JPH0845890A - 石英チューブの洗浄方法 - Google Patents
石英チューブの洗浄方法Info
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- JPH0845890A JPH0845890A JP6197787A JP19778794A JPH0845890A JP H0845890 A JPH0845890 A JP H0845890A JP 6197787 A JP6197787 A JP 6197787A JP 19778794 A JP19778794 A JP 19778794A JP H0845890 A JPH0845890 A JP H0845890A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明は、石英チューブの外面が薬液により侵
食されず、而も簡単且つ低コストで洗浄が行なわれ得る
ようにした、石英チューブの洗浄方法を提供することを
目的とする。 【構成】石英チューブ１１の両端を密閉して、該石英チ
ューブ内を通過する循環管路１８，２０を形成し、該循
環管路に薬液を流して、薬液洗浄を行ない、該循環管路
に純水を流して、純水洗浄を行ない、該循環管路に乾燥
ガスを流して、乾燥を行なうように、石英チューブ１１
の洗浄方法を構成する。
食されず、而も簡単且つ低コストで洗浄が行なわれ得る
ようにした、石英チューブの洗浄方法を提供することを
目的とする。 【構成】石英チューブ１１の両端を密閉して、該石英チ
ューブ内を通過する循環管路１８，２０を形成し、該循
環管路に薬液を流して、薬液洗浄を行ない、該循環管路
に純水を流して、純水洗浄を行ない、該循環管路に乾燥
ガスを流して、乾燥を行なうように、石英チューブ１１
の洗浄方法を構成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、熱拡散装置，減圧ＣＶ
Ｄ装置等で使用される石英チューブの洗浄方法に関する
ものである。
Ｄ装置等で使用される石英チューブの洗浄方法に関する
ものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、例えば半導体製造工程において
は、熱拡散，減圧ＣＶＤ等の工程にて、半導体ウェハを
石英チューブ内に設置し、該石英チューブ内に反応ガス
を流しながら、半導体ウェハに対して、熱拡散，減圧Ｃ
ＶＤ等により、各種半導体層を形成するようにしてい
る。
は、熱拡散，減圧ＣＶＤ等の工程にて、半導体ウェハを
石英チューブ内に設置し、該石英チューブ内に反応ガス
を流しながら、半導体ウェハに対して、熱拡散，減圧Ｃ
ＶＤ等により、各種半導体層を形成するようにしてい
る。
【０００３】このような工程においては、図２に示すよ
うに、石英チューブ１は、その内面に、上述した反応ガ
スによって、生成物２が析出する。この生成物２は、例
えばＣＶＤ装置による絶縁膜形成工程においては、窒化
膜である。
うに、石英チューブ１は、その内面に、上述した反応ガ
スによって、生成物２が析出する。この生成物２は、例
えばＣＶＤ装置による絶縁膜形成工程においては、窒化
膜である。
【０００４】従って、このまま生成物２を放置しておく
と、石英チューブ１の内径が実質的に小さくなるので、
該石英チューブ１内を流れる反応ガス量が変化してしま
う。これにより、石英チューブ１内の温度分布が変化し
たり、半導体ウェハの表面に形成される半導体層の膜質
が変化してしまう。かくして、半導体製造工程における
プロセス特性に支障を来し、所望の半導体装置が製造さ
れ得なくなってしまうことになる。
と、石英チューブ１の内径が実質的に小さくなるので、
該石英チューブ１内を流れる反応ガス量が変化してしま
う。これにより、石英チューブ１内の温度分布が変化し
たり、半導体ウェハの表面に形成される半導体層の膜質
が変化してしまう。かくして、半導体製造工程における
プロセス特性に支障を来し、所望の半導体装置が製造さ
れ得なくなってしまうことになる。
【０００５】このため、上記石英チューブ１は、その内
面に析出した生成物２が所定の厚さに達した時点で、内
面の洗浄が行なわれる。即ち、図３に示すように、石英
チューブ１を処理槽３内に収容して、先づ処理槽３内に
洗浄用の薬液、例えばフッ化水素ＨＦ・硝酸ＨＮＯ３
と水の混液を供給管４を介して導入し、一定時間浸漬さ
せておく。その後、処理槽３と同様な純水洗浄槽内にて
純水洗浄を行なう。最後に、純水洗浄槽から取り出し
