JPH0899476A - Printing method for micropattern - Google Patents

Printing method for micropattern

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JPH0899476A
JPH0899476A JP6261999A JP26199994A JPH0899476A JP H0899476 A JPH0899476 A JP H0899476A JP 6261999 A JP6261999 A JP 6261999A JP 26199994 A JP26199994 A JP 26199994A JP H0899476 A JPH0899476 A JP H0899476A
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JP
Japan
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ink
intaglio
printing
layer
pattern
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JP6261999A
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Japanese (ja)
Inventor
Masaaki Tsuboi
當昌 坪井
Michisuke Ooshima
通資 大島
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TOYO SHIGYO KK
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TOYO SHIGYO KK
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/10Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
    • H05K3/12Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using thick film techniques, e.g. printing techniques to apply the conductive material or similar techniques for applying conductive paste or ink patterns

Abstract

PURPOSE: To improve the release properties of ink, reproducibility of a pattern and resistance to printing by forming a releasable resin layer by means of the use of non-crystalline fluorine resin containing a cyclic structure in a method of forming a releasable resin layer on a recessed section of an intaglio, which is filled with ink and of transferring the ink to a body to be printed. CONSTITUTION: An intaglio of good release properties and resistance to printing is provided by forming a release layer 8 composed of a composition containing non-crystalline resin having a cyclic structure on an intaglio 1 provided with a recessed section 2 such as a resist pattern or the like used for the manufacture of a semiconductor circuit or the like, Photosetting ink 3 is filled in the recessed section 2 of the intaglio 1, and then beam is emitted from a light source 6 to cure an inner layer 3 in contact with the recessed section 2, and a surface layer 3b is provided with viscosity generated by the curing inhibition action by oxygen. Therefore, in the following process of transferring an ink pattern onto a bracket 5, the half-cured viscous surface layer 3b is made to adhere to the bracket 5 in a good manner to be transferred easily.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、微細な画像を高精度に
印刷する方法に関するものであり、特に半導体素子回路
の製造などに使用するレジストパターンを形成する方
法、あるいは大面積のディスプレイパネル基板上に半導
体素子回路あるいは高精度のカラーフィルタパターンを
形成する方法において有用な、凹版印刷用版の表面処理
に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for printing a fine image with high accuracy, and in particular, a method for forming a resist pattern used for manufacturing a semiconductor device circuit, or a large-area display panel substrate. The present invention relates to surface treatment of an intaglio printing plate, which is useful in a method of forming a semiconductor device circuit or a highly accurate color filter pattern thereon.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体素子回路の製造に使用するエッチ
ング用のレジストパターンの形成には、従来フォトリソ
グラフィが使用されている。一方、最近ディスプレイパ
ネルの大型化が進行し、サイズが15インチ以上のもの
の開発が盛んに行なわれている。したがって、半導体素
子回路のパターン形成やカラーフィルタのパターン形成
においても、微細化と共に、基板の大型化および量産化
が求められるようになった。このような要求に対して、
現行のフォトリソグラフィでは大型露光装置の開発やフ
ォトレジストの塗布などの設備投資に莫大な費用がかか
り、しかもフォトマスクの適用サイズには限界があるな
どの問題がある。
2. Description of the Related Art Conventionally, photolithography has been used to form a resist pattern for etching used in the manufacture of semiconductor device circuits. On the other hand, recently, the display panel has become larger, and the size of the display panel having a size of 15 inches or more has been actively developed. Therefore, also in the pattern formation of the semiconductor element circuit and the color filter pattern, it has become necessary to increase the size of the substrate and mass-produce it along with miniaturization. For such a request,
In the current photolithography, enormous cost is required for the development of a large-scale exposure device and the coating of photoresist, and the applicable size of the photomask is limited.

【0003】大型ディスプレイデバイスのパネル上の半
導体素子回路形成用のレジストパターンやカラーフィル
タのパターンは、線幅については通常100μm以下、
位置精度については±1〜10μmのレベルが要求され
る。印刷法によりこの要求を満たすことは、平版オフセ
ット法では困難であり、凹版を用いる必要がある。すな
わち、凹版の凹部の形状を忠実に再現するインキパター
ンを形成し、これを高い位置精度で被転写体に完全に転
写しなければならない。凹版印刷により直接的あるいは
間接的に被印刷体にパターンを転写する方法は、装置上
の制約が少なく、量産効果が高く、かつ低コストである
という点で優れている。
A resist pattern for forming a semiconductor element circuit or a color filter pattern on a panel of a large display device usually has a line width of 100 μm or less,
Regarding the position accuracy, a level of ± 1 to 10 μm is required. It is difficult to meet this requirement by the printing method by the planographic offset method, and it is necessary to use an intaglio plate. That is, it is necessary to form an ink pattern that faithfully reproduces the shape of the concave portion of the intaglio plate and completely transfer the ink pattern to the transfer target with high positional accuracy. The method of directly or indirectly transferring the pattern to the printing medium by intaglio printing is excellent in that there are few restrictions on the apparatus, the mass production effect is high, and the cost is low.

【0004】従来、凹版に光あるいは熱で硬化するイン
キを充填し、次いで光あるいは熱によってインキを硬化
処理して、被印刷体に転写する方法が知られている(特
開平3−280416号公報)。別の方法としては、凹
版に光あるいは熱で硬化するインキを充填し、次いで光
あるいは熱によってインキの少なくとも表層部が半硬化
状になるように硬化処理を行なって、被印刷体に転写
し、あるいは中間介在物としてブランケットに転写する
ときに、転写を容易にし、その後に被印刷体に転写する
方法もある(特開平3−19889号公報)。また、イ
ンキを凹版から転移させ易くするために離形層を用いる
こともあり、離型層としてはシリコーン樹脂、シリコー
ンゴム、フッ素樹脂、ポリオレフィンなどが開示されて
いる(特開平2−135348号公報、特開平4−31
7005号公報、特開平5−139065号公報、特開
平5−241175号公報)。
Conventionally, a method has been known in which an intaglio plate is filled with ink which is cured by light or heat, and then the ink is cured by light or heat and transferred to a printing medium (Japanese Patent Laid-Open No. 3-280416). ). As another method, the intaglio is filled with ink that is cured by light or heat, and then cured by light or heat so that at least the surface layer portion of the ink becomes semi-cured, and transferred to a printing medium, Alternatively, when transferring to a blanket as an intermediate inclusion, there is also a method of facilitating the transfer and then transferring to the printing medium (JP-A-3-19889). In addition, a release layer may be used to facilitate transfer of the ink from the intaglio plate. As the release layer, silicone resin, silicone rubber, fluororesin, polyolefin, etc. have been disclosed (JP-A-2-135348). JP-A-4-31
7005, JP-A-5-139065, JP-A-5-241175).

【0005】しかしながら、特開平3−19889号公
報に記載されているように、離型層を設けた凹版を作
り、空気酸化型の印刷インキ、つまり通常のオフセット
インキあるいは電離放射線により硬化するインキあるい
は熱により硬化するインキを凹版に充填し、被印刷体へ
直刷りし、あるいはブランケットを介して印刷を行なう
と、1枚から数枚程度の印刷においては、シリコーン樹
脂あるいはフッ素樹脂、シリコーンゴム、ポリオレフィ
ン等からなる離型層はインキに対して離型性を示すが、
20枚以上印刷するような場合には離型性が劣化して、
転写時に凹版の凹部に硬化したインキが残存し易いもの
が殆どであった。つまり従来公知のフッ素樹脂層などか
らなる離型層では、印刷時の耐刷性がよくなく、離型層
の離型機能が印刷の反復によって20枚程度で劣化する
ようなものであった。このように従来知られている離型
層では、被転写体上に高精度でかつ微細なパターンを耐
刷性をもって形成し得るものは存在しなかった。
However, as described in JP-A-3-19889, an intaglio plate provided with a release layer is formed, and an air oxidation type printing ink, that is, an ordinary offset ink or an ink curable by ionizing radiation or When an intaglio is filled with ink that is hardened by heat, and is directly printed on a printing medium or is printed through a blanket, when printing one to several sheets, a silicone resin, a fluororesin, a silicone rubber, a polyolefin is used. The release layer consisting of etc. shows releasability to ink,
In case of printing more than 20 sheets, the releasability deteriorates,
In most cases, the hardened ink was likely to remain in the recesses of the intaglio during transfer. That is, a conventionally known release layer made of a fluororesin layer or the like has poor printing durability during printing, and the release function of the release layer is deteriorated after about 20 sheets by repeating printing. As described above, there has been no known release layer capable of forming a fine pattern with high precision and printing durability on a transfer target.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、凹版の表面
処理、とくにフッ素系離型剤による表面処理によって離
型層を設けた凹版を用いる印刷方法に関するものであ
る。また、特に印刷時の耐久性がよく、しかもインキの
離型性が良い凹版の表面処理と、それを用いて凹版のパ
ターンをよく再現する画像を得るための印刷方法を提供
するものである。さらに凹版の非画像部にインキが残存
して、転写後に画線部以外の部分に汚れやかぶりを生じ
させない印刷方法を提供するものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention relates to a printing method using an intaglio plate provided with a release layer by surface treatment of an intaglio plate, particularly by surface treatment with a fluorine-based releasing agent. Further, the present invention provides a surface treatment of an intaglio plate which has particularly good durability during printing and good ink releasability, and a printing method for obtaining an image in which the pattern of the intaglio plate is well reproduced by using the surface treatment. Further, the present invention provides a printing method in which the ink remains in the non-image area of the intaglio plate and does not cause stains or fog on areas other than the image area after transfer.

【0007】[0007]

【問題を解決するための手段】本発明は、前記のような
事情に鑑みてなされたものであり、凹版に環状構造を有
する非晶質フッ素樹脂を含有する組成物からなる離型層
を形成することによって、その離型層が凹版とよく接着
し、離型性が良く、しかも多数枚の印刷に耐え得る凹版
を提供し、かつその凹版を用いて微細な画像をも印刷し
得る方法を提供するものである。凹部の形状を忠実に再
現するインキパターンを形成し、かつ耐刷性を向上させ
るために、凹版の少なくとも凹部の表面を非晶質フッ素
樹脂を含む組成物で表面処理を行なって離型層を形成す
ると、ドクターリングにより凹版にインキを充填する際
に、インキが非画像部に残らないようにすることが可能
であり、またインキが転写時に凹部に残らないようにす
ることができる。
The present invention has been made in view of the above-mentioned circumstances, and forms a release layer made of a composition containing an amorphous fluororesin having an annular structure in an intaglio plate. By doing so, the release layer adheres well to the intaglio plate, has a good mold release property, and provides an intaglio plate that can withstand the printing of a large number of sheets, and a method capable of printing even a fine image using the intaglio plate. It is provided. In order to form an ink pattern that faithfully reproduces the shape of the recess and to improve printing durability, at least the surface of the recess of the intaglio is surface-treated with a composition containing an amorphous fluororesin to form a release layer. When formed, it is possible to prevent the ink from remaining in the non-image area when the ink is filled in the intaglio plate by the doctor ring, and prevent the ink from remaining in the recess during transfer.

【0008】本発明においては、凹版の少なくとも凹部
全面、好ましくは凹部および非画像部の製版面全面に離
型層を形成する。離型層の材質としては、インキに移行
せずしかもインキと親和性を有しない、離型性の高いも
のがよい。従来は、それにパラフィン系ワックス、シリ
コーン系やフッ素系の樹脂などが用いられてきたが、一
般のフッ素系樹脂については多数の種類が存在するにも
拘らず、本発明のような目的に有効なものは特定されて
いなかった。特にフッ素系の樹脂に付いては通常テフロ
ンあるいは単にフッ素型の樹脂とのみ記載され何ら特定
されておらず、しかも版の表面に薄膜状に形成すること
については何も言及されていない。しかも版の耐刷性に
ついては何も考慮されていなかった。しかるに、多数の
フッ素系樹脂を試験してみると、版に薄膜状に塗設でき
ないものもあり、またあるものは離型性が余り良くなか
った。フッ素系樹脂は凹版に接着し難いためか、特に耐
刷性については良くないものが殆どであった。
In the present invention, a release layer is formed on at least the entire surface of the concave portion of the intaglio, preferably the entire plate-making surface of the concave portion and the non-image area. As a material for the release layer, a material having a high release property that does not transfer to the ink and has no affinity with the ink is preferable. Conventionally, paraffin wax, silicone-based resin, and fluorine-based resin have been used for them. However, although there are many kinds of general fluorine-based resins, they are effective for the purpose of the present invention. The thing was not specified. In particular, regarding a fluorine-based resin, it is usually described as Teflon or simply a fluorine-type resin and is not specified at all, and nothing is mentioned about forming a thin film on the surface of the plate. Moreover, no consideration was given to the printing durability of the plate. However, when a large number of fluorine-based resins were tested, there were some that could not be applied in a thin film form to the plate, and some had poor releasability. Most of the fluororesins were not particularly good in terms of printing durability, probably because they were difficult to bond to the intaglio plate.

