JPH0838807A - 廃液処理装置 - Google Patents
廃液処理装置Info
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- JPH0838807A JPH0838807A JP19762294A JP19762294A JPH0838807A JP H0838807 A JPH0838807 A JP H0838807A JP 19762294 A JP19762294 A JP 19762294A JP 19762294 A JP19762294 A JP 19762294A JP H0838807 A JPH0838807 A JP H0838807A
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- liquid
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 廃液処理装置において、水中油型エマルショ
ン溶液の油分を効率的に分離する。 【構成】 分離槽２に紫外線ランプ３および気泡発生フ
ィルタ４を設ける。取入口５から取り入れた処理廃液を
分離槽２内に一旦貯留する。分離槽２内では、気泡発生
フィルタ４により微細泡沫を発生させ、紫外線ランプ３
により処理廃液に紫外線を照射する。紫外線照射によ
り、処理廃液中に分散する油敵を覆う界面活性剤が分解
され、油敵が不安定となって泡沫に付着して浮上する。
これにより、分離槽２の上部の濃縮処理液取出口６か
ら、油分を多く含む濃縮処理液を取り出すことができ、
分離槽２の底部の浄化処理液取出口７から油分の少ない
浄化処理液を取り出すことができる。
ン溶液の油分を効率的に分離する。 【構成】 分離槽２に紫外線ランプ３および気泡発生フ
ィルタ４を設ける。取入口５から取り入れた処理廃液を
分離槽２内に一旦貯留する。分離槽２内では、気泡発生
フィルタ４により微細泡沫を発生させ、紫外線ランプ３
により処理廃液に紫外線を照射する。紫外線照射によ
り、処理廃液中に分散する油敵を覆う界面活性剤が分解
され、油敵が不安定となって泡沫に付着して浮上する。
これにより、分離槽２の上部の濃縮処理液取出口６か
ら、油分を多く含む濃縮処理液を取り出すことができ、
分離槽２の底部の浄化処理液取出口７から油分の少ない
浄化処理液を取り出すことができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、洗浄廃液等の水中油型
エマルション溶液の廃液処理を行うための廃液処理装置
に関するものである。
エマルション溶液の廃液処理を行うための廃液処理装置
に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、洗浄廃液等の水中油型エマルショ
ン溶液の廃液処理としては、凝集剤添加により脱水ケー
キ化させる濃縮処理、フィルタによる濾過処理、活性炭
による吸着処理、あるいは、これらの組合せによって油
分を分離する処理方法が採られてた。
ン溶液の廃液処理としては、凝集剤添加により脱水ケー
キ化させる濃縮処理、フィルタによる濾過処理、活性炭
による吸着処理、あるいは、これらの組合せによって油
分を分離する処理方法が採られてた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の廃液処理では、次のような問題がある。すなわち、
凝集剤添加による濃縮処理は、処理装置が大きく、さら
に、ノニオン系（水系）洗浄剤の廃液処理には適用でき
ない。また、フィルタによる濾過処理および活性炭によ
る吸着処理は、定期的にフィルタおよび活性炭のメンテ
ナンス、交換が必要でありランニングコストが高い。
来の廃液処理では、次のような問題がある。すなわち、
凝集剤添加による濃縮処理は、処理装置が大きく、さら
に、ノニオン系（水系）洗浄剤の廃液処理には適用でき
ない。また、フィルタによる濾過処理および活性炭によ
