JPH0859545A - カルボキシエチルエーテル誘導体及びこれを含有する洗浄剤組成物 - Google Patents

カルボキシエチルエーテル誘導体及びこれを含有する洗浄剤組成物

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JPH0859545A
JPH0859545A JP19940294A JP19940294A JPH0859545A JP H0859545 A JPH0859545 A JP H0859545A JP 19940294 A JP19940294 A JP 19940294A JP 19940294 A JP19940294 A JP 19940294A JP H0859545 A JPH0859545 A JP H0859545A
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JP
Japan
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ether derivative
detergent composition
makeup
formula
carboxyethyl ether
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Application number
JP19940294A
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English (en)
Inventor
Shinji Yano
真司 矢野
Reiko Fukuda
令子 福田
Katsumi Kita
克己 喜多
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Kao Corp
Original Assignee
Kao Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【構成】 一般式(1) 【化1】 〔R1 はC1〜20のアルキル基を、R2 はC4〜12
のアルキル基を、MはH、アルカリ金属、アンモニウ
ム、アルキルアミン又はアルカノールアミンを、mは0
〜10の数を示す。〕で表されるカルボキシエチルエー
テル誘導体及びこれを含有する洗浄剤組成物。 【効果】 従来除去が困難であった化粧くずれしにくい
夏用メイク又はシャンプー等で落としにくいヘアメイク
も短時間で洗浄でき、泡立ちも良好であるとともに、洗
浄後の肌又は毛髪・頭皮の感触も良好である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は新規なカルボキシエチル
エーテル誘導体及びこれを含む洗浄剤組成物に関し、更
に詳細には、特に口紅、ファンデーション等のメイクア
ップ化粧料や毛髪保護剤等を配合した毛髪化粧料に対し
て短時間で高い洗浄力を発揮し、起泡力に優れ、かつ洗
浄中及び洗浄後の感触が良好な新規カルボキシエチルエ
ーテル誘導体及びこれを含有する洗浄剤組成物に関す
る。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】口紅、
ファンデーション、アイシャドウ、マスカラ等によるメ
イクアップ汚れは、固体脂等の多量の油分を含有してお
り、通常の石けんを主成分とする洗顔フォームでは、こ
れら油分に対する可溶化能、乳化能が十分でないため、
かかるメイクアップ汚れを落とすことができない。従っ
て、従来、メイクアップ汚れの洗浄のためには、油性基
剤を主体とするクレンジングクリーム、クレンジングオ
イル、ゲル状クレンジング剤等が使用されてきた。
【0003】ところが、最近のメイクアップ化粧料にお
いては、皮膚への良好な密着性、水分や皮脂に対する高
い耐性、化粧くずれしにくさ、化粧もちの良さ等が望ま
れ、特に発汗量の多い夏用のメイクアップ化粧料には環
状シリコーン等の油性溶剤をベースとしたものが多く、
