JPH09147342A - Magnetic recorder, magnetic recording medium and its production - Google Patents

Magnetic recorder, magnetic recording medium and its production

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JPH09147342A
JPH09147342A JP29978595A JP29978595A JPH09147342A JP H09147342 A JPH09147342 A JP H09147342A JP 29978595 A JP29978595 A JP 29978595A JP 29978595 A JP29978595 A JP 29978595A JP H09147342 A JPH09147342 A JP H09147342A
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功剛 貝津
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent the counter diffusion of silicon in a silicon substrate and magnetic substance particles in a granular magnetic layer due to heat by forming a diffusion preventing layer of a nonmagnetic material between the silicon substrate and the granular magnetic layer contg. a nonmagnetic material besides the magnetic substance particles. SOLUTION: A diffusion preventing layer 42 of SiO2 is formed on a single- crystalline silicon substrate 41 and a granular magnetic film 43 contg. fine magnetic substance particles 43g dispersed in SiO2 43s is formed on the layer 42. The magnetic film 43 is grown in an atmosphere of Ar while keeping the substrate at room temp. and then the crystallinity of the magnetic substance particles is improved by heat treatment in an inert gaseous atmosphere. A protective film 44 of carbon is formed on the magnetic film 43 and the top of the film 44 is coated with a lubricant to obtain the objective recording medium.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録装置、磁
気記録媒体及びその製造方法に関し、より詳しくは、情
報処理装置の外部記憶装置などに使用される磁気記録装
置と、シリコン基板上に磁性層を有する構造の磁気記録
媒体及びその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic recording device, a magnetic recording medium and a method for manufacturing the same, and more particularly, to a magnetic recording device used for an external storage device of an information processing device and a magnetic recording medium on a silicon substrate. The present invention relates to a magnetic recording medium having a layer structure and a manufacturing method thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】磁気記録装置では、磁性膜中の磁性材料
の結晶粒の大きさ、結晶粒間の距離及び結晶の配向性な
どによって磁性膜の記録再生特性は大きく変化する。磁
性膜の結晶の大きさは、膜成長時の基板温度や成膜後の
熱処理によって変化させることができる。
2. Description of the Related Art In a magnetic recording apparatus, the recording / reproducing characteristics of a magnetic film greatly change depending on the size of crystal grains of a magnetic material in a magnetic film, the distance between crystal grains, the crystal orientation, and the like. The crystal size of the magnetic film can be changed by the substrate temperature during film growth and the heat treatment after film formation.

【0003】例えば、SiO2膜中に磁性体微粒子が分散し
てなるグラニュラ磁性膜(Fe−SiO2)では、成膜時の基
板温度を適当に制御することにより、磁性体微粒子の結
晶性を改善し、より好ましい磁気特性及び記録再生特性
が得られることが、Appl. Phys. Lett. 52 (6), 512(19
88) 及び米国特許公報4,973,525 に記載されている。こ
のことから、グラニュラ磁性膜は、成膜しただけでは膜
中の磁性材料の析出物が小さく、保磁力が発現し難い傾
向にある。保磁力を高くするためには、成長後に熱処理
を施し、析出物の体積を大きくする必要があることがわ
かる。
For example, in a granular magnetic film (Fe-SiO 2 ) in which magnetic fine particles are dispersed in a SiO 2 film, the crystallinity of the magnetic fine particles is controlled by appropriately controlling the substrate temperature during film formation. Appl. Phys. Lett. 52 (6), 512 (19)
88) and US Pat. No. 4,973,525. From this, the granular magnetic film has a small amount of precipitates of the magnetic material in the film just by forming the film, and the coercive force tends to be difficult to develop. It can be seen that in order to increase the coercive force, it is necessary to perform heat treatment after growth to increase the volume of precipitates.

【0004】一方、磁気記録媒体用基板として、従来か
ら主にNi−P メッキ基板が使用されているが、その基板
表面のNi−P 層が300℃以上の加熱によって結晶化し
て、平滑性が損なわれたり帯磁したりしてしまうなどの
問題があり、高温での熱処理には不適当である。また、
昨今の磁気ディスク装置では、小型化の流れの中でIC
カードと同じサイズにすることが考えられている。この
場合、磁気ディスクの厚さを3mm以下にする必要があ
る。この場合、基板の厚さを0.3mm以下にすることが
要求されるが、Ni−P メッキ基板を使用することは機械
的強度上の問題がある。
On the other hand, a Ni-P plated substrate has been mainly used as a substrate for a magnetic recording medium, but the Ni-P layer on the surface of the substrate is crystallized by heating at 300 ° C. or more, resulting in smoothness. It is not suitable for heat treatment at high temperature because of problems such as damage and magnetization. Also,
With the recent trend toward miniaturization, ICs are being used in magnetic disk drives.
It is considered to be the same size as the card. In this case, the thickness of the magnetic disk needs to be 3 mm or less. In this case, the thickness of the substrate is required to be 0.3 mm or less, but using a Ni-P plated substrate has a problem in mechanical strength.

