JPH09147399A - 光ディスク装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】各回折光の光強度分布を精度良く測定でき、ま
た必要な回折光を抽出して精度のよいＲＦ信号および制
御信号を検出し、信頼性が高く、より安定で正確な制御
ができる光ディスク装置を提供する。 【解決手段】対物レンズ１１で収束された半導体レーザ
１６の光ビームを光ディスク１０に照射させて反射して
くる光ビームを集光する検出レンズ１８等と、複数の受
光素子で構成され検出レンズ１９等で集光された光ビー
ムの反射光を検出する光検出器１９と、その出力値より
光ビームの３次元強度分布を測定する３次元強度分布測
定回路２１と、３次元強度分布信号より光ビームを制御
するフォーカス，トラッキング等の制御手段（２２〜２
４等）と備えている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、光ディスク装置
に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】光ディスク装置は、光ビームを対物レン
ズにより絞ったビームスポットを用いて、光ディスク上
に予め記憶されている情報を検出し再生したり、光ディ
スク上に情報を記録し、あるいは記録した光ディスク上
の情報を消去、再生および重ね書きするものである。

【０００３】近年、光ディスクは再生型であるコンパク
トデイスク（ＣＤ）等から記録再生型である光磁気デイ
スクおよび相変化光ディスク等が一般的になっている。
これら光ディスクに記録されている情報を検出する方式
として、一般的に３ビーム法が使用されている。この３
ビーム法で構成された光ディスク装置で光ディスク上に
記録されている情報を検出する動作を以下に説明する。

【０００４】光ディスク上の情報の読み出しは、例え
ば、レーザダイオード、コリメータレンズ、対物レン
ズ、ビームスプリッタ、光検出器等で構成された光ピッ
クアップを利用する。まず、光源であるレーザダイオー
ドが光ビームを出射する。出射された光ビームは光ディ
スク上の情報トラックに焦点を合わせるため、コリメー
タレンズおよび対物レンズ等を介して約１ミクロンメー
タ程度のビーム径に絞られる。絞られたビームは情報ト
ラック上に照射される。次に光ビームは情報トラック上
から反射し、対物レンズおよびビームスプリッタ等を介
して所定のビーム径に絞られて光検出器に結像する。

【０００５】この光検出器に入射された反射光ビームの
スポットと光検出器の構成を図６に示し、図６における
光検出器の中央の４分割受光部に受光された各回折光の
光強度を図５に示す。図６において、１は光検出器、Ｄ
２は中央部に位置しメインビームを受光しフォーカス制
御のためのフォーカス制御信号と記録情報読み取り信号
（ＲＦ信号）等を検出するもので、正方形に分割された
領域Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄを有する４分割受光部、Ｄ１はトラ
ッキング制御のためのトラッキング制御信号を検出する
前方ビーム受光部、Ｄ３はトラッキング制御のためのト
ラッキング制御信号を検出する後方ビーム受光部であ
る。

【０００６】光検出器１に照射された反射光ビームが結
像した場合のスポットＳ₁ 〜Ｓ₃ を図６に示す。Ｓ２は
光検出器１の中央部の４分割受光部Ｄ２に結像されたス
ポット、Ｓ１は前方ビーム受光部Ｄ１に結像されたスポ
ット、Ｓ３は後方ビーム受光部Ｄ３に結像されたスポッ
トである。図５（ａ），（ｂ）は、図６に示されている
４分割受光部Ｄ₂ の各領域Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの光強度分布
の一例を記載した図である。図５（ｂ）において、Ｌ₀
は０次回折光、Ｌ₁ は１次回折光、Ｌ₂ は２次回折光で
ある。図５（ｂ）に示す４分割受光部Ｄ₂ 上の各領域Ａ
〜Ｄの光強度は、図５（ａ）に示すように各領域Ａ〜Ｄ
に照射された全ての回折光を積分した反射光量であり、
光検出器１は、光ディスクからの反射光量に基づく反射
光量信号を出力する。

【０００７】従来の光ディスク装置は光ディスク１上の
情報の読み出し時または記録時に反射光量信号から光デ
ィスク装置を制御する制御信号であるフォーカス制御信
号、トラッキング制御信号等やＲＦ信号等を生成してい
る。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記構
成の光ディスク装置において、光検出器１では光検出器
１の領域に照射される反射光の全ての回折光の光強度を
検出してしまうため、必要な回折光の光強度を検出する
ことができない。よって、従来の光ディスク装置は、精
度が高く正確なフォーカス制御信号、トラッキング制御
信号、ＲＦ信号等が得られず、クロストークおよびＣ／
Ｎ比を向上することが困難であるという問題点を有して
いた。

