JPH0845971A - Heating device - Google Patents

Heating device

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JPH0845971A
JPH0845971A JP18127594A JP18127594A JPH0845971A JP H0845971 A JPH0845971 A JP H0845971A JP 18127594 A JP18127594 A JP 18127594A JP 18127594 A JP18127594 A JP 18127594A JP H0845971 A JPH0845971 A JP H0845971A
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Japan
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substrate
heating chamber
transfer
pusher
reciprocating
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Tomoaki Nakanishi
智昭 中西
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

PURPOSE:To provide a heating device such as a curing oven which heats boards and is equipped with a transfer mechanism that transfer boards, wherein the transfer mechanism is made compact in structure, and transfer troubles that occur in operation can be quickly and surely detected. CONSTITUTION:A transfer piece 45 arranged at an inner upper part of a heating chamber 1 in a freely displaceable manner in the direction of transfer and a sliding piece 32 which reciprocates the transfer piece 45 between transfer conveyers 2, 3 and a transfer conveyer pulling it with a wire 42 are provided. A shielding plate 50 which pivots interlocking with the displacement of the transfer piece 45 caused by an anomalous load when the transfer piece 45 transfers boards 6 from the conveyers 2 and 3 to the transfer conveyer and a photodetector 54 which detects the displacement of the transfer piece 45 monitoring an optical path that is closed or opened by the pivoting of the shielding plate 50 are provided.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、チップがボンドにより
ボンディングされた基板を加熱することにより、ボンド
を硬化させるキュア炉や基板上に電子部品を半田付けす
るリフロー炉等の加熱装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a heating device such as a curing furnace for curing a bond by heating a substrate to which a chip is bonded by a bond or a reflow furnace for soldering an electronic component on the substrate. is there.

【0002】[0002]

【従来の技術】チップがボンドによりボンディングされ
た基板をキュア炉へ送り、ボンドを加熱して硬化させる
ことが行われる。以下、従来の加熱装置として、キュア
炉を例にとって説明する。
2. Description of the Related Art A substrate on which chips are bonded by a bond is sent to a curing oven, and the bond is heated and cured. Hereinafter, a curing furnace will be described as an example of a conventional heating device.

【0003】図5は従来のキュア炉の主要構成を示す斜
視図である。1は加熱室であり、その内部には4個の搬
送コンベア2,3,4,5が配設されている。これらの
搬送コンベア2,3,4,5はベルトコンベアであっ
て、基板6を支持するためのラック9がピッチをおいて
突設されている。なおモータなどのこれらの搬送コンベ
ア2〜5の駆動系は省略している。搬送コンベア2と搬
送コンベア3は横並びに配設されており、その間のラッ
ク9に基板6を載せて、基板6を下部から上部へ搬送す
る。すなわちこの2つの搬送コンベア2,3は第1の搬
送コンベア部を構成している。また搬送コンベア4,5
は搬送コンベア2,3の奥部に並設されており、その間
のラック9に基板6を載せて、基板6を上部から下部へ
搬送する。すなわちこの2つの搬送コンベア4,5は第
2の搬送コンベア部を構成している。
FIG. 5 is a perspective view showing the main structure of a conventional curing furnace. Reference numeral 1 denotes a heating chamber, in which four transfer conveyors 2, 3, 4, 5 are arranged. These transfer conveyors 2, 3, 4, 5 are belt conveyors, and racks 9 for supporting the substrates 6 are provided in a protruding manner with a pitch. Incidentally, the drive system of these conveyors 2 to 5 such as a motor is omitted. The transport conveyor 2 and the transport conveyor 3 are arranged side by side, and the substrate 6 is placed on the rack 9 between them to transport the substrate 6 from the lower part to the upper part. That is, the two transfer conveyors 2 and 3 form a first transfer conveyor section. In addition, conveyors 4, 5
Are arranged side by side in the back of the conveyors 2 and 3, and the substrate 6 is placed on the rack 9 between them and the substrate 6 is conveyed from the upper part to the lower part. That is, the two conveyors 4 and 5 form a second conveyor section.

