JPH088536A - Manufacture of multilayer printed wiring board - Google Patents

Manufacture of multilayer printed wiring board

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JPH088536A
JPH088536A JP6134530A JP13453094A JPH088536A JP H088536 A JPH088536 A JP H088536A JP 6134530 A JP6134530 A JP 6134530A JP 13453094 A JP13453094 A JP 13453094A JP H088536 A JPH088536 A JP H088536A
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plating
printed wiring
wiring board
conductor layer
multilayer printed
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Kenji Kuhara
健二 久原
Junichi Yamasoto
淳一 山外
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Abstract

PURPOSE:To manufacture a multilayer printed wiring board excellent in characteristics. CONSTITUTION:An insulating layer 24 is formed on a second conductor layer, an insulating layer 25 is formed on a fifth conductor layer (first conductor layers), first plating films 27a and 27b are formed on the surfaces of the insulating layers 24 and 25 respectively by first plating, a second plating film 30 is provided by second plating, and a first conductor layer 31 and a sixth conductor layer 32 (second conductor layers) are formed of the first plating films 27a and 27b and the second plating film 30. Moreover, through-holes 28 and 29 may be formed after the first plating films 27a and 27b are formed. Or, a mechanical polishing operation may be performed after the first plating films 27a and 27b are formed. The insulating layers 24 and 25 may be formed of composition composed of epoxy compound fast in reactivity to carboxylic acid additive acrylate compound and another epoxy compound slow in reactivity.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、多層プリント配線板の
製造方法に関し、詳細には絶縁層上に形成される導体層
の断線や上記絶縁層の絶縁不良等を改善する多層プリン
ト配線板の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a multilayer printed wiring board, and more particularly to a multilayer printed wiring board for improving disconnection of a conductor layer formed on an insulating layer and insulation failure of the insulating layer. It relates to a manufacturing method.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年の電子技術における配線の高密度化
に伴い、プリント配線板としては複数の配線層を積層さ
せた多層構造の配線板が使用されるようになってきてい
る。このような多層プリント配線板としては、外層と称
されるプリント配線板間に内層と称されるプリント配線
板を接着層(Bステージプリプレグ)を介して挟み込ん
だ構造が一般的である。そして、該多層プリント配線板
においては、一般に、上下の外層の配線層間を接続する
スルーホールが形成されいる。
2. Description of the Related Art With the recent increase in wiring density in electronic technology, multilayer printed wiring boards in which a plurality of wiring layers are laminated have come to be used as printed wiring boards. Such a multilayer printed wiring board generally has a structure in which a printed wiring board called an inner layer is sandwiched between printed wiring boards called an outer layer via an adhesive layer (B stage prepreg). In the multilayer printed wiring board, generally, through holes that connect the wiring layers of the upper and lower outer layers are formed.

【0003】上記多層プリント配線板の製造方法として
は、内層を接着剤を介して外層で挟み込んで積層プレス
した後、スルーホールを形成するスルーホール孔を開
け、上記スルーホール孔をメッキすることによりスルー
ホールを形成する方法、所謂積層プレス法が挙げられ
る。
As a method of manufacturing the above-mentioned multilayer printed wiring board, an inner layer is sandwiched by an outer layer via an adhesive agent, laminated and pressed, then a through-hole hole for forming a through-hole is formed, and the through-hole hole is plated. A method of forming a through hole, a so-called stacking press method can be mentioned.

【0004】また、他の方法としては、内層上に形成さ
れ、下層の回路となる導体層上にインクを塗布して絶縁
層を形成し、スルーホールを形成するスルーホール孔を
ドリル等を用いて形成し、その上にメッキを行うことに
より上層の回路となる導体層(外層)を形成するととも
にスルーホールを形成する方法、所謂ビルトアップ法が
挙げられる。
As another method, an insulating layer is formed by applying ink on a conductor layer which is formed on the inner layer and serves as a lower circuit, and a through hole for forming a through hole is formed by using a drill or the like. And a so-called built-up method, in which a conductor layer (outer layer) serving as an upper-layer circuit is formed by plating and forming a through hole.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記積
層プレス法においては、積層プレス工程が必要となるの
で、生産設備が大がかりになってしまい、また、バッチ
生産のため生産性が良好ではない。
However, in the above-mentioned lamination pressing method, since the lamination pressing step is required, the production equipment becomes large and the productivity is not good because of batch production.

【0006】一方、ビルトアップ法においては、積層プ
レス法のような問題はないものの、絶縁層上に直接メッ
キを施すことから以下のような不都合が生じる。すなわ
ち、メッキを行う際には、絶縁層上にメッキ触媒を吸着
させ、無電解メッキを行うが、この方法では絶縁層の表
面状態によりメッキが付かない、所謂メッキ未着が発生
し易い。このようにメッキ未着が発生すると、上層の回
路となる導体層の回路内の断線が生じ易く、製造される
多層プリント配線板の特性を損なう。
On the other hand, the built-up method does not have the problem of the laminated pressing method, but has the following disadvantages because the plating is directly applied to the insulating layer. That is, when plating is performed, a plating catalyst is adsorbed on the insulating layer to perform electroless plating, but this method tends to cause so-called non-plating, that is, plating does not occur depending on the surface condition of the insulating layer. When the non-plating occurs in this manner, disconnection in the circuit of the conductor layer serving as the upper circuit is likely to occur, and the characteristics of the manufactured multilayer printed wiring board are impaired.

【0007】また、絶縁層に直接ドリルで孔を開けてス
ルーホール孔を形成するため、該絶縁層に傷が付き易
く、絶縁劣化の原因となり、製造される多層プリント配
線板の特性を損なう。
Further, since a through hole is formed by directly drilling a hole in the insulating layer, the insulating layer is easily scratched, which causes deterioration of the insulation and impairs the characteristics of the manufactured multilayer printed wiring board.

【0008】さらに、インクを塗布して形成する絶縁層
は、一般に膜厚100μm以下であるので、下層の回路
を構成する導体層の凹凸がそのまま絶縁層表面に表れ、
その上に上層の回路となる導体層を形成するべくメッキ
を行うと、上記メッキ膜表面は平滑な面とはならない。
従って、このメッキ膜に上層の回路をパターニングした
場合、パターン形成不良が生じ易く、さらに該回路中に
部品を実装する場合、部品実装不良も生じ易く、製造さ
れる多層プリント配線板の特性を損なう。
Further, since the insulating layer formed by applying the ink generally has a film thickness of 100 μm or less, the unevenness of the conductor layer constituting the lower circuit appears on the surface of the insulating layer as it is,
When plating is performed thereon to form a conductor layer to be an upper circuit, the plated film surface does not become a smooth surface.
Therefore, when an upper layer circuit is patterned on this plating film, a pattern formation defect is likely to occur, and when a component is mounted in the circuit, a component mounting defect is also likely to occur, which impairs the characteristics of the manufactured multilayer printed wiring board. .

【0009】そこで本発明は、従来の実情に鑑みて提案
されたものであり、メッキ未着が発生せず、絶縁劣化も
発生せず、パターン形成不良や部品実装不良も発生せ
ず、特性の良好な多層プリント配線板の製造を可能とす
る多層プリント配線板の製造方法を提供することを目的
とする。
Therefore, the present invention has been proposed in view of the actual situation of the related art, in which plating non-adhesion does not occur, insulation deterioration does not occur, pattern formation defects and component mounting defects do not occur, and characteristics of An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a multilayer printed wiring board, which enables good manufacturing of the multilayer printed wiring board.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに本発明は、第1の導体層上に絶縁層を形成し、上記
絶縁層上にメッキを行い第2の導体層を形成する多層プ
リント配線板の製造方法において、絶縁層表面に1回目
のメッキを行い、続いて2回目のメッキを行って第2の
導体層を形成することを特徴とするものである。なお、
このとき、1回目のメッキにより形成されるメッキ膜の
厚さは5〜10μm程度とすることが好ましい。
In order to achieve the above-mentioned object, the present invention forms an insulating layer on a first conductor layer and forms a second conductor layer by plating on the insulating layer. In the method of manufacturing a multilayer printed wiring board, the surface of the insulating layer is first plated, and then the second plating is performed to form a second conductor layer. In addition,
At this time, the thickness of the plated film formed by the first plating is preferably about 5 to 10 μm.

【0011】また、本発明の多層プリント配線板の製造
方法においては、1回目のメッキを行った後に、上記メ
ッキ膜側から第1の導体層側に貫通孔を形成し、続いて
2回目のメッキを行っても良い。
In the method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to the present invention, after the first plating, a through hole is formed from the plating film side to the first conductor layer side, and then the second plating is performed. You may plate.

【0012】さらに、本発明の多層プリント配線板の製
造方法においては、1回目のメッキを行った後、上記メ
ッキ膜表面を機械研磨し、続いて2回目のメッキを行っ
ても良い。
Further, in the method for manufacturing a multilayer printed wiring board of the present invention, after the first plating, the surface of the plated film may be mechanically polished and then the second plating may be performed.