【0009】本発明においては、次のような評価方法に
よって離型性の良好な樹脂を選択した結果、環状構造を
有するフッ素樹脂は、溶媒に溶けるので凹版の表面に塗
布することができるという特徴があり、しかも離型性が
よく、かつ版の耐刷性が高いということを見出し本発明
に到達した。この事実は従来全く予想されていないこと
であり、しかも高精度の印刷を容易に実現し、かつ耐刷
性を向上させるために非常に有効な知見である。本発明
における離型性の評価は次のようにして行なった。図3
に示すように、離型層13を形成したガラス基板12を
真空吸引孔11により試験台20に固定し、一定量のイ
ンキ14を離型層13を有するガラス基板12の表面に
置き、表面処理を施してない10mm×10mmのセン
サーガラス15を押し付けてインキ14を挟む。その
後、空気酸化による硬化機構を有するインキではそのま
ま、また電磁放射線照射による硬化機構を有するインキ
ではランプ19からの電磁放射線16をガラス基板12
を通し照射してインキを硬化させ、あるいは熱硬化性の
インキでは熱を加えてインキを硬化させる。その後セン
サーガラス15の一辺を金属線17によって一定速度で
引き上げて、インキ14とセンサーガラス15とが剥離
するときの力を力センサー18で測定し剥離力として表
す。また、離型層13の耐刷性の評価方法は後述の実施
例2において説明する。
In the present invention, as a result of selecting a resin having a good releasability by the following evaluation method, the fluororesin having a cyclic structure is soluble in a solvent and can be applied to the surface of the intaglio plate. Therefore, the present invention has been achieved by finding out that the mold release property is good, the mold release property is good, and the printing durability of the plate is high. This fact has not been expected at all in the past, and is a very effective knowledge for easily realizing high-precision printing and improving printing durability. The releasability of the present invention was evaluated as follows. Figure 3
As shown in FIG. 3, the glass substrate 12 on which the release layer 13 is formed is fixed to the test table 20 by the vacuum suction holes 11, a certain amount of ink 14 is placed on the surface of the glass substrate 12 having the release layer 13, and the surface treatment is performed. The ink 14 is sandwiched by pressing the sensor glass 15 having a size of 10 mm × 10 mm which is not applied. Thereafter, the ink having the curing mechanism by air oxidation is used as it is, and the ink having the curing mechanism by the irradiation of electromagnetic radiation is irradiated with the electromagnetic radiation 16 from the lamp 19 on the glass substrate 12.
The ink is cured by irradiating through it, or in the case of a thermosetting ink, heat is applied to cure the ink. After that, one side of the sensor glass 15 is pulled up at a constant speed by the metal wire 17, and the force when the ink 14 and the sensor glass 15 are peeled off is measured by the force sensor 18 and expressed as a peeling force. A method for evaluating the printing durability of the release layer 13 will be described in Example 2 below.

【0010】離型性がよく、言い換えると剥離力が低
く、しかも耐刷性のあるものとして、下記の化1および
化2に示す環状構造を有する非晶質のフッ素樹脂がこれ
らの条件を全て充足しているということは驚くべきこと
であった。
An amorphous fluororesin having a cyclic structure shown in the following chemical formulas 1 and 2 has all of these conditions as having good releasability, in other words, low peeling force and printing durability. It was surprising to be satisfied.

【化1】 上記式中、mは整数であり、nは1または2である。[Chemical 1] In the above formula, m is an integer and n is 1 or 2.

【化2】 上記式中、xおよびyは整数である。従来のポリフッ化
ビニル、ポリフッ化ビニリデン、ポリ四フッ化エチレ
ン、ポリ塩化三フッ化エチレン、四フッ化エチレン−六
フッ化プロピレン共重合体、四フッ化エチレン−パーフ
ルオロアルキルビニルエーテル共重合体、エチレン四フ
ッ化エチレン共重合体などの結晶性のフッ素樹脂は、水
あるいは有機溶剤に分散して塗設しても5μm以下の薄
膜を形成することは困難であり、フッ素樹脂の優れた薄
膜を形成するには200〜450℃の高温で焼き付ける
ことが必要であった。しかし微細な画像を作る版を高温
に加熱することは画像の寸法精度を悪くする懸念もあり
好ましくない。一方、本発明において好適に使用するこ
とができるフッ素樹脂は化1に示すようなポリ(パーフ
ルオロアリルビニルエーテル)あるいは化2に示すよう
なパーフルオロシクロポリマーからなる非晶質のフッ素
系ポリマーである。これらは溶媒に可溶であり、版に5
μm以下の薄膜状に塗設することが可能であり、180
℃以下の低温で加熱しても優れたフッ素樹脂膜を印刷版
に形成することができ、しかもそのフッ素樹脂膜は版に
強く接着する特徴がある。またこのフッ素樹脂膜はイン
キ成分や他の化学物質に対しても耐久性があり、印刷版
の表面処理剤として用いると、フッ素樹脂離型層の表面
部分にはインキが付き難く、しかも耐刷性がある。これ
は離型層が版に接する所で版の材料によく接着し、かつ
離型層が高度に架橋しており強度が高いためであると思
われる。なかでも遊離の二重結合が少ない環状構造を有
する非晶質フッ素樹脂、例えばサイトップCTX-809S(商
品名、旭ガラス(株)製)はインキの剥離力が低く、しか
も耐刷性を有する優れたものである。また、若干遊離の
二重結合がある環状構造を有する非晶質フッ素樹脂、た
とえばサイトップCTX-809Mは版に対する接着性が高いた
め、これを版に直接塗設し、その上に前記のサイトップ
CTX-809Sを塗設すると離型性が優れ、しかも耐刷性が著
しく良い離型層を版に作ることができる。
[Chemical 2] In the above formula, x and y are integers. Conventional polyvinyl fluoride, polyvinylidene fluoride, polytetrafluoroethylene, polychlorotrifluoroethylene, tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer, tetrafluoroethylene-perfluoroalkyl vinyl ether copolymer, ethylene It is difficult to form a thin film of 5 μm or less with a crystalline fluororesin such as a tetrafluoroethylene copolymer even if it is dispersed in water or an organic solvent and applied. In order to do so, it was necessary to bake at a high temperature of 200 to 450 ° C. However, it is not preferable to heat the plate for forming a fine image to a high temperature because the dimensional accuracy of the image may be deteriorated. On the other hand, the fluororesin which can be preferably used in the present invention is an amorphous fluoropolymer composed of poly (perfluoroallyl vinyl ether) shown in Chemical formula 1 or perfluorocyclopolymer shown in Chemical formula 2. . These are soluble in the solvent and 5
It can be applied as a thin film of less than μm
An excellent fluororesin film can be formed on a printing plate even when it is heated at a low temperature of ℃ or less, and the fluororesin film is characterized by strongly adhering to the plate. In addition, this fluororesin film is durable against ink components and other chemical substances, and when used as a surface treatment agent for printing plates, it is difficult for ink to adhere to the surface of the fluororesin release layer, and printing durability is improved. There is a nature. It is thought that this is because the release layer adheres well to the material of the plate where it comes into contact with the plate, and the release layer is highly crosslinked and has high strength. Among them, an amorphous fluororesin having a cyclic structure with few free double bonds, for example, CYTOP CTX-809S (trade name, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) has low ink peeling force and printing durability. It is excellent. In addition, an amorphous fluororesin having a cyclic structure with a slightly free double bond, such as Cytop CTX-809M, has high adhesiveness to the plate. Top
When CTX-809S is applied, it is possible to form a release layer on the plate, which has excellent release properties and remarkably excellent printing durability.

【0011】凹版基板へ離型層を形成する方法として
は、フッ素樹脂を溶媒に溶解して、あるいは分散剤に分
散させて凹版に塗布する。塗布方法としてはディップ
法、スピンコート法、転写法、噴霧法、蒸着法、ドクタ
ーコート法、ロールコート法などがあり、室温あるいは
50℃から200℃までの温度で加熱処理をして離型層
を形成することができる。離型層の厚さは10nm以
上、10μm以下であり、通常100nm以上、3μm
以下の膜厚が好適である。また、離型層の厚さにより乾
燥温度は異なるが、0.5μm以下の場合は80℃〜1
80℃が好ましい。また、凹版の基板と離型層との接着
性を向上させるために、離型層の形成に先立って、空気
中でオゾンを発生させる短波長の光を出すランプで凹版
面を照射した後に離型層を設けると耐刷性が向上するこ
とが判明した。あるいはシランカップリング剤などのプ
ライマーをあらかじめ凹版に塗布し、その上に離型層を
設けると、離型性と耐刷性の効果がより優れたものにな
ることもある。この際、オゾンを発生するランプで照射
してから、プライマーを塗布することはさらに有効であ
る。更に特異なことに、以下に述べる光硬化性インキの
場合には、特に環状構造を有する非晶質のフッ素樹脂を
含む離型層が、従来の離型層よりも凹版からのインキの
離型性が良く、しかも版の耐刷性が高かった。インキの
離型性がよいと転写されたインキが凹版の形状を忠実に
再現しており、画質の良いパターンを得ることができ
る。
As a method for forming the release layer on the intaglio substrate, the fluororesin is dissolved in a solvent or dispersed in a dispersant and applied to the intaglio plate. As the coating method, there are a dip method, a spin coating method, a transfer method, a spraying method, a vapor deposition method, a doctor coating method, a roll coating method, etc., and a release layer is formed by heating at room temperature or a temperature of 50 to 200 ° C. Can be formed. The thickness of the release layer is 10 nm or more and 10 μm or less, and usually 100 nm or more and 3 μm.
The following film thicknesses are suitable. The drying temperature varies depending on the thickness of the release layer, but if it is 0.5 μm or less, 80 ° C to 1 ° C.
80 ° C. is preferred. Further, in order to improve the adhesiveness between the intaglio substrate and the release layer, prior to the formation of the release layer, the intaglio surface is irradiated with a lamp that emits short-wavelength light that generates ozone in the air and then released. It has been found that the printing durability is improved by providing the mold layer. Alternatively, when a primer such as a silane coupling agent is applied to the intaglio in advance and a release layer is provided thereon, the effects of releasability and printing durability may be more excellent. At this time, it is more effective to apply the primer after irradiating with a lamp that generates ozone. More specifically, in the case of the photocurable ink described below, the release layer containing an amorphous fluororesin having a cyclic structure is more effective than the conventional release layer in releasing the ink from the intaglio plate. The printing performance was good and the printing durability of the plate was high. If the releasability of the ink is good, the transferred ink faithfully reproduces the shape of the intaglio plate, and a pattern with good image quality can be obtained.

【0012】図1および図2は本発明の方法の一実施例
を示す略示断面図である。図中、符号1は凹版である。
この凹版1には、あらかじめフォトリソグラフィ法とエ
ッチング法との組合わせなどの通常の方法で所望のパタ
ーンを形成する。凹版1上に形成する凹部2の幅は1〜
200μm、凹部の深さは1〜20μm程度であり、よ
り好ましくは2〜10μm程度である。使用に供する凹
版1の材料としては、例えば金属、ガラス、セラミッ
ク、エンジニアリングプラスチック等が挙げられる。ま
た、例えばドクター4による損傷を防止するために、こ
れらの材料からなる凹版1の製版面(ショルダー部及び
凹部の表面)をクロム、ニッケル等の硬質金属で被覆す
ることも好ましい。被覆法としては、例えば湿式メッキ
法、スパッター法、真空蒸着法などが挙げられる。
1 and 2 are schematic sectional views showing an embodiment of the method of the present invention. In the figure, reference numeral 1 is an intaglio plate.
A desired pattern is previously formed on the intaglio plate 1 by an ordinary method such as a combination of a photolithography method and an etching method. The width of the recess 2 formed on the intaglio 1 is 1 to
The depth of the recess is 200 μm and the depth of the recess is about 1 to 20 μm, more preferably about 2 to 10 μm. Examples of the material of the intaglio plate 1 used include metals, glass, ceramics, engineering plastics, and the like. Further, for example, in order to prevent damage by the doctor 4, it is also preferable to coat the plate making surface (the surface of the shoulder portion and the concave portion) of the intaglio 1 made of these materials with a hard metal such as chromium or nickel. Examples of the coating method include a wet plating method, a sputtering method, a vacuum vapor deposition method and the like.