て、放置することにより、自然乾燥させる。
面に析出した生成物２が所定の厚さに達した時点で、内
面の洗浄が行なわれる。即ち、図３に示すように、石英
チューブ１を処理槽３内に収容して、先づ処理槽３内に
洗浄用の薬液、例えばフッ化水素ＨＦ・硝酸ＨＮＯ３
と水の混液を供給管４を介して導入し、一定時間浸漬さ
せておく。その後、処理槽３と同様な純水洗浄槽内にて
純水洗浄を行なう。最後に、純水洗浄槽から取り出し
て、放置することにより、自然乾燥させる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな石英チューブ１の洗浄方法においては、以下のよう
な問題がある。即ち、石英チューブ１の生成物２が付着
していない外面にも、上記洗浄用の薬液が作用すること
になるため、薬液が石英チューブ１の外面をエッチング
することになってしまう。従って、石英チューブ１の肉
厚が薄くなってしまい、石英チューブ１の寿命が短くな
るという問題があった。特に、生成物２が窒化シリコン
ＳｉＮやポリシリコンＰ−Ｓｉである場合には、薬液洗
浄時間を長くとるために、石英チューブ１のエッチング
量が多くなり、一層寿命が短くなってしまう。
うな石英チューブ１の洗浄方法においては、以下のよう
な問題がある。即ち、石英チューブ１の生成物２が付着
していない外面にも、上記洗浄用の薬液が作用すること
になるため、薬液が石英チューブ１の外面をエッチング
することになってしまう。従って、石英チューブ１の肉
厚が薄くなってしまい、石英チューブ１の寿命が短くな
るという問題があった。特に、生成物２が窒化シリコン
ＳｉＮやポリシリコンＰ−Ｓｉである場合には、薬液洗
浄時間を長くとるために、石英チューブ１のエッチング
量が多くなり、一層寿命が短くなってしまう。
【０００７】また、処理槽３内に満たした薬液中に石英
チューブ１を浸漬させるため、比較的大量の薬液が必要
となり、コストが高くなってしまうという問題もあっ
た。
チューブ１を浸漬させるため、比較的大量の薬液が必要
となり、コストが高くなってしまうという問題もあっ
た。
【０００８】本発明は、以上の点に鑑み、石英チューブ
の外面が薬液により侵食されず、而も簡単且つ低コスト
で洗浄が行なわれ得るようにした、石英チューブの洗浄
方法を提供することを目的としている。
の外面が薬液により侵食されず、而も簡単且つ低コスト
で洗浄が行なわれ得るようにした、石英チューブの洗浄
方法を提供することを目的としている。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記目的は、本発明によ
れば、石英チューブの両端を密閉して、該石英チューブ
内を通過する循環管路を形成し、該循環管路に薬液を流
して、薬液洗浄を行ない、該循環管路に純水を流して、
純水洗浄を行ない、該循環管路に乾燥ガスを流して、乾
燥を行なうようにしたことを特徴とする、石英チューブ
の洗浄方法により、達成される。
れば、石英チューブの両端を密閉して、該石英チューブ
内を通過する循環管路を形成し、該循環管路に薬液を流
して、薬液洗浄を行ない、該循環管路に純水を流して、
純水洗浄を行ない、該循環管路に乾燥ガスを流して、乾
燥を行なうようにしたことを特徴とする、石英チューブ
の洗浄方法により、達成される。
【００１０】本発明による石英チューブの洗浄方法は、
好ましくは、薬液洗浄の際に、循環管路中に、フィルタ
が備えられている。
好ましくは、薬液洗浄の際に、循環管路中に、フィルタ
が備えられている。
【００１１】本発明による石英チューブの洗浄方法は、
好ましくは、石英チューブが、垂直に直立した状態で、
薬液洗浄，純水洗浄及び乾燥が行なわれる。
好ましくは、石英チューブが、垂直に直立した状態で、
薬液洗浄，純水洗浄及び乾燥が行なわれる。
【００１２】
【作用】上記構成によれば、薬液洗浄の際には、石英チ
ューブが薬液循環管路の一部をなすことにより、薬液
は、石英チューブの内面のみに接触して、生成物の洗浄
を行なうことになる。従って、石英チューブの外面に
は、洗浄用の薬液は接触しないので、従来のように洗浄
の際に石英チューブの外面が薬液によりエッチングされ
てしまうようなことはない。従って、石英チューブの寿
命が大幅に延びることになり、コストが低減され得るこ
とになる。
ューブが薬液循環管路の一部をなすことにより、薬液
は、石英チューブの内面のみに接触して、生成物の洗浄
を行なうことになる。従って、石英チューブの外面に
は、洗浄用の薬液は接触しないので、従来のように洗浄
