JP3206416B2 - Manufacturing method of shadow mask - Google Patents
Manufacturing method of shadow maskInfo
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Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、フォトエッチング
法によってシャドウマスクを製造する方法に係わり、特
に開孔の径が小さく開孔の数が多い高精細シャドウマス
クの製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a shadow mask by a photo-etching method, and more particularly to a method of manufacturing a high-definition shadow mask having a small opening diameter and a large number of openings.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、カラー受像管等に用いるシャドウ
マスクは、図3に示すような工程で造られる。すなわ
ち、金属素材(以下、シャドウマスク材1と記す)とし
て例えば板厚0.13mmの低炭素鋼板を用い、その両面を脱
脂、整面、洗浄処理した後、その両面にカゼインまたは
ポリビニルアルコールと重クロム酸アンモニウム等から
なる水溶性感光液を塗布乾燥して、フォトレジスト膜2
を形成する。次いで、シャドウマスク材1の一方の面に
小孔像のネガパターンを、他方の面に大孔像のネガパタ
ーンを露光する。その後、温水にて、未露光未硬化のフ
ォトレジスト膜を溶解する現像処理を行なえば、図3
(a)に示すように、小孔レジスト膜2aと大孔レジスト
膜2bを表裏に有するシャドウマスク材1が得られる。2. Description of the Related Art Conventionally, a shadow mask used for a color picture tube or the like is manufactured by a process as shown in FIG. That is, for example, a low carbon steel plate having a thickness of 0.13 mm is used as a metal material (hereinafter, referred to as a shadow mask material 1), and both surfaces are degreased, trimmed, and cleaned, and then both sides are treated with casein or polyvinyl alcohol and bichromium. A water-soluble photosensitive solution composed of ammonium acid or the like is applied and dried to form a photoresist film 2
To form Next, one side of the shadow mask material 1 is exposed to the negative pattern of the small hole image, and the other side is exposed to the negative pattern of the large hole image. After that, if a development process for dissolving the unexposed and uncured photoresist film with warm water is performed, FIG.
As shown in (a), a shadow mask material 1 having a small-hole resist film 2a and a large-hole resist film 2b on the front and back is obtained.
【0003】その後、レジスト膜2に対して硬膜処理お
よびバーニング処理を施し、第一段階のエッチングを表
裏両面から行なう。エッチング液には塩化第二鉄液のボ
ーメ濃度35〜50を用い、スプレー圧 1.5〜3.0kg/cm2 の
スプレーエッチングで行なうのが一般的である。この第
一エッチング工程では、図3(b)に示すように、エッ
チング進度は、途中で止めるのが肝要である。また、こ
の第一エッチング工程では、シャドウマスク材1の大孔
レジスト膜2bを有する面に保護フィルムを貼り付け、小
孔側からのみシャドウマスク材1を中途までエッチング
する方法もある。After that, a hardening process and a burning process are performed on the resist film 2, and a first stage etching is performed from both front and back surfaces. In general, the etching is performed by spray etching at a spray pressure of 1.5 to 3.0 kg / cm 2 using a Baume concentration of ferric chloride solution of 35 to 50. In the first etching step, as shown in FIG. 3B, it is important to stop the etching progress halfway. In the first etching step, there is also a method in which a protective film is attached to the surface of the shadow mask material 1 having the large hole resist film 2b, and the shadow mask material 1 is etched only from the small hole side.
【0004】次いで、小孔側の小孔レジスト膜2aを剥膜
する。なお、小孔レジスト膜2aの剥膜の際、大孔レジス
ト膜2b側で不要な剥膜が行われることを防ぐため、大孔
レジスト膜2b側に保護フィルムを貼りつけたうえで、小
孔レジスト膜2aの剥膜を行うことが一般的となってい
る。次いで、光硬化性の樹脂または、熱硬化性の樹脂等
を塗布液とし、図3(c)に示すように、小孔側に塗布
を行い、前段のエッチングで形成された小孔側の凹部3a
を完全に埋め尽くすエッチング防止層4を形成する。こ
こで、小孔側凹部3aへの塗布液の充填性を高めるため、
小孔レジスト膜2aを剥膜後、エッチング防止層を塗布形
成しているものであるが、小孔レジスト膜2aを剥膜する
ことなく、小孔側にエッチング防止層を塗布形成する方
法もある。Next, the small-hole resist film 2a on the small-hole side is peeled off. When the small-hole resist film 2a is stripped, a protective film is attached to the large-hole resist film 2b to prevent unnecessary peeling from being performed on the large-hole resist film 2b side. It is common to strip the resist film 2a. Next, as shown in FIG. 3 (c), a photo-curable resin or a thermosetting resin is used as a coating liquid, and coating is performed on the small hole side, and the small hole-side recess formed by the preceding etching. 3a
Is completely formed. Here, in order to enhance the filling property of the coating liquid into the small-hole side concave portion 3a,
After the small-hole resist film 2a is stripped, an etching prevention layer is applied and formed, but there is also a method of applying and forming an etching prevention layer on the small hole side without stripping the small-hole resist film 2a. .