【０００９】また、光ディスクに記録されている情報を
読み出す誤り数を低減することや、光ディスクに情報を
記録する場合の誤り数を低減することが難しく、光ディ
スクに記録されている情報および記録する情報の信頼性
が低下するという問題点と、フォーカス制御信号、トラ
ッキング制御信号等の信号成分に高次回折光成分が重畳
されているために正確な制御信号を得られず、光ディス
ク装置をより安定でかつ正確に制御することができない
という問題点とを有していた。

【００１０】この発明は、上記従来の問題点を解決する
もので、各回折光の光強度分布を精度良く測定できる光
ディスク装置を提供し、また必要な回折光を抽出して精
度のよいＲＦ信号および制御信号を検出し、信頼性が高
く、より安定で正確な制御ができる光ディスク装置を提
供することを目的とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の光ディス
ク装置は、放射光源と、この放射光源から出射された光
ビームを収束する収束手段と、この収束手段で収束され
た光ビームを光ディスクに照射させて反射してくる光ビ
ームを集光する反射光集光手段と、複数の受光素子で構
成され反射光集光手段で集光された光ビームの反射光を
検出する反射光検出手段と、この反射光検出手段の出力
値より光ビームの３次元強度分布を測定する３次元強度
分布測定手段とを備えたものである。

【００１２】請求項１記載の光ディスク装置によれば、
放射光源より収束手段を通して光ディスク上の情報記録
面に光ビームを照射し、反射してくる光ビームを反射光
集光手段で集光し、反射光検出手段で反射光ビームを検
出する。反射光検出手段は複数の受光素子で構成されて
おり、３次元強度分布測定手段は反射光検出手段の出力
値より光ビームの３次元強度分布を測定する。この３次
元強度分布より、反射光ビームの各回折光の３次元強度
分布を検出することができる。したがって、所望の回折
光の３次元強度分布を利用して、たとえば光ビームをよ
り高精度に制御するための各制御信号を検出したり、ク
ロストークが低減され、Ｃ／Ｎ比の良いＲＦ信号を検出
することが可能となる。

【００１３】請求項２記載の光ディスク装置は、請求項
１において、３次元強度分布測定手段より得た所定の回
折光の３次元強度分布信号から光ビームを制御をする制
御手段を有するものである。請求項２記載の光ディスク
装置によれば、所定の回折光の３次元強度分布を抽出し
て、制御手段によりその回折光の光ビームを制御するこ
とにより、光ビームをより高精度に制御するための各制
御信号を検出したり、クロストークが低減され、Ｃ／Ｎ
比の良いＲＦ信号を検出することが達成される。

【００１４】請求項３記載の光ディスク装置は、請求項
１記載の３次元強度分布測定手段に代えて、反射光検出
手段の出力値より光ビームの形状を測定する形状測定手
段を備えたものである。請求項３記載の光ディスク装置
によれば、反射光検出手段の出力値より所定の光強度レ
ベルでの各回折光のビームの形状信号を出力できるとと
もに、この形状信号により所定の光強度レベルの光ブー
ムの形状を測定でき、また所定の回折光の所定の形状に
おける光強度レベルを測定ことができる。このため、所
望の回折光を利用して、請求項１と同効果を得ることが
できる。

【００１５】請求項４記載の光ディスク装置は、請求項
３において、形状測定手段より得た所定の回折光の形状
信号で光ビームを制御をする制御手段を有するものであ
る。請求項４記載の光ディスク装置によれば、所望の回
折光の形状信号を利用して光ビームを制御することによ
り、請求項２と同効果を得ることができる。請求項５記
載の光ディスク装置は、放射光源と、この放射光源から
出射された光ビームを収束させる収束手段と、この収束
手段で収束された光ビームを光ディスクに照射させて光
ディスクを透過してくる光ビームを検出する複数の受光
素子で構成された透過光検出手段と、透過光検出手段の
出力値より光ビームの３次元強度分布を測定する３次元
強度分布測定手段とを備えたものである。

【００１６】請求項５記載の光ディスク装置によれば、
請求項１と同効果がある。請求項６記載の光ディスク装
置は、請求項５において、３次元強度分布測定手段より
得た所定の回折光の３次元強度分布信号から光ビームを
制御をする制御手段を有するものである。請求項６記載
の光ディスク装置によれば、請求項２と同効果がある 請求項７記載の光ディスク装置は、請求項５記載の３次
元強度分布測定手段に代えて、透過光検出手段の出力値
より光ビームの形状を測定する形状測定手段を備えたも
のである。