の際に石英チューブの外面が薬液によりエッチングされ
てしまうようなことはない。従って、石英チューブの寿
命が大幅に延びることになり、コストが低減され得るこ
とになる。
【００１３】また、洗浄用の薬液は、石英チューブの内
部のみを循環せしめられることから、従来の石英チュー
ブ全体を浸漬する場合に比較して、小量で済み、コスト
が低減され得ることになる。
部のみを循環せしめられることから、従来の石英チュー
ブ全体を浸漬する場合に比較して、小量で済み、コスト
が低減され得ることになる。
【００１４】薬液洗浄の際に、循環管路中に、フィルタ
が備えられている場合には、一度石英チューブ内を流れ
ることにより、該石英チューブ内の生成物と反応した薬
液が、フィルタを通過することにより、石英チューブか
ら剥がれた生成物が瀘過される。従って、薬液洗浄の効
率が高められることになる。
が備えられている場合には、一度石英チューブ内を流れ
ることにより、該石英チューブ内の生成物と反応した薬
液が、フィルタを通過することにより、石英チューブか
ら剥がれた生成物が瀘過される。従って、薬液洗浄の効
率が高められることになる。
【００１５】石英チューブが、垂直に直立した状態で、
薬液洗浄，純水洗浄及び乾燥が行なわれる場合には、洗
浄に必要なスペースが低減され得ることになる。
薬液洗浄，純水洗浄及び乾燥が行なわれる場合には、洗
浄に必要なスペースが低減され得ることになる。
【００１６】
【実施例】以下、図面に示した実施例に基づいて、本発
明を詳細に説明する。図１は、本発明による方法を適用
した石英チューブの洗浄装置の一実施例を示している。
図１において、洗浄装置１０は、図示しない支持部材に
より直立した状態で支持された洗浄すべき石英チューブ
１１に対して、該石英チューブ１１の下端及び上端を密
閉するキャップ１２，１３と、洗浄用薬液が貯蔵される
薬液タンク１４と、該薬液タンク１４の下部からポンプ
１５，フィルタ１６及び第一のバルブ１７を介してキャ
ップ１２に開口している供給管１８と、該薬液タンク１
４の上部から第二のバルブ１９を介してキャップ１３に
開口している戻り管２０とを含んでいる。
明を詳細に説明する。図１は、本発明による方法を適用
した石英チューブの洗浄装置の一実施例を示している。
図１において、洗浄装置１０は、図示しない支持部材に
より直立した状態で支持された洗浄すべき石英チューブ
１１に対して、該石英チューブ１１の下端及び上端を密
閉するキャップ１２，１３と、洗浄用薬液が貯蔵される
薬液タンク１４と、該薬液タンク１４の下部からポンプ
１５，フィルタ１６及び第一のバルブ１７を介してキャ
ップ１２に開口している供給管１８と、該薬液タンク１
４の上部から第二のバルブ１９を介してキャップ１３に
開口している戻り管２０とを含んでいる。
【００１７】上記供給管１８には、その第一のバルブ１
７によりキャップ１２寄りにて、純水供給管２１が第三
のバルブ２２を介して、また窒素供給管２３が第四のバ
ルブ２４を介して接続されている。また、上記供給管１
８には、ポンプ１５，フィルタ１６及び第一のバルブ１
７をバイパスするバイパス管２５が接続されており、途
中に、第五のバルブ２６が設けられている。さらに、該
バイパス管２５は、その第五のバルブ２６よりキャップ
１２寄りに、第六のバルブ２７を介して排水管２８が接
続されている。
７によりキャップ１２寄りにて、純水供給管２１が第三
のバルブ２２を介して、また窒素供給管２３が第四のバ
ルブ２４を介して接続されている。また、上記供給管１
８には、ポンプ１５，フィルタ１６及び第一のバルブ１
７をバイパスするバイパス管２５が接続されており、途
中に、第五のバルブ２６が設けられている。さらに、該
バイパス管２５は、その第五のバルブ２６よりキャップ
１２寄りに、第六のバルブ２７を介して排水管２８が接
続されている。
【００１８】また、上記戻り管２０は、第二のバルブ１
９よりキャップ１３寄りに、第七のバルブ２９を介して
排出管３０が接続されている。
９よりキャップ１３寄りに、第七のバルブ２９を介して
排出管３０が接続されている。
【００１９】上記石英チューブ１１の下方には、ドレイ
ンパン３１が設けられており、該石英チューブ１１の上
端または下端のキャップ１２，１３から漏出した薬液，
純水を受けるようになっている。該ドレイパン３１の底
部には、排液管３２が接続されている。該排液管３２
は、上記薬液タンク１４の底部に対して、第八のバルブ
３３を介して接続されている。
ンパン３１が設けられており、該石英チューブ１１の上
