JPH0852901A - ラスタ出力スキャナー画像形成システム及び非均一スポットサイズのばらつき補正方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 画像面における走査ビームのスポット幅のば
らつきを補正する手段を提供する。 【解決手段】 画像信号となる画素を分離する反復デー
タパターンを用いた較正パターンが、走査線に沿って形
成される。信号はゼログラフィックバイアス基準レベル
で測定される。最大（最適）スポットサイズが識別され
ると、走査線に沿って全ての他の画素にビーム強度を増
加する信号が生成され、これにより走査線全体を横切る
全てのスポットがゼログラフィックバイアス基準レベル
において同じ幅を有するようになる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明が属する技術分野】本発明はラスタ走査システム
に関し、より詳細には、接線方向にオフセットされた過
密の（overfilled：オーバーフィルド) ポリゴンＲＯＳ
を有する走査システム及びスポットサイズ補正を提供す
る手段に関する。

【０００２】

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】ラスタ
出力スキャナー（ＲＯＳ）を用いる従来技術のプリンタ
ーは一般に回転ポリゴンも使用し、該ポリゴンはポリゴ
ンの回転軸に平行する平坦な反射面、即ちファセットを
有する。ヘリウム−ネオンレーザ又はダイオードレーザ
等の光ビームが光源から放射される。光ビームはポリゴ
ン前調整光学系を通過し、画像入力信号に従って変調さ
れ、回転ポリゴンのファセット面上へ向けられる。ビー
ムは反射されてポリゴン後調整光学系を通過し、感光性
画像面の全処理幅を横切って走査され、像様の走査線露
光を行う。これらの従来技術のＲＯＳシステムにおいて
ポリゴン前調整光学系は、各ポリゴンファセットに向け
られる光ビームがファセットの一部分のみを照射する低
密の（underfilled:アンダーフィルド）ファセットのデ
ザイン又は光ビームが各ファセットを完全に照射し且つ
隣接するファセットの小部分も照射するオーバーフィル
ドファセットのデザインのいずれかに組み込まれる。二
つのデザインを比較すると、オーバーフィルドのデザイ
ンでは画像面で所与のスポットサイズを生じるのに必要
なファセットサイズを大幅に低下させることが可能にな
り、より多くのファセットが同直径のポリゴン上に設け
られるようになる。このことにより、走査システムが比
較的低い回転速度で作動されることができ、少ない動力
の（及びより低いコストの）ポリゴンモータ及びポリゴ
ンモータ駆動装置を使用することができる。この利点
は、二つの要因により一部相殺される。その二つの要因
とは、低いスループット効率及び画像面に走査線を形成
するスポットの幅におけるスポット幅のばらつきであ
る。低効率（一般に１０から１５％）を許容するには、
より高出力のレーザダイオードが通常必要とされる。本
発明によると、スポットサイズのばらつきは、アンダー
フィルド及びオーバーフィルドの両デザインに適用可能
な公知の非均一性スマイル（smile)補正回路を変えるこ
とにより補正される。いずれのシステムにおいても、光
