JPH09132403A - オゾン吸着容器 - Google Patents
オゾン吸着容器Info
- Publication number
- JPH09132403A JPH09132403A JP7292544A JP29254495A JPH09132403A JP H09132403 A JPH09132403 A JP H09132403A JP 7292544 A JP7292544 A JP 7292544A JP 29254495 A JP29254495 A JP 29254495A JP H09132403 A JPH09132403 A JP H09132403A
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- JP
- Japan
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- ozone
- container
- adsorbing
- adsorption
- inlet
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- Separation Of Gases By Adsorption (AREA)
- Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)
- Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 吸着効率の高いオゾン吸着容器を得る。
【解決手段】 冷媒を充満する円筒容器１２内にオゾン
吸着物質１６を充填したオゾン吸着管１３を上下方向に
蛇行させて設ける。
吸着物質１６を充填したオゾン吸着管１３を上下方向に
蛇行させて設ける。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、発生したオゾンを
吸着して蓄積し、この蓄積したオゾンを脱着して放出す
るオゾン吸着容器に関する。
吸着して蓄積し、この蓄積したオゾンを脱着して放出す
るオゾン吸着容器に関する。
【０００２】
【従来の技術】紙やパルプ等の漂白用として環境への悪
影響がないオゾンの使用が広まってきている。オゾンは
放電や紫外線照射、または電気分解などの方法により酸
素を原料としてオゾン発生器によって発生される。この
ようにして発生したオゾンは一旦吸着筒に吸着させて蓄
積し濃縮される。吸着は低温加圧下で行われる。次に供
給先への供給を行うため、まず大気圧とし、さらに常温
にして脱着させ、窒素や乾燥空気などのキャリアガスと
共に供給先へ送られる。
影響がないオゾンの使用が広まってきている。オゾンは
放電や紫外線照射、または電気分解などの方法により酸
素を原料としてオゾン発生器によって発生される。この
ようにして発生したオゾンは一旦吸着筒に吸着させて蓄
積し濃縮される。吸着は低温加圧下で行われる。次に供
給先への供給を行うため、まず大気圧とし、さらに常温
にして脱着させ、窒素や乾燥空気などのキャリアガスと
共に供給先へ送られる。
【０００３】オゾン吸着筒は、例えば特公昭６２−５９
０４５に開示されているように筒として一般的なプロポ
ーションを持つ吸着筒にオゾン吸着剤としてシリカゲル
を充填し、筒の周囲に冷却管を巻いたものが使用されて
いる。
０４５に開示されているように筒として一般的なプロポ
ーションを持つ吸着筒にオゾン吸着剤としてシリカゲル
を充填し、筒の周囲に冷却管を巻いたものが使用されて
いる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】このような筒状の中に
シリカゲルが充填されており、冷却は筒の周囲から行わ
れる。シリカゲルの熱伝導率は低いので、中心部まで十
分冷却されない場合が生じる。またオゾンは吸着筒の下
部より入り、上部へ向かって移動しながらシリカゲルに
吸着されてゆくが、吸着筒の高さは筒直径に対してせい
ぜい２〜３倍程度であるため、シリカゲルの層がその幅
に対して薄く、オゾンがシリカゲルに吸着されず通過す
る径路（スルーパス）が形成されやすかった。これらの
２つが原因となり吸着筒におけるシリカゲルに対するオ
ゾンの吸着効率が低かった。また充填されるシリカゲル
としては一般に市販されている純度９０〜９２％程度の
ものが使用されており、吸着効率が低かった。
シリカゲルが充填されており、冷却は筒の周囲から行わ
れる。シリカゲルの熱伝導率は低いので、中心部まで十
