JPH0836013A - Device and method for inspecting wiring board - Google Patents

Device and method for inspecting wiring board

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JPH0836013A
JPH0836013A JP6169848A JP16984894A JPH0836013A JP H0836013 A JPH0836013 A JP H0836013A JP 6169848 A JP6169848 A JP 6169848A JP 16984894 A JP16984894 A JP 16984894A JP H0836013 A JPH0836013 A JP H0836013A
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wiring
short
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probe terminal
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Hiroyuki Hebiguchi
広行 蛇口
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Abstract

PURPOSE:To detect a short circuit in a range, in which detection of short circuit has been impossible with a conventional measuring device, and to detect short circuit defect of the short circuit resistance at a level, which has not been able to be measured by a conventional device. CONSTITUTION:The device has a first probe terminal 15 connected to a protecting short circuit wiring, a second probe terminal 16 connected to one of wirings 1 to be measured, a third probe terminal 17 connected to the other one of the wirings to be measured, and a first voltage measuring means 20 for measuring voltage between the first probe terminal 15 and the second probe terminal 16. Furthermore, the device is also provided with a first current source 21, which is connected to the second probe terminal 16, and a second current source 23, which is connected to the third probe terminal 17. Polarity of the first current source 21 and the second current source 23 are made to be opposite to each other.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、液晶駆動用基板などの
ように基板上に多数の配線が施されてなる配線の検査装
置および配線検査方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wiring inspection device and a wiring inspection method in which a large number of wirings are formed on a substrate such as a liquid crystal driving substrate.

【0002】[0002]

【従来の技術】図16は、従来一般に知られている単純
マトリックス型の液晶駆動用基板の完成前の配線構造の
一例を示すものである。図16に示す完成前の配線構造
は、透明基板上に電極回路Kが形成され、更に透明基板
上の電極回路Kの周囲に、これを保護するための矩形枠
状のガードリング(保護用短絡配線)Gが形成された例
である。この例のガードリングGは、製造工程の最終段
階において電極回路Kを基板とともに図16の2点鎖線
Sに沿って切断することで電極回路Kから切り放されて
廃棄され、残った電極回路Kを用いて液晶駆動用基板が
製造されるようになっている。この例の電極回路Kは、
透明基板上に横長の短冊型の電極配線1・・・が上下に多
数並行に配列形成され、各電極配線1の端部にガードリ
ングGに接続する引出配線2が形成されたものである。
この例の電極回路Kは他の図示しない透明基板上に複数
配列形成された縦長の短冊型の電極回路とともに一対の
組で製造され、これら一対の透明基板間に液晶を封入す
ることで液晶表示パネルが構成されるようになってい
る。
2. Description of the Related Art FIG. 16 shows an example of a wiring structure before completion of a generally known simple matrix type liquid crystal driving substrate. In the wiring structure before completion shown in FIG. 16, an electrode circuit K is formed on a transparent substrate, and a rectangular frame-shaped guard ring (protective short circuit for protection) is further provided around the electrode circuit K on the transparent substrate. This is an example in which a wiring) G is formed. The guard ring G of this example is cut off from the electrode circuit K by discarding the electrode circuit K along with the substrate along the two-dot chain line S in FIG. 16 at the final stage of the manufacturing process, and the remaining electrode circuit K is discarded. A liquid crystal driving substrate is manufactured by using. The electrode circuit K of this example is
A large number of horizontally long strip-shaped electrode wirings 1 ... Are vertically arranged in parallel on a transparent substrate, and lead-out wirings 2 connected to the guard ring G are formed at the end portions of each electrode wiring 1.
The electrode circuit K of this example is manufactured in a pair with another vertically elongated strip-shaped electrode circuit formed on another transparent substrate (not shown), and a liquid crystal display is obtained by enclosing a liquid crystal between the pair of transparent substrates. The panel is designed to be constructed.

【0003】ところで、一般に液晶表示装置において
は、表示の高精細度化が要求されているので、前記の構
成の電極回路Kを透明基板上に形成した場合に、1枚の
基板上に数十〜数百本、あるいはそれ以上の本数の電極
配線を形成する必要がある。従って基板上にスパッタな
どの成膜法とフォトリソグラフィ技術を用いて所望の形
状の電極配線を形成する際に、成膜不良やエッチング不
良あるいは異物の混入などの要因により、電極どうしが
ショートしたり、電極形状不良などの製造欠陥を生じる
おそれが高い問題があった。そこでこの種の液晶表示装
置用の電極回路の不良を検査する装置が種々提案されて
いる。その検査装置の1つの例として、図17に示すよ
うに、プローブ端子3と4を備え、一方のプローブ端子
4に定電流源6と電圧計7とを並列接続してなる構成の
ものが知られている。
Generally, in a liquid crystal display device, high definition of display is required, and therefore, when the electrode circuit K having the above-mentioned structure is formed on a transparent substrate, dozens of tens are formed on one substrate. It is necessary to form electrode wirings of several hundreds or more. Therefore, when forming electrode wiring of a desired shape on a substrate by using a film forming method such as sputtering and a photolithography technique, the electrodes may be short-circuited due to factors such as film forming failure, etching failure, or contamination of foreign matter. However, there is a high possibility that manufacturing defects such as defective electrode shape may occur. Therefore, various devices for inspecting a defective electrode circuit for this type of liquid crystal display device have been proposed. As one example of the inspection apparatus, as shown in FIG. 17, there is known one having a configuration in which probe terminals 3 and 4 are provided and a constant current source 6 and a voltmeter 7 are connected in parallel to one probe terminal 4. Has been.

【0004】図17に示す構成の検査装置を用いて電極
回路Kの検査を行うには、一方のプローブ端子3を図1
6の電極配線1の一端側のガードリングGの一部に接続
するとともに、他方のプローブ端子4を電極配線1の他
端側に接続し、プローブ端子3を接地し、定電流源6の
他の極を接地して電極配線1に所定の電流を流して電極
配線1の抵抗値を測定し、この値を基に電極配線1の断
線とショートを判断していた。この場合の抵抗値は、プ
ローブ端子4に接続した電圧計7の電圧値と定電流源6
の電流値とから計算で容易に算出できる。更にこの場
合、前記電流値を一定としておけば、電圧計7の電圧値
のみから抵抗値を求め、電極配線1の断線やショートを
容易に判定することができる。
In order to inspect the electrode circuit K using the inspection apparatus having the configuration shown in FIG. 17, one probe terminal 3 is connected to the one shown in FIG.
6 is connected to a part of the guard ring G on one end side of the electrode wiring 1, the other probe terminal 4 is connected to the other end side of the electrode wiring 1, the probe terminal 3 is grounded, and the constant current source 6 The electrode was grounded and a predetermined current was passed through the electrode wiring 1 to measure the resistance value of the electrode wiring 1. Based on this value, the disconnection and short circuit of the electrode wiring 1 were judged. The resistance value in this case is the voltage value of the voltmeter 7 connected to the probe terminal 4 and the constant current source 6
It can be easily calculated from the current value of. Further, in this case, if the current value is kept constant, the resistance value can be obtained only from the voltage value of the voltmeter 7, and disconnection or short circuit of the electrode wiring 1 can be easily determined.

【0005】ここで以下に、図18に示す任意の1つの
電極配線1とその隣の電極配線1’との間でショート欠
陥を生じていた場合の検査方法について、以下に説明す
る。図18に示すように任意の1つの電極配線1とその
隣の電極配線1’との間に抵抗値がRsのショート欠陥
を生じていた場合に、図17に示す装置を用いて検査す
るには、ガードリングGの一部にプローブ端子3を接続
し、電極配線1の反対側の端部にプローブ端子4を接続
する。ここで図18においては、プローブ端子3をCO
M、プローブ端子4をOと表示して区別している。図1
8に示す状態において、表示エリア内の電極配線1の長
さをLo、表示エリアの端部(電極配線1の引出配線側
の端部)からショート部分までの距離をLs、Ls/Lo
をX、表示エリア内の電極配線の抵抗をRo(Ro≦R1
+R2)、プローブ端子4の接触点からショート部分ま
での抵抗をR1(R1=(1−X)・Ro)、表示エリア
端部(電極配線1の引出配線側の端部)からショート部
分までの抵抗をR2=X・Ro、ショート経路の中のガー
ドリング部分の抵抗をRG、ショート抵抗をRs、引出配
線の抵抗をR3とする。
Now, an inspection method in the case where a short circuit defect occurs between any one electrode wiring 1 shown in FIG. 18 and the electrode wiring 1'adjacent thereto will be described below. As shown in FIG. 18, when a short circuit defect having a resistance value of R s occurs between any one electrode wiring 1 and the electrode wiring 1 ′ adjacent thereto, the inspection is performed using the apparatus shown in FIG. , The probe terminal 3 is connected to a part of the guard ring G, and the probe terminal 4 is connected to the opposite end of the electrode wiring 1. Here, in FIG. 18, the probe terminal 3 is connected to CO
M and the probe terminal 4 are indicated by O to distinguish them. FIG.
In the state shown in FIG. 8, the length of the electrode wiring 1 in the display area is L o , and the distance from the end of the display area (the end on the lead-out wiring side of the electrode wiring 1) to the short portion is L s , L s / L o
X, and the resistance of the electrode wiring in the display area is R o (R o ≤R 1
+ R 2 ), the resistance from the contact point of the probe terminal 4 to the short-circuited portion is R 1 (R 1 = (1-X) · R o ), from the display area end (the end on the lead-out wiring side of the electrode wiring 1) It is assumed that the resistance up to the short circuit portion is R 2 = X · R o , the resistance of the guard ring portion in the short circuit path is R G , the short circuit resistance is R s , and the resistance of the lead wiring is R 3 .

【0006】このような関係を想定した場合、ショート
を生じていない電極を検査すると、図19に示すような
抵抗を測定することになるので、プローブ端子3、4間
の全体抵抗の値Rは、 R=R1+R2+R3=Ro+R3 ・・・(1)の関係となり、 V=iR=i(Ro+R3) ・・・(2)の関係となる。 これに対してショートが発生していた場合、図20に示
すような合成抵抗を測定することなるので、プローブ端
子3、4間の全体抵抗の値Rは、 R=R1+[(R2+R3)・(Rs+R2+R3+RG)/{(R2+R3)+(Rs +R2+R3+RG)}] =(1−X)Ro+[(XRo+R3)・(Rs+RG+XRo+R3)/{Rs+ RG+2(XRo+R3)}] ・・・(3)の関係となり、 V=iR=i・[(1−X)・Ro+{(XRo+R3)・(Rs+RG+XRo+ R3)/(Rs+RG+2XRo+2R3)}] ・・・(4)の関係となる。
Assuming such a relationship, when an electrode that does not cause a short circuit is inspected, the resistance as shown in FIG. 19 is measured, so the total resistance value R between the probe terminals 3 and 4 is , R = R 1 + R 2 + R 3 = R o + R 3 (1), and V = iR = i (R o + R 3 ) (2). On the other hand, if a short circuit occurs, the combined resistance as shown in FIG. 20 is to be measured. Therefore, the total resistance value R between the probe terminals 3 and 4 is R = R 1 + [(R 2 + R 3 ) · (R s + R 2 + R 3 + R G ) / {(R 2 + R 3 ) + (R s + R 2 + R 3 + R G )}] = (1-X) R o + [(XR o + R 3 ). (R s + R G + XR o + R 3 ) / {R s + R G +2 (XR o + R 3 )}] (3), and V = iR = i · [(1-X) -R o + {(XR o + R 3 )-(R s + R G + XR o + R 3 ) / (R s + R G + 2XR o + 2R 3 )}] ... (4).

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】以上のような関係を前
提として、実際の液晶駆動用基板に使用されている材料
の抵抗値を確定すると、透明ガラス基板上にITO(イ
ンジウム錫酸化物)膜からなる平均厚さ0.2μmの電
極を形成した場合に、Ro=2220Ω(Ro=R1
2)、R3=780Ω、RG=0(無視できる程度小さ
い)となり、測定電流をi=1.7mAと設定する。こ
こで前記(1)式から、ショートを生じていない場合の
プローブ端子3、4間の抵抗Rは、R=Ro+R3=3×
103Ωであるから、測定される電圧Vは、 V=i・R=1.7×10-3×3×103=5.1Vとな
る。この際のショート判定基準は、ITO膜の膜厚のば
らつきによる配線抵抗のばらつきを考慮し、2×103
Ω以下とすると、測定電圧では、3.4V以下となる。
なおここで、断線を生じた場合は測定電圧が大きくなっ
て容易に判定できる上に、検出感度上の問題はないので
断線の場合は省略して考えることとする。以上の条件で
測定した場合において、ショートの生じている電極の測
定電圧とショート位置の関係を図21に示す。
When the resistance value of the material used for the actual liquid crystal driving substrate is determined based on the above relationship, an ITO (indium tin oxide) film is formed on the transparent glass substrate. When an electrode having an average thickness of 0.2 μm is formed, R o = 2220 Ω (R o = R 1 +
R 2 ), R 3 = 780Ω, R G = 0 (negligibly small), and the measured current is set to i = 1.7 mA. From the equation (1), the resistance R between the probe terminals 3 and 4 when no short circuit occurs is R = Ro + R3 = 3 ×
Since it is 10 3 Ω, the measured voltage V is V = i · R = 1.7 × 10 −3 × 3 × 10 3 = 5.1V. At this time, the short-circuit judgment criterion is 2 × 10 3 in consideration of variations in wiring resistance due to variations in the thickness of the ITO film.
If it is Ω or less, the measured voltage will be 3.4 V or less.
When a wire break occurs, the measured voltage increases and the determination can be easily performed. Further, since there is no problem in detection sensitivity, the wire break will be omitted. FIG. 21 shows the relationship between the measured voltage of the electrode in which a short circuit has occurred and the short circuit position when measured under the above conditions.

【0008】図21に示すようにショート抵抗Rsが0
Ωの場合でショート検出可能エリアは、図21の右側4
5%のエリア程度であり、左側55%のエリアは検出で
きないことになる。即ち、図18の電極配線1で言え
ば、電極配線1の右側45%程度の範囲内に0Ωの抵抗
のショート欠陥が生じた場合は検出できるが、図18の
電極配線1の左側55%程度の範囲内にショート欠陥が
生じた場合は抵抗の大小にかかわらず測定不可能になる
問題があった。また、電極配線1の右側45%の範囲内
であっても、ショート抵抗が3kΩ以上のショート欠陥
は検出できない問題があった。
As shown in FIG. 21, the short resistance Rs is 0.
In the case of Ω, the short-circuit detectable area is 4 on the right side of FIG.
The area is about 5%, and the area on the left side 55% cannot be detected. That is, in the case of the electrode wiring 1 in FIG. 18, a short circuit defect of 0Ω resistance can be detected within a range of about 45% on the right side of the electrode wiring 1, but about 55% on the left side of the electrode wiring 1 in FIG. When a short-circuit defect occurs within the range, there is a problem that measurement is impossible regardless of the magnitude of resistance. Further, there is a problem that a short circuit defect having a short circuit resistance of 3 kΩ or more cannot be detected even within the range of 45% on the right side of the electrode wiring 1.