【0004】チップ7がボンド8によりボンディングさ
れた基板6は、加熱室1の外部から搬送コンベア2,3
の下部のラック9上に送り込まれ(矢印N1参照)、こ
れらの搬送コンベア2,3により下部から上部へ搬送さ
れる。これらの搬送コンベア2,3の最上部へ到達した
基板6は、押送子17により矢印N方向へ押送されて搬
送コンベア4,5の間のラック9上へ送り込まれ、この
搬送コンベア4,5により上部から下部へ向って搬送さ
れた後、加熱室1の外部へ搬出される(矢印N2参
照)。加熱室1の内部にはヒータ(図示せず)が設けら
れており、基板6は上述のように加熱室1内を搬送され
る間に加熱されてボンド8は硬化する。
The substrate 6 to which the chip 7 is bonded by the bond 8 is transferred from the outside of the heating chamber 1 to the conveyors 2 and 3.
Is fed onto the rack 9 below (see arrow N1), and is transported from the bottom to the top by these transport conveyors 2 and 3. The substrate 6 that has reached the uppermost portion of the transport conveyors 2 and 3 is pushed in the direction of the arrow N by the pusher 17 and is fed onto the rack 9 between the transport conveyors 4 and 5, and is conveyed by the transport conveyors 4 and 5. After being conveyed from the upper part to the lower part, it is carried out of the heating chamber 1 (see arrow N2). A heater (not shown) is provided inside the heating chamber 1, and the substrate 6 is heated while being transported in the heating chamber 1 as described above, so that the bond 8 is cured.

【0005】次に、基板6を矢印N方向へ押送する押送
機構について説明する。加熱室1の上部には長尺の水平
なガイドロッド11が加熱室1内を貫通して配設されて
いる。このガイドロッド11はブロック12,13によ
ってスライド自在に取り付けられている。加熱室1の外
側にはロッド14と摺動子15が図示しない取付具によ
って取り付けられている。このロッド14と摺動子15
はロッドレスシリンダであって、摺動子15はロッド1
4に沿って摺動する。この摺動子15は、加熱室から突
出しているガイドロッド11の後部に連結されている。
Next, a pushing mechanism for pushing the substrate 6 in the direction of arrow N will be described. At the upper part of the heating chamber 1, a long horizontal guide rod 11 is arranged so as to penetrate through the heating chamber 1. The guide rod 11 is slidably attached by blocks 12 and 13. A rod 14 and a slider 15 are attached to the outside of the heating chamber 1 by a fixture not shown. This rod 14 and slider 15
Is a rodless cylinder, and the slider 15 is a rod 1
Slide along 4 The slider 15 is connected to the rear portion of the guide rod 11 protruding from the heating chamber.

【0006】またガイドロッド11の下方にはシャフト
16がガイドロッド11に摺動自在な取付具22に固定
されている。このシャフト16の前部には押送子17が
装着されており、後部にはドグ18が装着されている。
またシャフト16の後部を保持する保持体19にはドグ
18を検知する光学的なセンサ20が装着されている。
保持体19は摺動子15の下部に固定されている。保持
体19と取付具22の間のシャフト16にはスプリング
21が装着されており、そのばね力によりシャフト16
はその長手方向へ弾発されている。
Below the guide rod 11, a shaft 16 is fixed to a fitting 22 which is slidable on the guide rod 11. A pusher 17 is attached to the front portion of the shaft 16 and a dog 18 is attached to the rear portion thereof.
An optical sensor 20 for detecting the dog 18 is attached to a holder 19 that holds the rear portion of the shaft 16.
The holder 19 is fixed to the lower part of the slider 15. A spring 21 is attached to the shaft 16 between the holding body 19 and the fixture 22, and the spring force causes the shaft 16 to move.
Is rapped in its longitudinal direction.

