JPH0845422A - Manufacture of shadow mask - Google Patents

Manufacture of shadow mask

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JPH0845422A
JPH0845422A JP17566994A JP17566994A JPH0845422A JP H0845422 A JPH0845422 A JP H0845422A JP 17566994 A JP17566994 A JP 17566994A JP 17566994 A JP17566994 A JP 17566994A JP H0845422 A JPH0845422 A JP H0845422A
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shadow mask
etching
coater
prevention layer
roll
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邦晶 三田
Tomohito Tsunashima
智史 綱島
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Abstract

PURPOSE:To manufacture a highly accurate shadow mask by forming a pre- stage coat layer on etched metal surface with a roll coater, and a post-stage coat layer on it with a photogravure coater to form an etching prevention layer. CONSTITUTION:A plate type shadow mask metallic material 1 with the prescribed pattern of a resist film formed on both sides, us passed through the first etching chamber 7, and subjected to an intermediate etching process. Then, an etching prevention layer formed out of a pre-stage coat applied with a roll coater 9 and a post-stage coat applied with a photogravure coater for filling a recess at a metal exposure section on one side, is formed on the metallic material 1. Thereafter, the material 1 is passed through the second etching chamber 11 via a drying and curing area 24. In this case, a recess at a metal exposure section on the other side is further etched, thereby forming a recess hole communicated to the recess on one side. Then, the etching prevention layer and the resist film are removed in a film separation chamber 12.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、フォトエッチング法に
よってシャドウマスクを製造する方法に係わり、特に開
孔の径が小さく開孔の数が多い高精細シャドウマスクの
製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing a shadow mask by a photoetching method, and more particularly to a method for producing a high-definition shadow mask having a small diameter of apertures and a large number of apertures.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、カラー受像管に用いるシャドウマ
スクは、図3に示すような工程で造られる。すなわち、
シャドウマスク材1として例えば板厚0.13mmの低炭素鋼
板を用い、その両面を脱脂、整面、洗浄処理した後、そ
の両面にカゼインやポリビニルアルコールと重クロム酸
アンモニウムからなる水溶性感光液を塗布乾燥して、フ
ォトレジスト膜2を形成する。次いで、シャドウマスク
材1の一方の面に小孔像のネガパターンを、他方の面に
大孔像のネガパターンを露光する。その後、温水にて、
未露光未硬化のフォトレジスト膜を溶解する現像処理を
行なえば、図3(a)に示すように、小孔レジスト膜2a
と大孔レジスト膜2bを表裏に有するシャドウマスク材1
が得られる。
2. Description of the Related Art Conventionally, a shadow mask used for a color picture tube is manufactured by a process as shown in FIG. That is,
As the shadow mask material 1, for example, a low carbon steel plate having a thickness of 0.13 mm is used, and after degreasing, surface conditioning and cleaning treatment on both sides, casein or polyvinyl alcohol and ammonium dichromate are applied to the water-soluble photosensitive solution on both sides. After drying, the photoresist film 2 is formed. Next, one surface of the shadow mask material 1 is exposed with a negative pattern of a small hole image and the other surface is exposed with a negative pattern of a large hole image. After that, with warm water,
When the developing process for dissolving the unexposed uncured photoresist film is performed, as shown in FIG. 3A, the small hole resist film 2a is formed.
Shadow mask material 1 having a large hole resist film 2b on both sides
Is obtained.

【0003】その後、レジスト膜2に対して硬膜処理お
よびバーニング処理を施し、第一段階のエッチングを表
裏両面から行なう。エッチング液には塩化第二鉄のボー
メ濃度35〜50を用い、スプレー圧 1.5〜3.5kg/cm2 のス
プレーエッチングで行なうのが一般的である。この第一
エッチング工程では、図3(b)に示すように、エッチ
ング進度は、途中で止めるのが肝要である。また、この
第一エッチング工程では、シャドウマスク材1の大孔レ
ジスト膜2bを有する面に保護フィルムを貼り付け、小孔
側からのみシャドウマスク材1を中途までエッチングす
る方法もある。
After that, the resist film 2 is subjected to a hardening treatment and a burning treatment, and first-stage etching is performed from both front and back surfaces. The etching solution is a ferric chloride having a Baume concentration of 35 to 50, and spray etching is generally performed at a spray pressure of 1.5 to 3.5 kg / cm 2 . In this first etching step, as shown in FIG. 3B, it is important to stop the etching progress on the way. Further, in this first etching step, there is also a method in which a protective film is attached to the surface of the shadow mask material 1 having the large hole resist film 2b and the shadow mask material 1 is etched halfway only from the small hole side.

