JPH0881770A - 回転マグネトロン用シールカートリッジ - Google Patents
回転マグネトロン用シールカートリッジInfo
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- JPH0881770A JPH0881770A JP7217154A JP21715495A JPH0881770A JP H0881770 A JPH0881770 A JP H0881770A JP 7217154 A JP7217154 A JP 7217154A JP 21715495 A JP21715495 A JP 21715495A JP H0881770 A JPH0881770 A JP H0881770A
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3411—Constructional aspects of the reactor
- H01J37/3435—Target holders (includes backing plates and endblocks)
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/3407—Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3402—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering using supplementary magnetic fields
- H01J37/3405—Magnetron sputtering
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明の目的は、回転マグネトロンのシール
一体性を改善する保護形シール設計を提供することにあ
る。 【解決手段】 内部に一体化された真空シールを備えた
回転マグネトロンのシールカートリッジが、回転マグネ
トロンの支持組立体のシールハウジングと該ハウジング
内に支持されたスピンドルとの間にシールを形成する。
シールカートリッジはマグネトロン支持組立体に対して
軸線方向に移動でき、これにより、マグネトロン支持組
立体からのシールカートリッジの効率的な取外し及び交
換が可能になる。カートリッジのこのような取外し及び
交換により、一体真空シールの取外し及び交換が自動的
に行なわれるため、真空シールの取扱いすなわち再組立
てが不要になる。本発明のシールカートリッジは、回転
マグネトロンのシール一体性を改善する保護形シール設
計を提供する。
一体性を改善する保護形シール設計を提供することにあ
る。 【解決手段】 内部に一体化された真空シールを備えた
回転マグネトロンのシールカートリッジが、回転マグネ
トロンの支持組立体のシールハウジングと該ハウジング
内に支持されたスピンドルとの間にシールを形成する。
シールカートリッジはマグネトロン支持組立体に対して
軸線方向に移動でき、これにより、マグネトロン支持組
立体からのシールカートリッジの効率的な取外し及び交
換が可能になる。カートリッジのこのような取外し及び
交換により、一体真空シールの取外し及び交換が自動的
に行なわれるため、真空シールの取扱いすなわち再組立
てが不要になる。本発明のシールカートリッジは、回転
マグネトロンのシール一体性を改善する保護形シール設
計を提供する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、広くは、基板製品
をスパッタリングによりコーティングするマグネトロン
装置に関し、より詳しくは、マグネトロン装置に使用さ
れるシールに関する。特に本発明は、回転マグネトロン
装置に使用するシールカートリッジ及び該シールカート
リッジを使用する方法に関する。
をスパッタリングによりコーティングするマグネトロン
装置に関し、より詳しくは、マグネトロン装置に使用さ
れるシールに関する。特に本発明は、回転マグネトロン
装置に使用するシールカートリッジ及び該シールカート
リッジを使用する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】建築用ガラス、自動車用ウインドシール
ド等の大面積基板のコーティングは、平面マグネトロン
を使用するスパッタリング方法により行なわれている。
このようなコーティングとして、商業ビルディングの窓
に広く使用されている多層太陽光制御コーティングがあ
る。コーティングすべきガラス面積が大きいため、コー
ティング機械は非常に大形である。最近では、このよう
なコーティングを行なうための回転マグネトロン装置が
開発されており、平面マグネトロンに内在する既知の幾
つかの問題を解決している。回転マグネトロンは、Ａｌ
ｅｘ Ｂｏｏｚｅｎｎｙ及びＪｏｓｅｆ Ｔ．Ｈｏｏｇ
の１９９２年３月１７日付米国特許第５，０９６，５６
２号に開示されており、該米国特許の全記載は本願に援
用する。一般に、回転可能なマグネトロンすなわち回転
マグネトロンの作動は、適当な流体冷却を行いながら、
高真空の実質的に円筒状のスパッタリングターゲットを
静止磁気アレーの回りで回転させることを含んでいる。
かくして、回転マグネトロンは、一般に、回転駆動機構
と、磁気アレーの回りでターゲットを回転可能にするベ
アリングと、導電体及び冷却導管とを必要とする。
ド等の大面積基板のコーティングは、平面マグネトロン
を使用するスパッタリング方法により行なわれている。
このようなコーティングとして、商業ビルディングの窓
に広く使用されている多層太陽光制御コーティングがあ
る。コーティングすべきガラス面積が大きいため、コー
ティング機械は非常に大形である。最近では、このよう
なコーティングを行なうための回転マグネトロン装置が
開発されており、平面マグネトロンに内在する既知の幾
つかの問題を解決している。回転マグネトロンは、Ａｌ
ｅｘ Ｂｏｏｚｅｎｎｙ及びＪｏｓｅｆ Ｔ．Ｈｏｏｇ
の１９９２年３月１７日付米国特許第５，０９６，５６
２号に開示されており、該米国特許の全記載は本願に援
用する。一般に、回転可能なマグネトロンすなわち回転
マグネトロンの作動は、適当な流体冷却を行いながら、
高真空の実質的に円筒状のスパッタリングターゲットを
静止磁気アレーの回りで回転させることを含んでいる。
かくして、回転マグネトロンは、一般に、回転駆動機構
と、磁気アレーの回りでターゲットを回転可能にするベ
アリングと、導電体及び冷却導管とを必要とする。
【０００３】このような回転駆動機構及び導管は周囲の
環境から真空チャンバ内に延入しているので、回転マグ
ネトロンは更に、回転駆動機構及び導電体及び冷却導管
の回りに真空シールを使用する必要がある。この目的の
ために真空シール及び回転水シールが使用されており、
このようなシールは、高温及び高機械的負荷の条件下で
漏洩が生じ易い傾向を有する。従来の回転マグネトロン
では、このようなシール及びベアリングはシールハウジ
ングと回転可能なターゲットスピンドルとの間に直接配
置され、ダイナミックシールを形成している。かくし
て、シールハウジングの内面及びスピンドルの外面は、
ダイナミックシールのシール面すなわち磨耗面からな
る。従って、従来の回転マグネトロンのシール構成は、
シールハウジング及びスピンドルを大きな磨耗に曝し、
かくして磨耗したシールハウジング及びスピンドルの時
間を要し且つコスト高の取外し及び交換を必要とする。
更に従来の回転マグネトロンでは、ターゲット構造の取
外し及び交換に、厳格な真空シールの取外し、取扱い及
び交換作業を必要とする。このような取扱いはシールを
水分及び汚染物質に曝すと同時に、シールの交換は不適
切な再組立ての機会をもたらす。かくして、これらの回
転マグネトロンの再組立ては、シールの一体性及び有効
スパッタリングを行なう上での厳格な特徴に問題を引き