【0009】本発明は前記事情に鑑みてなされたもの
で、従来の測定装置でショート検出不可能であった範囲
までショート検出ができるとともに、従来装置では測定
不可能な大きさのショート抵抗のショート欠陥も検出で
きる測定装置および測定方法の提供を目的とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and it is possible to detect a short circuit to a range where a short circuit cannot be detected by a conventional measuring apparatus, and a short circuit of a short resistance having a size that cannot be measured by the conventional apparatus. An object of the present invention is to provide a measuring device and a measuring method that can detect defects.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明は前
記課題を解決するために、基板と、この基板上に形成さ
れた複数の被測定用配線と、前記複数の被測定用配線を
ショートして基板上に形成された保護用の短絡配線とを
具備してなる配線基板を検査する検査装置であって 保
護用の短絡配線に接続される第1プローブ端子および被
測定用配線の1つに接続される第2プローブ端子と、被
測定用配線の他の1つに接続される第3プローブ端子
と、前記第1プローブ端子と第2プローブ端子の間の電
圧を測定する第1電圧測定手段と、前記第2プローブ端
子に接続された第1電流源と、前記第3プローブ端子に
接続された第2電流源とを具備してなり、前記第1電流
源と第2電流源の極性を逆にしてなるものである。
In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides a substrate, a plurality of wirings to be measured formed on the substrate, and a plurality of wirings to be measured. An inspection device for inspecting a wiring board comprising a short-circuited wiring for protection which is short-circuited and is formed on a board, wherein a first probe terminal and a wiring to be measured which are connected to the short-circuited wiring for protection are provided. A second probe terminal connected to one of the two wirings, a third probe terminal connected to another one of the wirings to be measured, and a first voltage for measuring a voltage between the first probe terminal and the second probe terminal. The measuring means, a first current source connected to the second probe terminal, and a second current source connected to the third probe terminal. It has the opposite polarity.

【0011】請求項2記載の発明は前記課題を解決する
ために、基板と、この基板上に形成された複数の被測定
用配線と、前記複数の被測定用配線を短絡して基板上に
形成された保護用の短絡配線とを具備してなる配線基板
を検査する検査装置であって、保護用の短絡配線に接続
される第1プローブ端子および被測定用配線の1つに接
続される第2プローブ端子と、被測定用配線の他の1つ
に接続される第3プローブ端子および保護用の短絡配線
に接続される第4プローブ端子と、前記第1プローブ端
子と第2プローブ端子の間の電圧を測定する第1電圧測
定手段と、前記第3プローブ端子と第4プローブ端子の
間の電圧を測定する第2電圧測定手段と、前記第2プロ
ーブ端子に接続された第1電流源と、前記第3プローブ
端子に接続された第2電流源とを具備してなり、前記第
1電流源と第2電流源の極性を逆にしてなるものであ
る。
According to a second aspect of the present invention, in order to solve the above problems, a substrate, a plurality of wirings to be measured formed on the substrate, and the plurality of wirings to be measured are short-circuited on the substrate. An inspection device for inspecting a wiring board comprising the formed protective short-circuit wiring, which is connected to one of a first probe terminal connected to the protective short-circuit wiring and a wiring to be measured. A second probe terminal, a third probe terminal connected to another one of the measured wirings, a fourth probe terminal connected to the protective short-circuit wiring, and a first probe terminal and a second probe terminal. First voltage measuring means for measuring a voltage between them, second voltage measuring means for measuring a voltage between the third probe terminal and the fourth probe terminal, and a first current source connected to the second probe terminal And connected to the third probe terminal It comprises a and second current source is made with the polarity of the first current source and the second current source to the reverse.

【0012】請求項3記載の発明は前記課題を解決する
ために、基板と、この基板上に形成された複数の被測定
用配線と、前記複数の被測定用配線を短絡して基板上に
形成された保護用の短絡配線を具備してなる配線基板を
検査する検査装置であって、保護用の短絡配線に接続さ
れる第1プローブ端子および被測定用配線の1つに接続
される第2プローブ端子と、被測定用配線の他の1つに
接続される第3プローブ端子と、前記第1プローブ端子
を接地する手段と、第2プローブ端子と接地面との間の
電圧を測定する第1電圧測定手段と、前記第2プローブ
端子に接続された第1電流源と、前記第3プローブ端子
に接続された第2電流源とを具備してなり、前記第1電
流源と第2電流源の極性を逆にしてなるものである。
According to a third aspect of the present invention, in order to solve the above problems, a substrate, a plurality of wirings to be measured formed on the substrate, and the plurality of wirings to be measured are short-circuited on the substrate. An inspection apparatus for inspecting a wiring board comprising a formed protective short-circuit wiring, comprising: a first probe terminal connected to the protective short-circuit wiring and one of the measured wirings. Two probe terminals, a third probe terminal connected to another one of the wirings to be measured, a means for grounding the first probe terminal, and a voltage between the second probe terminal and the ground plane is measured. A first voltage measuring means, a first current source connected to the second probe terminal, and a second current source connected to the third probe terminal, and the first current source and the second current source. The polarity of the current source is reversed.

【0013】請求項4記載の発明は前記課題を解決する
ために、請求項1、2または3記載の被測定用配線が、
基板上に整列形成された短冊状の複数の電極配線であ
り、これらの電極配線の端部を引出配線を介して保護用
短絡配線に接続してなるものである。
According to a fourth aspect of the present invention, in order to solve the above-mentioned problems, the wiring under test according to the first, second or third aspect is
It is a plurality of strip-shaped electrode wirings formed in an array on a substrate, and the end portions of these electrode wirings are connected to a protective short-circuit wiring via a lead wiring.

【0014】請求項5記載の発明は前記課題を解決する
ために、請求項1、2または3記載の基板が、引出配線
の部分を境界として切断されて被測定用配線部分側が電
極として使用される単純マトリックス液晶表示素子用基
板であるものである。
According to a fifth aspect of the present invention, in order to solve the above-mentioned problems, the substrate according to the first, second or third aspect is cut at the lead-out wiring portion as a boundary, and the measured wiring portion side is used as an electrode. It is a substrate for a simple matrix liquid crystal display device.

【0015】請求項6記載の発明は前記課題を解決する
ために、請求項1、2または3記載の基板が透明基板で
あり、配線をインジウム錫酸化物膜から形成してなるも
のである。
According to a sixth aspect of the present invention, in order to solve the above problems, the substrate according to the first, second or third aspect is a transparent substrate, and the wiring is formed from an indium tin oxide film.

【0016】請求項7記載の発明は前記課題を解決する
ために、請求項1、2または3記載の被測定用配線が、
基板上にマトリックス状に形成された配線であり、マト
リックス状配線の各交差部分にスイッチ素子を形成し、
マトリックス状の配線の端部を引出配線を介して保護用
の短絡配線に接続してなるものである。
According to a seventh aspect of the present invention, in order to solve the above-mentioned problems, the wiring to be measured according to the first, second or third aspect,
The wiring is formed in a matrix on the substrate, switch elements are formed at each intersection of the matrix wiring,
The end portion of the matrix-shaped wiring is connected to the short-circuit wiring for protection through the lead wiring.

【0017】請求項8記載の発明は前記課題を解決する
ために、請求項1、2または3記載の被測定用配線が、
基板上にマトリックス状に形成された配線であり、マト
リックス状配線の各交差部分に薄膜トランジスタを形成
し、マトリックス状の配線の端部を引出配線を介して保
護用の短絡配線に接続してなり、基板が、引出配線の部
分を境界として切断されて被測定用配線部分側が配線と
して使用される薄膜トランジスタアレイ基板であること
を特徴としてなるものである。
In order to solve the above-mentioned problems, the invention according to claim 8 is characterized in that the wiring for measurement under claim 1, 2 or 3 is
The wiring is formed in a matrix on the substrate, a thin film transistor is formed at each intersection of the matrix wiring, the end of the matrix wiring is connected to the short-circuit wiring for protection through the lead wiring, It is characterized in that the substrate is a thin film transistor array substrate which is cut at the lead-out wiring portion as a boundary and the measured wiring portion side is used as wiring.

【0018】請求項9記載の発明は前記課題を解決する
ために、基板と、この基板上に形成された複数の被測定
用配線と、前記複数の被測定用配線を短絡して基板上に
形成された保護用の短絡配線を具備してなる配線基板を
検査する検査装置であって、保護用の短絡配線に接続さ
れる第1プローブ端子および第1番目の被測定用配線に
接続される第2プローブ端子と、前記第1番目の被測定
用配線と隣接した第2番目の被測定用配線に接続される
第3プローブ端子および保護用の短絡配線に接続される
第4プローブ端子と、保護用の短絡配線に接続される第
5プローブ端子および前記第2番目の被測定用配線と隣
接した第3番目の被測定用配線に接続される第6プロー
ブ端子と、前記第3番目の被測定用配線と隣接した第4
番目の被測定用配線に接続される第7プローブ端子およ
び保護用の短絡配線に接続される第8プローブ端子と、
前記第1プローブ端子と第2プローブ端子の間の電圧を
測定する第1電圧測定手段と、前記第3プローブ端子と
第4プローブ端子の間の電圧を測定する第2電圧測定手
段と、前記第5プローブ端子と第6プローブ端子の間の
電圧を測定する第3電圧測定手段と、前記第7プローブ
端子と第8プローブ端子の間の電圧を測定する第4電圧
測定手段と、前記第2プローブ端子に接続された第1電
流源と、前記第3プローブ端子に接続された第2電流源
と、前記第6プローブ端子に接続された第3電流源と、
前記第7プローブ端子に接続された第4電流源を具備し
てなり、前記第1電流源と第2電流源の極性を逆極性と
し、第2電流源と第3電流源の極性を逆極性とし、第3
電流源と第4電流源の極性を逆極性にしてなるものであ
る。
According to a ninth aspect of the present invention, in order to solve the above problems, a substrate, a plurality of wirings to be measured formed on the substrate, and the plurality of wirings to be measured are short-circuited on the substrate. An inspection device for inspecting a wiring board comprising a formed protection short-circuit wiring, which is connected to a first probe terminal and a first wiring under test which are connected to the protection short-circuit wiring. A second probe terminal, a third probe terminal connected to the second wiring for measurement adjacent to the first wiring for measurement, and a fourth probe terminal connected to a short-circuit wiring for protection, A fifth probe terminal connected to the short-circuit wiring for protection and a sixth probe terminal connected to the third wiring to be measured adjacent to the second wiring to be measured, and the third probe terminal. 4th adjacent to measurement wiring
A seventh probe terminal connected to the second wiring for measurement and an eighth probe terminal connected to a short-circuit wiring for protection;
First voltage measuring means for measuring a voltage between the first probe terminal and the second probe terminal; second voltage measuring means for measuring a voltage between the third probe terminal and the fourth probe terminal; Third voltage measuring means for measuring the voltage between the fifth probe terminal and the sixth probe terminal, fourth voltage measuring means for measuring the voltage between the seventh probe terminal and the eighth probe terminal, and the second probe A first current source connected to the terminal, a second current source connected to the third probe terminal, and a third current source connected to the sixth probe terminal,
A fourth current source connected to the seventh probe terminal, wherein the first current source and the second current source have opposite polarities, and the second current source and the third current source have opposite polarities. And the third
The current source and the fourth current source have opposite polarities.

【0019】請求項10記載の発明は前記課題を解決す
るために、基板と、この基板上に形成された複数の被測
定用配線と、前記複数の被測定用配線を短絡して基板上
に形成された保護用の短絡配線とを具備してなる配線基
板を検査する検査装置であって、第1番目の被測定用配
線の短絡されていない側の端部に接続される第2プロー
ブ端子と、第2番目の被測定用配線の短絡されていない
側の端部に接続される第3プローブ端子と、第3番目の
被測定用配線の短絡されていない側の端部に接続される
第6プローブ端子と、第4番目の被測定用配線の短絡さ
れていない側の端部に接続される第7プローブ端子と、
前記被測定用配線の少なくとも1つの両端の電圧を測定
する電圧測定手段と、前記第2プローブ端子に接続され
た第1電流源と、前記第3プローブ端子に接続された第
2電流源と、前記第6プローブ端子に接続された第3電
流源と、前記第7プローブ端子に接続された第4電流源
とを具備してなり、前記第1電流源と第2電流源の極性
を逆極性とし、第2電流源と第3電流源の極性を逆極性
とし、第3電流源と第4電流源の極性を逆極性としてな
るものである。
According to a tenth aspect of the invention, in order to solve the above-mentioned problems, a substrate, a plurality of wirings to be measured formed on the substrate, and the plurality of wirings to be measured are short-circuited on the substrate. An inspection device for inspecting a wiring board comprising a formed short circuit wiring for protection, the second probe terminal being connected to an end of the first non-short-circuited wiring to be measured. And a third probe terminal connected to the end of the second non-short-circuited side of the wiring to be measured, and a third probe terminal connected to the end of the third non-short-circuited side of the wiring to be measured. A sixth probe terminal and a seventh probe terminal connected to an end portion of the fourth measured wiring, which is not short-circuited,
A voltage measuring unit that measures a voltage across at least one of the measured wires; a first current source connected to the second probe terminal; and a second current source connected to the third probe terminal. A third current source connected to the sixth probe terminal and a fourth current source connected to the seventh probe terminal, wherein the first current source and the second current source have opposite polarities. The polarities of the second current source and the third current source are opposite, and the polarities of the third current source and the fourth current source are opposite.

【0020】請求項11記載の発明は前記課題を解決す
るために、請求項9または10記載の被測定用配線が基
板上に少なくとも2列に整列形成され、各列の被測定用
配線どうしが列ごとに短絡配線により短絡されてなるも
のである。
According to an eleventh aspect of the present invention, in order to solve the above-mentioned problems, the wirings to be measured according to the ninth or tenth aspect are aligned and formed in at least two rows on a substrate, and the wirings to be measured in each row are connected to each other. Each column is short-circuited by the short-circuit wiring.

【0021】請求項12記載の発明は前記課題を解決す
るために、請求項9または10記載の被測定用配線が基
板上に1列に整列形成され、被測定用配線が1本おきに
1つの短絡配線で短絡され、残りの1本おきの被測定用
配線が他の短絡配線で短絡されてなるものである。
In order to solve the above-mentioned problems, the invention according to claim 12 is such that the wirings to be measured according to claim 9 or 10 are aligned and formed in one row on the substrate, and the wirings to be measured are arranged one by one. It is short-circuited by one short-circuit wire, and the other every other measured wire is short-circuited by another short-circuit wire.

【0022】請求項13記載の発明は前記課題を解決す
るために、請求項9または10記載の基板が、引出配線
の部分を境界として切断されて被測定用配線部分側を電
極として使用される単純マトリックス液晶表示素子用基
板としたものである。
According to a thirteenth aspect of the present invention, in order to solve the above-mentioned problems, the substrate according to the ninth or tenth aspect is cut at the lead-out wiring portion as a boundary, and the measured wiring portion side is used as an electrode. This is a substrate for a simple matrix liquid crystal display device.