【0013】凹版1の材質としては上記の剛性材でもよ
いが、例えばステンレス鋼、燐青銅やインバー−42合
金等の低膨張性鉄合金などの可撓性のある材質も好まし
く用いられる。また、硬化工程、転写工程でプレスを使
用する場合にも、プレスした際に凹版が変形したままに
ならず、元の形状に回復するような性質を有する材質を
選択することが好ましい。印刷によってカラーフィルタ
を作製する場合、凹版としては被転写体のガラスと同程
度の熱膨張率を持つ材料が好ましく、このことは特開平
5−323111号公報にも記載されている。低膨張性
の鉄合金は可撓性が高く、被転写体の表面に多少の厚さ
ムラがあっても追従が可能であるという利点を有する
が、平台の印刷機を用い、後述する被転写体7の基板7
aとして、低膨張率のガラス基板を用いる場合には、ほ
ぼ同じ程度の熱膨張率をもつガラスを凹版1として用い
ることが好ましい。本発明の離型剤はガラス凹版の場合
にとくに有効である。上記凹版1の厚さは、材質の機械
的強度を考慮して適宜選択する。
The material of the intaglio plate 1 may be the above-mentioned rigid material, but a flexible material such as stainless steel, phosphor bronze or low expansion iron alloy such as Invar-42 alloy is also preferably used. Also, when a press is used in the curing step and the transfer step, it is preferable to select a material having a property that the intaglio does not remain deformed when pressed and the original shape is restored. When the color filter is produced by printing, a material having a thermal expansion coefficient similar to that of the glass of the transferred material is preferable as the intaglio plate, which is also described in JP-A-5-323111. The low-expansion iron alloy has high flexibility and has the advantage that it can follow even if there is some thickness unevenness on the surface of the transfer target, but using a flatbed printing machine, Substrate 7 of body 7
When a glass substrate having a low expansion coefficient is used as a, it is preferable to use glass having substantially the same thermal expansion coefficient as the intaglio 1. The release agent of the present invention is particularly effective in the case of a glass intaglio plate. The thickness of the intaglio 1 is appropriately selected in consideration of the mechanical strength of the material.

【0014】インキとしては、通常のインキの概念に該
当しないものでもよく、凹部に入るものであればよい。
例えば、電離放射線硬化型インキ、電子線硬化型イン
キ、あるいは熱硬化性インキ、金属回路形成用インキ、
赤外線硬化型インキなどでもよい。また、上記電磁放射
線あるいは熱による硬化性のインキの硬化の程度は、電
磁放射線を照射しあるいは熱を加えたときに、インキ供
給時よりも粘度が高くなり、凹部の形状をそのまま保持
できる程度の非流動性になることが好ましい。本発明の
方法に使用するインキで特に好ましいインキは、例えば
紫外線照射により硬化する光硬化性インキ(以下「UV
インキ」という)であり、かつ、酸素の存在による硬化
阻害性を有する嫌気性のUVインキである。この他に
も、可視光の照射により光架橋が生ずる可視光硬化性イ
ンキも使用し得る。UVインキと後者の可視光硬化性イ
ンキを含めて本発明では単に「光硬化性インキ」とい
う。
The ink may be one that does not correspond to the general concept of ink, and may be any ink that enters the recess.
For example, ionizing radiation curable ink, electron beam curable ink, thermosetting ink, metal circuit forming ink,
Infrared curing type ink may be used. Further, the degree of curing of the curable ink by electromagnetic radiation or heat is such that the viscosity becomes higher when electromagnetic radiation is applied or heat is applied than when ink is supplied, and the shape of the concave portion can be maintained as it is. It is preferably non-fluid. A particularly preferred ink used in the method of the present invention is, for example, a photo-curable ink that is cured by irradiation with ultraviolet rays (hereinafter referred to as “UV”).
), And is an anaerobic UV ink having a curing inhibition property due to the presence of oxygen. In addition to these, visible light curable inks that undergo photocrosslinking upon irradiation with visible light can also be used. In the present invention, UV ink and the latter visible light curable ink are simply referred to as "photocurable ink".

【0015】光硬化性インキは、光を照射することによ
って起こる光ラジカル重合反応を応用したものが多い。
光としては紫外線を用いることが多いが、開始剤および
増感剤を選択することにより近紫外光や可視光も使用す
ることができる。一般にラジカル反応によって光硬化す
る材料の光硬化反応は、空気中の酸素によって阻害され
ることが多く、多少なりとも嫌気性を有する。従来、光
硬化性インキの酸素による硬化阻害は、インキの印刷適
性としては好ましくなく、酸素による硬化阻害を防止す
るために種々の改良がなされてきた。しかるに、本発明
の特徴の一つは、この空気による硬化阻害に係る問題点
を逆に利用して微細パターンをつくることである。図1
(b)において、凹版1の凹部2に光硬化性インキ3を
充填した後、光源6から光を照射すると、凹部2に接す
る内側層3aは硬化するが、表面層3bは酸素による硬
化阻害作用のために半硬化の状態であり、粘着性を帯び
ている。次に、図1(C)においてインキパターンをブ
ランケット5の上に転移させる工程において、前記の硬
化した内側層3aは粘着性がないので凹版1の凹部2か
らそのままの形状でインキ層が転移し、凹部2にインキ
が残存しないようになるので好都合である。一方、半硬
化して粘性を有する表面層3bはブランケット5への付
着性がよいので転移に好都合であるという利点を有す
る。なお、インキ層3のブランケットに接する側3b
は、この段階では空気による光硬化阻害作用を受けな
い。この状態で、必要に応じて適当量の第二段階の光照
射を行なうと、ブランケット5に接している側のインキ
層3bも硬化して、ブランケット5から剥離し易くな
り、後続の図2(d)に示す工程において、被転写体7
への転写をより良好に行なうことができる。
Many photo-curable inks apply a photo-radical polymerization reaction caused by irradiation with light.
Ultraviolet light is often used as light, but near-ultraviolet light or visible light can also be used by selecting an initiator and a sensitizer. In general, the photo-curing reaction of a material that is photo-cured by a radical reaction is often obstructed by oxygen in the air and is somewhat anaerobic. Conventionally, inhibition of curing of photocurable ink by oxygen is not preferable for printability of ink, and various improvements have been made to prevent inhibition of curing by oxygen. However, one of the characteristics of the present invention is to make a fine pattern by reversely utilizing the problem of curing inhibition by air. Figure 1
In (b), when the concave portion 2 of the intaglio 1 is filled with the photocurable ink 3 and then irradiated with light from the light source 6, the inner layer 3a in contact with the concave portion 2 is cured, but the surface layer 3b has a curing inhibitory effect by oxygen. It is semi-cured and sticky due to. Next, in the step of transferring the ink pattern onto the blanket 5 in FIG. 1 (C), since the cured inner layer 3a does not have tackiness, the ink layer is transferred in the same shape from the recess 2 of the intaglio plate 1. This is convenient because ink does not remain in the recess 2. On the other hand, the semi-cured and viscous surface layer 3b has good adhesion to the blanket 5 and thus has an advantage of being convenient for transfer. The side 3b of the ink layer 3 that contacts the blanket
At this stage, the photocuring inhibition effect by air is not obtained. If an appropriate amount of second-stage light irradiation is performed in this state, the ink layer 3b on the side in contact with the blanket 5 is also hardened and easily peeled off from the blanket 5, and the subsequent FIG. In the step shown in d), the transferred body 7
Can be more favorably transferred.

【0016】このように、従来好ましくないとされてい
る酸素による硬化阻害性を巧みに利用することによっ
て、インキ層の転移面すなわち表面層3bと、剥離面す
なわち内側層3aの表面状態を変化させ、インキの転写
を完全に行なうことが可能であり、しかも転写時に多大
な圧力をかけることなく精密パターンを印刷することが
できる。酸素によるラジカル重合の阻害性の度合い(嫌
気度)が不足または過剰である場合には、インキに通常
使用する光重合開始剤、増感剤、熱重合禁止剤などの添
加剤を加えることによって嫌気度を調節することができ
る。しかし、ブランケットのような中間介在物にインキ
を転写してからさらに被転写体7に転写する場合は、被
転写体7の基板7aの表面に粘着層9がある方が転写し
易い。しかしシリコーンゴムのようなインキとの接着性
が少ない中間介在物を用いる場合は粘着層が被印刷体に
なくてもインキの転写が可能である。
As described above, the surface state of the transfer surface, that is, the surface layer 3b of the ink layer and the surface state of the peeling surface, that is, the inner layer 3a are changed by skillfully utilizing the curing inhibition property by oxygen, which has been conventionally unfavorable. In addition, it is possible to completely transfer the ink, and it is possible to print a precise pattern without applying a large pressure at the time of transfer. If the degree of radical polymerization inhibition by oxygen (anaerobic degree) is insufficient or excessive, adding anaerobic agents such as photopolymerization initiators, sensitizers, and thermal polymerization inhibitors usually used for ink The degree can be adjusted. However, when the ink is transferred to an intermediate inclusion such as a blanket and then transferred to the transfer target 7, it is easier to transfer when the adhesive layer 9 is provided on the surface of the substrate 7a of the transfer target 7. However, when an intermediate inclusion having low adhesiveness with ink such as silicone rubber is used, the ink can be transferred even if the adhesive layer is not present on the printing medium.

【0017】本発明でインキとして用いる光重合性組成
物は、米国特許第3,549,367号公報に示されてい
るような付加重合性不飽和モノマー、光重合開始剤およ
びバインダーを主成分とするものである。詳しくは日本
印刷学会誌、28巻、200〜214頁(1991)あ
るいは日本接着学会誌、20巻、300〜308頁など
の総説も参考にすることができる。
The photopolymerizable composition used as an ink in the present invention comprises an addition polymerizable unsaturated monomer, a photopolymerization initiator and a binder as main components as disclosed in US Pat. No. 3,549,367. To do. For details, reference can also be made to the review articles of the Journal of the Printing Society of Japan, Volume 28, pp. 200 to 214 (1991), or the Journal of the Japan Society of Adhesion, Volume 20, pp. 300 to 308.

