JPH09101540A - Active matrix type liquid crystal display device - Google Patents

Active matrix type liquid crystal display device

Info

Publication number
JPH09101540A
JPH09101540A JP25757495A JP25757495A JPH09101540A JP H09101540 A JPH09101540 A JP H09101540A JP 25757495 A JP25757495 A JP 25757495A JP 25757495 A JP25757495 A JP 25757495A JP H09101540 A JPH09101540 A JP H09101540A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid crystal
display device
crystal display
substrate
array substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP25757495A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Daisuke Miyazaki
崎 大 輔 宮
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP25757495A priority Critical patent/JPH09101540A/en
Publication of JPH09101540A publication Critical patent/JPH09101540A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)
  • Thin Film Transistor (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent light leakage around a display area without increasing the number of processes. SOLUTION: Picture element electrodes 12 arranged as a matrix on a first transparent substrate, switching elements which send a video signal to these picture element electrodes and consist of TFTs, gate lines 3 connected to gates of these switching elements, an array substrate 1 having signal lines 7 through which the video signal is sent to switching elements, a counter substrate which has a common electrode formed on a second transparent substrate, and a liquid crystal layer sealed between the array substrate 1 and the counter substrate are provided, and two first light shielding frames 4a and 4b which are formed approximately in parallel with gate lines 3 at the time of forming the gate lines 3 and two light shielding frames 10a and 10b which are formed in parallel with signal lines at the time of forming the signal lines are provided in the outer periphery of the display area of the array substrate 1.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はアクティブマトリッ
クス型液晶表示装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an active matrix type liquid crystal display device.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、液晶を用いたアクティブマトリッ
クス型表示装置がCRTにかわる表示装置となりつつあ
る。図3に一般的なアクティブマトリックス型液晶表示
装置の概略の構成断面図を示す。この液晶表示装置は透
明基板15上に例えば厚さが0.1μmのクロム膜から
なる開口部を有する遮光層16が形成され、この遮光層
16の開口部には例えば顔料分散法、電着法、又は印刷
法等で形成された着色層17が設けられている。そして
遮光層16および着色層17を覆うようにITO(Indi
um Tin Oxide)からなる共通電極18が設けられ、更に
この共通電極18上に例えばポリイミドからなる配向膜
19が設けられている。また、一方の透明基板21上に
は、遮光層16に対向した一にTFT(Thin Film Tran
sistor)22が設けられ、遮光層16の開口部に対応し
た位置にITOからなる画素電極23が設けられてい
る。これらのTFT22と画素電極23は電気的に接続
され、更にポリイミドからなる配向膜25によって覆わ
れている。
2. Description of the Related Art In recent years, an active matrix type display device using liquid crystal is becoming a display device replacing the CRT. FIG. 3 is a schematic sectional view of the structure of a general active matrix type liquid crystal display device. In this liquid crystal display device, a light shielding layer 16 having an opening made of a chromium film having a thickness of 0.1 μm, for example, is formed on a transparent substrate 15, and the light shielding layer 16 has, for example, a pigment dispersion method or an electrodeposition method. Alternatively, a colored layer 17 formed by a printing method or the like is provided. Then, the ITO (Indi
a common electrode 18 made of um tin oxide), and an alignment film 19 made of, for example, polyimide is further provided on the common electrode 18. Further, on one transparent substrate 21, one TFT (Thin Film Transistor) facing the light shielding layer 16 is provided.
sistor) 22 and a pixel electrode 23 made of ITO is provided at a position corresponding to the opening of the light shielding layer 16. The TFT 22 and the pixel electrode 23 are electrically connected and are covered with an alignment film 25 made of polyimide.

【0003】そしてこれらの2枚の基板間に液晶32が
封入されるとともに、これらの2枚の基板の外側に各々
偏光板(図示せず)が貼り付けられている。なお、上記
2枚の基板間の距離はスペーサ31によって一定に保た
れている。
A liquid crystal 32 is sealed between these two substrates, and a polarizing plate (not shown) is attached to the outside of each of these two substrates. The distance between the two substrates is kept constant by the spacer 31.