更に、被膜形成性ポリマー等の種々の結合剤を配合する
ことなどにより化粧くずれしにくいものが開発されてい
る。
【0004】一方、毛髪化粧料においても、毛髪を保護
したり、毛髪にハリ、コシ等を付与する目的で種々のポ
リマーが配合されている。
【0005】従って、最近の化粧くずれしにくいメイク
アップ化粧料や、毛髪保護剤等のポリマーを配合した毛
髪化粧料は、前記の油性基剤を主体とするクレンジング
剤等によっても十分な除去が困難になってきており、こ
れらのメイクアップ化粧料や毛髪化粧料に対しても高い
洗浄力を発揮し、これらを短時間で洗浄し得る洗浄剤組
成物の開発が望まれている。
【0006】
【課題を解決するための手段】かかる実情において本発
明者らは鋭意研究を重ねた結果、今般新たに合成された
カルボキシエチルエーテル誘導体が、化粧くずれしにく
いメイクアップ化粧料や毛髪保護剤等を配合した毛髪化
粧料に対しても高い洗浄力を発揮することを見出し、本
発明を完成した。
【0007】すなわち本発明は、下記一般式(1)
【0008】
【化2】
【0009】〔式中、R1 は直鎖又は分岐鎖の炭素数1
〜20のアルキル基を示し、R2 は直鎖又は分岐鎖の炭
素数4〜12のアルキル基を示し、Mは水素原子、アル
カリ金属、アンモニウム、アルキルアミン又はアルカノ
ールアミンを示し、mは0〜10の数を示す。〕で表さ
れるカルボキシエチルエーテル誘導体及びこれを含有す
る洗浄剤組成物に係るものである。
【0010】本発明のカルボキシエチルエーテル誘導体
を表す一般式(1)において、R1で示される直鎖又は
分岐鎖の炭素数1〜20のアルキル基としては、例えば
メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブ
チル、イソブチル、t−ブチル、ペンチル、ヘキシル、
ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ド
デシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘ
キサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデシ
ル、イコシル、ネオペンチル、2−エチルヘキシル、
3,3−ジメチルブチル、1,1,3,3−テトラメチ
ルブチル、3,7−ジメチルオクチル、3,7−ジメチ
ルオクタン−3−イル、2−ヘキシルデシル、2−ヘプ
チルウンデシル、2−オクチルドデシル、3,7,11
−トリメチルドデシル、3,7,11,15−テトラメ
チルヘキサデシル、3,5,5−トリメチルヘキシル、
2,3,4−トリメチルペンタン−3−イル、2,3,
4,6,6−ペンタメチルヘプタン−3−イル、イソス
テアリル等の基が挙げられ、なかでも直鎖又は分岐鎖の
炭素数4〜12のアルキル基が好ましく、具体的にはn
−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、
ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、ネオペンチ
ル、2−エチルヘキシル、3,5,5−トリメチルヘキ
シル等の基が好ましい基として挙げられる。
【0011】一般式(1)においてR2 で示される直鎖
又は分岐鎖の炭素数4〜12のアルキル基としては、例
えばn−ブチル、イソブチル、t−ブチル、ペンチル、
ネオペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニ
ル、デシル、ウンデシル、ドデシル、2−エチルヘキシ
ル、3,5,5−トリメチルヘキシル等の基が挙げら
れ、なかでも直鎖又は分岐鎖の炭素数4〜9のアルキル
基が好ましく、具体的にはn−ブチル、ヘキシル、ヘプ
チル、オクチル、2−エチルヘキシル、3,5,5−ト
リメチルヘキシル等の基が好ましい基として挙げられ
る。
【0012】また、R1 とR2 の好ましい組合せとして
