JPH0853439A - チオフェン類の製造方法 - Google Patents
チオフェン類の製造方法Info
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- JPH0853439A JPH0853439A JP6190584A JP19058494A JPH0853439A JP H0853439 A JPH0853439 A JP H0853439A JP 6190584 A JP6190584 A JP 6190584A JP 19058494 A JP19058494 A JP 19058494A JP H0853439 A JPH0853439 A JP H0853439A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 下記一般式（Ｉ）
【化１】
で示される１，４−ジアルデヒド誘導体を、当該１，４
−ジアルデヒド誘導体１モルに対して０．００１〜０．
５モル量の塩化水素の存在下に７０〜１８０℃の温度で
硫化水素と反応させることを特徴とする下記一般式（I
I） 【化２】 （式中、Ｒは水素原子、アルキル基またはアリール基を
表す。）で示されるチオフェン類の製造方法。 【効果】 チオフェンまたは３位に置換基を有するチオ
フェン誘導体が工業的に有利に製造される。
−ジアルデヒド誘導体１モルに対して０．００１〜０．
５モル量の塩化水素の存在下に７０〜１８０℃の温度で
硫化水素と反応させることを特徴とする下記一般式（I
I） 【化２】 （式中、Ｒは水素原子、アルキル基またはアリール基を
表す。）で示されるチオフェン類の製造方法。 【効果】 チオフェンまたは３位に置換基を有するチオ
フェン誘導体が工業的に有利に製造される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、チオフェン類の製造方
法に関する。本発明により製造されるチオフェン類は、
各種の医薬、農薬の合成中間体として有用である。
法に関する。本発明により製造されるチオフェン類は、
各種の医薬、農薬の合成中間体として有用である。
【０００２】
【従来の技術】チオフェンおよびその誘導体は、従来、
（１）オレフィン、ジエンと硫化水素とを触媒の存在
下、４００℃以上の高温で反応させる方法（例えば、特
開昭５０−１２２４８３号公報、特開昭５０−１２３６
６１号公報、特開昭５１−１２２０６１号公報参照）、
（２）ジエンと硫黄を水蒸気とともに４００℃以上の高
温で反応させる方法（例えば、特開昭５４−７６５７４
号公報参照）、（３）アルコール、アルデヒドなどを二
硫化炭素と金属酸化物触媒の存在下、約５００℃で反応
させる方法（米国特許第３８２２２８９号参照）、
（４）１，４−ジアルデヒド誘導体と硫化水素を塩化水
素ガス流通下に反応させる方法［ジャーナル オブ オ
ーガニック ケミストリー（Journal of Organic Chemi
stry）、38巻、2361頁（1973年）参照］、（５）１，４
−ジケトン誘導体を低温で硫化水素、塩化水素と反応さ
せる方法［テトラヘドロン（Tetrahedron ）、32巻、28
17頁（1976年）参照］、（６）１，４−ジケトン誘導体
を脱水剤の存在下、硫化水素、塩化水素と反応させる方
法［ジャーナル オブ オーガニック ケミストリー
（Journal of Organic Chemistry）、17巻、1405頁（19
52年）参照］で製造されることが知られている。
（１）オレフィン、ジエンと硫化水素とを触媒の存在
下、４００℃以上の高温で反応させる方法（例えば、特
開昭５０−１２２４８３号公報、特開昭５０−１２３６
６１号公報、特開昭５１−１２２０６１号公報参照）、
（２）ジエンと硫黄を水蒸気とともに４００℃以上の高
温で反応させる方法（例えば、特開昭５４−７６５７４
号公報参照）、（３）アルコール、アルデヒドなどを二
硫化炭素と金属酸化物触媒の存在下、約５００℃で反応