端または下端のキャップ１２，１３から漏出した薬液，
純水を受けるようになっている。該ドレイパン３１の底
部には、排液管３２が接続されている。該排液管３２
は、上記薬液タンク１４の底部に対して、第八のバルブ
３３を介して接続されている。
【００２０】さらに、上記薬液タンク１４の上部には、
薬液供給源に接続された薬液供給管３４が第九のバルブ
３５を介して接続されていると共に、窒素ガス排出管３
６が第十のバルブ３７を介して接続されている。
薬液供給源に接続された薬液供給管３４が第九のバルブ
３５を介して接続されていると共に、窒素ガス排出管３
６が第十のバルブ３７を介して接続されている。
【００２１】本発明による洗浄装置１０は、以上のよう
に構成されており、先づ薬液洗浄を行なう場合には、バ
ルブ１７及びバルブ１９を開弁する。そして、ポンプ１
５を作動させることにより、薬液タンク１４内の薬液
は、供給管１８を通って、キャップ１２から石英チュー
ブ１１内に進入し、該石英チューブ１１内を上方に進
む。その際、薬液は、石英チューブ１１の内面に析出し
た生成物２（図２参照）と反応することにより、石英チ
ューブ１１の内面を洗浄する。その後、薬液は、石英チ
ューブ１１の上端のキャップ１３から戻り管２０を介し
て、薬液タンク１４内に戻る。
に構成されており、先づ薬液洗浄を行なう場合には、バ
ルブ１７及びバルブ１９を開弁する。そして、ポンプ１
５を作動させることにより、薬液タンク１４内の薬液
は、供給管１８を通って、キャップ１２から石英チュー
ブ１１内に進入し、該石英チューブ１１内を上方に進
む。その際、薬液は、石英チューブ１１の内面に析出し
た生成物２（図２参照）と反応することにより、石英チ
ューブ１１の内面を洗浄する。その後、薬液は、石英チ
ューブ１１の上端のキャップ１３から戻り管２０を介し
て、薬液タンク１４内に戻る。
【００２２】このようにして、薬液が石英チューブ１１
を循環することにより、石英チューブ１１の内面の洗浄
を行なう。このとき、薬液タンク１４からポンプ１５に
より給送される薬液は、フィルタ１６を通過する際に瀘
過される。従って、薬液による石英チューブ１１の内面
の洗浄効率が向上せしめられ得ることになる。
を循環することにより、石英チューブ１１の内面の洗浄
を行なう。このとき、薬液タンク１４からポンプ１５に
より給送される薬液は、フィルタ１６を通過する際に瀘
過される。従って、薬液による石英チューブ１１の内面
の洗浄効率が向上せしめられ得ることになる。
【００２３】薬液洗浄が終了すると、ポンプ１５が停止
され、バルブ１７及びバルブ１９が閉弁されると共に、
バルブ２６が開弁される。これにより、石英チューブ１
１内の薬液は、供給管１８を介して、薬液タンク１４内
に回収される。尚、薬液タンク１４内の薬液が減ってき
た場合には、バルブ３５を開弁することにより、図示し
ない薬液供給源から、薬液供給管３５を介して、薬液タ
ンク１４内に薬液が補充される。
され、バルブ１７及びバルブ１９が閉弁されると共に、
バルブ２６が開弁される。これにより、石英チューブ１
１内の薬液は、供給管１８を介して、薬液タンク１４内
に回収される。尚、薬液タンク１４内の薬液が減ってき
た場合には、バルブ３５を開弁することにより、図示し
ない薬液供給源から、薬液供給管３５を介して、薬液タ
ンク１４内に薬液が補充される。
【００２４】続いて、純水洗浄を行なう場合には、バル
ブ２２及びバルブ２９を開弁する。これにより、純水供
給管２１から供給管１８を介して石英チューブ１１内に
純水が供給され、石英チューブ１１の内面が純水により
洗浄される。石英チューブ１１の上端からオーバーフロ
ーした純水は、戻り管２０から、バルブ２９を介して、
排出管３０から排出される。
ブ２２及びバルブ２９を開弁する。これにより、純水供
給管２１から供給管１８を介して石英チューブ１１内に
純水が供給され、石英チューブ１１の内面が純水により
洗浄される。石英チューブ１１の上端からオーバーフロ
ーした純水は、戻り管２０から、バルブ２９を介して、
排出管３０から排出される。
【００２５】純水洗浄が終了すると、バルブ２２及びバ
ルブ２９が閉弁されると共に、バルブ２７が開弁され
る。これにより、石英チューブ１１内の純水は、供給管
１８からバイパス管２５，排水管２８を介して排出され
る。
ルブ２９が閉弁されると共に、バルブ２７が開弁され
る。これにより、石英チューブ１１内の純水は、供給管
１８からバイパス管２５，排水管２８を介して排出され
る。
【００２６】その後、乾燥を行なう場合には、バルブ２