【0018】先ず、光架橋または光重合可能なモノマ
ー、オリゴマー、プレポリマーなどとしては、エチルア
クリレート、ブチルアクリレート、ヒドロキシエチルア
クリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、エチレ
ングリコールジメタクリレート、ペンタエリスリトール
トリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリ
レート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、
ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレートのような
1価または多価アルコールのアクリル酸またはメタクリ
ル酸のエステル類;多価アルコールと一塩基酸または多
塩基酸を縮合して得られるポリエステルプレポリマーに
(メタ)アクリル酸を反応させて得られるポリエステル
(メタ)アクリレート;ポリオール基と2個のイソシア
ネート基を有する化合物を反応させた後、(メタ)アク
リル酸を反応させて得られるポリウレタン(メタ)アク
リレート;ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェ
ノールF型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、
ポリカルボン酸グリシジルエステル、ポリオールグリシ
ジルエステル、脂肪族または脂環式エポキシ樹脂、アミ
ンエポキシ樹脂、トリフェノールメタン型エポキシ樹
脂、ジヒドロキシベンゼン型エポキシ樹脂などのエポキ
シ樹脂と、(メタ)アクリル酸を反応させて得られるエ
ポキシ(メタ)アクリレート等の光重合性化合物が挙げ
られる。また、(メタ)アクリロイル基とカルボキシル
基を併せ持つ光重合性モノマーおよびオリゴマーも使用
でき、そのような化合物の具体例としては、ビスフェノ
ールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹
脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ポリカルボン酸エポキ
シ樹脂、ポリカルボン酸グリシジルエステル、脂肪族ま
たは脂環式エポキシ樹脂、アミンエポキシ樹脂、トリフ
ェノールメタン型エポキシ樹脂、ジヒドロキシベンゼン
型エポキシ樹脂などのエポキシ基と(メタ)アクリル酸
を反応させて得られるヒドロキシル基に酸無水物を反応
させたエポキシ(メタ)アクリレート−カルボン酸付加
物;無水マレイン酸と共重合可能なエチレン、プロペ
ン、イソブチレン、スチレン、ビニルフェノール、アク
リル酸エステル、アクリルアミド等のモノマーとの共重
合体の無水マレイン酸部に、ヒドロキシエチルアクリレ
ート等のアルコール性のヒドロキシル基を有するアクリ
レートやグリシジルメタクリレート等のエポキシ基をも
つアクリレートを反応させ、ハーフエステル化した化合
物;アクリル酸、アクリル酸エステルとヒドロキシエチ
ルアクリレート等のアルコール性のヒドロキシル基を有
するアクリレートの共重合体のヒドロキシル基にさらに
アクリル酸を反応させた化合物等が挙げられる。これら
の光重合性化合物は単独または混合して使用することが
できる。
First, as the photocrosslinkable or photopolymerizable monomer, oligomer, prepolymer, etc., ethyl acrylate, butyl acrylate, hydroxyethyl acrylate, hydroxyethyl methacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol trimethacrylate. , Dipentaerythritol hexaacrylate,
Acrylic or methacrylic acid esters of monohydric or polyhydric alcohols such as dipentaerythritol hexamethacrylate; (meth) acrylic acid on polyester prepolymers obtained by condensing polyhydric alcohols with monobasic acids or polybasic acids Polyester (meth) acrylate obtained by reacting the above; Polyurethane (meth) acrylate obtained by reacting a compound having a polyol group and two isocyanate groups and then reacting with (meth) acrylic acid; Bisphenol A type epoxy Resin, bisphenol F type epoxy resin, novolac type epoxy resin,
Reaction of (meth) acrylic acid with epoxy resins such as polycarboxylic acid glycidyl ester, polyol glycidyl ester, aliphatic or alicyclic epoxy resin, amine epoxy resin, triphenolmethane type epoxy resin, dihydroxybenzene type epoxy resin The photopolymerizable compound such as the obtained epoxy (meth) acrylate may be mentioned. Further, photopolymerizable monomers and oligomers having both a (meth) acryloyl group and a carboxyl group can be used, and specific examples of such compounds include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, novolac type epoxy resin, poly Reaction of (meth) acrylic acid with epoxy groups such as carboxylic acid epoxy resin, polycarboxylic acid glycidyl ester, aliphatic or alicyclic epoxy resin, amine epoxy resin, triphenolmethane type epoxy resin, dihydroxybenzene type epoxy resin Epoxy (meth) acrylate-carboxylic acid adduct obtained by reacting the obtained hydroxyl group with an acid anhydride; ethylene, propene, isobutylene, styrene, vinylphenol, acrylic acid ester, acrylic acid copolymerizable with maleic anhydride A compound obtained by reacting a maleic anhydride portion of a copolymer with a monomer such as amide with an acrylate having an alcoholic hydroxyl group such as hydroxyethyl acrylate or an acrylate having an epoxy group such as glycidyl methacrylate to form a half ester; acrylic Examples thereof include compounds in which acrylic acid is further reacted with a hydroxyl group of a copolymer of an acid, an acrylic ester and an acrylate having an alcoholic hydroxyl group such as hydroxyethyl acrylate. These photopolymerizable compounds can be used alone or in combination.

【0019】本発明においては、種々の光重合開始剤を
単独あるいは混合して使用することができるが、一般
に、顔料を光重合性モノマーあるいは光重合性オリゴマ
ー、または光重合性樹脂に分散させる着色光重合性樹脂
では、光重合開始剤として高感度な化合物あるいは組成
物が要求される。そのような光重合開始剤の具体例とし
ては、ベンゾインエーテル;ベンゾインイソブチルエー
テル;ベンゾインイソプロピルエーテル;ベンゾイル安
息香酸;ベンゾイル安息香酸メチル;4−ベンゾイル−
4'−メチルジフェニルサルファイド;ベンジルメチル
ケタール;2−n−ブトキシエチル−4−ジメチルアミ
ノベンゾエート;2−クロロチオキサントン;2,4−
ジエチルチオキサントン;2,4−ジイソプロピルチオ
キサントン;ジメチルアミノメチルベンゾエート;p−
ジメチルアミノ安息香酸イソアミル;3,3'−ジメチル
−4−メトキシベンゾフェノン;2,4−ジメチルチオ
キサントン;1−(4−ドデシルフェニル)−2−ヒド
ロキシ−2−メチルプロパン−1−オン;1−ヒドロキ
シシクロヘキシルフェニルケトン;2−ヒドロキシ−2
−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン;1−(4
−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチ
ルプロパン−1−オン;イソプロピルチオキサントン;
2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2
−モルフォリノプロパン−1−オン;2−ベンジル−2
−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)
−ブタン−1−オン、ミヒラーズケトン、2,2−ジク
ロロ−p−フェノキシアセトフェノン、フェナントレン
キノンなどが挙げられる。また、ビスメチロールアミノ
フェニル基を含み、かつトリハロメチル基を含むトリア
ジン化合物あるいはフェニル基にブロムを置換した前記
化合物の誘導体等も挙げられる。特にこの系統の化合物
は着色が少なく、また光感度がかなり高い。
In the present invention, various photopolymerization initiators may be used alone or as a mixture, but in general, a pigment is dispersed in a photopolymerizable monomer or photopolymerizable oligomer or a photopolymerizable resin for coloring. The photopolymerizable resin requires a highly sensitive compound or composition as a photopolymerization initiator. Specific examples of such a photopolymerization initiator include benzoin ether; benzoin isobutyl ether; benzoin isopropyl ether; benzoylbenzoic acid; methyl benzoylbenzoate; 4-benzoyl-
4'-methyldiphenyl sulfide; benzyl methyl ketal; 2-n-butoxyethyl-4-dimethylaminobenzoate; 2-chlorothioxanthone; 2,4-
Diethylthioxanthone; 2,4-diisopropylthioxanthone; Dimethylaminomethylbenzoate; p-
Isoamyl dimethylaminobenzoate; 3,3′-dimethyl-4-methoxybenzophenone; 2,4-dimethylthioxanthone; 1- (4-dodecylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one; 1-hydroxy Cyclohexyl phenyl ketone; 2-hydroxy-2
-Methyl-1-phenylpropan-1-one; 1- (4
-Isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one; isopropylthioxanthone;
2-Methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2
-Morpholinopropan-1-one; 2-benzyl-2
-Dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl)
-Butan-1-one, Michler's ketone, 2,2-dichloro-p-phenoxyacetophenone, phenanthrenequinone and the like can be mentioned. Further, a triazine compound containing a bismethylolaminophenyl group and a trihalomethyl group, or a derivative of the above compound in which phenyl group is replaced with bromine, and the like can also be mentioned. In particular, the compounds of this family are less colored and have a considerably higher photosensitivity.

【0020】これらの光重合開始剤は、光重合性化合物
に対し、0.5〜30重量%、好ましくは2〜15重量
%の範囲内で使用され、これらは単独でまたは1ないし
3種類を混合して使用することができる。また、本発明
においては、光重合開始剤としてヘキサアリールビスイ
ミダゾール系化合物または水素供与体を併用してもよ
い。ヘキサアリールビスイミダゾール系化合物の例とし
ては、2,2'−ビス(2−クロルフェニル)−4,4',
5,5'−テトラフェニルビスイミダゾール;2,2'−ビ
ス(2−クロルフェニル)−4,4',5,5'−テトラ−
(3,4−メチレンジオキシフェニル)−1,1'−ビ−
1H−イミダゾールが挙げられる。別の水素供与体とし
て、芳香族メルカプタン系化合物、芳香族アミン系化合
物、ポリビニルフォルマール、ポリビニルブチラール、
チオヒダントイン等を用いることもできる。
These photopolymerization initiators are used in the range of 0.5 to 30% by weight, preferably 2 to 15% by weight, based on the photopolymerizable compound, and these are used alone or in 1 to 3 types. It can be mixed and used. Further, in the present invention, a hexaarylbisimidazole compound or a hydrogen donor may be used in combination as a photopolymerization initiator. Examples of the hexaarylbisimidazole compound include 2,2′-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ′,
5,5'-Tetraphenyl bisimidazole; 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra-
(3,4-methylenedioxyphenyl) -1,1'-bi-
1H-imidazole may be mentioned. As another hydrogen donor, an aromatic mercaptan compound, an aromatic amine compound, polyvinyl formal, polyvinyl butyral,
Thiohydantoin and the like can also be used.

【0021】本発明のインキに用いられる樹脂としては
ポリエステル樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、アク
リル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂あるいはこれ
らの部分変性の樹脂、例えばメラミン変性ポリエステル
樹脂等が用いられる。ポリエステル樹脂と部分的に架橋
反応させるメラミン樹脂としては、ヘキサメトキシメチ
ロールメラミンおよび、ヘキサブトキシメチロールメラ
ミンがある。メラミン樹脂の割合はポリエステル樹脂1
00重量部に対し、メラミン樹脂5〜80重量部、特に
好ましくは20〜60重量部である。メラミン樹脂が少
ないと印刷インキの凝集力付与が充分でなく、凹部に充
填されたインキがブランケットに完全転写され難い。あ
るいは非画像部にインキが付着して汚れ易くなる。一
方、メラミン樹脂の量が多すぎると凝集力が大きくな
り、凹版の凹部にインキを充填し難くなる。本発明にお
いては、さらにその他の樹脂として、耐熱性を向上させ
る目的で、エポキシ化合物を使用することもできる。エ
ポキシ化合物は、前記カルボキシル基を有する化合物等
と熱的に反応し、架橋することにより耐熱性を向上させ
る働きがある。エポキシ化合物の具体例としては、ビス
フェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポ
キシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ポリカルボン酸
グリシジルエステル、ポリオールポリグリシジルエステ
ル、脂肪族または脂環式エポキシ樹脂、アミンエポキシ
樹脂、トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、ジヒドロ
キシベンゼン型エポキシ樹脂などが挙げられる。これら
のその他の樹脂は、光重合性化合物の重量に対し30%
以下の範囲内で使用され、5〜15%の範囲内で使用す
ることが好ましい。
As the resin used in the ink of the present invention, a polyester resin, a melamine resin, a urethane resin, an acrylic resin, an epoxy resin, an alkyd resin, or a partially modified resin thereof such as a melamine-modified polyester resin is used. Hexamethoxymethylol melamine and hexabutoxymethylol melamine are examples of the melamine resin that is partially cross-linked with the polyester resin. The ratio of melamine resin is polyester resin 1
It is 5 to 80 parts by weight, and particularly preferably 20 to 60 parts by weight, based on 00 parts by weight. When the amount of melamine resin is small, the cohesive force of the printing ink is not sufficiently imparted, and the ink filled in the recesses is difficult to be completely transferred to the blanket. Alternatively, ink is likely to adhere to the non-image area and stain easily. On the other hand, when the amount of the melamine resin is too large, the cohesive force becomes large, and it becomes difficult to fill the ink in the concave portions of the intaglio plate. In the present invention, an epoxy compound may be used as another resin for the purpose of improving heat resistance. The epoxy compound has a function of thermally reacting with the compound having a carboxyl group and the like and crosslinking to improve heat resistance. Specific examples of the epoxy compound include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, novolac type epoxy resin, polycarboxylic acid glycidyl ester, polyol polyglycidyl ester, aliphatic or alicyclic epoxy resin, amine epoxy resin, and triepoxy resin. Examples thereof include phenolmethane type epoxy resin and dihydroxybenzene type epoxy resin. These other resins account for 30% by weight of the photopolymerizable compound.
It is used within the following range, preferably within the range of 5 to 15%.