させる方法（米国特許第３８２２２８９号参照）、
（４）１，４−ジアルデヒド誘導体と硫化水素を塩化水
素ガス流通下に反応させる方法［ジャーナル オブ オ
ーガニック ケミストリー（Journal of Organic Chemi
stry）、38巻、2361頁（1973年）参照］、（５）１，４
−ジケトン誘導体を低温で硫化水素、塩化水素と反応さ
せる方法［テトラヘドロン（Tetrahedron ）、32巻、28
17頁（1976年）参照］、（６）１，４−ジケトン誘導体
を脱水剤の存在下、硫化水素、塩化水素と反応させる方
法［ジャーナル オブ オーガニック ケミストリー
（Journal of Organic Chemistry）、17巻、1405頁（19
52年）参照］で製造されることが知られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記（１）〜（３）の
方法では、高温を要すること、タールおよびコークス状
物が生成し、触媒を使用する場合には触媒の再生が頻繁
に必要となること、３位に置換基を有するチオフェン類
を製造する場合には異性体が生成し易いこと等の問題点
があった。また、上記（４）〜（６）の方法では、使用
する硫化水素と塩化水素の量が示されていないが、次の
ような欠点がある。（４）の方法については、本発明者
らの実験によれば、反応を完結させるために多量の塩化
水素ガスが必要であり、その塩化水素の処理が問題とな
る。（５）の方法を１，４−ジアルデヒド誘導体に適用
した場合、本発明者らの実験によれば、チオフェン類は
低い収率でしか得られなかった。また、（６）の方法
は、脱水剤として等モル以上の塩化亜鉛や塩化スズの存
在下に製造しなければならない。
方法では、高温を要すること、タールおよびコークス状
物が生成し、触媒を使用する場合には触媒の再生が頻繁
に必要となること、３位に置換基を有するチオフェン類
を製造する場合には異性体が生成し易いこと等の問題点
があった。また、上記（４）〜（６）の方法では、使用
する硫化水素と塩化水素の量が示されていないが、次の
ような欠点がある。（４）の方法については、本発明者
らの実験によれば、反応を完結させるために多量の塩化
水素ガスが必要であり、その塩化水素の処理が問題とな
る。（５）の方法を１，４−ジアルデヒド誘導体に適用
した場合、本発明者らの実験によれば、チオフェン類は
低い収率でしか得られなかった。また、（６）の方法
は、脱水剤として等モル以上の塩化亜鉛や塩化スズの存
在下に製造しなければならない。
【０００４】本発明の目的は、温和な条件で、塩化水素
を触媒量程度、反応系に存在させることにより、選択性
よくチオフェン類を製造し得る工業的に有利な方法を提
供することにある。
を触媒量程度、反応系に存在させることにより、選択性
よくチオフェン類を製造し得る工業的に有利な方法を提
供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、上記の
目的は、下記一般式（Ｉ）
目的は、下記一般式（Ｉ）
【０００６】
【化３】
【０００７】（式中、Ｒは水素原子、アルキル基または
アリール基を表し、Ａは保護されたホルミル基を表
す。）で示される１，４−ジアルデヒド誘導体［以下、
これを１，４−ジアルデヒド誘導体（Ｉ）と略記するこ
とがある］を、当該１，４−ジアルデヒド誘導体（Ｉ）
１モルに対して０．００１〜０．５モル量の塩化水素の
存在下に７０〜１８０℃の温度で硫化水素と反応させる
ことを特徴とする下記一般式（II）
アリール基を表し、Ａは保護されたホルミル基を表
す。）で示される１，４−ジアルデヒド誘導体［以下、
これを１，４−ジアルデヒド誘導体（Ｉ）と略記するこ
とがある］を、当該１，４−ジアルデヒド誘導体（Ｉ）
１モルに対して０．００１〜０．５モル量の塩化水素の
存在下に７０〜１８０℃の温度で硫化水素と反応させる
ことを特徴とする下記一般式（II）
【０００８】
【化４】
【０００９】（式中、Ｒは前記定義のとおりである。）