【0004】次いで、図3(c)に示すように、前段の
エッチングで形成された小孔側の凹部3bを完全に埋め尽
くすエッチング防止層4を塗布形成する。続いて、図3
(d)に示すように、大孔側からのみシャドウマスク材
1をエッチングする第二エッチング工程を行ない、大孔
側から小孔に貫通する開孔5を形成する。最後に、エッ
チング防止層4およびレジスト膜2を剥がし、水洗乾燥
して図3(e)に示すフラット型のシャドウマスク6を
得る。
Next, as shown in FIG. 3C, an etching prevention layer 4 is formed by coating so as to completely fill the recess 3b on the small hole side formed by the preceding etching. Then, FIG.
As shown in (d), the second etching step of etching the shadow mask material 1 only from the large hole side is performed to form the opening 5 penetrating from the large hole side to the small hole. Finally, the etching prevention layer 4 and the resist film 2 are peeled off, washed with water and dried to obtain a flat shadow mask 6 shown in FIG.

【0005】この従来法では、フォトエッチング法では
避けることのできないサイドエッチング現象を小孔側で
抑えている、ということができる。すなわち、小孔側の
凹部にエッチング防止層を充填し、第二エッチング工程
では小孔はサイドエッチングされないことにより、第一
エッチング工程における精確な小孔パターンを維持でき
る。したがって、例えば材料金属板の厚さより小さい孔
径の開孔も可能としていた。
In this conventional method, it can be said that the side etching phenomenon, which cannot be avoided by the photoetching method, is suppressed on the small hole side. That is, by filling the recesses on the small hole side with the etching prevention layer and not side-etching the small holes in the second etching step, the accurate small hole pattern in the first etching step can be maintained. Therefore, for example, it is possible to open a hole having a hole diameter smaller than the thickness of the material metal plate.