は、R1 及びR2 が同一の又は異なる直鎖又は分岐鎖の
炭素数4〜12のアルキル基である場合が挙げられ、特
に好ましい組合せとしてはR1 及びR2 が同一の又は異
なる直鎖又は分岐鎖の炭素数4〜9のアルキル基である
場合が挙げられる。
【0013】一般式(1)中のMは水素原子、アルカリ
金属、アンモニウム、アルキルアミン又はアルカノール
アミンを示すが、アルカリ金属としてはナトリウム、カ
リウム、リチウム等が挙げられ、アルキルアミンとして
はトリメチルアミン、トリエチルアミン等が挙げられ、
アルカノールアミンとしてはトリエタノールアミン、ジ
エタノールアミン等が挙げられる。これらのうち、水素
原子、アルカリ金属及びアルカノールアミンが好まし
く、特に水素原子、ナトリウム、カリウム、トリエタノ
ールアミンが好ましい。
【0014】一般式(1)中のmは0〜10の数を示す
が、なかでも0〜2の数が好ましく、特に0が好まし
い。
【0015】本発明のカルボキシエチルエーテル誘導体
(1)の具体例を以下に示す。
【0016】
【化3】
【0017】
【化4】
【0018】本発明のカルボキシエチルエーテル誘導体
(1)は、例えば下記反応式に従って、対応する1価ア
ルコール(2)及び(2)′を原料として、グリセリル
エーテル化、シアノエチル化及び加水分解の3段階を経
て容易に合成することができる。
【0019】
【化5】
【0020】〔式中、R1 、R2 、M及びmは前記と同
じ意味を示す。〕
【0021】すなわち、過剰量の1価アルコール(2)
及び(2)′をアルカリ存在下、エピクロルヒドリン又
は1,3−ジクロロ−2−プロパノールと反応させてア
ルキルグリセリルエーテル(4)を得、次いでこれに触
媒量のアルカリ存在下、アクリロニトリルを反応させて
シアノエチル体(5)とした後、加水分解し必要に応じ
てアルカリで中和することにより本発明のカルボキシエ
チルエーテル誘導体(1)が製造される。
【0022】アルキルグリセリルエーテル(4)の合成
に用いられるエピクロルヒドリンの使用量は1価アルコ
ール(2)及び(2)′100重量部に対し1〜100
重量部、特に5〜50重量部が好ましい。アルカリとし
ては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金
属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物などが挙げら
れ、その使用量は1価アルコール(2)及び(2)′1
00重量部に対し0.1〜20重量部が好ましい。反応
は、好ましくは無水下、無溶媒で又はヘキサン、トルエ
ン、キシレン等の溶媒中、50〜100℃で行うのが好
ましい。用いる1価アルコール(2)及び(2)′の過
剰率を上げていくと、アルキル基が3モル導入された3
量体や、更に4モル、5モルと導入された4量体、5量
体などのオリゴマーの生成が抑えられる。反応後、過剰
の未反応1価アルコール(2)及び(2)′を蒸留によ
り回収すれば、高収率で目的のアルキルグリセリルエー
テル(4)が得られる。なお、R1 =R2 の場合には、
1種の1価アルコール(2)とエピクロルヒドリン又は
1,3−ジクロロ−2−プロパノールとを同様に反応さ
せることにより、アルキルグリセリルエーテル(4)′
が得られる。
【0023】シアノエチル化に用いられるアクリロニト
リルの使用量は、アルキルグリセリルエーテル(4)の
等モル〜50倍モル、特に等モル〜20倍モルとするの
が好ましい。アルカリ触媒としては、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、アルカ
リ土類金属水酸化物などが挙げられ、反応系に直接添加
してもよいが、0.1〜50重量%の水溶液とし、アル
キルグリセリルエーテル(4)に対し0.1〜50モル
%、特に1〜20モル%加えるのが好ましい。反応温度
は、副反応が少なくかつ目的とする反応がすみやかに進
行する範囲であれば、特に制限はないが、0〜100