【0005】このように、磁気記録媒体の薄層化及び平
滑化をさらに進めるうえで、Ni−Pメッキ基板に代わっ
て硝子基板や単結晶シリコン基板が検討されている。例
えば単結晶シリコン基板を使用し、その上にクロム(C
r)層、磁性膜、保護膜を順に成長し、これらを磁気記
録媒体として使用することが特開昭59-96538号で提案さ
れている。
As described above, in order to further reduce the thickness and smooth the magnetic recording medium, a glass substrate or a single crystal silicon substrate has been studied in place of the Ni-P plated substrate. For example, a single crystal silicon substrate is used, and chrome (C
It has been proposed in JP-A-59-96538 to grow an r) layer, a magnetic film and a protective film in this order and use these as a magnetic recording medium.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】以上のことから、単結
晶シリコン基板上にFe−SiO2グラニュラ磁性膜を成長し
た後に、そのグラニュラ磁性膜を加熱処理することが考
えられる。この場合、鉄のグラニュラを覆うSiO2が、シ
リコン基板とグラニュラとの反応を防止する効果がある
と推測される。
From the above, it is conceivable to grow the Fe—SiO 2 granular magnetic film on the single crystal silicon substrate and then heat-treat the granular magnetic film. In this case, it is presumed that SiO 2 covering the iron granular has an effect of preventing the reaction between the silicon substrate and the granular.

【0007】しかし、本発明者の実験によれば、シリコ
ン基板上のグラニュラ磁性膜を高温で加熱したところ、
グラニュラの結晶粒界の表面を通って磁性体原子とシリ
コン原子が相互に拡散して常磁性のシリコン化合物を形
成し、これにより磁気記録媒体の飽和磁化(Ms )の値
が減少した。特に、MRヘッドの使用を前提としている
ような低tBr(t;磁性層の厚さ、Br;残留磁化の
大きさ)が要求される磁気記録媒体では、磁性膜中の磁
性材料の量が絶対的に少ないため、磁性材料がシリコン
化合物を形成することは重大な問題である。
However, according to the experiments of the present inventor, when the granular magnetic film on the silicon substrate was heated at a high temperature,
The magnetic atoms and silicon atoms diffuse with each other through the surfaces of the grain boundaries of the granular particles to form paramagnetic silicon compounds, which reduces the saturation magnetization (Ms) of the magnetic recording medium. In particular, in a magnetic recording medium that requires a low tBr (t; thickness of magnetic layer, Br; magnitude of residual magnetization), which is premised on the use of an MR head, the amount of magnetic material in the magnetic film is absolute. It is a serious problem that magnetic materials form silicon compounds.

【0008】一方、材料の異なる複数の層を基板上に形
成してなる磁気記録媒体は、それらの層を形成した後に
加熱すると、熱膨張係数の違いによって膜剥がれのおそ
れがある。本発明の目的は、シリコン基板のシリコンと
グラニュラ磁性膜の磁性材の反応を防止して保磁力の低
下を抑制するとともに、膜剥がれのない磁気記録媒体と
その製造方法、及びそのような磁気記録媒体を有する磁
気記録装置を提供することにある。
On the other hand, in a magnetic recording medium in which a plurality of layers made of different materials are formed on a substrate, if the layers are formed and then heated, there is a risk of film peeling due to the difference in thermal expansion coefficient. An object of the present invention is to prevent a reaction between silicon of a silicon substrate and a magnetic material of a granular magnetic film to suppress a decrease in coercive force, a magnetic recording medium without film peeling, a method for manufacturing the same, and such a magnetic recording. It is to provide a magnetic recording device having a medium.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】図1(c) に例示するよう
に、シリコン基板41と、前記シリコン基板41上に形
成された磁性体粒子を含まない非磁性材よりなる拡散防
止層42と、前記拡散防止層42上に形成されて前記非
磁性材と磁性体粒子を含むグラニュラ磁性層43とを有
することを特徴とする磁気記録媒体によって解決する。
As illustrated in FIG. 1 (c), a silicon substrate 41 and a diffusion prevention layer 42 formed on the silicon substrate 41 and made of a non-magnetic material containing no magnetic particles are provided. The magnetic recording medium is characterized in that it has a granular magnetic layer 43 formed on the diffusion prevention layer 42 and containing the non-magnetic material and magnetic particles.

【0010】前記非磁性材は、二酸化シリコンであるこ
とを特徴とする。前記グラニュラ磁性層43の厚さとそ
の残留磁化の積は100Gμm以下であることを特徴と
する。また、前記磁性体粒子は、鉄、コバルト、ニッケ
ルのいずれか又は鉄、コバルト、ニッケルの少なくとも
1種類を含む材料から構成されていることを特徴とす
る。
The non-magnetic material is silicon dioxide. The product of the thickness of the granular magnetic layer 43 and its residual magnetization is 100 Gm or less. Further, the magnetic particles are characterized by being made of a material containing any one of iron, cobalt and nickel, or a material containing at least one of iron, cobalt and nickel.