る吸着処理は、定期的にフィルタおよび活性炭のメンテ
ナンス、交換が必要でありランニングコストが高い。
【０００４】本発明は、上記の点に鑑みてなされたもの
であり、界面活性剤の性質を利用して、水中油型エマル
ション廃液の油分を効率的に分離処理することができる
廃液処理装置を提供することを目的とする。
であり、界面活性剤の性質を利用して、水中油型エマル
ション廃液の油分を効率的に分離処理することができる
廃液処理装置を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、請求項１に係る廃液処理装置は、処理廃液を一旦
貯留する分離槽と、該分離槽内の処理廃液に泡沫を発生
させる泡沫発生手段と、前記分離槽内の処理廃液に紫外
線を照射する紫外線照射手段と、前記分離槽内の上部か
ら処理廃液を取り出す濃縮処理液取出口と、下部から処
理廃液を取り出す浄化処理液取出口とを備えてなること
を特徴とする。
めに、請求項１に係る廃液処理装置は、処理廃液を一旦
貯留する分離槽と、該分離槽内の処理廃液に泡沫を発生
させる泡沫発生手段と、前記分離槽内の処理廃液に紫外
線を照射する紫外線照射手段と、前記分離槽内の上部か
ら処理廃液を取り出す濃縮処理液取出口と、下部から処
理廃液を取り出す浄化処理液取出口とを備えてなること
を特徴とする。
【０００６】請求項２に係る廃液処理装置は、請求項１
の構成に加えて、複数の分離槽を直列に配置し、前段の
分離槽の濃縮処理液取出口から取り出した濃縮処理液
を、順次、次段の分離槽へ送って多段濃縮処理を行う濃
縮処理系統と、複数の分離槽を直列に配置し、前段の分
離槽の浄化処理液取出口から取り出した浄化処理液を、
順次、次段の分離槽へ送って多段浄化処理を行う浄化処
理系統とを構成したことを特徴とする。
の構成に加えて、複数の分離槽を直列に配置し、前段の
分離槽の濃縮処理液取出口から取り出した濃縮処理液
を、順次、次段の分離槽へ送って多段濃縮処理を行う濃
縮処理系統と、複数の分離槽を直列に配置し、前段の分
離槽の浄化処理液取出口から取り出した浄化処理液を、
順次、次段の分離槽へ送って多段浄化処理を行う浄化処
理系統とを構成したことを特徴とする。
【０００７】また、請求項３に係る廃液処理装置は、上
記に加えて、紫外線照射手段が照射する紫外線の波長を
270 〜 310nmとしたことを特徴とする。
記に加えて、紫外線照射手段が照射する紫外線の波長を
270 〜 310nmとしたことを特徴とする。
【０００８】
【作用】このように構成したことにより、請求項１に係
る廃液処理装置によれば、処理廃液中に分散された油敵
の周囲に付着した界面活性剤の親水基が紫外線によって
分解され、水相中の油敵が不安定になり、泡沫に付着し
て浮上する。
る廃液処理装置によれば、処理廃液中に分散された油敵
の周囲に付着した界面活性剤の親水基が紫外線によって
分解され、水相中の油敵が不安定になり、泡沫に付着し
て浮上する。
【０００９】請求項２に係る廃液処理装置によれば、濃
縮処理系統で濃縮処理液を多段濃縮処理することによ
り、高濃度の油分を分離することができ、また、浄化処
理系統で浄化処理液を多段浄化処理することにより、水
相中に残留する有機物を完全に分解することができる。
縮処理系統で濃縮処理液を多段濃縮処理することによ
り、高濃度の油分を分離することができ、また、浄化処
理系統で浄化処理液を多段浄化処理することにより、水
相中に残留する有機物を完全に分解することができる。
【００１０】請求項３に係る廃液処理装置によれば、界
面活性剤の親水基の分解反応が促進され廃液中の油分の
分離効率が向上する。
面活性剤の親水基の分解反応が促進され廃液中の油分の
分離効率が向上する。
【００１１】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図面に基づいて詳
細に説明する。
細に説明する。
【００１２】図１および図２に示すように、廃液処理装