℃、特に20〜80℃が好ましい。反応は、無溶媒でも
行うことができるが、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、ジエチレングリコール、ジメチルエーテル、ジエチ
ルエーテル等の溶媒を、アルキルグリセリルエーテル
(4)100重量部に対し1〜2000重量部使用する
こともできる。
【0024】得られたシアノエチル体(5)の加水分解
は、アルカリもしくは酸性条件で行うことができる。ア
ルカリ条件としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム等のアルカリ金属水酸化物やアルカリ土類金属水酸化
物の水溶液を用いることができるが、この際副反応とし
て、シアノエチル基の脱離が進行することがある。一
方、酸性条件としては、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、過
塩素酸等の水溶液を用いるのが望ましく、なかでも塩酸
又は硫酸の10重量%以上の濃度の水溶液を用いるのが
好ましい。また、加水分解の際に反応をすみやかに進行
させるために、テトラブチルアンモニウムブロマイド等
の第4級アンモニウム塩を共存させることもできる。ま
た、対応する塩を得るには、例えば強酸の添加、イオン
交換樹脂の使用などにより、一度カルボン酸型のものを
取得し、これをアルコール等の溶媒中、Mに対応するア
ルカリで中和すればよい。以上のようにして、高純度、
高収率で目的のカルボキシエチルエーテル誘導体(1)
が得られる。
【0025】かくして得られる本発明カルボキシエチル
エーテル誘導体(1)は、いずれも高い起泡性を有し、
シリコーン等の油分との相溶性に優れるため、洗浄剤成
分として有用である。
【0026】本発明カルボキシエチルエーテル誘導体
(1)を洗浄剤成分として用いる場合、水性媒体に溶解
又は分散せしめて洗浄剤組成物とするのが好ましく、そ
の配合量は、使用目的によっても異なるが、全組成中に
1〜60重量%、特に2〜30重量%とするのが好まし
い。
【0027】本発明の洗浄剤組成物には、本発明の効果
を損なわない範囲で、他の界面活性剤を配合することが
できる。かかる他の界面活性剤としては、非イオン性界
面活性剤、イオン性界面活性剤のいずれでもよく、非イ
オン性界面活性剤としては、ソルビタンモノラウレート
等のソルビタン脂肪酸エステル、グリセロールモノオレ
ート等のグリセリン脂肪酸エステル、シュークロースモ
ノラウレート等のショ糖脂肪酸エステル、ポリオキシエ
チレンラウリルエーテル等のポリオキシエチレンアルキ
ルエーテル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレン
グリコール、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エス
テル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、アルキルア
ルカノールアミド、糖エーテル、糖アミド等が挙げら
れ、イオン性界面活性剤としては、ラウリン酸カリウム
等の脂肪酸石けん、ラウリルエーテルカルボン酸ナトリ
ウム等のアルキルエーテルカルボン酸塩、ラウリル硫酸
ナトリウム等のアルキル硫酸塩、ポリオキシエチレンア
ルキルエーテル硫酸塩、モノラウリルリン酸ナトリウム
塩等のアルキルリン酸塩、ラウロイル−N−メチルタウ
リンナトリウム、N−ラウロイル−L−グルタミン酸ナ
トリウム等のN−アシルアミノ酸系界面活性剤、スルホ
コハク酸系界面活性剤、ミラノール、ソフタゾリン等と
して市販されるイミダゾリン系界面活性剤、ラウリル酢
酸ベタイン等のベタイン系、アミンオキサイド等が挙げ
られる。
【0028】また、本発明洗浄剤組成物には、上記必須
成分の他に、洗浄剤成分として通常用いられる成分を、
本発明の効果を損なわない範囲において任意に併用する
ことができる。例えば、プロピレングリコール、ソルビ