【0011】図9に例示するように、前記磁気記録媒体
46と、前記磁気記録媒体46に書き込まれた磁気記録
情報を書込み又は読み出すための磁気ヘッド47とを有
することを特徴とする磁気記録装置によって解決する。
図1(a) 、1(b) に例示するように、シリコン基板41
上に磁性体粒子を含めずに非磁性材よりなる拡散防止層
42を成長する工程と、磁性体粒子と前記非磁性材を含
有するグラニュラ磁性層43を前記拡散防止層42上に
形成する工程と、前記シリコン基板41、前記拡散防止
層42及び前記グラニュラ磁性層43を加熱する工程と
を有することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法によ
って解決する。
As illustrated in FIG. 9, the magnetic recording apparatus has the magnetic recording medium 46 and a magnetic head 47 for writing or reading the magnetic recording information written in the magnetic recording medium 46. Solve by.
As illustrated in FIGS. 1 (a) and 1 (b), a silicon substrate 41 is used.
Growing a diffusion prevention layer 42 made of a non-magnetic material on the diffusion prevention layer 42 without including magnetic particles; and forming a granular magnetic layer 43 containing the magnetic particles and the non-magnetic material on the diffusion prevention layer 42. And a step of heating the silicon substrate 41, the diffusion preventing layer 42, and the granular magnetic layer 43.

【0012】この方法において、前記加熱温度を300
℃以上にすることを特徴とする。 (作 用)本発明によれば、非磁性材及び磁性体粒子を
含むグラニュラ磁性層とシリコン基板との間に、その非
磁性材よりなる拡散防止層を形成しているので、シリコ
ン基板中のシリコンと磁気記録層中の磁性体粒子の熱に
よる相互拡散は拡散防止層によって妨げられる。
In this method, the heating temperature is set to 300
It is characterized in that the temperature is above ℃. (Operation) According to the present invention, the diffusion prevention layer made of the non-magnetic material is formed between the granular magnetic layer containing the non-magnetic material and the magnetic particles and the silicon substrate. The thermal diffusion between silicon and the magnetic particles in the magnetic recording layer is prevented by the diffusion prevention layer.

【0013】従って、磁性体とシリコンの化合物が生成
されないので、磁気記録層では磁性体が減少することが
なくなり、高保磁力で高記録密度の磁気記録媒体を得る
ことができる。しかも、磁性体微粒子を除くグラニュラ
磁性層と拡散防止層を同じ非磁性材料で構成しているの
で、グラニュラ磁性層と拡散防止層は熱による応力の違
いが生じないので膜の剥がれが生じるおそれもなく安定
した層構造を得ることができる。非磁性層として例えば
シリコン酸化膜があり、磁性体粒子として例えば鉄、コ
バルト、ニッケルがある。なお、二酸化シリコン層とシ
リコン基板との密着性は極めて良好であり、熱による膜
剥がれのおそれは全くない。
Therefore, since the compound of magnetic substance and silicon is not generated, the magnetic substance does not decrease in the magnetic recording layer, and a magnetic recording medium having high coercive force and high recording density can be obtained. Moreover, since the granular magnetic layer excluding the magnetic fine particles and the diffusion prevention layer are made of the same non-magnetic material, the granular magnetic layer and the diffusion prevention layer do not cause a difference in stress due to heat, and thus the film may peel off. It is possible to obtain a stable layer structure. The non-magnetic layer is, for example, a silicon oxide film, and the magnetic particles are, for example, iron, cobalt, and nickel. The adhesion between the silicon dioxide layer and the silicon substrate is extremely good, and there is no risk of film peeling due to heat.

【0014】なお、グラニュラ磁性層を構成する非磁性
材とは熱膨張係数が同じで且つ組成が異なる非磁性材に
よって拡散防止層を構成することも考えられる。しか
し、2つの非磁性材を別々に合金化する手間がかかるの
で、それらの非磁性材は同一であることが好ましい。そ
のような構造のグラニュラ磁性層の厚さとその残留磁化
量の積を100Gμm以下にすると、磁気抵抗効果型ヘ
ッドに最適な磁気記録媒体が得られる。
It is also conceivable that the diffusion prevention layer is made of a non-magnetic material having the same coefficient of thermal expansion and a different composition as the non-magnetic material forming the granular magnetic layer. However, since it takes time and effort to alloy the two non-magnetic materials separately, it is preferable that the non-magnetic materials are the same. When the product of the thickness of the granular magnetic layer having such a structure and the amount of residual magnetization thereof is 100 Gm or less, an optimum magnetic recording medium for a magnetoresistive head can be obtained.

