JPH085769B2 - Photopolymerizable resin composition for making clasp patterns - Google Patents

Photopolymerizable resin composition for making clasp patterns

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JPH085769B2
JPH085769B2 JP63141658A JP14165888A JPH085769B2 JP H085769 B2 JPH085769 B2 JP H085769B2 JP 63141658 A JP63141658 A JP 63141658A JP 14165888 A JP14165888 A JP 14165888A JP H085769 B2 JPH085769 B2 JP H085769B2
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JP
Japan
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clasp
photopolymerizable
resin composition
ethylenically unsaturated
double bond
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JP63141658A
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博史 森
龍彦 高橋
明 長谷川
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而至陶歯工業株式会社
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は部分床義歯を製作するに当たり、義歯の把持
(側方運動に対する抵抗)と維持(着脱に対する抵抗)
と、支持(咬合圧に対する抵抗)とを授ける金属構成部
分である鋳造クラスプをロストワツクス法にて製作する
に当り維持力,耐久性などに対する理論的な形状を示す
鋳造クラスプの原型即ちクラスプのパターンを造るため
の光重合レジン組成物に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial field of application] In manufacturing a partial denture according to the present invention, the denture is grasped (resistance to lateral movement) and maintained (resistance to attachment / detachment).
And the support (resistance to occlusal pressure), the casting clasp, which is the metal component that gives the support (resistance to occlusal pressure), is manufactured by the lost wax method. It relates to a photopolymerizable resin composition for making.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

部分床義歯の主及び間接維持装置としてはその90%以
上にクラスプが用いられている。しかし、特に鋳造クラ
スプではその製作方法が煩雑であつてその維持力や適合
精度,与えられたアーム部の形態など必ずしも満足なも
のではないのが現状である。
Clasps are used in more than 90% of the main and indirect maintenance devices for partial dentures. However, especially in the case of a casting clasp, the manufacturing method is complicated, and the maintenance power, the fitting accuracy, and the shape of the given arm are not always satisfactory.

従来の鋳造クラスプの製作方法は、先ず第一に患者の
口腔内の顎印象を採取し、超硬石膏などで作業模型を造
る。次に維持装置となるクラスプの設計を行なうため
に、この作業模型上の維持歯部分にサーベイングを行な
う。尚サーベイングは模型上の残存歯や顎堤の最大豊隆
部を求めると同時に、相互の平行関係などを調べるため
に行なう作業で、義歯着脱方向の決定,維持歯の決定,
ブロツクアウト部の明治,アンダーカツト量の測定,ク
ラスプ位置の決定など、その目的を観ると義歯製作上極
めて重要な作業である。
In the conventional method of manufacturing a casting clasp, first, a jaw impression in a patient's mouth is taken, and a working model is made with cemented plaster. Next, in order to design the clasp which becomes the maintenance device, the maintenance tooth portion on this working model is surveyed. In addition, surveying is a work performed to find the remaining teeth on the model and the maximum protuberance of the ridge, and at the same time, to check the mutual parallel relationship.
It is an extremely important work for denture manufacture when the purpose is to be examined, such as the Meiji period at the blockout section, the measurement of the undercut amount, and the determination of the clasp position.

さて、クラスプの維持力を左右する重要な因子として
は、クラスプアームの長さ,太さ,断面形態,使用合金
のヤング率,設定されたアンダーカツト量,維持歯歯面
の曲率,などが挙げられる。鋳造クラスプをパラフイン
系のワツクスパターンを利用して製作する場合、クラス
プの維持力は、利用するアンダーカツト量,パターンの
太さ、異種断面形態の選択によりコントロールすること
が可能であり、サーベイング時及び義歯設計時は維持歯
歯周組織の状態に対応したクラスプの設計が要求される
ことになる。
The important factors that influence the clasp retention force are the length and thickness of the clasp arm, the cross-sectional shape, the Young's modulus of the alloy used, the set undercut amount, and the curvature of the tooth flank of the maintenance tooth. To be When a casting clasp is manufactured using a paraffin wax pattern, the clasp retention force can be controlled by selecting the amount of undercut used, the thickness of the pattern, and the type of cross-section. At the time of denture design and denture design, a clasp design corresponding to the condition of the periodontal tissue of the maintenance tooth is required.

作業模型に対する設計・ブロツクアウトが終了すると
次にクラスプのワツクスパターンを製作するために設計
に従つてブロツクアウトされた維持歯部分を再度印象採
取(複印象)し、作業模型を模型用埋没材に置き換え
る。次にクラスプの維持力を正確句にコントロールする
ことを考慮した上でパラフイン系ワツクスのクラスプパ
ターンを手指で曲げながら接着剤を用いて模型用埋没材
に貼り付け、レスト部、脚部の成形を行ない、スプルー
の植立を行なう。次にこのパラフイン系ワツクスのクラ
スプパターンを模型用埋没材から取り外ずさぜに模型用
埋没材ごと鋳造用埋没材で埋没し、埋没材が硬化した
後、パラフイン系のクラスプパターンをフアーネスで加
熱焼却し、その後に出来たクラクスプパターンの鋳型に
溶けた金属を流し込み冷却後、割り出し研磨を行なつて
クラスプを完成させる。(以後、この方法を「型ごと埋
没法」と称す。) 〔発明が解決が解決しようとする問題点〕 上記の鋳造クラスプの製作方法、ウラスプパターンを
作る材質がパラフイン系ワツクスであるため次の様な問
題点を含んでいる。
After the design / blockout of the working model is completed, the maintenance tooth part that has been blocked out according to the design is taken again to make a wax pattern of the clasp (composite impression), and the working model is invested in the model. Replace with. Next, while carefully controlling the clasp maintenance power in a precise phrase, while bending the clasp pattern of the paraffin wax with your fingers, attach it to the model investment material with an adhesive and mold the rest part and legs. Perform sprue planting. Next, without removing the paraffin-type wax clasp pattern from the model investment material, bury the model investment material together with the casting investment material, and after the investment material has hardened, heat the paraffin-based clasp pattern with the furnace. After incineration, melted metal is poured into the mold of the clasp pattern and cooled, and then indexed and polished to complete the clasp. (Hereinafter, this method will be referred to as "embedding method for each mold.") [Problems to be solved by the invention] The casting clasp manufacturing method described above and the material for forming the urasp pattern are paraffin waxes. It includes such problems as.

パラフイン系ワツクスは全く弾性変形出来ず可塑変
形するため作業模型上の維持歯のアンダーカット部から
最大豊隆部を通つて取り外ずすことが出来ない。
The paraffin type wax cannot be elastically deformed at all and is plastically deformed, so it cannot be removed from the undercut portion of the maintenance tooth on the working model through the maximum ridge.

無理に取り取り外ずすと永久変形を生じ正確な適応が
得られない。このため維持力のコントロールされた正確
なクラスプを造ることが出来ない。従つてパラフイン系
ワツクスのクラスプパターンは必ず作業模型を複印象し
模型用埋没材に置き換えて模型用埋没材にクラスプパタ
ーンを成形し模型用埋没材ごと鋳造用埋没材で埋没す
る。所謂型ごとに埋没法を行なわなければならない。こ
のためクラスプ製作工程が煩雑で長い時間を要し、材料
コストも多大なものとなる。
If it is forcibly removed, permanent deformation will occur and accurate adaptation cannot be obtained. For this reason, it is not possible to build an accurate clasp with controlled maintenance. Therefore, the clasp pattern of the paraffin wax is always double-impressed with the working model and replaced with the investment material for the model, the clasp pattern is formed on the investment material for the model, and the investment material for the model is embedded with the investment material for casting. The so-called burial method must be performed for each type. For this reason, the clasp manufacturing process is complicated and takes a long time, and the material cost becomes large.

