JPH0852544A - 無欠陥鋳片の製造方法 - Google Patents
無欠陥鋳片の製造方法Info
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- JPH0852544A JPH0852544A JP21056794A JP21056794A JPH0852544A JP H0852544 A JPH0852544 A JP H0852544A JP 21056794 A JP21056794 A JP 21056794A JP 21056794 A JP21056794 A JP 21056794A JP H0852544 A JPH0852544 A JP H0852544A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 浸漬ノズルのやや下位置の鋳型内に静磁界を
発生させた場合に生じるピンホール等の欠陥が生じ難い
無欠陥鋳片の製造方法を提供する。 【構成】 断面四角形の鋳型１０に左右両側に吐出口を
有する浸漬ノズル１１より溶湯を供給し鋳片を連続して
製造する方法において、浸漬ノズル１１よりやや下位置
の鋳型１０内に全幅方向に広がる略均等な磁束密度の静
磁界１２を発生させ、更に浸漬ノズル１１の吐出口面積
を左右アンバランスにした。
発生させた場合に生じるピンホール等の欠陥が生じ難い
無欠陥鋳片の製造方法を提供する。 【構成】 断面四角形の鋳型１０に左右両側に吐出口を
有する浸漬ノズル１１より溶湯を供給し鋳片を連続して
製造する方法において、浸漬ノズル１１よりやや下位置
の鋳型１０内に全幅方向に広がる略均等な磁束密度の静
磁界１２を発生させ、更に浸漬ノズル１１の吐出口面積
を左右アンバランスにした。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、普通鋼、ステンレス鋼
等の連続鋳造において、メニスカス部の溶鋼温度、流速
を上昇して浸漬ノズル近傍の気泡の集積を防止し無欠陥
鋳片を製造する方法に関する。
等の連続鋳造において、メニスカス部の溶鋼温度、流速
を上昇して浸漬ノズル近傍の気泡の集積を防止し無欠陥
鋳片を製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】普通鋼、ステンレス鋼の連続鋳造におい
ては、タンディッシュに貯留した溶湯を、その底部に接
続した浸漬ノズルを経由して連続鋳造用鋳型に導き、連
続的に鋳片を製造することが行われている。そして、前
記浸漬ノズルから鋳型内に注入される溶湯には、多数の
気泡や介在物を含み、これらの介在物や気泡が鋳片内に
侵入すると欠陥となるので、例えば、特公平２−２０３
４９号公報においては、浸漬ノズルから注入される溶融
金属の流れに対してブレーキをかけ、溶湯中の前記介在
物が鋳型深くに侵入するのを防止する連続鋳造モールド
内の溶融金属の攪拌方法が提案されている。また、特開
平３−１４２０４９号公報においては、鋳型の長辺の浸
漬ノズル吐出口の上下に各一対の磁極を配置し、下部の
磁極で浸漬ノズルからの吐出流による下降流の抑制を行
い、上部の磁極で反転流によるメニスカス部の溶湯流速
を低減することにより、介在物の侵入とメニスカス部で
のパウダー巻き込みの抑制を行う静磁場を用いた鋼の連
続鋳造方法が提案されている。
ては、タンディッシュに貯留した溶湯を、その底部に接
続した浸漬ノズルを経由して連続鋳造用鋳型に導き、連
続的に鋳片を製造することが行われている。そして、前
記浸漬ノズルから鋳型内に注入される溶湯には、多数の
気泡や介在物を含み、これらの介在物や気泡が鋳片内に
侵入すると欠陥となるので、例えば、特公平２−２０３
４９号公報においては、浸漬ノズルから注入される溶融
金属の流れに対してブレーキをかけ、溶湯中の前記介在
物が鋳型深くに侵入するのを防止する連続鋳造モールド
内の溶融金属の攪拌方法が提案されている。また、特開
平３−１４２０４９号公報においては、鋳型の長辺の浸
漬ノズル吐出口の上下に各一対の磁極を配置し、下部の
磁極で浸漬ノズルからの吐出流による下降流の抑制を行
い、上部の磁極で反転流によるメニスカス部の溶湯流速
を低減することにより、介在物の侵入とメニスカス部で
のパウダー巻き込みの抑制を行う静磁場を用いた鋼の連
