength is such that the thickness of the metal layer 4 is 50 to 100 mm.
When the thickness of the metal layer 4 is 200 ° or less, an adhesive strength of 200 g / 2.5 cm or more is secured. Even when the thickness of the metal layer 4 is as thin as 1 to 2 mm, an adhesive strength of 200 g / 2.5 cm or more is secured. (4) From the viewpoint of adhesive strength, the thickness of the metal layer 4 is preferably 3 Å or more, more preferably 5 Å or more. From the viewpoint of light transmittance, the thickness of the metal layer 4 is 20
It is preferably 0 ° or less, preferably 100 ° or less, and more preferably 50 ° or less. Therefore, the most preferable thickness of the metal layer 4 is 5 ° to 50 °.

【0040】接着強度は金属層4が厚くなるにつれて増
し、そして極大値を示し、低下する傾向を有している理
由は、次のように考えられる。発光層8を設けた積層体
5と透明導電性積層体1とが強固に接着する為には、
(a) 両者の間の馴染み性(発光層8がローラ加熱に
より軟化した際の両者の濡れ性)が良好であること、
(b) 両者の接触面積が大きいことの条件が満たされ
ることが必要である。
The reason why the adhesive strength increases as the thickness of the metal layer 4 increases, exhibits a maximum value, and tends to decrease is considered as follows. In order for the laminate 5 provided with the light emitting layer 8 and the transparent conductive laminate 1 to adhere firmly,
(A) good compatibility between the two (the wettability of both when the light emitting layer 8 is softened by roller heating);
(B) The condition that the contact area between the two is large must be satisfied.

【0041】ところで、透明導電性積層体1に金属層4
を設けず、発光層8と透明導電層3とを直接に接着させ
た場合、透明導電性積層体1はフレキシブル性を有し、
発光層8表面の凹凸形状とローラ加圧時の接触面積を大
きく出来るものの、透明導電層3は高い酸化状態のもの
で構成されているから、発光層8と透明導電層3との馴
染み性が劣り、接着強度は高くならない。
By the way, the metal layer 4 is formed on the transparent conductive laminate 1.
When the light emitting layer 8 and the transparent conductive layer 3 are directly bonded without providing the transparent conductive layer 1, the transparent conductive laminate 1 has flexibility,
Although the uneven shape of the surface of the light emitting layer 8 and the contact area when the roller is pressed can be increased, the transparent conductive layer 3 is formed in a highly oxidized state, so that the compatibility between the light emitting layer 8 and the transparent conductive layer 3 is improved. Inferior, adhesive strength does not increase.

【0042】これに対して、透明導電性積層体1に金属
層4を設け、発光層8と透明導電層3とを金属層4を介
して接着させた場合、金属層4は薄いことから透明導電
性積層体1のフレキシブル性の低下は少なく、発光層8
表面の凹凸形状とローラ加圧時の接触面積を充分に確保
でき、かつ、発光層8の金属層4に対する馴染み性が良
い為、接着強度は高い。
On the other hand, when the metal layer 4 is provided on the transparent conductive laminate 1 and the light emitting layer 8 and the transparent conductive layer 3 are bonded via the metal layer 4, the metal layer 4 is thin and thus transparent. The flexibility of the conductive laminate 1 is hardly reduced, and the light emitting layer 8
Since the unevenness of the surface and the contact area when the roller is pressed can be sufficiently ensured, and the light-emitting layer 8 has good adaptability to the metal layer 4, the adhesive strength is high.

【0043】尚、透明導電性積層体1に金属層4を設け
るにしても、これが薄すぎる場合には、金属層4の形成
が不完全になって、部分的に形成されず、金属層4の存
在による効果が充分に発揮されず、あるいは形成される
金属層4は透明導電層3との密着性が完全ではなく、金
属層4が透明導電層3から剥離し易い為、接着強度が低
下する。
Even if the metal layer 4 is provided on the transparent conductive laminate 1, if the metal layer 4 is too thin, the formation of the metal layer 4 is incomplete and not partially formed. The effect of the presence of the metal layer 4 is not sufficiently exhibited, or the formed metal layer 4 does not have perfect adhesion to the transparent conductive layer 3 and the metal layer 4 is easily peeled off from the transparent conductive layer 3, so that the adhesive strength is reduced. I do.