トール、グリセリン等の保湿剤、カルボキシビニルポリ
マー、メチルセルロース、エタノール、ポリオキシエチ
レングリコールジステアレート等の粘度調整剤、パール
化剤、香料、色素、紫外線吸収剤、酸化防止剤、殺菌
剤、抗炎症剤、防腐剤などを配合することができる。
【0029】本発明の洗浄剤組成物は、前記成分を常法
により混合することにより製造することができ、その剤
型としては液状、ゲル状、固形状、顆粒状等の任意の形
を選択することができる。かくして得られる本発明の洗
浄剤組成物は、皮膚又は毛髪に塗布し、必要によりマッ
サージした後、水で洗い流すことにより用いられるもの
である。
【0030】
【発明の効果】本発明の洗浄剤組成物を用いれば、従来
除去が困難だった化粧くずれしにくい夏用メイク又はシ
ャンプー等で落としにくいヘアメイクも短時間で洗浄で
き、泡立ちも良好であるとともに、洗浄後の肌又は毛髪
・頭皮の感触も良好である。
【0031】
【実施例】次に実施例を挙げて本発明を更に詳細に説明
するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0032】実施例1 1,3−ジ−O−オクチルグリセリル−2−O−エチル
カルボキシレート(a)の合成 (1)1,3−ジ−O−オクチル−2−グリセロール 還流冷却器、温度計及び滴下ロートのついた1リットル
4ツ口フラスコに、n−オクチルアルコール260.4
g(2.0mol)及び粒状水酸化ナトリウム16.0g
(0.4mol)を仕込み、80℃に加熱して粒状水酸化
ナトリウムを完全に溶解させた後、エピクロルヒドリン
25.2g(0.27mol)を約40分で滴下した。滴
下終了後、更に80℃で2時間反応を続けた後、水20
0mlで2回有機層を洗浄して、生成した食塩を除去し
た。有機層を蒸留して過剰の未反応オクチルアルコール
197g(1.51mol)を回収した後、主留分として
1,3−ジオクチルグリセリルエーテル60g(0.1
9mol)(150〜155℃/1mmHg)を得た。 収率:79%(消費アルコール基準),70%(エピク
ロルヒドリン基準)1 H−NMR(CDCl3,δppm):0.87(t,6
H),1.2−1.4(br,20H),1.57
(m,4H),2.6(br,1H),3.40−3.
54(m,8H),3.95(m,1H)
【0033】(2)1,3−ジ−O−オクチルグリセリ
ル−2−O−エチルカルボキシレート 温度計及び滴下ロートのついた500ml4ツ口フラスコ
にアクリロニトリル27g(0.5mol)、ジオクチル
グリセリルエーテル15.8g(0.05mol)及びテ
トラヒドロフラン150mlを仕込み、水浴で20℃以下
に冷却しながら5%水酸化ナトリウム水溶液4gを滴下
した。滴下終了後、50℃で7時間反応を続けた後、ヘ
キサンを加えて抽出・水洗し、ヘキサン層を濃縮して粗
シアノエチルエーテル19.0gを得た。更にこれに濃
塩酸25g及びテトラブチルアンモニウムブロマイド
(TBAB)50%水溶液4.0gを加え、80℃で8
時間加水分解した。反応終了後、水酸化カリウム水溶液
で中和しヘキサン及び水を加えて抽出/水洗(解乳化の
ため必要な量のエタノールを添加)し、ヘキサン可溶分
を除去したのち、再び水層を塩酸で酸性にしてヘキサン
及び水を加えて、ヘキサン層に目的物を抽出した。ヘキ
サン層を濃縮することにより目的とする1,3−ジ−O
−オクチルグリセリル−2−O−エチルカルボキシレー
ト14.4g(0.037mol)を得た。 収率:74%(ジオクチルグリセリルエーテル基準)1 H−NMR(CDCl3,δppm):1.56(br,
4H),2.63(t,2H),3.45(t,2
H),3.50(d,4H),3.65(m,1H),
3.90(t,2H) IR(νC=O,cm-1):1719
【0034】実施例2〜9 上記とほぼ同様の条件で表1に示す各種カルボキシエチ
ルエーテル誘導体(b)〜(i)を合成した。
【0035】
【表1】