パラフイン系ワツクスのクラスプパターンは模型用
埋没材や石膏と接着しないため、必ず専用の接着剤を使
用しなければならない。従つて接着剤の厚みが約50μm
の誤差を有するクラスプとなり、適合の良いクラスプを
得ることが出来ない。
The plaque-in wax clasp pattern does not adhere to the investment material for the model or plaster, so be sure to use a special adhesive. Therefore, the thickness of the adhesive is about 50 μm
It becomes a clasp with an error of, and it is not possible to obtain a clasp with a good fit.

パラフイン系ワツクスのクラスプパターンは接着剤
を使用して手指で圧接し模型用埋没材に接着させるが、
その時その埋没材の強度が低いため埋没材の粒子が剥が
れ落ち維持歯の形態及び表面性状が悪くなる。またこの
埋没材の剥がれ落ちた粒子がパラフイン系ワツクスのク
ラスプパターンに付着し表面性状の良い鋳造クラスプを
得ることが出来ない。
The clasp pattern of the paraffin type wax is bonded with pressure to the model investment material by pressure contact with fingers using an adhesive.
At that time, since the strength of the investment material is low, the particles of the investment material are peeled off and the morphology and surface quality of the maintenance tooth are deteriorated. Further, the particles that have fallen off of the investment material adhere to the clasp pattern of the paraffin wax and a casting clasp with good surface quality cannot be obtained.

パラフイン系ワツクスのクラスプパターンは結晶性
が高く比較的分子量の低いポリマーであり、ガラス転移
温度Tgと融点Tmが非常に近いが金属の様にガラス転移点
が無い様な物質であるため、ワツクスを加熱焼却時にそ
の温度上昇速度が大き過ぎると融けたワツクスが沸騰
し、気体となつたワツクスが膨張するので急加圧され埋
没材に亀裂が発生したり埋没材内面の荒れが生じたりす
る。
The clasp pattern of a paraffin wax is a polymer with high crystallinity and a relatively low molecular weight, and the glass transition temperature Tg and melting point Tm are very close to each other, but it is a substance that does not have a glass transition point like a metal. If the temperature rise rate is too high during heating and incineration, the melted wax will boil, and the wax that has become a gas will expand, so that it will be suddenly pressurized and cracks will occur in the investment material or the inner surface of the investment material will become rough.

本発明は之等の問題点を解決するためにパラフイン系
ワツクスに代わる新しい材質のクラスプパターンを開発
し様としたものである。
In order to solve the above problems, the present invention is intended to develop a clasp pattern made of a new material that replaces the paraffin wax.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明者等は上記の問題点を解決すべく鋭意検討の結
果、パラフイン系ワツクスのクラスプパターンに代わる
新しい材質である光重合レジン組成物を開発した。先ず
上記問題点を解決するための夫々の手段を就いて述べ
る。
As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have developed a photopolymerizable resin composition, which is a new material replacing the clasp pattern of paraffin wax. First, respective means for solving the above problems will be described.

従来の作業模型から再度印象を採り模型用埋没材に置
き換えてクラスプパターンを造り、模型用埋没材ごと鋳
造用埋没材で埋没して鋳造する所謂型ごとに埋没法を行
なわず、本発明の光重合レジン組成物から成るクラスプ
パターンを使用することにより作業模型に該クラスプパ
ターンを接着,成形させ可視光線にて重合させそれを作
業模型から取り外ずして鋳造用埋没材で埋没して製造す
る方法を行なう。このためにはクラスプパターンを作業
模型に接着,成形させる段階では従来のワツクスと同様
に可塑性を富んでいて自由に変形することが出来、可視
光線や紫外線などの活性エネルギー線を照射することに
より直ちに硬化して弾性体となり作業模型から取り外ず
しても全く変形しない材質が必要となる。
The impression of the conventional working model is taken again and the clasp pattern is made by replacing it with the investment material for the model, and the investment material for the model is embedded by the investment material for casting. A clasp pattern made of a polymerized resin composition is used to bond and mold the clasp pattern to a working model, polymerize it with visible light, and remove it from the working model and bury it in a casting embedding material for manufacturing. Do the way. For this purpose, at the stage of adhering and molding the clasp pattern to the work model, it has a high degree of plasticity and can be freely deformed like the conventional wax, and it can be immediately irradiated with active energy rays such as visible light and ultraviolet rays. A material that hardens to become an elastic body and does not deform at all even if it is not removed from the work model is required.

本発明の光重合レジン組成物はこの様なものであり、
スラスプ装着部位のアンダーカツト部から最大豊隆部の
通つて最大0.5mm程度の変化を以て取り外ずしても破折
することなく、また元の形に正確に戻るという性質を有
しているのである。この材質の光重合クラスプパターン
を用いて鋳造クラスプを造る場合、作業模型上の維持歯
部分の印象採取,模型用埋没材置き換え、の各工程が削
除出来るので従来約8時間を要していた工程を約4時間
に短縮出来たと共に夫れに伴ない従来使用していた精密
印象材、模型用埋没材の材料コストの低減を図れたので
ある。
The photopolymerizable resin composition of the present invention is as described above,
It has the property that it does not break even if it is not removed with a change of up to about 0.5 mm from the undercut part of the slap wearing part through the maximum bump part and it returns to the original shape accurately. . When making a casting clasp using the photopolymerized clasp pattern of this material, the steps of taking an impression of the maintenance tooth part on the working model and replacing the investment material for the model can be deleted, so it took about 8 hours. It was possible to shorten the time to about 4 hours and to reduce the material costs of precision impression materials and investment materials for models that were used in the past.

本発明によつて得られた組成物の材質はパラフイン
系ワツクスとは異なり石膏との馴染みが良く、接着材を
使用せずに適度に石膏に接着し硬化後は容易に取り外ず
すことが出来る。従つて従来の接着剤皮膜の厚さによる
適合悪さも妨げ適合精度の良い鋳造クラスプを造ること
が出来る。
The material of the composition obtained according to the present invention has a good compatibility with gypsum unlike paraffin wax, and can be easily removed after curing by appropriately adhering to gypsum without using an adhesive. I can. Therefore, it is possible to produce a casting clasp with good fitting accuracy by preventing the bad fitting due to the thickness of the conventional adhesive film.

本発明によって得られた組成物の材質は接着材を使
用しなくても適度に埋没材と接着するために手指の圧接
による埋没材の剥がれ落ちが無いため維持歯の形態及び
表面性状に悪い影響を与えない。また、埋没材粒子がク
ラスプパターンに付着することが無いので表面性状の良
い鋳造クラスプを造ることが出来る。
The material of the composition obtained according to the present invention has a good influence on the morphology and surface quality of the maintenance tooth because the composition does not peel off due to the pressure contact of the fingers because it adheres to the investment material properly without using an adhesive. Don't give. Further, since the investment material particles do not adhere to the clasp pattern, it is possible to produce a cast clasp with good surface properties.

本発明によって得られた組成物の材質は結晶性高分
子であり、結晶質の部分(分子が配向した個所)と非晶
質の部分(分子が配向していない箇所)とから成り、90
℃付近にガラス転移点Tgが存在し、熱硬化性樹脂となつ
た硬化物の分解温度附近までは徐々に軟化し、続いて炭
化し、最後には二酸化炭素と水とになつて焼却される。
よつて従来のパラフイン系ワツクスのクラスプパターン
に見られた沸騰膨張,急加圧による埋没材の亀裂発生及
び埋没材内面の荒れも無い鋳造面の良好な鋳造クラスプ
を得ることが出来たのである。
The material of the composition obtained by the present invention is a crystalline polymer, which is composed of a crystalline part (where the molecules are oriented) and an amorphous part (where the molecules are not oriented).
There is a glass transition point Tg near ℃, it gradually softens up to near the decomposition temperature of the cured product that has become a thermosetting resin, then carbonizes, and finally it is incinerated by carbon dioxide and water. .
Therefore, it was possible to obtain a good casting clasp with a casting surface free from the boiling expansion and cracking of the investment material due to rapid pressurization and the inner surface of the investment material which were found to be rough in the clasp pattern of conventional paraffin wax.