【0015】なお、シリコン基板は仮に1000℃で加
熱しても帯磁したり変形することはない。
Even if the silicon substrate is heated at 1000 ° C., it will not be magnetized or deformed.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】そこで、以下に本発明の実施例を
図面に基づいて説明する。図1は、本発明の一実施形態
に係る磁気記録媒体の製造工程を示す断面図である。ま
ず、図1(a) に示すように、単結晶のシリコン基板41
上にSiO2(二酸化シリコン)よりなる拡散防止層42を
スパッタ又は熱酸化により100nmの厚さに形成する。
Embodiments of the present invention will now be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a sectional view showing a manufacturing process of a magnetic recording medium according to an embodiment of the present invention. First, as shown in FIG. 1A, a single crystal silicon substrate 41
A diffusion prevention layer 42 made of SiO 2 (silicon dioxide) is formed on the top of the diffusion prevention layer 42 to a thickness of 100 nm by sputtering or thermal oxidation.

【0017】次に図1(b) に示すように、鉄(Fe)のよ
うな磁性体微粒子43gがSiO243s中に分散されてな
るグラニュラ磁性膜43をスパッタにより拡散防止層4
2上に30nmの厚さに形成する。グラニュラ磁性膜43
は、基板温度を室温としてAr雰囲気中で成長された。こ
の後に、図1(c) に示すように、不活性ガス雰囲気での
熱処理によって磁性体微粒子の結晶性を改善する。
Next, as shown in FIG. 1B, a diffusion preventing layer 4 is formed by sputtering a granular magnetic film 43 in which magnetic fine particles 43g such as iron (Fe) are dispersed in SiO 2 43s.
2 to have a thickness of 30 nm. Granular magnetic film 43
Was grown in an Ar atmosphere at a substrate temperature of room temperature. Thereafter, as shown in FIG. 1 (c), the crystallinity of the magnetic fine particles is improved by heat treatment in an inert gas atmosphere.

【0018】その後に図1(d) に示すように、炭素
(C)よりなる保護膜44をグラニュラ磁性膜43上に
15nmの厚さに形成する。この後に、保護膜44の上に
潤滑剤が塗布されて磁気記録媒体が完成する。上記した
構造の磁気記録媒体の熱処理による効果を調べるため
に、拡散防止層を有しない比較試料を作製した。この比
較試料は、図2に示すように、単結晶のシリコン基板5
1上に拡散防止層を介さずに直にグラニュラ磁性膜52
を形成した構造を有している。グラニュラ磁性膜52
は、SiO253s中に磁性体微粒子53gを分散したもの
である。この比較試料の作製条件は、拡散防止層を除い
て図1(a) 、1(b) と同じにする。
Thereafter, as shown in FIG. 1D, a protective film 44 made of carbon (C) is formed on the granular magnetic film 43 to a thickness of 15 nm. After this, on the protective film 44
The lubricant is applied to complete the magnetic recording medium. In order to examine the effect of heat treatment on the magnetic recording medium having the above structure, a comparative sample having no diffusion prevention layer was prepared. This comparative sample, as shown in FIG.
1. The granular magnetic film 52 is directly formed on the first magnetic field without a diffusion prevention layer.
Is formed. Granular magnetic film 52
Is obtained by dispersing 53 g of magnetic fine particles in SiO 2 53 s. The manufacturing conditions of this comparative sample are the same as those of FIGS. 1 (a) and 1 (b) except for the diffusion prevention layer.

【0019】そして、図1(b) に示した磁気記録媒体と
図2に示した比較試料のそれぞれのグラニュラ磁性層4
3,53が加熱処理によってどのように変化するかを試
験した。 (飽和磁化の変化)熱処理による飽和磁化(Ms )の値
の変化を調べたところ、図3に示すような結果が得られ
た。図3において、実線は図1(c) に示す磁気記録媒体
の加熱温度・飽和磁化特性、破線は図2に示す比較試料
の加熱温度・飽和磁化特性を示している。なお、横軸は
熱処理温度を示し、縦軸は、熱処理温度を施した後の磁
気記録媒体の飽和磁化の大きさを示している。
The granular magnetic layer 4 of each of the magnetic recording medium shown in FIG. 1B and the comparative sample shown in FIG.
It was tested how 3,53 was changed by the heat treatment. (Change in Saturation Magnetization) When the change in the value of saturation magnetization (Ms) due to heat treatment was examined, the results shown in FIG. 3 were obtained. In FIG. 3, the solid line shows the heating temperature / saturation magnetization characteristic of the magnetic recording medium shown in FIG. 1 (c), and the broken line shows the heating temperature / saturation magnetization characteristic of the comparative sample shown in FIG. The horizontal axis shows the heat treatment temperature, and the vertical axis shows the magnitude of the saturation magnetization of the magnetic recording medium after the heat treatment temperature.