分冷却されない場合が生じる。またオゾンは吸着筒の下
部より入り、上部へ向かって移動しながらシリカゲルに
吸着されてゆくが、吸着筒の高さは筒直径に対してせい
ぜい２〜３倍程度であるため、シリカゲルの層がその幅
に対して薄く、オゾンがシリカゲルに吸着されず通過す
る径路（スルーパス）が形成されやすかった。これらの
２つが原因となり吸着筒におけるシリカゲルに対するオ
ゾンの吸着効率が低かった。また充填されるシリカゲル
としては一般に市販されている純度９０〜９２％程度の
ものが使用されており、吸着効率が低かった。
【０００５】本発明は、上述の問題点に鑑みてなされた
もので、吸着効率の高いオゾン吸着容器を提供すること
を目的とする。
もので、吸着効率の高いオゾン吸着容器を提供すること
を目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項１の発明は、冷媒を充満する容器と、この容
器内を蛇行し内部にオゾン吸着物質を充填したオゾン吸
着管とを備える。かかる構成により、オゾン吸着物質は
冷媒を充満した容器内を蛇行しているオゾン吸着管内に
充填されているので、冷媒と接触する長さが長くなり、
十分冷却される。またオゾンは蛇行するオゾン吸着管内
を通過するので、通過する長さが長くなり内部に充填さ
れたオゾン吸着物質と十分に接触する。これによりオゾ
ンの吸着効率が向上する。
め、請求項１の発明は、冷媒を充満する容器と、この容
器内を蛇行し内部にオゾン吸着物質を充填したオゾン吸
着管とを備える。かかる構成により、オゾン吸着物質は
冷媒を充満した容器内を蛇行しているオゾン吸着管内に
充填されているので、冷媒と接触する長さが長くなり、
十分冷却される。またオゾンは蛇行するオゾン吸着管内
を通過するので、通過する長さが長くなり内部に充填さ
れたオゾン吸着物質と十分に接触する。これによりオゾ
ンの吸着効率が向上する。
【０００７】請求項２の発明は、請求項１の発明におい
て、前記オゾン吸着管は前記容器の下側がガス入口とな
り上下に蛇行し上側がガス出口となっている。オゾン吸
着管は上下方向に蛇行することにより少なくとも上下方
向の範囲ではオゾン吸着剤はオゾン吸着管の断面内に充
填される。オゾンがオゾン吸着管を通過する際は必ずオ
ゾン吸着剤に接触し、吸着される。これに対しオゾン吸
着管を水平方向に蛇行させた場合、オゾン吸着管の内部
上部にオゾン吸着剤が充填されないスペースが発生し、
このスペースを通るオゾンは吸着されない。
て、前記オゾン吸着管は前記容器の下側がガス入口とな
り上下に蛇行し上側がガス出口となっている。オゾン吸
着管は上下方向に蛇行することにより少なくとも上下方
向の範囲ではオゾン吸着剤はオゾン吸着管の断面内に充
填される。オゾンがオゾン吸着管を通過する際は必ずオ
ゾン吸着剤に接触し、吸着される。これに対しオゾン吸
着管を水平方向に蛇行させた場合、オゾン吸着管の内部
上部にオゾン吸着剤が充填されないスペースが発生し、
このスペースを通るオゾンは吸着されない。
【０００８】請求項３の発明では、前記請求項２におい
て、前記容器は胴部の幅より高さが大きい細長形状と
し、前記オゾン吸着管は容器の下部および上部に近接す
るように上下に蛇行している。オゾン吸着管を格納する
容器は胴部より大きい細長形状となっているので、内部
を蛇行するオゾン吸着管は上下方向の長さを長くするこ
とができ、オゾン吸着剤を確実に充填できる範囲が多く
なる。これによりオゾン吸着率が向上する。
て、前記容器は胴部の幅より高さが大きい細長形状と
し、前記オゾン吸着管は容器の下部および上部に近接す
るように上下に蛇行している。オゾン吸着管を格納する
容器は胴部より大きい細長形状となっているので、内部
を蛇行するオゾン吸着管は上下方向の長さを長くするこ
とができ、オゾン吸着剤を確実に充填できる範囲が多く
なる。これによりオゾン吸着率が向上する。
【０００９】請求項４の発明では、請求項１〜３の発明
において、前記オゾン吸着物質として純度９９％〜１０
０％のＳｉＯ2 が用いられる。ＳｉＯ2 ９９％以上の高
純度のシリカゲルを用いることにより、ＳｉＯ2 ９０％
程度の一般のシリカゲルを用いる場合に比べ１０倍程度
オゾン吸着率が向上する。
において、前記オゾン吸着物質として純度９９％〜１０
０％のＳｉＯ2 が用いられる。ＳｉＯ2 ９９％以上の高
純度のシリカゲルを用いることにより、ＳｉＯ2 ９０％
程度の一般のシリカゲルを用いる場合に比べ１０倍程度