【0013】さらにまた、本発明の多層プリント配線板
の製造方法においては、絶縁層をカルボン酸付加アクリ
レート化合物と反応性の遅いエポキシ化合物と反応性の
速いエポキシ化合物よりなる組成物により形成しても良
い。
Furthermore, in the method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to the present invention, the insulating layer may be formed of a composition comprising an epoxy compound having a slow reactivity with a carboxylic acid-added acrylate compound and an epoxy compound having a fast reactivity. good.

【0014】なお、上記絶縁層を形成する組成物に含有
される反応性の遅いエポキシ化合物,反応性の速いエポ
キシ化合物としては以下に示すようなものが挙げられ
る。
Examples of the slow-reactive epoxy compound and the fast-reactive epoxy compound contained in the composition for forming the insulating layer include those shown below.

【0015】ここでいう反応性とは、各エポキシ化合物
を上記組成物中に含有させて加熱した場合の反応速度を
言い、このとき起こる反応として主に考えられる反応と
しては、カルボキシル基とエポキシ基、および水酸基と
エポキシ基、およびエポキシ基同士の反応が挙げられ
る。
The term "reactivity" as used herein means a reaction rate when each of the epoxy compounds is contained in the above composition and heated, and the reaction mainly considered at this time is a carboxyl group and an epoxy group. , And a reaction between a hydroxyl group and an epoxy group, and between epoxy groups.

【0016】そして、上記反応速度を評価する方法とし
ては、以下のようなJIS C−2104に基づくゲル
化試験法が挙げられる。
As a method for evaluating the reaction rate, there is a gelling test method based on JIS C-2104 as described below.

【0017】〔ゲル化試験法〕先ず、カルボン酸付加ア
クリレート化合物100部に各エポキシ化合物をカルボ
ン酸当量に対してエポキシ当量で等量配合したものに、
ジシアンジアミド1部とカルビトールアセテート60部
を配合し、3本ロールミルで練肉分散させて試料を作製
する。次に、これらの試料を0.5g取り、日新化学社
製GT−D型ゲル化試験器を用いて150℃におけるそ
れぞれのゲル化タイムの測定を行う。
[Gel Test Method] First, 100 parts of a carboxylic acid-added acrylate compound was blended with each epoxy compound in an equivalent amount of epoxy equivalent to carboxylic acid equivalent,
A sample is prepared by mixing 1 part of dicyandiamide and 60 parts of carbitol acetate and kneading and dispersing with a three-roll mill. Next, 0.5 g of each of these samples is taken, and each gelation time at 150 ° C. is measured using a GT-D type gelation tester manufactured by Nisshin Chemical Co.

【0018】そして、本発明においては、上記ゲル化タ
イムを反応速度とし、各エポキシ化合物を反応速度(ゲ
ル化タイム)により以下の3グループに区分して、反応
性の遅いエポキシ化合物,中程度な反応性のエポキシ化
合物,反応性の速いエポキシ化合物とし、そのうち反応
性の遅いエポキシ化合物と反応性の速いエポキシ化合物
を用いた。
In the present invention, the above gelling time is used as a reaction rate, and each epoxy compound is classified into the following three groups according to the reaction rate (gelling time). Reactive epoxy compounds and fast reactive epoxy compounds were used, of which slow reactive epoxy compounds and fast reactive epoxy compounds were used.

【0019】すなわち、第1にゲル化タイムが9分以上
であったものを反応性の遅いエポキシ化合物とし、第2
にゲル化タイムが5分以上,9分未満であったものを中
程度な反応性のエポキシ化合物とし、第3にゲル化タイ
ムが5分未満であったものを反応性の速いエポキシ化合
物とした。
That is, first, the one having a gelation time of 9 minutes or more is used as an epoxy compound having slow reactivity, and the second is
The one having a gelling time of 5 minutes or more and less than 9 minutes was a moderately reactive epoxy compound, and the one having a gelling time of less than 5 minutes was a fast-reactive epoxy compound. .

【0020】上記反応性の遅いエポキシ樹脂の具体例と
しては、油化シェル社製 エピコート1001,エピコ
ート1004、大日本インキ化学工業社製 エピクロン
900,エピクロン1050、東都化成社製 エポトー
トYD−134,YD−011、ダウケミカル社製
D.E.R.661、チバガイギー社製 アラルダイド
6071、旭化成工業社製 AER−661、住友化学
工業社製 スミーエポキシELA−134,ESA−0
11等(何れも商品名)のフェノキシ型エポキシ化合物
や、油化シェル社製 エピコートYL903,YL90
6、大日本インキ化学工業社製 エピクロン152,エ
ピクロン1120、東都化成社製 エポトートYDB−
400,YDB−500、ダウケミカル社製 D.E.
R.511、チバガイギー社製 アラルダイド801
1、旭化成工業社製 AER−711,AER−75
5、住友化学工業社製 スミーエポキシELB─24
0,ESB−500等(何れも商品名)のブロム化エポ
キシ化合物、大日本インキ化学工業社製 エピクロンT
SR−930,TSR−601、東都化成社製 エポト
ートYR−207,YR−450,YR−102等(何
れも商品名)のゴム変性エポキシ化合物、或いは東都化
成社製 エポトートYD−172(商品名)等のダイマ
酸変性エポキシ化合物等が挙げられる。
Specific examples of the slow-reactive epoxy resin include Epicoat 1001, Epicoat 1004 manufactured by Yuka Shell Co., Epicron 900, Epicron 1050 manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, and Epototo YD-134, YD manufactured by Tohto Kasei. -011, made by Dow Chemical Company
D. E. R. 661, Ciba Geigy Araldide 6071, Asahi Kasei Kogyo AER-661, Sumitomo Chemical Co. Sumiepoxy ELA-134, ESA-0
Phenoxy type epoxy compounds such as 11 (all are trade names) and Epicoat YL903, YL90 manufactured by Yuka Shell Co., Ltd.
6, Dainippon Ink and Chemicals, Inc. Epicron 152, Epicron 1120, Toto Kasei Epotote YDB-
400, YDB-500, D.W. E.
R. 511, Ciba Geigy Araldide 801
1, Asahi Kasei Corporation AER-711, AER-75
5. Sumitomo Chemical Co., Ltd. Summy Epoxy ELB-24
0, ESB-500, etc. (both are trade names), brominated epoxy compound, Epichron T manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.
Rubber-modified epoxy compounds such as SR-930, TSR-601, Toto Kasei Epotote YR-207, YR-450, YR-102 (all are trade names), or Toto Kasei Epotote YD-172 (trade name) Examples thereof include dimer acid-modified epoxy compounds.

【0021】また、上記反応性の速いエポキシ化合物の
具体例としては、油化シェル社製エピコート604、東
都化成社製 エポートYH−434、チバガイギー社製
アラルダイドMY720、住友化学工業社製 スミーエ
ポキシELM−120等(何れも商品名)のグリシジル
アミン型エポキシ化合物や、油化シェル社製 エピコー
トYL−931、チバガイギー社製 アラルダイド16
3等(何れも商品名)のテトラフェニロールエタン型エ
ポキシ化合物、或いはチバガイギー社製アラルダイドP
T810、日産化学社製 TEPIC等(何れも商品
名)の複素環式エポキシ化合物、チバガイギー社製 ア
ラルダイドCY350(商品名)等のヒダントイン型エ
ポキシ化合物、ダイセル化学工業社製 セロキサイド2
021、チバガイギー社製 アラルダイドCY175,
CY179等(何れも商品名)の脂環式エポキシ化合物
等が挙げられる。
Further, specific examples of the epoxy compound having high reactivity are Epicoat 604 manufactured by Yuka Shell Co., Eport YH-434 manufactured by Tohto Kasei Co., Araldide MY720 manufactured by Ciba Geigy, Sumie Epoxy ELM- manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd. Glycidylamine type epoxy compounds such as 120 (all trade names), Epicoat YL-931 manufactured by Yuka Shell Co., Ltd., Araldide 16 manufactured by Ciba-Geigy.
Tetraphenylol ethane type epoxy compounds such as 3 (all are trade names), or Ciba Geigy Araldide P
Heterocyclic epoxy compounds such as T810, TEPIC (trade name) manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd., hydantoin-type epoxy compounds such as Araldide CY350 (trade name) manufactured by Ciba-Geigy, Celoxide 2 manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.
021, Ciba Geigy Araldide CY175
Examples thereof include alicyclic epoxy compounds such as CY179 (all are trade names).

【0022】[0022]

【作用】本発明の多層プリント配線板の製造方法におい
ては、第1の導体層上に形成された絶縁層表面に1回目
のメッキを行い、続いて2回目のメッキを行って第2の
導体層を形成するため、1回目のメッキの際にメッキ未
着であった部分にも2回目のメッキでメッキが付けら
れ、メッキ未着が発生し難い。
In the method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to the present invention, the surface of the insulating layer formed on the first conductor layer is plated for the first time, and then the second plating is performed for the second conductor. Since the layer is formed, the portion which has not been plated at the time of the first plating is also plated at the second plating, so that the non-plating hardly occurs.