置１は、廃液を一旦貯留する円筒状の分離槽２内の中央
部に、円筒状の紫外線ランプ３が設けられ、底部よりの
部位に気泡発生フィルタ４が設けられている。また、分
離槽２には、分離槽２内に廃液を取り入れるための取入
口５と、分離槽２内の上部から濃縮処理液を取り出すた
めの濃縮処理液取出口６と、底部から浄化処理液を取り
出すための浄化処理液取出口７とが設けられている。
置１は、廃液を一旦貯留する円筒状の分離槽２内の中央
部に、円筒状の紫外線ランプ３が設けられ、底部よりの
部位に気泡発生フィルタ４が設けられている。また、分
離槽２には、分離槽２内に廃液を取り入れるための取入
口５と、分離槽２内の上部から濃縮処理液を取り出すた
めの濃縮処理液取出口６と、底部から浄化処理液を取り
出すための浄化処理液取出口７とが設けられている。
【００１３】紫外線ランプ３は、分離槽２内の処理廃液
に紫外線を照射するための紫外線照射手段としての光源
である。紫外線ランプ３には、紫外線ランプコントロー
ラ８が接続されており、処理廃液に応じて照射紫外線の
波長および光量を調整できるようになっている。
に紫外線を照射するための紫外線照射手段としての光源
である。紫外線ランプ３には、紫外線ランプコントロー
ラ８が接続されており、処理廃液に応じて照射紫外線の
波長および光量を調整できるようになっている。
【００１４】気泡発生フィルタ４は、分離槽２内の処理
廃液中にエアを供給して微細気泡を発生させるための泡
沫発生手段であり、気泡発生フィルタ４には、エア源で
あるエアコンプレッサ９が接続されている。
廃液中にエアを供給して微細気泡を発生させるための泡
沫発生手段であり、気泡発生フィルタ４には、エア源で
あるエアコンプレッサ９が接続されている。
【００１５】取入口５には、酸化剤添加装置10が接続さ
れており、処理廃液に適宜酸化剤を添加できるようにな
っている。また、濃縮処理液取出口６は、破泡機11に接
続されている。
れており、処理廃液に適宜酸化剤を添加できるようにな
っている。また、濃縮処理液取出口６は、破泡機11に接
続されている。
【００１６】破泡機11は、図３に示すように、分離槽２
の濃縮処理液取出口６から取り出した泡沫を多く含む廃
液を破泡槽12に一旦貯留し、破泡槽内12を真空ポンプ13
によって減圧して低真空状態としてシャワリングするこ
とにより、泡消しを行い、液相に戻して取出口14から排
出するようになっている。
の濃縮処理液取出口６から取り出した泡沫を多く含む廃
液を破泡槽12に一旦貯留し、破泡槽内12を真空ポンプ13
によって減圧して低真空状態としてシャワリングするこ
とにより、泡消しを行い、液相に戻して取出口14から排
出するようになっている。
【００１７】図４に示すように、複数（各系統、２つの
み図示する）の廃液処理装置１が直列に２系統配置され
て濃縮処理系統Ａと浄化処理系統Ｂとが構成されてお
り、これらが廃液タンク15に接続されている。濃縮処理
系統Ａは、前段の廃液処理装置１の取出口14を次段の廃
液処理装置１の取入口５に順次接続し、さらに、各段廃
液処理装置１の浄化処理液取出口７を廃液タンク15に接
続することによって構成されている。また、浄化処理系
統Ｂは、前段の廃液処理装置１の浄化処理液取出口７を
次段の取入口５に順次接続し、各廃液処理装置１の取出
口14を廃液タンク15に接続することによって構成されて
いる。
み図示する）の廃液処理装置１が直列に２系統配置され
て濃縮処理系統Ａと浄化処理系統Ｂとが構成されてお
り、これらが廃液タンク15に接続されている。濃縮処理
系統Ａは、前段の廃液処理装置１の取出口14を次段の廃
液処理装置１の取入口５に順次接続し、さらに、各段廃
液処理装置１の浄化処理液取出口７を廃液タンク15に接
続することによって構成されている。また、浄化処理系
統Ｂは、前段の廃液処理装置１の浄化処理液取出口７を
次段の取入口５に順次接続し、各廃液処理装置１の取出
口14を廃液タンク15に接続することによって構成されて