で示されるチオフェン類［以下、これをチオフェン類
（II）と略記することがある］の製造方法を提供するこ
とにより達成される。
で示されるチオフェン類［以下、これをチオフェン類
（II）と略記することがある］の製造方法を提供するこ
とにより達成される。
【００１０】上記一般式（Ｉ）および（II）において、
Ｒが表すアルキル基は、直鎖状または分岐鎖状のどちら
でもよく、好適なアルキル基として、メチル基、エチル
基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、第二級ブ
チル基、ペンチル基、ヘキシル基などの低級アルキル基
が挙げられる。かかるアルキル基は塩素原子、臭素原
子、ヨウ素原子などのハロゲン原子；メトキシ基、エト
キシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基などのアルコ
キシル基；メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル
基、プロポキシカルボニル基などのアルコキシカルボニ
ル基；フェニル基、メチルフェニル基、メトキシフェニ
ル基、クロロフェニル基などのアリール基などで置換さ
れていてもよい。
Ｒが表すアルキル基は、直鎖状または分岐鎖状のどちら
でもよく、好適なアルキル基として、メチル基、エチル
基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、第二級ブ
チル基、ペンチル基、ヘキシル基などの低級アルキル基
が挙げられる。かかるアルキル基は塩素原子、臭素原
子、ヨウ素原子などのハロゲン原子；メトキシ基、エト
キシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基などのアルコ
キシル基；メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル
基、プロポキシカルボニル基などのアルコキシカルボニ
ル基；フェニル基、メチルフェニル基、メトキシフェニ
ル基、クロロフェニル基などのアリール基などで置換さ
れていてもよい。
【００１１】Ｒが表すアリール基としては、例えばフェ
ニル基、ナフチル基などが挙げられ、これらは上記のア
ルキル基と同様にハロゲン原子、アルコキシル基、アル
コキシカルボニル基などで置換されていてもよい。
ニル基、ナフチル基などが挙げられ、これらは上記のア
ルキル基と同様にハロゲン原子、アルコキシル基、アル
コキシカルボニル基などで置換されていてもよい。
【００１２】また、Ａが表す保護されたホルミル基とし
ては、例えば次に示すものを挙げることができる。
ては、例えば次に示すものを挙げることができる。
【００１３】
【化５】
【００１４】上記の反応において塩化水素は１，４−ジ
アルデヒド誘導体（Ｉ）１．０モルに対して０．００１
〜０．５モルの範囲で使用する。塩化水素の使用量が上
記の０．００１モルよりも少ない場合には、収率が低く
なるため好ましくない。また、塩化水素を上記の０．５
モルより多く用いたとしても、収率の向上などの格段の
効果は期待できない。塩化水素の使用量としては、１，
４−ジアルデヒド誘導体（Ｉ）１．０モルに対して０．
０１〜０．５モルの範囲が好ましい。
アルデヒド誘導体（Ｉ）１．０モルに対して０．００１
〜０．５モルの範囲で使用する。塩化水素の使用量が上
記の０．００１モルよりも少ない場合には、収率が低く
なるため好ましくない。また、塩化水素を上記の０．５
モルより多く用いたとしても、収率の向上などの格段の
効果は期待できない。塩化水素の使用量としては、１，
４−ジアルデヒド誘導体（Ｉ）１．０モルに対して０．
０１〜０．５モルの範囲が好ましい。
【００１５】上記の反応において硫化水素は１，４−ジ
アルデヒド誘導体（Ｉ）１．０モルに対して０．７５〜
２．０モルの範囲で使用するのが好ましく、１．０〜
１．５モルの範囲で使用するのがより好ましい。