本発明に於ける常温で固体のエチレン性不飽和2重結
合を少なくとも1個含有する向重合可能な化合物のう
ち、単官能のメタクリレートの例としては、メトキシポ
リエチレングリコール1000メタクリレートがあり、単官
能のアクリレートの例としてほメトキシポリエチレング
リコール1000アクリレートがあり、多官能のメタクリレ
ートの例としてはジイソシアネートメチルベンゼンと2
−ヒドロキシエチルメタクリレートとの反応生成物(商
品名アートレジンSH−100,根上工業社製品),ジイソシ
アネートメチルシクロヘキサンと2−ヒドロキシエチル
メタクリレートとの反応生成物(商品名アートレジンSH
−200,根上工業社製品),イソフオロンジイソシアネー
トと2−ヒドロキシエチルメタクリレートとの反応生成
物(商品名アートレジンSH−300,根上工業社製品),ヘ
キサメチレンジイソシアネートと2−ヒドロキシエチル
メタクリレートとの反応生成物(商品名アートレジンSH
−400,根上工業社製品),ヘキサメチレンジイソシアネ
ートと2−ヒドロキシプロピルメタクリレートとの反応
生成物(商品名アートレジンSH−420,根上工業社製
品),ヘキサメチレンジイソシアネートと3−クロロ2
−ヒドロキシプロピルメタクリレートとの反応生成物
(商品名アートレジンSH−440,根上工業社製品),メチ
レンビス(4−シクロヘキシルイソシアネート)と2−
ヒドロキシエチルメタクリレートとの反応生成物(商品
名アートレジンSH−600,根上工業社製品),トリス(メ
タクリロキシエチル)イソシアネート,ポリエチレング
リコール1000ジメタクリレートがあり、多官能のアクリ
レートの例としては、トリス(アクリロキシエチル)イ
ソシアネート,ペンタエリスリトールテトラアクリレー
ト,ペンタエリスリトールトリアクリレートがあまり、
また下記の構造式で示される多官能のアクリレートも好
適である。
Among the compounds of the present invention, which are solid at room temperature and which contain at least one ethylenically unsaturated double bond and are polymerizable for polymerization, an example of a monofunctional methacrylate is methoxy polyethylene glycol 1000 methacrylate, which is a monofunctional methacrylate. An example of acrylate is methoxy polyethylene glycol 1000 acrylate, and an example of polyfunctional methacrylate is diisocyanate methylbenzene and 2
-Reaction product with hydroxyethyl methacrylate (trade name Art Resin SH-100, product of Negami Kogyo Co., Ltd.), Reaction product with diisocyanate methylcyclohexane and 2-hydroxyethyl methacrylate (trade name Art Resin SH
-200, product of Negami Kogyo Co., Ltd., reaction product of isophorone diisocyanate and 2-hydroxyethyl methacrylate (trade name Art Resin SH-300, product of Negami Kogyo Co., Ltd.), reaction of hexamethylene diisocyanate with 2-hydroxyethyl methacrylate Product (Product name Art Resin SH
-400, product of Negami Kogyo Co., Ltd., reaction product of hexamethylene diisocyanate and 2-hydroxypropyl methacrylate (trade name Art Resin SH-420, product of Negami Kogyo Co., Ltd.), hexamethylene diisocyanate and 3-chloro-2
-A reaction product with hydroxypropylmethacrylate (trade name Art Resin SH-440, a product of Negami Kogyo Co., Ltd.), methylenebis (4-cyclohexylisocyanate) and 2-
There are reaction products with hydroxyethyl methacrylate (trade name Art Resin SH-600, product of Negami Kogyo Co., Ltd.), tris (methacryloxyethyl) isocyanate, polyethylene glycol 1000 dimethacrylate, and examples of polyfunctional acrylates are tris ( Acryloxyethyl) isocyanate, pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol triacrylate,
A polyfunctional acrylate represented by the following structural formula is also suitable.

R1,R2,R3はアルキル基 (商品名U−108A,新中村化学社製品) 本発明に於ける有機物充填材としては、ポリオレフイ
ンパウダー(ポリエチレンパウダー,ポリプロピレンパ
ウダーなど),パリアクリル酸エステルパウダー(ポリ
アクリル酸メチル,ポリアクリル酸エチルなど),ポリ
メタクリル酸エステルパウダー(ポリメタクリル酸メチ
ル,ポリメタクリル酸エチルなど),メタクリル酸エス
テル共重合体パウダー(ポリメタクリル酸メチルとポリ
メタクリル酸エチルとの共重合体など),アクリル酸エ
ステル共重合体パウダー(ポリアクリル酸メチルとポリ
アクリル酸エチルとの共重合体など),架橋型メタクリ
ル酸エステルパウダー(トリメチロールプロパントリメ
タクリレートで架橋したポリメタクリル酸メチルな
ど),スチレン−ブタジエン共重合体パウダー,アクリ
ロニトリル−スチレン共重合体パウダー,アクリロリト
リル−スチレン−ブタジエン共重合体パウダー,ナイロ
ンパウダーなどがあり、之等は1種または2種以上混合
して使用しても良い。その添加量は光重合可能な化合物
100重量部に対し0.1〜90重量部が好ましい。
R 1 , R 2 and R 3 are alkyl groups (trade name: U-108A, product of Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) As the organic filler in the present invention, polyolefin powder (polyethylene powder, polypropylene powder, etc.), paris acrylate ester Powder (polymethyl acrylate, polyethyl acrylate, etc.), polymethacrylate ester powder (polymethyl methacrylate, polyethyl methacrylate, etc.), methacrylic acid ester copolymer powder (polymethyl methacrylate and polyethyl methacrylate) , Etc.), acrylic acid ester copolymer powder (copolymer of polymethyl acrylate and polyethyl acrylate, etc.), crosslinkable methacrylic acid ester powder (polymethacrylic acid crosslinked with trimethylolpropane trimethacrylate) Methyl), styrene- Tajien copolymer powder, acrylonitrile - styrene copolymer powder, acrylate Lori tolyl - styrene - butadiene copolymer powder include nylon powder, this like may be used alone or in combination. The addition amount is a photopolymerizable compound.
0.1 to 90 parts by weight is preferable for 100 parts by weight.

光重合開始剤としては、α−ジケトン系化合物,ケタ
ール系化合物,アントラキノン系化合物,チオキサント
ン系化合物,ベンゾインアルキルエーテル系化合物が有
効であり、具体的には、α−ジケトン系化合物としては
d,lカンフアーキノン,ベンジル,ジアセチル,アセナ
フテンキノン,9,10−フエナントレンキノンなどが効果
的である。之等の中でd,lカンフアーキノン,ベンジル
が特に好ましい。ケタール系化合物としてはベンジルジ
メチルケタール,ベンジルジエチルケタール,ベンジル
ジプロピルケタール,ベンジルジ(β−フエニルエチ
ル)ケタール,ベンジルジ(2−メトキシエチル)ケタ
ール,ベンジルジ(2−エトキシエチル)ケタール,ベ
ンジルジ(2−メトキシエトキシエチル)ケタール,ベ
ンジルジ(2−エトキシエトキシエチル)ケタール,4,
4′−ジメチルベンジルジメチルケタール,2,2−ジメト
キシベンジルジエチルケタール,4,4′−ジクロロベンジ
ル−ジエチルケタール,4,4′−ジクロロベンジルジプロ
ピルケタールなどが効果的である。之等の中でベンジル
ジメチルケタール,ベンジルジエチルケタール,ベンジ
ルジ(2−メトキシエチル)ケタール,4,4′−ジクロロ
ベンジルジメチルケタールが特に好ましい。
As the photopolymerization initiator, α-diketone compounds, ketal compounds, anthraquinone compounds, thioxanthone compounds, and benzoin alkyl ether compounds are effective. Specifically, α-diketone compounds are
d, l camphorquinone, benzyl, diacetyl, acenaphthenequinone, and 9,10-phenanthrenequinone are effective. Among these, d, l camphorquinone and benzyl are particularly preferable. Examples of the ketal compound include benzyl dimethyl ketal, benzyl diethyl ketal, benzyl dipropyl ketal, benzyl di (β-phenylethyl) ketal, benzyl di (2-methoxyethyl) ketal, benzyl di (2-ethoxyethyl) ketal, benzyl di (2-methoxyethoxy). Ethyl) ketal, benzyldi (2-ethoxyethoxyethyl) ketal, 4,
4'-Dimethylbenzyldimethyl ketal, 2,2-dimethoxybenzyl diethyl ketal, 4,4'-dichlorobenzyl-diethyl ketal, 4,4'-dichlorobenzyl dipropyl ketal and the like are effective. Among them, benzyl dimethyl ketal, benzyl diethyl ketal, benzyl di (2-methoxyethyl) ketal, and 4,4'-dichlorobenzyl dimethyl ketal are particularly preferable.