【0022】分子間相互作用の大きなウレタン樹脂を用
いてインキの凝集力を大きくすることにより、凹版の凹
部に充填されたインキを転写され易くすることができ
る。十分な凝集力を得るためには、ある程度以上の分子
鎖長が必要であり、平均分子量で3000以上、より好
ましくは、重量平均分子量で6000以上で10000
以下のウレタンアクリレートが有効である。かかるウレ
タンアクリレートは、ポリエステルポリオールまたはポ
リエーテルポリオール、および水酸基含有アクリル酸エ
ステルをポリイソシアネート化合物と反応させて得られ
るが、大日本インキ化学工業(株)製「ユニディック」、
日本合成化学工業(株)製「ゴーセラック」、東亜合成化
学工業(株)製「アロニックス」、日本化薬(株)製「カヤ
ラッド」、ダイセルUCB(株)製「エベクリル」、ロー
ドファーイースト(株)製「フォトグレーズ」等およびそ
の他市販の紫外線硬化型プレポリマーの中から、適宜選
択して使用することもできる。充分な凝集力を得るため
に、インキ中に必要なウレタンアクリレート含有量は、
少なくとも3%以上、好ましくは8%以上が適当であ
る。本発明に有効に使用得るウレタンアクリレートは、
紫外線硬化型プレポリマーとしては比較的分子量の大き
な線状ポリマーであるため、これを低粘度の紫外線硬化
型モノマーと組み合わせて単独に配合したインキは、顔
料への濡れ性の不足、ドクターリングの時に非画像部に
インキ汚れが多いという問題がある。酸価100以上の
高酸価樹脂、特に好ましくは天然樹脂変性マレイン酸樹
脂を上述のウレタンアクリレート樹脂と併用して用いた
場合は、顔料への濡れ性や、インキのレオロジーを改善
し、上記の問題を解決することができる。かかる高酸価
樹脂としては、特開昭59−117568号公報、特開
昭62−53312号公報または特開平1−96273
号公報に記載されたシクロペンタジエンまたはその重合
体を不飽和カルボン酸またはその酸無水物と反応させて
得られる酸変性炭化水素樹脂、特開昭61−26401
4号公報に記載されたフェノール樹脂と多価カルボン酸
ないしその酸無水物を反応させて得られる酸変性フェノ
ール樹脂、および多価カルボン酸ないしその酸無水物を
各種アルコールと反応させて得られるエステル樹脂、そ
の他の天然樹脂および合成樹脂等のなかで酸価が100
以上、軟化点が60〜140℃の範囲のものであればよ
く、特に好ましくは酸価が150以上で300以下の天
然樹脂変性マレイン酸樹脂が好適に用いられる。
By using a urethane resin having a large intermolecular interaction to increase the cohesive force of the ink, the ink filled in the concave portions of the intaglio plate can be easily transferred. In order to obtain a sufficient cohesive force, a molecular chain length of a certain degree or more is required, and the average molecular weight is 3000 or more, more preferably 6000 or more and the weight average molecular weight is 10,000 or more.
The following urethane acrylates are effective. Such urethane acrylate is obtained by reacting a polyester polyol or a polyether polyol, and a hydroxyl group-containing acrylate ester with a polyisocyanate compound, Dainippon Ink and Chemicals, Inc. "Unidick",
"Gocerac" manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., "Aronix" manufactured by Toa Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., "Kayarad" manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., "Evecryl" manufactured by Daicel UCB Co., Ltd., Road Far East Co., Ltd. It is also possible to appropriately select and use from "Photoglaze" manufactured by)) and other commercially available ultraviolet curable prepolymers. To obtain sufficient cohesive strength, the content of urethane acrylate required in the ink is
At least 3% or more, preferably 8% or more is suitable. The urethane acrylate that can be effectively used in the present invention is
Since the UV-curable prepolymer is a linear polymer with a relatively large molecular weight, the ink prepared by combining this with a low-viscosity UV-curable monomer alone has insufficient wettability to pigments, and when doctoring There is a problem that there is much ink stain on the non-image area. When a high acid value resin having an acid value of 100 or more, particularly preferably a natural resin-modified maleic acid resin is used in combination with the above urethane acrylate resin, the wettability to the pigment and the rheology of the ink are improved, Can solve the problem. Examples of such a high acid value resin include JP-A-59-117568, JP-A-62-53312, and JP-A-1-96273.
Acid-modified hydrocarbon resin obtained by reacting cyclopentadiene or its polymer with unsaturated carboxylic acid or its acid anhydride described in JP-A-61-26401.
Acid-modified phenol resin obtained by reacting a phenolic resin described in JP-A No. 4 with a polyvalent carboxylic acid or an acid anhydride thereof, and an ester obtained by reacting a polyvalent carboxylic acid or an acid anhydride thereof with various alcohols. Among resins, other natural resins and synthetic resins, the acid value is 100
As described above, the softening point may be in the range of 60 to 140 ° C., and particularly preferably, a natural resin-modified maleic acid resin having an acid value of 150 or more and 300 or less is suitably used.

【0023】使用する顔料は、可視光を透過させる必要
上、透過光の波長の1/2以下の平均個数粒径を有する
ものが望ましく、さらに望ましくは、平均個数粒径0.
2μm以下に分散された顔料が好ましい。また、顔料は
通常分散剤として、例えばポリカプロラクトン系化合
物、長鎖アルキルポリアミノアマイド系化合物、あるい
は高分子界面活性剤などを使用し、顔料とプレポリマー
および/またはポリマーと共にサンドミル、ロールミル
等の分散機によって、樹脂の一部あるいは全部と共に分
散させ、場合によっては熱重合防止剤あるいはインキの
凝集力向上のために金属セッケン、有機チタネートなど
の架橋剤を加えることも可能である。青色の顔料として
は、フタロシアニン系、インジゴ系の顔料等が、赤色の
顔料としては、キナクリドン系顔料、ペリレン系顔料、
ピロロ・ピロール系顔料、アントラキノン系顔料等が、
緑の顔料としては、ハロゲン化フタロシアニン系顔料が
それぞれ好ましい例として挙げられる。また、赤、緑の
色相調節のために黄色顔料が加えられることもある。さ
らに青の色相調節のために紫の顔料が加えられることも
ある。インキ中に占める顔料の比率は、固形分比で5〜
90重量%であり、より好ましくは10〜60重量%で
ある。
The pigment to be used preferably has an average number particle size of 1/2 or less of the wavelength of the transmitted light in order to transmit visible light, and more preferably an average number particle size of 0.
A pigment dispersed to 2 μm or less is preferable. Further, the pigment usually uses, as a dispersant, for example, a polycaprolactone compound, a long-chain alkylpolyaminoamide compound, a polymer surfactant, or the like, and a dispersing machine such as a sand mill or a roll mill together with the pigment and the prepolymer and / or the polymer. Depending on the case, it is possible to disperse a part or all of the resin, and in some cases, to add a thermal polymerization inhibitor or a crosslinking agent such as metal soap or organic titanate for improving the cohesive force of the ink. Examples of blue pigments include phthalocyanine-based and indigo-based pigments, and red pigments include quinacridone-based pigments and perylene-based pigments.
Pyrrolo / pyrrole pigments, anthraquinone pigments, etc.
As the green pigment, halogenated phthalocyanine-based pigments can be mentioned as preferable examples. In addition, a yellow pigment may be added to adjust the hues of red and green. Further, a purple pigment may be added to adjust the hue of blue. The proportion of pigment in the ink is 5 to 5 in terms of solid content.
It is 90% by weight, more preferably 10 to 60% by weight.

【0024】転写の中間介在物としてゴムブランケット
を使用する場合、図1(c)においてゴムブランケット
5を加圧しながら回転させると、ブランケット5の面に
インキ3の粘着性の表面層3bが接し、ブランケット5
より離れた側は硬化したインキの内側層3aとなり、凹
版1の凹部2中のインキ3が完全な形で転写される。ま
た、ブランケット5の表面が少し粘着性を有する場合に
は、ブランケット5に接するインキの表面層3bの面は
半硬化の状態でなくてもよい。なお、図1では説明の都
合上、ゴムブランケット5の直径を小さく表し、また、
インキ3の層は大きく、かつ厚く描いてあるが、実際に
はゴムブランケット5の直径は相対的の非常に大きいの
で、凹版1の面に対して殆ど平面的に接触することにな
り、インキ3は凹版1の凹部2に充填された形状でその
ままゴムブランケットに転写される。ここで使用するゴ
ムブランケットは、インキに対して耐久性がありかつ表
面が平坦であれば何れでもよく、とりわけシリコーンゴ
ム(特開平5−19116号公報参照)やNBRゴム、
ウレタンゴムなどからなるブランケットが好ましい。特
にシリコーンゴムのブランケットは、転写されたインキ
を被転写体に再転写する場合に好ましい。次いで、図2
(d)においてゴムブランケット5に転写されたインキ
3を被転写体7に再転写する。ブランケット5に転写さ
れたインキの表面(内側層3a)が粘着性を有する場合
には被転写体7の基板7aに直接転写することができ
る。ブランケットに転写されたインキが粘着性を持たな
い場合には、被転写体7の基板7aの上に粘着層9を均
一に形成した後に転写する。
When a rubber blanket is used as an intermediate inclusion for transfer, when the rubber blanket 5 is rotated while being pressed in FIG. 1 (c), the adhesive surface layer 3b of the ink 3 contacts the surface of the blanket 5, Blanket 5
The side farther away becomes the inner layer 3a of the cured ink, and the ink 3 in the recess 2 of the intaglio 1 is transferred in a complete form. Further, when the surface of the blanket 5 is slightly tacky, the surface of the surface layer 3b of the ink which is in contact with the blanket 5 may not be in a semi-cured state. In FIG. 1, for convenience of explanation, the diameter of the rubber blanket 5 is shown small, and
The layer of the ink 3 is drawn large and thick, but in reality, the diameter of the rubber blanket 5 is relatively large, so that the surface of the intaglio 1 comes into almost planar contact, and the ink 3 Is transferred to the rubber blanket as it is in the shape filled in the recess 2 of the intaglio 1. The rubber blanket used here may be any as long as it is durable against ink and has a flat surface, and in particular, silicone rubber (see JP-A-5-19116) or NBR rubber,
A blanket made of urethane rubber or the like is preferable. Particularly, a silicone rubber blanket is preferable when retransferring the transferred ink to the transfer target. Then, FIG.
The ink 3 transferred to the rubber blanket 5 in (d) is retransferred to the transfer target 7. When the surface (inner layer 3a) of the ink transferred to the blanket 5 has adhesiveness, it can be directly transferred to the substrate 7a of the transfer target 7. When the ink transferred to the blanket does not have adhesiveness, the adhesive layer 9 is uniformly formed on the substrate 7a of the transferred body 7 and then transferred.

【0025】ここで用いる粘着層9の形成材料として
は、例えば、粘着過程が溶剤賦活型、熱賦活型、圧力賦
活型、化学反応型等である接着剤若しくは粘着剤が挙げ
られる。これら各種の粘着剤等の中でも、好ましいもの
は感圧粘着剤、ホットメルト型粘着剤である。粘着剤と
しては通常のゴム系あるいはアクリル樹脂系の熱可塑性
のものも使用可能であるが、耐熱性が必要である場合あ
るいは後工程において微量の粘着剤の流出を避けるため
には、熱硬化性若しくは光硬化性の粘着剤を使用するこ
とが好ましい。また、本実施例では被転写体基板7aの
上に粘着剤を塗布してその上にインキを転写している
が、その代わりに、例えば図1(b)の凹版1の凹部2
に充填したインキ3を半硬化処理した後に、インキに粘
着剤を塗布してからガラス基板7aに直接転写してもよ
い。
Examples of the material for forming the pressure-sensitive adhesive layer 9 used here include adhesives or pressure-sensitive adhesives whose adhesion process is solvent-activated, heat-activated, pressure-activated, or chemically-reactive. Among these various types of pressure-sensitive adhesives, preferred are pressure-sensitive pressure-sensitive adhesives and hot-melt type pressure-sensitive adhesives. As a pressure-sensitive adhesive, a normal rubber-based or acrylic resin-based thermoplastic can be used, but if heat resistance is required or in order to avoid a small amount of pressure-sensitive adhesive flowing out in the subsequent process, thermosetting Alternatively, it is preferable to use a photocurable adhesive. Further, in this embodiment, the adhesive is applied on the transfer target substrate 7a and the ink is transferred thereon, but instead of this, for example, the recess 2 of the intaglio 1 of FIG. 1B is used.
It is also possible to apply a pressure-sensitive adhesive to the ink after the ink 3 filled in 1 is semi-cured, and then directly transfer it to the glass substrate 7a.