【0007】したがって、ロッドレスシリンダの摺動子
15が右方へ摺動すると、ガイドロッド11、シャフト
16および押送子17も右方へ移動する。これにより、
押送子17は搬送コンベア2,3上の基板6を搬送コン
ベア4,5上へ押送する。ここで、押送中に基板6が何
かに引っかかるなどすると、押送子17には大きな異常
負荷がかかり、この異常負荷のためにシャフト16はス
プリング21を圧縮しなから相対的に後退する。このた
めシャフト16と一体のドグ18はセンサ20から脱出
し(鎖線で示すドグ18を参照)、センサ20はこれを
検出する。そこでセンサ20の検出信号により、ブザー
を警鳴するなどして、作業者に異常事態が発生したこと
を報知する。
Therefore, when the slider 15 of the rodless cylinder slides to the right, the guide rod 11, shaft 16 and pusher 17 also move to the right. This allows
The pusher 17 pushes the substrate 6 on the conveyors 2 and 3 onto the conveyors 4 and 5. Here, if the substrate 6 is caught by something during the pushing, a large abnormal load is applied to the pushing element 17, and due to this abnormal load, the shaft 16 relatively retracts because it does not compress the spring 21. Therefore, the dog 18 integrated with the shaft 16 escapes from the sensor 20 (see the dog 18 shown by the chain line), and the sensor 20 detects this. Therefore, the detection signal of the sensor 20 alerts the operator that an abnormal situation has occurred by, for example, sounding a buzzer.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】以上のように従来のキ
ュア炉は、押送子17に加わる異常負荷を検出すること
により、押送時のトラブルを検出するものであるが、従
来の押送機構には次のような問題点があった。すなわち
長尺のガイドロッド11を加熱室1の上部に水平に配設
しており、ガイドロッド11は加熱室1から大きく突出
しているため、ガイドロッド11の長手方向に大きな設
置スペースを必要とするという問題点があった。また基
板6が大型の場合は、押送子17による押送ストローク
を長くせねばならず、押送ストロークを長くとるために
は、シャフト16を長大化する必要があるが、シャフト
16が長大・重量化すると、シャフト16は小さな負荷
では移動できず、したがって押送子17に作用する異常
負荷をドグ18とセンサ20で感度よく検出するのが困
難になり、ひいては押送時のトラブルを迅速・確実に検
出できないという問題点があった。
As described above, the conventional curing furnace detects a trouble at the time of pushing by detecting the abnormal load applied to the pushing element 17, but the conventional pushing mechanism has a problem. There were the following problems. That is, since the long guide rod 11 is horizontally arranged above the heating chamber 1, and the guide rod 11 largely projects from the heating chamber 1, a large installation space is required in the longitudinal direction of the guide rod 11. There was a problem. Further, when the substrate 6 is large, the pushing stroke by the pushing element 17 must be lengthened, and in order to lengthen the pushing stroke, it is necessary to lengthen the shaft 16, but if the shaft 16 becomes large and heavy. Since the shaft 16 cannot move with a small load, it becomes difficult to detect an abnormal load acting on the pusher 17 with the dog 18 and the sensor 20 with high sensitivity, and it is impossible to detect a trouble at the time of pushing quickly and reliably. There was a problem.

【0009】そこで本発明は、省スペース化を図れる加
熱装置を提供することを第1の目的とする。また押送時
のトラブルを迅速・確実に検出できる加熱装置を提供す
ることを第2の目的とする。
Therefore, it is a first object of the present invention to provide a heating device which can save space. A second object of the present invention is to provide a heating device that can detect troubles during pushing quickly and reliably.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】このために本発明は、加
熱室と、加熱室の内部に配設され押送子によって押送さ
れる基板を案内する案内部と、押送子を基板の押送方向
へ変位自在に保持し、加熱室内を案内部に沿って往復移
動自在な往復移動部材と、往復移動部材をけん引ひもに
よりけん引して往復移動させる往復移動手段と、押送子
を基板の押送方向側へ付勢する付勢体と、押送子が付勢
体に抗して変位するのに連動して作動する遮光板と、加
熱室の外から遮光板の作動を検出する検出手段とを設け
たものである。
To this end, the present invention is directed to a heating chamber, a guide portion disposed inside the heating chamber for guiding a substrate to be pushed by a pusher, and the pusher in the substrate pushing direction. A reciprocating member which holds the heater displaceably and can reciprocate in the heating chamber along the guide portion, a reciprocating member for reciprocating the reciprocating member by pulling the reciprocating member with a towing string, and a pusher in the pushing direction of the substrate. A urging body for urging, a light shielding plate which operates in conjunction with displacement of the pusher against the urging body, and a detection means for detecting the operation of the light shielding plate from outside the heating chamber. Is.

【0011】[0011]

【作用】上記構成によれば、押送子に異常負荷が作用し
て押送子が付勢体の付勢力に抗して変位すると、これに
連動して遮蔽板は作動し、この作動を加熱室の外に配設
された検出手段が検出することにより、トラブル発生を
迅速・確実に検出する。
According to the above construction, when an abnormal load is applied to the pusher element and the pusher element is displaced against the urging force of the urging body, the shield plate operates in conjunction with this and this operation is performed in the heating chamber. The trouble is promptly and surely detected by the detection means provided outside the device.