【0005】続いて、図3(d)に示すように、大孔側
からのみシャドウマスク材1をエッチングする第二エッ
チング工程を行ない、大孔側から小孔に貫通する開孔5
を形成する。最後に、エッチング防止層4およびレジス
ト膜2を剥がし、水洗乾燥して図3(e)に示すフラッ
ト型のシャドウマスク6を得る。Subsequently, as shown in FIG. 3D, a second etching step of etching the shadow mask material 1 only from the large hole side is performed, and an opening 5 penetrating from the large hole side to the small hole is formed.
To form Finally, the etching prevention layer 4 and the resist film 2 are peeled off, washed with water and dried to obtain a flat type shadow mask 6 shown in FIG.
【0006】この従来法では、フォトエッチング法では
避けることのできないサイドエッチング現象を小孔側で
抑えている、ということができる。すなわち、小孔側の
凹部にエッチング防止層を充填し、第二エッチング工程
では小孔はサイドエッチングされないことにより、第一
エッチング工程における精確な小孔パターンを維持でき
る。したがって、例えば材料金属板の厚さより小さい孔
径の開孔も可能としていた。In this conventional method, it can be said that the side etching phenomenon which cannot be avoided by the photo etching method is suppressed on the small hole side. That is, the concave portion on the small hole side is filled with the etching prevention layer, and the small hole is not side-etched in the second etching step, so that a precise small hole pattern in the first etching step can be maintained. Therefore, for example, it is possible to form a hole having a hole diameter smaller than the thickness of the material metal plate.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来法にも問題がないわけではない。従来法によれ
ば、エッチング防止層の形成は、スプレーコート法また
はロールコーター法等で行なわれているが、この方法で
は以下のような欠点があげられる。すなわち、スプレー
コート法またはロールコーター法では、凹部への塗布液
の充填性に難があり、凹部に気泡が取り込まれ残留しや
すいという欠点である。また、スプレーコート法または
ロールコーター法では所望する均一の膜厚にてエッチン
グ防止層を形成する能力が不足しているものである。However, the conventional method described above is not without its problems. According to the conventional method, the formation of the etching prevention layer is performed by a spray coat method, a roll coater method, or the like, but this method has the following disadvantages. That is, in the spray coating method or the roll coater method, there is a difficulty in filling the concave portion with the application liquid, and there is a disadvantage that air bubbles are easily taken in and remain in the concave portion. Further, the spray coating method or the roll coater method lacks the ability to form an etching prevention layer with a desired uniform film thickness.
【0008】このエッチング防止層内、特に凹部に気泡
が取り込まれて残存しやすいという欠点は、シャドウマ
スクの孔形不良の原因となる重大な欠点といえる。ま
た、エッチング防止層の膜厚が所望される膜厚となって
いない場合、エッチング防止層の耐エッチング性が不足
し、エッチングの際、シャドウマスク材1が不要なエッ
チングを受け、シャドウマスクの孔形不良等の原因とな
る場合もあった。The disadvantage that air bubbles tend to be trapped and remain in the etching prevention layer, especially in the concave portions, is a serious defect that causes a defect in the hole shape of the shadow mask. If the film thickness of the etching prevention layer is not the desired film thickness, the etching resistance of the etching prevention layer is insufficient, so that the shadow mask material 1 is subjected to unnecessary etching during etching, and the holes of the shadow mask are removed. In some cases, this may cause shape defects.
【0009】このため、エッチング防止層の形成に、高
速回転するグラビアロールを有するグラビアコーターを
用いる方法が提案されている。この、高速回転するグラ
ビアロールを用いる方法は凹部への塗布液の充填性に優
れ、かつ、均一な膜厚にて塗布液を塗布する能力に優れ
ているといえる。しかし、この方法においても、以下の
問題が発生するものである。すなわち、高速回転するグ
ラビアロールと、シャドウマスク材1が接触し、シャド
ウマスク材1に傷が付くという問題である。特に前述し
た、レジスト膜を剥膜後、エッチング防止層を塗布形成
するシャドウマスクの製造方法においては、レジスト膜
が剥膜され露出したシャドウマスク材表面と高速回転す
るグラビアロールとが接触し、シャドウマスク材表面
に、例えばスジ状の傷が入るといえる。シャドウマスク
材1の傷が生じた部位では、開孔5が形状不良となりや
すいものである。For this reason, a method has been proposed in which a gravure coater having a gravure roll rotating at a high speed is used for forming the etching prevention layer. This method using a gravure roll that rotates at a high speed can be said to be excellent in the filling property of the coating liquid into the concave portions and excellent in the ability to apply the coating liquid with a uniform film thickness. However, this method also has the following problems. That is, there is a problem that the gravure roll rotating at a high speed comes into contact with the shadow mask material 1 and the shadow mask material 1 is damaged. In particular, in the above-described method of manufacturing a shadow mask in which the resist film is stripped and then an etching prevention layer is applied and formed, the resist film is stripped and the exposed shadow mask material surface comes into contact with the high-speed rotating gravure roll, and the shadow is removed. It can be said that, for example, streak-like scratches are made on the surface of the mask material. At the site where the shadow mask material 1 is damaged, the opening 5 is likely to have a defective shape.