【0020】図3の破線から明らかなように、拡散防止
層を有しない比較試料では、熱処理の温度上方に伴って
Ms の値が減少した。磁気記録媒体のMs の減少は、再
生出力の低下をもたらすので比較試料の熱処理は好まし
くなく、また熱処理を施さなくてもMs は低いままであ
る。図3の実線から明らかなように、本実施形態の磁気
記録媒体によれば、加熱温度を上げるにつれてMs の値
が上昇することがわかる。情報再生時の高出力を得るた
めにはMs が高いほど有利である。
As is apparent from the broken line in FIG. 3, in the comparative sample having no diffusion preventing layer, the value of Ms decreased with increasing temperature of the heat treatment. The heat treatment of the comparative sample is not preferable because the reduction of Ms of the magnetic recording medium brings about the reduction of the reproduction output, and the Ms remains low even without the heat treatment. As is clear from the solid line in FIG. 3, according to the magnetic recording medium of the present embodiment, the value of Ms rises as the heating temperature rises. The higher Ms is, the more advantageous it is to obtain a high output during information reproduction.

【0021】このように、シリコン基板とグラニュラ磁
性膜の間にSiO2拡散防止層42を介在させた場合と介在
させない場合の熱処理によるMs の変化が異なるのは次
のような理由による。即ち、比較試料では、鉄よりなる
磁性体微粒子53gとシリコン基板51中のシリコンが
熱により相互拡散してシリカ鉄が生じたために磁性材の
量が減少したからである。比較試料のグラニュラ磁性膜
53内では磁性体微粒子53gとSiO253sの境界を通
ってシリコン元素と鉄が拡散すると考えられる。
The reason why the change in Ms due to the heat treatment is different between the case where the SiO 2 diffusion preventive layer 42 is interposed and the case where the SiO 2 diffusion preventive layer 42 is not interposed between the silicon substrate and the granular magnetic film is as follows. That is, in the comparative sample, the amount of the magnetic material was reduced because the magnetic fine particles 53 g of iron and the silicon in the silicon substrate 51 were mutually diffused by heat to generate silica iron. In the granular magnetic film 53 of the comparative sample, it is considered that silicon element and iron diffuse through the boundaries between the magnetic fine particles 53g and the SiO 2 53s.

【0022】一方、図1(b) に示す本実施形態では、拡
散防止層42によってシリコンと磁性体微粒子43gの
熱による相互拡散が防止されるので磁性体の量が減少せ
ず、しかも熱処理によって微粒子が大きくなった。次
に、図1(b) に示すようにシリコン基板41上にSiO2
散防止層42を介して形成したグラニュラ磁性膜43
と、図2に示すようにシリコン基板51上に直接に形成
したグラニュラ磁性膜53のそれぞれの結晶の組成が熱
処理によってどのように変化するかをXRD(X線回
折)測定によって調べた。
On the other hand, in the present embodiment shown in FIG. 1 (b), the diffusion preventing layer 42 prevents mutual diffusion of silicon and the magnetic fine particles 43g due to heat, so that the amount of the magnetic substance does not decrease, and moreover the heat treatment is performed. The particles became large. Next, as shown in FIG. 1 (b), the granular magnetic film 43 formed on the silicon substrate 41 via the SiO 2 diffusion prevention layer 42.
Then, as shown in FIG. 2, it was examined by XRD (X-ray diffraction) measurement how the composition of each crystal of the granular magnetic film 53 directly formed on the silicon substrate 51 was changed by the heat treatment.

【0023】図4は、SiO2拡散防止層42を介してシリ
コン基板41上に形成された直後のグラニュラ磁性膜4
3のXRD測定結果を示している。また、図5は、シリ
コン基板53上に直に形成された直後のグラニュラ磁性
膜53のXRD測定結果を示している。図4と図5を比
較すると、双方のグラニュラ磁性膜43,53のX線回
折スペクトルには顕著な差が存在しない。即ち、成膜し
たままの状態においては、鉄を含まないSiO2拡散防止層
42が有るか無いかは、グラニュラ磁性膜43,53の
結晶性には大きな差を生じさせない。なお、双方のグラ
ニュラ磁性膜43,53のX線回折線の強度が弱い理由
は、成膜したままの状態では双方のグラニュラ磁性膜4
3,53内の磁性体粒子43g,53gの結晶粒子が非
常に小さいからと考えられる。
FIG. 4 shows the granular magnetic film 4 immediately after being formed on the silicon substrate 41 via the SiO 2 diffusion preventing layer 42.
3 shows the XRD measurement result of No. 3. Further, FIG. 5 shows an XRD measurement result of the granular magnetic film 53 immediately after being directly formed on the silicon substrate 53. Comparing FIG. 4 and FIG. 5, there is no significant difference between the X-ray diffraction spectra of the granular magnetic films 43 and 53. That is, in the as-deposited state, whether or not the SiO 2 diffusion preventing layer 42 containing no iron is present does not cause a large difference in the crystallinity of the granular magnetic films 43 and 53. The reason why the intensity of the X-ray diffraction lines of both granular magnetic films 43 and 53 is weak is that both granular magnetic films 4 in the as-deposited state.
It is considered that the crystal grains of magnetic substance grains 43g and 53g in 3,53 are very small.