起こす。
環境から真空チャンバ内に延入しているので、回転マグ
ネトロンは更に、回転駆動機構及び導電体及び冷却導管
の回りに真空シールを使用する必要がある。この目的の
ために真空シール及び回転水シールが使用されており、
このようなシールは、高温及び高機械的負荷の条件下で
漏洩が生じ易い傾向を有する。従来の回転マグネトロン
では、このようなシール及びベアリングはシールハウジ
ングと回転可能なターゲットスピンドルとの間に直接配
置され、ダイナミックシールを形成している。かくし
て、シールハウジングの内面及びスピンドルの外面は、
ダイナミックシールのシール面すなわち磨耗面からな
る。従って、従来の回転マグネトロンのシール構成は、
シールハウジング及びスピンドルを大きな磨耗に曝し、
かくして磨耗したシールハウジング及びスピンドルの時
間を要し且つコスト高の取外し及び交換を必要とする。
更に従来の回転マグネトロンでは、ターゲット構造の取
外し及び交換に、厳格な真空シールの取外し、取扱い及
び交換作業を必要とする。このような取扱いはシールを
水分及び汚染物質に曝すと同時に、シールの交換は不適
切な再組立ての機会をもたらす。かくして、これらの回
転マグネトロンの再組立ては、シールの一体性及び有効
スパッタリングを行なう上での厳格な特徴に問題を引き
起こす。
【０００４】また、これらのターゲット構造の取外し及
び交換は複雑であり且つ数時間を要する。このような非
効率的な取外し及び交換作業は、最適生産量に対する労
働コスト及び生産コストを無視できないものとする。ま
た、このような長時間に及ぶ取外し及び交換の間、コー
ティングチャンバは周囲の環境、従って水分及び汚染物
質に曝され、このような露出は、製品の品質及び生産量
に悪影響を与える。従って、これらの回転マグネトロン
の再組立てに際しては、不必要な生産コストが課せら
れ、多大な製造時間が失われ、且つ製品の品質が損なわ
れる。
び交換は複雑であり且つ数時間を要する。このような非
効率的な取外し及び交換作業は、最適生産量に対する労
働コスト及び生産コストを無視できないものとする。ま
た、このような長時間に及ぶ取外し及び交換の間、コー
ティングチャンバは周囲の環境、従って水分及び汚染物
質に曝され、このような露出は、製品の品質及び生産量
に悪影響を与える。従って、これらの回転マグネトロン
の再組立てに際しては、不必要な生産コストが課せら
れ、多大な製造時間が失われ、且つ製品の品質が損なわ
れる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従って本発明の目的
は、回転マグネトロンのシール一体性を改善する保護形
シール設計を提供することにある。本発明の他の目的
は、回転マグネトロンに使用するための、シール及びシ
ール面を備えたシールカートリッジを提供することにあ
る。本発明の更に他の目的は、回転マグネトロンのシー
ル及びシール面の効率的な取外し及び交換が行なえるシ
ールカートリッジを提供することにある。更に、本発明
の目的は、回転マグネトロンのシール及びシール面の効
率的な取外し及び交換を行なう方法を提供することにあ
る。
は、回転マグネトロンのシール一体性を改善する保護形
シール設計を提供することにある。本発明の他の目的
は、回転マグネトロンに使用するための、シール及びシ
ール面を備えたシールカートリッジを提供することにあ
る。本発明の更に他の目的は、回転マグネトロンのシー
ル及びシール面の効率的な取外し及び交換が行なえるシ
ールカートリッジを提供することにある。更に、本発明
の目的は、回転マグネトロンのシール及びシール面の効
率的な取外し及び交換を行なう方法を提供することにあ
る。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、真空チャンバ
と周囲の環境との間に保護形真空シールを形成する予組
立て形一体シールカートリッジを設けることにより回転
マグネトロンを改善する。より詳しくは、シールカート
リッジは、回転マグネトロンのシールハウジング及び回
転可能なターゲットスピンドルに対してダイナミック
（動的）ではなくスタティック（静的）な真空シールを
形成するように設計されている。シールカートリッジは
また、該シールカートリッジの内面に関してダイナミッ
クな内部真空シールを収容するように設計されている。
このようにして、シールカートリッジは、保護形ダイナ
ミックシールの磨耗面を収容すると同時に、シールハウ
ジングと回転可能なターゲットスピンドルとの間にスタ
ティックシールを形成する。従って、本発明の一体形シ
ールカートリッジは、概略的に、シールハウジングと接
触する外側シェルと、回転マグネトロン装置の回転可能
なターゲットスピンドルと接触する内側シェルとを有し
ている。コーティングを行なうに際し、外側シェル及び
内側シェルは、それぞれシールハウジング及びターゲッ
トスピンドルに対して回転しないように固定される。一
体形シールカートリッジは更に、内側シェルと外側シェ
ルとの間の環状空間（該環状空間内に真空シール及びベ
アリングが収容される）を有する。シールカートリッジ
はその内部に真空シールを支持しているので、シールカ
ートリッジシェルの内面は、シールハウジング及びター
ゲットスピンドルの表面ではなく真空シールの磨耗面を
有する。かくして、本発明の一体形シールカートリッジ
は、シールハウジング及びターゲットスピンドルを磨耗
から保護し且つ回転マグネトロンの寿命を延長する。
と周囲の環境との間に保護形真空シールを形成する予組
立て形一体シールカートリッジを設けることにより回転
マグネトロンを改善する。より詳しくは、シールカート
リッジは、回転マグネトロンのシールハウジング及び回
転可能なターゲットスピンドルに対してダイナミック
（動的）ではなくスタティック（静的）な真空シールを
形成するように設計されている。シールカートリッジは
また、該シールカートリッジの内面に関してダイナミッ
クな内部真空シールを収容するように設計されている。
このようにして、シールカートリッジは、保護形ダイナ
ミックシールの磨耗面を収容すると同時に、シールハウ
ジングと回転可能なターゲットスピンドルとの間にスタ
ティックシールを形成する。従って、本発明の一体形シ
ールカートリッジは、概略的に、シールハウジングと接
触する外側シェルと、回転マグネトロン装置の回転可能
なターゲットスピンドルと接触する内側シェルとを有し
ている。コーティングを行なうに際し、外側シェル及び
内側シェルは、それぞれシールハウジング及びターゲッ
トスピンドルに対して回転しないように固定される。一
体形シールカートリッジは更に、内側シェルと外側シェ
ルとの間の環状空間（該環状空間内に真空シール及びベ
アリングが収容される）を有する。シールカートリッジ
はその内部に真空シールを支持しているので、シールカ
ートリッジシェルの内面は、シールハウジング及びター
ゲットスピンドルの表面ではなく真空シールの磨耗面を
有する。かくして、本発明の一体形シールカートリッジ
は、シールハウジング及びターゲットスピンドルを磨耗
から保護し且つ回転マグネトロンの寿命を延長する。
【０００７】回転マグネトロンの高価な構成要素を保護
することに加え、一体形シールカートリッジは、水分及
び汚染物質から内部シールを保護し且つこれらの真空シ
ールの個々の組立ての必要性をなくする。かくして、シ
ールカートリッジは、回転マグネトロンのシール一体性
を改善する保護形シール設計を提供する。本発明におい
ては、シールカートリッジは更に、回転マグネトロンの
シールハウジングに対して軸線方向に移動できるように
設計されている。かくして、内部真空シールすなわちシ
ールカートリッジの内部磨耗面が使用により磨耗する
と、シールカートリッジはシールハウジングから簡単に
取り外され、新しい内部真空シール及びシール面を備え
た新しい予組立て形シールカートリッジと交換される。