【0023】請求項14記載の発明は前記課題を解決す
るために、請求項9または10記載の基板が透明基板で
あり、配線をインジウム錫酸化物膜から形成してなるも
のである。
According to a fourteenth aspect of the present invention, in order to solve the above-mentioned problems, the substrate according to the ninth or tenth aspect is a transparent substrate, and the wiring is formed from an indium tin oxide film.

【0024】請求項15記載の発明は前記課題を解決す
るために、請求項9または10記載の被測定用配線が、
基板上にマトリックス状に形成された配線であり、マト
リックス状配線の各交差部分にスイッチ素子を形成し、
マトリックス状の配線の端部を引出配線を介して保護用
の短絡配線に接続してなるものである。
In order to solve the above-mentioned problems, the invention according to claim 15 is characterized in that the wiring under test according to claim 9 or 10 is
The wiring is formed in a matrix on the substrate, switch elements are formed at each intersection of the matrix wiring,
The end portion of the matrix-shaped wiring is connected to the short-circuit wiring for protection through the lead wiring.

【0025】請求項16記載の発明は前記課題を解決す
るために、請求項9または10記載の被測定用配線が、
基板上にマトリックス状に形成された配線であり、マト
リックス状配線の各交差部分に薄膜トランジスタを形成
し、マトリックス状の配線の端部を引出配線を介して保
護用の短絡配線に接続してなり、基板が、引出配線の部
分を境界として切断されて被測定用配線部分側が配線と
して使用される薄膜トランジスタアレイとしたものであ
る。
In order to solve the above-mentioned problems, the invention according to claim 16 is characterized in that the wiring for measurement according to claim 9 or 10 is
The wiring is formed in a matrix on the substrate, a thin film transistor is formed at each intersection of the matrix wiring, the end of the matrix wiring is connected to the short-circuit wiring for protection through the lead wiring, The substrate is a thin film transistor array that is cut at the lead-out wiring portion as a boundary and the measured wiring portion side is used as wiring.

【0026】請求項17記載の発明は前記課題を解決す
るために、基板と、この基板上に形成された複数の被測
定用配線と、前記複数の被測定用配線を短絡して基板上
に形成された保護用の短絡配線とを具備してなる配線基
板を検査する方法であって、保護用の短絡配線と第1番
目の配線の端部との間に所定の電流を印可するとともに
保護用の短絡配線と第2番目の配線の端部との間に前記
と極性が逆の所定の電流を印可しながら前記保護用の短
絡配線と第1番目の配線の端部との間の電圧を測定し、
電圧の計測値から前記第1番目の配線と前記第2番目の
配線との間の断線と短絡を判断するものである。
In order to solve the above-mentioned problems, the invention according to claim 17 short-circuits a substrate, a plurality of wirings to be measured formed on the substrate, and the plurality of wirings to be measured on the substrate. A method of inspecting a wiring board comprising a formed protection short-circuit wiring, wherein a predetermined current is applied between the protection short-circuit wiring and the end of the first wiring and protection is performed. A voltage between the short-circuit wiring for protection and the end of the first wiring while applying a predetermined current having a polarity opposite to the above between the short-circuit wiring for protection and the end of the second wiring. Is measured
A disconnection and a short circuit between the first wiring and the second wiring are determined from the measured voltage value.

【0027】請求項18記載の発明は前記課題を解決す
るために、基板と、この基板上に形成された複数の被測
定用配線と、前記複数の被測定用配線を短絡して基板上
に形成された保護用の短絡配線とを具備してなる配線基
板を検査する方法であって、保護用の短絡配線と第1番
目の配線の端部との間に所定の電流を印可しながら前記
保護用の短絡配線と第1番目の配線の端部との間の電圧
を測定するとともに、保護用の短絡配線と第2番目の配
線の端部との間に前記と極性が逆の所定の電流を印可し
ながら前記保護用の短絡配線と第2番目の配線の端部と
の間の電圧を測定し、各電圧の計測値から前記第1番目
の配線と前記第2番目の配線との間の断線と短絡を判断
するものである。
In order to solve the above-mentioned problems, the invention as set forth in claim 18 short-circuits a substrate, a plurality of wirings to be measured formed on the substrate, and the plurality of wirings to be measured on the substrate. A method of inspecting a wiring board comprising a formed protective short-circuit wiring, wherein a predetermined current is applied between the protective short-circuit wiring and the end of the first wiring. The voltage between the short-circuit wiring for protection and the end of the first wiring is measured, and a predetermined polarity opposite to the above is provided between the short-circuit wiring for protection and the end of the second wiring. The voltage between the short-circuited wiring for protection and the end of the second wiring is measured while applying a current, and the measured value of each voltage is used to measure the voltage between the first wiring and the second wiring. It is to judge disconnection and short circuit between.

【0028】請求項19記載の発明は前記課題を解決す
るために、請求項17または18記載の被測定用配線と
して、基板上に整列形成された短冊状の複数の電極配線
を用い、これらの電極配線の端部が引出配線を介して保
護用の短絡配線に接続されたものを用いるものである。
In order to solve the above-mentioned problems, the nineteenth aspect of the present invention uses a plurality of strip-shaped electrode wirings aligned and formed on a substrate as the wiring to be measured according to the seventeenth or eighteenth aspect. The one in which the end portion of the electrode wiring is connected to the short-circuit wiring for protection through the lead wiring is used.

【0029】請求項20記載の発明は前記課題を解決す
るために、請求項17または18記載の基板として、引
出配線の部分を境界として切断されて、被測定用配線部
分側が電極として使用される単純マトリックス液晶表示
素子用基板を用いるものである。
In order to solve the above-mentioned problems, the invention according to claim 20 is, as the substrate according to claim 17 or 18, cut at a portion of a lead-out wiring as a boundary, and the measured wiring portion side is used as an electrode. A simple matrix liquid crystal display device substrate is used.

【0030】請求項21記載の発明は前記課題を解決す
るために、請求項17または18記載の基板として透明
基板を用い、配線としてインジウム錫酸化物膜から形成
されるものを用いるものである。
In order to solve the above-mentioned problems, a twenty-first aspect of the present invention uses a transparent substrate as the substrate of the seventeenth or eighteenth aspect and uses an indium tin oxide film as the wiring.

【0031】請求項22記載の発明は前記課題を解決す
るために、請求項17または18記載の被測定用配線と
して、基板上にマトリックス状に形成された配線を用
い、マトリックス状配線の各交差部分にスイッチ素子が
形成されたものを用い、マトリックス状の配線の端部
が、引出配線を介して保護用の短絡配線に接続されてな
るものを用いるものである。
In order to solve the above-mentioned problems, the invention according to claim 22 uses, as the wiring for measurement according to claim 17 or 18, wiring formed in a matrix on a substrate, and each intersection of the matrix wiring. A switch element is used in a part thereof, and an end portion of a matrix wiring is connected to a short circuit wiring for protection through a lead wiring.

【0032】請求項23記載の発明は前記課題を解決す
るために、請求項17または18記載の被測定用配線と
して、基板上にマトリックス状に形成された配線を用
い、マトリックス状配線の各交差部分に薄膜トランジス
タが形成されたものを用い、マトリックス状の配線の端
部が引出配線を介して保護用の短絡配線に接続されてな
るものを用い、基板として、引出配線の部分を境界とし
て切断されて被測定用配線部分側を配線として使用する
ものである。
In order to solve the above-mentioned problems, the invention of claim 23 uses, as the wiring for measurement according to claim 17 or 18, wirings formed in a matrix on a substrate, and each intersection of the wirings in matrix. A thin film transistor is formed in the part, and the end of the matrix wiring is connected to the short-circuit wiring for protection through the lead wiring.The substrate is cut with the lead wiring portion as the boundary. The wiring portion for measurement is used as wiring.

【0033】請求項24記載の発明は前記課題を解決す
るために、基板と、この基板上に形成された複数の被測
定用配線と、前記複数の被測定用配線を短絡して基板上
に形成された保護用の短絡配線とを具備してなる配線基
板を検査する方法であって、保護用の短絡配線と第1番
目の配線の端部との間に所定の電流を印可しながら前記
保護用の短絡配線と第1番目の配線の端部との間の電圧
を測定するとともに、保護用の短絡配線と第2番目の配
線の端部との間に前記と極性が逆の所定の電流を印可し
ながら前記保護用の短絡配線と第2番目の配線の端部と
の間の電圧を測定し、更に、保護用の短絡配線と第3番
目の配線の端部との間に所定の電流を印可しながら前記
保護用の短絡配線と第3番目の配線の端部との間の電圧
を測定するとともに、保護用の短絡配線と第4番目の配
線の端部との間に前記と極性が逆の所定の電流を印可し
ながら前記保護用の短絡配線と第4番目の配線の端部と
の間の電圧を測定し、各電圧の計測値から前記第1番目
の配線と前記第2番目の配線と前記第3番目の配線と前
記第4番目の配線の間の断線と短絡を判断するものであ
る。
In order to solve the above-mentioned problems, a twenty-fourth aspect of the present invention is that a substrate, a plurality of wirings to be measured formed on the substrate, and the plurality of wirings to be measured are short-circuited on the substrate. A method of inspecting a wiring board comprising a formed protective short-circuit wiring, wherein a predetermined current is applied between the protective short-circuit wiring and the end of the first wiring. The voltage between the short-circuit wiring for protection and the end of the first wiring is measured, and a predetermined polarity opposite to the above is provided between the short-circuit wiring for protection and the end of the second wiring. While applying a current, the voltage between the protective short-circuit wiring and the end of the second wiring is measured, and further, a predetermined value is provided between the protective short-circuit wiring and the end of the third wiring. While applying the current, the voltage between the protective short-circuit wire and the end of the third wire is measured. Between the protective short-circuit wiring and the end of the fourth wiring while applying a predetermined current having a polarity opposite to the above between the protective short-circuit wiring and the end of the fourth wiring. Voltage is measured, and a disconnection and a short circuit between the first wiring, the second wiring, the third wiring, and the fourth wiring are determined from the measured values of each voltage. is there.

【0034】[0034]

【作用】請求項1、2または3記載の発明によれば、2
つの被測定用配線に同時に逆極性の電流を流し、2つの
被測定用配線の間に短絡が生じていた場合に生じる抵抗
変化に起因する電圧の変化を読み取ることで短絡欠陥の
検査ができる。この場合、短絡抵抗が小さいものは勿
論、短絡抵抗の大きな欠陥であっても容易に検知するこ
とができる。従って検査精度が向上する。更に、同時に
2つの被測定用配線を検査することができるので、1つ
ずつ配線を検査していた従来装置よりも検査効率が向上
する。
According to the invention described in claim 1, 2 or 3, 2
A short-circuit defect can be inspected by passing currents of opposite polarities simultaneously through one of the wirings to be measured and reading the voltage change due to the resistance change that occurs when a short circuit occurs between the two wirings to be measured. In this case, it is possible to easily detect a defect having a large short circuit resistance as well as a defect having a small short circuit resistance. Therefore, the inspection accuracy is improved. Furthermore, since two wirings to be measured can be inspected at the same time, the inspection efficiency is improved as compared with the conventional device in which the wirings are inspected one by one.

【0035】次に、第1電流源と第2電流源を各々接地
していることが好ましい。また、本発明に係る装置は、
被測定用配線が短冊状の配線である場合に好都合であ
り、被測定用配線を引出配線を介して短絡配線に接続し
ている構成に適用することもできる。更に、被測定用配
線が単純マトリックス液晶基板用の電極配線である場合
にも適用することができ、被測定用配線がインジウム錫
酸化物膜の場合にも容易に適用できる。更に、被測定用
配線として、基板上に少なくとも2列に整列形成され、
各列の被測定用配線どうしが列ごとに短絡配線により短
絡されてなるものに適用することもでき、被測定用配線
が基板上に1列に整列形成され、被測定用配線が1本お
きに1つの短絡配線で短絡され、残りの1本おきの被測
定用配線が他の短絡配線で短絡されてなるものに適用す
ることもできる。
Next, it is preferable that the first current source and the second current source are each grounded. Further, the device according to the present invention is
This is convenient when the wiring to be measured is a strip-shaped wiring, and can also be applied to a configuration in which the wiring to be measured is connected to a short-circuit wiring via a lead wiring. Furthermore, the present invention can be applied to the case where the wiring to be measured is an electrode wiring for a simple matrix liquid crystal substrate and can be easily applied to the case where the wiring to be measured is an indium tin oxide film. Furthermore, as the wiring for measurement, at least two rows are formed aligned on the substrate,
It can also be applied to those in which the measured wirings in each column are short-circuited for each column by the short-circuited wiring, and the measured wirings are formed in line in one row on the substrate, and every other measured wiring is arranged. It is also possible to apply it to one in which one short circuit wiring is short-circuited, and the remaining every other measurement wiring is short-circuited with another short circuit wiring.

【0036】また、薄膜トランジスタが基板上に形成さ
れ、ソース配線とゲート配線が形成される薄膜トランジ
スタアレイ基板にも本発明装置を適用することができ
る。その場合は、基板上に配列されている被測定用配線
のうち、ソース配線あるいはゲート配線を2本ずつ対で
効率良く検査できる。その場合の検査においても先に説
明した場合と同様に、ショート抵抗が小さいものは勿
論、ショート抵抗の大きな欠陥であっても容易に検知す
ることができる。
The device of the present invention can also be applied to a thin film transistor array substrate in which a thin film transistor is formed on a substrate and a source wiring and a gate wiring are formed. In that case, of the wirings to be measured arranged on the substrate, two source wirings or two gate wirings can be efficiently inspected in pairs. Also in the inspection in that case, as in the case described above, it is possible to easily detect not only a defect having a short resistance, but also a defect having a large short resistance.

【0037】次に、第1〜第8プローブ端子を用いて第
1〜第4番目の被測定用配線に当接して検査するなら
ば、一度に4本の被測定用配線を検査できるので測定効
率が更に向上する。しかもこのように検査することで任
意の第1〜第4番目の被測定用配線どうしの間のショー
ト欠陥を検査することができる。
Next, if the first to fourth probe terminals are used to contact and inspect the first to fourth wirings to be measured, four wirings to be measured can be inspected at one time. Efficiency is further improved. Moreover, by performing such an inspection, it is possible to inspect a short-circuit defect between arbitrary first to fourth wirings to be measured.

【0038】[0038]

【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例につい
て説明する。図1は本発明に係る検査装置により検査さ
れる被測定用配線K1を示す。この例の被測定用配線K1
は、単純マトリックス液晶表示装置用の透明基板9上に
形成されたもので、横長の短冊型の電極配線10・・・が
2列になって、上下に複数平行に配列されて構成されて
いるとともに、左側の一列の電極配線10・・・の各左端
部に引出配線11が、右側の一列の電極配線10・・・の
各右端部に引出配線11がそれぞれ形成され、電極配線
10・・・の周囲にこれらを囲んで矩形枠状のガードリン
グ(保護用短絡配線)12が形成され、各引出電極11
がガードリング12に接続されて構成されている。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 shows a wiring K 1 to be measured which is inspected by an inspection apparatus according to the present invention. Wiring for measurement K 1 of this example
Is formed on the transparent substrate 9 for a simple matrix liquid crystal display device, and is composed of a plurality of horizontally long strip-shaped electrode wirings 10 ... At the same time, the lead-out wiring 11 is formed at each left end of the left-side row of electrode wirings 10 ..., and the lead-out wiring 11 is formed at each right-side of the right side of the row electrode wirings 10 ... · A rectangular frame-shaped guard ring (protective short-circuit wiring) 12 is formed around these, and each extraction electrode 11 is formed.
Are connected to the guard ring 12.