【0024】次に、グラニュラ磁性膜を800℃で10
分間加熱した後のXRD測定結果を図6、図7に示す。
図6は、図1(b) に示す磁気記録媒体のグラニュラ磁性
膜43を加熱した後のXRD測定結果を示している。こ
の測定結果によれば、α−Feの回折線のみがピークとし
て表れ、そのピークは大きいことがわかる。しかも、鉄
とシリコンの化合物のピークは観測されない。これは、
シリコン基板41とグラニュラ磁性膜43の間にSiO2
散層42を形成することによってシリコン基板41中の
シリコン原子とグラニュラ磁性膜43中の鉄原子の相互
拡散が遮蔽されたためと考えられる。図3の実線におい
て800℃で10分間の熱処理によってMs が増加した
理由は、この強磁性のα−Feが減少しないことによるも
のである。
Next, the granular magnetic film is formed at 800 ° C. for 10 minutes.
The XRD measurement results after heating for minutes are shown in FIGS. 6 and 7.
FIG. 6 shows the XRD measurement results after heating the granular magnetic film 43 of the magnetic recording medium shown in FIG. 1 (b). According to this measurement result, only the α-Fe diffraction line appears as a peak, and the peak is large. Moreover, the peak of the compound of iron and silicon is not observed. this is,
It is considered that by forming the SiO 2 diffusion layer 42 between the silicon substrate 41 and the granular magnetic film 43, mutual diffusion of silicon atoms in the silicon substrate 41 and iron atoms in the granular magnetic film 43 was blocked. The reason why Ms is increased by the heat treatment at 800 ° C. for 10 minutes in the solid line of FIG. 3 is that this ferromagnetic α-Fe is not decreased.

【0025】図7は、図2に示す比較試料を加熱した後
のXRD測定結果を示している。この測定結果によれ
ば、鉄とシリコンの化合物の回折線のみがピークとして
表れている。これは、成膜したままの状態でグラニュラ
磁性膜53中に磁性体粒子53gとして存在していた体
心立方(bcc)系の鉄(α−Fe)が熱処理によってシリコ
ン基板51中のシリコン原子と結合してシリカ鉄を形成
したためと考えられる。図3の破線において800℃で
10分間の熱処理によってMs が減少した理由は、この
強磁性のα−Feが減少したからである。 (保磁力の変化)図1(b) に示す状態のグラニュラ磁性
膜43の磁気記録媒体の保磁力が、熱処理によってどの
ように変化するかを実験したところ、図8に示すような
結果が得られた。図4において、縦軸は加熱温度を示
し、縦軸は保磁力Hc を示す。
FIG. 7 shows the XRD measurement results after heating the comparative sample shown in FIG. According to this measurement result, only the diffraction line of the compound of iron and silicon appears as a peak. This is because body-centered cubic (bcc) -based iron (α-Fe), which was present as magnetic particles 53g in the granular magnetic film 53 in the as-deposited state, was converted into silicon atoms in the silicon substrate 51 by heat treatment. It is considered that this is because they are bonded to form silica iron. The reason why Ms is decreased by the heat treatment at 800 ° C. for 10 minutes in the broken line of FIG. 3 is that this ferromagnetic α-Fe is decreased. (Change in coercive force) An experiment was conducted to see how the coercive force of the magnetic recording medium of the granular magnetic film 43 in the state shown in FIG. 1 (b) was changed by heat treatment, and the results shown in FIG. 8 were obtained. Was given. In FIG. 4, the vertical axis represents the heating temperature and the vertical axis represents the coercive force Hc.

【0026】図8から明らかなようにそのグラニュラ磁
性膜43の保磁力は加熱温度が高くなるほど大きくな
り、加熱温度500℃で800エルステッド(Oe)とな
った。なお、加熱時間は10分間とした。以上のことか
ら、グラニュラ磁性膜とシリコン基板の間に拡散防止膜
を介在させることにより、熱処理によって高再生出力
で、しかも高記録密度に適した保磁力を備えた磁気記録
媒体が得られることがわかる。
As is apparent from FIG. 8, the coercive force of the granular magnetic film 43 increased as the heating temperature increased, and reached 800 oersted (Oe) at the heating temperature of 500 ° C. The heating time was 10 minutes. From the above, by interposing the diffusion prevention film between the granular magnetic film and the silicon substrate, it is possible to obtain a magnetic recording medium having a high reproduction output and a coercive force suitable for a high recording density by heat treatment. Recognize.