このように、シールカートリッジは、回転マグネトロン
の真空シール及びシール面の効率的な取外し及び交換を
可能にする。より詳しくは、本発明のシールカートリッ
ジは回転マグネトロンのシールの迅速な取外し及び交換
を可能にし、この作業を行なうのに要する時間を、既存
の回転マグネトロンの場合の数時間から本発明の改善さ
れた回転マグネトロンでは約５分以下に短縮できる。簡
単にいえば、本発明のシールカートリッジは、内側及び
外側シール面、シール、シール潤滑剤及びシールベアリ
ングが収容された予組立て形シールユニットを構成す
る。予組立て形ユニットは、ターゲットスピンドルを配
置するためのシールハウジング内に簡単に配置できる。
かくして、不適切な組立てを受けるシールが露出される
ことはない。また、予組立て形ユニットは予めシールさ
れているので、ターゲットチューブの交換又は定期点検
時に組立体領域を入念に浄化した状態に保つ必要はな
い。シールカートリッジが消耗したとき、スピンドルは
シールカートリッジの内部から簡単に引き出され且つシ
ールカートリッジも同様にシールハウジングから簡単に
引き出されて、新しい予組立て形シールカートリッジユ
ニットに交換される。
することに加え、一体形シールカートリッジは、水分及
び汚染物質から内部シールを保護し且つこれらの真空シ
ールの個々の組立ての必要性をなくする。かくして、シ
ールカートリッジは、回転マグネトロンのシール一体性
を改善する保護形シール設計を提供する。本発明におい
ては、シールカートリッジは更に、回転マグネトロンの
シールハウジングに対して軸線方向に移動できるように
設計されている。かくして、内部真空シールすなわちシ
ールカートリッジの内部磨耗面が使用により磨耗する
と、シールカートリッジはシールハウジングから簡単に
取り外され、新しい内部真空シール及びシール面を備え
た新しい予組立て形シールカートリッジと交換される。
このように、シールカートリッジは、回転マグネトロン
の真空シール及びシール面の効率的な取外し及び交換を
可能にする。より詳しくは、本発明のシールカートリッ
ジは回転マグネトロンのシールの迅速な取外し及び交換
を可能にし、この作業を行なうのに要する時間を、既存
の回転マグネトロンの場合の数時間から本発明の改善さ
れた回転マグネトロンでは約５分以下に短縮できる。簡
単にいえば、本発明のシールカートリッジは、内側及び
外側シール面、シール、シール潤滑剤及びシールベアリ
ングが収容された予組立て形シールユニットを構成す
る。予組立て形ユニットは、ターゲットスピンドルを配
置するためのシールハウジング内に簡単に配置できる。
かくして、不適切な組立てを受けるシールが露出される
ことはない。また、予組立て形ユニットは予めシールさ
れているので、ターゲットチューブの交換又は定期点検
時に組立体領域を入念に浄化した状態に保つ必要はな
い。シールカートリッジが消耗したとき、スピンドルは
シールカートリッジの内部から簡単に引き出され且つシ
ールカートリッジも同様にシールハウジングから簡単に
引き出されて、新しい予組立て形シールカートリッジユ
ニットに交換される。
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明の他の目的、長所及び特徴
は、添付図面に関連して述べる好ましい実施例について
の以下の詳細な説明から明らかになるであろう。本発明
のシールカートリッジは、主として図１に示すような回
転マグネトロン装置に使用される。好ましくは、このシ
ールカートリッジは、本願と同時に出願されたＪｏｈｎ
Ｈ．Ｂｏｗｅｒの発明に係る「交換可能なターゲット
構造を備えた回転マグネトロン（Ｒｏｔａｔａｂｌｅ
Ｍａｇｎｅｔｒｏｎ Ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ ａ Ｒｅｐ
ｌａｃｅａｂｌｅ Ｔａｒｇｅｔ Ｓｔｒｕｃｔｕｒ
ｅ）」という名称の米国特許出願第０８／２９６，２３
７号に記載された回転マグネトロンに使用する。尚、該
米国特許出願の全記載は本願に援用する。ここで、シー
ルカートリッジを備えた回転マグネトロン装置を図１に
関連して説明する。より詳しくは、図示の装置は、端部
１０と、反対側の端部１２と、これらの両端部１０、１
２の間に配置される円筒状ターゲット１４とを有してい
る。円筒状ターゲット１４は、第１ターゲット端部１４
ａ及び第２ターゲット端部１４ｂ（これらの間のターゲ
ット長さＬを定める）を有する。一般に、円筒状ターゲ
ット１４は回転マグネトロンの両端部１０、１２に対し
て非常に長いため、便宜上省略図で示されている。
は、添付図面に関連して述べる好ましい実施例について
の以下の詳細な説明から明らかになるであろう。本発明
のシールカートリッジは、主として図１に示すような回
転マグネトロン装置に使用される。好ましくは、このシ
ールカートリッジは、本願と同時に出願されたＪｏｈｎ
Ｈ．Ｂｏｗｅｒの発明に係る「交換可能なターゲット
構造を備えた回転マグネトロン（Ｒｏｔａｔａｂｌｅ
Ｍａｇｎｅｔｒｏｎ Ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ ａ Ｒｅｐ
ｌａｃｅａｂｌｅ Ｔａｒｇｅｔ Ｓｔｒｕｃｔｕｒ
ｅ）」という名称の米国特許出願第０８／２９６，２３
７号に記載された回転マグネトロンに使用する。尚、該
米国特許出願の全記載は本願に援用する。ここで、シー
ルカートリッジを備えた回転マグネトロン装置を図１に
関連して説明する。より詳しくは、図示の装置は、端部
１０と、反対側の端部１２と、これらの両端部１０、１
２の間に配置される円筒状ターゲット１４とを有してい
る。円筒状ターゲット１４は、第１ターゲット端部１４
ａ及び第２ターゲット端部１４ｂ（これらの間のターゲ
ット長さＬを定める）を有する。一般に、円筒状ターゲ
ット１４は回転マグネトロンの両端部１０、１２に対し
て非常に長いため、便宜上省略図で示されている。
【０００９】円筒状ターゲット１４の外表面には、スパ
ッタリングターゲット表面３４が形成されている。コー
ティング中、円筒状ターゲット１４は長手方向中心軸線
３８の回りで回転し、これによりターゲット表面３４は
磁気スパッタリングゾーンを通って回転される。この磁
気スパッタリングゾーンは、ターゲット１４内に配置さ
れる磁気アレー５６により創出される。磁気アレー５６
は、概略的に、磁石支持構造４０により支持され、磁石
支持構造４０は、軸線方向に移動可能な固定構造４２を
介して支持構造２２、２４（下）に対して回転できない
ように固定できる。図１に示すように、回転マグネトロ
ンは更に、円筒状ターゲット１４を支持し且つ回転させ
る第１及び第２スピンドル３０、３２を有している。よ
り詳しくは、第１及び第２スピンドル３０、３２は、円
筒状ターゲット１４の第１及び第２端部１４ａ、１４ｂ
とそれぞれ係合できる構造３０ａ、３２ａを有する。更
に図１に示すように、第１及び第２スピンドル３０、３
２は第１及び第２支持構造２２、２４により支持され
る。好ましくは第１及び第２スピンドル３０、３２は第
１及び第２支持構造２２、２４に対して軸線方向に移動
でき、これにより、第１及び第２スピンドルが第１及び
第２支持構造２２、２４内で容易に後退し、通常のター
ゲットチューブの交換の間、それぞれターゲット端部１
４ａ、１４ｂから離脱する。ターゲット１４のこのよう
な取外し及び第１及び第２支持構造２２、２４に対する
スピンドル３０、３２の軸線方向移動は、本願に援用す
るＪｏｈｎ Ｈ．Ｂｏｗｅｒの上記米国特許出願第０８
／２９６，２３７号に記載されている。例えば、第１及
び第２スピンドルの軸線方向移動は、スピンドル位置決
め構造５８、６０により行なわれ、該スピンドル位置決
め構造５８、６０も第１及び第２支持構造２２、２４に
対して軸線方向に移動できる。ターゲットチューブ１４
がひとたびマグネトロン装置から取り外されると、軸線