【0006】しかしながら、この従来法にも問題がない
わけではない。従来法によれば、エッチング防止層の形
成は、スプレーコート法で行なわれているが、この方法
では以下のような欠点があげられる。 スプレーノズルを多数並べるのでコート装置が大型化
する。 スプレー飛沫による汚染、コート液の滞留のため、コ
ート装置の保守管理に手間がかかる。 エッチング防止層内に気泡が取り込まれて残存しやす
い。 特に、第番目の欠点は、残存した気泡が、第二エッチ
ング工程で、小孔のサイドエッチング現象を助長するこ
とがあり、その結果、開孔の形状が拡大したり、所定の
円形にならないなどの孔形不良の原因となった。
However, this conventional method is not without problems. According to the conventional method, the etching prevention layer is formed by a spray coating method, but this method has the following drawbacks. Since a large number of spray nozzles are arranged, the coater becomes large. Maintenance of the coater is troublesome due to contamination by spray droplets and accumulation of coat liquid. Bubbles are easily trapped and remain in the etching prevention layer. In particular, the second drawback is that the remaining bubbles may promote the side etching phenomenon of the small holes in the second etching process, resulting in the enlargement of the shape of the openings or the failure of a predetermined circular shape. It was the cause of poor hole shape.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上のよう
な事情に鑑み、シャドウマスクの製造方法において、気
泡が取り込まれて残存することのないエッチング防止層
の形成法を立案して、本発明に至ったものであり、得ら
れるシャドウマスクに形状不良の開孔が生じないシャド
ウマスクの製造方法を提供しようとするものである。
In view of the above-mentioned circumstances, the present invention proposes a method for forming an etching preventive layer in which a bubble is not taken in and remains in a method for manufacturing a shadow mask. The present invention has been accomplished, and an object of the present invention is to provide a method for manufacturing a shadow mask in which the resulting shadow mask does not have defective openings.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、両
面に所定パターンに従って一部金属面を露出させている
レジスト膜が形成されている板状のシャドウマスク金属
素材の少なくとも一方の面をエッチングして、少なくと
もこの一方の面の金属露出部分に凹部を形成する第一エ
ッチング工程と、前記第一エッチング工程にて形成され
た凹部を有する一方の面にエッチング防止層を塗布し
て、この凹部内部にエッチング防止層を充填する工程
と、前記エッチング防止層の設けられた面とは反対の面
をエッチングして、この反対の面から前記一方の面に形
成された凹部に通じる凹孔を形成する第二エッチング工
程と、前記エッチング防止層とレジスト膜を除去する剥
膜工程とを少なくとも有するシャドウマスクの製造方法
において、前記のエッチング防止層の塗布手段として、
ロールコーターの前段コートと、グラビアコーターの後
段コートとの二段塗布法を用いることを特徴とするシャ
ドウマスクの製造方法である。
That is, according to the present invention, at least one surface of a plate-shaped shadow mask metal material having a resist film on which a metal surface is partially exposed according to a predetermined pattern is formed on both surfaces. Then, a first etching step of forming a concave portion on at least this one surface of the metal exposed portion, and an etching prevention layer is applied to one surface having the concave portion formed in the first etching step, and the concave portion is formed. Filling the inside with an etching prevention layer, and etching the surface opposite to the surface on which the etching prevention layer is provided, and forming a concave hole leading from this opposite surface to the concave portion formed on the one surface. In the method for producing a shadow mask, which comprises at least a second etching step and a film removing step for removing the etching prevention layer and the resist film, As the coating means ring preventing layer,
A method for producing a shadow mask, characterized by using a two-step coating method comprising a front coat of a roll coater and a rear coat of a gravure coater.

【0009】しかし、本発明のシャドウマスクの製造方
法の実施態様には、様々の変形がありうる。そのひとつ
は、ロールコーターの前段コートに代えて、前段コート
もグラビアコーターにすることである。この場合は、グ
ラビアコーターが2連並ぶことになる。
However, various modifications can be made to the embodiment of the method for manufacturing a shadow mask of the present invention. One of them is to replace the front coat of the roll coater with a gravure coater. In this case, two gravure coaters are lined up.

【0010】次ぎの変形は、グラビアコーターが、リバ
ースグラビアコーターであることである。「リバース」
とは、被塗布物と接するグラビアロールの回転方向が、
被塗布物の進行方向と逆になるような回り方をいう。以
下、とくにことわらないかぎり、単に「グラビアコータ
ー」という場合は、グラビアロールの回転方向が、被塗
布物の進行方向と同じであるナチュラルグラビアコータ
ーを意味し、リバースグラビアコーターとは区別するも
のとする。
The next modification is that the gravure coater is a reverse gravure coater. "reverse"
Is the direction of rotation of the gravure roll in contact with the object to be coated,
It is a turning direction that is opposite to the traveling direction of the object to be coated. Hereinafter, unless otherwise specified, when simply referred to as “gravure coater”, it means a natural gravure coater in which the rotation direction of the gravure roll is the same as the traveling direction of the coated object, and is distinguished from the reverse gravure coater. To do.

【0011】また、グラビアコーターのインキ供給方式
は、リバースであるとナチュラルであるとを問わず、イ
ンキ循環方式であることが望ましい。何故かならば、イ
ンキ循環経路にフィルターを付けることにより、インキ
を常に清浄な状態で版に供給できるからである。
The ink supply system of the gravure coater is preferably the ink circulation system regardless of whether it is reverse or natural. This is because the ink can always be supplied to the plate in a clean state by attaching a filter to the ink circulation path.