【0023】また、本発明の多層プリント配線板の製造
方法において、1回目のメッキを行った後に、上記メッ
キ膜側から第1の導体層側にスルーホールを形成するス
ルーホール孔等の貫通孔を形成し、続いて2回目のメッ
キを行えば、上記絶縁層はメッキ膜に覆われた状態で貫
通孔を形成されることとなり、孔開け時の絶縁層への物
理的な接触による絶縁層の傷付けが防止される。さら
に、孔開けをドリル等により行った場合には、メッキ膜
が絶縁層の抑えとなり、ドリルの送りによる絶縁層の形
状の崩れも防止される。
In the method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to the present invention, a through hole such as a through hole for forming a through hole from the plating film side to the first conductor layer side after the first plating is performed. When the second plating is performed, the through hole is formed in the insulating layer covered with the plated film, and the insulating layer is formed by physical contact with the insulating layer at the time of forming a hole. The damage of the is prevented. Further, when the holes are formed by a drill or the like, the plated film suppresses the insulating layer, and the shape of the insulating layer is prevented from collapsing due to the feed of the drill.

【0024】さらにまた、本発明の多層プリント配線板
の製造方法において、1回目のメッキを行った後、上記
メッキ膜表面を機械研磨し、続いて2回目のメッキを行
えば、2回目のメッキによるメッキ膜表面が平滑化され
る。
Furthermore, in the method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to the present invention, after the first plating, the surface of the plated film is mechanically polished, and then the second plating is performed, whereby the second plating is performed. The surface of the plated film is smoothed.

【0025】[0025]

【実施例】以下、本発明を適用した具体的な実施例につ
いて図面を参照しながら詳細に説明する。先ず、本実施
例の多層プリント配線板の製造方法により製造される多
層プリント配線板の構造について説明する。なお、本実
施例においては、積層基板の上下を基板により挟み込
み、スルーホールとブラインドバイアホールを有する構
造の多層プリント配線板に適用した例について述べる
が、ブラインドバイアホールは本発明を適用する上で必
ずしも必要ではない。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Specific embodiments to which the present invention is applied will be described in detail below with reference to the drawings. First, the structure of a multilayer printed wiring board manufactured by the method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to this embodiment will be described. In addition, in the present embodiment, an example in which the upper and lower sides of the laminated substrate are sandwiched by the substrates and applied to a multilayer printed wiring board having a structure having a through hole and a blind via hole will be described. Not necessarily required.

【0026】上記多層プリント配線板は、図1に示すよ
うに、積層基板1の上面に第1の絶縁層2を介して所定
の配線パターンを有する1層めの導体層4(第2の導体
層)が形成され、積層基板1の下面に第2の絶縁層3を
介してやはり所定の配線パターンを有する6層めの導体
層5(第2の導体層)が形成されるものである。なお、
ここでは、図1中に示すような多層プリント配線板にお
いて形成された導体層を上側から1層め,2層め・・
・,6層めと数えた場合の1層めを1層めの導体層と言
う。
As shown in FIG. 1, the multilayer printed wiring board has a first conductor layer 4 (second conductor) having a predetermined wiring pattern on the upper surface of the laminated substrate 1 with a first insulating layer 2 interposed therebetween. Layer) is formed, and the sixth conductor layer 5 (second conductor layer) also having a predetermined wiring pattern is formed on the lower surface of the laminated substrate 1 via the second insulating layer 3. In addition,
Here, the conductor layers formed in the multilayer printed wiring board as shown in FIG.
.. When counting the sixth layer, the first layer is called the first conductor layer.

【0027】上記積層基板1は、3枚の基板6,7,8
が順次積層されて接合されたものである。そして、基板
6の基板7との接合面の反対側の主面6aには所定の配
線パターンを有する2層めの導体層9(第1の導体層)
が形成され、基板6と基板7間には所定の配線パターン
を有する3層めの導体層10が形成され、基板7と基板
8間には所定の配線パターンを有する4層めの導体層1
1が形成され、基板8の基板7との接合面の反対側の主
面8aには所定の配線パターンを有する5層めの導体層
12(第1の導体層)が形成されており、上記積層基板
1は、都合4層の導体層を有する積層基板とされてい
る。すなわち、上記多層プリント配線板は6層の導体層
を有する積層基板となる。
The laminated substrate 1 is composed of three substrates 6, 7, 8
Are sequentially laminated and joined. Then, the second conductor layer 9 (first conductor layer) having a predetermined wiring pattern on the main surface 6a of the substrate 6 on the side opposite to the joint surface with the substrate 7
Is formed, a third conductor layer 10 having a predetermined wiring pattern is formed between the substrate 6 and the substrate 7, and a fourth conductor layer 1 having a predetermined wiring pattern is formed between the substrate 7 and the substrate 8.
1 is formed, and the fifth conductor layer 12 (first conductor layer) having a predetermined wiring pattern is formed on the main surface 8a of the substrate 8 on the side opposite to the joint surface with the substrate 7. The laminated board 1 is a laminated board having a total of four conductor layers. That is, the multilayer printed wiring board is a laminated board having six conductor layers.

【0028】また、上記多層プリント配線板には、1層
めの導体層4のコネクション部4a,4層めの導体層1
1のコネクション部11a,6層めの導体層5のコネク
ション部5aを電気的に接続するスルーホール13が設
けられている。上記スルーホール13は、第1の絶縁層
2,積層基板1,第2の絶縁層3を貫通し、1層めの導
体層4のコネクション部4aから6層めの導体層5のコ
ネクション部5aまで各コネクション部4a,11a,
5aの中央部を貫通するように設けられた孔部であり、
孔部の周壁に導電材料が配され、各コネクション部4
a,11a,5aを電気的に接続するものである。
In the multilayer printed wiring board, the connection portion 4a of the first conductor layer 4 and the fourth conductor layer 1 are provided.
A through hole 13 for electrically connecting the first connection portion 11a and the connection portion 5a of the sixth conductor layer 5 is provided. The through hole 13 penetrates through the first insulating layer 2, the laminated substrate 1, and the second insulating layer 3, and extends from the connection portion 4a of the first conductor layer 4 to the connection portion 5a of the sixth conductor layer 5. Up to each connection part 4a, 11a,
5a is a hole provided so as to penetrate through the central portion of 5a,
Conductive material is arranged on the peripheral wall of the hole, and each connection part 4
a, 11a, 5a are electrically connected.

【0029】さらに、上記多層プリント配線板には、1
層めの導体層4のコネクション部4c,2層めの導体層
9のコネクション部9a,3層めの導体10のコネクシ
ョン部10a,4層めの導体層11のコネクション部1
1b,5層めの導体層12のコネクション部12a,6
層めの導体層5のコネクション部5bを電気的に接続す
るスルーホール15も設けられている。上記スルーホー
ル15は、第1の絶縁層2,積層基板1,第2の絶縁層
3を貫通し、1層めの導体層4のコネクション部4cか
ら6層めの導体層5のコネクション部5bまで各コネク
ション部4c,9a,10a,11b,12a,5bの
中央部を貫通するように設けられた孔部であり、孔部の
周壁に導電材料が配され、各コネクション部4c,9
a,10a,11b,12a,5bを電気的に接続する
ものである。
Further, in the above-mentioned multilayer printed wiring board, 1
Connection portion 4c of the second conductor layer 4, connection portion 9a of the second conductor layer 9, connection portion 10a of the third conductor 10, connection portion 1 of the fourth conductor layer 11
1b, connection portions 12a, 6 of the fifth conductor layer 12
A through hole 15 for electrically connecting the connection portion 5b of the second conductor layer 5 is also provided. The through hole 15 penetrates through the first insulating layer 2, the laminated substrate 1, and the second insulating layer 3 and extends from the connection portion 4c of the first conductor layer 4 to the connection portion 5b of the sixth conductor layer 5. Up to the connection portion 4c, 9a, 10a, 11b, 12a, 5b is a hole portion provided so as to penetrate through the central portion, the conductive material is arranged on the peripheral wall of the hole portion, the connection portion 4c, 9
a, 10a, 11b, 12a, 5b are electrically connected.

【0030】さらにまた、上記多層プリント配線板に
は、1層めの導体層4のコネクション部4bと2層めの
導体層9のコネクション部9bを電気的に接続するブラ
インドバイアホール14が設けられている。上記ブライ
ンドバイアホール14も上記スルーホール13と略同様
の構造で各コネクション部4b,9b間の電気的接続を
図るものである。
Furthermore, the multilayer printed wiring board is provided with a blind via hole 14 for electrically connecting the connection portion 4b of the first conductor layer 4 and the connection portion 9b of the second conductor layer 9. ing. The blind via hole 14 also has a structure similar to that of the through hole 13 and serves to electrically connect the connection portions 4b and 9b.