【0004】このような液晶表示装置において、TFT
22をスイッチ動作させることによって画素電極23に
映像信号を印加し、これによって液晶32の配向を制御
し、着色層17を透過する光を変調することで表示動作
を行うことができる。
In such a liquid crystal display device, the TFT
A display operation can be performed by applying a video signal to the pixel electrode 23 by switching 22 to control the alignment of the liquid crystal 32 and modulating the light transmitted through the colored layer 17.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】上述の従来の液晶表示
装置においては、画素電極23の周辺から光漏れや、T
FT22への光の進入を防ぐために遮光層16が画素電
極23以外の領域に対応して形成されている。しかし、
基板15と基板21の合わせずれ、および遮光膜16と
TFT22のピッチずれに対するマージン(例えば8μ
m程度)が必要なために遮光層16は幅が広くなるよう
に設計されている。このため遮光層16の開口部が小さ
くなり、表示装置としての輝度が低下するという問題が
あった。
In the above-mentioned conventional liquid crystal display device, light leakage from the periphery of the pixel electrode 23 and T
The light shielding layer 16 is formed in a region other than the pixel electrode 23 in order to prevent light from entering the FT 22. But,
A margin (for example, 8 μm) for misalignment between the substrate 15 and the substrate 21 and a pitch misalignment between the light shielding film 16 and the TFT 22.
Therefore, the light shielding layer 16 is designed to have a large width. Therefore, there is a problem that the opening of the light shielding layer 16 becomes small and the brightness as a display device is lowered.

【0006】この問題を解決するために、TFTを配置
した基板の画素電極上または画素電極下に着色層(カラ
ーフィルタ)を設け、上記基板に対応する基板には共通
電極のみを形成した構造を有する改良型の液晶表示装置
が提案されている。
In order to solve this problem, a structure in which a colored layer (color filter) is provided on or under the pixel electrode of the substrate on which the TFT is arranged and only the common electrode is formed on the substrate corresponding to the above substrate An improved liquid crystal display device has been proposed.

【0007】しかし、この改良型の液晶表示装置におい
ては、表示領域周辺からの光漏れを防ぐための工程数が
増えるという問題がある。具体的には、黒色顔料を含む
樹脂でTFT上を被覆する際に画素領域周辺も被覆すれ
ば良いが、上記樹脂としては電気絶縁性と光遮光性に優
れた材料を用いる必要がある。しかし、一般的には光遮
光性に優れた材料は顔料としてカーボンが用いられるの
で電気絶縁性に問題が生じる。一方、電気絶縁性を持た
せるためには黒色樹脂で被覆する前に透明な電気絶縁層
を設ける必要があり、工程数が増えるという問題があ
る。
However, this improved liquid crystal display device has a problem that the number of steps for preventing light leakage from the periphery of the display area increases. Specifically, when the TFT is covered with a resin containing a black pigment, the periphery of the pixel region may be covered, but it is necessary to use a material having excellent electrical insulation and light shielding properties as the resin. However, in general, carbon is used as a pigment in a material having an excellent light-shielding property, which causes a problem in electrical insulation. On the other hand, in order to provide electric insulation, it is necessary to provide a transparent electric insulation layer before coating with a black resin, which causes a problem of increasing the number of steps.

【0008】本発明は上記事情を考慮してなされたもの
であって、工程数を増やすことなしに表示領域周辺の光
漏れを防ぐことのできるアクティブマトリックス型液晶
表示装置を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to provide an active matrix type liquid crystal display device capable of preventing light leakage around the display region without increasing the number of steps. To do.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明によるアクティブ
マトリックス型液晶表示装置の第1の態様は、第1透明
基板上にマトリックス上に配列された画素電極と、この
画素電極に映像用信号を送るTFTからなるスイッチン
グ素子と、このスイッチング素子のゲートに接続された
ゲート線と、前記映像用信号を前記スイッチング素子に
送出する信号線とを有するアレイ基板と、第2透明基板
上に形成された共通電極を有する対向基板と、前記アレ
イ基板と前記対向基板との間隙に封入された液晶層と、
を備え、前記ゲート線にほぼ平行になるように前記ゲー
ト線の形成時に形成される2本の第1の遮光額縁と、前
記信号線に平行になるように前記信号線の形成時に形成
される2本の第2の遮光額縁とが前記アレイ基板の表示
領域外周に設けられていることを特徴とする。
According to a first aspect of an active matrix type liquid crystal display device of the present invention, pixel electrodes arranged in a matrix on a first transparent substrate and a video signal are sent to the pixel electrodes. An array substrate having a switching element formed of a TFT, a gate line connected to the gate of the switching element, and a signal line for transmitting the video signal to the switching element, and a common substrate formed on the second transparent substrate A counter substrate having electrodes, a liquid crystal layer sealed in a gap between the array substrate and the counter substrate,
And two first light-shielding frames formed at the time of forming the gate line so as to be substantially parallel to the gate line, and formed at the time of forming the signal line so as to be parallel to the signal line. Two second light-shielding picture frames are provided on the outer periphery of the display area of the array substrate.