ビームの当たったファセットの見かけの幅が変わるた
め、走査方向のビームスポットサイズの直径は走査開始
（ＳＯＳ）位置から走査終了（ＥＯＳ）位置にかけて変
化する。言い換えれば、ポリゴンが回転すると、ファセ
ットは高速走査方向の限界開口（limiting aperture)を
定めるため、受光面における走査線のスポットの幅はフ
ァセットの見かけの幅に依存する。高速走査方向のスポ
ットサイズ直径のばらつきは２０％もの大きさになりう
る。そのようなばらつきのため、接線方向にオフセット
されたオーバーフィルドのデザインは高品質のＲＯＳシ
ステムには許容されなくなる。走査ビームは、走査の両
端での照射強度の減少により認められる固有のビーム強
度のばらつき（一般に "歪み（frown)" と称される状
態)を示す。歪みは、出力プリントにおける強度の非均
一性の唯一の原因ではない。非均一性を生じる他の考え
られる原因は、ゼログラフィック（電子写真）印刷シス
テム内の電荷及び現像のばらつき、ポリゴンファセット
の反射率の非均一性、レーザ出力の性能低下、変調効率
の損失などである。これらの書き込みビームの強度のば
らつきのある程度の補償を達成する様々な技術が当該技
術分野において公知である。一つの技術はレーザをフィ
ードバックループに組み込み、励起レベルを電子的に制
御するものである。米国特許第４，４００，７４０号に
開示された別の技術は、ビデオ画像信号をビーム強度信
号と結合させて入力を変調器ポートに提供し、該変調器
ポートがビーム強度を調節するシステムを述べている。
さらに別の技術がネギシ他（Negishi et al.) の米国特
許第４，７２７，３８２号において開示されており、レ
ーザビームプリンタのレーザのための強度制御デバイス
が述べられている。この強度制御デバイスは、非走査モ
ードの間に存在するレーザの光強度である第１の表示を
記憶し、ハードコピーのためにユーザが選択した画像濃
度である第２の表示をさらに記憶する。コラム１、ライ
ン６７からコラム２、ライン２９までを参照のこと。製
造時にレーザ源を評価し、ＲＯＭにプログラム即ち "バ
ーン”・インをして出力信号に "スマイル" 補正を行
い、特定の歪みや出力強度のばらつきを補償すること
も、当該技術分野において公知である。別のタイプのス
マイル補正が、本発明と同じ譲受人に譲渡された米国特
許第４，９７８，１８５号において開示されている。該
特許において開示された技術は適切な初期補償を提供す
るが、時の経過に伴って変化を生じる上記の他の非均一
性要因に対する補正をしない。レーザ源は、後の補正で
バーン・インされた新しいＲＯＭを有することが可能で
あるが、これは費用のかかる解決法であり、サブアセン
ブリ領域へ移動することが必要になる。さらに別のタイ
プのスマイル補正が、本発明と同じ譲受人に譲渡された
米国特許第５，１６５，０７４号において開示されてい
る。該特許において、受光体が様々なテストパターンで
露光され、現像されて出力プリントへ転写される。結果
として生じるプリントは複数のテストパターンの縞を有
し、各縞は特定のビーム強度補正信号と関連している。
最適濃度の縞は対応するデジタルビーム強度補正信号に
おいて識別され、レーザに適用される。