アントラキノン系化合物としてはアントラキノン,1−
クロロアントラキノン,2−クロロアントラキノン,1,2−
ベンズアントラキノン,1−ヒドロキシアントラキノン,1
−メチルアントラキノン,2−エチルアントラキノン,1−
ブロモアントラキノンなどが効果的である。之等の中で
アントラキノン,1−クロロアントラキノン,1,2−ベンズ
アントラキノンが特に好ましい。チオキサントン系化合
物としてはチオキサントン,2−クロロチオキサントン,2
−イソプロピルチオキサントン,2−ニトロチオキサント
ン,2−メチルチオキサントン,2,4−ジメチルオキサント
ン,2,4−ジエチルチオキサントン,2,4−ジイソプロピル
チオキサントン,2−クロロ−7−トリフルオロメチルチ
オキサントン,チオキサントン−10,10−ジオキサイ
ド,チオキサントン−10−オキサイドなどが効果的であ
る。之等の中でチオキサントン,2−クロロチオキサント
ン,2,4−ジメチルチオキサントン,2,4−ジエチルチオキ
サントン,2,4−ジイソプロピルチオキサントンが特に好
ましい。
Anthraquinone compounds include anthraquinone, 1-
Chloroanthraquinone, 2-Chloroanthraquinone, 1,2-
Benzanthraquinone, 1-hydroxyanthraquinone, 1
-Methylanthraquinone, 2-Ethylanthraquinone, 1-
Bromoanthraquinone is effective. Among them, anthraquinone, 1-chloroanthraquinone and 1,2-benzanthraquinone are particularly preferable. Thioxanthone compounds include thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2
-Isopropylthioxanthone, 2-nitrothioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2,4-dimethyloxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, 2-chloro-7-trifluoromethylthioxanthone, thioxanthone-10 , 10-dioxide, thioxanthone-10-oxide, etc. are effective. Among these, thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone and 2,4-diisopropylthioxanthone are particularly preferable.

ベンゾインアルキルエーテル系化合物としてはベンゾ
インメチルエーテル,ベンゾインエチルエーテル,ベン
ゾインイソプロピルエーテル,ベンゾイン−n−ブチル
エーテル,ベンゾインブチルエーテルなどが効果的であ
る。之等の中でベンゾインブチルエーテルが特に好まし
い。
Benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin-n-butyl ether, benzoin butyl ether and the like are effective as the benzoin alkyl ether compound. Among them, benzoin butyl ether is particularly preferable.

以上の光重合開始剤は夫々1種または2種以上混合し
ても使用しても良い。之等の光重合開始剤の配合量はエ
チレン性不飽和2重結合を少なくとも1個含有する常温
で固体の光重合可能な化合物100重量部に対して夫々0.0
01〜5重量部であることが好ましい。配合量が0.001重
量部未満であると反応性に乏しくて硬化時間が長くな
り、また硬化深度が小さくなる。また配合量が5重量部
を超えると余剰触媒が可塑剤の働きをするので硬化物の
強度を低下させる。
The above photopolymerization initiators may be used either individually or in combination of two or more. The amount of these photopolymerization initiators to be added is 0.0 with respect to 100 parts by weight of a photopolymerizable compound containing at least one ethylenically unsaturated double bond and solid at room temperature.
It is preferably from 01 to 5 parts by weight. If the compounding amount is less than 0.001 part by weight, the reactivity becomes poor and the curing time becomes long, and the curing depth becomes small. On the other hand, if the blending amount exceeds 5 parts by weight, the surplus catalyst acts as a plasticizer, which reduces the strength of the cured product.

本発明の還元剤としては逆増感剤が励起状態にあると
きは光増感剤を還元するけれども、光増感剤が活性エネ
ルギー線によつて励起されていないときは光増感剤を還
元出来ない様な還元能力を持つものが用いられる。還元
剤は第1級,第2級または第3級のアミンであつてよ
く、 に於いて2個,1個または0個の基R,R′,R″が水素原子
でもよい、1個またはそれ以上の基R,R′,R″は炭化水
素基であることが出来、且つ同一の基であること出来
る。炭化水素基は例えばアルキル,シクロアルキル,ヒ
ドロキシアルキルまたはアラルキル基でよい。好適には
基R,R′,R″は1〜10個の炭素原子を持つアルキル基で
あることが出来る。
The reducing agent of the present invention reduces the photosensitizer when the reverse sensitizer is in an excited state, but reduces the photosensitizer when the photosensitizer is not excited by active energy rays. The one with the reduction ability that cannot be used is used. The reducing agent may be a primary, secondary or tertiary amine, In which 2, 1, or 0 radicals R, R ', R "may be hydrogen atoms, and one or more radicals R, R', R" may be hydrocarbon radicals, And they can be the same group. The hydrocarbon group may be, for example, an alkyl, cycloalkyl, hydroxyalkyl or aralkyl group. Suitably the groups R, R ', R "may be alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms.

1個または夫れ以上の単位R,R′,R″が炭化水素であ
る適当な還元剤の例としてはプロピルアミン,n−ブチル
アミン,ペンチルアミン,ヘキシルアミン,ザメチルア
ミン,ジエチルアミン,ジプロピルアミン,ジ−n−ブ
チルアミン,ジペンチルアミン,2−ジメチルアミノエタ
ノール,トリメチルアミン,トリエチルアミン,トリプ
ロピルアミン,トリ−n−ブチルアミン,トリペンチル
アミン,ジメチルアミノエチルメタクリレート,ジエチ
ルアミノエチルメタクリレート,トリエタノールアミン
及び長鎖脂肪族アミンがある。
Examples of suitable reducing agents in which one or more units R, R ', R "are hydrocarbons include propylamine, n-butylamine, pentylamine, hexylamine, zamethylamine, diethylamine, dipropylamine, di -N-butylamine, dipentylamine, 2-dimethylaminoethanol, trimethylamine, triethylamine, tripropylamine, tri-n-butylamine, tripentylamine, dimethylaminoethylmethacrylate, diethylaminoethylmethacrylate, triethanolamine and long-chain aliphatic amines There is.