【0010】また本発明によるアクティブマトリックス
型液晶表示装置の第2の態様は第1の態様の液晶表示装
置において、前記第1および第2遮光額縁は電気絶縁性
の樹脂からなる着色層で被膜されていることを特徴とす
る。
A second aspect of the active matrix type liquid crystal display device according to the present invention is the liquid crystal display device according to the first aspect, wherein the first and second light-shielding picture frames are coated with a colored layer made of an electrically insulating resin. It is characterized by

【0011】また本発明によるアクティブマトリックス
型液晶表示装置の第3の態様は、第1の態様の液晶表示
装置において、前記アレイ基板の表示領域上にはカラー
フィルタが形成されており、前記第1および第2遮光額
縁は前記カラーフィルタの形成時に形成される、電気絶
縁性の樹脂からなる着色層で被膜されていることを特徴
とする。
A third aspect of the active matrix type liquid crystal display device according to the present invention is the liquid crystal display device according to the first aspect, wherein a color filter is formed on the display area of the array substrate, The second light-shielding frame is coated with a colored layer made of an electrically insulating resin, which is formed when the color filter is formed.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】本発明によるアクティブマトリッ
クス型液晶表示装置(以下、単に液晶表示装置ともい
う)の一実施の形態を図1および図2を参照して説明す
る。図1は本実施の形態の液晶表示装置にかかるアレイ
基板の平面図であり、図2は上記アレイ基板の構成を示
す構成図である。この実施の形態の液晶表示装置は対向
配置した2枚の基板間に液晶が封入されており、上記対
向配置した2枚の基板のうちの一方の基板であるアレイ
基板1は次のようにして形成される。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION An embodiment of an active matrix type liquid crystal display device (hereinafter, also simply referred to as a liquid crystal display device) according to the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 1 is a plan view of an array substrate according to the liquid crystal display device of the present embodiment, and FIG. 2 is a configuration diagram showing a configuration of the array substrate. In the liquid crystal display device of this embodiment, liquid crystal is sealed between two substrates which are arranged facing each other, and the array substrate 1 which is one of the two substrates which are arranged facing each other is as follows. It is formed.

【0013】まず図2(b)に示すように透明基板2上
にモリブデン等の金属をスパッタリング法を用いてほぼ
0.3μmの厚さに成膜した後、フォトリソグラフィ技
術を用いて上記金属膜を所定の形状にパターニングし、
ゲート線3を形成する。このパターニングの際、図1に
示すように表示領域外周部の二辺に、ゲート線3と平行
に表示領域外周に額縁の一部となる、例えば幅が3mm
のダミーゲート線4a,4bをパターン形成する。そし
てこのダミーゲート線4a,4bのうちの一方、例えば
ダミーゲート線4aをゲート線としても用いる(図1参
照)。
First, as shown in FIG. 2B, a metal such as molybdenum is deposited on the transparent substrate 2 by sputtering to a thickness of about 0.3 μm, and then the metal film is formed by photolithography. Pattern into a predetermined shape,
The gate line 3 is formed. At the time of this patterning, as shown in FIG. 1, on the two sides of the outer periphery of the display region, a part of the frame is formed on the outer periphery of the display region in parallel with the gate lines 3, for example, a width of 3 mm
The dummy gate lines 4a and 4b are patterned. One of the dummy gate lines 4a and 4b, for example, the dummy gate line 4a is also used as a gate line (see FIG. 1).