【０００３】さらに別の高速走査速度サイズ補正が、本
願と共に出願中の出願番号０９７１０３３において開示
されている。この出願では、レーザビーム源に適用され
る駆動信号のパルス幅を変調することにより補正が達成
される。

【０００４】上記の従来技術の解決法のいずれも、オー
バーフィルドシステムにおける高速走査スポットサイズ
のばらつき補正に向けたものではない。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明によると、高速走
査較正光変調パターンがレーザＲＯＳシステムにより生
成される。高速走査スポット幅が、ＣＣＤカメラ又は他
のビーム幅測定装置により走査線に沿った複数の点に沿
って測定される。ゼログラフィック（受光体（例えば、
感光体））バイアス露光レベルにおける各ビームの照射
プロファイル幅が測定され、最大ビーム幅が決定され、
最大の検出ビーム幅と等しくなるように走査線に沿った
全ての点での露光レベルが増加される。

【０００６】本発明の請求項１の態様は、ラスタ出力ス
キャナー（ＲＯＳ）画像形成システムであって、コヒー
レントな変調されコリメートされた光ビーム出力を光路
に沿って発するための光源を含み、ビデオデータを前記
光源に与えるための電子サブシステムを含み、感光性画
像面を含み、光源と感光性画像面との間の光路に配置さ
れ、ポリゴンのファセットへ向けられるコリメートされ
た光ビームを走査線として感光性画像面を横切って高速
走査方向に走査するための回転可能なマルチファセット
ポリゴンを含み、前記走査線が特性幅を有する複数のス
ポットを含み、前記ポリゴンから反射された光ビームを
前記高速走査及び低速走査方向に焦点合わせをするため
のポリゴン後光学システムを含み、前記電子サブシステ
ムがさらに、画像面の走査線でのスポットが同一の幅を
有するように前記光ビーム出力の強度を変えるスポット
サイズ補正回路を含むことを特徴とする。

【０００７】本発明の請求項２の態様は、ラスタ出力ス
キャナー（ＲＯＳ）システムにおける非均一なスポット
サイズのばらつきを補正する方法であって、感光媒体を
予め決められたゼログラフィックバイアスレベルにバイ
アスし、前記媒体を予め決められた帯電レベルに帯電す
るステップと、コヒーレントなコリメートされた光ビー
ムを発し、前記ビームを光路に沿って指向するステップ
と、前記ビームを前記ビームの光路に配置されたマルチ
ファセットポリゴンから反射させることにより変調され
たビームを感光媒体を横切って走査し、それにより媒体
における高速走査スポットパターンを生成させるステッ
プと、前記バイアスレベルに対応する露光レベルで各ス
ポットの幅を測定するステップと、各スポットが同じ幅
を有するように露光レベルを走査線に沿って選択的に変
えるステップを含む。

【０００８】本発明の請求項３の態様は、予め決められ
たゼログラフィックバイアスレベルにバイアスされた感
光媒体に潜像を形成するために複数のオーバーフィルド
ポリゴンファセットを用いるラスタ出力スキャナー（Ｒ
ＯＳ）システムであって、変調された出力光ビームを提
供するレーザ光源を含み、前記出力光ビームが前記光源
から前記感光媒体へ延びる光路に沿って指向され、前記
変調されたビームの光路に配置される複数の反射ファセ
ットを有するポリゴンスピナーを含み、前記ビームがス
キャナーのファセット上に入射する際各ファセットより
幅広であるように変調されたビームを拡大し焦点合わせ
する手段を含み、前記媒体を横切る焦点合わせされた走
査ビームを提供するポリゴン後レンズを含み、各走査線
が複数の画素からなり、前記レーザ光源の出力を変える
ことによりゼログラフィックバイアス露光レベルでの走
査されたスポットの一定のスポットサイズを維持するた
めのスポットサイズ補正手段を含む。

【０００９】

【発明の実施の形態】まず、スポットサイズ変化の問題
を図１を参照して述べる。図１は、ビーム生成手段１を
含む従来技術のラスタ走査システムを示す。手段１は、
ダイオードレーザ６及びコリメートレンズ７を含む。レ
ーザ６は自己変調であり、変調された出力光ビームは、
電子サブシステム（ＥＳＳ）１３の画像処理ユニットか
ら送られたバイナリ（二値）データ画像信号に含まれる
情報と一致する。画像信号はメモリディスク、ラスタ入
力スキャナー（ＲＩＳ）又はその種のものから生じても
よい。