アルデヒド誘導体（Ｉ）１．０モルに対して０．７５〜
２．０モルの範囲で使用するのが好ましく、１．０〜
１．５モルの範囲で使用するのがより好ましい。
【００１６】反応は不活性溶媒の存在下または不存在下
で行われる。用いられる溶媒としては、反応を著しく阻
害しないもので、チオフェン類と分離可能なものであれ
ばよく、例えば、ヘキサン、オクタン、デカリン、ベン
ゼン、トルエン、キシレン、クメン、メシチレン、シメ
ン、テトラリン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、
ブロモベンゼン、ニトロベンゼンなどの炭化水素系溶
媒；ジイソプロピルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン、ジグライム、トリグライム、テトラグライム
などのエーテル系溶媒；メタノール、エタノール、プロ
パノール、イソプロパノール、ブタノール、ヘキサノー
ル、オクタノールなどのアルコール系溶媒；酢酸メチ
ル、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系溶媒など
が挙げられる。これらの溶媒は単独で、または２種以上
の組合わせで使用される。溶媒は、反応液中での塩化水
素濃度が０．０１モル／リットルを下回らない範囲内で
用いることが必要である。
で行われる。用いられる溶媒としては、反応を著しく阻
害しないもので、チオフェン類と分離可能なものであれ
ばよく、例えば、ヘキサン、オクタン、デカリン、ベン
ゼン、トルエン、キシレン、クメン、メシチレン、シメ
ン、テトラリン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、
ブロモベンゼン、ニトロベンゼンなどの炭化水素系溶
媒；ジイソプロピルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン、ジグライム、トリグライム、テトラグライム
などのエーテル系溶媒；メタノール、エタノール、プロ
パノール、イソプロパノール、ブタノール、ヘキサノー
ル、オクタノールなどのアルコール系溶媒；酢酸メチ
ル、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系溶媒など
が挙げられる。これらの溶媒は単独で、または２種以上
の組合わせで使用される。溶媒は、反応液中での塩化水
素濃度が０．０１モル／リットルを下回らない範囲内で
用いることが必要である。
【００１７】反応は７０〜１８０℃の範囲の温度で行
う。７０℃よりも低い温度では反応が進みにくくなり好
ましくない。また、反応温度を１８０℃より高い温度ま
で加温しても、収率は高くならず、加温のために高価な
熱源が必要となるなど経済的にも好ましくない。反応時
間は通常１分間〜１００時間、好ましくは１０分間〜５
０時間の範囲であるが、反応条件に応じて適当な反応時
間を選ぶことができる。
う。７０℃よりも低い温度では反応が進みにくくなり好
ましくない。また、反応温度を１８０℃より高い温度ま
で加温しても、収率は高くならず、加温のために高価な
熱源が必要となるなど経済的にも好ましくない。反応時
間は通常１分間〜１００時間、好ましくは１０分間〜５
０時間の範囲であるが、反応条件に応じて適当な反応時
間を選ぶことができる。
【００１８】反応は常圧または加圧下に行われる。使用
する溶媒の沸点が反応温度より低い場合には、加圧下に
反応を行うことが好ましい。なお、圧力は、使用する溶
媒の種類、反応温度などの反応条件により、適宜設定す
ることができ、ゲージ圧で０．０１気圧から圧力容器の
耐圧範囲内である。
する溶媒の沸点が反応温度より低い場合には、加圧下に
反応を行うことが好ましい。なお、圧力は、使用する溶
媒の種類、反応温度などの反応条件により、適宜設定す
ることができ、ゲージ圧で０．０１気圧から圧力容器の
耐圧範囲内である。
【００１９】本反応において、１，４−ジアルデヒド誘
導体（Ｉ）、硫化水素および塩化水素を混合する方法は