【００１７】請求項７記載の光ディスク装置によれば、
請求項３と同効果がある。請求項８記載の光ディスク装
置は、請求項７において、形状測定手段より得た所定の
回折光の形状信号で光ビームを制御をする制御手段を有
するものである。請求項８記載の光ディスク装置によれ
ば、請求項４と同効果がある。

【００１８】

【発明の実施の形態】この発明の第１の実施の形態につ
いて、図１ないし図３に基づいて説明する。図１におい
て、１０は光ディスク、１１は光ビームを絞る対物レン
ズ、１２は対物レンズ１１をフォーカス方向に移動させ
るフォーカスアクチュエータ、１３は光ディスクからの
反射光を分離するビームスプリッタ、１４は光ビームを
平行光にするコリメータレンズ、１５は半導体レーザ１
６から出射された光ビームを分割するグレーテイングレ
ンズ、１６は放射光源となる半導体レーザである。対物
レンズ１１，コリメータレンズ１４等で収束手段を構成
する。

【００１９】また、１７はビームスプリッタ１３により
分離された反射光を平行にするコリメータレンズ、１８
は反射光を検出する検出レンズ、１９は図３に示す複数
の受光素子１９ａで構成されている反射光を電気信号に
変換する反射光検出手段である光検出器、２０は対物レ
ンズ１１をトラッキング方向に移動させるトラッキング
アクチュエータ、２８は光ピックアップである。対物レ
ンズ１１，コリメータレンズ１７，検出レンズ１８等に
より反射光集光手段を構成する。

【００２０】２１は光検出器１９から反射光ビームの回
折光の光強度分布を３次元で測定する３次元強度分布測
定手段を構成する３次元強度分布測定回路、２２は光デ
ィスク１０の情報記録面と情報記録面に照射される光ビ
ームの光軸の傾き角を制御する信号を３次元強度分布測
定回路２１の出力より検出する傾き角制御信号検出回
路、２５は傾き角制御信号検出回路２２の出力信号より
光ピックアップ２８を光ディスク１０の情報記録面と情
報記録面に照射される光ビームの光軸の傾き角を所定の
値に制御するように光ピックアップ２８を駆動する光ピ
ックアップ駆動回路、２３は情報記録面に光ビームのス
ポットを合焦させるフォーカス制御信号を３次元強度分
布測定回路２１の出力より検出するフォーカス制御信号
検出回路、２６は情報記録面に光ビームのスポットを合
焦させるためにフォーカス制御信号検出回路２３の出力
に応じてフォーカスアクチュエータ１２を駆動するフォ
ーカスアクチュエータ駆動回路、２４は情報記録トラッ
ク上に光ビームの焦点を合わせるトラッキング制御信号
を３次元強度分布測定回路２１の出力より検出するトラ
ッキング制御信号検出回路、２７は情報記録トラック上
の中心に光ビームのスポット中心を合わさせるためにト
ラッキング制御信号検出回路２４の出力に応じてトラッ
キングアクチュエータ２０を駆動するトラッキングアク
チュエータ駆動回路、２９は３次元強度分布測定回路２
１の出力信号よりＲＦ信号を検出するＲＦ信号検出回路
である。傾き角制御信号検出回路２２，フォーカス制御
信号検出回路２３，トラッキング制御信号検出回路２４
等により、３次元強度分布測定手段の出力で光ビームを
制御する制御手段を構成する。

【００２１】図２は、３次元強度分布測定回路２１より
得られた光検出器１９に入射する反射光のビームスポッ
トの、光強度分布図であり、Ｌ₀ は０次回折光、Ｌ₁ は
１次回折光、Ｌ₂ は２次回折光、Ｍ₀ ，Ｎ₀ は０次回折
光領域、Ｍ₁ ，Ｎ₁ は１次回折光領域、Ｍ₂ ，Ｎ₂ は２
次回折光領域である。以上のように構成された第１の実
施の形態の光ディスク装置について、以下にその動作を
説明する。図１において、半導体レーザ１６から出射さ
れた光ビームがグレーテイングレンズ１５、コリメータ
レンズ１４、ビームスプリッタ１３を介して、対物レン
ズ１１により光ビームを絞る。絞ったビームスポットは
光ディスク１０に記録されている情報トラック上の中心
を安定に追従するように制御される。情報トラック上の
情報は光ディスク１０から反射されて対物レンズ１１を
透過し、ビームスプリッタ１３により分離されコリメー
タレンズ１７、検出レンズ１８を介して、光検出器１９
へ結像される。結像された反射光ビームの一例を図２に
示す。光検出器１９に結像された各回折光のビームスポ
ットは３次元強度分布測定回路２１で処理され、図２に
示された光強度分布特性が３次元で測定できる。