いる。
【００１８】以上のように構成した本実施例の作用につ
いて次に説明する。
いて次に説明する。
【００１９】取入口５から取り入れられた処理廃液（水
中油型エマルション溶液）は、酸化剤添加装置によって
酸化剤が添加され、一旦分離槽２内に貯留される。分離
槽２内では、エアコンプレッサ９によって気泡発生フィ
ルタ４にエアを供給して、処理廃液中に微細泡沫を発生
させる。また、紫外線コントローラ８によって紫外線ラ
ンプ３を制御して処理廃液に紫外線を照射する。
中油型エマルション溶液）は、酸化剤添加装置によって
酸化剤が添加され、一旦分離槽２内に貯留される。分離
槽２内では、エアコンプレッサ９によって気泡発生フィ
ルタ４にエアを供給して、処理廃液中に微細泡沫を発生
させる。また、紫外線コントローラ８によって紫外線ラ
ンプ３を制御して処理廃液に紫外線を照射する。
【００２０】分離槽２内の処理廃液は、水相中に、親油
基16a を内側に親水基16b を外側にした界面活性剤16に
覆われて安定した油滴17および界面活性剤16が分散して
いる。界面活性剤16は、親油基16a （疎水基）が泡沫に
付着するので、気泡発生フィルタ４によって発生された
泡沫とともに浮上して分離槽２の上部へ移動する。ま
た、処理廃液に紫外線を照射すると、界面活性剤16の親
水基16b が分解され、油滴17が不安定になり、浮上して
分離槽２の上部へ移動する。なお、界面活性剤16は、酸
化剤によっても分解される。
基16a を内側に親水基16b を外側にした界面活性剤16に
覆われて安定した油滴17および界面活性剤16が分散して
いる。界面活性剤16は、親油基16a （疎水基）が泡沫に
付着するので、気泡発生フィルタ４によって発生された
泡沫とともに浮上して分離槽２の上部へ移動する。ま
た、処理廃液に紫外線を照射すると、界面活性剤16の親
水基16b が分解され、油滴17が不安定になり、浮上して
分離槽２の上部へ移動する。なお、界面活性剤16は、酸
化剤によっても分解される。
【００２１】そして、分離槽２の上部に移動した界面活
性剤16および油滴17を多く含む処理廃液を濃縮処理液取
出口６から取り出して破泡機11へ送り、液相に戻して濃
縮処理液として取出口14から取り出す。一方、分離槽２
の底部の油滴17および界面活性剤16の含有量の少ない処
理廃液を浄化処理液として浄化処理液取出口７から取り
出す。
性剤16および油滴17を多く含む処理廃液を濃縮処理液取
出口６から取り出して破泡機11へ送り、液相に戻して濃
縮処理液として取出口14から取り出す。一方、分離槽２
の底部の油滴17および界面活性剤16の含有量の少ない処
理廃液を浄化処理液として浄化処理液取出口７から取り
出す。
【００２２】さらに、図４に示すように、濃縮処理系統
Ａの直列に配置された複数の廃液処理装置１によって濃
縮処理液を多段処理することにより、最終的に分離した
濃縮処理液は、焼却処理することができる。また、浄化
処理系統Ｂの直列に配置された複数の廃液処理装置１に
よって浄化処理液を多段処理することにより、最終的に
分離した浄化処理液は、外部へ放流することができる。
このとき、濃縮処理系統Ａの各段の廃液処理装置１の浄
化処理液取出口から取り出される浄化処理液および浄化
処理系統Ｂの各段の廃液処理装置１の取出口14から取り
出される濃縮処理液は、廃液タンク15に還流される。
Ａの直列に配置された複数の廃液処理装置１によって濃
縮処理液を多段処理することにより、最終的に分離した
濃縮処理液は、焼却処理することができる。また、浄化
処理系統Ｂの直列に配置された複数の廃液処理装置１に
よって浄化処理液を多段処理することにより、最終的に
分離した浄化処理液は、外部へ放流することができる。
このとき、濃縮処理系統Ａの各段の廃液処理装置１の浄
化処理液取出口から取り出される浄化処理液および浄化
処理系統Ｂの各段の廃液処理装置１の取出口14から取り
出される濃縮処理液は、廃液タンク15に還流される。