特に限定されないが、１，４−ジアルデヒド誘導体
（Ｉ）と硫化水素の混合物に塩化水素を加えるか、硫化
水素と塩化水素の混合物に１，４−ジアルデヒド誘導体
（Ｉ）を添加する方法が好ましい。混合する際の温度は
特に限定されない。すなわち、反応温度（７０〜１８０
℃）に加温しておいて混合させることもできるし、反応
温度より低い温度で混合したのち７０〜１８０℃に加温
して反応させることもできる。
導体（Ｉ）、硫化水素および塩化水素を混合する方法は
特に限定されないが、１，４−ジアルデヒド誘導体
（Ｉ）と硫化水素の混合物に塩化水素を加えるか、硫化
水素と塩化水素の混合物に１，４−ジアルデヒド誘導体
（Ｉ）を添加する方法が好ましい。混合する際の温度は
特に限定されない。すなわち、反応温度（７０〜１８０
℃）に加温しておいて混合させることもできるし、反応
温度より低い温度で混合したのち７０〜１８０℃に加温
して反応させることもできる。
【００２０】反応後の単離精製は通常の方法により行う
ことができる。例えば、反応混合物をアルカリで中和
し、水にあけ、分液または有機溶媒で抽出する。抽出液
を濃縮して粗生成物を得、該粗生成物を必要に応じて蒸
留、再結晶、クロマトグラフィーなどにより精製し、チ
オフェン類（II）を得る。
ことができる。例えば、反応混合物をアルカリで中和
し、水にあけ、分液または有機溶媒で抽出する。抽出液
を濃縮して粗生成物を得、該粗生成物を必要に応じて蒸
留、再結晶、クロマトグラフィーなどにより精製し、チ
オフェン類（II）を得る。
【００２１】原料となる１，４−ジアルデヒド誘導体
（Ｉ）は、公知の方法、例えば、ジャーナル オブ オ
ーガニック ケミストリー（Journal of Organic Chemi
stry）、38巻、2361頁（1973年）に示される方法によ
り、容易に製造される。
（Ｉ）は、公知の方法、例えば、ジャーナル オブ オ
ーガニック ケミストリー（Journal of Organic Chemi
stry）、38巻、2361頁（1973年）に示される方法によ
り、容易に製造される。
【００２２】
【実施例】以下、実施例および比較例により本発明を具
体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により何ら
限定されるものではない。
体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により何ら
限定されるものではない。
【００２３】比較例１ ［前記（４）の方法］４，４−ジメトキシ−３−メチル
ブタナール１．１ｇ（７．５ｍｍｏｌ）をメタノール３
７ｍｌに溶解した。この溶液に硫化水素を室温で１時間
吹き込み、飽和させた。次に６０℃に加熱し、塩化水素
を継続的に２時間、反応液表面に流通させた。塩化水素
の使用量は原料の１０倍モルであった。反応液に水３５
ｍｌを加え、ペンタン２０ｍｌで４回抽出した。無水硫
酸マグネシウムで乾燥し、常圧で溶媒を留去した。その
後、クーゲルロールで蒸留し、３−メチルチオフェン
０．３０ｇ（３．１ｍｍｏｌ）が得られた（収率４１
％）。
ブタナール１．１ｇ（７．５ｍｍｏｌ）をメタノール３
７ｍｌに溶解した。この溶液に硫化水素を室温で１時間
吹き込み、飽和させた。次に６０℃に加熱し、塩化水素
を継続的に２時間、反応液表面に流通させた。塩化水素
の使用量は原料の１０倍モルであった。反応液に水３５
ｍｌを加え、ペンタン２０ｍｌで４回抽出した。無水硫
酸マグネシウムで乾燥し、常圧で溶媒を留去した。その
後、クーゲルロールで蒸留し、３−メチルチオフェン
０．３０ｇ（３．１ｍｍｏｌ）が得られた（収率４１
％）。
【００２４】比較例２ ［前記（５）の方法］４，４−ジメトキシ−３−メチル
ブタナール２．３ｇ（１６ｍｍｏｌ）、内部標準物質と
してのジフェニルおよびエタノール２００ｍｌの溶液
に、−５０℃で硫化水素を吹き込んだ。次に、塩化水素
を１．５時間導入した。さらに同温度で４時間硫化水素