方向に移動可能なこれらのスピンドル３０、３２を伸長
させてそれぞれ第１及び第２支持構造２２、２４から取
り外すことができ、これにより、シールカートリッジ８
０、８２の交換時に、該シールカートリッジ８０、８２
も同様に取り外すことができる。
ッタリングターゲット表面３４が形成されている。コー
ティング中、円筒状ターゲット１４は長手方向中心軸線
３８の回りで回転し、これによりターゲット表面３４は
磁気スパッタリングゾーンを通って回転される。この磁
気スパッタリングゾーンは、ターゲット１４内に配置さ
れる磁気アレー５６により創出される。磁気アレー５６
は、概略的に、磁石支持構造４０により支持され、磁石
支持構造４０は、軸線方向に移動可能な固定構造４２を
介して支持構造２２、２４（下）に対して回転できない
ように固定できる。図１に示すように、回転マグネトロ
ンは更に、円筒状ターゲット１４を支持し且つ回転させ
る第１及び第２スピンドル３０、３２を有している。よ
り詳しくは、第１及び第２スピンドル３０、３２は、円
筒状ターゲット１４の第１及び第２端部１４ａ、１４ｂ
とそれぞれ係合できる構造３０ａ、３２ａを有する。更
に図１に示すように、第１及び第２スピンドル３０、３
２は第１及び第２支持構造２２、２４により支持され
る。好ましくは第１及び第２スピンドル３０、３２は第
１及び第２支持構造２２、２４に対して軸線方向に移動
でき、これにより、第１及び第２スピンドルが第１及び
第２支持構造２２、２４内で容易に後退し、通常のター
ゲットチューブの交換の間、それぞれターゲット端部１
４ａ、１４ｂから離脱する。ターゲット１４のこのよう
な取外し及び第１及び第２支持構造２２、２４に対する
スピンドル３０、３２の軸線方向移動は、本願に援用す
るＪｏｈｎ Ｈ．Ｂｏｗｅｒの上記米国特許出願第０８
／２９６，２３７号に記載されている。例えば、第１及
び第２スピンドルの軸線方向移動は、スピンドル位置決
め構造５８、６０により行なわれ、該スピンドル位置決
め構造５８、６０も第１及び第２支持構造２２、２４に
対して軸線方向に移動できる。ターゲットチューブ１４
がひとたびマグネトロン装置から取り外されると、軸線
方向に移動可能なこれらのスピンドル３０、３２を伸長
させてそれぞれ第１及び第２支持構造２２、２４から取
り外すことができ、これにより、シールカートリッジ８
０、８２の交換時に、該シールカートリッジ８０、８２
も同様に取り外すことができる。
【００１０】第１スピンドル３０を支持することに加
え、第１支持構造２２は、全体として、回転マグネトロ
ンの端部１０において、ターゲット構造１４に冷却流体
を供給し及びターゲット構造１４から冷却流体を排出す
るための導管（図示せず）を構成する。かくして、端部
１０において、スピンドル位置決め構造５８は実質的に
その全長に亘って中空で、冷却流体が通り得るようにな
っている。反対側の端部１２では、第２支持構造２４
は、全体として、駆動源（図示せず）、プーリ８４及び
プーリベアリング（図示せず）を備えたターゲット構造
１４を回転させる動力装置を構成している。更に第２支
持構造２４は、全体として、導電体（図示せず）及び電
気的接触装置８８を含むターゲット構造１４のスパッタ
リング表面３４を電気的に付勢する電気装置を構成して
いる。通常、回転マグネトロンのこの反対側の端部１２
には冷却流体が供給されないので、スピンドル位置決め
構造６０を、その実質的に全長に亘って中空にする必要
はない。それどころか、その端部６０ａを中実に形成し
て、スラストベアリング６１に隣接して配置することが
できる。かくして、スピンドル位置決め構造６０の中空
部分を通って流れる冷却流体は、図４の矢印Ａで示すよ
うに、孔６０ｂ、６０ｃから流出して、スピンドル位置
決め構造６０の外面と第２スピンドル３２の内面との間
のチャンネル内に流入する。
え、第１支持構造２２は、全体として、回転マグネトロ
ンの端部１０において、ターゲット構造１４に冷却流体
を供給し及びターゲット構造１４から冷却流体を排出す
るための導管（図示せず）を構成する。かくして、端部
１０において、スピンドル位置決め構造５８は実質的に
その全長に亘って中空で、冷却流体が通り得るようにな
っている。反対側の端部１２では、第２支持構造２４
は、全体として、駆動源（図示せず）、プーリ８４及び
プーリベアリング（図示せず）を備えたターゲット構造
１４を回転させる動力装置を構成している。更に第２支
持構造２４は、全体として、導電体（図示せず）及び電
気的接触装置８８を含むターゲット構造１４のスパッタ
リング表面３４を電気的に付勢する電気装置を構成して
いる。通常、回転マグネトロンのこの反対側の端部１２
には冷却流体が供給されないので、スピンドル位置決め
構造６０を、その実質的に全長に亘って中空にする必要
はない。それどころか、その端部６０ａを中実に形成し
て、スラストベアリング６１に隣接して配置することが
できる。かくして、スピンドル位置決め構造６０の中空
部分を通って流れる冷却流体は、図４の矢印Ａで示すよ
うに、孔６０ｂ、６０ｃから流出して、スピンドル位置
決め構造６０の外面と第２スピンドル３２の内面との間
のチャンネル内に流入する。
【００１１】以上、第１及び第２支持構造２２、２４の
それぞれに関連して冷却導管、回転駆動装置及び電気的
付勢装置を説明したが、これらの導管及び装置は支持構
造２２、２４のいずれか一方に設ければよいことは理解
されよう。回転マグネトロンの上記軸線方向に移動可能
な構成要素は、第１及び第２支持構造２２、２４により
構成されるこのような導管又は装置の如何に係わらず軸
線方向に移動できることが好ましい。冷却導管、回転駆
動装置及び付勢装置を設けることは、Ｊｏｈｎ Ｈ．Ｂ
ｏｗｅｒの上記米国特許出願第０８／２９６，２３７号
及び本願に援用する米国特許第５，０９６，５６２号に
開示されている。前述のように、周囲の環境から真空チ
ャンバへと延びるこのような導管及び装置を設けること
は、流体シール及び圧力シールを設けることを必要とす
る。かくして、このような導管及び装置を設けることに
加え、第１及び第２支持構造２２、２４は、それぞれシ
ール支持面７６、７８を構成する。これらの支持面７
６、７８、それぞれシールカートリッジ８０、８２の外
面を包囲する。図１に概略的に示すように、支持面７
６、７８と、シールカートリッジ８０、８２の外面との
間には、それぞれグランドシール（一般にはＯリングシ
ール）９０、９２を設け、これらの間からの流体又は圧
力の漏洩及びこれらの間への汚染物質の導入の防止を図
ることができる。これらのスタティックシール９０、９
２は、支持面７６、７８に隣接する溝内に嵌入されてい
て、損傷を受けたり不意に脱落することがないようにな
っている。同様に、図１に概略的に示すように、スタテ
ィックグランドシール９４、９６が、回転するターゲッ
トスピンドル３０、３２の表面に隣接する溝内に保護さ
れるようにして嵌入されていて、これらの表面と、シー
ルカートリッジ８０、８２の内面との間からの漏洩及び
これらの間への汚染物質の導入を更に防止している。
それぞれに関連して冷却導管、回転駆動装置及び電気的
付勢装置を説明したが、これらの導管及び装置は支持構
造２２、２４のいずれか一方に設ければよいことは理解
されよう。回転マグネトロンの上記軸線方向に移動可能
な構成要素は、第１及び第２支持構造２２、２４により
構成されるこのような導管又は装置の如何に係わらず軸
線方向に移動できることが好ましい。冷却導管、回転駆
動装置及び付勢装置を設けることは、Ｊｏｈｎ Ｈ．Ｂ
ｏｗｅｒの上記米国特許出願第０８／２９６，２３７号
及び本願に援用する米国特許第５，０９６，５６２号に
開示されている。前述のように、周囲の環境から真空チ
ャンバへと延びるこのような導管及び装置を設けること
は、流体シール及び圧力シールを設けることを必要とす
る。かくして、このような導管及び装置を設けることに
加え、第１及び第２支持構造２２、２４は、それぞれシ