【0031】次に、本実施例の多層プリント配線板の製
造方法について説明する。本実施例の多層プリント配線
板の製造方法は、基本的にはビルドアップ工法に従うも
のである。ただし、以下の説明においては、スルーホー
ル13,15、ブラインドバイアホール14の形成部分
に限定して説明する。
Next, a method for manufacturing the multilayer printed wiring board of this embodiment will be described. The method for manufacturing the multilayer printed wiring board of this embodiment basically follows the build-up method. However, the following description will be limited to the formation of the through holes 13 and 15 and the blind via hole 14.

【0032】本実施例の多層プリント配線板の製造方法
においては、先ず、図2に示すように、積層基板21の
両面に銅箔を形成した後、所定の配線パターンを有する
2層め,5層めの導体層22,23(第1の導体層)を
形成する。このとき、上記2層め,5層めの導体層2
2,23は、それぞれコネクション部22a,22b,
23aを有するものとされている。ただし、上記積層基
板21は、図示を省略する3枚の基板が積層され、各基
板間に所定の配線パターンを有する3層め,4層めの導
体層が形成されるものである。
In the method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to this embodiment, first, as shown in FIG. 2, copper foils are formed on both surfaces of the laminated substrate 21 and then the second layer having a predetermined wiring pattern is formed. The second conductor layers 22 and 23 (first conductor layers) are formed. At this time, the above-mentioned second and fifth conductor layers 2
2, 23 are connection parts 22a, 22b,
23a. However, the laminated substrate 21 is formed by laminating three substrates (not shown), and forming the third and fourth conductor layers having a predetermined wiring pattern between the substrates.

【0033】次に、2層め,5層めの導体層22,23
表面に酸化銅を形成する黒化処理を行った後、図3に示
すように、積層基板21上の2層め,5層めの導体層2
2,23(第1の導体層)上にアルカリ現像型レジスト
インクをスクリーン印刷法やスプレー法,カーテンコー
ト法により塗布し、絶縁層24,25を形成する。上記
アルカリ現像型レジストインクは、カルボン酸付加アク
リレート化合物と反応性の遅いエポキシ化合物と反応性
の速いエポキシ化合物よりなる組成物であり、本実施例
においては、太陽インキ製造社製のBT−90(商品
名)を用いた。なお、上記反応性の遅いエポキシ化合
物、反応性の速いエポキシ化合物の反応性について、そ
の具体例についても前述の通りである。
Next, the second and fifth conductor layers 22, 23
After performing the blackening treatment to form copper oxide on the surface, as shown in FIG. 3, the second and fifth conductor layers 2 on the laminated substrate 21 are formed.
2, 23 (first conductor layer) is coated with an alkali developing resist ink by a screen printing method, a spray method, or a curtain coating method to form insulating layers 24, 25. The alkali-developable resist ink is a composition composed of an epoxy compound having a slow reactivity with a carboxylic acid-added acrylate compound and an epoxy compound having a fast reactivity, and in this example, BT-90 (manufactured by Taiyo Ink Mfg. Co., Ltd. Trade name) was used. The reactivity of the slow-reactive epoxy compound and the fast-reactive epoxy compound is the same as described above.

【0034】そして、図4に示すように、上記絶縁層2
4のコネクション部22bに対応する位置に、写真法に
よってブラインドバイアホールを形成するためのブライ
ンド孔26を設ける。上記のようなブラインド孔26の
形成方法としては、フォトツールを介して露光し、現像
を行って所望の孔を開ける写真法を挙げることができ
る。また、レーザー光で孔を開けてもよく、サンドブラ
ストで開けてもよい。
Then, as shown in FIG.
Blind holes 26 for forming blind via holes by photography are provided at positions corresponding to the connection portions 22b of No. 4 in FIG. As a method for forming the blind hole 26 as described above, there can be mentioned a photographic method in which a desired hole is formed by exposing through a photo tool and developing. Further, the holes may be opened by laser light or sandblasting.

【0035】続いて、ポストキュアとよばれる一度目の
加熱処理を行い、このときの温度,時間条件を制御する
ことにより絶縁層24,25を半硬化状態とする。すな
わち、上記絶縁層24,25には反応性の遅いエポキシ
化合物が含まれており、上記エポキシ化合物は一度目の
加熱処理では完全に硬化されず、未硬化のものが残り、
絶縁層24,25は半硬化状態となる。なお、ここでい
う半硬化状態とは、上記のような状態で、かつ絶縁層2
4,25を後工程においてドリリングできる程度の硬化
状態から後工程の粗面化によって十分な凹凸が得られる
範囲の硬化状態を指す。
Then, a first heat treatment called post cure is performed, and the temperature and time conditions at this time are controlled to bring the insulating layers 24 and 25 into a semi-cured state. That is, the insulating layers 24 and 25 contain an epoxy compound having a slow reactivity, and the epoxy compound is not completely cured by the first heat treatment, and an uncured one remains.
The insulating layers 24 and 25 are in a semi-cured state. The semi-cured state here means the above-mentioned state and the insulating layer 2
4 and 25 indicate a cured state in a range from a cured state where drilling can be performed in the subsequent process to a range where sufficient unevenness is obtained by roughening in the subsequent process.

【0036】そして、上記絶縁層24,25の表面を粗
面化する。本実施例においては、粗面化剤を用いて絶縁
層24,25の表面近傍の未硬化状態のエポキシ化合物
を溶かし出して粗面化を行う。すなわち、上記絶縁層2
4,25中の反応性の遅いエポキシ化合物の一度目の加
熱処理で硬化しなかった未硬化のものを溶かし出して粗
面化を行う。
Then, the surfaces of the insulating layers 24 and 25 are roughened. In this embodiment, a roughening agent is used to dissolve out the uncured epoxy compound in the vicinity of the surfaces of the insulating layers 24 and 25 to roughen the surface. That is, the insulating layer 2
The surface of the epoxy compound having a low reactivity in 4,5 and 25, which has not been cured by the first heat treatment, is melted and roughened.

【0037】上記粗面化剤としては、過マンガン酸カリ
ウム、重クロム酸カリウム、濃硫酸等の酸化剤、水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ、N−メチル
−2−ピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、ジ
メチルスルオキシド(DMSO)等の有機溶剤等が挙げ
られる。
Examples of the surface-roughening agent include potassium permanganate, potassium dichromate, concentrated sulfuric acid and other oxidizing agents, sodium hydroxide, potassium hydroxide and other alkalis, N-methyl-2-pyrrolidone, N, N. Examples include organic solvents such as dimethylformamide and dimethylsulfoxide (DMSO).

【0038】ここでは、粗面化剤として酸化剤を使用す
る例を示す。粗面化を行うに際し、先ず、絶縁層24,
25をジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルスル
ホキシド(DMSO)、N−メチル−2−ピロリドン
(NMP)、ピリジン等を用いて膨潤させる。次いで、
膨潤させた絶縁層24,25の表面を過マンガン酸カリ
ウム,重クロム酸カリウム,濃硫酸等の酸化剤により粗
面化する。
Here, an example in which an oxidizing agent is used as a surface-roughening agent is shown. When roughening the surface, first, the insulating layer 24,
25 is swollen with dimethylformamide (DMF), dimethylsulfoxide (DMSO), N-methyl-2-pyrrolidone (NMP), pyridine and the like. Then
The surfaces of the swollen insulating layers 24 and 25 are roughened with an oxidizing agent such as potassium permanganate, potassium dichromate, or concentrated sulfuric acid.

【0039】本実施例においては、半硬化状態とされて
いる絶縁層24,25の表面近傍の未硬化状態のエポキ
シ化合物を溶かし出して除去して絶縁層24,25に粗
面化を行うことから、絶縁層24,25のスルーホール
28,29内に露呈する表面が安定して凹凸面化され、
良好に粗面化される。すなわち、上記表面には十分な深
さを有するメッキアンカーが形成されることとなる。
In this embodiment, the uncured epoxy compound in the vicinity of the surfaces of the semi-cured insulating layers 24 and 25 is melted and removed to roughen the insulating layers 24 and 25. Therefore, the surfaces exposed in the through holes 28 and 29 of the insulating layers 24 and 25 are stably made uneven,
Roughened well. That is, the plating anchor having a sufficient depth is formed on the surface.

【0040】また、本実施例においては、未硬化状態の
反応性の遅いエポキシ化合物を溶かし出すために、比較
的弱い酸化剤での処理が可能となり、基板へのダメージ
が比較的少なくなり、排水処理にも問題が生じ難い。
Further, in this embodiment, since the unreacted slow-reactive epoxy compound is melted out, the treatment with a relatively weak oxidizing agent is possible, the damage to the substrate is relatively small, and the drainage is reduced. Problems do not easily occur in processing.

【0041】次に、絶縁層24,25上にブラインド孔
26内を含めて1回目のメッキを行い、図5に示すよう
な第1のメッキ膜27a,27bを形成する。なお、絶
縁層24,25上へのメッキはプリント配線板の製造に
おいて通常用いられている方法で行えば良い。
Next, the first plating is performed on the insulating layers 24 and 25 including the inside of the blind holes 26 to form first plated films 27a and 27b as shown in FIG. The plating on the insulating layers 24 and 25 may be performed by a method usually used in manufacturing a printed wiring board.