【0044】又、金属層4が厚くなり過ぎると、透明導
電性積層体1のフレキシブル性が低下し、発光層8表面
の凹凸形状とローラ加圧時の接触面積を充分に確保でき
なくなり、接着強度が低下する。尚、前記実施例の外、
金属層4の形成にスパッタ法を用い、かつ、その材料に
下記の金属を用いた場合の結果は以下の通りであった。
On the other hand, if the metal layer 4 is too thick, the flexibility of the transparent conductive laminate 1 is reduced, and the unevenness of the surface of the light emitting layer 8 and the contact area when the roller is pressed cannot be sufficiently ensured. Strength decreases. In addition, in addition to the above embodiment,
The results obtained when the sputtering method was used to form the metal layer 4 and the following metal was used as the material were as follows.

【0045】金属層材料にカドミウムや亜鉛を用いた場
合は、金属層材料に錫を用いた場合と概ね同程度の結果
が得られ、金属層材料にチタン、アンチモン、タングス
テン、白金、金、銀、モリブデン、タンタル、ニッケル
を用いた場合は、金属層材料にクロムやパラジウムを用
いた場合と概ね同程度の結果が得られた。そして、前記
の実施例は、いずれも透明導電層表面の全領域にわたっ
て金属層を設けた例であるが、この金属層は接着力が満
足し得る範囲(例えば、透明導電層表面の50%以上)
で設けることも可能である。
When cadmium or zinc is used for the metal layer material, the result is almost the same as that when tin is used for the metal layer material, and titanium, antimony, tungsten, platinum, gold, silver When molybdenum, tantalum, or nickel was used, the results were almost the same as those when chromium or palladium was used as the metal layer material. In each of the above embodiments, the metal layer is provided over the entire area of the surface of the transparent conductive layer. However, this metal layer is in a range where the adhesive force can be satisfied (for example, 50% or more of the surface of the transparent conductive layer) )
It is also possible to provide with.

【0046】又、前記の実施例は、いずれも基体、透明
導電層及び金属層のみからなる透明導電性積層体につい
ての例であるが、基体と透明導電層との間、又は透明導
電層と金属層との間、或いは基体の透明導電層被着面と
は反対側の面上に、例えば紫外線吸収フィルタ層、反射
防止膜、補水層等の他の層を設けることも可能である。
The above embodiments are all examples of a transparent conductive laminate comprising only a substrate, a transparent conductive layer and a metal layer. It is also possible to provide another layer such as an ultraviolet absorbing filter layer, an antireflection film, and a water replenishing layer between the metal layer and the surface of the substrate opposite to the surface on which the transparent conductive layer is provided.

【0047】又、金属層材料を、例えばアルミニウムと
した場合は、金属層表面に自然酸化によるアルミナの薄
層が形成されるが、このような薄い酸化被膜の存在は、
シ−ト抵抗、光透過率、接着強度に悪影響を及ぼすこと
は殆どなく、一向に差支えない。
When the metal layer is made of, for example, aluminum, a thin layer of alumina is formed on the surface of the metal layer by natural oxidation.
There is almost no adverse effect on the sheet resistance, the light transmittance, and the adhesive strength, and there is no problem.

【0048】[0048]

【効果】本発明による透明導電性積層体は、光透過率が
高く、かつ、発光層との接着強度が充分にあって、発光
ムラが起き難く、更にはシート抵抗が低いといった特長
を奏する。従って、エレクトロルミネッセンス表示装置
用の透明導電性積層体として用いた場合には、表示パタ
ーンの輝度やコントラストが良好であり、発光層と透明
導電層との剥離が起き難く、輝度ムラが生じず、長時間
にわたって鮮明な画像が得られる。
[Effect] The transparent conductive laminate according to the present invention has features such as high light transmittance, sufficient adhesive strength with the light emitting layer, less uneven light emission, and low sheet resistance. Therefore, when used as a transparent conductive laminate for an electroluminescent display device, the brightness and contrast of the display pattern are good, the light emitting layer and the transparent conductive layer are unlikely to be separated, and the brightness unevenness does not occur. A clear image can be obtained for a long time.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】透明導電性積層体の断面図FIG. 1 is a sectional view of a transparent conductive laminate.