ール支持面７６、７８を構成する。これらの支持面７
６、７８、それぞれシールカートリッジ８０、８２の外
面を包囲する。図１に概略的に示すように、支持面７
６、７８と、シールカートリッジ８０、８２の外面との
間には、それぞれグランドシール（一般にはＯリングシ
ール）９０、９２を設け、これらの間からの流体又は圧
力の漏洩及びこれらの間への汚染物質の導入の防止を図
ることができる。これらのスタティックシール９０、９
２は、支持面７６、７８に隣接する溝内に嵌入されてい
て、損傷を受けたり不意に脱落することがないようにな
っている。同様に、図１に概略的に示すように、スタテ
ィックグランドシール９４、９６が、回転するターゲッ
トスピンドル３０、３２の表面に隣接する溝内に保護さ
れるようにして嵌入されていて、これらの表面と、シー
ルカートリッジ８０、８２の内面との間からの漏洩及び
これらの間への汚染物質の導入を更に防止している。
【００１２】ここで、図２及び図３に関連して、それぞ
れシールカートリッジ８０、８２を説明する。図２及び
図３には、回転マグネトロン装置とは独立してシールカ
ートリッジ８０、８２が示されている。図示のように、
シールカートリッジ８０、８２は、それぞれ、外側シェ
ル１００、１０２、内側シェル１０４、１０６、及びこ
れらの間の環状空間１０８、１１０を有している。これ
らの環状空間１０８、１１０内には、シール１１２、１
１４、シールスペーサ１１６、１１８及びベアリング１
２０、１２２が配置されている。これらの内部構成要素
は、それぞれ、スラストワッシャ１２４、１２６及びリ
テーナワッシャ１２８、１３０によりこれらの環状空間
１０８、１１０内に保持されている。上記参照番号は、
図２及び図３に示す参照番号を付き内部構成要素の複製
物にも使用されることを理解されたい。例えば、充分な
シールを構成するには、シールカートリッジ８０、８２
は、種々の構成の多数の内部シールを必要とする。図１
及び図２に例示するように、冷却流体（上）を供給する
ことに関連する第１支持構造２２内では、シールカート
リッジ８０は、ベアリング１２０の両側に多数のシール
１１２を必要とする。反対側の端部１２で、図１の第２
支持構造２４（該支持構造内には一般に流体が存在しな
い）内では、図３のシールカートリッジ８２は、ベアリ
ング１２２を包囲するより少数のシール１１４でよい。
一般に、シール１１２、１１４の個数及び構成は、回転
マグネトロンの作動条件（すなわち、周囲の空気圧力、
流体圧力及びチャンバ圧力）に基づいて定められる。
れシールカートリッジ８０、８２を説明する。図２及び
図３には、回転マグネトロン装置とは独立してシールカ
ートリッジ８０、８２が示されている。図示のように、
シールカートリッジ８０、８２は、それぞれ、外側シェ
ル１００、１０２、内側シェル１０４、１０６、及びこ
れらの間の環状空間１０８、１１０を有している。これ
らの環状空間１０８、１１０内には、シール１１２、１
１４、シールスペーサ１１６、１１８及びベアリング１
２０、１２２が配置されている。これらの内部構成要素
は、それぞれ、スラストワッシャ１２４、１２６及びリ
テーナワッシャ１２８、１３０によりこれらの環状空間
１０８、１１０内に保持されている。上記参照番号は、
図２及び図３に示す参照番号を付き内部構成要素の複製
物にも使用されることを理解されたい。例えば、充分な
シールを構成するには、シールカートリッジ８０、８２
は、種々の構成の多数の内部シールを必要とする。図１
及び図２に例示するように、冷却流体（上）を供給する
ことに関連する第１支持構造２２内では、シールカート
リッジ８０は、ベアリング１２０の両側に多数のシール
１１２を必要とする。反対側の端部１２で、図１の第２
支持構造２４（該支持構造内には一般に流体が存在しな
い）内では、図３のシールカートリッジ８２は、ベアリ
ング１２２を包囲するより少数のシール１１４でよい。
一般に、シール１１２、１１４の個数及び構成は、回転
マグネトロンの作動条件（すなわち、周囲の空気圧力、
流体圧力及びチャンバ圧力）に基づいて定められる。
【００１３】図２及び図３に示すように、内部シール１
１２、１１４は、真空ガスが充填されたＵ形断面形状を
もつ弾性材料からなるリング状ロータリシールが好まし
い。また、ベアリング１２０、１２２は、これらに作用
する力を分散させることによりシールカートリッジ８
０、８２のシール面の磨耗を減少させるローラベアリン
グが好ましい。それぞれシールカートリッジ８０、８２
内のこのようなシール１１２、１１４とベアリング１２
０、１２２との組合せは、シールカートリッジ８０、８
２内でのターゲットスピンドル３０、３２の自由回転を
許容すると同時に、周囲の環境と真空チャンバとの間の
有効な遮断を与える。シールカートリッジ８０、８２内
でのターゲットスピンドル３０、３２のこの回転は、以
下に述べる組立て時のシールカートリッジの構成により
行なわれる。コーティングを行なう場合の回転マグネト
ロンの組立てに際し、シールカートリッジ８０、８２
は、それぞれ第１支持構造２２、２４内に配置される。
次に、外側シェル１００、１０２が、それぞれ、支持面
７６、７８に対して回転しないように固定される。図１
には、シールカートリッジ８０の外側シェル１００のフ
ランジ１００ａがボルト１３０により固定されていると
ころが例示されている。また、ボルト１３０は端シール
ド１３２を取り付け且つ支持面７６を形成するシールハ
ウジング１３６の回転を防止する機能も有している。回
転マグネトロン装置の反対側の端部１２でも、外側シェ
ル１０２の同様なフランジ１０２ａが、端シールド１３
４を取り付け且つ支持面７８を形成するシールハウジン
グ１３８の回転を防止するのに使用されるボルト（図示
せず）により同様に固定されている。
１２、１１４は、真空ガスが充填されたＵ形断面形状を
もつ弾性材料からなるリング状ロータリシールが好まし
い。また、ベアリング１２０、１２２は、これらに作用
する力を分散させることによりシールカートリッジ８
０、８２のシール面の磨耗を減少させるローラベアリン
グが好ましい。それぞれシールカートリッジ８０、８２
内のこのようなシール１１２、１１４とベアリング１２
０、１２２との組合せは、シールカートリッジ８０、８
２内でのターゲットスピンドル３０、３２の自由回転を
許容すると同時に、周囲の環境と真空チャンバとの間の
有効な遮断を与える。シールカートリッジ８０、８２内
でのターゲットスピンドル３０、３２のこの回転は、以
下に述べる組立て時のシールカートリッジの構成により
行なわれる。コーティングを行なう場合の回転マグネト
ロンの組立てに際し、シールカートリッジ８０、８２
は、それぞれ第１支持構造２２、２４内に配置される。
次に、外側シェル１００、１０２が、それぞれ、支持面
７６、７８に対して回転しないように固定される。図１
には、シールカートリッジ８０の外側シェル１００のフ
ランジ１００ａがボルト１３０により固定されていると
ころが例示されている。また、ボルト１３０は端シール
ド１３２を取り付け且つ支持面７６を形成するシールハ
ウジング１３６の回転を防止する機能も有している。回
転マグネトロン装置の反対側の端部１２でも、外側シェ
ル１０２の同様なフランジ１０２ａが、端シールド１３
４を取り付け且つ支持面７８を形成するシールハウジン
グ１３８の回転を防止するのに使用されるボルト（図示
せず）により同様に固定されている。
【００１４】また、回転マグネトロンの組立てに際し、
内側シェル１０４、１０６は、それぞれ、回転可能なタ
ーゲットスピンドル３０、３２に対して回転しないよう
に固定される。図２及び図３に例示するように、内側シ
ェル１０４、１０６は、それぞれ、スピンドル３０、３
２と係合するピン１４０、１４２を支持している。より
詳しくは、図１に示すように、ピン１４０、１４２はス
ピンドル３０、３２のキー溝１４４、１４６と嵌合し