【0039】図2は本発明に係る検査装置の要部を示す
図であり、この例の検査装置は、第1プローブ端子15
と第2プローブ端子16と第3プローブ端子17と第4
プローブ端子18を備えて構成されている。更に、第1
プローブ端子15と第2プローブ端子16の間にはそれ
らの間の電圧を測定する第1電圧計(第1電圧測定手
段)20が設けられるとともに、第2プローブ端子16
には第1電流源21が接続され、第1電流源21の他極
が更に接地されている。また、第3プローブ端子17と
第4プローブ端子18の間にはそれらの間の電圧を測定
する第2電圧計(第2電圧測定手段)22が設けられ、
更に、第3プローブ端子17には第1電流源23が接続
され、第1電流源23の他極が更に接地されている。そ
して、前記第1電流源21と第2電流源23は互いに逆
極性になるように接続されている。
FIG. 2 is a diagram showing a main part of the inspection device according to the present invention. The inspection device of this example has a first probe terminal 15
And second probe terminal 16, third probe terminal 17 and fourth
The probe terminal 18 is provided. Furthermore, the first
A first voltmeter (first voltage measuring means) 20 for measuring the voltage therebetween is provided between the probe terminal 15 and the second probe terminal 16, and the second probe terminal 16 is also provided.
Is connected to a first current source 21, and the other pole of the first current source 21 is further grounded. Further, between the third probe terminal 17 and the fourth probe terminal 18, a second voltmeter (second voltage measuring means) 22 for measuring the voltage between them is provided,
Furthermore, the first current source 23 is connected to the third probe terminal 17, and the other pole of the first current source 23 is further grounded. The first current source 21 and the second current source 23 are connected so as to have opposite polarities.

【0040】次に図2に示す装置を用いて図1に示す構
成の被測定用配線K1を検査する場合について説明す
る。まず、被測定用配線K1の左右2列の電極配線10・
・・のうち、左側の列の上から1番目と2番目の2つの電
極配線10、10について検査する。それには、第1プ
ローブ端子15を第1番目の電極配線10の左側のガー
ドリング12に、第4プローブ端子18を第2番目の電
極配線10の左側のガードリング12に当接させ、更
に、第2プローブ端子16を第1番目の電極配線10の
右側の端部に、第3プローブ端子17を第2番目の電極
配線10の右側の端部にそれぞれ当接させる。なお、図
面では第1プローブ端子15の接触点をCOM1、第4
プローブ端子18の接触点をCOM2とし、第2プロー
ブ端子16の接触点をO1、第3プローブ端子17の接
触点をO2と記載して区別している。そして、第1電流
源21と第2電流源22から電極配線10、10に互い
に逆極性になるように所定の電流を印可する。
Next, the case of inspecting the wiring under test K 1 having the structure shown in FIG. 1 by using the apparatus shown in FIG. 2 will be described. First, the electrode wirings 10 in the two columns on the left and right of the wiring K 1
··· Of the left side column, the first and second electrode wirings 10 and 10 from the top are inspected. To this end, the first probe terminal 15 is brought into contact with the left guard ring 12 of the first electrode wiring 10 and the fourth probe terminal 18 is brought into contact with the left guard ring 12 of the second electrode wiring 10, and further, The second probe terminal 16 is brought into contact with the right end of the first electrode wiring 10, and the third probe terminal 17 is brought into contact with the right end of the second electrode wiring 10. In the drawing, the contact point of the first probe terminal 15 is COM 1 ,
The contact point of the probe terminal 18 is described as COM 2 , the contact point of the second probe terminal 16 is described as O 1 , and the contact point of the third probe terminal 17 is described as O 2 . Then, a predetermined current is applied from the first current source 21 and the second current source 22 to the electrode wirings 10 and 10 so as to have opposite polarities.

【0041】この状態において、仮に第1番目の電極配
線10と第2番目の電極配線10との間にショート欠陥
を生じていない場合と生じていた場合について図3と図
4を基に以下に説明する。図3において、電極配線10
あるいは引出配線11の各部分の抵抗や長さは図18を
基に先に説明した従来例のものと基本的に同等である。
即ち、第1番目の電極配線10と第2番目の電極配線1
0との間に抵抗値がRsのショート欠陥を生じていた場
合に、表示エリア内の電極配線10の長さをLo、表示
エリアの端部(電極配線10の引出配線側の端部)から
ショート部分までの距離をLs、Ls/LoをX、表示エ
リア内の電極配線の抵抗をRo(Ro=R1+R2)、プロ
ーブ端子16の接触点からショート部分までの抵抗をR
1(R1=(1−X)・Ro)、表示エリア端部(電極配
線10の引出配線側の端部)からショート部分までの抵
抗をR2=X・Ro、ショート経路の中のガードリング部
分の抵抗をRG、ショート抵抗をRs、引出配線11の抵
抗をR3とする。また、第1あるいは第2電流源が流す
電流値をi、ショート抵抗Rsを流れる電流をis、RG
を流れる電流をixとする。
In this state, a case where a short circuit defect does not occur between the first electrode wiring 10 and the second electrode wiring 10 and a case where it occurs will be described below with reference to FIGS. 3 and 4. explain. In FIG. 3, the electrode wiring 10
Alternatively, the resistance and length of each part of the lead-out wiring 11 are basically the same as those of the conventional example described above with reference to FIG.
That is, the first electrode wiring 10 and the second electrode wiring 1
When a short-circuit defect having a resistance value Rs between 0 and 0, the length of the electrode wiring 10 in the display area is Lo , the end portion of the display area (the end portion of the electrode wiring 10 on the lead-out wiring side) From the contact point of the probe terminal 16 to the short-circuited portion, the distance from the contact point to the short-circuited portion is L s , L s / L o is X, the resistance of the electrode wiring in the display area is Ro (R o = R 1 + R 2 ). Resistor R
1 (R 1 = (1−X) · R o ), the resistance from the display area end (the end on the lead-out wiring side of the electrode wiring 10) to the short-circuited portion is R 2 = X · R o , in the short-circuit path. The resistance of the guard ring portion is R G , the short resistance is R s , and the resistance of the lead wiring 11 is R 3 . Further, the current value of the first or second current source is i, the current flowing through the short resistance R s is i s , R G
The current flowing through is i x .

【0042】ここでショート欠陥が生じていない場合
は、 R=R1+R2+R3=R0+R3の関係となり、 V1=V2=iR=i(R0+R3) ・・・(5)の関係となる。 これに対してショート欠陥を生じていた場合、ixの流
れる経路の抵抗をRx=2(R2+R3)+RGとし、is
の流れる経路の抵抗をRsとし、ixとisの流れる経路
の合成抵抗をRT=(Rx・Rs)/(Rx+Rs)とし、
xおよびRsにかかる電圧をVsとすると、 i=is+ix=Vs/RT ・・・(6)の関係となり、 ix=Vs/Rx ・・・(7)の関係となる。
Here, when no short circuit defect occurs, the relation of R = R 1 + R 2 + R 3 = R 0 + R 3 is established, and V 1 = V 2 = iR = i (R 0 + R 3 ) ... ( It becomes the relationship of 5). On the other hand, when a short defect has occurred, the resistance of the path through which i x flows is set to R x = 2 (R 2 + R 3 ) + R G, and i s
Is defined as R s, and the combined resistance of the paths through which i x and i s flow is R T = (R x · R s ) / (R x + R s ),
Assuming that the voltage applied to R x and R s is V s , the relationship is i = i s + i x = V s / R T (6), and i x = V s / R x (7) It becomes a relationship.

【0043】前記式(6)から、Vs=i・RTとなり、
これを(7)式に代入すると、 ix=Vx/Rx=(i・RT)/Rx ・・・(8)の関係となる。 ここで、RT=(Rx・Rs)/(Rx+Rs)であるか
ら、 ix=(i/Rx)・(Rx・Rs)/(Rx+Rs)=(i・Rs)/(Rx+Rs =(i・Rs)/{2(R2+R3)+RG+Rs} ・・・(9)の関係とな る。 測定電圧は、 V1=V2=i・R1+ix(R2+R3) =i・R1+[(iRs)・(R2+R3)/{2(R2+R3)+RG+Rs}] ・・・(10)の関係となる。
[0043] from the equation (6), V s = i · R T next,
Substituting this into equation (7), a relationship of i x = V x / R x = (i · R T) / R x ··· (8). Here, since it is R T = (R x · R s) / (R x + R s), i x = (i / R x) · (R x · R s) / (R x + R s) = ( i · R s ) / (R x + R s ) = (I · R s ) / {2 (R 2 + R 3 ) + R G + R s } ... (9). Measurement voltage, V 1 = V 2 = i · R 1 + i x (R 2 + R 3) = i · R 1 + [(iR s) · (R 2 + R 3) / {2 (R 2 + R 3) + R G + R s }] ... (10).

【0044】次に前提条件を先に説明した従来例の場合
と同等にする。即ち、実際の液晶駆動用基板に使用され
ている材料の抵抗値を確定すると、透明ガラス基板上に
ITO(インジウム錫酸化物)膜からなる平均厚さ0.
2μmの電極を形成した場合に、Ro=2220Ω(Ro
=R12)、R3=780Ω、RG=0(無視できる程度
小さい)とし、測定電流をi=1.7mAとする。する
と、ショートを生じていない場合は、式(5)の関係か
ら、測定電圧は、V=5.1Vとなる。また、ショート
判定基準も従来と同様に3.4V以下とする。 以上の
条件でショートを生じている配線電極を測定した場合の
測定電圧を図5に示す。
Next, the preconditions are made equal to those in the case of the conventional example described above. That is, when the resistance value of the material used for the actual liquid crystal driving substrate is determined, the average thickness of the ITO (indium tin oxide) film on the transparent glass substrate is 0.1.
When a 2 μm electrode is formed, R o = 2220 Ω (R o
= R 1 + 2), R 3 = is 780Ω, R G = 0 and (small enough to be ignored), the measured current and i = 1.7 mA. Then, when no short circuit occurs, the measured voltage becomes V = 5.1V from the relationship of the equation (5). Also, the short-circuit judgment standard is set to 3.4 V or less as in the conventional case. FIG. 5 shows the measured voltage when the wiring electrode having the short circuit is measured under the above conditions.

【0045】図5に示す測定結果と図21に示す従来の
測定結果を比較すると明らかなように、本発明に係る装
置と方法を用いて測定することにより、ショート検出可
能な領域が拡がり、電極配線部分はほとんど全の領域で
ショート検出できるようになった。
As is clear from the comparison between the measurement results shown in FIG. 5 and the conventional measurement results shown in FIG. 21, by using the apparatus and method according to the present invention, the area where the short circuit can be detected expands, The wiring part can detect short circuits in almost all areas.

【0046】図1に示す第1番目の電極配線10と第2
番目の電極配線10の検査を終了したならば、次は、第
3番目と第4番目の電極配線を前述と同様の方法で検査
し、それが終了したならば、順次電極配線10・・・を検
査してゆけば、図1に示す電極配線10・・・を全て検査
することができる。この場合においても2本ずつ電極配
線10を検査できるので1本ずつ検査する必要のあった
従来装置よりも効率よく検査できる。また、前記のよう
に隣接する電流源の極性を逆にすることで本発明の特徴
が有効になり、ショート検出感度が前述の如く向上する
が、同じ極性の電流源を並べただけでは従来の装置と検
出感度は同等になってしまう。
The first electrode wiring 10 and the second electrode wiring 10 shown in FIG.
If the inspection of the third electrode wiring 10 is completed, next, the third and fourth electrode wirings are inspected by the same method as described above. Can be inspected, all the electrode wirings 10 shown in FIG. 1 can be inspected. In this case as well, the electrode wirings 10 can be inspected two by two, so that the inspection can be performed more efficiently than in the conventional device that had to inspect one by one. Further, as described above, the characteristics of the present invention are made effective by reversing the polarities of the adjacent current sources, and the short-circuit detection sensitivity is improved as described above. The detection sensitivity becomes equal to that of the device.

【0047】図6は本発明に係る検査装置の第2実施例
を示すもので、この第2実施例の装置は、図2を基に先
に説明した第1実施例の装置の第4プローブ端子18と
第2電圧計22を省略して構成したものである。その他
の構成は先に説明した第1実施例の装置と同等である。
この第2実施例の装置を用い、第1プローブ端子15を
ガードリング12に当接し、第2プローブ端子16を1
つの電極配線10に、第3プローブ端子17を他の電極
配線10にそれぞれ当接させ、前記第1実施例と同様に
第1電流源21と第2電流源23から電極配線10、1
0に逆極性の電流を流し、第1電圧計20で電圧を測定
することによって先の実施例と同等の精度でショート検
出ができる。この第2実施例の装置ではプローブ端子と
電圧計を先の第1実施例の装置よりもいずれも1つずつ
少なくできるので、その分、検査装置の小型化、軽量化
ができる。
FIG. 6 shows a second embodiment of the inspection apparatus according to the present invention. The apparatus of the second embodiment is the fourth probe of the apparatus of the first embodiment described above with reference to FIG. The terminal 18 and the second voltmeter 22 are omitted. Other configurations are the same as those of the device of the first embodiment described above.
Using the device of the second embodiment, the first probe terminal 15 is brought into contact with the guard ring 12 and the second probe terminal 16 is
The third probe terminal 17 is brought into contact with one of the electrode wirings 10 and the other electrode wirings 10, respectively, and the electrode wirings 10 and 1 are connected from the first current source 21 and the second current source 23 in the same manner as in the first embodiment.
By applying a current of reverse polarity to 0 and measuring the voltage with the first voltmeter 20, it is possible to detect a short circuit with the same accuracy as in the previous embodiment. In the device of the second embodiment, the probe terminals and the voltmeter can be reduced by one each as compared with the device of the first embodiment, so that the size and weight of the inspection device can be reduced accordingly.

