JPH0850361A - 現像処理装置 - Google Patents
現像処理装置Info
- Publication number
- JPH0850361A JPH0850361A JP18447294A JP18447294A JPH0850361A JP H0850361 A JPH0850361 A JP H0850361A JP 18447294 A JP18447294 A JP 18447294A JP 18447294 A JP18447294 A JP 18447294A JP H0850361 A JPH0850361 A JP H0850361A
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- JP
- Japan
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- developing
- developed
- development
- inclination
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Abstract
(57)【要約】
【目的】現像工程における問題点として、ディップ現像
においては、表面活性のばらつきによるムラの発生、処
理時間の長さ、非画線部のレジスト残りの発生があり、
スプレー現像においては、現像液の当たり具合によるム
ラの発生、使用液量が多いため現像コストが高いことが
あった。本発明はこのような従来の現像方法の問題点を
解消する現像方法を採用した現像装置を提供することを
目的とする。 【構成】被現像基板を現像液中に浸漬し保持しながら加
圧した現像液を被現像基板に噴出する現像処理装置にお
いて、被現像基板の搬送方向と直角に設けられた現像液
循環式の現像槽、現像槽の内部へ被現像基板を出し入れ
するディップ搬送アーム、および現像槽の内部現像液を
満たし、かつ被現像基板の現像面に現像液を噴出する複
数のノズルを備えてなる現像処理装置。
においては、表面活性のばらつきによるムラの発生、処
理時間の長さ、非画線部のレジスト残りの発生があり、
スプレー現像においては、現像液の当たり具合によるム
ラの発生、使用液量が多いため現像コストが高いことが
あった。本発明はこのような従来の現像方法の問題点を
解消する現像方法を採用した現像装置を提供することを
目的とする。 【構成】被現像基板を現像液中に浸漬し保持しながら加
圧した現像液を被現像基板に噴出する現像処理装置にお
いて、被現像基板の搬送方向と直角に設けられた現像液
循環式の現像槽、現像槽の内部へ被現像基板を出し入れ
するディップ搬送アーム、および現像槽の内部現像液を
満たし、かつ被現像基板の現像面に現像液を噴出する複
数のノズルを備えてなる現像処理装置。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体集積回路、フォ
トマスク、各種精密エッチング部品、あるいは液晶ディ
スプレイ用カラーフィルターの製造工程等に用いると好
適な現像処理装置に関する。
トマスク、各種精密エッチング部品、あるいは液晶ディ
スプレイ用カラーフィルターの製造工程等に用いると好
適な現像処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】例として、カラーフィルターの製造方法
として、ネガ型あるいはポジ型の感光性樹脂に染料や顔
料を含有させた着色感光性樹脂を用い、フォトプロセス
によりカラーフィルターを製造する方法がある。この方
法では、着色感光性樹脂を透明基板上にスピンナー等で
塗布し、乾燥させた後、フォトマスクを用い紫外線露光
し、現像してから水洗し所望のパターンを各色別に形成
する。そのうち現像工程には、現像液中に基板を浸漬す
るディップ現像、または加圧した現像液を基板に噴霧す
るスプレー現像が採用されていた。
として、ネガ型あるいはポジ型の感光性樹脂に染料や顔
料を含有させた着色感光性樹脂を用い、フォトプロセス
によりカラーフィルターを製造する方法がある。この方
法では、着色感光性樹脂を透明基板上にスピンナー等で
塗布し、乾燥させた後、フォトマスクを用い紫外線露光
し、現像してから水洗し所望のパターンを各色別に形成
する。そのうち現像工程には、現像液中に基板を浸漬す
るディップ現像、または加圧した現像液を基板に噴霧す
るスプレー現像が採用されていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記の現
像方法では、それぞれ以下のような課題があった。ディ
ップ現像においては、表面活性のばらつきによるムラの
発生、処理時間の長さ、非画線部のレジスト残りの発生
があり、スプレー現像においては、現像液の当たり具合
の局所的不均一によるムラの発生、使用液量が多いため
現像コストが高いことがあった。本発明はこのような従
来の現像方法の問題点を解消する現像方法を採用した現
像装置を提供することを目的とする。
像方法では、それぞれ以下のような課題があった。ディ
ップ現像においては、表面活性のばらつきによるムラの
発生、処理時間の長さ、非画線部のレジスト残りの発生
があり、スプレー現像においては、現像液の当たり具合
の局所的不均一によるムラの発生、使用液量が多いため
現像コストが高いことがあった。本発明はこのような従
来の現像方法の問題点を解消する現像方法を採用した現