て、スピンドル３０、３２に対して内側シェル１０４、
１０６が回転しないように固定する。かくして、ひとた
び回転マグネトロンが上記方法で組み立てられて作動さ
れると、それぞれ、外側シェル１００、１０２と支持面
７６、７８との間、及び内側シェル１０４、１０６とス
ピンドル３０、３２との間にスタティックシールが形成
される。このようなスタティックシールは、本願に開示
する嵌入形グランドシール（ｒｅｃｅｓｓｅｄ ｇｌａ
ｎｄ ｓｅａｌｓ）９０、９２、９４、９６により形成
することもできる。外側シェル１００、１０２がシール
ハウジング１３６、１３８及び内側シェル１０４、１０
６内で回転することなく静止状態に維持され且つ回転す
るターゲットスピンドル３０、３２と一緒に回転する
間、シールカートリッジ８０、８２の環状空間１０８、
１１０内の内部シール１１２、１１４及びベアリング１
２０、１２２により、これらの外側シェルと内側シェル
との間にダイナミックシールが形成される。このよう
に、シールカートリッジ８０、８２は、回転マグネトロ
ンの真空チャンバと周囲の環境との間に有効なシールを
形成すると同時に、これらのシールを汚染及び磨耗から
保護し且つシールハウジング１３６、１３８の支持面７
６、７８及びターゲットスピンドル３０、３２の外面を
保護する。また、軸線方向に移動可能なこれらのシール
カートリッジ８０、８２は、該シールカートリッジ内に
収容されているシール及びシール面の効率的取外し及び
交換を可能にする。より詳しくは、シールカートリッジ
８０、８２を回転マグネトロンに使用すると、これらの
シールカートリッジを取り外して、予組立て形新しいシ
ールカートリッジユニットに交換するのに要する時間
は、約５分以下である。
内側シェル１０４、１０６は、それぞれ、回転可能なタ
ーゲットスピンドル３０、３２に対して回転しないよう
に固定される。図２及び図３に例示するように、内側シ
ェル１０４、１０６は、それぞれ、スピンドル３０、３
２と係合するピン１４０、１４２を支持している。より
詳しくは、図１に示すように、ピン１４０、１４２はス
ピンドル３０、３２のキー溝１４４、１４６と嵌合し
て、スピンドル３０、３２に対して内側シェル１０４、
１０６が回転しないように固定する。かくして、ひとた
び回転マグネトロンが上記方法で組み立てられて作動さ
れると、それぞれ、外側シェル１００、１０２と支持面
７６、７８との間、及び内側シェル１０４、１０６とス
ピンドル３０、３２との間にスタティックシールが形成
される。このようなスタティックシールは、本願に開示
する嵌入形グランドシール（ｒｅｃｅｓｓｅｄ ｇｌａ
ｎｄ ｓｅａｌｓ）９０、９２、９４、９６により形成
することもできる。外側シェル１００、１０２がシール
ハウジング１３６、１３８及び内側シェル１０４、１０
６内で回転することなく静止状態に維持され且つ回転す
るターゲットスピンドル３０、３２と一緒に回転する
間、シールカートリッジ８０、８２の環状空間１０８、
１１０内の内部シール１１２、１１４及びベアリング１
２０、１２２により、これらの外側シェルと内側シェル
との間にダイナミックシールが形成される。このよう
に、シールカートリッジ８０、８２は、回転マグネトロ
ンの真空チャンバと周囲の環境との間に有効なシールを
形成すると同時に、これらのシールを汚染及び磨耗から
保護し且つシールハウジング１３６、１３８の支持面７
６、７８及びターゲットスピンドル３０、３２の外面を
保護する。また、軸線方向に移動可能なこれらのシール
カートリッジ８０、８２は、該シールカートリッジ内に
収容されているシール及びシール面の効率的取外し及び
交換を可能にする。より詳しくは、シールカートリッジ
８０、８２を回転マグネトロンに使用すると、これらの
シールカートリッジを取り外して、予組立て形新しいシ
ールカートリッジユニットに交換するのに要する時間
は、約５分以下である。
【００１５】以上、本発明を特定の好ましい実施例につ
いて説明したが、上記説明は単なる例示であって、特許
請求の範囲の記載により定められる本発明の範囲を制限
するものではない。
いて説明したが、上記説明は単なる例示であって、特許
請求の範囲の記載により定められる本発明の範囲を制限
するものではない。
【図１】シールカートリッジが設けられた本発明による
回転マグネトロンを示す縦断面図である。
回転マグネトロンを示す縦断面図である。
【図２】図１に示す回転マグネトロンの一端に使用する
本発明のカートリッジシールを示す縦断面図である。
本発明のカートリッジシールを示す縦断面図である。
【図３】図１に示す回転マグネトロンの他端に使用する
本発明のカートリッジシールを示す縦断面図である。
本発明のカートリッジシールを示す縦断面図である。
【符号の説明】 １０ マグネトロン装置の端部 １２ マグネトロン装置の反対側の端部 １４ 円筒状ターゲット ２２ 第１支持構造 ２４ 第２支持構造 ３０ 第１スピンドル ３２ 第２スピンドル ３４ スパッタリングターゲット表面 ３８ 長手方向軸線 ４０ 磁石支持構造 ５８ 第１スピンドル位置決め構造 ６０ 第２スピンドル位置決め構造 ７６ シール支持面 ７８ シール支持面 ８０ シールカートリッジ ８２ シールカートリッジ ９４ スタティックグランドシール ９６ スタティックグランドシール １００ 外側シェル １０２ 外側シェル １０４ 内側シェル １０６ 内側シェル １０８ 環状空間 １１０ 環状空間 １１２ シール １１４ シール １１６ シールスペーサ １１８ シールスペーサ １２０ ベアリング １２２ ベアリング １２４ スラストワッシャ １２６ スラストワッシャ １２８ リテーナワッシャ １３２ 端シールド １４０ ピン １４２ ピン １４４ キー溝 １４６ キー溝
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ヘンリー エイ ビオラム アメリカ合衆国 カリフォルニア州 94086 サニーヴェイル バーストウ コ ート 920 (72)発明者 ロナルド イー ランボー アメリカ合衆国 カリフォルニア州 95687 ヴァーカヴィル リアルトー ド ライヴ 600
Claims (10)
- 【請求項１】 第１及び第２ターゲット端部を備え且つ
長手方向軸線の回りで回転可能な円筒状ターゲットと、 内部にスピンドルを支持している少なくとも１つの支持
構造とを有し、該支持構造内には支持面が設けられ、 前記スピンドルは前記第１及び第２ターゲット端部のう
ちの一方のターゲット端部と係合でき且つその一部に沿
う環状外面を備え、 外側シェルと、内側シェルと、これらの両シェル間の環
状空間と、該環状空間内に配置されるベアリング及び少
なくとも１つの真空シールとを備えた一体形シールカー
トリッジを更に有し、前記外側シェルが前記支持構造の
支持面に隣接して配置され且つ該支持面に対して回転し
ないように固定され、前記内側シェルが前記スピンドル
の環状外面を包囲し且つ該環状外面に対して回転しない
ように固定されていることを特徴とする回転マグネトロ
ン装置。 - 【請求項２】 前記スピンドルが前記一体形シールカー
トリッジに対して軸線方向に移動可能で、前記一体形シ
ールカートリッジに対して充分外方に伸長したときに前
記一方のターゲット端部と係合し且つ前記カートリッジ
に対して充分外方に後退したときに前記一方のターゲッ
ト端部から離脱することを特徴とする請求項１に記載の
回転マグネトロン装置。 - 【請求項３】 前記一体形シールカートリッジが前記支
持構造に対して軸線方向に移動可能であることを特徴と
する請求項１又は２に記載の回転マグネトロン装置。 - 【請求項４】 前記前記スピンドル及び前記一体形シー
ルカートリッジは、前記支持構造に対して軸線方向に移
動可能で、該支持構造から取り外すことができることを
特徴とする請求項３に記載の回転マグネトロン装置。 - 【請求項５】 前記内側シェルが、前記スピンドルに対