【0014】次に上記ゲート線3およびダミーゲート線
4a,4bが形成された透明基板2上に例えば膜厚が
0.15μmの二酸化珪素あるいは窒化珪素からなるゲ
ート絶縁膜5を形成し(図2(b)参照)、このゲート
絶縁膜5上に半導体層6を設ける。そして半導体層6が
形成された透明基板2上に例えば膜厚が0.3μmのア
ルミニウムからなる金属膜を堆積し、パターニングする
ことによって信号線7とドレイン電極8を形成する(図
2(b)参照)。この信号線7の形成時に信号線7と平
行に表示領域外周の額物の一部となる、例えば幅が3m
mのダミー信号線10a,10bをパターン形成するそ
してこのダミー信号線10a,10bのうちの一方、他
例えばダミー信号線10aを信号線として用いる(図1
参照)。なお、信号線7の一部分からソース電極が形成
されている。ゲート線3の一部分からゲート電極が構成
され、このゲート電極と、ゲート絶縁膜5と、半導体層
6と、ソース電極と、ドレイン電極8とからスイッチン
グ素子となるTFTが構成される。
Next, a gate insulating film 5 made of, for example, silicon dioxide or silicon nitride and having a film thickness of 0.15 μm is formed on the transparent substrate 2 on which the gate lines 3 and the dummy gate lines 4a and 4b are formed (FIG. 2). (See (b)), the semiconductor layer 6 is provided on the gate insulating film 5. Then, a signal line 7 and a drain electrode 8 are formed by depositing, for example, a metal film made of aluminum with a film thickness of 0.3 μm on the transparent substrate 2 on which the semiconductor layer 6 is formed (FIG. 2B). reference). When the signal line 7 is formed, it becomes a part of the frame on the outer periphery of the display area in parallel with the signal line 7, for example, the width is 3 m.
m dummy signal lines 10a and 10b are patterned, and one of the dummy signal lines 10a and 10b, for example, the dummy signal line 10a is used as a signal line (see FIG. 1).
reference). The source electrode is formed from a part of the signal line 7. A gate electrode is formed of a part of the gate line 3, and the gate electrode, the gate insulating film 5, the semiconductor layer 6, the source electrode, and the drain electrode 8 form a TFT that serves as a switching element.

【0015】また、画素領域上には、赤、緑、または青
の顔料が含有されたネガレジストをパターニングするこ
とによって形成されカラーフィルタ11が設けられてい
る。そしてこのカラーフィルタ11の形成時にダミーゲ
ート線4a,4bおよびダミー信号線10a,10b上
に赤、緑、青の顔料を含んだネガレジストのダミーパタ
ーンを順次積層するようにして形成する。
Further, a color filter 11 formed by patterning a negative resist containing a red, green or blue pigment is provided on the pixel region. Then, when the color filter 11 is formed, a negative resist dummy pattern containing red, green, and blue pigments is sequentially formed on the dummy gate lines 4a and 4b and the dummy signal lines 10a and 10b.

【0016】また、カラーフィルタ11上には膜厚が
0.1μmのITOからなる画素電極12が形成されて
おり、この画素電極12はドレイン電極8に電気的に接
続されている。
A pixel electrode 12 made of ITO having a film thickness of 0.1 μm is formed on the color filter 11, and the pixel electrode 12 is electrically connected to the drain electrode 8.

【0017】そして、TFT素子9および画素電極12
が形成された透明基板2上にポリイミドからなる配向膜
(図示せず)を形成することによってアレイ基板1が完
成する。
Then, the TFT element 9 and the pixel electrode 12
The array substrate 1 is completed by forming an alignment film (not shown) made of polyimide on the transparent substrate 2 on which is formed.

【0018】このアレイ基板1に対向するように配置さ
れる対向基板(図示せず)は透明基板上に共通電極とな
る例えば膜厚が0.15μmのITO膜が形成されてお
り、更にこのITO膜上にポリイミドからなる配向膜が
形成されている。
The counter substrate (not shown) arranged so as to face the array substrate 1 has a transparent substrate on which an ITO film having a film thickness of 0.15 μm, for example, is formed as a common electrode. An alignment film made of polyimide is formed on the film.

【0019】そして、アレイ基板1と対向基板との間の
間隙に液晶を封入し、これらの基板周辺をシールした
後、両基板の液晶が封入された面とは反対側の面に偏光
板を設けることによって液晶表示装置を完成する。
Then, liquid crystal is sealed in the gap between the array substrate 1 and the counter substrate, the periphery of these substrates is sealed, and then a polarizing plate is placed on the surface of both substrates opposite to the liquid crystal sealed surface. The liquid crystal display device is completed by providing the liquid crystal display device.

【0020】以上説明したように本実施の形態の液晶表
示装置によれば、表示領域外周に信号線7およびゲート
線3の形成時に形成された遮光性の額縁4a,4b,1
0a,10bが設けられているので、工程数を増やすこ
となしに表示領域周辺の光漏れを防ぐことができる。ま
た、額縁4a,4b,10a,10b上にカラーフィル
タのダミーパターンが形成されているため、外光の反射
を防止することができる。
As described above, according to the liquid crystal display device of the present embodiment, the light-shielding frames 4a, 4b, 1 formed when the signal line 7 and the gate line 3 are formed on the outer periphery of the display area.
Since 0a and 10b are provided, light leakage around the display area can be prevented without increasing the number of steps. Further, since the dummy pattern of the color filter is formed on the frame 4a, 4b, 10a, 10b, reflection of external light can be prevented.