【0026】このような接着剤若しくは粘着剤により形
成される粘着層9の厚さは、通常0.1〜10μm、好
ましくは0.3〜5μmである。粘着層9が0.3μmよ
りも薄いと、粘着力が充分ではないことがある。一方、
厚みが5μmを越えると、液晶パネルの封止が困難にな
ることがある。この粘着層9を介して基板7a上に形成
されるインキ層は硬化したインキで形成されており、具
体的には、例えばブランケット5上であらかじめ硬化し
たインキ3aおよび3bを粘着層9の上に転写して形成
する。本発明の方法においては、透明基板7aの着色層
形成面において着色層を形成しない部位に粘着層9が露
出する場合もあるが、その場合には露出した粘着層9を
常法に従って除去してもよい。除去手段としては、例え
ばドライエッチング法、ウエットエッチング法、オゾン
酸化法、放射エネルギー分解法、溶解除去法などが挙げ
られる。
The thickness of the adhesive layer 9 formed of such an adhesive or an adhesive is usually 0.1 to 10 μm, preferably 0.3 to 5 μm. If the adhesive layer 9 is thinner than 0.3 μm, the adhesive force may not be sufficient. on the other hand,
If the thickness exceeds 5 μm, it may be difficult to seal the liquid crystal panel. The ink layer formed on the substrate 7a via the adhesive layer 9 is formed of a cured ink. Specifically, for example, the inks 3a and 3b previously cured on the blanket 5 are formed on the adhesive layer 9. Transfer and form. In the method of the present invention, the pressure-sensitive adhesive layer 9 may be exposed on the part of the transparent substrate 7a where the color layer is not formed. In that case, the exposed pressure-sensitive adhesive layer 9 is removed by a conventional method. Good. Examples of the removing means include a dry etching method, a wet etching method, an ozone oxidation method, a radiant energy decomposition method, and a dissolution removal method.

【0027】以上のようにして精密な微細パターン印刷
画像が得られる。LCDディスプレイの液晶カラーフィ
ルタの場合には、同様なことを4回繰り返すことによっ
て、赤、緑、青、黒の微細パターンが得られることにな
り、TFT・LCDやSTN・LCD対応の液晶カラーフ
ィルタに使用することが可能となった。また、ブラック
マトリクスは、クロム、酸化クロムを用いてスパッター
法により膜付けしパターニングする方法、カーボンブラ
ック、黒鉛などを用いてフォトファブリケーションでパ
ターンを形成する方法など何れの方法も用いることがで
き、赤、緑、青のみのパターンの形成を本発明の方法で
行なうこともできる。また逆にブラックマトリクスのみ
を本発明の印刷法で作り、赤、緑、青のパターンをフォ
トファブリケーション法で作ることもできる。プリント
基板、薄膜ハイブリッドIC、ICパッケージなどの高
精細配線のレジスト印刷、超小型センサの素子材料、電
極材料などには、それぞれに適するレジストインキ、例
えばメッキレジストインキ、ソルダーレジストインキ、
金属回路用インキなどの適用が可能となる。また、半導
体素子回路の形成に特別のレジストを用いて、微細パタ
ーンを作ることができる。
As described above, a precise fine pattern printed image can be obtained. In the case of a liquid crystal color filter for an LCD display, by repeating the same process four times, a fine pattern of red, green, blue and black can be obtained. Therefore, a liquid crystal color filter compatible with TFT / LCD or STN / LCD can be obtained. Can be used for. Further, the black matrix may be any method such as chromium, a method of forming a film by sputtering using chromium oxide by a sputtering method and patterning, a method of forming a pattern by photofabrication using carbon black, graphite or the like, It is also possible to form a pattern of only red, green and blue by the method of the present invention. Conversely, only the black matrix can be formed by the printing method of the present invention, and the red, green, and blue patterns can be formed by the photofabrication method. Resist inks suitable for printed circuit boards, thin film hybrid ICs, high-precision wiring resist printing for IC packages, element materials for ultra-small sensors, electrode materials, etc., such as plating resist inks, solder resist inks,
Ink for metal circuits can be applied. Further, a fine pattern can be formed by using a special resist for forming the semiconductor device circuit.

【0028】被転写体(被印刷体)として、カラーフィ
ルタの場合には低熱膨張性ガラス、例えばホウ珪酸ガラ
ス、強化処理をしたホウ珪酸ガラス、合成石英ガラス、
石英ガラス、光学樹脂板、ポリイミド、ポリエステル、
ポリオレフィンあるいは他の透明なプラスチックフィル
ムなどの基板が用いられる。半導体素子回路用には被印
刷体基板としてシリコンウエハーにポリシリコンを設
け、その上に半導体用フォトレジスト膜を第1層として
用いる2層レジスト法を用いる。フォトレジスト層、粘
着層、印刷パターンの順に形成され、構成される。被印
刷体の大きさは特に限定されない。これは本発明の大き
な利点となっている。
In the case of a color filter as the transferred material (printed material), a low thermal expansion glass such as borosilicate glass, borosilicate glass which has been strengthened, synthetic quartz glass,
Quartz glass, optical resin plate, polyimide, polyester,
Substrates such as polyolefins or other transparent plastic films are used. For semiconductor device circuits, a two-layer resist method is used in which polysilicon is provided on a silicon wafer as a substrate to be printed, and a photoresist film for semiconductor is used as a first layer on the polysilicon. A photoresist layer, an adhesive layer, and a print pattern are formed in this order and configured. The size of the material to be printed is not particularly limited. This is a great advantage of the present invention.

【0029】[0029]

【実施例】【Example】

<実施例1>以下に本発明の実施例を示し、本発明につ
いてさらに具体的に説明する。 凹版の作成 ガラス基板全面にクロム(Cr)を1000Åの厚さに
蒸着し、その後レジスト〔東京応化工業(株)製、「OFPR
-800」〕を1.0μm厚に塗布し、所定のパターンを露
光し、現像処理を行なった。次いで、エッチング液とし
て硝酸第二セリウムアンモニウム165gおよび過塩素
酸(70%)42mlに水を加えて1リットルの溶液を調
製し、そのエッチング液でクロムを食刻し、クロムパタ
ーンを作製した。それをエッチングレジストとして用
い、過酸化水素水とフッ化アンモニウムとの混合液をエ
ッチング液として用いてガラスをエッチングして、幅2
0μm、深さ5μmのマトリクスパターンを有するガラ
ス製凹版を作製した。その後、クロムはクロムのエッチ
ング液で除去した。エッチング時間を変えることによっ
て凹部の深さをコントロールすることができる。 凹版の表面処理 ガラス凹版に、200Wのオゾンランプを8cm離れた
所から60秒間照射した後、フッ素化合物を1.0重量
%になるように溶剤に溶解し、ガラス基板にスピンナー
で塗布し、その後200℃、1時間加熱してガラス表面
に薄い離型層を作成し、次の表1に示す4種類のフッ素
化合物および他の7種類のフッ素ポリマーを用いて表面
処理した凹版を作製した。また、前記の凹版を用いて表
面処理の評価を行なった。離型性の評価方法としては、
図3に示すように離型層13を形成したガラス基板12
を試験台20の上に固定し、一定面積に離型層13を形
成した基板12の平面部分に一定量(インキ面積:0.
196cm2)のインキ14を置き、表面処理を施して
ない10mm×10mmのセンサーガラス15を押付け
てインキ14を挟み、次にランプ19からの電磁放射線
16を照射することによりインキ14を硬化させ、その
後センサーガラス15の辺を一定速度(1.7mm/se
c)で引き上げて、後記の光硬化性インキと基板12と
が剥離するときの力を力センサー18によって測定し
て、剥離力とした。離型層13の耐刷性の評価方法とし
ては次の方法を採用した。すなわち、上記剥離力の測定
を多数回繰り返し、剥離力の測定値が1400g/0.
196cm2以上となる回数をもって、耐刷性の評価と
した。これらの結果を表1に併せて示す。
<Example 1> The present invention will be described in more detail below with reference to examples of the present invention. Creation of intaglio Chromium (Cr) is vapor-deposited on the entire surface of the glass substrate to a thickness of 1000Å, and then resist [Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd., "OFPR
-800 "] was applied to a thickness of 1.0 μm, a predetermined pattern was exposed, and development processing was performed. Next, water was added to 165 g of ceric ammonium nitrate and 42 ml of perchloric acid (70%) as an etching solution to prepare a 1 liter solution. Chromium was etched with the etching solution to form a chromium pattern. Using it as an etching resist, a mixed solution of hydrogen peroxide solution and ammonium fluoride is used as an etching solution to etch the glass to give a width of 2
A glass intaglio having a matrix pattern of 0 μm and a depth of 5 μm was produced. After that, chromium was removed with a chromium etching solution. The depth of the recess can be controlled by changing the etching time. Surface treatment of intaglio After irradiating a glass intaglio with a 200 W ozone lamp for 60 seconds from a distance of 8 cm, a fluorine compound is dissolved in a solvent so as to be 1.0% by weight, and coated on a glass substrate with a spinner. A thin release layer was formed on the glass surface by heating at 200 ° C. for 1 hour, and a surface-treated intaglio plate was prepared using 4 kinds of fluorine compounds shown in Table 1 below and 7 kinds of other fluorine polymers. Further, the surface treatment was evaluated using the above intaglio plate. As an evaluation method of releasability,
A glass substrate 12 on which a release layer 13 is formed as shown in FIG.
Is fixed on the test table 20, and a fixed amount (ink area: 0.
196 cm 2 ) of ink 14 is placed, the surface of the ink 14 is pressed by pressing a sensor glass 15 of 10 mm × 10 mm which has not been surface-treated, and then the ink 14 is cured by irradiating electromagnetic radiation 16 from a lamp 19. After that, the side of the sensor glass 15 is moved at a constant speed (1.7 mm / se
The force when the photocurable ink described below was peeled off from the substrate 12 was measured by the force sensor 18 as the peeling force. The following method was adopted as the method for evaluating the printing durability of the release layer 13. That is, the measurement of the peeling force was repeated many times, and the measured value of the peeling force was 1400 g / 0.
The printing durability was evaluated by the number of times of 196 cm 2 or more. The results are also shown in Table 1.

【表1】 表1の化合物名の欄はフッ素樹脂の商品名を示す。その
内No.1〜No.3bは旭ガラス(株)、No.4およびNo.5は
信越化学工業(株)、No.6はデュポン社の製品である。
また、No.1〜No.3bおよびNo.6は環状構造を有する
非晶質フッ素樹脂である。No.3aおよびNo.3bについ
ては、No.3aを版に塗設してから加熱乾燥した後にNo.
3bを塗設し、乾燥した二重膜の構造を持っている。N
o.7は三洋化成(株)、No.8は東亜合成(株)およびNo.9
は3M(株)のフッ素樹脂であり、No.10およびNo.11
は(株)喜多村の粉末製品であり、結晶性のフッ素樹脂で
あると思われる。なおCT溶剤とはフッ素系の溶剤であ
り旭ガラス(株)の製品である。IPAはイソプロパノー
ルを示す。剥離力1400g以上の試料に付いては耐刷
性は測定しなかった。なお、塗布性については、○は完
全に透明な膜が形成されたもの、△は極く一部にストリ
フィケーション、ハジキあるいはムラがみられたもの、
および×は塗布面が良好ではないものを示す。
[Table 1] The column of compound name in Table 1 shows the trade name of fluororesin. Among them, No. 1 to No. 3b are products of Asahi Glass Co., Ltd., No. 4 and No. 5 are products of Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., and No. 6 is a product of DuPont.
Further, No. 1 to No. 3b and No. 6 are amorphous fluororesins having a cyclic structure. Regarding No. 3a and No. 3b, No. 3a was applied to the plate, and then heat-dried, followed by No. 3a.
3b is applied and has a structure of a dried double film. N
o.7 is Sanyo Kasei Co., Ltd., No. 8 is Toa Gosei Co., Ltd. and No. 9
Is a fluoropolymer of 3M Co., Ltd., No. 10 and No. 11
Is a powder product of Kitamura Co., Ltd., and is considered to be a crystalline fluororesin. The CT solvent is a fluorinated solvent and is a product of Asahi Glass Co., Ltd. IPA stands for isopropanol. Printing durability was not measured for the samples having a peeling force of 1400 g or more. Regarding the coating properties, ○ means that a completely transparent film is formed, Δ means that striation, cissing or unevenness is observed in a very small part,
And x indicate that the coated surface was not good.