【0048】なお、これまで説明した第1実施例と第2
実施例の装置においては、一度に2本の電極配線10を
検査できるように構成されているが、縦側に並ぶ4本あ
るいはそれ以上の本数の電極配線を一度に検査できるよ
うに、第1実施例の装置あるいは第2実施例の装置を複
数並設して1つの検査装置を構成しても良い。即ち、図
2または図6に示す装置を複数並列して設け、数回、あ
るいは1回で全ての電極配線10・・・の検査を終了でき
るように構成しても良い。このような構成は、被測定用
配線10を形成した基板の上方に充分な検査スペースを
確保できるような場合に特に有効である。また、先の第
1実施例と第2実施例で検査した被測定用配線K1は、
短冊型の電極配線10・・・を2列に並べた配置形状にな
っているが、1本の短冊型電極を1列に並設した配置構
成の単純マトリックス型液晶基板を検査用に用いても良
いのは勿論である。
The first embodiment and the second embodiment described above
Although the apparatus of the embodiment is configured to be able to inspect two electrode wirings 10 at a time, the first electrode wiring can be inspected at a time so that four or more electrode wirings arranged vertically can be inspected at one time. A plurality of the apparatus of the embodiment or the apparatus of the second embodiment may be arranged in parallel to form one inspection apparatus. That is, a plurality of devices shown in FIG. 2 or FIG. 6 may be provided in parallel so that the inspection of all the electrode wirings 10 ... Can be completed several times or once. Such a configuration is particularly effective when a sufficient inspection space can be secured above the substrate on which the measured wiring 10 is formed. In addition, the wiring to be measured K 1 tested in the first and second embodiments is
Although the strip-shaped electrode wirings 10 ... Are arranged in two rows, a simple matrix type liquid crystal substrate in which one strip-shaped electrode is arranged in one row is used for inspection. Of course, it is also good.

【0049】図7は上下左右に並ぶ4本の電極配線10
を一度に検査できるように構成した本発明に係る第3実
施例の検査装置を示す。この第3実施例の装置では、第
1実施例の検査装置を左右に並設した構成になってい
る。即ち、この例の装置は、第1実施例の装置と同一構
成の部分に加え、ガードリング12に接続する第5プロ
ーブ端子25および電極配線10に接続する第6プロー
ブ端子26と、電極配線10に接続する第7プローブ端
子27およびガードリング12に接続する第8プローブ
端子28を具備している。更に、第5プローブ端子25
と第6プローブ端子26の間の電圧を測定する第3電圧
計30と、第7プローブ端子27と第8プローブ端子2
8との間の電圧を測定する第4電圧計32と、第6プロ
ーブ端子26に接続されて接地された第3電流源31
と、第7プローブ端子27に接続されて接地された第4
電流源33を具備して構成されている。
FIG. 7 shows four electrode wirings 10 arranged vertically and horizontally.
3 shows an inspection apparatus according to a third embodiment of the present invention, which is configured to inspect all at once. In the apparatus of the third embodiment, the inspection apparatus of the first embodiment is arranged side by side. That is, the device of this example has the same configuration as that of the device of the first embodiment, plus the fifth probe terminal 25 connected to the guard ring 12, the sixth probe terminal 26 connected to the electrode wiring 10, and the electrode wiring 10. And a seventh probe terminal 27 connected to the guard ring 12 and an eighth probe terminal 28 connected to the guard ring 12. Furthermore, the fifth probe terminal 25
A third voltmeter 30 for measuring a voltage between the second probe terminal 26 and the sixth probe terminal 26, and a seventh probe terminal 27 and an eighth probe terminal 2
And a fourth voltmeter 32 for measuring the voltage between the second and the third current source 31 connected to the sixth probe terminal 26 and grounded.
And a fourth terminal connected to the seventh probe terminal 27 and grounded.
It is configured to include a current source 33.

【0050】この例の装置の場合は、第1電流源21と
第3電流源31の極性が逆で、第2電流源23と第4電
流源33の極性が逆であることを必要とする。また、第
1電流源21と第2電流源23の関係、および、第3電
流源31と第4電流源33の関係においても電流が流れ
込むか、流れ出るかの関係について見れば逆の極性にな
っている。
In the case of the device of this example, it is necessary that the first current source 21 and the third current source 31 have opposite polarities, and the second current source 23 and the fourth current source 33 have opposite polarities. . Also, regarding the relationship between the first current source 21 and the second current source 23, and the relationship between the third current source 31 and the fourth current source 33, the polarities are opposite when the current flows in or out. ing.

【0051】この第3実施例の装置においても先に説明
した第1実施例の装置と同様に使用してショートの有無
を検査する。ただしこの第3実施例においては、上下の
電極配線10、10間のショート欠陥を検出できること
は勿論、左右に配置された電極配線10、10間の短絡
欠陥、および、斜めに配置されている電極配線10、1
0のショート欠陥も検出することができる。
The device of the third embodiment is also used in the same manner as the device of the first embodiment described above to inspect for the presence of a short circuit. However, in the third embodiment, it is of course possible to detect a short-circuit defect between the upper and lower electrode wirings 10, 10 and, of course, a short-circuit defect between the electrode wirings 10, 10 arranged on the left and right and electrodes arranged obliquely. Wiring 10, 1
A short defect of 0 can also be detected.

【0052】図8と図9と図10は本発明の検査装置を
薄膜トランジスタアレイ基板の検査に用いる場合の第1
の例について説明するためのものである。薄膜トランジ
スタアレイ基板は、透明基板40上に縦側のソース配線
(被測定用配線)41・・・と横側のゲート配線(被測定
用配線)42・・・がマトリックス状に配線され、更にソ
ース配線41とゲート配線42の交差部分にスイッチン
グ素子を構成する薄膜トランジスタ43が設けられて構
成されている。この薄膜トランジスタ43は、ゲート配
線42に接続されたゲート電極45とソース配線41に
接続されたソース電極46と容量としての液晶素子47
に接続されたドレイン電極48を備えて構成され、図8
においてはこれらを等価回路的に示している。
FIG. 8, FIG. 9 and FIG. 10 show the first example when the inspection apparatus of the present invention is used for the inspection of the thin film transistor array substrate.
For explaining the example of. In the thin film transistor array substrate, source wirings (wirings to be measured) 41 on the vertical side and gate wirings (wirings to be measured) 42 on the horizontal side are wired in a matrix on a transparent substrate 40, and the source is further arranged. A thin film transistor 43 forming a switching element is provided at the intersection of the wiring 41 and the gate wiring 42. The thin film transistor 43 includes a gate electrode 45 connected to the gate line 42, a source electrode 46 connected to the source line 41, and a liquid crystal element 47 as a capacitor.
8 with a drain electrode 48 connected to
In these, these are shown in an equivalent circuit.

【0053】この例においても、ソース配線41とゲー
ト配線42の外周側にはガードリング(保護用短絡電
極)50が設けられ、各ソース配線41と各ゲート配線
42はそれぞれ引出配線51によりガードリング50に
接続されて短絡されている。なお、この例ではソース配
線41の一端のみがガードリング50に接続され、他端
がフローティングパッド41aでフローティングされる
とともに、ゲート配線42の一端のみがガードリング5
0に接続され、他端がフローティングパッド42aでフ
ローティングされている。
Also in this example, a guard ring (protective short-circuit electrode) 50 is provided on the outer peripheral side of the source wiring 41 and the gate wiring 42, and each source wiring 41 and each gate wiring 42 is connected to the guard ring by a lead wiring 51. It is connected to 50 and short-circuited. In this example, only one end of the source line 41 is connected to the guard ring 50, the other end is floated by the floating pad 41a, and only one end of the gate line 42 is connected to the guard ring 5.
0 and the other end is floated by the floating pad 42a.

【0054】この例で示す薄膜トランジスタアレイ基板
のゲート配線42・・・を検査する場合は、図2に示す第
1実施例の装置をそのまま使用し、第1プローブ端子1
5と第4プローブ端子18を検査しようとするゲート配
線42、42の左側のガードリング50に当接し、第2
プローブ端子16と第3プローブ端子17をゲート配線
42、42のフローティングパッド42aに当接すれば
良い。この接続状態と各部分の抵抗を図9に示す。そし
て、先に説明した第1実施例の場合と同等の方法を実施
し、第1プローブ端子15と第2プローブ端子16の間
の電圧を測定し、第3プローブ端子17と第4プローブ
端子18の間の電圧を測定することでゲート配線42、
42間のショートの有無を検査することができる。
When inspecting the gate wirings 42 ... Of the thin film transistor array substrate shown in this example, the device of the first embodiment shown in FIG.
5 and the fourth probe terminal 18 are in contact with the guard ring 50 on the left side of the gate wirings 42, 42 to be inspected,
The probe terminal 16 and the third probe terminal 17 may be brought into contact with the floating pads 42a of the gate wirings 42, 42. This connection state and the resistance of each part are shown in FIG. Then, a method similar to that of the first embodiment described above is carried out, the voltage between the first probe terminal 15 and the second probe terminal 16 is measured, and the third probe terminal 17 and the fourth probe terminal 18 are measured. By measuring the voltage between the gate wiring 42,
The presence or absence of a short circuit between 42 can be inspected.

【0055】また、この例で示す薄膜トランジスタアレ
イ基板のソース配線を検査する場合は、図2に示す第1
実施例の装置をそのまま使用し、第1プローブ端子15
と第4プローブ端子18を検査しようとするソース配線
41、41の上方のガードリング50に当接し、第2プ
ローブ端子16と第3プローブ端子17をソース配線4
1、41のフローティングパッド41aに当接すれば良
い。この接続状態と各部分の抵抗を図10に示す。そし
て、先に説明した第1実施例の場合と同等の方法を実施
することでソース配線41、41間のショートの有無を
検査することができる。
When inspecting the source wiring of the thin film transistor array substrate shown in this example, the first wiring shown in FIG.
Using the apparatus of the embodiment as it is, the first probe terminal 15
And the fourth probe terminal 18 are in contact with the source wires 41, 41 above the guard ring 50 to be inspected, and the second probe terminal 16 and the third probe terminal 17 are connected to the source wire 4
It suffices to contact the floating pads 41a of Nos. 1 and 41. This connection state and the resistance of each part are shown in FIG. Then, it is possible to inspect whether or not there is a short circuit between the source wirings 41, 41 by implementing a method similar to that of the first embodiment described above.

【0056】次に、図8に示す薄膜トランジスタアレイ
基板の2本のソース配線と2本のゲート配線を一度に検
査する場合は、図7に示す第3実施例の装置を用い、図
8のCOM1の位置に第1プローブ端子15をO1の位置
に第2プローブ端子16をO2の位置に第3プローブ端
子17をCOM2の位置に第4プローブ端子18をそれ
ぞれ当接させるとともに、COM3の位置に第5プロー
ブ25をO3の位置に第6プローブ端子26をO4の位置
に第7プローブ端子27をCOM4の位置に第8プロー
ブ端子28をそれぞれ当接させる。この状態から、前記
第3実施例の場合と同様に電流を印可して各電圧計の値
を見ることで、一度に2本のソース配線と2本のゲート
配線、即ち、合計4本の被測定用配線を検査することが
できる。
Next, when the two source wirings and the two gate wirings of the thin film transistor array substrate shown in FIG. 8 are inspected at once, the apparatus of the third embodiment shown in FIG. 7 is used and the COM of FIG. a first probe terminal 15 with the second probe terminal 16 to respectively abut the fourth probe terminal 18 of the third probe terminal 17 to the position of the COM 2 to the position of the O 2 to the position of O 1 to 1 position, COM each fifth probe 25 to the position of the O 3 to 3 positions the seventh probe terminal 27 a sixth probe terminal 26 to the position of the O 4 to the position of the COM 4 eighth probe terminal 28 is brought into contact. From this state, as in the case of the third embodiment, by applying a current and observing the value of each voltmeter, two source wirings and two gate wirings at a time, that is, a total of four wirings are covered. The measurement wiring can be inspected.

【0057】図11は本発明の検査装置を薄膜トランジ
スタアレイ基板の検査に用いる場合の第2の例について
説明するためのものである。この例の薄膜トランジスタ
アレイ基板においては、透明基板上にマトリックス状に
ソース配線61・・・とゲート配線62・・・が形成され、そ
れらの周囲にガードリング70が設けられている。ソー
ス配線61とゲート配線62の交差部分には先の例と同
等の構成の薄膜トランジスタ43が設けられている。こ
の例の薄膜トランジスタアレイ基板の回路においては、
ソース配線61の一端がガードリング70に接続され、
他端がフローティングパッド61aでフローティングさ
れているとともに、ゲート配線62の一端がガードリン
グ70に接続され、他端がフローティングパッド62a
でフローティングされている。
FIG. 11 is for explaining a second example in which the inspection apparatus of the present invention is used to inspect a thin film transistor array substrate. In the thin film transistor array substrate of this example, source wirings 61 ... And gate wirings 62 ... Are formed in a matrix on a transparent substrate, and a guard ring 70 is provided around them. A thin film transistor 43 having the same configuration as the previous example is provided at the intersection of the source wiring 61 and the gate wiring 62. In the circuit of the thin film transistor array substrate of this example,
One end of the source wiring 61 is connected to the guard ring 70,
The other end is floating by the floating pad 61a, one end of the gate wiring 62 is connected to the guard ring 70, and the other end is the floating pad 62a.
It is floating in.

【0058】この例の薄膜トランジスタアレイ基板のゲ
ート配線62、62を第1実施例の検査装置で検査する
には、第1プローブ端子15を検査するべき1つのゲー
ト配線62の横のガードリング70に当接させ、第2プ
ローブ端子16をそのゲート配線62の他端、即ち、フ
ローティングパッド62aに当接させる。また、第4プ
ローブ端子18を2つめのゲート配線62の接続された
部分のガードリング70に当接させるとともに、第3プ
ローブ端子17を2つめのゲート配線62の他端、即
ち、フローティングパッド62aに当接させる。そし
て、先の例で説明した場合と同様に電流源から所定の電
流を流して電圧計の値を読み取ることによってゲート配
線62、62のショートの有無を検査することができ
る。
In order to inspect the gate wirings 62, 62 of the thin film transistor array substrate of this example by the inspection apparatus of the first embodiment, the first probe terminal 15 is placed on the guard ring 70 beside one gate wiring 62 to be inspected. The second probe terminal 16 is brought into contact with the other end of the gate wiring 62, that is, the floating pad 62a. Further, the fourth probe terminal 18 is brought into contact with the guard ring 70 at the portion where the second gate wiring 62 is connected, and the third probe terminal 17 is connected to the other end of the second gate wiring 62, that is, the floating pad 62a. Abut. Then, similarly to the case described in the previous example, by passing a predetermined current from the current source and reading the value of the voltmeter, it is possible to inspect whether or not the gate wirings 62, 62 are short-circuited.

【0059】また、ソース配線61、61の検査を行う
には、第1プローブ端子15を検査するべき1つのソー
ス配線61の接続されたガードリング70に当接させ、
第2プローブ端子16をそのソース配線61の他端、即
ち、フローティングパッド61aに当接させる。また、
第4プローブ端子18を2つめのソース配線61の接続
された部分のガードリング70に当接させるとともに、
第3プローブ端子17を2つめのソース配線61の他
端、即ち、フローティングパッド61aに当接させる。
そして、先の例で説明した場合と同様に電流源から所定
の電流を流して電圧計の値を読み取ることによってゲー
ト配線61、61のショートの有無を検査できる。
To inspect the source wirings 61, 61, the first probe terminal 15 is brought into contact with the guard ring 70 connected to one source wiring 61 to be inspected,
The second probe terminal 16 is brought into contact with the other end of the source wiring 61, that is, the floating pad 61a. Also,
The fourth probe terminal 18 is brought into contact with the guard ring 70 of the portion to which the second source wiring 61 is connected,
The third probe terminal 17 is brought into contact with the other end of the second source wiring 61, that is, the floating pad 61a.
Then, in the same manner as in the case described in the previous example, by passing a predetermined current from the current source and reading the value of the voltmeter, it is possible to inspect whether or not the gate wirings 61, 61 are short-circuited.