【0010】本発明は、以上のような事情に鑑み、シャ
ドウマスクの製造方法において、気泡が取り込まれて残
存することがなく、かつ、シャドウマスク材表面に傷を
付けることなく、所望する均一の膜厚を有するエッチン
グ防止層の形成を行う方法を立案して、本発明に至った
ものであり、得られるシャドウマスクに形状不良の開孔
が生じないシャドウマスクの製造方法を提供しようとす
るものである。In view of the circumstances described above, the present invention provides a method of manufacturing a shadow mask in which air bubbles are not trapped and remain and the desired uniformity is obtained without damaging the shadow mask material surface. The present invention has been made by devising a method for forming an etching prevention layer having a film thickness, and an object of the present invention is to provide a method of manufacturing a shadow mask in which an opening of a defective shape does not occur in the obtained shadow mask. It is.
【0011】[0011]
【課題を解決するための手段】本発明に於いて上記課題
を達成するために、まず請求項1においては、両面に所
定パターンに従って一部金属面を露出させているレジス
ト膜が形成されている板状のシャドウマスク金属素材の
少なくとも一方の面をエッチングして、少なくともこの
一方の面の金属露出部分に凹部を形成する第一エッチン
グ工程と、この一方の面にエッチング防止層を塗布し
て、この凹部内部にエッチング防止層を充填する工程
と、前記エッチング防止層の設けられた面とは反対の面
をエッチングして、この反対の面から前記一方の面に形
成された凹部に通じる凹孔を形成する第二エッチング工
程と、前記エッチング防止層とレジスト膜を除去する剥
膜工程とを少なくとも有するシャドウマスクの製造方法
において、前記エッチング防止層の塗布手段として、ダ
イコーターもしくは低速回転の塗布ロールを用いる前段
コートと、高速回転のグラビアコーターを用いる中段コ
ートと、ダイコーターもしくは低速回転の塗布ロールを
用いる後段コートとの三段階塗布法を用いることを特徴
とするシャドウマスクの製造方法としたものである。According to the present invention, in order to attain the above object, according to the first aspect, a resist film is formed on both surfaces of the resist film, the metal film being partially exposed according to a predetermined pattern. Etching at least one surface of the plate-shaped shadow mask metal material, a first etching step of forming a concave portion in at least one of the metal exposed portions of the surface, and applying an etching prevention layer to this one surface, A step of filling the inside of the recess with an etching prevention layer, and a recess formed by etching a surface opposite to the surface provided with the etching prevention layer and leading from the opposite surface to the recess formed in the one surface. A method of manufacturing a shadow mask, the method comprising: at least a second etching step of forming a mask; and a stripping step of removing the etching prevention layer and the resist film. Three-stage coating of a first-stage coat using a die coater or a low-speed rotation roll, a middle-stage coat using a high-speed rotation gravure coater, and a second-stage coat using a high-speed rotation gravure coater as a coating means of the anti-agging layer. This is a method for manufacturing a shadow mask, characterized by using a method.
【0012】また、請求項2においては、前記第一エッ
チング工程にて形成された凹部を有する一方の面のレジ
スト膜を剥膜後、この一方の面に前記三段階塗布法を用
いエッチング防止層を塗布形成し、しかる後、第二エッ
チングを行うことを特徴とする請求項1に記載のシャド
ウマスクの製造方法としたものである。さらに、請求項
3においては、前段コートが、低速回転のグラビアロー
ルを用いるグラビアコーターである請求項1または2記
載のシャドウマスクの製造方法としたものであり、請求
項4においては、後段コートが、低速回転のグラビアロ
ールを用いるグラビアコーターである請求項1、2また
は3記載のシャドウマスクの製造方法としたものであ
る。According to a second aspect of the present invention, after the resist film on one surface having the concave portion formed in the first etching step is removed, the etching prevention layer is formed on the one surface by using the three-step coating method. The method according to claim 1, wherein a second etching is performed after the application. Further, in claim 3, the first coat is a method of manufacturing a shadow mask according to claim 1 or 2, wherein the first coat is a gravure coater using a gravure roll rotating at a low speed. 4. A method of manufacturing a shadow mask according to claim 1, wherein the gravure coater uses a gravure roll rotating at a low speed.
【0013】さらにまた、請求項5においては、塗布ロ
ールおよびグラビアロールの回転方向が金属素材の進行
方向と逆回転である請求項1、2、3または4記載のシ
ャドウマスクの製造方法としたものである。Further, in the fifth aspect, the method of manufacturing a shadow mask according to the first, second, third or fourth aspect is such that the rotation direction of the coating roll and the gravure roll is reverse rotation to the traveling direction of the metal material. It is.
【0014】[0014]
【発明の実施の形態】以下に、図面に基づいて、本発明
の実施の形態の一例を詳述する。図2において、シャド
ウマスク材1は、巻取りロールから供給された長尺帯状
の金属板であって、例えば、板厚0.13mmの低炭素鋼や低
膨張性のアンバー材を用いる。また、シャドウマスク材
1は、すでに(従来の技術)の項で説明したような工程
を行い、図3(a)に示すような、小孔レジスト膜2aと
大孔レジスト膜2bを表裏に有しているものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. In FIG. 2, a shadow mask material 1 is a long strip-shaped metal plate supplied from a winding roll, and for example, low-carbon steel or a low-expansion invar material having a plate thickness of 0.13 mm is used. Further, the shadow mask material 1 has been subjected to the steps described in the section (Prior Art), and has a small-hole resist film 2a and a large-hole resist film 2b as shown in FIG. Is what you are doing.