像装置を提供することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決する本
発明の手段は以下の通りである。すなわち、被現像基板
を現像液中に浸漬し保持しながら加圧した現像液を被現
像基板に噴出する現像処理装置において、被現像基板の
搬送経路と直角に設けられた現像液循環式の現像槽、搬
送されてきた被現像基板を現像槽の内部へ挿入するディ
ップ搬送アーム、現像槽の内部に現像液を満たし、かつ
被現像基板の現像面に現像液を噴出する複数のノズル、
および現像済の被現像基板を現像層から引き出して元の
搬送経路に戻す機構を備えてなる現像処理装置を用いる
ことである。
発明の手段は以下の通りである。すなわち、被現像基板
を現像液中に浸漬し保持しながら加圧した現像液を被現
像基板に噴出する現像処理装置において、被現像基板の
搬送経路と直角に設けられた現像液循環式の現像槽、搬
送されてきた被現像基板を現像槽の内部へ挿入するディ
ップ搬送アーム、現像槽の内部に現像液を満たし、かつ
被現像基板の現像面に現像液を噴出する複数のノズル、
および現像済の被現像基板を現像層から引き出して元の
搬送経路に戻す機構を備えてなる現像処理装置を用いる
ことである。
【０００５】
【作用】図１および図３のように、露光済の被現像基板
の搬入、搬出およびディップ時に、現像槽内に具備した
スプレーノズルにより現像スプレーも同時に行うことに
より、ムラの発生が抑えられ、現像反応が促進されて現
像時間が短縮され、非画線部のレジスト残りが低減可能
であり、また、現像槽内液を循環使用することにより現
像液使用量も低減される。
の搬入、搬出およびディップ時に、現像槽内に具備した
スプレーノズルにより現像スプレーも同時に行うことに
より、ムラの発生が抑えられ、現像反応が促進されて現
像時間が短縮され、非画線部のレジスト残りが低減可能
であり、また、現像槽内液を循環使用することにより現
像液使用量も低減される。
【０００６】
【実施例】以下に、本発明による現像装置の一実施例を
図面を用いて詳しく説明する。図１のように、現像槽１
は２重構造になっており、内側の槽には循環ポンプ５か
ら現像液３が直接およびスプレーノズル２からスプレー
状に供給され、内側の槽からオーバーフローした現像液
３は外側の槽を下降して脱気ユニット４へ導かれ、ろ過
されて再び現像槽１へと供給され、循環する。また、ス
プレーノズル２は、図２のように千鳥状に配列し、処理
基板のサイズに応じ８個以上のノズルを配列する。
図面を用いて詳しく説明する。図１のように、現像槽１
は２重構造になっており、内側の槽には循環ポンプ５か
ら現像液３が直接およびスプレーノズル２からスプレー
状に供給され、内側の槽からオーバーフローした現像液
３は外側の槽を下降して脱気ユニット４へ導かれ、ろ過
されて再び現像槽１へと供給され、循環する。また、ス
プレーノズル２は、図２のように千鳥状に配列し、処理
基板のサイズに応じ８個以上のノズルを配列する。
【０００７】ここで、透明基板上に感光性樹脂を塗布、
乾燥させ、所定のフォトマスクを介して露光を行った被
現像基板７は、後述のインライン装置におけるディップ
搬送アーム６により導かれて前段のような構成の現像槽
１の中へ進入し、現像液３への浸漬と共にスプレーノズ
ル２による現像スプレーも同時に行われる。なお、感光
性樹脂の溶解度によりスプレーノズル２の時間当たりの
吐出量の設定を変更してもよい。必要に応じ浸漬および
スプレー現像時に被現像基板７を揺動させてもよい。ま
た、被現像基板７の塗布状態によりスプレーノズル２の
各ノズルを選択的に使用してもよい。
乾燥させ、所定のフォトマスクを介して露光を行った被
現像基板７は、後述のインライン装置におけるディップ
搬送アーム６により導かれて前段のような構成の現像槽
１の中へ進入し、現像液３への浸漬と共にスプレーノズ
ル２による現像スプレーも同時に行われる。なお、感光
性樹脂の溶解度によりスプレーノズル２の時間当たりの
吐出量の設定を変更してもよい。必要に応じ浸漬および
スプレー現像時に被現像基板７を揺動させてもよい。ま
た、被現像基板７の塗布状態によりスプレーノズル２の
各ノズルを選択的に使用してもよい。
【０００８】この現像処理をインライン化し、機器を小
型化するため、図３のようなインライン装置を用いる。
図３においてまず、被現像基板７は、搬送台８の搬送ロ
ーラー１３により送られてくる。そして被現像基板７が
現像槽１の真横に来ると、ディップ搬送アーム６上の適
正な停止位置で停止するように搬送ローラー１３を制御
して被現像基板７を停止する。
型化するため、図３のようなインライン装置を用いる。
図３においてまず、被現像基板７は、搬送台８の搬送ロ
ーラー１３により送られてくる。そして被現像基板７が
現像槽１の真横に来ると、ディップ搬送アーム６上の適
正な停止位置で停止するように搬送ローラー１３を制御
して被現像基板７を停止する。
【０００９】次いで被現像基板７はディップ搬送アーム
６および支持台１０と共に傾斜用昇降ロッド１２により
斜め支点ａを軸として持ち上げられる。そして現像槽１
の長手方向の傾斜と同じ傾斜角になったところで傾斜用
昇降ロッド１２は停止し、気密式エアシリンダー１１が
伸長して被現像基板７とディップ搬送アーム６が現像槽
１の内部へ挿入される。ここで前述のように現像液３へ
の浸漬と共にスプレーノズル２による現像スプレーも同