【0012】[0012]

【実施例】次に、図面を参照しながら本発明の一実施例
の加熱装置をキュア炉を例にとって説明する。図1は本
発明の一実施例のキュア炉の斜視図、図2は同断面図、
図3および図4(a)(b)は同部分側面図である。な
お各図において、基板の押送機構以外の構成は上記従来
例と同じであり、したがって上記従来例と同一部品には
同一符号を付すことにより説明は省略する。図2におい
て、25は基板6を加熱室1内へ搬入するための入口、
26は基板6を加熱室1外へ搬送するための出口であ
る。また図3は、搬送コンベア2,3のラック(案内
部)9に載せられた基板6が下部から上部へ搬送されて
いる様子を示している。なお入口25から基板6を加熱
室1内へ搬入する機構や、出口26から搬出する機構な
どの周知機構は省略している。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, a heating apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings, taking a curing furnace as an example. 1 is a perspective view of a curing furnace according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a sectional view of the same,
3 and 4A and 4B are side views of the same portion. In each drawing, the configuration other than the board pushing mechanism is the same as that of the above-mentioned conventional example, and therefore, the same parts as those of the above-mentioned conventional example are denoted by the same reference numerals and the description thereof is omitted. In FIG. 2, reference numeral 25 denotes an inlet for loading the substrate 6 into the heating chamber 1,
Reference numeral 26 is an outlet for transferring the substrate 6 to the outside of the heating chamber 1. Further, FIG. 3 shows a state in which the substrate 6 placed on the rack (guide portion) 9 of the transport conveyors 2 and 3 is transported from the lower portion to the upper portion. Note that well-known mechanisms such as a mechanism for loading the substrate 6 into the heating chamber 1 through the inlet 25 and a mechanism for unloading the substrate 6 through the outlet 26 are omitted.

【0013】次に、基板を第1の搬送コンベア部(搬送
コンベア2,3)から第2の搬送コンベア部(搬送コン
ベア4,5)へ押送する押送機構と、押送子に作用する
異常負荷の検出機構について説明する。図1および図2
において、加熱室1の上面にはガイドレール31と、こ
のガイドレール31上を磁気力により摺動する摺動子3
2が設けられている。このガイドレール31と摺動子3
2はロッドレスシリンダを構成している。摺動子32上
にはフレーム33が設置されている。
Next, a pushing mechanism for pushing the substrate from the first transport conveyor section (transport conveyors 2, 3) to the second transport conveyor section (transport conveyors 4, 5) and an abnormal load acting on the pusher element. The detection mechanism will be described. 1 and 2
In the above, a guide rail 31 is provided on the upper surface of the heating chamber 1, and a slider 3 that slides on the guide rail 31 by a magnetic force.
2 are provided. This guide rail 31 and slider 3
Reference numeral 2 constitutes a rodless cylinder. A frame 33 is installed on the slider 32.

【0014】加熱室1の上部にはプーリ37,38,3
9,40が配設されている。これらのプーリ37〜40
には、けん引ひもとしての2本のワイヤ41が張帯され
ている。ひもとしては、ワイヤ以外にも、チェンやベル
トなども用いられる。図1において加熱室1の内部の上
部には移動子(往復移動部材)42が設けられている。
この移動子42は、2本の水平なガイドロッド43にス
ライド自在に保持されている。2本のワイヤ41の端部
はこの移動子42と上記フレーム33にそれぞれ取り付
けられている。
Pulleys 37, 38, 3 are provided above the heating chamber 1.
9, 40 are provided. These pulleys 37-40
Two wires 41, which serve as a towing string, are stretched around the wire. As the string, other than the wire, a chain or a belt may be used. In FIG. 1, a mover (reciprocating member) 42 is provided in the upper part inside the heating chamber 1.
The mover 42 is slidably held by two horizontal guide rods 43. The ends of the two wires 41 are attached to the mover 42 and the frame 33, respectively.

【0015】図1において、移動子42の側面にはプレ
ート44が装着されている。このプレート44にはレバ
ー状の押送子45がピン46により回転自在に軸着され
ている。プレート44と押送子45はスプリング(付勢
体)47で結合されており、このスプリング47のばね
力により、押送子45はプレート44に突設されたピン
状のストッパ48に押当している。
In FIG. 1, a plate 44 is attached to the side surface of the moving element 42. A lever-shaped pusher 45 is rotatably attached to the plate 44 by a pin 46. The plate 44 and the pusher element 45 are connected by a spring (biasing body) 47, and the spring force of the spring 47 causes the pusher element 45 to press against a pin-shaped stopper 48 projecting from the plate 44. .