【0015】次いで、図2の第一エッチングチャンバー
7に、小孔側を上面にして図中左から右に搬送されるシ
ャドウマスク材1を通せば、上下に設置されたスプレー
ノズル8から吹き出すエッチング液により、シャドウマ
スク材1の表裏が途中までエッチングされ、図3(b)
に示すような凹部3a、3bが形成される。Next, by passing the shadow mask material 1 conveyed from left to right in the figure with the small hole side facing upward into the first etching chamber 7 in FIG. 2, etching blown out from the spray nozzles 8 installed vertically. With the liquid, the front and back of the shadow mask material 1 are partially etched, and FIG.
The recesses 3a and 3b shown in FIG.
【0016】次いで、第一エッチングチャンバー7を通
過したシャドウマスク材1は、第一剥膜チャンバー12に
て小孔側レジスト膜2aの剥膜が行われる。なお、本実施
例では、小孔側レジスト膜2aの剥膜に先立ち、大孔側に
長尺帯状の保護フィルムを貼りつけ、第二エッチングの
前にこの保護フィルムを剥離するするものであるが、図
においては図示を省略している。Then, the shadow mask material 1 having passed through the first etching chamber 7 is stripped of the small-hole side resist film 2 a in the first stripping chamber 12. Note that, in the present embodiment, prior to the peeling of the small-hole-side resist film 2a, a long strip-shaped protective film is attached to the large-hole side, and the protective film is peeled off before the second etching. In the drawings, illustration is omitted.
【0017】次いで、シャドウマスク材1は、上方へ搬
送され、エッチング防止層4が塗布形成される小孔側を
下面となるよう反転される。後述するシリンダーロール
による塗布では、塗布面を下側とするのが適しているか
らである。反転して小孔面を下側としたシャドウマスク
材1に対して、ダイコーターもしくは低速回転の塗布ロ
ールを用いる前段コートと、高速回転のグラビアコータ
ーを用いる中段コートと、ダイコーターもしくは低速回
転の塗布ロールを用いる後段コートとの三段階塗布法に
て塗布を行う。これが、本発明の特徴のひとつである。Next, the shadow mask material 1 is conveyed upward, and is turned over such that the small hole side on which the etching prevention layer 4 is applied and formed faces downward. This is because, in the application by a cylinder roll described later, it is suitable that the application surface is on the lower side. For the shadow mask material 1 with the small hole surface on the lower side, a former coat using a die coater or a low-speed rotating coating roll, a middle coat using a high-speed rotating gravure coater, and a die coater or a low-speed rotating Coating is performed by a three-stage coating method with a subsequent coating using a coating roll. This is one of the features of the present invention.
【0018】この点を、以下に図1に基づいて説明す
る。小孔面を下側として右方から搬送されてくるシャド
ウマスク材1に対して、例えば、毎分50回転程度の低速
回転とした塗布ロールを用いるロールコーター、または
ダイコーターにて前段の塗布液の塗布を行う。なお、図
1に示す例においては前段の塗布にロールコーター9を
用いているものである。すなわち、シャドウマスク材1
を、塗布ロール13と圧ロール16で挟み、塗布ロール13の
表面に供給ロール14によって塗布液19が供給されること
により、シャドウマスク材1の下面小孔側に塗布液19が
展開される。This will be described below with reference to FIG. With respect to the shadow mask material 1 conveyed from the right side with the small hole surface as the lower side, for example, a coating solution of a preceding stage is applied by a roll coater using a coating roll rotated at a low speed of about 50 rotations per minute or a die coater. Is applied. In the example shown in FIG. 1, the roll coater 9 is used for the application in the former stage. That is, the shadow mask material 1
Is sandwiched between the coating roll 13 and the pressure roll 16, and the coating liquid 19 is supplied to the surface of the coating roll 13 by the supply roll 14, so that the coating liquid 19 is developed on the lower hole side of the shadow mask material 1.
【0019】この前段の塗布においては、後述するよう
に、シャドウマスク材1の小孔面側にクッションの役目
をする塗布液の層を形成することが目的であり、凹部へ
の塗布液の充填性はそれほど問わない。このため、シャ
ドウマスク材1表面と接触しても、シャドウマスク材1
に傷を付けることなく塗布液を塗布するため、ロールコ
ーターを用いる場合、塗布ロールを低速回転とするもの
である。また、前段の塗布においては、最終的に所望さ
れるエッチング防止層の塗布膜厚の例えば1/3程度の
厚さに塗布液19を塗布するものである。The purpose of this pre-coating is to form a coating liquid layer serving as a cushion on the side of the small hole of the shadow mask material 1 as will be described later. Sex does not matter so much. For this reason, even if the shadow mask material 1 comes into contact with the surface,
When a roll coater is used to apply the coating liquid without damaging the coating, the coating roll is rotated at a low speed. In the former application, the application liquid 19 is applied to a thickness of, for example, about の of the finally desired thickness of the etching prevention layer.