【００２３】上記のような多段処理を行った場合の各段
の濃縮処理液および浄化処理液の油滴および界面活性剤
の分散状態を図６に示す。図６において、ABは、廃液タ
ンク15内の処理廃液を示し、A1，A2は、それぞれ濃縮処
理系統Ａの第１段、第２段の廃液処理装置１の取出口14
から取り出された濃縮処理液を示し、B1，B2は、それぞ
れ浄化処理系統Ｂの第１段、第２段の廃液処理装置１の
浄化処理液取出口７から取り出した浄化処理液の状態を
示す。
の濃縮処理液および浄化処理液の油滴および界面活性剤
の分散状態を図６に示す。図６において、ABは、廃液タ
ンク15内の処理廃液を示し、A1，A2は、それぞれ濃縮処
理系統Ａの第１段、第２段の廃液処理装置１の取出口14
から取り出された濃縮処理液を示し、B1，B2は、それぞ
れ浄化処理系統Ｂの第１段、第２段の廃液処理装置１の
浄化処理液取出口７から取り出した浄化処理液の状態を
示す。
【００２４】図６中のAB，A1，A2に示すように、濃縮処
理系統Ａの濃縮処理液中には、処理段数が進むに従っ
て、油滴17、界面活性剤16および紫外線により親水基を
失った界面活性剤(16a) が多くなる。また、AB，B1，B2
に示すように、浄化処理系統Ｂの浄化処理液中には、処
理段数が進に従って、油滴17および界面活性剤16が少な
くなる一方、紫外線により親油基を失った界面活性剤(1
6b) が多くなる。
理系統Ａの濃縮処理液中には、処理段数が進むに従っ
て、油滴17、界面活性剤16および紫外線により親水基を
失った界面活性剤(16a) が多くなる。また、AB，B1，B2
に示すように、浄化処理系統Ｂの浄化処理液中には、処
理段数が進に従って、油滴17および界面活性剤16が少な
くなる一方、紫外線により親油基を失った界面活性剤(1
6b) が多くなる。
【００２５】このようにして、起泡および紫外線緒照射
によって処理廃液中の油滴および界面活性剤を濃縮処理
液として分離し、また、これらの成分を分離した後の水
相中に残留する有機物（親水基）を紫外線照射によって
完全に分解することができる。
によって処理廃液中の油滴および界面活性剤を濃縮処理
液として分離し、また、これらの成分を分離した後の水
相中に残留する有機物（親水基）を紫外線照射によって
完全に分解することができる。
【００２６】なお、紫外線ランプ３によって照射する紫
外線の波長は、処理廃液の成分に応じて設定することに
より、効果的に界面活性剤を分解することができる。照
射波長の設定の一例として、界面活性剤（有機化合物）
の親水基の酸化分解過程を、Ａ：ホルムアルデヒド（Ｈ
ＣＨＯ）、Ｂ：ギ酸（ＨＣＯＯＨ）、Ｃ：炭酸ガス（Ｃ
Ｏ2 ）として、図７に示すようにモデル化して説明す
る。
外線の波長は、処理廃液の成分に応じて設定することに
より、効果的に界面活性剤を分解することができる。照
射波長の設定の一例として、界面活性剤（有機化合物）
の親水基の酸化分解過程を、Ａ：ホルムアルデヒド（Ｈ
ＣＨＯ）、Ｂ：ギ酸（ＨＣＯＯＨ）、Ｃ：炭酸ガス（Ｃ
Ｏ2 ）として、図７に示すようにモデル化して説明す
る。
【００２７】図７に示すように、酸化分解過程は、Ａ、
Ｂ、Ｃの順で進行するが、このとき、ＡからＢへの反
応、すなわち、アルデヒド基（−ＣＨＯ）のカルボキシ
ル基（−ＣＯＯＨ）への酸化反応に必要なエネルギーは
360kJ／mol 、この逆の反応に必要なエネルギーは 448
kJ／mol 、また、ＢからＣ、すなわち、カルボキシル基
（−ＣＯＯＨ）から炭酸ガス（ＣＯ2 ）への酸化反応に
必要なエネルギーは 374kJ／mol である。
Ｂ、Ｃの順で進行するが、このとき、ＡからＢへの反
応、すなわち、アルデヒド基（−ＣＨＯ）のカルボキシ
ル基（−ＣＯＯＨ）への酸化反応に必要なエネルギーは
360kJ／mol 、この逆の反応に必要なエネルギーは 448
kJ／mol 、また、ＢからＣ、すなわち、カルボキシル基
（−ＣＯＯＨ）から炭酸ガス（ＣＯ2 ）への酸化反応に