続鋳造方法が提案されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記公
報記載の方法は、主として浸漬ノズルから鋳型内に注入
される溶湯の流れを抑制して、介在物の侵入抑制、パウ
ダー巻き込みの低減を目的としたものであり、メニスカ
ス部の溶湯の流速上昇や、溶湯温度の上昇に対しては効
果が得られない。そこで、本発明者は図３に示すように
浸漬ノズル５０のやや下位置の鋳型５１内に全幅方向に
広がる略均等な磁束密度の静磁界５２を発生させ、これ
によって下降する溶湯にブレーキを与え、メニスカス部
の溶湯の流速を向上し、更には上部の溶湯温度の低下を
防止して、溶湯中に含有する介在物等を浮上分離し、パ
ウダーの巻き込みを防止有効に作用する鋳造方法を開発
した。ところが、浸漬ノズル５０から吐出する溶湯の速
度が速く、磁場の大きさが大きい場合には浸漬ノズル５
０から吐出する溶湯流５３対向してＭＨＤ対向流５４が
発生し、これによって溶湯中に含まれるアルゴンガスの
小気泡が中央側に集まり、鋳型５１の長辺側面に付着し
て、そのまま凝固してピンホールが発生し易いという問
題が生じた。本発明はかかる事情に鑑みなされたもの
で、浸漬ノズルのやや下位置の鋳型内に静磁界を発生さ
せた場合に生じるピンホール等の欠陥が生じ難い無欠陥
鋳片の製造方法を提供することを目的とする。
報記載の方法は、主として浸漬ノズルから鋳型内に注入
される溶湯の流れを抑制して、介在物の侵入抑制、パウ
ダー巻き込みの低減を目的としたものであり、メニスカ
ス部の溶湯の流速上昇や、溶湯温度の上昇に対しては効
果が得られない。そこで、本発明者は図３に示すように
浸漬ノズル５０のやや下位置の鋳型５１内に全幅方向に
広がる略均等な磁束密度の静磁界５２を発生させ、これ
によって下降する溶湯にブレーキを与え、メニスカス部
の溶湯の流速を向上し、更には上部の溶湯温度の低下を
防止して、溶湯中に含有する介在物等を浮上分離し、パ
ウダーの巻き込みを防止有効に作用する鋳造方法を開発
した。ところが、浸漬ノズル５０から吐出する溶湯の速
度が速く、磁場の大きさが大きい場合には浸漬ノズル５
０から吐出する溶湯流５３対向してＭＨＤ対向流５４が
発生し、これによって溶湯中に含まれるアルゴンガスの
小気泡が中央側に集まり、鋳型５１の長辺側面に付着し
て、そのまま凝固してピンホールが発生し易いという問
題が生じた。本発明はかかる事情に鑑みなされたもの
で、浸漬ノズルのやや下位置の鋳型内に静磁界を発生さ
せた場合に生じるピンホール等の欠陥が生じ難い無欠陥
鋳片の製造方法を提供することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】前記目的に沿う請求項１
記載の無欠陥鋳片の製造方法は、断面四角形の鋳型に左
右両側に吐出口を有する浸漬ノズルより溶湯を供給し鋳
片を連続して製造する方法において、前記浸漬ノズルよ
りやや下位置の前記鋳型内に全幅方向に広がる略均等な
磁束密度の静磁界を発生させ、更に、前記浸漬ノズルの
吐出口面積を左右アンバランスにして構成されている。
また、請求項２記載の無欠陥鋳片の製造方法は、断面四
角形の鋳型に左右両側に吐出口を有する浸漬ノズルより
溶湯を供給し鋳片を連続して製造する方法において、前
記浸漬ノズルよりやや下位置の前記鋳型内に全幅方向に
広がる略均等な磁束密度の静磁界を発生させ、前記浸漬
ノズルの前記鋳型に対する位置を偏心させて構成されて
いる。なお、請求項１又は２記載の製造方法において、
前記静磁界の磁束密度は０．１〜１Ｔの間にあるように
するのが好ましい。
記載の無欠陥鋳片の製造方法は、断面四角形の鋳型に左
右両側に吐出口を有する浸漬ノズルより溶湯を供給し鋳
片を連続して製造する方法において、前記浸漬ノズルよ
りやや下位置の前記鋳型内に全幅方向に広がる略均等な
磁束密度の静磁界を発生させ、更に、前記浸漬ノズルの
吐出口面積を左右アンバランスにして構成されている。
また、請求項２記載の無欠陥鋳片の製造方法は、断面四
角形の鋳型に左右両側に吐出口を有する浸漬ノズルより
溶湯を供給し鋳片を連続して製造する方法において、前
記浸漬ノズルよりやや下位置の前記鋳型内に全幅方向に
広がる略均等な磁束密度の静磁界を発生させ、前記浸漬
ノズルの前記鋳型に対する位置を偏心させて構成されて
いる。なお、請求項１又は２記載の製造方法において、
前記静磁界の磁束密度は０．１〜１Ｔの間にあるように
するのが好ましい。