【0027】なお、SiO2膜の中にニッケル(Ni)、コバ
ルト(Co)その他の磁性体微粒子を分散させた膜をグラ
ニュラ磁性膜として使用する場合にも、そのグラニュラ
磁性膜とシリコン基板の間に非磁性膜を介在させること
により磁性体微粒子とシリコンの化合物の発生を防止で
きる。ところで、図1(d) に示す磁気記録媒体によれ
ば、拡散防止層42とグラニュラ磁性膜43の双方を同
じSiO2で構成し、しかもSiO2とシリコン基板41との密
着性が良いので、300℃以上の高熱で加熱しても熱膨
張による膜剥がれは生じない。
When a film in which magnetic particles such as nickel (Ni), cobalt (Co) and the like are dispersed in a SiO 2 film is used as a granular magnetic film, a space between the granular magnetic film and the silicon substrate is also used. By interposing a non-magnetic film in, it is possible to prevent the generation of the compound of magnetic fine particles and silicon. By the way, according to the magnetic recording medium shown in FIG. 1 (d), both the diffusion prevention layer 42 and the granular magnetic film 43 are made of the same SiO 2 , and the adhesion between the SiO 2 and the silicon substrate 41 is good. Even if heated at a high heat of 300 ° C. or higher, film peeling due to thermal expansion does not occur.

【0028】なお、SiO2の他にSi3N4 、SiON、Cu、Cr等
の非磁性材を用いてもよい。次に、図1(d) に示す層構
造の磁気記録媒体を磁気ディスクに使用した磁気記録装
置を図9を参照して簡単に説明する。図9に示すよう
に、磁気記録ドライブ45は、磁気ディスク46と、M
Rヘッドを備えたスライダ47と、スライダ47を支持
するスプリングアーム48を有している。
In addition to SiO 2 , a non-magnetic material such as Si 3 N 4 , SiON, Cu or Cr may be used. Next, a magnetic recording device using the magnetic recording medium having the layer structure shown in FIG. 1D for a magnetic disk will be briefly described with reference to FIG. As shown in FIG. 9, the magnetic recording drive 45 includes a magnetic disk 46 and an M disk.
It has a slider 47 having an R head and a spring arm 48 for supporting the slider 47.

【0029】[0029]

【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、非磁
性材と磁性体粒子を含むグラニュラ磁性層とシリコン基
板との間に、その非磁性材よりなる拡散防止層を形成し
ているので、シリコン基板中のシリコンとグラニュラ磁
性層中の磁性体粒子の熱による相互拡散を拡散防止層に
よって妨げることができる。
As described above, according to the present invention, the diffusion prevention layer made of the nonmagnetic material is formed between the granular magnetic layer containing the nonmagnetic material and the magnetic particles and the silicon substrate. Therefore, the mutual diffusion of the silicon in the silicon substrate and the magnetic particles in the granular magnetic layer due to heat can be prevented by the diffusion prevention layer.

【0030】従って、磁性体とシリコンの化合物が生成
されないので、磁性体が減少することがなくなり、高保
磁力で高記録密度の磁気記録媒体を得ることができる。
しかも、磁性体微粒子を除くグラニュラ磁性層と拡散防
止層を同じ材料で構成しているので、グラニュラ磁性層
と拡散防止層は熱による応力の違いが生じないので膜の
剥がれが生じるおそれもなく安定した層構造を得ること
ができる。
Therefore, since a compound of magnetic substance and silicon is not produced, the magnetic substance is not reduced, and a magnetic recording medium having high coercive force and high recording density can be obtained.
Moreover, since the granular magnetic layer excluding the magnetic fine particles and the diffusion prevention layer are made of the same material, the granular magnetic layer and the diffusion prevention layer do not cause a difference in stress due to heat, and thus the film does not peel off and is stable. It is possible to obtain a layered structure.

【0031】また、磁性体微粒子を含むシリコン酸化層
の厚さと残留磁化の積を100Gμm以下となるように
したので、磁気抵抗効果型ヘッドへの適用が可能にな
る。さらに、磁性体微粒子として鉄、コバルト、ニッケ
ルのいずかを含む場合には、それらの原子とシリコンが
熱処理により化合し易くなるので、上記した拡散防止層
の効果が顕著になる。
Further, since the product of the thickness of the silicon oxide layer containing the magnetic fine particles and the residual magnetization is set to 100 Gμm or less, it can be applied to the magnetoresistive head. Furthermore, when the magnetic fine particles include any one of iron, cobalt, and nickel, the atoms and silicon are easily combined by the heat treatment, so that the effect of the diffusion preventing layer becomes remarkable.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態の磁気記録媒体の一例を示
す断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of a magnetic recording medium according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明を適用しない場合の比較試料を示す断面
図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a comparative sample when the present invention is not applied.

【図3】シリコン基板上にSiO2膜を介して形成された磁
気記録媒体とシリコン基板上に直に形成された磁気記録
媒体の各々についての加熱温度と飽和磁化の関係を示す
図である。
FIG. 3 is a diagram showing a relationship between a heating temperature and a saturation magnetization for each of a magnetic recording medium formed on a silicon substrate via an SiO 2 film and a magnetic recording medium formed directly on the silicon substrate.

【図4】シリコン基板上にSiO2膜を介してグラニュラ磁
性層を成長した直後のX線回折結果を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing an X-ray diffraction result immediately after growing a granular magnetic layer on a silicon substrate via a SiO 2 film.