【0042】すなわち、絶縁層24,25をクリーニン
グ,コンディショニングした後、触媒付与、活性化、無
電解メッキし、次いで電気メッキして第1のメッキ膜2
7a,27bを形成した。このとき、上記第1のメッキ
膜27a,27bの膜厚は3〜20μmが適しており、
3μm未満では後工程でスルーホール孔を形成する際に
絶縁層24,25に傷が付き易く、20μmよりも厚い
とメッキ工程に要する時間が長くなり、生産性が損なわ
れる。なお、本実施例においては、第1のメッキ膜27
a,27bの膜厚を10μmとした。
That is, after the insulating layers 24 and 25 are cleaned and conditioned, catalyst application, activation, electroless plating, and then electroplating are performed to form the first plating film 2.
7a and 27b were formed. At this time, the film thickness of the first plating films 27a and 27b is preferably 3 to 20 μm,
When the thickness is less than 3 μm, the insulating layers 24 and 25 are easily scratched when the through hole is formed in the subsequent step, and when the thickness is more than 20 μm, the plating process takes a long time and the productivity is impaired. In the present embodiment, the first plating film 27
The film thickness of a and 27b was 10 μm.

【0043】次に、図6に示すように、第1のメッキ膜
27a,絶縁層24,積層基板21,絶縁層25,第1
のメッキ膜27bを貫通するようなスルーホールを形成
するスルーホール孔28,29を形成する。なお、スル
ーホール孔28は、2層め,5層めの導体層22,23
のコネクション部22a,23aも貫通するように設け
られる。
Next, as shown in FIG. 6, the first plating film 27a, the insulating layer 24, the laminated substrate 21, the insulating layer 25, and the first
Through holes 28 and 29 for forming through holes are formed so as to penetrate through the plated film 27b. The through-holes 28 are formed in the second and fifth conductor layers 22 and 23.
The connection portions 22a and 23a of the above are also provided so as to penetrate therethrough.

【0044】スルーホール孔28,29は、通常はドリ
ル(ドリル径0.2〜0.4mm程度)で孔を開けて形
成すれば良いが、金型を用いてパンチで開けても良く、
またレーザー光で孔を開けても良い。
The through-holes 28 and 29 are usually formed by making holes with a drill (drill diameter of about 0.2 to 0.4 mm), but they may be made by punching with a die.
Moreover, you may open a hole with a laser beam.

【0045】このとき、上述のように絶縁層24,25
上には第1のメッキ膜27a,27bが形成されている
ことから、第1のメッキ膜27a側からドリルでスルー
ホール孔28,29を形成しても、絶縁層24に傷が付
くことはなく、また上記第1のメッキ膜27a,27b
が絶縁層24,25のおさえとなってドリル送りによる
絶縁層24,25の形状くずれも防止され、絶縁劣化が
生じない。
At this time, as described above, the insulating layers 24 and 25 are formed.
Since the first plating films 27a and 27b are formed on the insulating film 24, even if the through holes 28 and 29 are formed by drilling from the first plating film 27a side, the insulating layer 24 is not damaged. None, and the first plating films 27a and 27b
As the insulating layers 24 and 25 are restrained, the shapes of the insulating layers 24 and 25 are prevented from being deformed due to the drill feeding, and the insulation is not deteriorated.

【0046】そして、スルーホール孔28,29内に露
呈する絶縁層24,25表面の粗面化を行う。上記粗面
化は、前述の絶縁層24,25表面の粗面化と同様に行
われ、スルーホール孔28,29内に露呈する絶縁層2
4,25表面に十分な深さを有するメッキアンカーが形
成されることとなる。
Then, the surfaces of the insulating layers 24 and 25 exposed in the through holes 28 and 29 are roughened. The roughening is performed in the same manner as the roughening of the surfaces of the insulating layers 24 and 25 described above, and the insulating layer 2 exposed in the through hole holes 28 and 29.
A plating anchor having a sufficient depth will be formed on the surfaces of the surfaces 4 and 25.

【0047】次に、図7に示すように、第1のメッキ膜
27a,27bの表面上にメッキを行い、第2のメッキ
膜30を形成し、第1のメッキ膜27aと第2のメッキ
膜30により1層めの導体層31を形成し、第1のメッ
キ膜27bと第2のメッキ膜30により6層めの導体層
32を形成する。上記第2のメッキ膜30は、ブライン
ド孔26内の第1のメッキ膜27a上に形成されるとと
もに、スルホール孔29内に露呈した絶縁層24,25
表面も覆うように形成される。なお、上記メッキ層31
は、常法に従って無電解メッキを行って形成すればよい
が、無電解メッキと電解メッキとを併用して形成しても
良い。
Next, as shown in FIG. 7, plating is performed on the surfaces of the first plating films 27a and 27b to form the second plating film 30, and the first plating film 27a and the second plating film 27 are formed. The film 30 forms the first conductor layer 31, and the first plating film 27b and the second plating film 30 form the sixth conductor layer 32. The second plating film 30 is formed on the first plating film 27 a in the blind hole 26 and is exposed in the through hole 29.
It is formed so as to cover the surface as well. The plated layer 31
May be formed by electroless plating according to a conventional method, but may be formed by using both electroless plating and electrolytic plating in combination.

【0048】このように、第1のメッキ膜27a,27
bを形成した上に第2のメッキ膜30を形成すれば、絶
縁層24,25上のメッキ未着だった部分にもメッキを
付けることができる。
In this way, the first plated films 27a, 27
If the second plating film 30 is formed on top of b, it is possible to plate the non-plated portions of the insulating layers 24 and 25.

【0049】さらに、第1のメッキ膜27a,27b上
に第2のメッキ膜30を形成する前にバフ研磨等の機械
研磨を行えば、第2のメッキ膜30の表面は平滑な面と
なる。
If mechanical polishing such as buffing is performed before forming the second plated film 30 on the first plated films 27a and 27b, the surface of the second plated film 30 becomes a smooth surface. .

【0050】次に、常法に従って、1層めの導体層31
と6層めの導体層32に、図8に示すように所定の配線
パターンを形成する。上記1層めの導体層31は、スル
ーホール孔28上に設けられるコネクション部31a、
スルーホール孔29上に設けられるコネクション部31
b、ブラインド孔26上に設けられるコネクション部3
1cを有するものであり、6層めの導体層32は、スル
ーホール孔28上に設けられるコネクション部32a、
スルーホール孔29上に設けられるコネクション部32
bを有するものである。
Next, the first conductor layer 31 is formed according to a conventional method.
A predetermined wiring pattern is formed on the sixth conductor layer 32 as shown in FIG. The first conductor layer 31 is a connection portion 31a provided on the through hole 28,
Connection part 31 provided on the through hole 29
b, the connection portion 3 provided on the blind hole 26
1c, and the sixth conductor layer 32 has a connection portion 32a provided on the through hole 28,
Connection part 32 provided on the through hole 29
b.

【0051】このとき、上述のように、スルーホール孔
28,29の内壁にも第2のメッキ膜30が形成されて
おり、その結果、1層めの導体層31のコネクション部
31a、6層めの導体層32のコネクション部32a
間、及び1層めの導体層31のコネクション部31b、
6層めの導体層32のコネクション部32b間は電気的
に接続されることとなり、スルーホールが形成される。
なお、積層基板21中の図示しない3層め,4層めの導
体層にもコネクション部が設けられており、これらとも
電気的に接続されていることは言うまでもない。
At this time, as described above, the second plating film 30 is also formed on the inner walls of the through-holes 28, 29, and as a result, the connection portions 31a, 6 layers of the first conductor layer 31 are formed. Connection portion 32a of the conductor layer 32 for
And the connection portion 31b of the first conductor layer 31,
The connection portions 32b of the sixth conductor layer 32 are electrically connected and a through hole is formed.
It goes without saying that the third and fourth conductor layers (not shown) in the laminated substrate 21 are also provided with connection portions and are electrically connected to these.

【0052】一方、ブラインド孔26においても、内壁
に第1,2のメッキ膜27a,30が形成されており、
その結果、1層めの導体層31のコネクション部31c
と2層めの導体層22のコネクション部22b間はブラ
インド孔26内の第1,2のメッキ膜27a,30によ
り電気的に接続されることとなり、ブラインドバイアホ
ールが形成される。従って、図1に示されるような多層
プリント配線板が完成される。
On the other hand, also in the blind hole 26, the first and second plating films 27a and 30 are formed on the inner wall,
As a result, the connection portion 31c of the first conductor layer 31
And the connection portions 22b of the second conductor layer 22 are electrically connected by the first and second plating films 27a and 30 in the blind hole 26, thereby forming a blind via hole. Therefore, the multilayer printed wiring board as shown in FIG. 1 is completed.