【0060】次に、図11に示す薄膜トランジスタアレ
イ基板の2本のソース配線と2本のゲート配線を一度に
検査する場合は、図7に示す第3実施例の装置を用い、
図11のCOM1の位置に第1プローブ端子15をO1
位置に第2プローブ端子16をO2の位置に第3プロー
ブ端子17をCOM2の位置に第4プローブ端子18を
それぞれ当接させるとともに、COM3の位置に第5プ
ローブ25をO3の位置に第6プローブ端子26をO4
位置に第7プローブ端子27をCOM4の位置に第8プ
ローブ端子28をそれぞれ当接させる。この状態から、
前記第3実施例の場合と同様に電流を印可して各電圧計
の値を見ることで、一度に2本のソース配線と2本のゲ
ート配線、即ち、合計4本の被測定用配線を検査するこ
とができる。
Next, when the two source wirings and the two gate wirings of the thin film transistor array substrate shown in FIG. 11 are inspected at the same time, the apparatus of the third embodiment shown in FIG. 7 is used.
Each abutting the fourth probe terminal 18 and the second probe terminal 16 a first probe terminal 15 to the position of the COM 1 in the position of O 1 the third probe terminal 17 to the position of the O 2 to the position of the COM 2 of FIG. 11 At the same time, the fifth probe 25 is brought into contact with the position of COM 3 , the sixth probe terminal 26 is brought into contact with the position of O 3 , the seventh probe terminal 27 is brought into contact with the position of O 4 , and the eighth probe terminal 28 is brought into contact with it in the position of COM 4 . . From this state,
As in the case of the third embodiment, by applying a current and observing the value of each voltmeter, two source wirings and two gate wirings at a time, that is, a total of four wirings to be measured are measured. Can be inspected.

【0061】図12は上下左右に並ぶ4本の電極配線1
0を一度に検査できるように構成した本発明に係る第4
実施例の検査装置を示す。この第4実施例の装置では、
図7を基に説明した前記第3実施例の検査装置を簡略化
した構成になっている。即ち、この例の装置は、左右に
2列、かつ、上下方向に複数配設された短冊状の電極配
線10・・・に対し、測定しようとする図12に示す4本
の電極配線10・・・のうちの左上側の第1番目の電極配
線の右端部(短絡されていない側の端部)に当接される
第2プローブ端子16と、左下側の第2番目の電極配線
10の右端部(短絡されていない側の端部)に当接され
る第3プローブ端子17と、右上側の第3番目の電極配
線の左端部(短絡されていない側の端部)に当接される
第6プローブ端子16と、右下側の第4番目の電極配線
10の左端部(短絡されていない側の端部)に当接され
る第7プローブ端子27と、左下側の第2番目の電極配
線10の右端部と左端部の間の電圧を測定する電圧計
(電圧測定手段)80を具備して構成されている。
FIG. 12 shows four electrode wirings 1 arranged vertically and horizontally.
Fourth according to the present invention configured so that 0 can be inspected at once
The inspection apparatus of an Example is shown. In the device of the fourth embodiment,
The inspection apparatus of the third embodiment described with reference to FIG. 7 has a simplified configuration. That is, in the device of this example, four electrode wirings 10 shown in FIG. 12 to be measured are measured with respect to strip-shaped electrode wirings 10 ... .. of the second probe terminal 16 that is in contact with the right end portion (the end portion on the side that is not short-circuited) of the first electrode wiring on the upper left side, and the second electrode wiring 10 on the lower left side The third probe terminal 17 that is in contact with the right end (the end that is not short-circuited) and the left end (the end that is not short-circuited) of the third electrode wiring on the upper right 6th probe terminal 16 that contacts the lower end of the fourth electrode wiring 10 on the lower right side (the end on the side that is not short-circuited), and the second lower left side And a voltmeter (voltage measuring means) 80 for measuring the voltage between the right end and the left end of the electrode wiring 10. To have.

【0062】また、第2プローブ端子16に接続されて
設置された第1電流源21と、第3プローブ端子17に
接続されて設置された第2電流源23と、第6プローブ
端子26に接続されて接地された第3電流源31と、第
7プローブ端子27に接続されて接地された第4電流源
33を具備して構成されている。この例の装置の場合
は、第1電流源21と第3電流源31の極性が逆で、第
2電流源23と第4電流源33の極性が逆であることを
必要とする。また、第1電流源21と第2電流源23の
関係、および、第3電流源31と第4電流源33の関係
においても電流が流れ込むか、流れ出るかの関係につい
て見れば逆の極性になっている。なお、この実施例では
電圧計80を図12の左下側の第2番目の電極配線10
の両端部に接続したが、電圧計80は第1番目、第2番
目あるいは第4番目の電極配線10のいずれか1つに接
続しても差し支えないし、2つ以上、例えば、全部に配
置しても差し支えない。なおまた、図12に示す構成に
おいて、右側で上下に隣接された電極配線10・・・どう
し、あるいは、左側で上下に隣接された電極配線10・・
・どうしは、接地されていても、接地されていなくとも
良く、いずれの場合においても検査が可能である。
Further, the first current source 21 connected to the second probe terminal 16 and installed, the second current source 23 connected to the third probe terminal 17 and installed, and the sixth probe terminal 26 are connected. The third current source 31 is connected to the ground and the fourth current source 33 is connected to the seventh probe terminal 27 and grounded. In the case of the device of this example, it is necessary that the first current source 21 and the third current source 31 have opposite polarities and the second current source 23 and the fourth current source 33 have opposite polarities. Also, regarding the relationship between the first current source 21 and the second current source 23, and the relationship between the third current source 31 and the fourth current source 33, the polarities are opposite when the current flows in or out. ing. In this embodiment, the voltmeter 80 is used as the second electrode wiring 10 on the lower left side of FIG.
However, the voltmeter 80 may be connected to any one of the first, second, or fourth electrode wirings 10, and two or more, for example, all of them may be arranged. It doesn't matter. In the configuration shown in FIG. 12, the electrode wirings 10 vertically adjacent to each other on the right side ... Or the electrode wirings 10 vertically adjacent to each other on the left side.
・ They can be grounded or not grounded, and inspection is possible in any case.

【0063】この第4実施例の装置においても先に説明
した第3実施例の装置と同様に使用してショート欠陥の
有無を検査することができる。この第4実施例の装置に
おいては、上下に配置された電極配線10、10間のシ
ョート欠陥を検出できることは勿論、左右に配置された
電極配線10、10間の短絡欠陥、および、斜めに配置
されている電極配線10、10どうしの間のショート欠
陥も検出することができる。
The apparatus of the fourth embodiment can also be used in the same manner as the apparatus of the third embodiment described above to inspect for the presence of a short circuit defect. In the device of the fourth embodiment, it is possible to detect short-circuit defects between the electrode wirings 10 and 10 arranged vertically, and of course, short-circuit defects between the electrode wirings 10 and 10 arranged on the left and right and diagonal arrangement. It is also possible to detect a short-circuit defect between the electrode wirings 10 and 10 that are connected.

【0064】図13は本発明に係る検査装置の第5実施
例を示すもので、この実施例の装置は、 前記第4実施
例の装置における電圧計の位置を変更したものである。
この例のように第2電流源23の両端側の電圧を計測す
る電圧計(電圧測定手段)81を配置することによって
も先の実施例と同様に電極配線10・・・の短絡欠陥を測
定することができる。なお、この例の構成では電極配線
10・・・が接地されていることが好ましい。また、電圧
計81の接続位置は、図のように第2電流源23の両端
部でなくとも良く、第1電流源21の両端部、第3電流
源31の両端部、第4電流源33の両端部のいずれでも
良いし、これらの2つ以上、例えば、全てにそれぞれ電
圧計を設けても良い。
FIG. 13 shows a fifth embodiment of the inspection apparatus according to the present invention. In the apparatus of this embodiment, the position of the voltmeter in the apparatus of the fourth embodiment is changed.
By disposing the voltmeter (voltage measuring means) 81 for measuring the voltage on both ends of the second current source 23 as in this example, the short circuit defect of the electrode wirings 10 ... Is measured similarly to the previous embodiment. can do. In the configuration of this example, it is preferable that the electrode wirings 10 ... Are grounded. Further, the connection position of the voltmeter 81 does not have to be at both ends of the second current source 23 as shown in the figure, but both ends of the first current source 21, both ends of the third current source 31, and the fourth current source 33. Both ends may be provided, or two or more, for example, all of them may be provided with voltmeters.

【0065】図14は上下に並んで設けられた4本の電
極配線10’であって、先の実施例の電極配線10・・・
と短絡位置が異なるように配置された電極配線10’を
4本一度に検査できるように構成した本発明に係る第6
実施例の検査装置を示す。この第6実施例の装置では、
図12を基に先に説明した第4実施例の検査装置に類似
した構成になっている。
FIG. 14 shows four electrode wirings 10 'arranged vertically side by side, and the electrode wirings 10 ... In the previous embodiment.
According to a sixth aspect of the present invention, which is configured to inspect four electrode wirings 10 ′ arranged so that the short circuit position is different from
The inspection apparatus of an Example is shown. In the device of the sixth embodiment,
The structure is similar to that of the inspection device according to the fourth embodiment described above with reference to FIG.

【0066】この例の装置は、上下方向に並ぶ配線1
0’・・・において、1本おきの電極配線10’がそれぞ
れ右側か左側で短絡されてなる電極配線10’・・・を検
査する構成であり、図14の上から第1番目の電極配線
10’と第3番目の電極配線10’が図の左端部側で短
絡され、第2番目の電極配線10’と第4番目の電極配
線10’が図の右側で短絡されている電極配線構成に対
して設けられている。即ち、この例の装置は、第2番目
の電極配線10’の左端部(短絡されていない側の端
部)に接続される第2プローブ端子16と、第4番目の
電極配線10’の左端部(短絡されていない側の端部)
に接続される第3プローブ端子17と、第1番目の電極
配線10’の右端部(短絡されていない側の端部)に接
続される第6プローブ端子26と、第3番目の電極配線
10’の右端部(短絡されていない側の端部)に接続さ
れる第7プローブ端子27とを具備し、更に第4番目の
電極配線10’の右端部と左端部の間の電圧を測定する
電圧計(電圧測定手段)90を具備して構成されてい
る。
In the device of this example, the wiring 1 arranged in the vertical direction is used.
0 '... is configured to inspect the electrode wiring 10', which is obtained by short-circuiting every other electrode wiring 10 'on the right side or the left side, and is the first electrode wiring from the top of FIG. 10 'and the third electrode wiring 10' are short-circuited on the left end side of the drawing, and the second electrode wiring 10 'and the fourth electrode wiring 10' are short-circuited on the right side of the drawing. Is provided for. That is, in the device of this example, the second probe terminal 16 connected to the left end portion (the end portion on the non-short-circuited side) of the second electrode wiring 10 ′ and the left end of the fourth electrode wiring 10 ′. Part (end not short-circuited)
To the third probe terminal 17, the sixth probe terminal 26 connected to the right end portion (the end portion on the side not short-circuited) of the first electrode wiring 10 ′, and the third electrode wiring 10 And a seventh probe terminal 27 connected to the right end portion (the end portion on the non-short-circuited side) of the fourth electrode wiring 10 ', and the voltage between the right end portion and the left end portion of the fourth electrode wiring 10' is measured. A voltmeter (voltage measuring means) 90 is provided.

【0067】また、第2プローブ端子16に接続されて
設置された第1電流源21と、第3プローブ端子17に
接続されて設置された第2電流源23と、第6プローブ
端子26に接続されて接地された第3電流源31と、第
7プローブ端子27に接続されて接地された第4電流源
33を具備して構成されている。この例の装置の場合
は、第1電流源21と第3電流源31の極性が逆で、第
2電流源23と第4電流源33の極性が逆であることを
必要とする。また、第1電流源21と第2電流源23の
関係、および、第3電流源31と第4電流源33の関係
においても電流が流れ込むか、流れ出るかの関係につい
て見れば逆の極性になっている。
Further, the first current source 21 connected to the second probe terminal 16 is installed, the second current source 23 connected to the third probe terminal 17 is installed, and the sixth probe terminal 26 is connected. The third current source 31 is connected to the ground and the fourth current source 33 is connected to the seventh probe terminal 27 and grounded. In the case of the device of this example, it is necessary that the first current source 21 and the third current source 31 have opposite polarities and the second current source 23 and the fourth current source 33 have opposite polarities. Also, regarding the relationship between the first current source 21 and the second current source 23, and the relationship between the third current source 31 and the fourth current source 33, the polarities are opposite when the current flows in or out. ing.

【0068】なお、この実施例では電圧計90を図12
の左下側の第2番目の電極配線10の両端部に接続した
が、電圧計90は第1番目、第2番目あるいは第4番目
の電極配線10のいずれか1つに接続しても差し支えな
いし、2つ以上、例えば、全部に配置しても差し支えな
い。なおまた、図12に示す構成において、右側で上下
に隣接された電極配線10・・・どうし、あるいは、左側
で上下に隣接された電極配線10・・・どうしは、接地さ
れていても、接地されていなくとも良く、いずれの場合
においても検査が可能である。
In this embodiment, the voltmeter 90 is shown in FIG.
Although it is connected to both ends of the second electrode wiring 10 on the lower left side of the above, the voltmeter 90 may be connected to any one of the first, second, or fourth electrode wirings 10. Two or more, for example, all may be arranged. In addition, in the configuration shown in FIG. 12, the electrode wirings 10 ... Which are vertically adjacent to each other on the right side or the electrode wirings 10 that are vertically adjacent to each other on the left side are grounded even if they are grounded. It does not have to be performed, and inspection is possible in any case.

【0069】この第6実施例の装置においても先に説明
した第4実施例の装置と同様に使用してショート欠陥の
有無を検査することができる。この第6実施例の装置に
おいては、上下に配置された電極配線10、10間のシ
ョート欠陥を検出できることは勿論、左右に配置された
電極配線10、10間の短絡欠陥、および、斜めに配置
されている電極配線10、10どうしの間のショート欠
陥も検出することができる。
The apparatus of the sixth embodiment can also be used in the same manner as the apparatus of the fourth embodiment described above to inspect for the presence or absence of a short circuit defect. In the device of the sixth embodiment, it is of course possible to detect a short circuit defect between the electrode wirings 10 and 10 arranged on the upper and lower sides, and of course, a short circuit defect between the electrode wirings 10 and 10 arranged on the left and right and a diagonal arrangement. It is also possible to detect a short-circuit defect between the electrode wirings 10 and 10 that are connected.