オゾン吸着率が向上する。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して説明する。図１は本実施の形態が用い
られるオゾン供給装置の構成を示すブロック図である。
オゾン発生器１は放電等により酸素Ｏ2 よりオゾンＯ3
を発生し、酸素と共に排出する。ポンプ２はこのオゾン
と酸素の混合ガスをオゾン吸着容器３に供給する。オゾ
ン吸着容器３はこの混合ガスの内オゾンを吸着する。ま
たこの吸着したオゾンを脱着して放出する。冷凍機４は
オゾン吸着容器３がオゾンを吸着するときオゾン吸着剤
を冷却する冷媒（ブライン）を供給する。希釈タンク５
は脱着したオゾンを所定濃度に希釈するタンクであり、
反応塔６はオゾンを使用して、漂白や殺菌などの処理を
行う装置である。止め弁７ａ，７ｂはオゾン吸着作用を
行うループを形成する時、開とし、オゾン脱着作用を行
う時閉となる。止め弁８ａ，８ｂ，８ｃはオゾンを脱着
し、希釈して反応塔６へ供給するときのラインを構成す
る止め弁で、オゾン脱着時開となり、オゾン吸着時閉と
なる。流量制御弁９ａ，９ｂはキャリアガスとしての窒
素Ｎ2 またはドライエアの流量を調整し、流量制御弁９
ｃはオゾンとキャリアガスの混合気体の流量を制御す
る。圧力調整弁１０は脱着したオゾンとキャリアガスの
圧力を調整する。
て図面を参照して説明する。図１は本実施の形態が用い
られるオゾン供給装置の構成を示すブロック図である。
オゾン発生器１は放電等により酸素Ｏ2 よりオゾンＯ3
を発生し、酸素と共に排出する。ポンプ２はこのオゾン
と酸素の混合ガスをオゾン吸着容器３に供給する。オゾ
ン吸着容器３はこの混合ガスの内オゾンを吸着する。ま
たこの吸着したオゾンを脱着して放出する。冷凍機４は
オゾン吸着容器３がオゾンを吸着するときオゾン吸着剤
を冷却する冷媒（ブライン）を供給する。希釈タンク５
は脱着したオゾンを所定濃度に希釈するタンクであり、
反応塔６はオゾンを使用して、漂白や殺菌などの処理を
行う装置である。止め弁７ａ，７ｂはオゾン吸着作用を
行うループを形成する時、開とし、オゾン脱着作用を行
う時閉となる。止め弁８ａ，８ｂ，８ｃはオゾンを脱着
し、希釈して反応塔６へ供給するときのラインを構成す
る止め弁で、オゾン脱着時開となり、オゾン吸着時閉と
なる。流量制御弁９ａ，９ｂはキャリアガスとしての窒
素Ｎ2 またはドライエアの流量を調整し、流量制御弁９
ｃはオゾンとキャリアガスの混合気体の流量を制御す
る。圧力調整弁１０は脱着したオゾンとキャリアガスの
圧力を調整する。
【００１１】オゾンを発生させオゾン吸着容器３のオゾ
ン吸着剤に吸着されるオゾン吸着作用の場合、止め弁７
ａ，７ｂを開とし、止め弁８ａ，８ｂ，８ｃを閉として
オゾン発生器１から発生したオゾンと未反応の酸素の混
合ガスを排出し、これをポンプ２でオゾン吸着容器３へ
送り、オゾン吸着容器３ではオゾンを吸着して酸素はオ
ゾン発生器１へ戻す。
ン吸着剤に吸着されるオゾン吸着作用の場合、止め弁７
ａ，７ｂを開とし、止め弁８ａ，８ｂ，８ｃを閉として
オゾン発生器１から発生したオゾンと未反応の酸素の混
合ガスを排出し、これをポンプ２でオゾン吸着容器３へ
送り、オゾン吸着容器３ではオゾンを吸着して酸素はオ
ゾン発生器１へ戻す。
【００１２】オゾンをオゾン吸着容器３から取り出し反
応塔６へ供給するオゾン脱着作用の場合は、止め弁７
ａ，７ｂを閉とし、止め弁８ａ，８ｂ，８ｃを開とす
る。オゾン脱着時は窒素またはドライエアなどをオゾン
吸着容器３に送り、オゾン吸着剤から脱着したオゾンと
キャリアガスを希釈タンク５に入れる。希釈タンク５で
はさらにキャリアガスで所定の濃度にオゾンを希釈し反
応塔６に送出する。
応塔６へ供給するオゾン脱着作用の場合は、止め弁７
ａ，７ｂを閉とし、止め弁８ａ，８ｂ，８ｃを開とす
る。オゾン脱着時は窒素またはドライエアなどをオゾン
吸着容器３に送り、オゾン吸着剤から脱着したオゾンと
キャリアガスを希釈タンク５に入れる。希釈タンク５で
はさらにキャリアガスで所定の濃度にオゾンを希釈し反
応塔６に送出する。
【００１３】図２はオゾン吸着容器の詳細図である。オ
ゾン吸着容器３は、細長で長さ方向を上下方向にした円
筒容器１２と、この円筒容器１２内に設けられ、この中
を上下方向に蛇行し、下側にオゾン入口１３ａ、上側に
オゾン出口１３ｂを有するオゾン吸着管１３と、円筒容
器１２の上側に設けられた冷媒入口１４ａと下側に設け
られた冷媒出口１４ｂとからなる。オゾン吸着管１３内
にはオゾン吸着剤１６として高純度のシリカゲルが充填