４及びバルブバルブ２９を開弁する。これにより、窒素
供給管２３から供給管１８を介して石英チューブ１１内
に窒素ガスが供給され、石英チューブ１１内を通過した
後、石英チューブ１１の上端から戻り管２０，排出管３
０を介して排出される。
４及びバルブバルブ２９を開弁する。これにより、窒素
供給管２３から供給管１８を介して石英チューブ１１内
に窒素ガスが供給され、石英チューブ１１内を通過した
後、石英チューブ１１の上端から戻り管２０，排出管３
０を介して排出される。
【００２７】かくして、石英チューブ１１内の薬液洗
浄，純水洗浄及び乾燥が、一つの工程にて簡単に行なわ
れ得ることになる。
浄，純水洗浄及び乾燥が、一つの工程にて簡単に行なわ
れ得ることになる。
【００２８】この場合、薬液洗浄の際には、石英チュー
ブの外面には、洗浄用の薬液は接触しないので、従来の
ように洗浄の際に石英チューブの外面が薬液によりエッ
チングされるようなことはない。例えば、従来の石英チ
ューブ全体を薬液に浸漬する洗浄方法においては、石英
チューブを約６０回使用する毎に薬液浸漬による洗浄を
行なうことにより、石英チューブがエッチングされてし
まうので、薬液浸漬による洗浄は、５乃至６回が限度で
あり、その後は新しい石英チューブに交換する必要があ
ったが、本発明によれば、薬液洗浄は、２００回以上可
能であることから、一つの石英チューブ１１をほぼ半永
久的に利用することが可能である。
ブの外面には、洗浄用の薬液は接触しないので、従来の
ように洗浄の際に石英チューブの外面が薬液によりエッ
チングされるようなことはない。例えば、従来の石英チ
ューブ全体を薬液に浸漬する洗浄方法においては、石英
チューブを約６０回使用する毎に薬液浸漬による洗浄を
行なうことにより、石英チューブがエッチングされてし
まうので、薬液浸漬による洗浄は、５乃至６回が限度で
あり、その後は新しい石英チューブに交換する必要があ
ったが、本発明によれば、薬液洗浄は、２００回以上可
能であることから、一つの石英チューブ１１をほぼ半永
久的に利用することが可能である。
【００２９】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、薬
液洗浄の際には、石英チューブの外面には、洗浄用の薬
液は接触しないので、従来のように洗浄の際に石英チュ
ーブの外面が薬液によりエッチングされるようなことは
ない。従って、石英チューブの寿命が大幅に延びること
になり、更に薬液洗浄，純水洗浄及び乾燥が、一つの工
程にて簡単に行なわれ得ることから、スペースの省力化
が図られることになり、コストが大幅に低減され得るこ
とになる。
液洗浄の際には、石英チューブの外面には、洗浄用の薬
液は接触しないので、従来のように洗浄の際に石英チュ
ーブの外面が薬液によりエッチングされるようなことは
ない。従って、石英チューブの寿命が大幅に延びること
になり、更に薬液洗浄，純水洗浄及び乾燥が、一つの工
程にて簡単に行なわれ得ることから、スペースの省力化
が図られることになり、コストが大幅に低減され得るこ
とになる。
【００３０】また、洗浄用の薬液は、石英チューブの内
部のみを循環せしめられることから、従来の石英チュー
ブ全体を浸漬する場合に比較して、小量で済み、コスト
が低減され得ることになる。
部のみを循環せしめられることから、従来の石英チュー
ブ全体を浸漬する場合に比較して、小量で済み、コスト
が低減され得ることになる。
【００３１】薬液洗浄の際に、循環管路中に、フィルタ
が備えられている場合には、一度石英チューブ内を流れ
ることにより、該石英チューブ内の生成物と反応した薬
液が、フィルタを通過することにより、石英チューブか
ら剥がれた生成物が瀘過される。従って、薬液洗浄の効
率が高められることになる。
が備えられている場合には、一度石英チューブ内を流れ
ることにより、該石英チューブ内の生成物と反応した薬
液が、フィルタを通過することにより、石英チューブか
ら剥がれた生成物が瀘過される。従って、薬液洗浄の効
率が高められることになる。
【００３２】かくして、本発明によれば、石英チューブ
の外面が薬液により侵食されず、而も簡単且つ低コスト
で洗浄が行なわれ得るようにした、極めて優れた石英チ
ューブの洗浄方法が提供され得ることになる。
の外面が薬液により侵食されず、而も簡単且つ低コスト
で洗浄が行なわれ得るようにした、極めて優れた石英チ
ューブの洗浄方法が提供され得ることになる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による石英チューブの洗浄装置の一実施