【0016】図2において、プレート44の上部には、
断面カギ型の遮蔽板50がピン51により回動自在に軸
着されている。52は押送子45に突設されたピンであ
り、遮蔽板50自身の重量による遮蔽板50の時計方向
への回り止めになっている。またこの遮蔽板50に対応
する加熱室1の外壁面には、発光センサ53と受光セン
サ54が設けられている。常時は、発光センサ(発光
部)53から発光された光はラック9に平行な光路を通
って受光センサ(受光部)54に入光しているが、後に
詳述するように、遮蔽板50が回動すると、光路を遮蔽
して受光センサ54への入光は遮蔽される。
In FIG. 2, at the top of the plate 44,
A shield plate 50 having a hook-shaped cross section is rotatably attached by a pin 51. Reference numeral 52 denotes a pin protruding from the pusher 45, which prevents the shield plate 50 from rotating in the clockwise direction due to the weight of the shield plate 50 itself. Further, a light emitting sensor 53 and a light receiving sensor 54 are provided on the outer wall surface of the heating chamber 1 corresponding to the shielding plate 50. Normally, the light emitted from the light emitting sensor (light emitting unit) 53 enters the light receiving sensor (light receiving unit) 54 through the optical path parallel to the rack 9, but as will be described later in detail, the shielding plate 50 is used. When is rotated, the optical path is blocked and the light entering the light receiving sensor 54 is blocked.

【0017】このキュア炉は上記のように構成されてお
り、次に全体の動作を説明する。図1において、矢印N
1で示すように搬送コンベア2,3の間のラック9上へ
搬入された基板6は、下部から上部へ向って搬送される
(図2の矢印N3参照)。搬送コンベア2,3の最上部
まで搬送された基板6は、その奥部の搬送コンベア4,
5の間のラック9上へ押送される(図2の矢印N4参
照)。
This curing furnace is constructed as described above, and the operation of the whole will be described below. In FIG. 1, an arrow N
The substrate 6 carried onto the rack 9 between the conveyors 2 and 3 as indicated by 1 is conveyed from the lower part to the upper part (see arrow N3 in FIG. 2). The substrate 6 transported to the top of the transport conveyors 2 and 3 has the transport conveyors 4 and
It is pushed onto the rack 9 between 5 (see arrow N4 in FIG. 2).

【0018】この押送は次のようにして行われる。すな
わち図2において、ロッドレスシリンダを構成する摺動
子32がガイドレール31上を左方へ摺動すると、ワイ
ヤ41は矢印N5方向へ回動し、これにより移動子42
(図1)は右方へ移動する。すると押送子45は移動子
42と一体的に右方へ移動し、その下端部で基板6を搬
送コンベア2,3のラック9から搬送コンベア4,5の
ラック9へ押送する。搬送コンベア4,5のラック9上
へ押送された基板6は、搬送コンベア4,5の回動によ
り上部から下部へ搬送される(図2の矢印N6参照)。
そして搬送コンベア4,5の最下部に達すると、出口2
6から加熱室1の外部へ搬出される(矢印N2参照)。
This pushing is performed as follows. That is, in FIG. 2, when the slider 32 constituting the rodless cylinder slides leftward on the guide rail 31, the wire 41 rotates in the direction of the arrow N5, which causes the slider 42 to move.
(Fig. 1) moves to the right. Then, the pusher 45 moves rightward integrally with the mover 42, and pushes the substrate 6 from the rack 9 of the transport conveyors 2 and 3 to the rack 9 of the transport conveyors 4 and 5 at the lower end portion thereof. The substrate 6 pushed onto the rack 9 of the transfer conveyors 4, 5 is transferred from the upper part to the lower part by the rotation of the transfer conveyors 4, 5 (see arrow N6 in FIG. 2).
When it reaches the bottom of the conveyors 4, 5, the exit 2
6 is carried out of the heating chamber 1 (see arrow N2).