必要なエネルギーは 374kJ／mol である。
【００２８】したがって、ＡからＣへ効率的に反応を進
めるためには、紫外線照射エネルギーＥは、次の条件を
満たせばよい。 （ 374kJ／mol ）≦Ｅ≦（ 448kJ／mol ） (1) ここで、紫外線照射エネルギーＥは、ｎ：アボガドロ
数、ｈ：プランク定数、ν：振動数とすると、 Ｅ＝ｎｈν (2) で表されるので、(1) 、(2) 式より、照射波長λの領域
は、 270nm ≦λ≦310nm となる。
めるためには、紫外線照射エネルギーＥは、次の条件を
満たせばよい。 （ 374kJ／mol ）≦Ｅ≦（ 448kJ／mol ） (1) ここで、紫外線照射エネルギーＥは、ｎ：アボガドロ
数、ｈ：プランク定数、ν：振動数とすると、 Ｅ＝ｎｈν (2) で表されるので、(1) 、(2) 式より、照射波長λの領域
は、 270nm ≦λ≦310nm となる。
【００２９】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明の廃液処理
装置によれば、処理廃液中に分散された油敵の周囲に付
着した界面活性剤の親水基が紫外線によって分解され、
水相中の油敵が不安定になり、泡沫に付着して浮上する
ので、処理廃液中の油分を効率的に分離することができ
る。また、分離槽を２系統に直列に配置し、濃縮処理系
統で濃縮処理液を多段濃縮処理することにより、高濃度
の油分を分離することができ、また、浄化処理系統で浄
化処理液を多段浄化処理することにより、水相中に残留
する有機物を完全に分解することができ、油分の焼却お
よび浄化処理液の外部への放流が可能になる。さらに、
処理廃液に応じて紫外線の照射波長を設定することによ
り、界面活性剤の親水基の分解反応を促進して廃液中の
油分の分離効率を向上させることができる。
装置によれば、処理廃液中に分散された油敵の周囲に付
着した界面活性剤の親水基が紫外線によって分解され、
水相中の油敵が不安定になり、泡沫に付着して浮上する
ので、処理廃液中の油分を効率的に分離することができ
る。また、分離槽を２系統に直列に配置し、濃縮処理系
統で濃縮処理液を多段濃縮処理することにより、高濃度
の油分を分離することができ、また、浄化処理系統で浄
化処理液を多段浄化処理することにより、水相中に残留
する有機物を完全に分解することができ、油分の焼却お
よび浄化処理液の外部への放流が可能になる。さらに、
処理廃液に応じて紫外線の照射波長を設定することによ
り、界面活性剤の親水基の分解反応を促進して廃液中の
油分の分離効率を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施例の概略図である。
【図２】図１のＡ−Ａ線による横断面図である。
【図３】図１の装置の破泡基の概略図である。
【図４】本発明の一実施例の分離槽を多段に配置した廃
液処理装置のブロック図である。
液処理装置のブロック図である。
【図５】処理廃液中の油滴および界面活性剤の分散状態
を示す図である。
を示す図である。
【図６】図４の装置によって多段処理を行った場合の各
段の濃縮処理液および浄化処理液の油滴および界面活性
剤の分散状態を示す図である。
段の濃縮処理液および浄化処理液の油滴および界面活性
剤の分散状態を示す図である。
【図７】界面活性剤の酸化分解過程を示す図である。
１ 廃液処理装置 ２ 分離槽 ３ 紫外線ランプ ４ 気泡発生フィルタ ６ 濃縮処理液取出口 ７ 浄化処理液取出口 Ａ 濃縮処理系統 Ｂ 浄化処理系統
Claims (3)
- 【請求項１】 処理廃液を一旦貯留する分離槽と、該分
離槽内の処理廃液に泡沫を発生させる泡沫発生手段と、
前記分離槽内の処理廃液に紫外線を照射する紫外線照射
手段と、前記分離槽内の上部から処理廃液を取り出す濃
縮処理液取出口と、下部から処理廃液を取り出す浄化処
理液取出口とを備えてなることを特徴とする廃液処理装
置。 - 【請求項２】 複数の分離槽を直列に配置し、前段の分