【００１０】レーザ６からの変調された発散出力ビーム
はレンズ７によりコリメートされ、ミラー２（オプショ
ナル）により偏向されてポリゴン前レンズ３へ達する。
レンズ３は一般に円柱レンズであり、エネルギー分布を
制御してビームをポリゴン４のファセット上に焦点を合
わせる役割をする。ポリゴン４は、オーバーフィルドデ
ザイン構造に合わせて多数のファセットを有するようデ
ザインされている。図１に示されるように、オーバーフ
ィルドデザイン構造では、放射状エネルギービームはポ
リゴン４の回転位置にかかわらず、１より多くのファセ
ットを少なくとも部分的に照射する。ポリゴン４が示さ
れた方向に回転すると、光ビームはポリゴン４のファセ
ットから反射してポリゴン後レンズユニット５を通過
し、該ポリゴン後レンズユニット５は帯電された受光体
（例えば、感光体）１０の幅を横切って高速走査方向に
ビームを走査線１１として結像させる。ポリゴン後結像
レンズ５は、交差走査方向にウォブル（ぶれ）補正を行
うトロイダルｆθ結像レンズ又は従来のｆθレンズ及び
円柱ミラー（図示せず）を含んでもよい。受光体１０
は、図示されない手段によりある一定の帯電バイアスレ
ベルに帯電される。ＤＡＤ（放電領域現像）プロセスに
関しては、受光体の放電領域（ "オン" タイムの画素に
より結像された領域）は後にトナーを付着させる現像手
段により現像され、これにより受光体が視覚的に認知可
能なデータ画像を保持し、画像が出力媒体へ転写される
ことが可能となる。受光体の電荷は（ＤＡＤシステムに
おいて）、レーザがオンにされた走査線に沿う領域の画
素全体に放電される。米国特許第４，８３３，５０３
号、４，６１１，９０１号及び４，７９１，４５２号
は、受光体上に形成された潜像を帯電、現像及び転写す
るのに使用されることが可能な従来のゼログラフィック
システムを開示している。従来の帯電レベルは約８００
−９００ボルトであり、約２００ボルトの受光体（又は
ゼログラフィック）バイアスは、現像剤ハウジングと受
光体との間に付与される電界により生じる。このバイア
スレベルはゼログラフィックバイアスレベルという。受
光体を初期の帯電レベルからゼログラフィックバイアス
レベルへ放電するのに必要な露光量は、ゼログラフィッ
クバイアス露光レベルという。

【００１１】上記のように、オーバーフィルドポリゴン
ＲＯＳに存在する一つの問題は、ファセットの見かけ幅
及び従ってｆθレンズによりみられるような高速走査方
向のビームの幅が、ポリゴンファセットがＳＯＳからＥ
ＯＳに回転する際に走査線に沿って変化してしまうこと
である。例えば図１において、Ｗ_SOS がＷ_EOS と等しく
なくなる（Ｗ_SOS の方が幅広である）。ファセットは高
速走査方向の限定開口を定めるため、受光体でのスポッ
トの幅はファセットの見かけの幅に依存する。ポリゴン
がＳＯＳからＥＯＳに回転すると見かけのファセット幅
が変化するため、受光面でのスポットサイズは半値全幅
（ＦＷＨＭ）で測定されると走査線に沿って変化する。
ＦＷＨＭにおけるこのばらつきは２０％にもなりうる。
この変化はデザイン構造に特有のものであり、レンズデ
ザイン者には大幅には改良できない。ＦＷＨＭにおける
このばらつきは、高品質ＲＯＳシステムとしてこのＲＯ
Ｓ構造を選択することを容認できないものにしている。
ＦＷＨＭはまた、位置合わせ公差、加工公差及び収差等
他の要因によっても変化しうる。ＦＷＨＭは走査線のど
こかで最大になる。ゼログラフィックシステムにおける
この問題を補正するために、そして本発明の原理に従っ
て、走査線に沿った最大のＦＷＨＭが高速走査ＦＷＨＭ
の仕様に適合するように光学システムがデザインされ、
以下に述べるように、目下実施されているＥＳＳのスマ
イル補正（露光均一性）システムの変更が、ゼログラフ
ィックバイアスレベルにおけるスポットサイズの均一性
を維持するため使用される。