時に行われる。
６および支持台１０と共に傾斜用昇降ロッド１２により
斜め支点ａを軸として持ち上げられる。そして現像槽１
の長手方向の傾斜と同じ傾斜角になったところで傾斜用
昇降ロッド１２は停止し、気密式エアシリンダー１１が
伸長して被現像基板７とディップ搬送アーム６が現像槽
１の内部へ挿入される。ここで前述のように現像液３へ
の浸漬と共にスプレーノズル２による現像スプレーも同
時に行われる。
【００１０】現像が完了すると、今度は気密式エアシリ
ンダー１１が元の位置まで短縮して被現像基板７とディ
ップ搬送アーム６が現像槽１から引き出され、次いで傾
斜用昇降ロッド１２が短縮して被現像基板７が水平位置
になるまで移動される。その後、被現像基板７を支えて
いる搬送ローラー１３が動作し始め、下流の搬送台８へ
と運搬される。なお、必要に応じ、前述の浸漬・スプレ
ー現像を１次現像とし、その後に２次現像としてスプレ
ー方式の現像を行ってもよい。
ンダー１１が元の位置まで短縮して被現像基板７とディ
ップ搬送アーム６が現像槽１から引き出され、次いで傾
斜用昇降ロッド１２が短縮して被現像基板７が水平位置
になるまで移動される。その後、被現像基板７を支えて
いる搬送ローラー１３が動作し始め、下流の搬送台８へ
と運搬される。なお、必要に応じ、前述の浸漬・スプレ
ー現像を１次現像とし、その後に２次現像としてスプレ
ー方式の現像を行ってもよい。
【００１１】
【発明の効果】以上の様に、本発明の現像処理装置によ
れば、現像時間が短縮され、非画線部のレジスト残りが
低減され、現像液使用量も低減される。また、インライ
ン化により装置自体の小型化が可能であるため、ライン
の中に組み込むことが容易であり、工業上極めて有用で
ある。
れば、現像時間が短縮され、非画線部のレジスト残りが
低減され、現像液使用量も低減される。また、インライ
ン化により装置自体の小型化が可能であるため、ライン
の中に組み込むことが容易であり、工業上極めて有用で
ある。
【００１２】
【図１】本発明の現像処理装置のうち現像槽周辺の一実
施例を示す説明図である。
施例を示す説明図である。
【図２】本発明の現像処理装置のうち現像槽の一実施例
を示す説明図である。
を示す説明図である。
【図３】本発明の現像処理装置のインライン構成の一実
施例を示す説明図である。
施例を示す説明図である。
１ 現像槽 ２ スプレーノズル ３ 現像液 ４ 脱気ユニット ５ 循環ポンプ ６ ディップ搬送アーム ７ 被現像基板 ８ 搬送台 ９ 止めピン １０ 支持台 １１ 気密式エアシリンダー １２ 傾斜用昇降ロッド １３ 搬送ローラー
Claims (1)
- 【請求項１】被現像基板を現像液中に浸漬し保持しなが
ら加圧した現像液を被現像基板に噴出する現像処理装置
において、被現像基板の搬送経路と直角に設けられた現
像液循環式の現像槽、搬送されてきた被現像基板を現像
槽の内部へ挿入するディップ搬送アーム、現像槽の内部
に現像液を満たし、かつ被現像基板の現像面に現像液を
噴出する複数のノズル、および現像済の被現像基板を現
像層から引き出して元の搬送経路に戻す機構を備えてな
ることを特徴とする現像処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18447294A JPH0850361A (ja) | 1994-08-05 | 1994-08-05 | 現像処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18447294A JPH0850361A (ja) | 1994-08-05 | 1994-08-05 | 現像処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0850361A true JPH0850361A (ja) | 1996-02-20 |
Family
ID=16153767
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18447294A Pending JPH0850361A (ja) | 1994-08-05 | 1994-08-05 | 現像処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0850361A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114544672A (zh) * | 2022-04-26 | 2022-05-27 | 四川英创力电子科技股份有限公司 | 一种线路板显影质量检测装置及方法 |
-
1994
- 1994-08-05 JP JP18447294A patent/JPH0850361A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114544672A (zh) * | 2022-04-26 | 2022-05-27 | 四川英创力电子科技股份有限公司 | 一种线路板显影质量检测装置及方法 |
| CN114544672B (zh) * | 2022-04-26 | 2022-06-28 | 四川英创力电子科技股份有限公司 | 一种线路板显影质量检测装置及方法 |
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