【０００５】
【作用】請求項１及び２記載の無欠陥鋳片の製造方法に
おいては、浸漬ノズルよりやや下位置の鋳型内に全幅方
向に広がる略均等な磁束密度の静磁界を発生させている
ので、浸漬ノズルからやや下位置にブレーキゾーンを設
けたことになり、これによって浸漬ノズルから吐出する
溶湯は水平方向に広がり側壁を沿って上昇し、上部のメ
ニスカス部では両側から内側に流れる溶湯の流速が増大
する。これによって、浸漬ノズルから吐出する溶湯の主
部はブレーキゾーンの上部のみを流れ、下方の冷却ゾー
ンに流れ込み難いので、溶湯の温度が高く、これによっ
て介在物が浮上分離しやすい。そして、請求項１記載の
無欠陥鋳片の製造方法においては、浸漬ノズルの吐出口
を左右アンバランスにしているので、これによって、浸
漬ノズル部に溶湯の流れが生じ、これによって発生する
気泡が流され、鋳型表面に気泡の付着が減少し、ピンホ
ール等の欠陥が生じにくい。また、請求項２記載の無欠
陥鋳片の製造方法においては、浸漬ノズルの前記鋳型に
対する位置を偏心させたので、請求項１記載の方法と同
様、浸漬ノズル部の溶湯の流れが非対称となって、鋳型
中央に溶湯の流れが生じ、これによってピンホール等の
欠陥がなくなる。
おいては、浸漬ノズルよりやや下位置の鋳型内に全幅方
向に広がる略均等な磁束密度の静磁界を発生させている
ので、浸漬ノズルからやや下位置にブレーキゾーンを設
けたことになり、これによって浸漬ノズルから吐出する
溶湯は水平方向に広がり側壁を沿って上昇し、上部のメ
ニスカス部では両側から内側に流れる溶湯の流速が増大
する。これによって、浸漬ノズルから吐出する溶湯の主
部はブレーキゾーンの上部のみを流れ、下方の冷却ゾー
ンに流れ込み難いので、溶湯の温度が高く、これによっ
て介在物が浮上分離しやすい。そして、請求項１記載の
無欠陥鋳片の製造方法においては、浸漬ノズルの吐出口
を左右アンバランスにしているので、これによって、浸
漬ノズル部に溶湯の流れが生じ、これによって発生する
気泡が流され、鋳型表面に気泡の付着が減少し、ピンホ
ール等の欠陥が生じにくい。また、請求項２記載の無欠
陥鋳片の製造方法においては、浸漬ノズルの前記鋳型に
対する位置を偏心させたので、請求項１記載の方法と同
様、浸漬ノズル部の溶湯の流れが非対称となって、鋳型
中央に溶湯の流れが生じ、これによってピンホール等の
欠陥がなくなる。
【０００６】
【実施例】続いて、添付した図面を参照しつつ、本発明
を具体化した実施例につき説明し、本発明の理解に供す
る。ここに、図１は本発明の第１の実施例に係る無欠陥
鋳片の製造方法の概略説明図、図２は本発明の第２の実
施例に係る無欠陥鋳片の製造方法の概略説明図である。
を具体化した実施例につき説明し、本発明の理解に供す
る。ここに、図１は本発明の第１の実施例に係る無欠陥
鋳片の製造方法の概略説明図、図２は本発明の第２の実
施例に係る無欠陥鋳片の製造方法の概略説明図である。
【０００７】図１には本発明の第１の実施例に係る無欠
陥鋳片の製造方法を示すが、図に示すように厚み（短
辺）ｄが０．２５ｍ、幅（長辺）ｗが１．２ｍの連続鋳
造用鋳型１０を用い、両側に溶湯吐出角度が下向き１５
度の吐出口を有する浸漬ノズル１１を鋳型１０の中央で
メニスカス部から２５０ｍｍの位置になるように配置
し、その５０ｍｍ下方の位置に上辺があって電磁石から
なる幅約５０ｍｍの磁極１２を対向して配置し、金型内
に約０．２Ｔ（０．１〜１Ｔであってもよい）の静磁界
を発生させアルミキルド鋼を鋳造速度０．６ｍ／ｍｉｎ
で鋳造をした。
陥鋳片の製造方法を示すが、図に示すように厚み（短
辺）ｄが０．２５ｍ、幅（長辺）ｗが１．２ｍの連続鋳
造用鋳型１０を用い、両側に溶湯吐出角度が下向き１５
度の吐出口を有する浸漬ノズル１１を鋳型１０の中央で
メニスカス部から２５０ｍｍの位置になるように配置
し、その５０ｍｍ下方の位置に上辺があって電磁石から
なる幅約５０ｍｍの磁極１２を対向して配置し、金型内
に約０．２Ｔ（０．１〜１Ｔであってもよい）の静磁界
を発生させアルミキルド鋼を鋳造速度０．６ｍ／ｍｉｎ
で鋳造をした。
【０００８】前記浸漬ノズル１１としては、左右の吐出
口のサイズ（面積）比は１対１．６程度であり、このよ
うに構成することによって、鋳型内の左右に異なった流
速及び流量で溶鋼が供給され、これによって、鋳型内に
おけるピンホールの欠陥を防止できると共に、前記磁極