【0053】本実施例のように、2層め,5層めの導体
層22,23(第1の導体層)上に絶縁層24,25を
形成し、上記絶縁層24,25上に1回目のメッキを行
って第1のメッキ膜27a,27bを形成し、続いて2
回目のメッキを行って第2のメッキ膜30を形成して、
第1のメッキ膜27aと第2のメッキ膜30により1層
めの導体層(第2の導体層)を形成し、第1のメッキ膜
27bと第2のメッキ膜30により6層めの導体層(第
2の導体層)を形成すれば、1回目のメッキの際にメッ
キ未着であった部分にも2回目のメッキでメッキが付け
られ、メッキ未着が発生し難く、1層め,6層め(第2
の導体層)の断線が生じ難く、製造される多層プリント
配線板の特性は良好なものとなる。
As in the present embodiment, the insulating layers 24 and 25 are formed on the second and fifth conductor layers 22 and 23 (first conductor layers), and the insulating layers 24 and 25 are formed on the insulating layers 24 and 25 by 1 The first plating is performed to form the first plating films 27a and 27b, and then 2
The second plating is performed to form the second plating film 30,
A first conductor layer (second conductor layer) is formed by the first plating film 27a and the second plating film 30, and a sixth conductor layer is formed by the first plating film 27b and the second plating film 30. If the layer (second conductor layer) is formed, the portion that has not been plated at the time of the first plating is also plated by the second plating, so that the plating does not easily occur and the first layer is not formed. , 6th layer (2nd
Is less likely to occur, and the characteristics of the manufactured multilayer printed wiring board will be good.

【0054】また、本実施例のように、1回目のメッキ
を行って第1のメッキ膜27a,27bを形成した後
に、上記第1のメッキ膜27a側から2層めの導体層2
2(第1の導体層)側にスルーホールを形成する貫通孔
であるスルーホール孔28,29を形成し、続いて2回
目のメッキを行って第2のメッキ膜30を形成すれば、
孔開け時の物理的な接触による絶縁層24への傷付けが
防止される。さらに、孔開けをドリル等により行った場
合には、第1のメッキ膜27a,27bが絶縁層24,
25の抑えとなり、ドリルの送りによる絶縁層24,2
5の形状の崩れも防止される。従って、絶縁劣化が抑え
られ、製造される多層プリント配線板の特性は良好なも
のとなる。
As in this embodiment, after the first plating is performed to form the first plating films 27a and 27b, the second conductor layer 2 from the first plating film 27a side is formed.
By forming through-holes 28 and 29, which are through-holes for forming through-holes on the 2 (first conductor layer) side, and then performing the second plating to form the second plated film 30,
Damage to the insulating layer 24 due to physical contact at the time of punching is prevented. Furthermore, when the holes are drilled by a drill or the like, the first plating films 27a and 27b are formed on the insulating layer 24,
Insulation layers 24 and 2 due to drill feed
The collapse of the shape of 5 is also prevented. Therefore, insulation deterioration is suppressed, and the characteristics of the manufactured multilayer printed wiring board are improved.

【0055】さらにまた、本実施例において、1回目の
メッキを行って第1のメッキ膜27a,27bを形成し
た後、機械研磨を行い、2回目のメッキを行って第2の
メッキ膜30を形成すれば、第2のメッキ膜30の表面
は平滑な面となり、第1のメッキ膜27a,27bと第
2のメッキ膜30により構成される1層め,6層めの導
体層31,32(第2の導体層)に所定の配線パターン
を形成した場合にパターン形成不良が生じ難い。また、
上記配線パターン中に部品を実装する場合においても、
部品実装不良が生じ難い。従って、製造される多層プリ
ント配線板の特性は良好なものとなる。
Furthermore, in this embodiment, after the first plating is performed to form the first plating films 27a and 27b, mechanical polishing is performed, and the second plating is performed to form the second plating film 30. If formed, the surface of the second plating film 30 becomes a smooth surface, and the first and sixth conductor layers 31, 32 composed of the first plating films 27a and 27b and the second plating film 30 are formed. When a predetermined wiring pattern is formed on the (second conductor layer), pattern formation failure is less likely to occur. Also,
Even when mounting parts in the above wiring pattern,
It is difficult for component mounting failure to occur. Therefore, the characteristics of the manufactured multilayer printed wiring board are good.

【0056】そして、本実施例においては、絶縁層2
4,25をカルボン酸付加アクリレート化合物と反応性
の遅いエポキシ化合物と反応性の速いエポキシ化合物よ
りなる組成物により形成しているため、一度目の加熱処
理においては絶縁層24,25は半硬化状態となり、該
絶縁層24,25の粗面化を行った場合においては、絶
縁層24,25表面及びスルーホール孔28,29内に
露呈する絶縁層24,25表面近傍の未硬化状態の反応
性の遅いエポキシ化合物を溶かし出すこととなる。従っ
て、この部分は安定して良好な粗化面となり、十分な深
さを有するメッキアンカーが形成され、この上に第1の
メッキ膜27a,27b及び第2のメッキ膜30を形成
した場合においては、絶縁層24,25と第1のメッキ
膜27a,27b及び第2のメッキ膜30の密着強度が
向上される。そして、二度目の加熱処理により未硬化状
態の反応性の遅いエポキシ化合物を硬化させることによ
り、絶縁層24,25と第1のメッキ膜27a,27b
及び第2のメッキ膜30との密着強度をより向上させる
ことができ、製造される多層プリント配線板の特性を良
好なものとすることができる。
In this embodiment, the insulating layer 2
Since the insulating layers 24 and 25 are semi-cured in the first heat treatment, the insulating layers 24 and 25 are in a semi-cured state because 4,25 are formed of a composition including an epoxy compound having a slow reactivity with a carboxylic acid-added acrylate compound and an epoxy compound having a fast reactivity Therefore, when the insulating layers 24 and 25 are roughened, the reactivity of the uncured state near the surfaces of the insulating layers 24 and 25 and the surfaces of the insulating layers 24 and 25 exposed in the through-holes 28 and 29. It will dissolve out the slow epoxy compound. Therefore, this portion becomes a stable and good roughened surface, a plating anchor having a sufficient depth is formed, and when the first plating films 27a and 27b and the second plating film 30 are formed on this. Improves the adhesion strength between the insulating layers 24 and 25 and the first plating films 27a and 27b and the second plating film 30. Then, by curing the epoxy compound having a slow reactivity in the uncured state by the second heat treatment, the insulating layers 24 and 25 and the first plating films 27a and 27b are cured.
Also, the adhesion strength with the second plating film 30 can be further improved, and the characteristics of the manufactured multilayer printed wiring board can be improved.

【0057】なお、本実施例においては、積層基板上に
絶縁層,導体層を設ける例について述べたが、積層基板
の代わりに片面基板或いは両面基板を使用しても同様の
効果が得られることは言うまでもない。
In this embodiment, the example in which the insulating layer and the conductor layer are provided on the laminated substrate has been described, but the same effect can be obtained by using a single-sided substrate or a double-sided substrate instead of the laminated substrate. Needless to say.

【0058】次に、本実施例の効果を確認すべく、以下
のような実験を行った。本実験例においては、本実施例
の多層プリント配線板の製造方法に従って、ブラインド
バイアホールを有する6層基板を製造し、オープンショ
ートチェッカーによりパターンのショート断線数を測定
し、またメッキ未着,絶縁不良箇所の数等を目視で測定
した。
Next, in order to confirm the effect of this embodiment, the following experiment was conducted. In this experimental example, a 6-layer board having a blind via hole was manufactured according to the method for manufacturing a multilayer printed wiring board of the present example, and the number of short circuit breaks in a pattern was measured by an open short checker. The number of defective spots was visually measured.

【0059】実施例1 本実施例においては、先ず、4層の積層基板の銅箔によ
り2層め,5層めの導体層(第1の導体層)を形成し
た。すなわち、銅箔の表面をバフ及びスクラブにより整
面し、銅箔の全面にそれぞれドライフィルム(旭化成工
業社製、サンフォートAQ5044(商品名))を貼り
合わせ、次いでパターンフィルムを介して露光機(オー
ク社製、HMW−551D(機種名))により露光し、
3%炭酸ソーダで30℃で60秒間現像し、塩化第2鉄
溶液でエッチングし、3%苛性ソーダでドライフィルム
を剥離して、配線ラインの幅100μm,配線ライン間
の距離100μmの所定の配線パターンを有する2層
め,5層めの導体層(第1の導体層)を形成した。
Example 1 In this example, first, the second and fifth conductor layers (first conductor layers) were formed from a copper foil of a four-layer laminated substrate. That is, the surface of the copper foil is surface-adjusted by buffing and scrubbing, and a dry film (manufactured by Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd., Sunfort AQ5044 (trade name)) is attached to the entire surface of the copper foil, and then an exposure device ( Exposed by Oak, HMW-551D (model name),
Develop with 3% sodium carbonate at 30 ℃ for 60 seconds, etch with ferric chloride solution, peel dry film with 3% caustic soda, wiring line width 100μm, distance between wiring lines 100μm predetermined wiring pattern The second and fifth conductor layers (first conductor layer) having the above are formed.