を流通させた。硫化水素、塩化水素ともに原料に対して
過剰量使用した。反応液をガスクロマトグラフィーを用
いて内部標準法で分析した結果、３ーメチルチオフェン
が０．２４ｇ（２．４ｍｍｏｌ）生成していることが分
かった（収率１５％）。
ブタナール２．３ｇ（１６ｍｍｏｌ）、内部標準物質と
してのジフェニルおよびエタノール２００ｍｌの溶液
に、−５０℃で硫化水素を吹き込んだ。次に、塩化水素
を１．５時間導入した。さらに同温度で４時間硫化水素
を流通させた。硫化水素、塩化水素ともに原料に対して
過剰量使用した。反応液をガスクロマトグラフィーを用
いて内部標準法で分析した結果、３ーメチルチオフェン
が０．２４ｇ（２．４ｍｍｏｌ）生成していることが分
かった（収率１５％）。
【００２５】実施例１ 耐圧ビンに４，４−ジメトキシ−３−メチルブタナール
０．２８ｇ（１．９ｍｍｏｌ）および内部標準物質とし
てのジフェニルを入れた。−２０℃まで冷却し、硫化水
素メタノール溶液（０．６８ｍｏｌ／リットル）３．４
ｍｌを加え、数分間撹拌し、次に塩化水素メタノール溶
液（５．８ｍｏｌ／リットル）０．０３５ｍｌ加えた。
−２０℃で３０分間撹拌した後、室温で３０分間撹拌
し、さらに８０℃で６時間撹拌した。反応液をガスクロ
マトグラフィーを用いて内部標準法で分析した結果、３
ーメチルチオフェンが０．１６ｇ（１．６ｍｍｏｌ）生
成していた（収率８４％）。
０．２８ｇ（１．９ｍｍｏｌ）および内部標準物質とし
てのジフェニルを入れた。−２０℃まで冷却し、硫化水
素メタノール溶液（０．６８ｍｏｌ／リットル）３．４
ｍｌを加え、数分間撹拌し、次に塩化水素メタノール溶
液（５．８ｍｏｌ／リットル）０．０３５ｍｌ加えた。
−２０℃で３０分間撹拌した後、室温で３０分間撹拌
し、さらに８０℃で６時間撹拌した。反応液をガスクロ
マトグラフィーを用いて内部標準法で分析した結果、３
ーメチルチオフェンが０．１６ｇ（１．６ｍｍｏｌ）生
成していた（収率８４％）。
【００２６】実施例２ 耐圧ビンに、４、４−ジメトキシ−３−メチルブタナー
ル０．２５ｇ（１．７ｍｍｏｌ）および内部標準物質と
してのジフェニルを入れた。硫化水素オクタノール溶液
（０．１６ｍｏｌ／リットル）１１ｍｌを加え、数分間
撹拌した後、塩化水素オクタノール溶液（３．８３ｍｏ
ｌ／リットル）０．２２ｍｌを加えた。室温で３０分間
撹拌し、さらに１２０℃で２．５時間撹拌した。反応液
をガスクロマトグラフィーを用いて内部標準法で分析し
た結果、３ーメチルチオフェンが０．１１ｇ（１．１ｍ
ｍｏｌ）生成していた（収率６５％）。
ル０．２５ｇ（１．７ｍｍｏｌ）および内部標準物質と
してのジフェニルを入れた。硫化水素オクタノール溶液
（０．１６ｍｏｌ／リットル）１１ｍｌを加え、数分間
撹拌した後、塩化水素オクタノール溶液（３．８３ｍｏ
ｌ／リットル）０．２２ｍｌを加えた。室温で３０分間
撹拌し、さらに１２０℃で２．５時間撹拌した。反応液
をガスクロマトグラフィーを用いて内部標準法で分析し
た結果、３ーメチルチオフェンが０．１１ｇ（１．１ｍ
ｍｏｌ）生成していた（収率６５％）。
【００２７】実施例３ 実施例１において、４，４−ジメトキシ−３−メチルブ
タナール０．２８ｇ（１．９ｍｍｏｌ）の代わりに４，
４−ジメトキシブタナール０．２５ｇ（１．９ｍｍｏ
ｌ）を用いた以外は実施例１と同様にして反応を行い、
チオフェンを得た（収率７３％）。
タナール０．２８ｇ（１．９ｍｍｏｌ）の代わりに４，
４−ジメトキシブタナール０．２５ｇ（１．９ｍｍｏ
ｌ）を用いた以外は実施例１と同様にして反応を行い、
チオフェンを得た（収率７３％）。
【００２８】実施例４ 実施例１において、４，４−ジメトキシ−３−メチルブ
タナール０．２８ｇ（１．９ｍｍｏｌ）の代わりに４，
４−ジメトキシ−３−イソプロピルブタナール０．３３
ｇ（１．９ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例１と同様に
して反応を行い、３−イソプロピルチオフェンを得た