【0019】次に、押送時のトラブル発生時の動作につ
いて説明する。上述のように、押送子45が基板6を押
送する際に、基板6が搬送コンベア2〜5のベルト部分
に引っかかるなどして、押送子45に大きな異常負荷が
作用することがある。この場合、図4(b)に示すよう
に、押送子45はこの異常負荷のために、スプリング4
7を伸長させながらピン46を中心に時計方向に回転し
て変位する。すると、遮蔽板50はピン51に押されて
反時計方向へ回動し、光路を遮蔽する。このため、発光
センサ53から発光された光は受光センサ54へ入光せ
ず、トラブルが発生したことが検知される。そこで受光
センサ54の出力信号により、ブザー(図示せず)を警
鳴するなどして作業者に異常状態が発生したことを知ら
せ、あるいは装置の運転を停止する。そこで作業者はこ
の異常状態に対する対応処理をとる。このように本装置
によれば、押送時のトラブル発生を迅速・確実に検出で
き、したがって事後の対応も迅速に行うことができる。
なお本発明は上記実施例に限定されないものであって、
例えば発光センサ53や受光センサ54にかえて、反射
型のセンサを用いてもよいものである。またスプリング
47を遮蔽板50とプレート44の間に取り付け、遮蔽
板50を光路が遮蔽されない方向へ付勢することにより
押送子45を基板6を押送する側へ間接的に付勢しても
よい。さらに本発明はキュア炉以外にも、基板に電子部
品を半田付けするリフロー装置にも適用できる。
Next, the operation when trouble occurs during pushing will be described. As described above, when the pusher 45 pushes the substrate 6, the substrate 6 may be caught by the belt portions of the conveyors 2 to 5, and a large abnormal load may act on the pusher 45. In this case, as shown in FIG. 4 (b), the pusher element 45 causes the spring 4 to move due to the abnormal load.
7 is extended and is rotated clockwise about the pin 46 to be displaced. Then, the shielding plate 50 is pushed by the pin 51 and rotates counterclockwise to shield the optical path. Therefore, the light emitted from the light emitting sensor 53 does not enter the light receiving sensor 54, and it is detected that a trouble has occurred. Therefore, the output signal of the light receiving sensor 54 alerts the operator that an abnormal state has occurred, such as by sounding a buzzer (not shown), or stops the operation of the apparatus. Therefore, the worker takes countermeasures against this abnormal state. As described above, according to the present device, the occurrence of a trouble at the time of pushing can be detected swiftly and surely, and therefore, the after-action can be swiftly performed.
The present invention is not limited to the above embodiment,
For example, instead of the light emitting sensor 53 and the light receiving sensor 54, a reflective sensor may be used. Further, the spring 47 may be attached between the shield plate 50 and the plate 44, and the shield plate 50 may be urged in the direction in which the optical path is not shielded, thereby indirectly urging the pusher 45 to the side for pushing the substrate 6. . Furthermore, the present invention can be applied not only to the curing furnace but also to a reflow device for soldering electronic components to a board.

【0020】[0020]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、第
1の搬送コンベア部から第2の搬送コンベア部へ押送子
により基板を押送する際のトラブルを、迅速・確実に感
度よく検出することができる。またワイヤなどのけん引
ひもを加熱室に沿うように張帯することにより、全体を
コンパクト化でき、省スペース化を図れる。
As described above, according to the present invention, a trouble in pushing a substrate from a first transport conveyor section to a second transport conveyor section by a pusher can be detected quickly and reliably with high sensitivity. be able to. In addition, by stretching a tow string such as a wire along the heating chamber, the whole can be made compact and space can be saved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例のキュア炉の斜視図FIG. 1 is a perspective view of a curing furnace according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の一実施例のキュア炉の断面図FIG. 2 is a sectional view of a curing furnace according to an embodiment of the present invention.

【図3】本発明の一実施例のキュア炉の部分側面図FIG. 3 is a partial side view of a curing furnace according to an embodiment of the present invention.

【図4】(a)本発明の一実施例のキュア炉の部分側面
図 (b)本発明の一実施例のキュア炉の部分側面図
FIG. 4A is a partial side view of a curing furnace according to an embodiment of the present invention. FIG. 4B is a partial side view of a curing furnace according to an embodiment of the present invention.