芳香族基を含む還元剤の例にはN,N′−ジメチルアニ
リン,N,N′−ジメチル−p−トルイジン,p−トリルジエ
タノールアミン,m−トリルジエタノールアミン,N−メチ
ルジフエニルアミン,2−ジメチルアミノ安息香酸エチ
ル,4−ジメチルアミノ安息香酸エチル,4−ジメチルアミ
ノ安息香酸メチル,4−ジメチルアミノ安息香酸ブチル,4
−ジメチルアミノ安息香酸2−エチルヘキシル,4−ジメ
チルアミノ安息香酸イソアミルなどがある。
Examples of reducing agents containing aromatic groups are N, N'-dimethylaniline, N, N'-dimethyl-p-toluidine, p-tolyldiethanolamine, m-tolyldiethanolamine, N-methyldiphenylamine, 2-dimethyl. Ethyl aminobenzoate, 4-dimethylaminoethyl benzoate, methyl 4-dimethylaminobenzoate, butyl 4-dimethylaminobenzoate, 4
Examples include 2-ethylhexyl dimethylaminobenzoate and isoamyl 4-dimethylaminobenzoate.

また の構造を有するジアミンがある。但しnは2以上の整
数、基R,R′,R″,Rは同一または異なつていてもよ
く、水素原子または炭化水素基,特にアルキル基であ
る。この例の還元剤としてはエチレンジアミン,トリメ
チレンジアミン,テトラメチレンジアミン,ペンタメチ
レンジアミン若しくはヘキサメチレンジアミン或いはそ
れ等のN−炭化水素基誘導体,特にN−アルキル誘導体
であり得る。
Also There is a diamine having the structure of However, n is an integer of 2 or more, and the groups R, R ', R "and R may be the same or different and each is a hydrogen atom or a hydrocarbon group, especially an alkyl group. As the reducing agent in this example, ethylenediamine, It can be trimethylenediamine, tetramethylenediamine, pentamethylenediamine or hexamethylenediamine or N-hydrocarbon radical derivatives thereof, especially N-alkyl derivatives.

元素Nが環系の一部分を成している還元剤の例として
は、例えばピペリジン及びピペリジンのN−炭化水素誘
導体がある。その他の還元剤としてはトリアリールアミ
ン,アリルチア尿素,芳香族スルフイン酸塩類,5−アル
キル−または5−アリールバルビツール酸などがある。
Examples of reducing agents in which the element N is part of the ring system are, for example, piperidine and N-hydrocarbon derivatives of piperidine. Other reducing agents include triarylamine, allyl thiaurea, aromatic sulfinates, 5-alkyl- or 5-aryl barbituric acids.

之等の還元剤の中ではジメチルアミノエチルメタクリ
レート,トリエタノールアミン,4−ジメチルアミノ安息
香酸メチル,4−ジメチルアミノ安息香酸エチルが好まし
い。
Among these reducing agents, dimethylaminoethyl methacrylate, triethanolamine, methyl 4-dimethylaminobenzoate and ethyl 4-dimethylaminobenzoate are preferable.

之等の還元剤の添加量はエチレン性不飽和2重結合を
少なくとも1個含有する光重合可能な化合物100重量部
に対し0.01〜10重量部であることが好ましい。添加量が
0.01重量部未満であると反応性に乏しく硬化時間が長く
なり、また硬化深度が小さくなる。また添加量が10重量
部を超えると保存安定性が悪くなり、通常の室内証明で
の技工操作余裕時間が非常に短くなる。
The amount of these reducing agents added is preferably 0.01 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the photopolymerizable compound containing at least one ethylenically unsaturated double bond. Addition amount
If it is less than 0.01 parts by weight, the reactivity is poor and the curing time becomes long, and the curing depth becomes small. Further, if the amount added exceeds 10 parts by weight, the storage stability becomes poor, and the time for technical operation in the normal indoor certification becomes extremely short.

この光重合クラスプパターン組成物はクラスプパター
ンを造るのに適した形状に予め成形したものが望まし
く、第1表に示すのはその形状の例である。
The photopolymerizable clasp pattern composition is preferably preformed into a shape suitable for producing a clasp pattern, and Table 1 shows examples of the shape.

之等である部分床義歯着脱時や咀嚼時の維持力をコン
トロールする際に重要となるものであるが、その形状は
第1表に全く限定されるものではない。
It is important for controlling the maintenance force when the partial denture is attached or detached or when chewing, but its shape is not limited to that shown in Table 1.

〔実施例〕〔Example〕

次に示す実施例及び比較例の組成物を準備及び作成し
実験1〜8を行ない本発明の硬化を確認した。なお本発
明は之等に限定されるものではない。
The compositions of the following Examples and Comparative Examples were prepared and prepared, and Experiments 1 to 8 were conducted to confirm the curing of the present invention. The present invention is not limited to the above.

実施例1〜26; 第2表にその組成を示した。Examples 1-26; Table 2 shows the composition.

実施例27; 第3表にその組成を示した。Example 27; Table 3 shows its composition.

比較例1〜6; 実施例の範囲を限定するために行なつた。第2表にそ
の組成を示した。
Comparative Examples 1 to 6; performed to limit the scope of Examples. The composition is shown in Table 2.

比較例7; 本発明の光重合クラスプパターン組成物の組成物中の
有機物充填材に代わり無機物充填材を用いた例である。
第2表にその組成を示した。
Comparative Example 7; This is an example in which an inorganic filler is used instead of the organic filler in the composition of the photopolymerizable clasp pattern composition of the present invention.
The composition is shown in Table 2.

比較例8; 市販のパラフイン系ワツクスのクラスプパターン(而
至歯科工業(株)製,商品名ジーシクラスプパターン) 実施例1〜27及び比較例1〜8を次に示す方法で行な
つた。
Comparative Example 8: Clasp pattern of commercially available paraffin wax (manufactured by Meta Dental Industry Co., Ltd., trade name: Gie Clasp Pattern) Examples 1-27 and Comparative Examples 1-8 were carried out by the following method.

まずこのエチレン性不飽和2重合を少なくとも1個含
有する光重合可能で常温で固体の化合物をその融点(約
60℃〜80℃)以上に加熱溶解し液体となつた処へ光重合
開始剤と還元剤とを適量添加し均一に溶解する迄撹拌す
る。完全に溶解したものを約80℃に温度制御出来る乳鉢
に所定量入れ、之に見合う分の有機物充填材を徐々に添
加撹拌して行く。有機物充填材が均一に分散混合すると
このペースト状のものを加熱出来る真空脱泡機に入れ気
泡を取り除く。気泡の取り除かれたペーストを室温迄冷
却し第1表に示した様な形状になる様に設計した金型で
プレス成型し取り出す。なお、この製作工程は総べて赤
色ランプ下で100V,60W,500LX以下の条件下で行なつた。
First, a photopolymerizable solid compound at room temperature containing at least one ethylenically unsaturated 2 polymerization is used as a compound having a melting point (about
(60 ° C to 80 ° C) and melted at a temperature of not less than 60 ° C to 80 ° C, and a suitable amount of a photopolymerization initiator and a reducing agent are added to the liquid, and the mixture is stirred until it is uniformly dissolved. The completely melted product is put in a predetermined amount in a mortar whose temperature can be controlled at about 80 ° C, and an organic filler corresponding to the amount is gradually added and stirred. When the organic filler is uniformly dispersed and mixed, the paste-like material is put into a vacuum degassing machine capable of heating to remove air bubbles. The paste from which air bubbles have been removed is cooled to room temperature, press-molded with a mold designed to have the shape shown in Table 1, and taken out. All the manufacturing processes were performed under a red lamp under the conditions of 100V, 60W, 500L X or less.

次に実験1〜8にて本発明の効果を確認した。 Next, the effects of the present invention were confirmed in Experiments 1 to 8.

なお本発明の効果に就いては第2表および第3表に示
した。
The effects of the present invention are shown in Tables 2 and 3.

実験1 硬化前の操作性 ベタつきが無く柔軟性に富むこと。Experiment 1 Operability before curing No stickiness and rich flexibility.