【００１２】スマイル補正は、走査線を横切る空間的
（aerial) 画像照射の非均一性を補正するためポリゴン
ＲＯＳシステムにおいて使用される公知の技術である。
スマイル補正は、ＲＯＳ走査線に沿ったいくつかの点
（例えば、２０）において照射レベルを測定することに
よってＲＯＳを "較正" することにより達成される。図
２を参照すると、これらの測定はレーザ６を用い、一定
の出力レベルで連続的に "オン" にして画像面で大面積
高速検出器を使用してなされている。連続的に "オン"
にしたレーザによる走査線１１を横切る照射プロファイ
ルは、 "照射基準曲線（illumination reference curv
e)"として知られる。次に走査線に沿った２０の点のう
ち最小照射レベルが決定される。走査線に沿った他の１
９の位置の各々において照射レベルをこの最低レベルへ
下げるのに必要な照射の減少が次に計算される。これら
の計算された減少値がＥＳＳ１３（図１）内の補正回路
に適用され、該回路はスマイル補正回路信号をレーザ６
へ発する。走査線の残りの１９のセクションの各々での
レーザ出力が、走査線に沿って均一照射を達成するため
に減少される。 "オールオン" （全てがオンである）補
正係数と呼ばれる、走査線に沿った各点での減少係数を
示す曲線が図２に示されている。この技術は走査線に沿
った照射均一性のばらつきを補正するが、走査線を横切
るスポットサイズの非均一性を補償しない。

【００１３】本発明によると、従来技術のスマイル補正
技術が、空間的画像照射の非均一性のばらつきの代わり
に走査線に沿ったゼログラフィック高速走査スポット幅
のばらつきを補正するように修正される。（これらのゼ
ログラフィック高速走査スポット幅のばらつきは、空間
的画像照射の非均一性により生じうる。）この補正は、
ＤＡＤゼログラフィックシステムの較正パターンに "ワ
ンオン、セベラルオフ（一つをオンにして、いくつかを
オフにする）" からなる高速走査パターンを使用するこ
とにより達成される。("ワンオフ、セベラルオン（一つ
をオフにして、いくつかをオンにする)"パターンは、Ｃ
ＡＤゼログラフィックシステムに使用される。）この "
ワンオン、セベラルオフ" パターンは走査線毎に繰り返
される。"ワンオン、セベラルオフ" パターンの "基準
曲線" は、パターンの動的高速走査照射プロファイルを
走査線に沿ったいくつかの点（例えば、２０）において
測定することにより得られる。高速走査スポット幅補正
の特定な例として、図１に示されるＲＯＳシステムが図
５に示される較正モードに配置される。このモードでは
ビデオデータ入力がレーザ６に与えられ、レーザ６は "
ワンピクセルオン、セベラルピクセルオフ" のレーザ出
力を与える。いくつかのＣＣＤカメラ１６が画像面に配
置されて相対スポットサイズ強度を測定し、例えば走査
線に沿ったいくつかの点で動的高速走査照射プロファイ
ルを提供する。図３は二つの重ねられたレーザの一般的
なプロファイルであり、一方は走査の中心（ＣＯＳ）に
あり、他方は走査の終わり（ＥＯＳ）にあってビーム幅
はミクロンで測定される。画素プロファイルはワンオ