【0012】本発明が適応できるシャドウマスクの製造
方法としては、図3を用いて説明した従来技術が適応で
きることは勿論である。より一般的に言えば、エッチン
グを二段階に分け、その間に片面に中途までエッチング
した凹部内にエッチング防止層を充填する工程を有する
シャドウマスクの製造方法であれば、本発明は適応でき
る。エッチング防止層を充填する凹部は、小孔側であっ
ても大孔側であっても、差し支えないが、多くの場合、
小孔側である。
As a method for manufacturing a shadow mask to which the present invention can be applied, it goes without saying that the conventional technique described with reference to FIG. 3 can be applied. More generally speaking, the present invention can be applied to any method of manufacturing a shadow mask, which includes a step of dividing etching into two stages and filling an etching prevention layer into a recessed portion on one side of which halfway is etched. The recess for filling the etching prevention layer may be on the small hole side or the large hole side, but in many cases,
It is a small hole side.

【0013】[0013]

【作用】本発明は、シャドウマスクの製造工程におい
て、エッチング防止層の塗布手段として、ロールコータ
ーの前段コートと、グラビアコーターの後段コートとを
組み合わせたものである。ロールコーターは、被塗布面
へ充分量のインキを供給すること、かつエッチングした
凹部内へインキを押し込むことに長け、グラビアコータ
ーは、エッチングした凹部内へインキを押し込むこと
と、ピンホールのない均一な膜厚の塗布膜を得ることに
長じている。ロールコーターをグラビアコーターに代え
ることもできるが、いずれにしても、本発明は、気泡を
抱き込むことなく、エッチングした凹部内にエッチング
防止層を充填することができる。
The present invention is a combination of a roll coater pre-coating and a gravure coater post-coating as means for applying the etching preventive layer in the shadow mask manufacturing process. The roll coater is good at supplying a sufficient amount of ink to the surface to be coated and pushing the ink into the etched recesses, and the gravure coater is able to push the ink into the etched recesses and evenly without pinholes. It is good to obtain a coating film of various thickness. The roll coater may be replaced with a gravure coater, but in any case, the present invention can fill the etching recess with the etching prevention layer without enclosing air bubbles.

【0014】[0014]

【実施例】以下に、図面の図1から図2に基づいて、本
発明を詳述する。図1において、シャドウマスク材1
は、巻取りロールから供給された長尺物の金属板であっ
て、例えば板厚0.13mmの低炭素鋼や低膨張性のアンバー
材を用いる。すでに(従来の技術)の項で説明したよう
な工程を行なえば、図3(a)に示すような、小孔レジ
スト膜2aと大孔レジスト膜2bを表裏に有するシャドウマ
スク材1が得られる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described in detail below with reference to FIGS. In FIG. 1, a shadow mask material 1
Is a long metal plate supplied from a winding roll, for example, a low carbon steel having a plate thickness of 0.13 mm or a low expansion amber material is used. By performing the steps already described in the section (Prior Art), a shadow mask material 1 having a small hole resist film 2a and a large hole resist film 2b on the front and back sides as shown in FIG. 3A is obtained. .

【0015】次いで、図1の第一エッチングチャンバー
7に、シャドウマスク材1を通せば、上下に設置された
スプレーノズル8から吹き出すエッチング液により、シ
ャドウマスク材1の表裏が途中までエッチングされ、図
3(b)に示すような凹部3a、3bが形成される。
Next, when the shadow mask material 1 is passed through the first etching chamber 7 shown in FIG. 1, the front and back of the shadow mask material 1 are partly etched by the etching liquid ejected from the spray nozzles 8 provided above and below, Recesses 3a and 3b are formed as shown in FIG. 3 (b).