【0030】インキ 剥離力および耐刷力の測定に用いた光硬化性インキを次
の表2に示す。
The photocurable inks used for measuring the ink peeling force and printing durability are shown in Table 2 below.

【表2】 これらの材料を常法により混練し、3本ロールによって
顔料を微分散化した。なお、顔料はマーキングのために
加えるものであり、カラーフィルタのパターンを最終的
に作るための顔料濃度にはなってはいない。このインキ
の粘度は25℃で25Pa・secであった。
[Table 2] These materials were kneaded by a conventional method, and the pigment was finely dispersed with a three-roll mill. It should be noted that the pigment is added for marking, and does not have a pigment concentration for finally forming a color filter pattern. The viscosity of this ink was 25 Pa · sec at 25 ° C.

【0031】<実施例2> ブランケットの作成 厚さ2.0mmのシリコーンゴムを両面テープで直径1
0cmの金属ロールに貼付しブランケットを作成した。
シリコーンゴムの硬度は80度であり、表面粗度の平均
は1.6μmであった。 被印刷体(被転写体)の作成 厚み1.1mmのホウ珪酸ガラスに、スピンコータを用
いてアクリル系粘着剤とエチルアルコールからなる粘着
層塗布液で乾燥膜厚0.8μmに粘着層を塗布し、粘着
層を有する被印刷体を作成した。
Example 2 Preparation of Blanket Silicone rubber with a thickness of 2.0 mm is double-sided tape with a diameter of 1
A blanket was prepared by affixing it to a 0 cm metal roll.
The silicone rubber had a hardness of 80 degrees and an average surface roughness of 1.6 μm. Preparation of the material to be printed (material to be transferred) A borosilicate glass having a thickness of 1.1 mm was coated with a pressure-sensitive adhesive layer coating liquid consisting of an acrylic pressure-sensitive adhesive and ethyl alcohol using a spin coater to a dry film thickness of 0.8 μm. A material to be printed having an adhesive layer was prepared.

【0032】<実施例3>実施例1ので作製した凹版
に、実施例1のにおける表1のNo.2のフッ素樹脂の
表面処理を施し凹版を作成した。カーボンブラックおよ
びアクリル樹脂のワニスを含むUVインキ(粘度120
Pa・sec)を、金属製ドクターを用いて、角度60゜、速
度100mm/secで充填した後、UV光を100mJ/cm2
照射してインキを硬化させ、その後、実施例2ので作
成したシリコーンゴム製のブランケットロールを前記表
面処理済みの凹版に接触させ、インキをブランケットに
転移させた。続いて、ブランケットロールを実施例2の
の被印刷体上の粘着層に接触させ、ブランケット上の
インキを被印刷体上に転移させた。このとき、ブランケ
ット上のインキは殆ど残留せず、被印刷体上に転写さ
れ、被印刷体上に幅20.6μm、厚さ4.4μmのブラ
ックマトリクスパターンが形成された。これを180℃
で1時間ポストベークして、厚さ4.0μmのブラック
マトリクス(BM)を得た。このようにして形成したマ
トリクスパターンには画線の部分的な太りや細りは認め
られず、またパターン表面は平滑性に優れていた。次
に、赤色(R)層、緑色(G)層、および青色(B)層
のそれぞれを光硬化性の着色インキを用いて、本発明の
凹版オフセット印刷法により次のようにパターニングし
た。まず、赤色顔料を含有するインキをガラス基板の所
定位置に印刷し、その後さらに加熱してインキを硬化さ
せて赤色(R)層を形成した。同様に、緑色(G)層顔
料を含有するインキおよび青色(B)層顔料を含有する
インキのそれぞれをガラス基板の所定の位置に印刷し、
その後さらに加熱して完全に硬化させて緑色(G)層お
よび青色(B)層を形成することにより、所定配列のR
GBパターンを形成した。なお赤色(R)層、緑色
(G)層および青色(B)層は、深さ4.0μmの凹版
を用いて、いずれも厚さ3.7μmに形成した。
Example 3 The intaglio prepared in Example 1 was subjected to the surface treatment of the fluororesin of No. 2 in Table 1 of Example 1 to prepare an intaglio. UV ink containing carbon black and acrylic resin varnish (viscosity 120
Pa · sec) was filled with a metal doctor at an angle of 60 ° and a speed of 100 mm / sec, and then UV light was irradiated at 100 mJ / cm 2 to cure the ink, and then the ink was prepared in Example 2. A blanket roll made of silicone rubber was brought into contact with the surface-treated intaglio plate to transfer the ink to the blanket. Subsequently, the blanket roll was brought into contact with the adhesive layer on the substrate to be printed in Example 2 to transfer the ink on the blanket onto the substrate to be printed. At this time, the ink on the blanket hardly remained and was transferred onto the printing material, and a black matrix pattern having a width of 20.6 μm and a thickness of 4.4 μm was formed on the printing material. 180 ° C
After post-baking for 1 hour, a black matrix (BM) having a thickness of 4.0 μm was obtained. In the matrix pattern thus formed, partial thickening or thinning of image lines was not recognized, and the pattern surface was excellent in smoothness. Next, each of the red (R) layer, the green (G) layer, and the blue (B) layer was patterned by the intaglio offset printing method of the present invention as follows using a photocurable colored ink. First, an ink containing a red pigment was printed at a predetermined position on a glass substrate, and then further heated to cure the ink to form a red (R) layer. Similarly, each of the ink containing the green (G) layer pigment and the ink containing the blue (B) layer pigment is printed at a predetermined position on the glass substrate,
After that, it is further heated to be completely cured to form a green (G) layer and a blue (B) layer.
A GB pattern was formed. Each of the red (R) layer, the green (G) layer and the blue (B) layer was formed to a thickness of 3.7 μm by using an intaglio plate having a depth of 4.0 μm.

【0033】さらにBM、R、G、Bを印刷したものを
220℃で120分加熱してインキおよび接着層を完全
に硬化させた。以上のようなRGBパターンの形成方法
により、あらかじめ形成されたブラックマトリクスパタ
ーンが障壁の役割を果たすために、RGB印刷により容
易に所定のパターンが得られた。この版によって印刷を
行なったが、300枚経過しても30枚目の画像と殆ど
変わらなかった。しかし、500枚を経過するとピンホ
ールが生じたことが認められた。
Further, the printed BM, R, G and B was heated at 220 ° C. for 120 minutes to completely cure the ink and the adhesive layer. According to the method of forming an RGB pattern as described above, the black matrix pattern formed in advance plays a role of a barrier, and thus a predetermined pattern can be easily obtained by RGB printing. Printing was performed using this plate, but after 300 sheets, the image on the 30th sheet was almost the same. However, it was confirmed that pinholes were formed after 500 sheets were passed.

【0034】<実施例4>カーボンブラックおよびフェ
ノールノボラックレジンとメチロールメラミンおよび光
酸発生剤を含むUV硬化インキ(粘度45Pa・sec)、セ
ラミックス製のドクターを用いて、角度80゜、速度4
00mm/secで、実施例1のと、実施例1のと同様に
してNo.3aを使用し表面処理を施した深さ2.5μmの
凹版を用いて、上記インキを凹版の溝に充填した。その
後UV光を100mJ/cm2照射してインキを硬化し、実施
例2ののブランケットロールを前記凹版に接触、回転
させて、インキをシリコーン製のブランケットに転移さ
せた。次に、ブランケット上のインキに紫外線を150
mJ/cm2照射して、ブランケットに接触した部分のインキ
を完全に硬化させた。続いて、ブランケットロールを被
印刷体に接触、回転させてインキを被印刷体に転移させ
た。このとき、ブランケット上のインキは残留すること
なく被印刷体上に転写され、被印刷体上には幅20μ
m、厚さ2μmのブラックマトリクスを作ることができ
た。ブラックマトリクスを230℃で30分加熱して完
全に硬化させた。この試料に、顔料分散法による赤色の
カラーレジスト(CR-6000、富士ハント(株)製)をスピ
ンコート法によって塗布し、90℃で10分乾燥して厚
さ1.4μmの膜を作製し、次いで紫外線により画像露
光を行い、アルカリ性の現像液によって40秒現像して
赤のパターンを得た。同様にして、カラーレジストCG-5
000で緑のパターンを得て、次いでCB-6000により青のパ
ターンを作成した。その後、赤、緑、青のパターンを2
30℃で30分加熱してポストベークを行なった。ポス
トベーク後の膜厚は1.3μmであった。このように、
印刷法によっては従来は20μm幅のブラックマトリク
スを作成することは困難であったものが、本発明により
可能になり、顔料分散法によるR、G、Bのパターニン
グと組み合わせて高精細のカラーフィルタを作成するこ
とができた。
Example 4 A UV curable ink (viscosity 45 Pa · sec) containing carbon black and phenol novolac resin, methylol melamine and a photo-acid generator, a doctor made of ceramics, an angle of 80 ° and a speed of 4
The ink was filled into the groove of the intaglio plate at a depth of 2.5 μm, which was surface-treated with No. 3a in the same manner as in Example 1 at 00 mm / sec. . Then, the ink was cured by irradiating with UV light of 100 mJ / cm 2 , and the blanket roll of Example 2 was brought into contact with the intaglio plate and rotated to transfer the ink to a silicone blanket. Next, UV light is applied to the ink on the blanket.
Irradiation with mJ / cm 2 completely cured the ink in the area in contact with the blanket. Subsequently, the blanket roll was brought into contact with and rotated by the material to be printed to transfer the ink to the material to be printed. At this time, the ink on the blanket is transferred onto the printing medium without remaining, and the width of the printing medium is 20 μm.
It was possible to produce a black matrix having a thickness of m and a thickness of 2 μm. The black matrix was heated at 230 ° C. for 30 minutes to completely cure it. A red color resist (CR-6000, manufactured by Fuji Hunt Co., Ltd.) by a pigment dispersion method was applied to this sample by a spin coating method, and dried at 90 ° C. for 10 minutes to form a film having a thickness of 1.4 μm. Then, image exposure was performed with ultraviolet rays, and development was performed for 40 seconds with an alkaline developer to obtain a red pattern. Similarly, color resist CG-5
A green pattern was obtained at 000 and then a blue pattern was made with CB-6000. Then 2 red, green and blue patterns
Post baking was performed by heating at 30 ° C. for 30 minutes. The film thickness after post-baking was 1.3 μm. in this way,
Conventionally, it was difficult to form a black matrix having a width of 20 μm depending on the printing method, but the present invention makes it possible to form a high-definition color filter in combination with R, G, and B patterning by the pigment dispersion method. I was able to create it.

【0035】<実施例5>銅を機械的に食刻して、線幅
20μmで、縦330μm、横110μmの格子状の凹
部を形成した。これに全面クロムメッキを施して凹版と
した。これに実施例1のの環状非晶質フッ素樹脂のN
o.6で表面処理して、離型性のよい凹版を作成した。グ
ラファイトを主成分とする黒色顔料とアルキッド樹脂系
ワニスを含む熱硬化性インキを、硬度80度のウレタン
ゴムのドクターで凹版に充填した。次いで、遠赤外線ラ
ンプを凹版に照射して、インキの表面が半硬化する程度
に熱硬化させた。しかる後、ウレタンゴムのブランケッ
トにインキを転写し、さらにポリエステルフィルムにア
クリル系粘着剤を0.7μm厚に塗布した基板にブラン
ケットよりインキパターンを再転写し、その後140℃
で30分加熱してブラックマトリクスの微細パターンを
作成した。赤色(R)顔料と光硬化性樹脂とを含有する
赤色インキ、緑色(G)顔料と光硬化性樹脂とを含有す
る緑色インキおよび青色(B)顔料と光硬化性樹脂とを
含有する青色インキを用いて、実施例3の光硬化性イン
キを用いたのと同様にしてRGBパターンを形成した。
すなわち、まず、赤色(R)インキを用いて前記実施例
3におけるブラックマトリクスの形成と同様にして実施
例2のの被印刷体上に赤色(R)パターンを形成し
た。次いで、このようにして赤色(R)パターンを形成
した被印刷体上に赤色(R)パターンの形成と同様にし
て緑色(G)パターンを形成した。さらに、同様にして
青色(B)のパターンを形成した。次いで、220℃で
1時間加熱して着色インキパターンと、被印刷体の粘着
層を硬化させた。このようにして形成されたRGBパタ
ーンには、画線の部分的な太りや細りは認められず、ま
たパターン表面の平滑性が従来の平版オフセット法によ
るものとは桁違いに優れていた。
Example 5 Copper was mechanically etched to form a grid-like recess having a line width of 20 μm, a length of 330 μm and a width of 110 μm. The whole surface was plated with chrome to form an intaglio plate. In addition, N of the cyclic amorphous fluororesin of Example 1 was added.
Surface treatment was carried out at o.6 to prepare an intaglio plate having a good releasability. A thermosetting ink containing a black pigment containing graphite as a main component and an alkyd resin varnish was filled in an intaglio plate with a doctor of urethane rubber having a hardness of 80 degrees. Then, the far-infrared lamp was irradiated on the intaglio plate to heat-harden the ink so that the surface of the ink was semi-hardened. After that, the ink was transferred to a urethane rubber blanket, and the ink pattern was retransferred from the blanket to the substrate where the acrylic adhesive was applied to the polyester film to a thickness of 0.7 μm, and then 140 ° C.
It was heated for 30 minutes to form a black matrix fine pattern. A red ink containing a red (R) pigment and a photocurable resin, a green ink containing a green (G) pigment and a photocurable resin, and a blue ink containing a blue (B) pigment and a photocurable resin Was used to form an RGB pattern in the same manner as in the case of using the photocurable ink of Example 3.
That is, first, using a red (R) ink, a red (R) pattern was formed on the material to be printed in Example 2 in the same manner as in the formation of the black matrix in Example 3. Then, a green (G) pattern was formed on the printing medium on which the red (R) pattern was formed in the same manner as in the formation of the red (R) pattern. Further, a blue (B) pattern was formed in the same manner. Then, the colored ink pattern and the adhesive layer of the material to be printed were cured by heating at 220 ° C. for 1 hour. In the RGB pattern thus formed, partial thickening or thinning of the image line was not recognized, and the smoothness of the pattern surface was significantly superior to that obtained by the conventional lithographic offset method.