【0021】なお本実施の形態の液晶表示装置において
は、画素電極12はカラーフィルタ11上に設けられて
いるが、カラーフィルタ11の下に設けても良い。更に
カラーフィルタは対向基板側に設けても良い。
In the liquid crystal display device of this embodiment, the pixel electrode 12 is provided on the color filter 11, but it may be provided below the color filter 11. Further, the color filter may be provided on the counter substrate side.

【0022】また、本実施の形態の液晶表示装置におい
てはダミーゲート線4a,4bおよびダミー信号線上に
カラーフィルタのダミーパターンを設けたがこのダミー
パターンは電気絶縁性の黒色のレジスト(樹脂)を用い
て形成しても良い。
Further, in the liquid crystal display device of the present embodiment, the dummy pattern of the color filter is provided on the dummy gate lines 4a and 4b and the dummy signal line, but this dummy pattern is made of an electrically insulating black resist (resin). You may form using it.

【0023】また、カラーフィルタ(着色層)は顔料が
含有されたレジストをフォトリソグラフィ技術を用いて
形成したが、染色法、印刷法、電着法等を用いて形成し
ても良い。
Further, the color filter (coloring layer) is formed by using a resist containing a pigment by a photolithography technique, but it may be formed by a dyeing method, a printing method, an electrodeposition method or the like.

【0024】なお、本実施の形態の液晶表示装置におい
ては、ダミーゲート線4a、ダミー信号線10aは各々
ゲート線、信号線として用いたが、用いないで別にゲー
ト線3、信号線7を形成しても良い。
In the liquid crystal display device of this embodiment, the dummy gate line 4a and the dummy signal line 10a are used as the gate line and the signal line, respectively, but the gate line 3 and the signal line 7 are separately formed without using them. You may.

【0025】[0025]

【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、工程
数を増やすことなく、表示領域周辺の光漏れを防ぐこと
ができる。
As described above, according to the present invention, light leakage around the display area can be prevented without increasing the number of steps.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明による液晶表示装置の一実施の形態にか
かるアレイ基板の平面図。
FIG. 1 is a plan view of an array substrate according to an embodiment of a liquid crystal display device of the present invention.

【図2】本発明による液晶表示装置の一実施の形態にか
かるアレイ基板の構成を示す構成図。
FIG. 2 is a configuration diagram showing a configuration of an array substrate according to an embodiment of a liquid crystal display device of the present invention.

【図3】従来の液晶表示装置の断面図。FIG. 3 is a cross-sectional view of a conventional liquid crystal display device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 アレイ基板 2 透明基板 3 ゲート線 4a ダミーゲート線 4b ダミーゲート線 5 ゲート絶縁膜 6 半導体層 7 信号線 8 ドレイン電極 9 TFT素子 10a ダミー信号線 10b ダミー信号線 11 カラーフィルタ(着色層) 12 画像電極 1 array substrate 2 transparent substrate 3 gate line 4a dummy gate line 4b dummy gate line 5 gate insulating film 6 semiconductor layer 7 signal line 8 drain electrode 9 TFT element 10a dummy signal line 10b dummy signal line 11 color filter (coloring layer) 12 image electrode