する前記内側シェルの回転位置を固定すべく前記スピン
ドルと係合する手段を備えていることを特徴とする請求
項１に記載の回転マグネトロン装置。 - 【請求項６】 前記環状空間は、反対側の端部よりもタ
ーゲットチューブに近い方の一端を有し、少なくとも１
つの真空シールが環状空間の前記一端の方に配置され、
前記ベアリングが環状空間の反対側の端部の方に配置さ
れ、少なくとも１つの別の真空シールが前記ベアリング
と環状空間の前記反対側の端部との間に配置され、前記
一体形シールカートリッジが、前記支持面と環状外面と
の間の真空シールを形成していることを特徴とする請求
項１に記載の回転マグネトロン装置。 - 【請求項７】 前記ターゲットの内部に流体を供給し且
つ前記ターゲットの内部から流体を排出させるための、
前記支持構造内の手段を更に有し、前記シールカートリ
ッジが前記支持面と環状外面との間に流体シールを形成
することを特徴とする請求項６に記載の回転マグネトロ
ン装置。 - 【請求項８】 前記支持構造の支持面及び前記外側シェ
ルに隣接して前記支持構造内に配置された少なくとも１
つのシールを更に有することを特徴とする請求項３に記
載の回転マグネトロン装置。 - 【請求項９】 前記スピンドルの支持面及び前記内側シ
ェルに隣接して前記スピンドル内に配置された少なくと
も１つのシールを更に有することを特徴とする請求項３
に記載の回転マグネトロン装置。 - 【請求項１０】 （１）第１及び第２ターゲット端部を
備え且つ長手方向軸線の回りで回転可能な円筒状ターゲ
ットと、（２）内部にスピンドルを支持している少なく
とも１つの支持構造とを有し、該支持構造内には支持面
が設けられ、（３）前記スピンドルは前記第１及び第２
ターゲット端部のうちの一方のターゲット端部と係合で
き且つその一部に沿う環状外面を備え、（４）前記支持
面と環状外面との間にシールを形成するための、前記支
持構造内に配置される手段を更に有する形式のマグネト
ロンのシール手段を交換シール手段に取り換える方法に
おいて、 （ａ）支持構造に対して軸線方向に移動可能なシールカ
ートリッジ内にシール手段を設け、 （ｂ）支持構造からシールカートリッジを取り外し、 （ｃ）シールカートリッジを、交換シール手段が内部に
設けられた交換シールカートリッジに取り換えることを
特徴とする方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US08/296360 | 1994-08-25 | ||
| US08/296,360 US5518592A (en) | 1994-08-25 | 1994-08-25 | Seal cartridge for a rotatable magnetron |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0881770A true JPH0881770A (ja) | 1996-03-26 |
Family
ID=23141702
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7217154A Pending JPH0881770A (ja) | 1994-08-25 | 1995-08-25 | 回転マグネトロン用シールカートリッジ |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5518592A (ja) |
| EP (1) | EP0698909A3 (ja) |
| JP (1) | JPH0881770A (ja) |
| KR (1) | KR960007814A (ja) |
| CN (1) | CN1126771A (ja) |
| AU (1) | AU2717595A (ja) |
| CA (1) | CA2155286A1 (ja) |
| TW (1) | TW310346B (ja) |
| ZA (1) | ZA956556B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008510066A (ja) * | 2004-08-12 | 2008-04-03 | フォン アルデンヌ アンラジェンテクニック ゲーエムベーハー | 自浄式ターゲットを有する円筒状マグネトロン |
Families Citing this family (24)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5591314A (en) * | 1995-10-27 | 1997-01-07 | Morgan; Steven V. | Apparatus for affixing a rotating cylindrical magnetron target to a spindle |
| US6365010B1 (en) | 1998-11-06 | 2002-04-02 | Scivac | Sputtering apparatus and process for high rate coatings |
| DE19958666C2 (de) * | 1999-12-06 | 2003-10-30 | Heraeus Gmbh W C | Vorrichtung zur lösbaren Verbindung eines zylinderrohrförmigen Targetteiles mit einem Aufnahmeteil |
| US6375815B1 (en) * | 2001-02-17 | 2002-04-23 | David Mark Lynn | Cylindrical magnetron target and apparatus for affixing the target to a rotatable spindle assembly |
| US6736948B2 (en) | 2002-01-18 | 2004-05-18 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Cylindrical AC/DC magnetron with compliant drive system and improved electrical and thermal isolation |
| US20040129561A1 (en) * | 2003-01-07 | 2004-07-08 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Cylindrical magnetron magnetic array mid span support |
| US7014741B2 (en) * | 2003-02-21 | 2006-03-21 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Cylindrical magnetron with self cleaning target |
| JP4202889B2 (ja) * | 2003-10-29 | 2008-12-24 | 株式会社神戸製鋼所 | 薄膜形成方法及び装置 |
| US20050224343A1 (en) * | 2004-04-08 | 2005-10-13 | Richard Newcomb | Power coupling for high-power sputtering |
| US20060065524A1 (en) * | 2004-09-30 | 2006-03-30 | Richard Newcomb | Non-bonded rotatable targets for sputtering |