【００２２】図１の構成において、反射光ビームスポッ
トは、複数の回折光を有し、光検出器１９に入射され、
３次元強度分布測定回路２１で処理され、図２のような
３次元強度分布信号を出力する。この３次元強度分布信
号から所定の回折光の信号のみを抽出することができ
る。例えば図２で所定の光強度レベルＡ以下の回折光を
除去し、必要な０次回折光Ｌ₀ の３次元強度分布を抽出
する等の処理ができる。また、必要な回折光は光強度分
布特性の距離からも抽出できる。例えば図２で０次回折
光Ｌ₀ を抽出する場合は、図中の０次回折光領域Ｍ₀ ，
Ｎ₀ のみの３次元光強度分布を抽出すれば、所望の回折
光の３次元光強度分布を抽出できる。

【００２３】以上のように、第１の実施の形態によれ
ば、放射光源である半導体レーザ１６から出射された光
ビームを収束させる収束手段である対物レンズ１１等
と、収束手段で収束された光ビームを光ディスク１０に
照射させて反射してくる光ビームを集光する反射光集光
手段である検出レンズ１８等と、複数の受光素子で構成
され反射光集光手段で集光された光ビームの反射光を検
出する反射光検出手段である光検出器１９と、反射光検
出手段の出力値より光ビームの３次元強度分布を測定す
る３次元強度分布測定回路２１とを設けることにより、
所定の回折光の３次元強度分布領域を抽出することがで
きるため、所望の回折光の３次元強度分布を利用して、
光ビームをより高精度に制御するための各制御信号を検
出したり、クロストークが少なくＣ／Ｎ比の良いＲＦ信
号を検出することができる。

【００２４】また、この第１の実施の形態は、３次元強
度分布測定回路２１で処理され、図２のような３次元強
度分布信号を出力し、この３次元強度分布信号から各制
御信号検出回路である傾き角制御信号検出回路２２、フ
ォーカス制御信号検出回路２３、トラッキング制御信号
検出回路２４とＲＦ信号検出回路２９により、所定の回
折光信号のみを抽出し、所定の回折光信号の強度分布に
基づいて光ディスク装置を制御したり、情報を読み出し
たりする。このため、高精度で正確なフォーカス制御信
号、トラッキング制御信号等の制御信号、ＲＦ信号が得
られ、光ビームを制御できるためにクロストークが低減
でき、Ｃ／Ｎ比を向上することできる。さらに、光ディ
スク１０に記録されている情報を読み出す誤り数を低減
することや光ディスク１０に情報を記録する場合の誤り
数を低減することができ、光ディスク１０に記録されて
いる情報及び記録する情報の信頼性が向上する。

【００２５】この発明の第２の実施の形態を図４に基づ
いて説明する。すなわち、この光ディスク装置は、第１
の実施の形態において、３次元強度分布測定回路２１に
代えて、反射光検出手段である光検出器１９の出力値よ
り光ビームの形状を測定する形状測定手段である形状測
定回路４０を設けたものである。そして傾き角制御信号
検出回路２２等の制御手段は形状測定手段４０が出力す
る所定の回折光の形状信号で光ビームを制御する。

【００２６】具体的に説明すると、形状測定回路４０は
光検出器１９からの反射光ビームの光強度分布における
形状を測定する。光検出器１９は複数の回折光が照射さ
れている。光検出器１９に照射されている複数の回折光
は形状測定回路４０で処理される。形状測定回路４０は
所定の光強度レベルでの各回折光のビーム形状の形状信
号を出力する。この形状信号により、所定の光強度レベ
ルの光ビームの形状を測定できる。また、所定の回折光
の所定の形状における光強度レベルを測定することもで
きる。例えば図２に示した形状Ｓ３０の光強度レベルを
測定すると、光強度レベルの測定値はレベルＡである。
このように所定の光ビームの形状から光強度レベルを測
定でき、かつ所定の光強度から光スポットの形状を測定
することができる。