【0036】<実施例6>実施例1ので作成した凹版
を、実施例1ののNo.3aおよびNo.3bのフッ素樹脂
を二重に塗設した凹版の溝に、黒色顔料およびアクリル
樹脂のワニスを含むUVインキ(粘度120Pa・sec)
を、金属製ドクターを用いて角度60゜、速度400mm
/secで充填した後、UV光を100mJ/cm2照射してイン
キを硬化させた。その後、実施例2ので作成したシリ
コーンゴム製のブランケットロールを該凹版に接触さ
せ、インキをブランケットに転移させた。続いて、ブラ
ンケットロールを実施例2のの被印刷体上の粘着層に
接触させ、ブランケット上のインキを被印刷体上に転移
させた。このとき、ブランケット上のインキは殆ど残留
せず被印刷体上に転写され、被印刷体上には、幅21μ
m、厚さ4.4μmのブラックマトリクスパターンが形
成された。これを200℃で1時間ポストベークして、
厚さ3.8μmのブラックマトリクスを得た。
<Example 6> The intaglio prepared in Example 1 was replaced with a black pigment and an acrylic resin in the grooves of the intaglio prepared by double-coating the fluororesin of No. 3a and No. 3b of Example 1. UV ink containing varnish (viscosity 120 Pa · sec)
Using a metal doctor at an angle of 60 ° and a speed of 400 mm
The ink was cured by irradiating it with UV light of 100 mJ / cm 2 after filling the ink for 10 seconds. Thereafter, the blanket roll made of silicone rubber prepared in Example 2 was brought into contact with the intaglio plate to transfer the ink to the blanket. Subsequently, the blanket roll was brought into contact with the adhesive layer on the substrate to be printed in Example 2 to transfer the ink on the blanket onto the substrate to be printed. At this time, almost no ink remains on the blanket and is transferred onto the printing material, and the width of the printing material is 21 μm.
A black matrix pattern having a thickness of m and a thickness of 4.4 μm was formed. Post bake this at 200 ℃ for 1 hour,
A black matrix with a thickness of 3.8 μm was obtained.

【0037】このようにして形成されたマトリクスパタ
ーンには、画線の部分的な太りや細りはみられず、また
パターン表面の平滑性に優れていた。次に、赤色(R)
層、緑色(G)層、および青色(B)層のそれぞれを、
本発明の凹版オフセット印刷法により次のようにパター
ニングした。まず、赤色顔料を含有するインキをガラス
基板の所定位置に印刷し、その後、加熱硬化させて赤色
(R)層を形成した。同様に、緑色(G)層顔料を含有
するインキおよび青色(B)層顔料を含有するインキの
それぞれをガラス基板の所定位置に印刷し、その後、加
熱硬化させて緑色(G)層および青色(B)層を形成す
ることにより、所定配列のRGBパターンを形成した。
なお、赤色(R)層、緑色(G)層および青色(B)層
は、深さ4.0μmの凹版を用いていずれも厚さ3.7μ
mに形成した。以上のようなRGBパターンの形成方法
により、あらかじめ形成されたブラックマトリクスパタ
ーンが障壁の役割を果たすために、RGB印刷により容
易に所定のパターンが得られ、またこの版でBM、R、
G、Bの4色を800枚印刷しても印刷された画像はは
じめの30枚目とほとんど変わらなかった。
The matrix pattern thus formed had no partial thickening or thinning of the image lines, and was excellent in smoothness of the pattern surface. Next, red (R)
Layer, green (G) layer, and blue (B) layer,
Patterning was carried out as follows by the intaglio offset printing method of the present invention. First, an ink containing a red pigment was printed at a predetermined position on a glass substrate and then heat-cured to form a red (R) layer. Similarly, each of the ink containing the green (G) layer pigment and the ink containing the blue (B) layer pigment is printed on a predetermined position of the glass substrate, and then heat-cured to cure the green (G) layer and the blue ( By forming the layer B), an RGB pattern having a predetermined arrangement was formed.
The red (R) layer, the green (G) layer, and the blue (B) layer were each 3.7 μm thick by using an intaglio plate having a depth of 4.0 μm.
formed to m. According to the method of forming an RGB pattern as described above, since a black matrix pattern formed in advance plays a role of a barrier, a predetermined pattern can be easily obtained by RGB printing. In addition, BM, R,
Even when 800 sheets of four colors of G and B were printed, the printed image was almost the same as the first 30 sheets.

【0038】[0038]

【発明の効果】凹版の凹部にインキを充填した後、イン
キを被印刷体に転移させてパターンを印刷する凹版印刷
方法において、環状構造を含む非晶質フッ素樹脂を使用
して、凹版の少なくとも凹部の表面に離型性の樹脂層を
形成することにより、インキの離型性、パターンの再現
性、および耐刷性を向上させることができる。
In the intaglio printing method in which the ink is transferred to the printing medium to print the pattern after the ink is filled in the depressions of the intaglio, at least the intaglio is prepared by using the amorphous fluororesin containing the annular structure. By forming the releasable resin layer on the surface of the recess, the releasability of the ink, the reproducibility of the pattern, and the printing durability can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の印刷方法の一実施例を示し、(a)は
印刷版の凹部に光硬化性インキを充填する工程、(b)
は印刷版のインキを部分硬化する工程、および(c)は
インキパターンをブランケットに転移させる工程の略示
縦断面図である。
FIG. 1 shows an embodiment of a printing method of the present invention, in which (a) is a step of filling a photo-curable ink into recesses of a printing plate, (b)
FIG. 4A is a schematic longitudinal sectional view of a step of partially curing the ink of the printing plate, and FIG. 7C is a step of transferring the ink pattern to a blanket.

【図2】(d)は図1に示す印刷方法の後続工程におい
て、ブランケットに転移されたインキを被転写体に転移
させる工程の略示縦断面図である。
FIG. 2D is a schematic longitudinal sectional view of a step of transferring the ink transferred to the blanket to the transfer target in the subsequent step of the printing method shown in FIG.

【図3】離型性を測定するための装置の略示縦断面図で
ある。
FIG. 3 is a schematic vertical sectional view of an apparatus for measuring releasability.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 凹版 2 凹部 3 光硬化性インキ 3a 内側層 3b 表面層 4 ドクターナイフ 5 ブランケット 6 光源 7 被転写体 7a 被転写基板 8 離型層 9 粘着層 11 真空吸引孔 12 ガラス基板 13 離型層 14 インキ 15 センサーガラス 16 電磁放射線 17 金属線 18 力センサー 19 ランプ 20 試験台 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Intaglio 2 Depression 3 Photocurable ink 3a Inner layer 3b Surface layer 4 Doctor knife 5 Blanket 6 Light source 7 Transferred material 7a Transferred substrate 8 Release layer 9 Adhesive layer 11 Vacuum suction hole 12 Glass substrate 13 Release layer 14 Ink 15 sensor glass 16 electromagnetic radiation 17 metal wire 18 force sensor 19 lamp 20 test bench

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 印刷画線部となるパターン凹部を設けた
凹版の少なくとも凹部の表面に、凹版と接着する離型性
の樹脂層を形成し、その凹版にインキを充填し、被印刷
体に直接あるいは中間介在物を介して転写する印刷方法
において、前記離型性の樹脂層が環状構造を有する非晶
質フッ素樹脂を含む組成物からなることを特徴とする微
細パターンの印刷法。
1. A mold-releasing resin layer that adheres to an intaglio is formed on at least the surface of the intaglio provided with a pattern indent which serves as a printing image area, and the intaglio is filled with ink to form a printing medium. A printing method of transferring directly or through an intermediate inclusion, wherein the releasable resin layer is composed of a composition containing an amorphous fluororesin having a cyclic structure.
【請求項2】 前記環状構造を有する非晶質フッ素樹脂
を含む組成物からなる樹脂層を設けた凹版を用い、かつ
前記インキとして光硬化性インキを該凹版に充填し、同
時にあるいは後に電離放射線を照射して、該インキの表
層部が半硬化状態であり、かつその内部が硬化状態であ
るインキ層を中間介在物に転写し、転写されたインキ像
に電離放射線をさらに照射し、しかる後に被印刷体に再
転写することからなる請求項1に記載の微細パターンの
印刷法。
2. An intaglio plate provided with a resin layer made of a composition containing an amorphous fluororesin having the above-mentioned cyclic structure is used, and a photocurable ink is filled in the intaglio plate as the ink, and at the same time or later, ionizing radiation is used. To transfer an ink layer in which the surface layer portion of the ink is in a semi-cured state and the inside thereof is in a cured state to an intermediate inclusion, and the transferred ink image is further irradiated with ionizing radiation. The method for printing a fine pattern according to claim 1, which comprises retransferring to a material to be printed.
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006035714A (en) * 2004-07-29 2006-02-09 Fujitsu Ltd Material transfer method and method for manufacturing plasma display substrate
JP2006098553A (en) * 2004-09-28 2006-04-13 Toppan Printing Co Ltd Method for forming black matrix of color filter and method for forming color filter
JP2006267338A (en) * 2005-03-23 2006-10-05 Toppan Printing Co Ltd Method for forming black matrix of color filter and method for forming color filter
JP2007164070A (en) * 2005-12-16 2007-06-28 Toppan Printing Co Ltd Intaglio plate for transfer, method for forming object by using the intaglio plate for transfer, method for forming light-shielding barrier, and barrier formed by the method for forming light-shielding barrier
JP2011062904A (en) * 2009-09-17 2011-03-31 Tokushu Abe Seihansho:Kk Method for manufacturing printing plate and printing plate

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006035714A (en) * 2004-07-29 2006-02-09 Fujitsu Ltd Material transfer method and method for manufacturing plasma display substrate
JP4541061B2 (en) * 2004-07-29 2010-09-08 株式会社日立製作所 Material transfer method, plasma display substrate manufacturing method
JP2006098553A (en) * 2004-09-28 2006-04-13 Toppan Printing Co Ltd Method for forming black matrix of color filter and method for forming color filter
JP2006267338A (en) * 2005-03-23 2006-10-05 Toppan Printing Co Ltd Method for forming black matrix of color filter and method for forming color filter
JP2007164070A (en) * 2005-12-16 2007-06-28 Toppan Printing Co Ltd Intaglio plate for transfer, method for forming object by using the intaglio plate for transfer, method for forming light-shielding barrier, and barrier formed by the method for forming light-shielding barrier
JP2011062904A (en) * 2009-09-17 2011-03-31 Tokushu Abe Seihansho:Kk Method for manufacturing printing plate and printing plate

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