| US20060096855A1 (en) * | 2004-11-05 | 2006-05-11 | Richard Newcomb | Cathode arrangement for atomizing a rotatable target pipe |
| US20060278519A1 (en) * | 2005-06-10 | 2006-12-14 | Leszek Malaszewski | Adaptable fixation for cylindrical magnetrons |
| US20060278524A1 (en) * | 2005-06-14 | 2006-12-14 | Stowell Michael W | System and method for modulating power signals to control sputtering |
| US20060278521A1 (en) * | 2005-06-14 | 2006-12-14 | Stowell Michael W | System and method for controlling ion density and energy using modulated power signals |
| US20070095281A1 (en) * | 2005-11-01 | 2007-05-03 | Stowell Michael W | System and method for power function ramping of microwave liner discharge sources |
| US7842355B2 (en) * | 2005-11-01 | 2010-11-30 | Applied Materials, Inc. | System and method for modulation of power and power related functions of PECVD discharge sources to achieve new film properties |
| EP1840926B1 (de) * | 2006-03-29 | 2011-10-19 | Applied Materials GmbH & Co. KG | Isolierende Vakuumdrehdurchführung für Rotationsmagnetrons |
| EP2129945A1 (en) * | 2007-03-06 | 2009-12-09 | Advanced Vacuum Company, Inc. | Seal cartridge for vacuum pumps |
| DE102008033902B4 (de) * | 2008-07-18 | 2012-01-19 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Endblock für eine Magnetronanordnung mit einem rotierenden Target und Vakuumbeschichtungsanlage |
| US8264150B2 (en) * | 2009-07-17 | 2012-09-11 | Fusion Uv Systems, Inc. | Modular magnetron |
| JP5730888B2 (ja) | 2009-10-26 | 2015-06-10 | ジェネラル・プラズマ・インコーポレーテッド | ロータリーマグネトロンマグネットバー、およびこれを含む高いターゲット利用のための装置 |
| EP2626887A1 (en) | 2012-02-13 | 2013-08-14 | Soleras Advanced Coatings bvba | Online adjustable magnet bar |
| DE102014101582B4 (de) * | 2014-02-07 | 2017-10-26 | Von Ardenne Gmbh | Lagervorrichtung |
| CN110042351B (zh) * | 2019-03-06 | 2021-04-09 | 张迎春 | 一种用于旋转阴极的液密封结构及真空磁控溅射装置 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4446877A (en) * | 1981-10-05 | 1984-05-08 | Aikman Leslie N | Cigarette holder with filtering action |
| US4445997A (en) * | 1983-08-17 | 1984-05-01 | Shatterproof Glass Corporation | Rotatable sputtering apparatus |
| US5096562A (en) * | 1989-11-08 | 1992-03-17 | The Boc Group, Inc. | Rotating cylindrical magnetron structure for large area coating |
| US5200049A (en) * | 1990-08-10 | 1993-04-06 | Viratec Thin Films, Inc. | Cantilever mount for rotating cylindrical magnetrons |
| US5100527A (en) * | 1990-10-18 | 1992-03-31 | Viratec Thin Films, Inc. | Rotating magnetron incorporating a removable cathode |
-
1994
- 1994-08-25 US US08/296,360 patent/US5518592A/en not_active Expired - Fee Related
-
1995
- 1995-07-20 TW TW084107528A patent/TW310346B/zh active
- 1995-07-25 AU AU27175/95A patent/AU2717595A/en not_active Abandoned
- 1995-08-02 CA CA002155286A patent/CA2155286A1/en not_active Abandoned
- 1995-08-04 ZA ZA956556A patent/ZA956556B/xx unknown
- 1995-08-16 EP EP95305729A patent/EP0698909A3/en not_active Withdrawn
- 1995-08-24 KR KR1019950026774A patent/KR960007814A/ko not_active Application Discontinuation
- 1995-08-25 JP JP7217154A patent/JPH0881770A/ja active Pending
- 1995-08-25 CN CN95109395A patent/CN1126771A/zh active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008510066A (ja) * | 2004-08-12 | 2008-04-03 | フォン アルデンヌ アンラジェンテクニック ゲーエムベーハー | 自浄式ターゲットを有する円筒状マグネトロン |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
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| AU2717595A (en) | 1996-03-07 |
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