【００２７】このように、第２の実施の形態によれば、
第１の実施の形態の３次元強度分布測定回路２１に代え
て、光検出器１９の出力値より光ビームの形状を測定す
る形状測定回路４０を備えることにより、所定の回折光
の形状と光強度レベルを測定することができるため、反
射光ビームの各回折光の形状が検出でき、所望の回折光
の形状を利用して、光ビームをより高精度に制御するた
めの各制御信号を検出したり、Ｃ／Ｎの良いＲＦ信号を
検出することができ、第１の実施の形態と同様な効果を
得る。

【００２８】また、第２の実施の形態は、反射光ビーム
スポットが複数の回折光を有し、光検出器１９に入射さ
れ、形状測定回路４０で処理され、図２の例のような光
ビームの形状信号を出力するが、この形状信号から各制
御信号検出回路である傾き角制御信号検出回路２２、フ
ォーカス制御信号検出回路２３、トラッキング制御信号
検出回路２４とＲＦ信号検出回路２９により、所定の制
御信号やＲＦ信号を出力し、光ディスク装置を制御した
り、情報を読み出したりすることができる。このよう
に、形状測定回路４０より得た所定の回折光の形状信号
で光ビームを制御をする制御手段を有するので、各種制
御信号の精度が向上し、正確なフォーカス制御信号、ト
ラッキング制御信号、ＲＦ信号等が得られ、クロストー
ク低減やＣ／Ｎ比を向上することできる。さらに、光デ
ィスクに記録されている情報を読み出す誤り数を低減す
ることや、光ディスクに情報を記録する場合の誤り数を
低減することができ、光ディスクに記録されている情報
および記録する情報の信頼性が向上する。

【００２９】この発明の第３の実施の形態として、収束
手段で収束された光ビームを光ディスクに照射させ、光
ディスクを透過してくる光ビームを、複数の受光素子で
構成された透過光検出手段により検出し、この検出信号
を３次元強度分布測定手段または形状測定手段に入力す
るものがある。具体的には、第１の実施の形態のビーム
スプリック１３がないほか、光ディスクを間にして半導
体レーザ１６は反対側に光検出器１９と同構成の透過光
検出手段を有するとともに、透過光検出手段と光ディス
クとの間にコリメータレンズおよび検出レンズを含む公
知の光学系を設けている点で若干相違するが、他は第１
の実施の形態および第２の実施の形態と同様であり、各
実施の形態と同様な作用効果を得ることができる。

【００３０】なお、この発明において、３次元分布測定
手段および形状測定手段の出力信号より所定の回折光の
３次元分布測定信号または形状信号を抽出する手段は、
３次元分布測定手段および形状測定手段側か、制御手段
側かのいずれに設けてもよい。

【００３１】

【発明の効果】請求項１記載の光ディスク装置によれ
ば、放射光源より収束手段を通して光ディスク上の情報
記録面に光ビームを照射し、反射してくる光ビームを反
射光集光手段で集光し、反射光検出手段で反射光ビーム
を検出する。反射光検出手段は複数の受光素子で構成さ
れており、３次元強度分布測定手段は反射光検出手段の
出力値より光ビームの３次元強度分布を測定する。この
３次元強度分布より、反射光ビームの各回折光の３次元
強度分布を検出することができる。したがって、所望の
回折光の３次元強度分布を利用して、たとえば光ビーム
をより高精度に制御するための各制御信号を検出した
り、クロストークが低減され、Ｃ／Ｎ比の良いＲＦ信号
を検出することが可能となる。

【００３２】請求項２記載の光ディスク装置によれば、
請求項１において、３次元強度分布測定手段より得た所
定の回折光の３次元強度分布信号から光ビームを制御を
する制御手段を有するため、所定の回折光の３次元強度
分布を抽出して、制御手段によりその回折光の光ビーム
を制御することにより、光ビームをより高精度に制御す
るための各制御信号を検出したり、クロストークが低減
され、Ｃ／Ｎ比の良いＲＦ信号を検出することが達成さ
れる。

【００３３】請求項３記載の光ディスク装置によれば、
請求項１記載の３次元強度分布測定手段に代えて、反射
光検出手段の出力値より光ビームの形状を測定する形状
測定手段を備えたため、反射光検出手段の出力値より所
定の光強度レベルでの各回折光のビームの形状信号を出
力できるとともに、この形状信号により所定の光強度レ
ベルの光ブームの形状を測定でき、また所定の回折光の
所定の形状における光強度レベルを測定ことができる。
このため、所望の回折光を利用して、請求項１と同効果
を得ることができる。