【0020】なお、図1の実施例においては、前段の塗
布に、ロールコーター9を用いているが、これに代えて
ダイコーターまたはグラビアコーターとしても構わな
い。しかし、前段の塗布に、ロールコーターまたはダイ
コーターに代えて、凹部への塗布液の充填性に優れるグ
ラビアコーターを用いれば、後述する塗布と合わせて、
凹部への塗布液の充填が確実になるといえ、上述した課
題の解決手段として適しているといえる。この場合も、
グラビアロールの回転数は、シャドウマスク材1に傷が
付かぬよう低速回転とするものである。In the embodiment shown in FIG. 1, a roll coater 9 is used for the preceding coating, but a die coater or a gravure coater may be used instead. However, in the former application, if a gravure coater having excellent filling properties of the application liquid in the concave portions is used instead of the roll coater or the die coater,
It can be said that filling of the concave portion with the application liquid is reliable, and it can be said that this is suitable as a means for solving the above-mentioned problem. Again,
The rotation speed of the gravure roll is set at a low speed so that the shadow mask material 1 is not damaged.
【0021】次いで、前段の塗布の後、シャドウマスク
材1に中段の塗布を行う。中段の塗布においては、イン
キセルを有し、例えば毎分 200回転程度の高速回転する
グラビアロール17によるグラビアコーター10でグラビア
コートを行なうものである。Next, after the former application, the middle application is performed on the shadow mask material 1. In the middle-stage coating, a gravure coater 10 having an ink cell and performing a gravure coater 10 using a gravure roll 17 rotating at a high speed of, for example, about 200 rotations per minute is used.
【0022】すなわち、塗布液供給装置18より塗布液19
が供給される、インキセルを有するグラビアロール17と
圧胴20の間にシャドウマスク材1を通すのであるが、図
1の実施例ではグラビアロール17の回転方向は、シャド
ウマスク材1の搬送方向と逆向きとしている。That is, the application liquid 19 is supplied from the application liquid supply device 18.
Is supplied, the shadow mask material 1 is passed between the gravure roll 17 having ink cells and the impression cylinder 20. In the embodiment of FIG. 1, the rotation direction of the gravure roll 17 is the same as the transport direction of the shadow mask material 1. The direction is reversed.
【0023】シャドウマスク材1の搬送方向と逆回転、
かつ、高速回転としたグラビアロール17の場合、シャド
ウマスク材1との相対速度が大で、しかも逆方向での接
触であるから、接触面で塗布液を凹部へ押し込む働きが
強く、そのうえ、グラビアコーター10の性質として、塗
布液を均一に展開するのに適しているから、ピンホール
等の塗布欠陥を生じることがない。Rotation of the shadow mask material 1 in a direction opposite to the conveying direction,
In the case of the gravure roll 17 rotated at a high speed, the relative speed with the shadow mask material 1 is high and the contact is made in the opposite direction. As a property of the coater 10, it is suitable for uniformly spreading the coating liquid, so that coating defects such as pinholes do not occur.
【0024】なお、圧胴20は、シャドウマスク材1のた
るみを防止するとともに、シャドウマスク材1をグラビ
アロール17に押しつける役目をはたしている。これによ
り、シャドウマスク材1とグラビアロール17の密着性が
高まり、より効率よく塗布液を均一にシャドウマスク材
1の凹部内部に充填することが可能となる。The impression cylinder 20 functions to prevent the shadow mask material 1 from sagging and to press the shadow mask material 1 against the gravure roll 17. As a result, the adhesiveness between the shadow mask material 1 and the gravure roll 17 is increased, and the coating liquid can be more efficiently and uniformly filled into the concave portions of the shadow mask material 1.
【0025】中段の塗布において、高速回転するグラビ
アロール17がシャドウマスク材1表面と接触する際、前
段でシャドウマスク材1の小孔面側に予め塗布液が塗布
されているため、この塗布液がクッションの役目をする
ものである。また、前段の塗布でシャドウマスク材1表
面が湿っているため、グラビアロール17とシャドウマス
ク材1表面との摩擦が減少するといえる。これにより、
高速回転するグラビアロール17がシャドウマスク材1と
接触してもシャドウマスク材1表面に傷が付くことを防
止できるものである。In the middle stage coating, when the gravure roll 17 rotating at high speed comes into contact with the surface of the shadow mask material 1, the coating solution is previously applied to the small hole surface side of the shadow mask material 1 in the preceding stage. Serves as a cushion. In addition, since the surface of the shadow mask material 1 is wet by the application in the previous stage, it can be said that the friction between the gravure roll 17 and the surface of the shadow mask material 1 is reduced. This allows
Even if the gravure roll 17 rotating at a high speed contacts the shadow mask material 1, the surface of the shadow mask material 1 can be prevented from being damaged.
【0026】なお、中段で塗布する塗布液の膜厚は、最
終的に所望されるエッチング防止層の塗布膜厚の例えば
1/3〜1/2程度の厚さとするものである。The thickness of the coating liquid applied in the middle stage is, for example, about 1/3 to 1/2 of the finally desired coating thickness of the etching prevention layer.