離槽の濃縮処理液取出口から取り出した濃縮処理液を、
順次、次段の分離槽へ送って多段濃縮処理を行う濃縮処
理系統と、複数の分離槽を直列に配置し、前段の分離槽
の浄化処理液取出口から取り出した浄化処理液を、順
次、次段の分離槽へ送って多段浄化処理を行う浄化処理
系統とを構成したことを特徴とする請求項１に記載の廃
液処理装置。 - 【請求項３】 紫外線照射手段が照射する紫外線の波長
を270 〜 310nmとしたことを特徴とする請求項１または
請求項２に記載の廃液処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19762294A JPH0838807A (ja) | 1994-07-29 | 1994-07-29 | 廃液処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19762294A JPH0838807A (ja) | 1994-07-29 | 1994-07-29 | 廃液処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0838807A true JPH0838807A (ja) | 1996-02-13 |
Family
ID=16377547
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19762294A Pending JPH0838807A (ja) | 1994-07-29 | 1994-07-29 | 廃液処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0838807A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20020034003A (ko) * | 2000-11-01 | 2002-05-08 | 황부연 | 폐수정화 시스템 |
| WO2011157951A1 (fr) * | 2010-06-18 | 2011-12-22 | Osead | Dispositif et procédé pour la dépollution de l'eau |
| CN104843824A (zh) * | 2014-02-18 | 2015-08-19 | 邱玉冬 | 污水泡沫光解处理器 |
| JP2020131354A (ja) * | 2019-02-19 | 2020-08-31 | 株式会社ディスコ | 加工液の循環システム |
-
1994
- 1994-07-29 JP JP19762294A patent/JPH0838807A/ja active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20020034003A (ko) * | 2000-11-01 | 2002-05-08 | 황부연 | 폐수정화 시스템 |
| WO2011157951A1 (fr) * | 2010-06-18 | 2011-12-22 | Osead | Dispositif et procédé pour la dépollution de l'eau |
| FR2961405A1 (fr) * | 2010-06-18 | 2011-12-23 | Osead | Dispositif et procede pour la depollution de l'eau. |
| CN104843824A (zh) * | 2014-02-18 | 2015-08-19 | 邱玉冬 | 污水泡沫光解处理器 |
| JP2020131354A (ja) * | 2019-02-19 | 2020-08-31 | 株式会社ディスコ | 加工液の循環システム |
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