【図5】シリコン基板上に直にグラニュラ磁性層を成長
した直後のX線回折結果を示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing an X-ray diffraction result immediately after growing a granular magnetic layer directly on a silicon substrate.

【図6】シリコン基板上にSiO2膜を介して形成されたグ
ラニュラ磁性層を800℃で10分間加熱した後の、そ
のグラニュラ磁性層のX線回折結果を示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing an X-ray diffraction result of the granular magnetic layer after heating the granular magnetic layer formed on a silicon substrate via a SiO 2 film at 800 ° C. for 10 minutes.

【図7】シリコン基板上に直に形成されたグラニュラ磁
性層を800℃で10分間加熱した後の、そのグラニュ
ラ磁性層のX線回折結果を示す図である。
FIG. 7 is a diagram showing an X-ray diffraction result of a granular magnetic layer directly formed on a silicon substrate after being heated at 800 ° C. for 10 minutes.

【図8】シリコン基板上にSiO2膜を介して形成された磁
気記録媒体の加熱温度と保磁力の関係を示す図である。
FIG. 8 is a diagram showing a relationship between a heating temperature and a coercive force of a magnetic recording medium formed on a silicon substrate via an SiO 2 film.

【図9】本発明の実施の形態の磁気記録媒体を有する磁
気記録装置の一例を示す平面図である。
FIG. 9 is a plan view showing an example of a magnetic recording device having a magnetic recording medium according to an embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

41 シリコン基板 42 拡散防止層 43 グラニュラ磁性層 43s SiO2膜 43g 磁性体微粒子 44 保護膜41 Silicon Substrate 42 Diffusion Prevention Layer 43 Granular Magnetic Layer 43s SiO 2 Film 43 g Magnetic Fine Particles 44 Protective Film

フロントページの続き (72)発明者 岡本 巌 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 (72)発明者 篠原 正喜 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内Front page continuation (72) Iwao Okamoto Iwaoka Okamoto 1015 Kamiodanaka, Nakahara-ku, Kanagawa Prefecture, Fujitsu Limited Fujitsu Limited

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】シリコン基板と、 前記シリコン基板上に形成された磁性材を含まない非磁
性材よりなる拡散防止層と、 前記拡散防止層上に形成されて前記非磁性材と磁性体粒
子を含有するグラニュラ磁性層とを有することを特徴と
する磁気記録媒体。
1. A silicon substrate, a diffusion prevention layer made of a non-magnetic material containing no magnetic material formed on the silicon substrate, and a non-magnetic material and magnetic particles formed on the diffusion prevention layer. And a granular magnetic layer containing the magnetic recording medium.
【請求項2】前記非磁性材は二酸化シリコンであること
を特徴とする磁気記録媒体。
2. A magnetic recording medium, wherein the non-magnetic material is silicon dioxide.
【請求項3】前記グラニュラ磁性層の厚さとその残留磁
化の積は100Gμm以下であることを特徴とする請求
項2記載の磁気記録媒体。
3. The magnetic recording medium according to claim 2, wherein the product of the thickness of the granular magnetic layer and its residual magnetization is 100 Gμm or less.
【請求項4】前記磁性体粒子は、鉄、コバルト、ニッケ
ルのいずれか又は鉄、コバルト、ニッケル少なくとも1
種類を含む材料から構成されていることを特徴とする請
求項2記載の磁気記録媒体。
4. The magnetic particles are iron, cobalt or nickel, or at least one of iron, cobalt and nickel.
The magnetic recording medium according to claim 2, wherein the magnetic recording medium is composed of a material including a kind.
【請求項5】請求項1、2、3又は4記載の磁気記録媒
体と、 前記磁気記録媒体に書き込まれた磁気記録情報を書込み
又は読み出すための磁気ヘッドとを有することを特徴と
する磁気記録装置。
5. A magnetic recording comprising the magnetic recording medium according to claim 1, 2, 3 or 4, and a magnetic head for writing or reading magnetic recording information written in the magnetic recording medium. apparatus.
【請求項6】シリコン基板上に磁性体粒子を含めずに非
磁性材よりなる拡散防止層を成長する工程と、 磁性体粒子と前記非磁性材を含有するグラニュラ磁性層
を前記拡散防止層上に形成する工程と、 前記シリコン基板、前記拡散防止層及び前記グラニュラ
磁性層を加熱する工程とを有することを特徴とする磁気
記録媒体の製造方法。
6. A step of growing a diffusion prevention layer made of a non-magnetic material on a silicon substrate without including magnetic particles, and a granular magnetic layer containing magnetic particles and the non-magnetic material on the diffusion prevention layer. And a step of heating the silicon substrate, the diffusion barrier layer, and the granular magnetic layer, the method of manufacturing a magnetic recording medium.
【請求項7】前記加熱温度は、300℃以上であること
を特徴とする請求項6記載の磁気記録媒体の製造方法。
7. The method of manufacturing a magnetic recording medium according to claim 6, wherein the heating temperature is 300 ° C. or higher.
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