【0016】第一エッチングチャンバー7を通過したシ
ャドウマスク材1は、上方へ搬送され、エッチング防止
層が充填される小孔側を下面となるよう反転される。シ
リンダーロールによる塗布では、塗布面を下側とするの
が適しているからである。反転して小孔面を下側とした
シャドウマスク材1に対して、ロールコーター9の前段
コートと、グラビアコーター10の後段コートとの二段塗
布法を行なう。これが、本発明の特徴のひとつである。
The shadow mask material 1 which has passed through the first etching chamber 7 is conveyed upward and inverted so that the small hole side filled with the etching prevention layer is the lower surface. This is because in the case of coating with a cylinder roll, it is suitable that the coating surface is on the lower side. The shadow mask material 1 which has been turned over so that the small hole surface is on the lower side is subjected to a two-step coating method of a front coat of the roll coater 9 and a rear coat of the gravure coater 10. This is one of the features of the present invention.

【0017】この点を図2に基づいて説明すると、右方
から搬送されてくるシャドウマスク材1を、塗布ロール
13と圧ロール16で挟み、塗布ロール13の表面に供給ロー
ル14によってインキパン15の塗布液が供給されることに
より、シャドウマスク材1の下面小孔側に塗布液が展開
される。塗布ロール13の役割は、被塗布面へ充分量のイ
ンキを供給すること、かつエッチングした凹部内へイン
キを押し込むことである。しかし、ロールコーターの性
質として、エッチングした凹部内へインキを押し込むこ
と、および塗布液を均して均一な膜厚の塗布膜を得るこ
とについては、幾分不十分なところがある。
This point will be described with reference to FIG. 2. The shadow mask material 1 conveyed from the right side is applied to the coating roll.
It is sandwiched between 13 and the pressure roll 16, and the supply liquid 14 supplies the coating liquid of the ink pan 15 to the surface of the coating roll 13 to spread the coating liquid on the small hole side of the lower surface of the shadow mask material 1. The role of the coating roll 13 is to supply a sufficient amount of ink to the surface to be coated and to push the ink into the etched recess. However, as a property of the roll coater, there is some insufficiency in pushing the ink into the etched concave portion and leveling the coating liquid to obtain a coating film having a uniform film thickness.

【0018】次いで、グラビアコーター10による後段コ
ートを行なう。前段と同様、グラビアロール17と圧胴22
の間にシャドウマスク材1を通すのであるが、図の実施
例ではグラビアロール17の回転方向は、リバースとなっ
ている。リバースグラビアロール17の場合、シャドウマ
スク材1との相対速度が大で、しかも逆方向での接触で
あるから、接触面で塗布液を凹部へ押し込む働きが強
い。そのうえ、グラビアコーター10の性質として、塗布
液を均一に展開するのに適しているから、ピンホール等
の塗布欠陥を生じることがない。
Next, a post-stage coating by the gravure coater 10 is performed. As with the previous stage, gravure roll 17 and impression cylinder 22
Although the shadow mask material 1 is passed between the two, the rotation direction of the gravure roll 17 is reverse in the illustrated embodiment. In the case of the reverse gravure roll 17, since the relative speed with the shadow mask material 1 is high and the contact is in the opposite direction, the action of pushing the coating liquid into the concave portion at the contact surface is strong. Moreover, since the gravure coater 10 is suitable for uniformly spreading the coating liquid, it does not cause coating defects such as pinholes.

【0019】グラビアコーター10の塗布液は、循環方式
で供給されている。塗布液供給装置18の先端部23はリバ
ースグラビアロール17の表面に摺接して、グラビアロー
ルの表面に刻設されたインキセルの中に充填された塗布
液以外の余分な塗布液を掻き落とす。余分な塗布液は、
インキ受け19からポンプ20、フィルター21を経て循環さ
れる。この方式の優れた点は、フィルターを通して塗布
液が常に清浄なことである。
The coating liquid of the gravure coater 10 is supplied in a circulating system. The tip 23 of the coating liquid supply device 18 slides on the surface of the reverse gravure roll 17 to scrape off excess coating liquid other than the coating liquid filled in the ink cells engraved on the surface of the gravure roll. Excess coating liquid
It is circulated from the ink receiver 19 through the pump 20 and the filter 21. The advantage of this method is that the coating solution is always clean through the filter.