【0036】実施例10 表5から表7に示す組成の洗浄剤組成物を調製し、パネ
ラー5名により耐水性ファンデーション、一般ファンデ
ーション又は一般口紅に対する洗浄力、感触及び泡立ち
を評価した。 (1)試験方法 下記の組成を有する耐水性ファンデーション、一般ファ
ンデーション又は一般口紅を、水洗いした前腕内側の数
カ所に直径2cm程度に塗布し、洗浄前に1時間放置し、
十分乾かし、それぞれを試験部位とした。
【0037】<耐水性ファンデーション組成>
【表2】 (重量%) 高分子シリコーン 5.0 環状シリコーン 27.0 ポリエーテル変性シリコーン 3.0 スクワラン 5.0 ジメチルポリシロキサン 10.9 キャンデリラロウ 3.0 香料 0.1 シリコーン被覆セリサイト 15.0 シリコーン被覆ナイロンパウダー 15.0 シリコーン被覆酸化チタン 13.0シリコーン被覆酸化鉄 3.0 計 100.0
【0038】<一般ファンデーション組成>
【表3】 (重量%) 流動パラフィン 35.0 スクワラン 15.0 キャンデリラロウ 3.0 香料 0.1 イオン交換水 0.9 セリサイト 15.0 ナイロンパウダー 15.0 酸化チタン 13.0酸化鉄 3.0 計 100.0
【0039】<一般口紅組成>
【表4】 (重量%) ヒマシ油 50.0 ヘキサデシルアルコール 25.0 ラノリン 5.0 ミツロウ 4.0 カルナウバロウ 7.0 キャンデリラロウ 2.0 酸化チタン 2.0 赤色202号 1.0 赤色204号 3.0赤色227号Alレーキ 1.0 計 100.0
【0040】それぞれの試験部位に洗浄剤試料を1〜2
滴滴下し、直ちに指で指圧100g程度に圧迫し、毎秒
2回10秒間擦った。この後、直ちに、指を水道水で濡
らし、更に毎秒2回5秒間擦った。次いで流水で洗い流
し、流しながら毎秒2回5秒間擦り洗った。
【0041】(2)評価方法 <洗浄力>洗浄中及び洗浄後、試験部位を上記パネラー
5名が肉眼観察し、次の4段階に評価し、その平均スコ
アにより判定した。 スコア4:直ちにほとんどのメイクアップ汚れが溶解
し、最終的に残留を認め得ない。 スコア3:直ぐには溶解しないが、徐々に溶解し、最終
的に残留を認め得ない。 スコア2:やや洗浄力を認めるが、最終的に明らかにメ
イクアップ汚れの残留を認める。 スコア1:水で洗浄したときと同様に、ほとんどメイク
アップ汚れが除去されない。判定 ◎:平均スコア3.5〜4.0 ○:平均スコア2.5〜3.4 △:平均スコア1.5〜2.4 ×:平均スコア1.0〜1.4
【0042】<感触>上記洗浄力試験の洗浄中と洗浄後
の肌の感触を上記パネラー5名が評価した。洗浄中の感
触は、主として伸びの良さを評価した。洗浄後の感触
は、しっとりした感触、サッパリした感触を良い感触と
し、キシミ感、ベトつき、油性感、ヌルつき感を悪い感
触とし、官能試験により次の3段階で評価し、その平均
スコアにより判定した。 スコア3:良い感触を認めるか又は、洗浄前と感触の違
いを認めない。 スコア2:悪い感触を認める。 スコア1:許容しがたいほどの悪い感触を認める。判定 ◎:平均スコア2.5〜3.0 △:平均スコア1.5〜2.4 ×:平均スコア1.0〜1.4
【0043】<起泡力>洗浄剤試料を10%水溶液と
し、1mlで手洗い評価を行い、泡立ちを上記パネラー5
名が評価し、その平均スコアにより判定した。 スコア4:良い泡立ちを認める。 スコア3:泡立ちを認める。 スコア2:弱い泡立ちを認める。 スコア1:全く泡立ちを認めない。判定 ◎:平均スコア3.5〜4.0 ○:平均スコア2.5〜3.4 △:平均スコア1.5〜2.4 ×:平均スコア1.0〜1.4
【0044】(3)結果 結果を表5から表7に示す。
【0045】
【表5】
【0046】
【表6】
【0047】
【表7】
【0048】実施例11 以下に示す処方のメイクアップ除去剤を調製した。