実験2 硬化後の曲げ強度〔I.S.O.4049(25×2×2m
m)〕 (ケタール系とベンゾインアルキルエーテル系は而至
社製,商品名GCパーマキユアUC−Iで20分間照射した以
外は而至社製,商品名GCラボライトLV−Iで片面1分間
ずつ照射,両面で計2分間照射,C.H.Sは1mm/min) この値は大きければ良いというのではなく、約200kg/
cm2以上であれば充分使用に耐えられる。
Experiment 2 Flexural strength after curing [ISO4049 (25 × 2 × 2m
m)] (Ketal-based and benzoin alkyl ether-based products are manufactured by Jisha Co., Ltd., except that they are irradiated with the product name GC Permakiure UC-I for 20 minutes. Irradiate on both sides for a total of 2 minutes, CHS is 1 mm / min) This value is not necessarily large, but about 200 kg /
If it is cm 2 or more, it can be used sufficiently.

実験3 焼却残渣(600℃で1時間,オートフアーネス
で焼却する) 残渣はゼロでなければならない。
Experiment 3 Incineration residue (Incinerate at 600 ° C for 1 hour with auto furnace) Residue must be zero.

実験4 硬化時間 (ケタール系とベンゾインアルキルエーテル系は而至
社製,商品名GCパーマキユアUC−Iで照射中5秒おきに
ビカー針接触により判定し、それ以外は而至社製,商品
名GCラボライトLV−Iで照射中5秒おきにビカー針接触
により硬化程度を判定する) 30秒〜1分30秒の範囲なら使い易いものである。30秒
より速いと操作余裕が短い場合があり、1分30秒を超え
ると光重合というシヤープな硬化特性を利用出来ない。
Experiment 4 Curing time (Ketal-based and benzoin alkyl ether-based are manufactured by Jantai Co., Ltd., brand name GC Permakiure UC-I is used to judge every 5 seconds by contact with a Vicat needle. It is easy to use if it is in the range of 30 seconds to 1 minute and 30 seconds. If it is faster than 30 seconds, the operation margin may be short, and if it exceeds 1 minute 30 seconds, the sharp curing property of photopolymerization cannot be used.

実験5 硬化深度 (ケタール系とベンゾインアルキルエーテル系は而至
社製,商品名GCパーマキユアUC−I 20分間照射し未硬
化部分をエチルアルコールで洗浄しガーゼで拭き取る。
それ以外は而至社製,商品名GCラボライトLV−I 40秒
照射し未硬化部分をエチルアルコールで洗浄しガーゼで
拭き取る。) 最も太いNo.1のクラスプパターンが3.79mmあるので、
この値以上の硬化深さが必要である。更に症例によつて
はレスト部や脚部が4mm程度になることも充分考えられ
るので4mm以上の硬化深さになることが望ましい。
Experiment 5 Curing Depth (Ketal type and benzoin alkyl ether type are manufactured by Jantai Co., Ltd., trade name GC Permakiure UC-I, irradiated for 20 minutes, and the uncured portion is washed with ethyl alcohol and wiped with gauze.
Other than that, the product is manufactured by Jitoshi Co., Ltd., and the product name is GC Labolite LV-I, which is irradiated for 40 seconds, and the uncured portion is washed with ethyl alcohol and wiped with gauze. ) Since the thickest No. 1 clasp pattern is 3.79 mm,
A hardening depth equal to or greater than this value is required. In addition, depending on the case, it is fully possible that the rest and legs will be about 4 mm, so it is desirable to have a hardening depth of 4 mm or more.

実験6 クラスプの製作時間 作業模型のサーベイングから鋳造物の研磨迄に要する
時間 実験7 接着剤必要の有無 例えば而至社のプレフオームボンドを必要とするかど
うか。
Experiment 6 Clasp production time Time required from surveying of working model to polishing of castings Experiment 7 Whether adhesive is required For example, whether or not Preform Bond from Jitai Co. is required.

実験8 鋳造面の状態 面荒れを起こしているかどうか。Experiment 8 Condition of casting surface Whether surface is rough or not.

実施例1〜9と11〜16それに実施例18〜26は常温で固
体のエチレン性不飽和2重結合を少なくとも1個含有す
る光重合可能な合物にポリメタクリル酸メチルパウダー
を混入した例であり、実施例10はポリプロピレンパウダ
ーを混入した例、実施例17はスチレン−ブタジエン共重
合体パウダーを添加した例である。その中で実施例11,1
2,18,19,20はポリメタクリル酸メチルパウダーの添加量
を変化させた例を示したものであり、この範囲内であれ
ば物性に大きな影響は無い。
Examples 1 to 9 and 11 to 16 and Examples 18 to 26 are examples in which polymethylmethacrylate powder is mixed in a photopolymerizable compound containing at least one ethylenically unsaturated double bond which is solid at room temperature. Example 10 is an example in which polypropylene powder is mixed, and Example 17 is an example in which styrene-butadiene copolymer powder is added. Among them, Example 11,1
Nos. 2,18,19,20 show examples in which the amount of polymethyl methacrylate powder added was changed, and the physical properties were not significantly affected within this range.

実施例1と5〜22と24〜26の光重合開始剤はd,lカン
フアーキノンであり実施例2,3,4,23の重合開始剤は夫
々、1,2ベンズアントラキノン,チオキサントン,ベン
ゾインイソブチルエーテル,ベンジルジメチルケタール
である。之等の光重合開始剤のうち1,2ベンズアントラ
キノンは少量で充分効果を発揮することが出来る。実施
例1〜4と6〜26の還元剤はジメチルアミノエチルメタ
クリレートであり、実施例5の還元剤は4−ジメチルア
ミノ安息香酸メチルである。実施例13と25は光重合開始
剤のd,lカンフアーキノンの添加量が少ない例を示して
おり、実施例14は多い例を示したものである。d,lカン
フアーキノンの添加量が少ないと硬化時間が遅くなり、
多いと速くなる傾向にあるが、特許請求の範囲内にあれ
ば使用上問題はない。実施例15と26は還元剤のジメチル
アミノエチルメタクリレートの添加量が少ない例を示し
ており、実施例16は多い例を示したものである。ジメチ
ルアミノエチルメタクリレートの添加量が少ないと硬化
時間が遅くなり、多いと速くなるが、特許請求の範囲内
にあれば使用上問題はない。
The photopolymerization initiators of Examples 1 and 5 to 22 and 24-26 are d, l camphorquinone, and the polymerization initiators of Examples 2, 3, 4, and 23 are 1,2 benzanthraquinone, thioxanthone, and benzoin, respectively. Isobutyl ether and benzyl dimethyl ketal. Among these photopolymerization initiators, 1,2 benzanthraquinone can be sufficiently effective even in a small amount. The reducing agent in Examples 1-4 and 6-26 is dimethylaminoethylmethacrylate, and the reducing agent in Example 5 is methyl 4-dimethylaminobenzoate. Examples 13 and 25 show examples in which the amount of the photopolymerization initiator d, l camphorquinone added was small, and Example 14 showed a large amount. If the addition amount of d, l camphorquinone is small, the curing time will be delayed,
If the number is large, the speed tends to be high, but if it is within the scope of the claims, there is no problem in use. Examples 15 and 26 show examples in which the reducing agent dimethylaminoethyl methacrylate was added in a small amount, and Example 16 showed a large amount. If the addition amount of dimethylaminoethyl methacrylate is small, the curing time will be delayed, and if the addition amount is large, the curing time will be fast, but if it is within the scope of the claims, there is no problem in use.

実施例1〜5と10〜20,23,25,26はエチレン性不飽和
2重結合を少なくとも1個含有し常温で固体の光重合可
能な化合物のうち多官能のアクリレートを用いた例であ
り、実施例6と7は多官能のメタクリレートを用いた例
である。また実施例8,9,24は多官能のアクリレートとメ
タクリレートを混合させた例である。実施例21は単官能
のメタクリレートを用いた例であり、実施例22は単官能
のアクリレートを用いた例である。
Examples 1 to 5 and 10 to 20,23,25,26 are examples in which a polyfunctional acrylate is used among the photopolymerizable compounds that contain at least one ethylenically unsaturated double bond and are solid at room temperature. Examples 6 and 7 are examples using polyfunctional methacrylate. Further, Examples 8, 9, and 24 are examples in which polyfunctional acrylate and methacrylate were mixed. Example 21 is an example using a monofunctional methacrylate, and Example 22 is an example using a monofunctional acrylate.