【図5】従来のキュア炉の主要構成を示す斜視図FIG. 5 is a perspective view showing a main configuration of a conventional curing furnace.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 加熱室 2,3 搬送コンベア(第1の搬送コンベア部) 4,5 搬送コンベア(第2の搬送コンベア部) 6 基板 7 チップ 8 ボンド 31 ガイドレール(往復移動手段) 32 摺動子(往復移動手段) 45 押送子 50 遮蔽板 53 発光センサ 54 受光センサ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 heating chamber 2,3 transfer conveyor (1st transfer conveyor part) 4,5 transfer conveyor (2nd transfer conveyor part) 6 board 7 chip 8 bond 31 guide rail (reciprocating movement means) 32 slider (reciprocating movement) Means) 45 pusher 50 shield plate 53 light emitting sensor 54 light receiving sensor

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】加熱室と、この加熱室の内部に配設され押
送子によって押送される基板を案内する案内部と、前記
押送子を基板の押送方向へ変位自在に保持し、前記加熱
室内を前記案内部に沿って往復移動自在な往復移動部材
と、前記往復移動部材をけん引ひもによりけん引して往
復移動させる往復移動手段と、前記押送子を基板の押送
方向側へ付勢する付勢体と、前記押送子が前記付勢体に
抗して変位するのに連動して作動する遮光板と、前記加
熱室の外から前記遮光板の作動を検出する検出手段とを
備えたことを特徴とする加熱装置。
1. A heating chamber, a guide portion disposed inside the heating chamber for guiding a substrate to be pushed by a pusher, and the pusher held so as to be displaceable in the pushing direction of the substrate. A reciprocating member capable of reciprocating along the guide portion, a reciprocating means for reciprocating the reciprocating member by pulling the reciprocating member with a towing string, and a biasing force for urging the pusher element in the pushing direction side of the substrate. A body, a light-shielding plate that operates in association with the displacement of the pusher against the biasing body, and a detection unit that detects the operation of the light-shielding plate from outside the heating chamber. Characteristic heating device.
【請求項2】前記検出手段が、前記案内部に沿って平行
な光路を前記加熱室内に形成する一対の発光部と受光部
であり、前記遮光板が、前記光路を遮光するように作動
することを特徴とする請求項1記載の加熱装置。
2. The detection means is a pair of a light emitting part and a light receiving part which form a parallel optical path along the guide part in the heating chamber, and the light shielding plate operates so as to shield the optical path. The heating device according to claim 1, wherein:
【請求項3】加熱室と、この加熱室の内部に配設されて
基板を下部から上部へ向って搬送する第1の搬送コンベ
ア部と、この第1の搬送コンベア部に並設されて前記基
板を上部から下部へ向って搬送する第2の搬送コンベア
部と、前記第1の搬送コンベア部から前記第2の搬送コ
ンベア部へ前記基板を押送する押送手段とを備えた加熱
装置であって、 前記押送手段が、前記加熱室の内部の上部に押送方向へ
往復移動自在に取り付けられた往復移動部材と、この往
復移動部材に基板の押送方向へ変位自在に配設された押
送子と、前記押送子を押送方向へ付勢する付勢体と、前
記加熱室の外に配設され前記往復移動部材をけん引ひも
によりけん引して前記第1の搬送コンベア部と前記第2
の搬送コンベア部の間を往復移動させる往復移動手段
と、前記押送子が前記基板を前記第1の搬送コンベア部
から前記第2の搬送コンベア部に押送する際に異常負荷
によって前記付勢体に抗して変位するのに連動して作動
する遮蔽板とから構成され、前記遮蔽板の作動により光
路が遮蔽されて前記押送子が変位したことを前記加熱室
の外から検出する検出手段とを備えたことを特徴とする
加熱装置。
3. A heating chamber, a first transfer conveyor unit disposed inside the heating chamber for transferring a substrate from a lower part to an upper part, and the first transfer conveyor unit provided in parallel with each other. A heating device comprising: a second transfer conveyor section that transfers a substrate from an upper part to a lower part; and a pushing means that pushes the substrate from the first transfer conveyor section to the second transfer conveyor section. A reciprocating member attached to the upper part of the inside of the heating chamber so as to reciprocate in the pushing direction, and a reciprocating member disposed on the reciprocating member so as to be displaceable in the substrate pushing direction, An urging body for urging the pusher element in the pushing direction, and a reciprocating member arranged outside the heating chamber towed by a towing string to draw the first transport conveyor section and the second conveyer section.
Reciprocating means for reciprocating between the transfer conveyor units, and an urging body due to an abnormal load when the pusher pushes the substrate from the first transfer conveyor unit to the second transport conveyor unit. And a detecting means for detecting from outside the heating chamber that the optical element is shielded by the operation of the shielding plate and the pusher is displaced. A heating device characterized by being provided.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2013232638A (en) * 2012-04-30 2013-11-14 Samsung Electronics Co Ltd Multi-stack cure system and operation method of the same

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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