【００３４】請求項４記載の光ディスク装置によれば、
請求項３において、形状測定手段より得た所定の回折光
の形状信号で光ビームを制御をする制御手段を有するた
め、所望の回折光の形状信号を利用して光ビームを制御
することにより、請求項２と同効果を得ることができ
る。請求項５記載の光ディスク装置によれば、請求項１
と同効果がある。

【００３５】請求項６記載の光ディスク装置によれば、
請求項５において、３次元強度分布測定手段より得た所
定の回折光の３次元強度分布信号から光ビームを制御を
する制御手段を有するため、請求項２と同効果がある 請求項７記載の光ディスク装置によれば、請求項５記載
の３次元強度分布測定手段に代えて、透過光検出手段の
出力値より光ビームの形状を測定する形状測定手段を備
えたため、請求項３と同効果がある。

【００３６】請求項８記載の光ディスク装置によれば、
請求項７において、形状測定手段より得た所定の回折光
の形状信号で光ビームを制御をする制御手段を有するた
め、請求項４と同効果がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の第１の実施の形態における光ディス
ク装置の構成を示すブロック図である。

【図２】光ディスク装置の動作を説明するための反射光
のビームスポットの光強度分布図である。

【図３】受光素子の形状を示す部分平面図である。

【図４】第２の実施の形態の光ディスク装置の構成を示
すブロック図である。

【図５】従来の光ディスク装置の反射光ビームスポット
の光強度を示す説明図である。

【図６】従来の光ディスク装置の光検出器の構成を示す
説明図である。

【符号の説明】

１０ 光ディスク １１ 収束手段を構成する対物レンズ １２ フォーカスアクチュエータ １３ ビームスプリッタ １４，１７ コリメータレンズ １５ グレーテイングレンズ １６ 放射光源である半導体レーザ １８ 反射光集光手段を構成する検出レンズ １９ 反射光検出手段である光検出器 ２０ トラッキングアクチュエータ ２１ ３次元強度分布測定回路 ２２ 傾き角制御信号検出回路 ２３ フォーカス制御信号検出回路 ２４ トラッキング制御信号検出回路 ２５ 光ピックアップ駆動回路 ２６ フォーカスアクチュエータ駆動回路 ２７ トラッキングアクチュエータ駆動回路 ２８ 光ピックアップ ２９ ＲＦ信号検出回路 ４０ 形状測定回路 Ｓ３０ 所定の光強度レベルＡでの光ビームの０次回折
光の形状

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 放射光源と、この放射光源から出射され
   た光ビームを収束する収束手段と、この収束手段で収束
   された光ビームを光ディスクに照射させて反射してくる
   光ビームを集光する反射光集光手段と、複数の受光素子
   で構成され前記反射光集光手段で集光された光ビームの
   反射光を検出する反射光検出手段と、この反射光検出手
   段の出力値より光ビームの３次元強度分布を測定する３
   次元強度分布測定手段とを備えた光ディスク装置。
2. 【請求項２】 ３次元強度分布測定手段より得た所定の
   回折光の３次元強度分布信号から光ビームを制御をする
   制御手段を有する請求項１記載の光ディスク装置。
3. 【請求項３】 請求項１記載の３次元強度分布測定手段
   に代えて、反射光検出手段の出力値より光ビームの形状
   を測定する形状測定手段を備えた光ディスク装置。
4. 【請求項４】 形状測定手段より得た所定の回折光の形
   状信号で光ビームを制御をする制御手段を有する請求項
   ３記載の光ディスク装置。
5. 【請求項５】 放射光源と、この放射光源から出射され
   た光ビームを収束させる収束手段と、この収束手段で収
   束された光ビームを光ディスクに照射させて前記光ディ
   スクを透過してくる光ビームを検出する複数の受光素子
   で構成された透過光検出手段と、前記透過光検出手段の
   出力値より光ビームの３次元強度分布を測定する３次元
   強度分布測定手段とを備えた光ディスク装置。
6. 【請求項６】 ３次元強度分布測定手段より得た所定の
   回折光の３次元強度分布信号から光ビームを制御をする
   制御手段を有する請求項５記載の光ディスク装置。
7. 【請求項７】 請求項５記載の３次元強度分布測定手段
   に代えて、透過光検出手段の出力値より光ビームの形状
   を測定する形状測定手段を備えた光ディスク装置。
8. 【請求項８】 形状測定手段より得た所定の回折光の形
   状信号で光ビームを制御をする制御手段を有する請求項
   ７記載の光ディスク装置。