【表8】 (重量%) 化合物(a)のカリウム塩 20.0 ポリオキシエチレン(20)モノステアリン酸ソルビタンエステル 10.0 ソルビトール 10.0 カラギーナン 0.5 香料 0.1イオン交換水 バランス 計 100.0 本発明メイクアップ除去剤を用いて、ファンデーション
と口紅を除去したところ、良好に除去され、使用感及び
泡立ちも良好であった。
【0049】実施例12 以下に示す処方のヘアメイクリムーバーを調製した。
【表9】 (重量%) 化合物(c)のカリウム塩 10.0 ポリオキシエチレン(15)イソセチルエーテル 10.0 グリセリン 30.0 カラギーナン 0.5 香料 0.1イオン交換水 バランス 計 100.0 本発明ヘアメイクリムーバーを用いて毛髪を洗浄したと
ころ、ヘアメイク及び皮脂汚れは良好に除去され、使用
感も良好であった。
【0050】実施例13 以下に示す処方の洗顔料を調製した。
【表10】 (重量%) アルキルサッカライド (一般式(G)k-O-R3中、R3=n-C10H21,G=グルコース,k=2のもの) 10.0 化合物(d)のカリウム塩 5.0 ポリオキシエチレン(6)ラウリルエーテル 5.0 ラウリルジメチルアミンオキサイド 2.0 プロピレングリコール 3.0イオン交換水 バランス 計 100.0 本発明洗顔料を用いて洗顔したところ、使用感及び泡立
ちも良好であった。
【0051】実施例14 以下に示す処方のメイク落としを調製した。
【表11】 (重量%) モノラウリルリン酸カリウム 15.0 化合物(f)のトリエタノールアミン塩 20.0 ポリオキシエチレン(6)ソルビタンモノラウレート 3.0 プロピレングリコール 5.0 変性エタノール 5.0イオン交換水 バランス 計 100.0 本発明メイク落としを用いて、ファンデーションと口紅
を除去したところ、良好に除去され、使用感及び泡立ち
も良好であった。
【0052】実施例15 以下に示す処方のメイクアップ除去剤を調製した。
【表12】 (重量%) 化合物(h)のトリエタノールアミン塩 20.0 ポリオキシエチレン(20)モノステアリン酸ソルビタンエステル 10.0 ソルビトール 10.0 カラギーナン 0.5 香料 0.1イオン交換水 バランス 計 100.0 本発明メイクアップ除去剤を用いて、ファンデーション
と口紅を除去したところ、良好に除去され、使用感及び
泡立ちも良好であった。
【0053】実施例16 以下に示す処方のヘアメイクリムーバーを調製した。
【表13】 (重量%) 化合物(i)のトリエタノールアミン塩 10.0 ポリオキシエチレン(15)イソセチルエーテル 10.0 グリセリン 30.0 カラギーナン 0.5 香料 0.1イオン交換水 バランス 計 100.0 本発明ヘアメイクリムーバーを用いて毛髪を洗浄したと
ころ、ヘアメイク及び皮脂汚れは良好に除去され、使用
感も良好であった。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下記一般式(1) 【化1】 〔式中、R1 は直鎖又は分岐鎖の炭素数1〜20のアル
    キル基を示し、R2 は直鎖又は分岐鎖の炭素数4〜12
    のアルキル基を示し、Mは水素原子、アルカリ金属、ア
    ンモニウム、アルキルアミン又はアルカノールアミンを
    示し、mは0〜10の数を示す。〕で表されるカルボキ
    シエチルエーテル誘導体。
  2. 【請求項2】 一般式(1)において、R1 が直鎖又は
    分岐鎖の炭素数4〜12のアルキル基であり、mが0〜
    2の数である請求項1記載のカルボキシエチルエーテル
    誘導体。
  3. 【請求項3】 一般式(1)において、Mが水素原子、
    ナトリウム、カリウム又はトリエタノールアミンである
    請求項1又は2記載のカルボキシエチルエーテル誘導
    体。
  4. 【請求項4】 請求項1〜3のいずれかに記載のカルボ
    キシエチルエーテル誘導体を含有する洗浄剤組成物。
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