【0020】図2に示す実施例について、いくつかの変
形があり得る。例えば、前段コートのロールコーター
を、2連以上の複数列のロールコーターにする。こうす
ると、塗布液の供給を充分なものにすることができる。
あるいは、ロールコーターの前段コートに代えて、前段
コートもグラビアコーターとすることもできる。この場
合は、塗布膜の厚さをよりいっそう均一にできる。
There may be several variations on the embodiment shown in FIG. For example, the roll coater of the first coat is a roll coater of two or more rows and a plurality of rows. This makes it possible to sufficiently supply the coating liquid.
Alternatively, instead of the front coat of the roll coater, the front coat may also be a gravure coater. In this case, the thickness of the coating film can be made even more uniform.

【0021】エッチング防止層の塗布が終了したシャド
ウマスク材1は、さらに上の乾燥・硬化のエリア24を経
て、第二エッチングチャンバー11に通す。スプレーノズ
ルは大孔側すなわち下方からエッチング液を噴き付け
る。こうして大孔側から小孔に通じる貫通孔を開け、図
3(d)に示す状態とし、最後に剥膜チャンバー12にて
エッチング防止層およびレジスト膜2を除去して、図3
(e)に示すフラット型のシャドウマスクを得た。
The shadow mask material 1 on which the etching prevention layer has been applied is passed through the second drying / curing area 24 and then passed through the second etching chamber 11. The spray nozzle sprays the etching solution from the large hole side, that is, from below. In this way, a through hole communicating from the large hole side to the small hole is opened to obtain the state shown in FIG. 3D, and finally, the etching prevention layer and the resist film 2 are removed in the film peeling chamber 12,
The flat type shadow mask shown in (e) was obtained.

【0022】[0022]

【発明の効果】以上のように、本発明のシャドウマスク
の製造方法よれば、エッチング防止層の塗布方法とし
て、ロールコート方式を採用したので、ロールコーター
は、被塗布面へ充分量のインキを供給すること、かつエ
ッチングした凹部内へインキを押し込むことに長け、グ
ラビアコーターは、エッチングした凹部内へインキを押
し込むことと、ピンホールのない均一な膜厚の塗布膜を
得ることに長じている。
As described above, according to the method for producing the shadow mask of the present invention, the roll coater is used as the method for applying the etching prevention layer, so that the roll coater applies a sufficient amount of ink to the surface to be coated. It is good at supplying and pushing the ink into the etched recess, and the gravure coater is good at pushing the ink into the etched recess and obtaining a coating film with a uniform film thickness without pinholes. There is.

【0023】したがって、 スプレー方式に比べて、エッチング防止層内に気泡が
取り込まれない。したがって、残存した気泡が、第二段
階のエッチングで、小孔のサイドエッチング現象を助長
することがなく、その結果、開孔の形状が拡大したり、
所定の円形にならないなどの孔形不良が抑えられる。。 ロールコーター方式の塗布法であるので、スプレー方
式に比べてコート装置が小型である。 スプレー飛沫による汚染、コート液の滞留ということ
がなく、コート装置の保守管理が楽である。という、実
用上すぐれた効果がある。
Therefore, as compared with the spray method, bubbles are not taken into the etching prevention layer. Therefore, the remaining bubbles do not promote the side etching phenomenon of the small holes in the second-stage etching, and as a result, the shape of the openings is enlarged,
Poor shape defects such as not having a predetermined circular shape can be suppressed. . Since the coating method is the roll coater method, the coater is smaller than the spray method. Maintenance of the coater is easy because there is no contamination due to spray droplets and no coating liquid retention. That is, it has an excellent effect in practical use.

【0024】[0024]

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明のシャドウマスクの製造方法の一実施例
を示す説明図。
FIG. 1 is an explanatory view showing an embodiment of a shadow mask manufacturing method of the present invention.

【図2】本発明のシャドウマスクの製造方法の一実施例
の要部を示す説明図。
FIG. 2 is an explanatory view showing a main part of an embodiment of a method for manufacturing a shadow mask of the present invention.