実施例27はエチレン性不飽和2重結合を少なくとも1
個含有し常温で固体の光重合可能な化合物として多官能
のメタクリレート2種類を混合して用いた例であり、充
填材としてトリメチロールプロパントリメタクリレート
で架橋したポリメタクリル酸メチルパウダーを用いてい
る。この充填材を用いる鋳造面の状態が特に優れたもの
となる。また、硬化深度は実施例に比べると約2倍と大
きく重合が充分に進んでいることも示している。
Example 27 contains at least one ethylenically unsaturated double bond.
This is an example in which two kinds of polyfunctional methacrylates are mixed and used as a photopolymerizable compound containing individual and solid at room temperature, and polymethylmethacrylate powder cross-linked with trimethylolpropane trimethacrylate is used as a filler. The state of the casting surface using this filler becomes particularly excellent. Further, the curing depth was about twice as large as that in the example, and it is shown that the polymerization is sufficiently advanced.

比較例1と4は有機物充填材であるポリメタクリル酸
メチルパウダーの添加量が好ましい範囲を逸脱した例で
あるが、比較例1の様に添加量が少ない方に逸脱する
と、その操作性に於いて粘るという悪い特性が表われ、
比較例4の様に多い方に逸脱するとパラフインワツクス
の様な柔軟性が無くなり脆いものになつて了う。比較例
2は光重合開始剤のd,lカンフアーキノンの添加量がま
た比較例3は還元剤のジメチルアミノエチルメタクリレ
ートの添加量が何れも好ましい範囲を少ない方に逸脱し
た例であつて、重合が不充分で曲げ強度も低く、硬化時
間か長く、硬化深度も小さいことが判る。比較例5はd,
lカンフアーキノンの添加量がまた比較例6はジメチル
アミノエチルメタクリレートの添加量が何れも多い方に
逸脱した例であつて硬化が速過ぎ充分な操作余裕が採れ
ない上にd,lカンフアーキノンの添加量が多い方に逸脱
した例では、曲げ強度の低下が認められた。このこと
は、余剰の触媒が可塑剤の働きをして強度を低下させた
ものと考えられる。比較例7は充填材として無機質フイ
ラーを添加した例であつて従来のコンポジツトレジンの
配合と似ている。之は充填材が無機質であるが故に焼却
残渣がゼロにならず全くクラスプを鋳造するという機能
を有していない。
Comparative Examples 1 and 4 are examples in which the addition amount of polymethylmethacrylate powder as an organic filler deviates from the preferable range. However, when the addition amount deviates to the smaller one as in Comparative Example 1, the operability is deteriorated. It has a bad characteristic that it is sticky,
If it deviates to a larger number as in Comparative Example 4, the flexibility such as paraffin wax is lost and the product becomes brittle. Comparative Example 2 is an example in which the addition amount of d, l camphorquinone as a photopolymerization initiator and Comparative Example 3 were both deviated from the preferable range in the addition amount of dimethylaminoethyl methacrylate as a reducing agent. It can be seen that the polymerization is insufficient, the bending strength is low, the curing time is long, and the curing depth is small. Comparative Example 5 is d,
Comparative Example 6 is an example in which the amount of l-camphorquinone added deviates to the one in which the amount of dimethylaminoethyl methacrylate added is large, and the curing is so fast that a sufficient operating margin cannot be obtained and d, l In the case where the amount of non-added material deviated to the larger one, a decrease in bending strength was observed. It is considered that this is because the surplus catalyst worked as a plasticizer to reduce the strength. Comparative Example 7 is an example in which an inorganic filler is added as a filler and is similar to the conventional compounded resin formulation. However, since the filler is an inorganic substance, the incineration residue does not become zero and it has no function of casting the clasp at all.

比較例8は従来行なわれているパラフイン系ワツクス
のクラスプパターンを使用した例である。この場合は而
至社製のGCクラスプパターンを使用した例であるが、作
業模型から模型用埋没材に置き換えサーベイングし鋳造
するという型ごと埋没法を行なうためクラスプ製作時間
が約8時間を要し本発明に於ける光重合クラスプパター
ン組成物を使用した場合に比べて約4時間長く掛かる。
更にパラフイン系ワツクスのクラスプパターンを使用す
るには必ず模型用埋没材に接着させるための接着剤(例
えば而至社製のプレフオームボンド)が必要となる。ま
たワツクスの焼却条件や埋没材の種類との関係により鋳
造面の状態に稍々悪い影響を及ぼすことがある。
Comparative Example 8 is an example using a clasp pattern of a paraffin wax, which has been conventionally performed. This is an example of using a GC clasp pattern manufactured by Jiji Co., but the clasp production time is about 8 hours because the investment method is performed for each mold, replacing the working model with the investment material for the model and conducting surveying and casting. However, it takes about 4 hours longer than the case where the photopolymerizable clasp pattern composition of the present invention is used.
Furthermore, in order to use the clasp pattern of the paraffin wax, an adhesive agent (for example, Preform Bond manufactured by Jiji Co., Ltd.) is required to adhere to the investment material for the model. Further, the condition of the casting surface may be adversely affected depending on the incineration condition of wax and the type of investment material.

〔発明の効果〕 従来用いられていたパラフイン系ワツクスのクラスプ
パターンは全く弾性変形をしないため作業模型から取り
外ずすことが出来ないので必ず模型用埋没材に置き換え
て鋳造する所謂型ごと埋没法が行なわれている。このた
めクラスプ製作工程が煩雑で長い時間を要し、材料コス
トも多大なものであつた。更にパラフイン系ワツクスの
クラスプパターンを模型用埋没材か石膏に接着させるた
めには接着剤を必要とする。またパラフイン系ワツクス
のクラスプパターンでは焼却時の膨張による急加圧から
生じる埋没材の亀裂及び埋没材内面の荒れが生じる。
[Effects of the Invention] The clasp pattern of the paraffin wax used in the past is not elastically deformed at all and cannot be removed from the working model. Is being carried out. Therefore, the clasp manufacturing process is complicated and requires a long time, and the material cost is also great. Further, an adhesive is required to bond the clasp pattern of the paraffin wax to the investment material for the model or plaster. Further, in the clasp pattern of the paraffin wax, cracks in the investment material and roughening of the inner surface of the investment material occur due to rapid pressurization due to expansion during incineration.

本発明の光重合レジン組成物から成るクラスプパター
ンは之等の欠点を根本から解決したものである。該クラ
スプパターンはクラスプパターンを造る作業模型に接
着,形成させる段階では、従来のパラフイン系ワツクス
と同様に可塑性に富み、特別な加熱装置無しで自由に形
成が出来、クラスプパターンを作業模型に接着、成形完
了後に直ちに可塑光線などの活性エネルギー線を照射す
ることにより、その該クラスプパターンが硬化し、アン
ダーカツト部から最大豊隆部を通過する際の歪に充分耐
えられる強度を有するものに変化するのである。
The clasp pattern made of the photopolymerizable resin composition of the present invention is a fundamental solution to these drawbacks. At the stage of adhering and forming the clasp pattern on the working model for making the clasp pattern, the clasp pattern is as flexible as the conventional paraffin wax and can be freely formed without a special heating device, and the clasp pattern is adhered to the working model. By irradiating the active energy ray such as a plastic ray immediately after the completion of molding, the clasp pattern is hardened, and the clasp pattern is changed to one having sufficient strength to withstand the strain when passing from the undercut portion to the maximum protuberance portion. is there.