【図2】透明導電性積層体と発光層を設けた積層体との
接着を示す説明図
FIG. 2 is an explanatory diagram showing adhesion between a transparent conductive laminate and a laminate provided with a light emitting layer.

【図3】透明導電層と金属層とをパターニングした透明
導電性積層体の平面図
FIG. 3 is a plan view of a transparent conductive laminate in which a transparent conductive layer and a metal layer are patterned.

【図4】図3におけるIV−IV線での断面図FIG. 4 is a sectional view taken along line IV-IV in FIG.

【図5】金属層の厚さとシート抵抗及び光透過率との関
係を示すグラフ
FIG. 5 is a graph showing the relationship between the thickness of the metal layer and the sheet resistance and light transmittance.

【図6】金属層を有する透明導電性積層体のESCAに
よる分析データ
FIG. 6 ESCA analysis data of a transparent conductive laminate having a metal layer.

【図7】ピールテストを説明する説明図FIG. 7 is an explanatory diagram illustrating a peel test.

【図8】ピールテストにおける引張距離と剥離荷重との
関係を示すグラフ
FIG. 8 is a graph showing a relationship between a pulling distance and a peeling load in a peel test.

【図9】金属層の厚さとシート抵抗、光透過率及び接着
強度との関係を示すグラフ
FIG. 9 is a graph showing the relationship between the thickness of a metal layer and sheet resistance, light transmittance and adhesive strength.

【図10】金属層の厚さとシート抵抗、光透過率及び接
着強度との関係を示すグラフ
FIG. 10 is a graph showing the relationship between the thickness of a metal layer and sheet resistance, light transmittance and adhesive strength.

【図11】金属層の厚さとシート抵抗、光透過率及び接
着強度との関係を示すグラフ
FIG. 11 is a graph showing the relationship between the thickness of a metal layer and sheet resistance, light transmittance, and adhesive strength.

【図12】金属層の厚さとシート抵抗、光透過率及び接
着強度との関係を示すグラフ
FIG. 12 is a graph showing the relationship between the thickness of a metal layer and sheet resistance, light transmittance and adhesive strength.

【図13】金属層の厚さとシート抵抗、光透過率及び接
着強度との関係を示すグラフ
FIG. 13 is a graph showing the relationship between the thickness of a metal layer and sheet resistance, light transmittance and adhesive strength.

【図14】金属層の厚さとシート抵抗、光透過率及び接
着強度との関係を示すグラフ
FIG. 14 is a graph showing the relationship between the thickness of a metal layer and sheet resistance, light transmittance and adhesive strength.

【図15】金属層の厚さとシート抵抗、光透過率及び接
着強度との関係を示すグラフ
FIG. 15 is a graph showing the relationship between the thickness of a metal layer and sheet resistance, light transmittance and adhesive strength.

【図16】金属層の厚さとシート抵抗、光透過率及び接
着強度との関係を示すグラフ
FIG. 16 is a graph showing the relationship between the thickness of a metal layer and sheet resistance, light transmittance and adhesive strength.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 透明導電性積層体 2 基体 3 透明導電層 4 金属層 5 積層体 8 発光層 9 加圧・加熱ローラ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transparent conductive laminated body 2 Substrate 3 Transparent conductive layer 4 Metal layer 5 Laminated body 8 Light emitting layer 9 Pressure / heating roller

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01B 5/14 H01B 5/14 A ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Agency reference number FI Technical display location H01B 5/14 H01B 5/14 A

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 有機高分子基体と、この有機高分子基体
上に形成されたインジウム、錫、アンチモンの少なくと
も一種類の酸化物からなる透明導電層と、この透明導電
層上に被着された厚さ200Å以下の金属層とを有する
透明導電性積層体を具備してなることを特徴とするエレ
クトロルミネッセンス表示装置。
1. An organic polymer substrate, a transparent conductive layer formed on the organic polymer substrate and containing at least one oxide of indium, tin, and antimony, and a transparent conductive layer deposited on the transparent conductive layer. An electroluminescent display device comprising a transparent conductive laminate having a metal layer having a thickness of 200 Å or less.
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