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】第1透明基板上にマトリックス上に配列さ
れた画素電極と、この画素電極に映像用信号を送るTF
Tからなるスイッチング素子と、このスイッチング素子
のゲートに接続されたゲート線と、前記映像用信号を前
記スイッチング素子に送出する信号線とを有するアレイ
基板と、 第2透明基板上に形成された共通電極を有する対向基板
と、 前記アレイ基板と前記対向基板との間隙に封入された液
晶層と、 を備え、 前記ゲート線にほぼ平行になるように前記ゲート線の形
成時に形成される2本の第1の遮光額縁と、前記信号線
に平行になるように前記信号線の形成時に形成される2
本の第2の遮光額縁とが前記アレイ基板の表示領域外周
に設けられていることを特徴とするアクティブマトリッ
クス型液晶表示装置。
1. A pixel electrode arranged in a matrix on a first transparent substrate, and a TF for sending a video signal to the pixel electrode.
An array substrate having a switching element made of T, a gate line connected to the gate of the switching element, and a signal line for sending the video signal to the switching element, and a common substrate formed on the second transparent substrate. A counter substrate having an electrode; and a liquid crystal layer sealed in a gap between the array substrate and the counter substrate. Two counter electrodes formed at the time of forming the gate line so as to be substantially parallel to the gate line. 2 formed at the time of forming the signal line so as to be parallel to the first light-shielding frame and the signal line 2
An active matrix liquid crystal display device, wherein a second light-shielding frame of a book is provided on the outer periphery of the display area of the array substrate.
【請求項2】前記第1および第2遮光額縁は電気絶縁性
の樹脂からなる着色層で被膜されていることを特徴とす
る請求項1記載のアクティブマトリックス型液晶表示装
置。
2. The active matrix type liquid crystal display device according to claim 1, wherein the first and second light-shielding picture frames are coated with a colored layer made of an electrically insulating resin.
【請求項3】前記アレイ基板の表示領域上にはカラーフ
ィルタが形成されており、前記第1および第2遮光額縁
は前記カラーフィルタの形成時に形成される、電気絶縁
性の樹脂からなる着色層で被膜されていることを特徴と
する請求項1記載のアクティブマトリックス型液晶表示
装置。
3. A color filter is formed on a display area of the array substrate, and the first and second light-shielding picture frames are formed when the color filter is formed and are made of an electrically insulating resin colored layer. The active matrix type liquid crystal display device according to claim 1, wherein the active matrix type liquid crystal display device is coated with.
JP25757495A 1995-10-04 1995-10-04 Active matrix type liquid crystal display device Pending JPH09101540A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP25757495A JPH09101540A (en) 1995-10-04 1995-10-04 Active matrix type liquid crystal display device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP25757495A JPH09101540A (en) 1995-10-04 1995-10-04 Active matrix type liquid crystal display device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH09101540A true JPH09101540A (en) 1997-04-15

Family

ID=17308169

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP25757495A Pending JPH09101540A (en) 1995-10-04 1995-10-04 Active matrix type liquid crystal display device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH09101540A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7304699B2 (en) 2003-03-31 2007-12-04 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display panel
JP2012099721A (en) * 2010-11-04 2012-05-24 Mitsubishi Electric Corp Thin film transistor array substrate, and liquid crystal display unit
JP2016212394A (en) * 2015-04-29 2016-12-15 三星ディスプレイ株式會社Samsung Display Co.,Ltd. Display device

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7304699B2 (en) 2003-03-31 2007-12-04 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display panel
JP2012099721A (en) * 2010-11-04 2012-05-24 Mitsubishi Electric Corp Thin film transistor array substrate, and liquid crystal display unit
JP2016212394A (en) * 2015-04-29 2016-12-15 三星ディスプレイ株式會社Samsung Display Co.,Ltd. Display device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2655941B2 (en) Active matrix type liquid crystal display device and manufacturing method thereof
JP4775836B2 (en) Display device and manufacturing method thereof
US6038003A (en) Liquid crystal display and method of manufacturing the same
KR100291228B1 (en) A liquid-crystal panel
JP4220030B2 (en) Manufacturing method of liquid crystal display element
JPH1048640A (en) Active matrix type liquid crystal display device
US7359014B2 (en) Liquid crystal display device and method for fabricating the same
KR20030026735A (en) Color Filter Panel for Liquid Crystal Display Device using Thermal Imaging and Method of Fabricating the same
JP2000122074A (en) Liquid crystal display device
JP2002277899A (en) Active matrix liquid crystal display and its manufacturing method
JPH10186349A (en) Liquid crystal display element and production thereof
JPH03167524A (en) Color liquid crystal display device
KR20000066397A (en) Method of manufacturing a TFT LCD pannel
JPH09101540A (en) Active matrix type liquid crystal display device
US20080149933A1 (en) Display panel
JP4156722B2 (en) Liquid crystal display device and method of manufacturing liquid crystal display device
JPH09101544A (en) Liquid crystal display device
TW200405078A (en) Color filter substrate and method of manufacturing the same, electro-optic device and electronic equipment
JP2999117B2 (en) Liquid crystal device and method of manufacturing the same
JPH1195202A (en) Active matrix type liquid crystal display device
JPH1090693A (en) Liquid crystal display element
JPH10160920A (en) Color filter and its production
JPH10333135A (en) Liquid crystal display element
KR20020013307A (en) color filter panel for liquid crystal display and manufacturing method thereof
KR20050015026A (en) High aperture ratio color liquid crystal display