【0060】次いで2層め,5層めのの導体層の表面に
酸化銅膜を形成する黒化処理を行い、2層め,5層めの
導体層上に絶縁層を形成した。すなわち、太陽インキ社
製のBT−90(商品名)をテトロン80メッシュのス
クリーン版を用い、スクリーン印刷法により2層め,5
層めの導体層上に塗布した。なお、印刷機としては、ニ
ューロング社製 LS−50(機種名)を用いた。そし
て、上記絶縁層を指触乾燥させるために、ボックスオー
ブン(タバイエスペック社製 PHH−200(機種
名))にて、70℃,20分の条件で処理した。さら
に、上記絶縁層の厚さを厚くするために、再度、塗布,
乾燥処理を行った。
Next, a blackening treatment for forming a copper oxide film on the surfaces of the second and fifth conductor layers was performed to form an insulating layer on the second and fifth conductor layers. That is, BT-90 (trade name) manufactured by Taiyo Ink Co., Ltd. was used as a second layer by a screen printing method using a screen plate of Tetron 80 mesh.
It was applied on the second conductor layer. As the printing machine, LS-50 (model name) manufactured by New Long Co. was used. Then, in order to dry the insulating layer by touch, it was treated in a box oven (PHH-200 (model name) manufactured by Tabai Espec Co., Ltd.) under conditions of 70 ° C. and 20 minutes. Further, in order to increase the thickness of the insulating layer, coating,
It was dried.

【0061】その後、絶縁層のブラインドバイアホール
形成位置に直径0.2mmのブラインド孔を形成するた
め、所定のパターンを有するフォトマスクフィルムを絶
縁層に密着させて露光した。なお、露光機としては、オ
ーク社製のHMW−551D(機種名)を使用し、露光
量は500mJ/cm2 とした。そして、2%炭酸ソー
ダ溶液により現像を行い、ブラインド孔を所定の位置に
形成した。
Then, in order to form a blind hole having a diameter of 0.2 mm at the blind via hole forming position of the insulating layer, a photomask film having a predetermined pattern was brought into close contact with the insulating layer and exposed. As an exposure device, HMW-551D (model name) manufactured by Oak Co. was used, and the exposure amount was 500 mJ / cm 2 . Then, development was performed with a 2% sodium carbonate solution to form blind holes at predetermined positions.

【0062】次に、絶縁層を半硬化状態にするために、
ボックスオーブンを用い、150℃,30分の条件で一
度目の加熱処理を行った。
Next, in order to bring the insulating layer into a semi-cured state,
The first heat treatment was performed using a box oven under the conditions of 150 ° C. and 30 minutes.

【0063】次にコンディショナー(荏原電産社製 エ
レクトロブライトMLBデスミアイニシエーターDI−
464(商品名))に浸漬し、過マンガン酸カリウムに
より絶縁層の表面を粗面化した。
Next, a conditioner (Electrobright MLB Desmi Initiator DI-manufactured by Ebara Densan Co., Ltd.)
464 (trade name)), and the surface of the insulating layer was roughened with potassium permanganate.

【0064】続いて、絶縁層上に無電解銅メッキ後、電
解メッキを行い、パネルメッキを施し、ブラインド孔を
含む絶縁層表面の全面にわたって膜厚7μmの第1のメ
ッキ膜を形成した。
Subsequently, after electroless copper plating on the insulating layer, electrolytic plating was performed and panel plating was performed to form a first plated film having a film thickness of 7 μm over the entire surface of the insulating layer including blind holes.

【0065】そして、スルーホール孔をNCドリルマシ
ン(日立精工社製 H−MARK90J(機種名))に
直径0.3mmのドリルを装着して開孔し形成した。
Then, a through hole was formed by mounting a drill having a diameter of 0.3 mm on an NC drill machine (H-MARK 90J (model name) manufactured by Hitachi Seiko Co., Ltd.).

【0066】続いて、スルーホール孔内に露呈する絶縁
層表面を粗面化すべく、前述と同様の方法で粗面化を行
った。
Then, in order to roughen the surface of the insulating layer exposed in the through hole, roughening was performed by the same method as described above.

【0067】次に、上記第1のメッキ膜上に、無電解メ
ッキ,電気メッキを行い、第2のメッキ膜を形成し、1
層め,6層めの導体層(第2の導体層)を形成した。な
お、第2のメッキ膜がスルーホール孔内に露呈する絶縁
層上に形成されていることは言うまでもない。
Next, electroless plating and electroplating are performed on the first plating film to form a second plating film, and 1
The sixth and sixth conductor layers (second conductor layers) were formed. Needless to say, the second plating film is formed on the insulating layer exposed in the through hole.

【0068】そして、ボックスオーブンを用いて二度目
の加熱処理を行い、絶縁層の硬化を完全なものとし、絶
縁層と第1のメッキ膜,第2のメッキ膜の密着強度をさ
らに向上させた。なお、加熱処理条件は170℃,20
分間とした。
Then, a second heat treatment was performed using a box oven to complete the curing of the insulating layer and further improve the adhesion strength between the insulating layer and the first plating film and the second plating film. . The heat treatment conditions are 170 ° C. and 20
Minutes.

【0069】最後に、1層め,6層めの導体層に所定の
配線パターンを形成し、多層プリント配線板を完成し
た。
Finally, predetermined wiring patterns were formed on the first and sixth conductor layers to complete a multilayer printed wiring board.

【0070】実施例2 本実施例においては、上述の実施例1と略同様の工程で
多層プリント配線板を製造するものとし、1回目のメッ
キにより第1のメッキ膜を形成した後に、#500のバ
フを使用してバフ研磨を行い、第1のメッキ膜の表面を
平滑化し、その後2回目のメッキにより第2のメッキ膜
を形成した。
Example 2 In this example, a multilayer printed wiring board is manufactured by substantially the same steps as in Example 1 described above, and after forming a first plating film by the first plating, # 500. Buffing was performed using the buff of No. 1 to smooth the surface of the first plating film, and then the second plating film was formed by the second plating.

【0071】比較例1 本比較例においても、上述の実施例1と略同様の工程で
多層プリント配線板を製造するが、絶縁層上に1層め,
6層めの導体層を形成する際、1回のメッキにより1層
め,6層めの導体層を形成するものとした。
Comparative Example 1 In this comparative example as well, a multilayer printed wiring board is manufactured by substantially the same steps as in Example 1 described above, except that a first layer is formed on the insulating layer.
When forming the sixth conductor layer, the first conductor layer and the sixth conductor layer were formed by plating once.

【0072】そして、上述のような実施例1,2及び比
較例1において製造した多層プリント配線板各100枚
について、オープンショートチェッカーによりパターン
のショート断線数を測定し、またメッキ未着,絶縁不良
箇所の数等を目視で測定した。結果を表1に示す。な
お、表1中には、オープンショートチェック合格率と、
オープンショートチェック不合格だったものの不良理由
の内訳を示す。
Then, with respect to each of the 100 multilayer printed wiring boards manufactured in Examples 1 and 2 and Comparative Example 1 as described above, the number of short circuit breaks in the pattern was measured by an open short checker, and the plating was not adhered and the insulation was defective. The number of points and the like were visually measured. The results are shown in Table 1. In addition, in Table 1, the open short check pass rate,
The breakdown of the reason for the failure even though the open short check failed was shown.

【0073】[0073]

【表1】 [Table 1]

【0074】表1の結果から、実施例1,2において
は、オープンショートチェック不良が大幅に低減されて
いることが確認された。特に、実施例1においては、絶
縁層上に第1,2のメッキ膜を形成して1層め,6層め
の導体層(第2の導体層)を形成していることから、メ
ッキ未着の発生が抑えられて断線が抑えられ、また絶縁
層上に第1のメッキ膜を形成した後にスルーホール孔を
形成していることから、スルーホール孔形状不良や絶縁
不良の発生が抑えられている。さらに、実施例2におい
ては、第1のメッキ膜を形成した後にバフ研磨を行い、
その上に第2のメッキ膜を形成していることから、第2
のメッキ膜表面の凹凸不良が抑えられ、パターン形成不
良が抑えられている。すなわち、上記実施例1,2にお
いては、特性が良好なものとなされていることが確認さ
れた。
From the results shown in Table 1, it was confirmed that in Examples 1 and 2, the open-short check failure was significantly reduced. In particular, in Example 1, since the first and second plating films were formed on the insulating layer to form the first and sixth conductor layers (second conductor layers), no plating was performed. Occurrence of adhesion is suppressed, disconnection is suppressed, and since the through-hole is formed after forming the first plating film on the insulating layer, occurrence of defective through-hole shape and insulation failure is suppressed. ing. Further, in Example 2, buffing was performed after forming the first plating film,
Since the second plating film is formed on the second plating film,
The irregularities on the surface of the plated film are suppressed, and the defective pattern formation is suppressed. That is, it was confirmed that in Examples 1 and 2 described above, the characteristics were good.