ン、セベラルオフのビデオデータ入力を用いてうまく測
定できる。一般的なＤＡＤゼログラフィック現像システ
ムでは、ゼログラフィックバイアスレベルを上回る露光
のみが現像される。一般的な２００ボルトのバイアスレ
ベルがＣＣＤカメラの０．２の相対強度レベルにより図
３に示されている。従って、ゼログラフィックシステム
に関連するスポット幅のパラメーターは、ゼログラフィ
ックバイアスレベルでの高速走査方向のスポットの全幅
（ＦＷＸＢと称される）であり、より頻繁に言及される
ＦＷＨＭレベルではない。幅Ａ及びＢとしてそれぞれ示
される、ゼログラフィックバイアスレベル（ＦＷＸＢ）
でのＥＯＳプロファイルとＣＯＳ（補正前）プロファイ
ルの高速走査幅が異なることが注目される。例えば、補
正前のＣＯＳプロファイル（５０ミクロン）はＥＯＳプ
ロファイル（６０ミクロン）よりも狭い幅を有する。こ
の差は実際のＲＯＳにおいてみられる一般的な状況であ
る。図３を参照すると、ゼログラフィックバイアスレベ
ルは照射プロファイルのピーク値とは関係なく受光体感
度とゼログラフィックプロセス制御電圧により決定され
る固定されたレベルであるため、ＦＷＸＢでの照射プロ
ファイルの高速走査幅は照射レベルによって変化する。
上の記述を図示するため及び再び図３を参照すると、補
正前のＣＯＳ画素プロファイルのＦＷＸＢでのビーム幅
Ｂ（鎖線）がある値（例えば、５０ミクロン）である
が、一方、ＣＯＳの補正後のプロファイルのビーム幅Ａ
（点線）はより大きい（例えば、６０ミクロン）。従っ
て、照射プロファイルのピーク値が変わると、ＦＷＸＢ
は補正前のプロファイルから補正後のプロファイルへ変
わることが理解される。図４と比較すると、図４はＣＯ
Ｓ（補正前）プロファイルの半値全幅（ＦＷＨＭ）及び
ＣＯＳ（補正後）プロファイルのＦＷＨＭは同じ４０ミ
クロンの幅Ｃを有することを示し、幅は照射レベルによ
って変化しない。これは、ＦＷＨＭが照射パターンのピ
ークに対して相対的に測定されるためである。従って、
レーザーダイオードの出力が増大すると照射プロファイ
ルのピークは増大するが、ＦＷＨＭは変わらない。上記
の測定技術を用いて、ＦＷＸＢにおいての（ＦＷＨＭに
おいてではなく）高速走査照射プロファイル幅が、走査
線に沿った２０の点の各々で決定される。カメラ１６か
らの出力は、従来技術のスマイル補正回路に代わる高速
走査スポット幅補正回路２０（図５）へ送られる。走査
線のこれらの２０の点の一つにおいて、照射プロファイ
ルのゼログラフィックバイアスレベルにおける全幅、Ｆ
ＷＸＢであるＰｍａｘが最大値になる。走査に沿った各
点でのＦＷＸＢをＰｍにおけるＦＷＸＢに等しくするた
め、走査線に沿った他の各点での照射レベルが増大され
る。この例では、ＥＯＳでのＦＷＸＢはＰｍと仮定す
る。ＣＯＳの画素プロファイルを露光するための照射レ
ベルは、光源の出力パワーを増大させるスポット幅補正
回路２０により図３の点線プロファイル（補正後のＣＯ
Ｓ）に示される値まで増やされる。この露光の増大によ
り、ＣＯＳプロファイルのＦＷＸＢが示されるようなＥ
ＯＳ画素のＦＷＸＢと同じ値へ、例えば５０から６０ミ
クロンへ増加される。