されている。一般のシリカゲルは純度９０〜９２％程度
であるが、高純度シリカゲルはＳｉＯ2 を９９．０％以
上含んだものである。オゾン吸着管１３は円筒容器１２
の下面にオゾン入口１３ａを有し、円筒容器１２の高さ
方向にわたり、上下方向に蛇行し、円筒容器１２の上面
にオゾン出口１３ｂを有している。円筒容器１２は冷凍
機４により冷却されるので保冷のため断熱材１５で覆わ
れている。
ゾン吸着容器３は、細長で長さ方向を上下方向にした円
筒容器１２と、この円筒容器１２内に設けられ、この中
を上下方向に蛇行し、下側にオゾン入口１３ａ、上側に
オゾン出口１３ｂを有するオゾン吸着管１３と、円筒容
器１２の上側に設けられた冷媒入口１４ａと下側に設け
られた冷媒出口１４ｂとからなる。オゾン吸着管１３内
にはオゾン吸着剤１６として高純度のシリカゲルが充填
されている。一般のシリカゲルは純度９０〜９２％程度
であるが、高純度シリカゲルはＳｉＯ2 を９９．０％以
上含んだものである。オゾン吸着管１３は円筒容器１２
の下面にオゾン入口１３ａを有し、円筒容器１２の高さ
方向にわたり、上下方向に蛇行し、円筒容器１２の上面
にオゾン出口１３ｂを有している。円筒容器１２は冷凍
機４により冷却されるので保冷のため断熱材１５で覆わ
れている。
【００１４】オゾン吸着時には、冷媒入口１４ａより冷
凍機４から送出された冷媒１７が円筒容器１２内を充満
し、冷媒出口１４ｂより冷凍機４へ戻る。オゾン吸着時
には、オゾン入口１３ａからオゾンと酸素が矢印Ａで示
すように流入し、オゾンはシリカゲルに吸着され、酸素
が矢印Ｂで示すように排出される。またオゾン脱着時に
はオゾン入口１３ａからは窒素ガスまたはドライエア等
のキャリアガスが矢印Ｃで示すように流入し、オゾン出
口１３ｂからこのキャリアガスと脱着したオゾンが矢印
Ｄで示すように排出される。オゾン吸着、脱着時の運転
条件の一例を示すと、オゾン吸着時オゾン吸着容器３内
の温度は−１０℃、ゲージ圧力は８ｋｇ／ｃｍ2 であ
り、オゾン脱着時は温度は２５℃、圧力は大気圧であ
る。
凍機４から送出された冷媒１７が円筒容器１２内を充満
し、冷媒出口１４ｂより冷凍機４へ戻る。オゾン吸着時
には、オゾン入口１３ａからオゾンと酸素が矢印Ａで示
すように流入し、オゾンはシリカゲルに吸着され、酸素
が矢印Ｂで示すように排出される。またオゾン脱着時に
はオゾン入口１３ａからは窒素ガスまたはドライエア等
のキャリアガスが矢印Ｃで示すように流入し、オゾン出
口１３ｂからこのキャリアガスと脱着したオゾンが矢印
Ｄで示すように排出される。オゾン吸着、脱着時の運転
条件の一例を示すと、オゾン吸着時オゾン吸着容器３内
の温度は−１０℃、ゲージ圧力は８ｋｇ／ｃｍ2 であ
り、オゾン脱着時は温度は２５℃、圧力は大気圧であ
る。
【００１５】オゾン吸着管１３は円筒容器１２内で蛇行
し、冷媒１７に十分よく接触するので、内部のシリカゲ
ルは十分冷却され、オゾン吸着が効率よく行われる。ま
た、オゾンは蛇行した長い距離にわたり充填したシリカ
ゲルの間を通ることにより確実に吸着される。シリカゲ
ルとしては高純度（ＳｉＯ2 が９９％以上）のものを用
いるので、一般のシリカゲル（ＳｉＯ2 の純度９０〜９
２％程度）の場合に比べ吸着効率が１０倍程度向上す
る。
し、冷媒１７に十分よく接触するので、内部のシリカゲ
ルは十分冷却され、オゾン吸着が効率よく行われる。ま
た、オゾンは蛇行した長い距離にわたり充填したシリカ
ゲルの間を通ることにより確実に吸着される。シリカゲ
ルとしては高純度（ＳｉＯ2 が９９％以上）のものを用
いるので、一般のシリカゲル（ＳｉＯ2 の純度９０〜９
２％程度）の場合に比べ吸着効率が１０倍程度向上す
る。
【００１６】
【発明の効果】以上の説明より明らかなように、本発明
はオゾン吸着容器内部にオゾン吸着管を蛇行させて配置
することにより、オゾン吸収剤が長い距離にわたり、冷
媒と接触し、十分冷却され、またオゾンと接触して十分
吸着されるので、オゾン吸着効率が向上する。また、オ
ゾン吸着管は上下方向に蛇行するので、オゾン吸着剤が
部分的に充填されない範囲が連続してオゾンが吸着され
ない範囲を生じることを防止できる。また高純度のシリ
カゲルを用いることにより吸着率が大幅に向上する。
はオゾン吸着容器内部にオゾン吸着管を蛇行させて配置
することにより、オゾン吸収剤が長い距離にわたり、冷
媒と接触し、十分冷却され、またオゾンと接触して十分
吸着されるので、オゾン吸着効率が向上する。また、オ