【0075】[0075]

【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明は、第1の導体層上に絶縁層を形成し、上記絶縁層上
にメッキを行い第2の導体層を形成する多層プリント配
線板の製造方法において、絶縁層表面に1回目のメッキ
を行い、続いて2回目のメッキを行って第2の導体層を
形成しているため、1回目のメッキの際にメッキ未着で
あった部分にも2回目のメッキでメッキが付けられ、メ
ッキ未着が発生し難く、第2の導体層の断線が生じ難
く、製造される多層プリント配線板の特性は良好なもの
となる。
As is apparent from the above description, the present invention is a multi-layer print in which an insulating layer is formed on a first conductor layer and plating is performed on the insulating layer to form a second conductor layer. In the method for manufacturing a wiring board, the insulating layer surface is plated for the first time, and then the second plating is performed to form the second conductor layer. Therefore, no plating is applied during the first plating. The existing portion is also plated by the second plating, the non-plating is unlikely to occur, the disconnection of the second conductor layer is hard to occur, and the characteristics of the manufactured multilayer printed wiring board are improved.

【0076】また、本発明の多層プリント配線板の製造
方法において、1回目のメッキを行った後に、上記メッ
キ膜側から第1の導体層側に貫通孔を形成し、続いて2
回目のメッキを行えば、上記絶縁層はメッキ膜に覆われ
た状態で貫通孔を形成されることとなり、孔開け時の物
理的な接触による絶縁層への傷付けが防止される。さら
に、孔開けをドリル等により行った場合には、メッキ膜
が絶縁層の抑えとなり、ドリルの送りによる絶縁層の形
状の崩れも防止される。従って、絶縁劣化が抑えられ、
製造される多層プリント配線板の特性は良好なものとな
る。
In the method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to the present invention, after the first plating, a through hole is formed from the plating film side to the first conductor layer side, and then 2
When the plating is performed a second time, the through hole is formed in the insulating layer in a state of being covered with the plating film, so that the insulating layer is prevented from being damaged by physical contact at the time of opening the hole. Further, when the holes are formed by a drill or the like, the plated film suppresses the insulating layer, and the shape of the insulating layer is prevented from collapsing due to the feed of the drill. Therefore, insulation deterioration is suppressed,
The characteristics of the manufactured multilayer printed wiring board are good.

【0077】さらにまた、本発明の多層プリント配線板
の製造方法において、1回目のメッキを行った後、上記
メッキ膜表面を機械研磨し、続いて2回目のメッキを行
えば、2回目のメッキによるメッキ膜表面が平滑化さ
れ、これらメッキ膜により構成される第2の導体層に所
定の配線パターンを形成した場合にパターン形成不良が
生じ難い。また、上記配線パターン中に部品を実装する
場合においても、部品実装不良が生じ難い。従って、製
造される多層プリント配線板の特性は良好なものとな
る。
Furthermore, in the method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to the present invention, after the first plating is performed, the surface of the plated film is mechanically polished, and then the second plating is performed. The surface of the plated film is smoothed by, and pattern formation failure hardly occurs when a predetermined wiring pattern is formed on the second conductor layer formed by these plated films. Further, even when a component is mounted in the wiring pattern, component mounting failure is unlikely to occur. Therefore, the characteristics of the manufactured multilayer printed wiring board are good.

【0078】なお、上記のようなことから、製造される
多層プリント配線板の製造歩留りが向上することは言う
までもなく、本発明の多層プリント配線板の製造方法を
適用すれば、生産性が大きく向上する。
From the above, it goes without saying that the manufacturing yield of the multilayer printed wiring board to be manufactured is improved, and if the method for manufacturing a multilayer printed wiring board of the present invention is applied, the productivity is greatly improved. To do.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明を適用した多層プリント配線板の製造方
法により製造される多層プリント配線板の要部の断面を
示す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing a cross section of a main part of a multilayer printed wiring board manufactured by a method for manufacturing a multilayer printed wiring board to which the present invention is applied.

【図2】本発明を適用した多層プリント配線板の製造方
法を工程順に示すものであり、積層基板に2層め,5層
めの導体層を形成する工程を模式的に示す要部拡大断面
図である。
FIG. 2 shows a method of manufacturing a multilayer printed wiring board to which the present invention is applied in the order of steps, and is an enlarged cross-sectional view of an essential part schematically showing the step of forming second and fifth conductor layers on a laminated substrate. It is a figure.

【図3】本発明を適用した多層プリント配線板の製造方
法を工程順に示すものであり、2層め,5層めの導体層
上に絶縁層を形成する工程を模式的に示す要部拡大断面
図である。
FIG. 3 is a view showing a method of manufacturing a multilayer printed wiring board to which the present invention is applied in order of steps, schematically showing a step of forming an insulating layer on a second conductor layer and a fifth conductor layer. FIG.

【図4】本発明を適用した多層プリント配線板の製造方
法を工程順に示すものであり、絶縁層にブラインド孔を
形成する工程を模式的に示す要部拡大断面図である。
FIG. 4 is a fragmentary enlarged cross-sectional view showing a method of manufacturing a multilayer printed wiring board to which the present invention is applied, in the order of steps, and schematically showing a step of forming blind holes in an insulating layer.

【図5】本発明を適用した多層プリント配線板の製造方
法を工程順に示すものであり、絶縁層上に第1のメッキ
膜を形成する工程を模式的に示す要部拡大断面図であ
る。
FIG. 5 is a fragmentary enlarged cross-sectional view showing a method of manufacturing a multilayer printed wiring board to which the present invention is applied, in order of steps, and schematically showing a step of forming a first plating film on an insulating layer.

【図6】本発明を適用した多層プリント配線板の製造方
法を工程順に示すものであり、スルーホール孔を形成す
る工程を模式的に示す要部拡大断面図である。
FIG. 6 is a fragmentary enlarged cross-sectional view showing a method of manufacturing a multilayer printed wiring board to which the present invention is applied, in the order of steps, and schematically showing a step of forming a through hole.

【図7】本発明を適用した多層プリント配線板の製造方
法を工程順に示すものであり、第1のメッキ膜上に第2
のメッキ膜を形成し、1層め,6層めの導体層を形成す
る工程を模式的に示す要部拡大断面図である。
FIG. 7 shows a method for manufacturing a multilayer printed wiring board to which the present invention is applied in the order of steps, in which a second plating film is formed on a first plating film.
FIG. 6 is an enlarged cross-sectional view of a main part schematically showing a step of forming a plating film of, and forming a first conductor layer and a sixth conductor layer.

【図8】本発明を適用した多層プリント配線板の製造方
法を工程順に示すものであり、1層め,6層めの導体層
に所定の配線パターンを形成する工程を模式的に示す要
部拡大断面図である。
FIG. 8 shows a method of manufacturing a multilayer printed wiring board to which the present invention is applied in the order of steps, and is a main part schematically showing the step of forming a predetermined wiring pattern on the first conductor layer and the sixth conductor layer. It is an expanded sectional view.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

21 積層基板 22 2層めの導体層 23 5層めの導体層 24,25 絶縁層 27a,27b 第1のメッキ膜 28,29 スルーホール孔 30 第2のメッキ膜 31 1層めの導体層 32 6層めの導体層 21 Laminated Substrate 22 Second Conductor Layer 23 Fifth Conductor Layer 24,25 Insulating Layers 27a, 27b First Plating Film 28,29 Through Hole Hole 30 Second Plating Film 31 First Conductor Layer 32 6th conductor layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H05K 3/22 A 7511−4E 3/24 A 7511−4E 3/40 A 7511−4E ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Office reference number FI Technical display location H05K 3/22 A 7511-4E 3/24 A 7511-4E 3/40 A 7511-4E

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 第1の導体層上に絶縁層を形成し、上記
絶縁層上にメッキを行い第2の導体層を形成する多層プ
リント配線板の製造方法において、 絶縁層表面に1回目のメッキを行い、続いて2回目のメ
ッキを行って第2の導体層を形成することを特徴とする
多層プリント配線板の製造方法。
1. A method for manufacturing a multilayer printed wiring board, comprising: forming an insulating layer on a first conductor layer; plating the insulating layer to form a second conductor layer; A method for manufacturing a multilayer printed wiring board, which comprises performing plating and then performing a second plating to form a second conductor layer.
【請求項2】 1回目のメッキを行った後に、上記メッ
キ膜側から第1の導体層側に貫通孔を形成し、続いて2
回目のメッキを行うことを特徴とする請求項1記載の多
層プリント配線板の製造方法。
2. After performing the first plating, a through hole is formed from the plating film side to the first conductor layer side, and then 2
The method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein plating is performed a second time.
【請求項3】 1回目のメッキを行った後、上記メッキ
膜表面を機械研磨し、続いて2回目のメッキを行うこと
を特徴とする請求項1記載の多層プリント配線板の製造
方法。
3. The method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein after the first plating, the surface of the plated film is mechanically polished, and then the second plating is performed.
【請求項4】 絶縁層をカルボン酸付加アクリレート化
合物と反応性の遅いエポキシ化合物と反応性の速いエポ
キシ化合物よりなる組成物により形成することを特徴と
する請求項1記載の多層プリント配線板の製造方法。
4. The production of a multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein the insulating layer is formed of a composition comprising an epoxy compound having a slow reactivity with a carboxylic acid addition acrylate compound and an epoxy compound having a fast reactivity. Method.
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