【図3】シャドウマスクの製造方法の一例を工程順に示
す説明図。
FIG. 3 is an explanatory view showing an example of a method of manufacturing a shadow mask in the order of steps.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 シャドウマスク材 2 レジスト膜 3 凹部 4 エッチング防止層 5 開孔 6 シャドウマスク 7 第一エッチングチャンバー 8 ノズル 9 ロールヒーター 10 グラビアコーター 11 第二エッチングチャンバー 12 剥膜チャンバー 13 塗布ロール 14 供給ロール 15 インキパン 16 圧ロール 17 グラビアロール 18 塗布液供給装置 19 インキ受け 20 ポンプ 21 フィルター 22 圧胴 23 先端部 24 乾燥・硬化のエリア 1 Shadow Mask Material 2 Resist Film 3 Recess 4 Etching Prevention Layer 5 Opening 6 Shadow Mask 7 First Etching Chamber 8 Nozzle 9 Roll Heater 10 Gravure Coater 11 Second Etching Chamber 12 Stripping Chamber 13 Coating Roll 14 Supply Roll 15 Ink Pan 16 Pressure roll 17 Gravure roll 18 Coating liquid supply device 19 Ink receiver 20 Pump 21 Filter 22 Impression cylinder 23 Tip 24 Drying / curing area

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】両面に所定パターンに従って一部金属面を
露出させているレジスト膜が形成されている板状のシャ
ドウマスク金属素材の少なくとも一方の面をエッチング
して、少なくともこの一方の面の金属露出部分に凹部を
形成する第一エッチング工程と、前記第一エッチング工
程にて形成された凹部を有する一方の面にエッチング防
止層を塗布して、この凹部内部にエッチング防止層を充
填する工程と、前記エッチング防止層の設けられた面と
は反対の面をエッチングして、この反対の面から前記一
方の面に形成された凹部に通じる凹孔を形成する第二エ
ッチング工程と、前記エッチング防止層とレジスト膜を
除去する剥膜工程とを少なくとも有するシャドウマスク
の製造方法において、 前記のエッチング防止層の塗布手段として、ロールコー
ターの前段コートと、グラビアコーターの後段コートと
の二段塗布法を用いることを特徴とするシャドウマスク
の製造方法。
1. A metal on at least one of the surfaces of a plate-shaped shadow mask metal material having a resist film on which a metal surface is partially exposed according to a predetermined pattern is etched on at least one surface. A first etching step of forming a concave portion in the exposed portion; a step of applying an etching prevention layer on one surface having the concave portion formed in the first etching step and filling the inside of the concave portion with the etching prevention layer; A second etching step of etching a surface opposite to the surface on which the etching prevention layer is provided to form a concave hole communicating from the opposite surface to a concave portion formed on the one surface; In the method for producing a shadow mask, which comprises at least a layer and a stripping step of removing the resist film, a roll is used as the means for applying the etching prevention layer. A method for producing a shadow mask, which comprises using a two-step coating method comprising a coater pre-coating and a gravure coater post-coating.
【請求項2】ロールコーターの前段コートに代えて、前
段コートもグラビアコーターである請求項1記載のシャ
ドウマスクの製造方法。
2. The method for producing a shadow mask according to claim 1, wherein instead of the front coat of the roll coater, the front coat is also a gravure coater.
【請求項3】前段コートのロールコーターが、2連以上
の複数列のロールコーターからなる請求項1記載のシャ
ドウマスクの製造方法。
3. The method for producing a shadow mask according to claim 1, wherein the roll coater of the pre-coat comprises a plurality of rows of roll coaters of two or more lines.
【請求項4】グラビアコーターが、リバースグラビアコ
ーターである請求項1,2または3記載のシャドウマス
クの製造方法。
4. The method of manufacturing a shadow mask according to claim 1, wherein the gravure coater is a reverse gravure coater.
【請求項5】グラビアコーターの塗布液供給方式が、塗
布液循環方式である請求項1,2,3または4記載のシ
ャドウマスクの製造方法。
5. The method for producing a shadow mask according to claim 1, 2, 3 or 4, wherein the coating solution supply system of the gravure coater is a coating solution circulation system.
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