【００１４】走査線に沿った照射レベルの増加は、レー
ザ６に与えられてレーザの出力強度を変える高速走査幅
補正信号を発することにより達成される。

【００１５】本文中に示された実施例が好ましいが、様
々な代替、変更、変化又は改良が当業者によりなされ、
それらは請求の範囲により包含される意図であることが
ここに開示されたこと（teaching) から理解されるであ
ろう。

【００１６】

【発明の効果】本発明によれば、走査線に沿った各点の
ＦＷＸＢでのビーム幅を測定し、スポット幅補正回路２
０でレーザの出力強度を選択的に変えて一点における最
大幅まで残りのスポット幅を増加させることにより、ビ
ームのスポット幅のばらつきを補正することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】オーバーフィルドＲＯＳプリンターデザインの
平面図である。

【図２】露光レベルを補正する従来技術のスマイル補正
を示す、受光体表面の走査線を横切る走査ビーム照射レ
ベルのプロットである。

【図３】画像面のＣＣＤカメラによりゼログラフィック
バイアス（ＦＷＸＢ）レベルに関連して高速走査方向に
測定された、二つの重なり合ったビームのプロファイル
である。

【図４】半値全幅（ＦＷＨＭ）レベルに関連して高速走
査方向に測定された、二つの重なり合ったビームのプロ
ファイルである。

【図５】高速走査スポット幅補正較正モードで作動する
ように変更された図１のシステムを示す。

【符号の説明】

１ ビーム生成手段 ２ ミラー ３ ポリゴン前レンズ ４ ポリゴン ５ ポリゴン後レンズユニット ６ ダイオードレーザ ７ コリメートレンズ １１ 走査線 １３ 電子サブシステム（ＥＳＳ） １６ ＣＣＤカメラ ２０ 高速走査スポット幅補正回路

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ウィリアム エル．ラマ アメリカ合衆国 ニューヨーク州 14450 フェアポート カセドラル オークス ７

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ラスタ出力スキャナー（ＲＯＳ）画像形
   成システムであって、 コヒーレントな変調されコリメートされた光ビーム出力
   を光路に沿って発するための光源を含み、 ビデオデータを前記光源に与えるための電子サブシステ
   ムを含み、 感光性画像面を含み、 光源と感光性画像面との間の光路に配置され、ポリゴン
   のファセットへ向けられるコリメートされた光ビームを
   走査線として感光性画像面を横切って高速走査方向に走
   査するための回転可能なマルチファセットポリゴンを含
   み、前記走査線が特性幅を有する複数のスポットを含
   み、 前記ポリゴンから反射された光ビームを前記高速走査及
   び低速走査方向に焦点合わせをするためのポリゴン後光
   学システムを含み、 前記電子サブシステムがさらに、画像面の走査線でのス
   ポットが同一の幅を有するように前記光ビーム出力の強
   度を変えるスポットサイズ補正回路を含むことを特徴と
   する、 ラスタ出力スキャナー画像形成システム。
2. 【請求項２】 ラスタ出力スキャナー（ＲＯＳ）システ
   ムにおける非均一なスポットサイズのばらつきを補正す
   る方法であって、 感光媒体を予め決められたゼログラフィックバイアスレ
   ベルにバイアスし、前記媒体を予め決められた帯電レベ
   ルに帯電するステップと、 コヒーレントなコリメートされた光ビームを発し、前記
   ビームを光路に沿って指向するステップと、 前記ビームを前記ビームの光路に配置されたマルチファ
   セットポリゴンから反射させることにより変調されたビ
   ームを感光媒体を横切って走査し、それにより媒体にお
   ける高速走査スポットパターンを生成させるステップ
   と、 前記バイアスレベルに対応する露光レベルで各スポット
   の幅を測定するステップと、 各スポットが同じ幅を有するように露光レベルを走査線
   に沿って選択的に変えるステップを含む、 非均一スポットサイズのばらつき補正方法。
3. 【請求項３】 予め決められたゼログラフィックバイア
   スレベルにバイアスされた感光媒体に潜像を形成するた
   めに複数のオーバーフィルドポリゴンファセットを用い
   るラスタ出力スキャナー（ＲＯＳ）システムであって、 変調された出力光ビームを提供するレーザ光源を含み、
   前記出力光ビームが前記光源から前記感光媒体へ延びる
   光路に沿って指向され、 前記変調されたビームの光路に配置される複数の反射フ
   ァセットを有するポリゴンスピナーを含み、 前記ビームがスキャナーのファセット上に入射する際各
   ファセットより幅広であるように変調されたビームを拡
   大し焦点合わせする手段を含み、 前記媒体を横切る焦点合わせされた走査ビームを提供す
   るポリゴン後レンズを含み、各走査線が複数の画素から
   なり、 前記レーザ光源の出力を変えることによりゼログラフィ
   ックバイアス露光レベルでの走査されたスポットの一定
   のスポットサイズを維持するためのスポットサイズ補正
   手段を含む、 ラスタ出力スキャナーシステム。