【0070】図15は本発明に係る検査装置の第7実施
例を示すもので、この実施例の装置は、 前記第6実施
例の装置における電圧計の位置を変更したものである。
この例のように第2電流源23の両端側の電圧を計測す
る電圧計(電圧測定手段)91を配置することによって
も先の実施例と同様に電極配線10・・・の短絡欠陥を測
定することができる。なお、この例の構成では電極配線
10・・・が接地されていることが好ましい。また、電圧
計91の接続位置は、図のように第2電流源23の両端
部でなくとも良く、第1電流源21の両端部、第3電流
源31の両端部、第4電流源33の両端部のいずれでも
良いし、これらの2つ以上、例えば、全てにそれぞれ電
圧計を設けても良い。
FIG. 15 shows a seventh embodiment of the inspection apparatus according to the present invention. In the apparatus of this embodiment, the position of the voltmeter in the apparatus of the sixth embodiment is changed.
By disposing the voltmeter (voltage measuring means) 91 for measuring the voltage on both ends of the second current source 23 as in this example, the short circuit defect of the electrode wirings 10 ... Is measured similarly to the previous embodiment. can do. In the configuration of this example, it is preferable that the electrode wirings 10 ... Are grounded. Further, the connection position of the voltmeter 91 does not have to be at both ends of the second current source 23 as shown in the figure, but both ends of the first current source 21, both ends of the third current source 31, and the fourth current source 33. Both ends may be provided, or two or more, for example, all of them may be provided with voltmeters.

【0071】[0071]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、2
つの被測定用配線に同時に逆極性の電流を流し、2つの
被測定用配線の間にショートが生じていた場合に生じる
抵抗変化に起因する電圧の変化を読み取ることでショー
ト欠陥の検査ができる。この場合、短絡抵抗が小さいも
のは勿論、短絡抵抗の大きな欠陥であっても容易に検知
することができる。従って検査精度が向上する。更に、
同時に2つの被測定用配線を検査することができるの
で、1つずつ配線を検査していた従来装置よりも検査効
率が向上する。また、被測定用配線あるいは短絡用配線
に接続する第1〜第3プローブ端子を備えたものは、第
1プローブ端子と第2プローブ端子間の電圧を測定する
ことで被測定用配線のショートを検出でき、第1〜第4
プローブ端子を有するものは、第1プローブ端子と第2
プローブ端子の間の電圧と、第3プローブ端子と第4プ
ローブ端子の間の電圧を測定することで被測定用配線の
ショートの有無を検出できる。
As described above, according to the present invention, 2
A short-circuit defect can be inspected by causing currents of opposite polarities to simultaneously flow through the one wiring to be measured and reading the voltage change due to the resistance change that occurs when a short circuit occurs between the two wirings to be measured. In this case, it is possible to easily detect a defect having a large short circuit resistance as well as a defect having a small short circuit resistance. Therefore, the inspection accuracy is improved. Furthermore,
Since two wirings to be measured can be inspected at the same time, the inspection efficiency is improved as compared with the conventional device in which the wirings are inspected one by one. In addition, the one provided with the first to third probe terminals connected to the wiring for measurement or the wiring for short circuit, the short circuit of the wiring for measurement is made by measuring the voltage between the first probe terminal and the second probe terminal. Can be detected, first to fourth
Those having a probe terminal include a first probe terminal and a second probe terminal.
By measuring the voltage between the probe terminals and the voltage between the third probe terminal and the fourth probe terminal, it is possible to detect the presence or absence of a short circuit in the wiring to be measured.

【0072】本発明に係る検査装置は、被測定用配線が
短冊状の配線である場合に好都合であり、被測定用配線
を引出配線を介して短絡配線に接続している構成に適用
することもできる。更に、被測定用配線が単純マトリッ
クス液晶基板用の電極配線である場合にも適用すること
ができ、被測定用配線がインジウム錫酸化物膜の場合に
も容易に適用できる。また、被測定用配線が、基板上に
少なくとも2列に整列形成され、各列の被測定用配線ど
うしが列ごとに短絡配線により短絡されてなるもの、あ
るいは、被測定用配線が基板上に1列に整列形成され、
被測定用配線が1本おきに1つの短絡配線で短絡され、
残りの1本おきの被測定用配線が他の短絡配線で短絡さ
れてなるものにも適用することができる。
The inspection apparatus according to the present invention is convenient when the wiring to be measured is a strip-shaped wiring, and is applicable to a configuration in which the wiring to be measured is connected to the short-circuit wiring via the lead wiring. You can also Furthermore, the present invention can be applied to the case where the wiring to be measured is an electrode wiring for a simple matrix liquid crystal substrate and can be easily applied to the case where the wiring to be measured is an indium tin oxide film. In addition, the wiring to be measured is formed in at least two rows on the substrate, and the wiring to be measured in each row is short-circuited by the short-circuit wiring for each row, or the wiring to be measured is on the substrate. Formed in line,
Every other wiring under test is short-circuited by one short-circuit wiring,
It can also be applied to the case where the remaining every other measured wiring is short-circuited by another short-circuited wiring.

【0073】また、薄膜トランジスタが基板上に形成さ
れ、ソース配線とゲート配線が形成される薄膜トランジ
スタアレイ基板にも本発明装置あるいは方法を適用する
ことができる。その場合は、基板上に配列されている被
測定用配線のうち、ソース配線あるいはゲート配線を2
本ずつ対で効率良く検査できる。その場合の検査におい
ても先に説明した場合と同様に、ショート抵抗が小さい
ものは勿論、ショート抵抗の大きな欠陥であっても容易
に検知することができる。
The device or method of the present invention can also be applied to a thin film transistor array substrate in which a thin film transistor is formed on a substrate and a source wiring and a gate wiring are formed. In that case, among the wiring under measurement arranged on the substrate, the source wiring or the gate wiring should be 2
You can efficiently inspect each pair of books. Also in the inspection in that case, as in the case described above, it is possible to easily detect not only a defect having a short resistance, but also a defect having a large short resistance.

【0074】次に、第1〜第8プローブ端子を用いて第
1〜第4番目の被測定用配線に当接して検査するなら
ば、一度に4本の被測定用配線を検査できるので測定効
率が更に向上する。しかもこのように検査することで、
第1〜第4番目の被測定用配線どうしの間のショート欠
陥をも検査できるようになるので検査精度を向上させる
ことができる。また、被測定用配線として、液晶素子駆
動用のアクティブマトリックスディスプレイ基板のソー
ス配線とゲート配線のように、基板上に配線が交差状態
で設けられているものに対して本発明装置を適用するこ
とができ、第1〜第3プローブ端子を有するもの、ある
いは、第1〜第4プローブ端子を有するものを適用した
場合は、2本のソース配線ずつ、あるいは、2本のゲー
ト配線ずつを組として検査ができる。更にまた、第1〜
第8プローブ端子を有する装置を用いて同様の基板の検
査を行うならば、2本のソース配線と2本のゲート配線
を同時に組で検査することができ、その場合に2本のソ
ース配線どうしと2本のゲート配線どうしの間でのショ
ート欠陥は勿論、ソース配線とゲート配線間のショート
欠陥を生じていても欠陥検出ができる。
Next, if the first to fourth probe terminals are used to contact and inspect the first to fourth wirings to be measured, it is possible to inspect four wirings to be measured at one time. Efficiency is further improved. Moreover, by inspecting like this,
Since it becomes possible to inspect short-circuit defects between the first to fourth wirings to be measured, the inspection accuracy can be improved. Further, as the wiring to be measured, the device of the present invention is applied to the wiring provided on the substrate in an intersecting state such as the source wiring and the gate wiring of the active matrix display substrate for driving the liquid crystal element. In the case of applying one having the first to third probe terminals or one having the first to fourth probe terminals, two source wirings or two gate wirings are formed as a set. Can be inspected. Furthermore, first to
If a similar board is inspected using a device having an eighth probe terminal, two source wirings and two gate wirings can be inspected at the same time, in which case the two source wirings are It is possible to detect a defect even if a short defect between the source line and the gate line occurs, as well as a short defect between the two gate lines.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係る装置で検査する単純マトリックス
液晶基板の電極配線の一例とプローブ端子の接続位置を
示す平面図である。
FIG. 1 is a plan view showing an example of electrode wiring of a simple matrix liquid crystal substrate to be inspected by an apparatus according to the present invention and connection positions of probe terminals.

【図2】本発明に係る検査装置の第1実施例の要部を示
す回路図である。
FIG. 2 is a circuit diagram showing a main part of a first embodiment of the inspection apparatus according to the present invention.

【図3】ショート欠陥を有し、図2に示す検査装置で検
査される単純マトリックス液晶基板の電極配線の一部分
を各部分の抵抗とともに拡大して示す図である。
3 is a diagram showing a part of electrode wiring of a simple matrix liquid crystal substrate which has a short circuit defect and is inspected by the inspection apparatus shown in FIG.

【図4】図3に示す電極配線を検査している状態におけ
る電流の流れと各部分の抵抗を示す回路図である。
FIG. 4 is a circuit diagram showing a current flow and a resistance of each part in a state where the electrode wiring shown in FIG. 3 is being inspected.

【図5】図2に示す装置で図3に示す電極配線のショー
ト欠陥を検出する際に検出可能な範囲を示す図である。
5 is a diagram showing a detectable range when the apparatus shown in FIG. 2 detects a short circuit defect of the electrode wiring shown in FIG.

【図6】本発明の第2実施例の装置を用いて電極配線の
ショート欠陥を検出している状態を示す回路図である。
FIG. 6 is a circuit diagram showing a state in which a short circuit defect of an electrode wiring is detected by using the device of the second embodiment of the present invention.

【図7】本発明の第3実施例の装置を用いて電極配線の
ショート欠陥を検出している状態を示す構成図である。
FIG. 7 is a configuration diagram showing a state in which a short circuit defect of an electrode wiring is detected using the device of the third embodiment of the present invention.

【図8】本発明の第1実施例の装置で薄膜トランジスタ
アレイ基板を検査する際のプローブ端子の接続位置を示
す説明図である。
FIG. 8 is an explanatory view showing connection positions of probe terminals when inspecting a thin film transistor array substrate in the device of the first embodiment of the present invention.

【図9】図8に示す薄膜トランジスタアレイ基板のゲー
ト配線を検査する際の回路構成を示す図である。
9 is a diagram showing a circuit configuration when inspecting a gate wiring of the thin film transistor array substrate shown in FIG.

【図10】図8に示す薄膜トランジスタアレイ基板のソ
ース配線を検査する際の回路構成を示す構成図である。
10 is a configuration diagram showing a circuit configuration when inspecting the source wiring of the thin film transistor array substrate shown in FIG.

【図11】本発明の第1実施例の装置で薄膜トランジス
タアレイ基板の他の例を検査する際のプローブ端子の接
続位置を示す説明図である。
FIG. 11 is an explanatory diagram showing connection positions of probe terminals when inspecting another example of the thin film transistor array substrate in the device according to the first embodiment of the present invention.

【図12】本発明の第4実施例の装置を用いて電極配線
のショート欠陥を検出している状態を示す構成図であ
る。
FIG. 12 is a configuration diagram showing a state in which a short circuit defect of an electrode wiring is detected by using the device of the fourth embodiment of the present invention.

【図13】本発明の第5実施例の装置を用いて電極配線
のショート欠陥を検出している状態を示す構成図であ
る。
FIG. 13 is a configuration diagram showing a state in which a short circuit defect of an electrode wiring is detected by using the device of the fifth embodiment of the present invention.

【図14】本発明の第6実施例の装置を用いて電極配線
のショート欠陥を検出している状態を示す構成図であ
る。
FIG. 14 is a configuration diagram showing a state in which a short circuit defect of an electrode wiring is detected by using the device of the sixth embodiment of the present invention.

【図15】本発明の第7実施例の装置を用いて電極配線
のショート欠陥を検出している状態を示す構成図であ
る。
FIG. 15 is a configuration diagram showing a state in which a short circuit defect of an electrode wiring is detected by using the device of the seventh embodiment of the present invention.

【図16】従来装置で検査される単純マトリックス液晶
基板の電極配線の構成図である。
FIG. 16 is a configuration diagram of electrode wiring of a simple matrix liquid crystal substrate tested by a conventional device.

【図17】図16に示す電極配線の検査用に用いられて
いる従来の検査装置の一例の要部を示す回路図である。
FIG. 17 is a circuit diagram showing a main part of an example of a conventional inspection apparatus used for inspecting the electrode wiring shown in FIG.

【図18】図17に示す従来の検査装置で検査されるシ
ョート欠陥を含む電極回路の一部と各部分の抵抗を拡大
して示す図である。
FIG. 18 is an enlarged view showing a part of an electrode circuit including a short circuit defect and the resistance of each part inspected by the conventional inspection apparatus shown in FIG.

【図19】ショート欠陥がない状態の電極配線を検査し
た状態を示す構成図である。
FIG. 19 is a configuration diagram showing a state in which the electrode wiring is inspected without a short circuit defect.

【図20】ショート欠陥を生じている電極配線を検査し
ている状態を示す構成図である。
FIG. 20 is a configuration diagram showing a state in which an electrode wiring having a short circuit defect is inspected.