ゾン吸着管は上下方向に蛇行するので、オゾン吸着剤が
部分的に充填されない範囲が連続してオゾンが吸着され
ない範囲を生じることを防止できる。また高純度のシリ
カゲルを用いることにより吸着率が大幅に向上する。
【図１】オゾン吸着容器を含むオゾン供給設備の構成を
示すブロック図である。
示すブロック図である。
【図２】実施形態のオゾン吸着容器の詳細図である。
１ オゾン発生器 ２ ポンプ ３ オゾン吸着容器 ４ 冷凍機 ５ 希釈タンク ６ 反応塔 ７ａ，７ｂ，８ａ，８ｂ，８ｃ 止め弁 ９ａ，９ｂ，９ｃ 流量制御弁 １０ 圧力調整弁 １２ 円筒容器 １３ オゾン吸着管 １３ａ オゾン入口 １３ｂ オゾン出口 １４ａ 冷媒入口 １４ｂ 冷媒出口 １５ 断熱材 １６ オゾン吸着剤 １７ 冷媒
Claims (4)
- 【請求項１】 冷媒を充満する容器と、この容器内を蛇
行し内部にオゾン吸着物質を充填したオゾン吸着管とを
備えたことを特徴とするオゾン吸着容器。 - 【請求項２】 前記オゾン吸着管は、前記容器の下側が
ガス入口となり上下に蛇行し上側がガス出口となってい
ることを特徴とする請求項１記載のオゾン吸着容器。 - 【請求項３】 前記容器は胴部の幅より高さが大きい細
長形状とし、前記オゾン吸着管は容器の下部および上部
に近接するように上下に蛇行していることを特徴とする
請求項２記載のオゾン吸着容器。 - 【請求項４】 前記オゾン吸着物質として純度９９％〜
１００％のＳｉＯ2が用いられることを特徴とする請求
項１ないし３のいずれかに記載のオゾン吸着容器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7292544A JPH09132403A (ja) | 1995-11-10 | 1995-11-10 | オゾン吸着容器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7292544A JPH09132403A (ja) | 1995-11-10 | 1995-11-10 | オゾン吸着容器 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09132403A true JPH09132403A (ja) | 1997-05-20 |
Family
ID=17783157
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7292544A Pending JPH09132403A (ja) | 1995-11-10 | 1995-11-10 | オゾン吸着容器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09132403A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008007338A (ja) * | 2006-06-27 | 2008-01-17 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | オゾン濃縮装置 |
-
1995
- 1995-11-10 JP JP7292544A patent/JPH09132403A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008007338A (ja) * | 2006-06-27 | 2008-01-17 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | オゾン濃縮装置 |
| JP4653025B2 (ja) * | 2006-06-27 | 2011-03-16 | 住友重機械工業株式会社 | オゾン濃縮装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050228 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050712 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050905 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060202 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060531 |