このことはパラフイン系ワツクスのクラスプパターン
では実現出来なかつた作業模型からのクラスプパターン
の取り外ずしが可能になつた。よつて模型用埋没材に置
き換える所謂型ごとに埋没法を行なう必要がなくなっ
た。従つて従来約8時間を要していたクラスプパターン
製作工程は約4時間に短縮されそれに伴い従来使用して
いた印象材,模型用埋没材の材料コストの低減を図れた
のである。また、本発明により得られた光重合レジン組
成物は作業模型との馴染みが良く適度に接着し、硬化後
は容易に取ら外ずすことが出来る。従つて特別な接着剤
は必要としなくなり従つて従来の様な接着剤皮膜の厚さ
による適合悪さも妨げ精度の良いクラスプを造ることが
可能となつた。また手指の圧接の必要が無いため埋没材
粒子の剥がれによる維持歯及び鋳造クラスプの表面性状
に与える悪影響が全く無くなった。更に本発明により得
られた光重合レジン組成物は結晶性の高分子であり、加
熱しても沸騰すること無く徐々に軟化し次いで炭化し最
後には二酸化炭素と水になるので埋没材に亀裂が生じた
り埋没材内面の荒れも無く鋳造面の良好なクラスプを得
ることが出来る利点を有している。
This makes it possible to remove the clasp pattern from the working model, which was not possible with the clasp pattern of paraffin wax. Therefore, it is no longer necessary to perform the so-called investment method for each type of so-called model investment material. Therefore, the clasp pattern manufacturing process, which required about 8 hours in the past, was shortened to about 4 hours, and the cost of the impression material and investment material for the model that had been used conventionally was reduced accordingly. Further, the photopolymerizable resin composition obtained according to the present invention has a good familiarity with a work model and is appropriately bonded, and can be easily removed after curing. Therefore, a special adhesive is not required, and it is possible to prevent clogging due to the thickness of the adhesive film as in the conventional case and to make a clasp with high precision. Further, since there is no need to press the fingers against each other, the adverse effect of the peeling of the investment material particles on the surface properties of the maintenance tooth and the casting clasp is completely eliminated. Further, the photopolymerizable resin composition obtained by the present invention is a crystalline polymer, which gradually softens without boiling even when heated, then carbonizes and finally becomes carbon dioxide and water. There is an advantage that a good clasp of the casting surface can be obtained without causing cracks or roughening of the inner surface of the investment material.

本発明によつて得られた組成物はクラスプパターンの
みならずインレーパターン,リンガルバーパターン,パ
ラタルバーパターン,スケルトンパターン,鋳造床パタ
ーン,クラウンブリツジパターン,及びその他の鋳造用
パターンにも使用することが出来る。
The composition obtained according to the present invention can be used not only for clasp patterns, but also for inlay patterns, lingual bar patterns, paratalbar patterns, skeleton patterns, casting floor patterns, crown bridging patterns, and other casting patterns. I can.

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】a)エチレン性不飽和2重結合を少なくと
も1個含有する光重合可能な化合物と; b)有機物充填材と; c)光重合開始剤と; d)還元剤と; から成るクラスパターン製作用光重合レジン組成物。
1. A photopolymerizable compound containing at least one ethylenically unsaturated double bond; b) an organic filler; c) a photopolymerization initiator; and d) a reducing agent. Photopolymerizable resin composition for class pattern production.
【請求項2】エチレン性不飽和2重結合を少なくとも1
個含有する光重合可能な化合物であつて常温で固体であ
る特許請求の範囲第1項に記載のクラスプパターン製作
用光重合レジン組成物。
2. At least one ethylenically unsaturated double bond.
The photopolymerizable resin composition for producing a clasp pattern according to claim 1, which is a photopolymerizable compound contained therein and is a solid at room temperature.
【請求項3】エチレン性不飽和2重結合を少なくとも1
個含有する光重合可能な化合物が単官能のメタクリレー
トである特許請求の範囲第1項または第2項に記載のク
ラスプパターン製作用光重合レジン組成物。
3. At least one ethylenically unsaturated double bond.
The photopolymerizable resin composition for producing a clasp pattern according to claim 1 or 2, wherein the photopolymerizable compound contained therein is a monofunctional methacrylate.
【請求項4】エチレン性不飽和2重結合を少なくとも1
個含有する光重合可能な化合物が多官能のメタクリレー
トである特許請求の範囲第1項または第2項に記載のク
ラスプパターン製作用光重合レジン組成物。
4. At least one ethylenically unsaturated double bond.
The photopolymerizable resin composition for producing a clasp pattern according to claim 1 or 2, wherein the photopolymerizable compound contained therein is a polyfunctional methacrylate.
【請求項5】エチレン性不飽和2重結合を少なくとも1
個含有する光重合可能な化合物が単官能のアクリレート
である特許請求の範囲第1項または第2項に記載のクラ
スプパターン製作用光重合レジン組成物。
5. At least one ethylenically unsaturated double bond.
The photopolymerizable resin composition for producing a clasp pattern according to claim 1 or 2, wherein the photopolymerizable compound contained therein is a monofunctional acrylate.
【請求項6】エチレン性不飽和2重結合を少なくとも1
個含有する光重合可能な化合物が多官能のアクリレート
である特許請求の範囲第1項または第2項に記載のクラ
スプパターン製作用光重合レジン組成物。
6. At least one ethylenically unsaturated double bond.
The photopolymerizable resin composition for producing a clasp pattern according to claim 1 or 2, wherein the photopolymerizable compound contained therein is a polyfunctional acrylate.
【請求項7】有機物充填材の配合量が、エチレン性不飽
和2重結合を少なくとも1個含有する光重合可能な化合
物100重量部に対し、0.1〜90重量部である特許請求の範
囲第1項ないし第6項の何れか1項に記載のクラスプパ
ターン製作用光重合レジン組成物。
7. A compounding amount of an organic filler is 0.1 to 90 parts by weight with respect to 100 parts by weight of a photopolymerizable compound containing at least one ethylenically unsaturated double bond. Item 7. A photopolymerizable resin composition for producing a clasp pattern according to any one of items 1 to 6.
【請求項8】光重合開始剤が、α−ジケトン系化合物,
ケタール系化合物,アントラキノン系化合物,チオキサ
ントン系化合物,ベンゾインアルキルエーテル系化合
物,及び之等の誘導体の1種以上である特許請求の範囲
第1項ないし第7項中の何れか1項に記載のクラスプパ
ターン製作用光重合レジン組成物。
8. A photopolymerization initiator is an α-diketone compound,
The clasp according to any one of claims 1 to 7, which is at least one of a ketal compound, an anthraquinone compound, a thioxanthone compound, a benzoin alkyl ether compound, and a derivative thereof. A photopolymerizable resin composition for pattern formation.
【請求項9】光重合開始剤の配合量が、エチレン性不飽
和2重結合を少なくとも1個含有する光重合可能な化合
物100重量部に対し、0.001〜5重量部である特許請求の
範囲第1項ないし第8項の何れか1項に記載のクラスプ
パターン製作用光重合レジン組成物。
9. A compounding amount of a photopolymerization initiator is 0.001 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of a photopolymerizable compound containing at least one ethylenically unsaturated double bond. The photopolymerizable resin composition for producing a clasp pattern according to any one of items 1 to 8.
【請求項10】還元剤の配合量がエチレン性不飽和2重
結合を少なくとも1個含有する光重合可能な化合物100
重量部に対して0.01〜10重量部である特許請求の範囲第
1項ないし第9項中の何れか1項に記載のクラスプパタ
ーン製作用光重合レジン組成物。
10. A photopolymerizable compound 100 containing at least one ethylenically unsaturated double bond in a reducing agent content.
The photopolymerizable resin composition for producing a clasp pattern according to any one of claims 1 to 9, which is 0.01 to 10 parts by weight with respect to parts by weight.
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