（収率８１％）。
タナール０．２８ｇ（１．９ｍｍｏｌ）の代わりに４，
４−ジメトキシ−３−イソプロピルブタナール０．３３
ｇ（１．９ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例１と同様に
して反応を行い、３−イソプロピルチオフェンを得た
（収率８１％）。
【００２９】実施例５ 実施例１において、４，４−ジメトキシ−３−メチルブ
タナール０．２８ｇ（１．９ｍｍｏｌ）の代わりに４，
４−ジメトキシ−３−フェニルブタナール０．４０ｇ
（１．９ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例１と同様にし
て反応を行い、３−フェニルチオフェンを得た（収率７
８％）。
タナール０．２８ｇ（１．９ｍｍｏｌ）の代わりに４，
４−ジメトキシ−３−フェニルブタナール０．４０ｇ
（１．９ｍｍｏｌ）を用いた以外は実施例１と同様にし
て反応を行い、３−フェニルチオフェンを得た（収率７
８％）。
【００３０】実施例６〜７ 実施例１において、４，４−ジメトキシ−３−メチルブ
タナール０．２８ｇ（１．９ｍｍｏｌ）の代わりに表１
に示す化合物１．９ｍｍｏｌを用いた以外は実施例１と
同様にして反応を行い、３−メチルチオフェンを得た。
タナール０．２８ｇ（１．９ｍｍｏｌ）の代わりに表１
に示す化合物１．９ｍｍｏｌを用いた以外は実施例１と
同様にして反応を行い、３−メチルチオフェンを得た。
【００３１】
【表１】
【００３２】
【発明の効果】本発明によれば、チオフェンまたは３位
に置換基を有するチオフェンが、温和な条件下、塩化水
素を触媒量程度反応系に存在させることにより、選択性
よく工業的に有利に製造される。
に置換基を有するチオフェンが、温和な条件下、塩化水
素を触媒量程度反応系に存在させることにより、選択性
よく工業的に有利に製造される。
Claims (1)
- 【請求項１】 下記一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｒは水素原子、アルキル基またはアリール基を
表し、Ａは保護されたホルミル基を表す。）で示される
１，４−ジアルデヒド誘導体を、当該１，４−ジアルデ
ヒド誘導体１モルに対して０．００１〜０．５モル量の
塩化水素の存在下に７０〜１８０℃の温度で硫化水素と
反応させることを特徴とする下記一般式（II） 【化２】 （式中、Ｒは前記定義のとおりである。）で示されるチ
オフェン類の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6190584A JPH0853439A (ja) | 1994-08-12 | 1994-08-12 | チオフェン類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6190584A JPH0853439A (ja) | 1994-08-12 | 1994-08-12 | チオフェン類の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0853439A true JPH0853439A (ja) | 1996-02-27 |
Family
ID=16260501
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6190584A Pending JPH0853439A (ja) | 1994-08-12 | 1994-08-12 | チオフェン類の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0853439A (ja) |
-
1994
- 1994-08-12 JP JP6190584A patent/JPH0853439A/ja active Pending
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