【0027】次いで、前述したように、本発明の特徴と
して中段の塗布の後、後段の塗布を行う三段階塗布とし
ているものである。すなわち、図1の例に示すように、
中段の塗布の終了したシャドウマスク材1に対し、後段
では、例えば毎分50回転程度の低速回転とした塗布ロー
ル13にて最終の塗布を行うものである。この後段の塗布
において、エッチング防止層を均一の膜厚にする成膜を
行うとともに、最終的に所望される塗布膜厚とするもの
である。このため、塗布ロールの回転数は低速とするこ
とが望ましいといえる。Next, as described above, a feature of the present invention is a three-stage coating in which a middle-stage coating is performed and then a second-stage coating is performed. That is, as shown in the example of FIG.
In the latter stage, the final application is performed on the shadow mask material 1 on which the application in the middle stage has been completed, by the application roll 13 which is rotated at a low speed of, for example, about 50 rotations per minute. In the latter application, a film is formed to have a uniform thickness of the etching prevention layer, and a finally desired application film thickness is obtained. For this reason, it can be said that it is desirable that the rotation speed of the application roll be low.
【0028】なお、後段の塗布手段は、前段の塗布と同
様にロールコータ9に代えて、ダイコーターまたはグラ
ビアコーターを用いても構わない。しかし、後段の塗布
に、ロールコータまたはダイコーターに代えて、グラビ
アコーターを用いれば、凹部への塗布液の充填、成膜お
よび、所望される塗布膜厚とすることをより確実に行う
ことが可能となり、上述した課題の解決手段として適し
ているといえる。この場合も、グラビアロールの回転数
は、低速回転とするものである。As the application means in the latter stage, a die coater or a gravure coater may be used instead of the roll coater 9 as in the former application. However, if a gravure coater is used instead of a roll coater or a die coater for the subsequent coating, filling of the concave portion with the coating liquid, film formation, and the desired coating film thickness can be performed more reliably. It can be said that it is suitable as a means for solving the above-mentioned problem. Also in this case, the rotation speed of the gravure roll is set to low speed rotation.
【0029】なお、上述した、塗布に用いる塗布ロール
13またはグラビアロール17の回転方向は、シャドウマス
ク材1の搬送方向と逆回転とすることが望ましいといえ
る。何故かならば、逆回転とすることにより、凹部への
塗布液の充填性が向上するとともに、シャドウマスク材
1に塗布液を塗布した際に、スジ状に塗布膜厚が異なる
部位が生じるスジムラの発生を防止できるからである。The coating roll used for coating as described above
It can be said that it is preferable that the rotation direction of the gravure roll 13 or the gravure roll 17 is reverse to the conveyance direction of the shadow mask material 1. The reason is that the reverse rotation improves the filling property of the coating liquid into the concave portion, and when the coating liquid is applied to the shadow mask material 1, a portion of the stripes having a different coating film thickness in the form of a stripe is generated. This is because occurrence can be prevented.
【0030】すなわち、塗布ロール13またはグラビアロ
ール17の回転方向とシャドウマスク材1の搬送方向が同
じであった場合、設定したロールの回転速度とシャドウ
マスク材1の搬送速度との微妙な差等により、スジムラ
が発生し易いものである。しかし、ロールの回転方向
を、シャドウマスク材1の搬送方向と逆方向とした場
合、ロール表面の塗布液が、ロールとシャドウマスク材
1とが接する部位で一時的に溜まるため、スジムラの発
生が防止できるものである。That is, when the rotation direction of the coating roll 13 or the gravure roll 17 is the same as the conveyance direction of the shadow mask material 1, a slight difference between the set rotation speed of the roll and the conveyance speed of the shadow mask material 1 is obtained. Thus, uneven streaks easily occur. However, when the rotation direction of the roll is opposite to the transport direction of the shadow mask material 1, the coating liquid on the roll surface temporarily accumulates at a portion where the roll and the shadow mask material 1 are in contact with each other. It can be prevented.
【0031】次いで、前述したごとく塗布が終了したシ
ャドウマスク材1は、図2に示すようにさらに上の乾燥
・硬化のエリア15を経て塗布液の硬化が行われる。な
お、塗布液が光硬化型の樹脂であった場合、硬化は紫外
線等の光照射手段にて、また、塗布液が熱硬化型の樹脂
であった場合、硬化は赤外線ヒーター等の加熱手段にて
行うものである。Next, as described above, the application of the shadow mask material 1 is completed, and the coating liquid is cured through a further drying / curing area 15 as shown in FIG. When the coating liquid is a photo-curable resin, the curing is performed by light irradiation means such as ultraviolet rays, and when the coating liquid is a thermosetting resin, the curing is performed by heating means such as an infrared heater. It is what you do.
【0032】次いで、前述した大孔側に貼り付けた保護
フィルムを剥離した後、第二エッチングチャンバー11に
通す。スプレーノズルは大孔側すなわち下方からエッチ
ング液を噴き付ける。こうして大孔側から小孔に通じる
貫通孔を開け、図3(d)に示す状態とし、最後に剥膜
チャンバー12にてエッチング防止層4および大孔側のレ
ジスト膜2bを除去して、図3(e)に示すフラット型の
シャドウマスクを得るものである。Next, after the above-mentioned protective film adhered to the large hole side is peeled off, the protective film is passed through the second etching chamber 11. The spray nozzle sprays the etching liquid from the large hole side, that is, from below. In this way, a through-hole is opened from the large hole side to the small hole, and the state shown in FIG. 3D is obtained. Finally, in the stripping chamber 12, the etching prevention layer 4 and the resist film 2b on the large hole side are removed. This is to obtain a flat type shadow mask shown in FIG.