１２によって発生する静磁界によってブレーキゾーンが
形成され、メニスカス部でのパウダーの巻き込みが防止
された。
口のサイズ（面積）比は１対１．６程度であり、このよ
うに構成することによって、鋳型内の左右に異なった流
速及び流量で溶鋼が供給され、これによって、鋳型内に
おけるピンホールの欠陥を防止できると共に、前記磁極
１２によって発生する静磁界によってブレーキゾーンが
形成され、メニスカス部でのパウダーの巻き込みが防止
された。
【０００９】なお、吐出口のサイズ比は１対１．１以上
で１対２．０未満であることが好ましく、１対２．０以
上となると、小さい方の吐出口の通過抵抗が大きくなる
ために溶鋼が片側の吐出口からしか出なくなり、デッケ
ルが生じる。また、１．１未満であると吐出流のアンバ
ランスが小さくなり、結果としてピンホールの発生が増
加し、際立った効果がない。
で１対２．０未満であることが好ましく、１対２．０以
上となると、小さい方の吐出口の通過抵抗が大きくなる
ために溶鋼が片側の吐出口からしか出なくなり、デッケ
ルが生じる。また、１．１未満であると吐出流のアンバ
ランスが小さくなり、結果としてピンホールの発生が増
加し、際立った効果がない。
【００１０】続いて、図２を参照しながら、本発明の第
２の実施例について説明するが、浸漬ノズル以外の部分
は第１の実施例と同一の条件であった。即ち、浸漬ノズ
ル１３としては、左右の吐出口サイズの同一な浸漬ノズ
ルを用い、その配置を鋳型１０の中央位置から右に２０
０ｍｍ移動させた位置に配置し、操業を行った。これに
よって、鋳型１０内のピンホール欠陥を防止すると共
に、溶湯の吐出流を有効に制動して、パウダー巻き込み
等を防止できた。
２の実施例について説明するが、浸漬ノズル以外の部分
は第１の実施例と同一の条件であった。即ち、浸漬ノズ
ル１３としては、左右の吐出口サイズの同一な浸漬ノズ
ルを用い、その配置を鋳型１０の中央位置から右に２０
０ｍｍ移動させた位置に配置し、操業を行った。これに
よって、鋳型１０内のピンホール欠陥を防止すると共
に、溶湯の吐出流を有効に制動して、パウダー巻き込み
等を防止できた。
【００１１】次に、比較実験のために、前記浸漬ノズル
１１の代わりに左右の吐出口が同一サイズの浸漬ノズル
を用い、これを鋳型１０の中央に配置して、他の条件は
前記第１の実施例と同一にして操業を行う（図３参照）
と、パウダーの巻き込みは防止できたが、浸漬ノズルの
前後にＭＨＤ対向流による多数の気泡が中央に集中し、
鋳造された製品に多数のピンホールが発生した。従っ
て、前記第１及び第２の実施例のように、浸漬ノズルか
ら吐出する左右の溶湯を不均衡にし、鋳型内に溶湯の不
均衡流を発生させることによって、溶湯内の気泡に伴う
ピンホールの発生が抑制できることになる。
１１の代わりに左右の吐出口が同一サイズの浸漬ノズル
を用い、これを鋳型１０の中央に配置して、他の条件は
前記第１の実施例と同一にして操業を行う（図３参照）
と、パウダーの巻き込みは防止できたが、浸漬ノズルの
前後にＭＨＤ対向流による多数の気泡が中央に集中し、
鋳造された製品に多数のピンホールが発生した。従っ
て、前記第１及び第２の実施例のように、浸漬ノズルか
ら吐出する左右の溶湯を不均衡にし、鋳型内に溶湯の不
均衡流を発生させることによって、溶湯内の気泡に伴う
ピンホールの発生が抑制できることになる。
【００１２】前記実施例は、磁極の位置は浸漬ノズルの
吐出口から２０ｃｍの位置に配置したが、これに限定さ
れるものではなく、鋳型の大きさ等によって当然変わる
ものである。また、磁極の幅については余り狭いと溶湯
に有効に電磁力が作用しないので、５ｃｍ以上有するこ
とが好ましく、更に４０ｃｍ以上とすることは無駄であ
る。また、前記実施例はアルミキルド鋼について説明し
たが、ステンレス鋼あるいはその他の鋼であっても本発
明は適用される。
吐出口から２０ｃｍの位置に配置したが、これに限定さ
れるものではなく、鋳型の大きさ等によって当然変わる
ものである。また、磁極の幅については余り狭いと溶湯
に有効に電磁力が作用しないので、５ｃｍ以上有するこ
とが好ましく、更に４０ｃｍ以上とすることは無駄であ
る。また、前記実施例はアルミキルド鋼について説明し
たが、ステンレス鋼あるいはその他の鋼であっても本発
明は適用される。
【００１３】
【発明の効果】請求項１及び２記載の無欠陥鋳片の製造