例を示す概略図である。
例を示す概略図である。
【図２】洗浄前の石英チューブの断面図である。
【図３】従来の石英チューブの洗浄装置の一例を示す概
略図である。
略図である。
１０ 洗浄装置 １１ 石英チューブ １２，１３ キャップ １４ 薬液タンク １５ ポンプ １６ フィルタ １７，１９，２２，２４，２６，２７，２９，３３，３
５，３７バルブ １８ 供給管（循環管路） ２０ 戻り管（循環管路） ２１ 純水供給管 ２３ 窒素供給管 ２５ バイパス管 ２８ 排水管 ３０ 排出管 ３１ ドレインパン ３２ 排液管 ３４ 窒素供給管 ３６ 窒素ガス排出管
５，３７バルブ １８ 供給管（循環管路） ２０ 戻り管（循環管路） ２１ 純水供給管 ２３ 窒素供給管 ２５ バイパス管 ２８ 排水管 ３０ 排出管 ３１ ドレインパン ３２ 排液管 ３４ 窒素供給管 ３６ 窒素ガス排出管
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/22 ５０１ Ｋ
Claims (3)
- 【請求項１】 石英チューブの両端を密閉して、該石英
チューブ内を通過する循環管路を形成し、該循環管路に
薬液を流して、薬液洗浄を行ない、該循環管路に純水を
流して、純水洗浄を行ない、該循環管路に乾燥ガスを流
して、乾燥を行なうようにしたことを特徴とする、石英
チューブの洗浄方法。 - 【請求項２】 薬液洗浄の際に、循環管路中に、フィル
タが備えられていることを特徴とする、請求項１に記載
の石英チューブの洗浄方法。 - 【請求項３】 石英チューブが、垂直に直立した状態
で、薬液洗浄，純水洗浄及び乾燥が行なわれることを特
徴とする、請求項１または２に記載の石英チューブの洗
浄方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6197787A JPH0845890A (ja) | 1994-07-29 | 1994-07-29 | 石英チューブの洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6197787A JPH0845890A (ja) | 1994-07-29 | 1994-07-29 | 石英チューブの洗浄方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0845890A true JPH0845890A (ja) | 1996-02-16 |
Family
ID=16380351
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6197787A Pending JPH0845890A (ja) | 1994-07-29 | 1994-07-29 | 石英チューブの洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0845890A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001110773A (ja) * | 1999-08-05 | 2001-04-20 | Tokyo Electron Ltd | 洗浄装置、洗浄システム、処理装置及び洗浄方法 |
| CN112871891A (zh) * | 2021-01-13 | 2021-06-01 | 哈尔滨科友半导体产业装备与技术研究院有限公司 | 一种碳化硅晶体生长炉石英管的清理方法 |
| CN114472380A (zh) * | 2022-01-07 | 2022-05-13 | 浙江泓芯半导体有限公司 | 一种石英管清洁装置 |
-
1994
- 1994-07-29 JP JP6197787A patent/JPH0845890A/ja active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001110773A (ja) * | 1999-08-05 | 2001-04-20 | Tokyo Electron Ltd | 洗浄装置、洗浄システム、処理装置及び洗浄方法 |
| CN112871891A (zh) * | 2021-01-13 | 2021-06-01 | 哈尔滨科友半导体产业装备与技术研究院有限公司 | 一种碳化硅晶体生长炉石英管的清理方法 |
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