【0033】なお、本発明の実施の形態は、上述した図
および記述に限定されるものではなく、本発明の趣旨に
基づき種々の変形が可能なことはいうまでもない。The embodiment of the present invention is not limited to the above-described drawings and description, and it goes without saying that various modifications can be made based on the spirit of the present invention.
【0034】例えば、上述した図および記述において
は、小孔レジスト膜2aを剥膜後に、エッチング防止層を
形成しているが、小孔レジスト膜2aを剥膜することなく
エッチング防止層を形成するシャドウマスクの製造方法
であっても、本発明に用いる三段階塗布法が適用できる
ことはいうまでもない。For example, in the above-described drawings and descriptions, the etching prevention layer is formed after the small-hole resist film 2a is stripped, but the etching prevention layer is formed without stripping the small-hole resist film 2a. It goes without saying that the three-step coating method used in the present invention can be applied to a method for manufacturing a shadow mask.
【0035】[0035]
【発明の効果】以上のように、本発明のシャドウマスク
の製造方法によれば、エッチング防止層の塗布手段とし
て、ダイコーターもしくは、塗布ロールを低速回転とし
た、ロールコーターまたはグラビアコーターを用いる前
段コートと、高速回転のグラビアコーターを用いる中段
コートと、ダイコーターもしくは、塗布ロールを低速回
転とした、ロールコーターまたはグラビアコーターを用
いる後段コートとの三段階塗布法を用いている。As described above, according to the shadow mask manufacturing method of the present invention, as the means for applying the etching preventing layer, the former stage using a roll coater or a gravure coater in which a die coater or an application roll is rotated at a low speed. A three-step coating method is used, in which a coat, a middle coat using a high-speed gravure coater, and a second coat using a roll coater or a gravure coater in which a die coater or an application roll is rotated at a low speed.
【0036】すなわち、前段コートにて、ダイコーター
もしくは、塗布ロールを低速回転とした、ロールコータ
ーまたはグラビアコーターを用いシャドウマスク材1に
傷を付けることなく、シャドウマスク材1の小孔側面に
クッションの役目をする塗布液の層を形成する。次い
で、高速回転のグラビアコーターを用いる中段コートに
て、凹部内に塗布液を充填するが、高速回転するグラビ
アロールがシャドウマスク材1と接触する際、前段の塗
布で形成した塗布液の層がクッションの役目をし、か
つ、前段の塗布でシャドウマスク材1表面が湿っている
ため、高速回転するグラビアロール17とシャドウマスク
材1表面との摩擦が減少するといえる。これにより、高
速回転するグラビアロールがシャドウマスク材1と接触
してもシャドウマスク材1表面に傷が付くことを防止で
き、かつ、凹部内に塗布液を確実に充填出来るものであ
る。また、ダイコーターもしくは、塗布ロールを低速回
転とした、ロールコーターまたはグラビアコーターを用
いる後段コートにて、エッチング防止層を均一の膜厚に
する成膜を行うとともに、最終的に所望される塗布膜厚
とするものである。That is, in the former coat, a roll coater or a gravure coater in which the die coater or the application roll is rotated at a low speed is used to cushion the shadow mask material 1 without damaging the shadow mask material 1. To form a layer of a coating liquid that serves as a coating liquid. Next, in the middle coat using a high-speed gravure coater, the coating liquid is filled in the recesses. When the high-speed gravure roll comes into contact with the shadow mask material 1, the coating liquid layer formed in the previous coating is removed. It can be said that the friction between the gravure roll 17 rotating at a high speed and the surface of the shadow mask material 1 is reduced because it serves as a cushion and the surface of the shadow mask material 1 is moistened by the previous application. Thereby, even if the gravure roll rotating at high speed contacts the shadow mask material 1, it is possible to prevent the surface of the shadow mask material 1 from being damaged, and to reliably fill the concave portion with the coating liquid. A die coater or a subsequent coater using a roll coater or a gravure coater in which the coating roll is rotated at a low speed is used to form a film having a uniform thickness of the etching prevention layer, and finally a coating film which is desired. Thickness.
【0037】これにより、凹部に気泡が取り込まれて残
存することがなく、かつ、シャドウマスク材1表面に傷
を付けることなく、均一で所望される膜厚を有するエッ
チング防止層の形成を行うことが可能となる。Thus, an etching prevention layer having a uniform and desired film thickness can be formed without causing bubbles to be trapped and remaining in the concave portions and without damaging the surface of the shadow mask material 1. Becomes possible.