方法は以上の説明からも明らかなように、鋳片幅の中央
部への気泡の集積を防止しながら、浸漬ノズルから吐出
する溶湯を有効に制動して、欠陥の少ない高清浄度鋼を
安定して製造できる。
方法は以上の説明からも明らかなように、鋳片幅の中央
部への気泡の集積を防止しながら、浸漬ノズルから吐出
する溶湯を有効に制動して、欠陥の少ない高清浄度鋼を
安定して製造できる。
【図１】本発明の第１の実施例に係る無欠陥鋳片の製造
方法の概略説明図である。
方法の概略説明図である。
【図２】本発明の第２の実施例に係る無欠陥鋳片の製造
方法の概略説明図である。
方法の概略説明図である。
【図３】静磁界をかけた鋳片の製造方法の概略説明図で
ある。
ある。
１０ 連続鋳造用鋳型 １１ 浸漬ノズル １２ 磁極 １３ 浸漬ノズル
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 久富 良一 福岡県北九州市戸畑区飛幡町１番１号 新 日本製鐵株式会社八幡製鐵所内
Claims (2)
- 【請求項１】 断面四角形の鋳型に左右両側に吐出口を
有する浸漬ノズルより溶湯を供給し鋳片を連続して製造
する方法において、 前記浸漬ノズルよりやや下位置の前記鋳型内に全幅方向
に広がる略均等な磁束密度の静磁界を発生させ、 更に、前記浸漬ノズルの吐出口面積を左右アンバランス
にしたことを特徴とする無欠陥鋳片の製造方法。 - 【請求項２】 断面四角形の鋳型に左右両側に吐出口を
有する浸漬ノズルより溶湯を供給し鋳片を連続して製造
する方法において、 前記浸漬ノズルよりやや下位置の前記鋳型内に全幅方向
に広がる略均等な磁束密度の静磁界を発生させ、 前記浸漬ノズルの前記鋳型に対する位置を偏心させたこ
とを特徴とする無欠陥鋳片の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21056794A JPH0852544A (ja) | 1994-08-10 | 1994-08-10 | 無欠陥鋳片の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21056794A JPH0852544A (ja) | 1994-08-10 | 1994-08-10 | 無欠陥鋳片の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0852544A true JPH0852544A (ja) | 1996-02-27 |
Family
ID=16591466
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21056794A Withdrawn JPH0852544A (ja) | 1994-08-10 | 1994-08-10 | 無欠陥鋳片の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0852544A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107107175A (zh) * | 2015-03-31 | 2017-08-29 | 新日铁住金株式会社 | 钢的连续铸造方法 |
| CN112105469A (zh) * | 2018-07-17 | 2020-12-18 | 日本制铁株式会社 | 铸模设备及连续铸造方法 |
-
1994
- 1994-08-10 JP JP21056794A patent/JPH0852544A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107107175A (zh) * | 2015-03-31 | 2017-08-29 | 新日铁住金株式会社 | 钢的连续铸造方法 |
| CN112105469A (zh) * | 2018-07-17 | 2020-12-18 | 日本制铁株式会社 | 铸模设备及连续铸造方法 |
| CN112105469B (zh) * | 2018-07-17 | 2022-04-15 | 日本制铁株式会社 | 铸模设备及连续铸造方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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