【0038】したがって、本発明は、従来のシャドウマ
スクの製造方法で生じていた問題、すなわち、凹部に気
泡が残存する、エッチング防止層形成の際にシャドウマ
スク材1に傷が付く、および、エッチング防止層の膜厚
が不均一になること等を原因とし、開孔の形状が拡大し
たり、所定の円形にならないなどの孔形不良が発生する
問題を解決しており、高品質のシャドウマスクを得る上
で、実用上すぐれた効果がある。Therefore, the present invention has the following problems which have occurred in the conventional method of manufacturing a shadow mask, that is, bubbles remain in the concave portions, the shadow mask material 1 is damaged when the etching preventing layer is formed, and the problem of etching occurs. High-quality shadow masks that solve the problem of poor hole shape such as the shape of the opening being enlarged or not being a predetermined circular shape due to the uneven thickness of the prevention layer, etc. Has an excellent practical effect.
【0039】[0039]
【図1】本発明のシャドウマスクの製造方法の一実施例
の要部を示す説明図。FIG. 1 is an explanatory view showing a main part of one embodiment of a method of manufacturing a shadow mask of the present invention.
【図2】本発明のシャドウマスクの製造方法の一実施例
を示す説明図。FIG. 2 is an explanatory view showing one embodiment of a method of manufacturing a shadow mask according to the present invention.
【図3】(a)〜(e)はシャドウマスクの製造方法の
一例を工程順に示す説明図。FIGS. 3A to 3E are explanatory views showing an example of a method of manufacturing a shadow mask in the order of steps.
1 シャドウマスク材 2 レジスト膜 3 凹部 4 エッチング防止層 5 開孔 6 シャドウマスク 7 第一エッチングチャンバー 8 ノズル 9 ロールコーター 10 グラビアコーター 11 第二エッチングチャンバー 12 剥膜チャンバー 13 塗布ロール 14 供給ロール 15 乾燥・硬化のエリア 16 圧ロール 17 グラビアロール 18 塗布液供給装置 19 塗布液 20 圧胴 REFERENCE SIGNS LIST 1 shadow mask material 2 resist film 3 recess 4 etching prevention layer 5 opening 6 shadow mask 7 first etching chamber 8 nozzle 9 roll coater 10 gravure coater 11 second etching chamber 12 stripping chamber 13 coating roll 14 supply roll 15 drying / drying Curing area 16 Pressure roll 17 Gravure roll 18 Coating liquid supply device 19 Coating liquid 20 Impression cylinder
Claims (5)
露出させているレジスト膜が形成されている板状のシャ
ドウマスク金属素材の少なくとも一方の面をエッチング
して、少なくともこの一方の面の金属露出部分に凹部を
形成する第一エッチング工程と、この一方の面にエッチ
ング防止層を塗布して、この凹部内部にエッチング防止
層を充填する工程と、前記エッチング防止層の設けられ
た面とは反対の面をエッチングして、この反対の面から
前記一方の面に形成された凹部に通じる凹孔を形成する
第二エッチング工程と、前記エッチング防止層とレジス
ト膜を除去する剥膜工程とを少なくとも有するシャドウ
マスクの製造方法において、前記エッチング防止層の塗
布手段として、ダイコーターもしくは低速回転の塗布ロ
ールを用いる前段コートと、高速回転のグラビアコータ
ーを用いる中段コートと、ダイコーターもしくは低速回
転の塗布ロールを用いる後段コートとの三段階塗布法を
用いることを特徴とするシャドウマスクの製造方法。At least one surface of a plate-shaped shadow mask metal material on which a resist film partially exposing a metal surface is formed in accordance with a predetermined pattern on both surfaces is etched, and at least one surface of the metal is removed. A first etching step of forming a concave portion in an exposed portion, a step of applying an etching preventing layer to one surface thereof and filling the inside of the concave portion with an etching preventing layer, and a surface provided with the etching preventing layer. A second etching step of etching the opposite surface to form a recess from the opposite surface to the recess formed in the one surface, and a film removing step of removing the etching prevention layer and the resist film. In a method for manufacturing a shadow mask having at least a pre-stage using a die coater or a low-speed rotation coating roll as a coating means for the etching prevention layer. Over preparative and high-speed rotation and the middle coat using a gravure coater method of the shadow mask, which comprises using a three-step coating process with subsequent coating using a coating roll of a die coater or a low speed rotation.
部を有する一方の面のレジスト膜を剥膜後、この一方の
面に前記三段階塗布法を用いエッチング防止層を塗布形
成し、しかる後、第二エッチングを行うことを特徴とす
る請求項1に記載のシャドウマスクの製造方法。2. After removing the resist film on one surface having the concave portion formed in the first etching step, an etching prevention layer is applied and formed on the one surface using the three-stage coating method. 2. The method according to claim 1, wherein a second etching is performed thereafter.
を用いるグラビアコーターである請求項1または2記載
のシャドウマスクの製造方法。3. The method according to claim 1, wherein the first coat is a gravure coater using a gravure roll rotating at a low speed.
を用いるグラビアコーターである請求項1、2または3
記載のシャドウマスクの製造方法。4. The gravure coater using a gravure roll rotating at a low speed as the second coat.
The manufacturing method of the shadow mask of the description.
向が、金属素材の進行方向と逆回転である請求項1、
2、3または4記載のシャドウマスクの製造方法。5. The method according to claim 1, wherein the rotation direction of the coating roll and the gravure roll is opposite to the traveling direction of the metal material.
5. The method for producing a shadow mask according to 2, 3, or 4.
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