【図21】従来の検査装置で検出可能な領域と検出不可
能な領域を示す図である。
FIG. 21 is a diagram showing an area that can be detected and an area that cannot be detected by a conventional inspection apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

K1 被測定用配線 9 基板 10 電極配線 11 引出配線 12 ガードリング(保護用の短絡配線) 15 第1プローブ端子 16 第2プローブ端子 17 第3プローブ端子 18 第4プローブ端子 20 第1電圧計(第1電圧測定手段) 21 第1電流源 22 第2電圧計(第2電圧測定手段) 23 第2電流源 25 第5プローブ端子 26 第6プローブ端子 27 第7プローブ端子 28 第8プローブ端子 30 第3電圧計(第3電圧測定手段) 31 第3電流源 32 第4電圧計(第4電圧測定手段) 33 第4電流源 40 基板 41、61 ソース配線(被測定用配線) 42、62 ゲート配線(被測定用配線) 43 薄膜トランジスタ 50、70 ガードリング(保護用の短絡配線) 51 引出配線 80、90 電圧計(電圧測定手段) K1 wiring for measurement 9 substrate 10 electrode wiring 11 lead-out wiring 12 guard ring (short-circuit wiring for protection) 15 first probe terminal 16 second probe terminal 17 third probe terminal 18 fourth probe terminal 20 first voltmeter (first 1 voltage measuring means) 21 1st current source 22 2nd voltmeter (2nd voltage measuring means) 23 2nd current source 25 5th probe terminal 26 6th probe terminal 27 7th probe terminal 28 8th probe terminal 30 3rd Voltmeter (third voltage measuring means) 31 Third current source 32 Fourth voltmeter (fourth voltage measuring means) 33 Fourth current source 40 Substrate 41, 61 Source wiring (wiring for measurement) 42, 62 Gate wiring ( Wiring to be measured) 43 Thin film transistor 50, 70 Guard ring (short-circuit wiring for protection) 51 Lead wiring 80, 90 Voltmeter (voltage measuring means)

Claims (24)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板と、この基板上に形成された複数の
被測定用配線と、前記複数の被測定用配線を短絡して基
板上に形成された保護用の短絡配線とを具備してなる配
線基板を検査する検査装置であって、 保護用の短絡配線に接続される第1プローブ端子および
被測定用配線の1つに接続される第2プローブ端子と、
被測定用配線の他の1つに接続される第3プローブ端子
と、前記第1プローブ端子と第2プローブ端子の間の電
圧を測定する第1電圧測定手段と、前記第2プローブ端
子に接続された第1電流源と、前記第3プローブ端子に
接続された第2電流源とを具備してなり、 前記第1電流源と第2電流源の極性を逆にしてなること
を特徴とする配線基板の検査装置。
1. A substrate, a plurality of wirings to be measured formed on the substrate, and a short-circuiting wiring for protection formed on the substrate by short-circuiting the plurality of wirings to be measured. An inspection device for inspecting a wiring board comprising: a first probe terminal connected to a short-circuit wiring for protection; and a second probe terminal connected to one of the measured wirings,
A third probe terminal connected to another one of the wirings to be measured, a first voltage measuring means for measuring a voltage between the first probe terminal and the second probe terminal, and a second probe terminal And a second current source connected to the third probe terminal, wherein the polarities of the first current source and the second current source are reversed. Wiring board inspection device.
【請求項2】 基板と、この基板上に形成された複数の
被測定用配線と、前記複数の被測定用配線を短絡して基
板上に形成された保護用の短絡配線とを具備してなる配
線基板を検査する検査装置であって、 保護用の短絡配線に接続される第1プローブ端子および
被測定用配線の1つに接続される第2プローブ端子と、
被測定用配線の他の1つに接続される第3プローブ端子
および保護用の短絡配線に接続される第4プローブ端子
と、前記第1プローブ端子と第2プローブ端子の間の電
圧を測定する第1電圧測定手段と、前記第3プローブ端
子と第4プローブ端子の間の電圧を測定する第2電圧測
定手段と、前記第2プローブ端子に接続された第1電流
源と、前記第3プローブ端子に接続された第2電流源と
を具備してなり、 前記第1電流源と第2電流源の極性を逆にしてなること
を特徴とする配線基板の検査装置。
2. A substrate, a plurality of wirings to be measured formed on the substrate, and a short-circuiting wiring for protection formed on the substrate by short-circuiting the plurality of wirings to be measured. An inspection device for inspecting a wiring board comprising: a first probe terminal connected to a short-circuit wiring for protection; and a second probe terminal connected to one of the measured wirings,
The voltage between the third probe terminal connected to the other one of the measured wires and the fourth probe terminal connected to the protective short-circuit wiring, and the voltage between the first probe terminal and the second probe terminal is measured. First voltage measuring means, second voltage measuring means for measuring the voltage between the third probe terminal and the fourth probe terminal, a first current source connected to the second probe terminal, and the third probe An inspection apparatus for a wiring board, comprising: a second current source connected to a terminal, wherein the polarities of the first current source and the second current source are reversed.
【請求項3】 基板と、この基板上に形成された複数の
被測定用配線と、前記複数の被測定用配線を短絡して基
板上に形成された保護用の短絡配線とを具備してなる配
線基板を検査する検査装置であって、 保護用の短絡配線に接続される第1プローブ端子および
被測定用配線の1つに接続される第2プローブ端子と、
被測定用配線の他の1つに接続される第3プローブ端子
と、前記第1プローブ端子を接地する手段と、第2プロ
ーブ端子と接地面との間の電圧を測定する第1電圧測定
手段と、前記第2プローブ端子に接続された第1電流源
と、前記第3プローブ端子に接続された第2電流源とを
具備してなり、 前記第1電流源と第2電流源の極性を逆にしてなること
を特徴とする配線基板の検査装置。
3. A substrate, a plurality of wirings to be measured formed on the substrate, and a short-circuit wiring for protection formed on the substrate by short-circuiting the plurality of wirings to be measured. An inspection device for inspecting a wiring board comprising: a first probe terminal connected to a short-circuit wiring for protection; and a second probe terminal connected to one of the measured wirings,
A third probe terminal connected to another one of the wirings to be measured, a means for grounding the first probe terminal, and a first voltage measuring means for measuring the voltage between the second probe terminal and the ground plane. And a first current source connected to the second probe terminal and a second current source connected to the third probe terminal, wherein the polarities of the first current source and the second current source are A wiring board inspection device, which is characterized by being reversed.
【請求項4】 被測定用配線が、基板上に整列形成され
た短冊状の複数の電極配線であり、これらの電極配線の
端部を引出配線を介して保護用短絡配線に接続してなる
ことを特徴とする請求項1、2または3記載の配線基板
の検査装置。
4. The wiring to be measured is a plurality of strip-shaped electrode wirings formed in alignment on a substrate, and the end portions of these electrode wirings are connected to a protective short-circuit wiring via a lead wiring. The wiring board inspection apparatus according to claim 1, 2, or 3.
【請求項5】 基板が、引出配線の部分を境界として切
断されて被測定用配線部分側が電極として使用される単
純マトリックス液晶表示素子用基板であることを特徴と
する請求項1、2または3記載の配線基板の検査装置。
5. The substrate for a simple matrix liquid crystal display element, wherein the substrate is cut at the lead-out wiring portion as a boundary, and the measured wiring portion side is used as an electrode. The wiring board inspection device described.
【請求項6】 基板が透明基板であり、配線をインジウ
ム錫酸化物膜から形成してなることを特徴とする請求項
1、2または3記載の配線基板の検査装置。
6. The wiring board inspection apparatus according to claim 1, wherein the substrate is a transparent substrate, and the wiring is formed from an indium tin oxide film.
【請求項7】 被測定用配線が、基板上にマトリックス
状に形成された配線であり、マトリックス状配線の各交
差部分にスイッチ素子を形成し、マトリックス状の配線
の端部を引出配線を介して保護用の短絡配線に接続して
なることを特徴とする請求項1、2または3記載の配線
基板の検査装置。
7. The wiring to be measured is a wiring formed in a matrix on a substrate, a switch element is formed at each intersection of the matrix wiring, and an end of the wiring in the matrix is connected via a lead wiring. 4. The wiring board inspection apparatus according to claim 1, wherein the inspection apparatus is connected to a protective short-circuit wiring.
【請求項8】 被測定用配線が、基板上にマトリックス
状に形成された配線であり、マトリックス状配線の各交
差部分に薄膜トランジスタを形成し、マトリックス状の
配線の端部を引出配線を介して保護用の短絡配線に接続
してなり、基板が、引出配線の部分を境界として切断さ
れて被測定用配線部分側が配線として使用される薄膜ト
ランジスタアレイ基板であることを特徴とする請求項
1、2または3記載の配線基板の検査装置。
8. The wiring to be measured is a wiring formed in a matrix on a substrate, a thin film transistor is formed at each intersection of the wiring in the matrix, and an end portion of the wiring in the matrix is led through a lead wiring. 3. A thin film transistor array substrate which is connected to a short-circuit wiring for protection and which is cut at the lead-out wiring portion as a boundary and whose measured wiring portion side is used as wiring. Alternatively, the wiring board inspection device according to the item 3.
【請求項9】 基板と、この基板上に形成された複数の
被測定用配線と、前記複数の被測定用配線を短絡して基
板上に形成された保護用の短絡配線とを具備してなる配
線基板を検査する検査装置であって、 保護用の短絡配線に接続される第1プローブ端子および
第1番目の被測定用配線に接続される第2プローブ端子
と、前記第1番目の被測定用配線と隣接した第2番目の
被測定用配線に接続される第3プローブ端子および保護
用の短絡配線に接続される第4プローブ端子と、 保護用の短絡配線に接続される第5プローブ端子および
前記第2番目の被測定用配線と隣接した第3番目の被測
定用配線に接続される第6プローブ端子と、前記第3番
目の被測定用配線と隣接した第4番目の被測定用配線に
接続される第7プローブ端子および保護用の短絡配線に
接続される第8プローブ端子と、 前記第1プローブ端子と第2プローブ端子の間の電圧を
測定する第1電圧測定手段と、前記第3プローブ端子と
第4プローブ端子の間の電圧を測定する第2電圧測定手
段と、前記第5プローブ端子と第6プローブ端子の間の
電圧を測定する第3電圧測定手段と、前記第7プローブ
端子と第8プローブ端子の間の電圧を測定する第4電圧
測定手段と、 前記第2プローブ端子に接続された第1電流源と、前記
第3プローブ端子に接続された第2電流源と、前記第6
プローブ端子に接続された第3電流源と、前記第7プロ
ーブ端子に接続された第4電流源とを具備してなり、 前記第1電流源と第2電流源の極性を逆極性とし、第2
電流源と第3電流源の極性を逆極性とし、第3電流源と
第4電流源の極性を逆極性にしてなることを特徴とする
配線基板の検査装置。
9. A substrate, a plurality of wirings to be measured formed on the substrate, and a short-circuiting wiring for protection formed on the substrate by short-circuiting the plurality of wirings to be measured. And a second probe terminal connected to a first wiring to be measured and a first probe terminal connected to the short-circuit wiring for protection. A third probe terminal connected to the second wiring to be measured adjacent to the measurement wiring, a fourth probe terminal connected to the short-circuit wiring for protection, and a fifth probe connected to the short-circuit wiring for protection. A sixth probe terminal connected to a terminal and a third wiring under test adjacent to the second wiring under measurement; and a fourth measurement under test adjacent to the third wiring under measurement. Probe terminal connected to the wiring for protection and for protection An eighth probe terminal connected to the short-circuit wiring, a first voltage measuring means for measuring a voltage between the first probe terminal and the second probe terminal, and a voltage between the third probe terminal and the fourth probe terminal. A second voltage measuring means for measuring the voltage, a third voltage measuring means for measuring a voltage between the fifth probe terminal and the sixth probe terminal, and a voltage between the seventh probe terminal and the eighth probe terminal. Fourth voltage measuring means, a first current source connected to the second probe terminal, a second current source connected to the third probe terminal, and the sixth
A third current source connected to the probe terminal and a fourth current source connected to the seventh probe terminal, wherein the first current source and the second current source have opposite polarities, Two
An inspection apparatus for a wiring board, wherein the current source and the third current source have opposite polarities, and the third current source and the fourth current source have opposite polarities.
【請求項10】 基板と、この基板上に形成された複数
の被測定用配線と、前記複数の被測定用配線を短絡して
基板上に形成された保護用の短絡配線とを具備してなる
配線基板を検査する検査装置であって、 第1番目の被測定用配線の短絡されていない側の端部に
接続される第2プローブ端子と、第2番目の被測定用配
線の短絡されていない側の端部に接続される第3プロー
ブ端子と、第3番目の被測定用配線の短絡されていない
側の端部に接続される第6プローブ端子と、第4番目の
被測定用配線の短絡されていない側の端部に接続される
第7プローブ端子と、 前記被測定用配線の少なくとも1つの両端の電圧を測定
する電圧測定手段と、 前記第2プローブ端子に接続された第1電流源と、前記
第3プローブ端子に接続された第2電流源と、前記第6
プローブ端子に接続された第3電流源と、前記第7プロ
ーブ端子に接続された第4電流源とを具備してなり、 前記第1電流源と第2電流源の極性を逆極性とし、第2
電流源と第3電流源の極性を逆極性とし、第3電流源と
第4電流源の極性を逆極性としてなることを特徴とする
配線基板の検査装置。
10. A substrate, a plurality of wirings to be measured formed on the substrate, and a short-circuiting wiring for protection formed on the substrate by short-circuiting the plurality of wirings to be measured. And a second probe terminal connected to an end portion of the first non-short-circuited side of the first measured wiring, and a second shorted wiring to be measured. The third probe terminal connected to the end on the non-shorted side, the sixth probe terminal connected to the end on the non-short-circuited side of the third measured wire, and the fourth measured terminal A seventh probe terminal connected to an end of the wire on the non-short-circuited side, voltage measuring means for measuring a voltage across at least one end of the measured wire, and a seventh probe terminal connected to the second probe terminal. One current source and a second current source connected to the third probe terminal , The sixth
A third current source connected to the probe terminal and a fourth current source connected to the seventh probe terminal, wherein the first current source and the second current source have opposite polarities, and Two
An inspection apparatus for a wiring board, wherein the current source and the third current source have opposite polarities, and the third current source and the fourth current source have opposite polarities.
【請求項11】 被測定用配線が基板上に少なくとも2
列に整列形成され、各列の被測定用配線どうしが列ごと
に短絡配線により短絡されてなることを特徴とする請求
項9または10記載の配線基板の検査装置。
11. The wiring for measurement is at least 2 on the substrate.
The wiring board inspection apparatus according to claim 9 or 10, wherein the wirings to be measured in each row are arranged in a row, and the wirings to be measured in each row are short-circuited for each row by a short-circuit wiring.
【請求項12】 被測定用配線が基板上に1列に整列形
成され、被測定用配線が1本おきに1つの短絡配線で短
絡され、残りの1本おきの被測定用配線が他の短絡配線
で短絡されてなることを特徴とする請求項9または10
記載の配線基板の検査装置。
12. The wirings to be measured are formed in line on the substrate in one row, and the wirings to be measured are short-circuited by one short-circuit wiring and the remaining wirings to be measured are the other wirings. It is short-circuited with a short-circuit wiring, It is characterized by the above-mentioned.
The wiring board inspection device described.
【請求項13】 基板が、引出配線の部分を境界として
切断されて被測定用配線部分側が電極として使用される
単純マトリックス液晶表示素子用基板であることを特徴
とする請求項9または10記載の配線基板の検査装置。
13. The substrate for a simple matrix liquid crystal display element, wherein the substrate is cut at the lead-out wiring portion as a boundary and the measured wiring portion side is used as an electrode. Wiring board inspection device.
【請求項14】 基板が透明基板であり、配線をインジ
ウム錫酸化物膜から形成してなることを特徴とする請求
項9または10記載の配線基板の検査装置。
14. The wiring board inspection apparatus according to claim 9, wherein the substrate is a transparent substrate, and the wiring is formed from an indium tin oxide film.
【請求項15】 被測定用配線が、基板上にマトリック
ス状に形成された配線であり、マトリックス状配線の各
交差部分にスイッチ素子を形成し、マトリックス状の配
線の端部を引出配線を介して保護用の短絡配線に接続し
てなることを特徴とする請求項9または10記載の配線
基板の検査装置。
15. The wiring to be measured is a wiring formed in a matrix on a substrate, a switch element is formed at each intersection of the wiring in a matrix, and an end portion of the wiring in the matrix is connected via a lead wiring. The wiring board inspection device according to claim 9 or 10, wherein the inspection device is connected to a protective short-circuit wiring.
【請求項16】 被測定用配線が、基板上にマトリック
ス状に形成された配線であり、マトリックス状配線の各
交差部分に薄膜トランジスタを形成し、マトリックス状
の配線の端部を引出配線を介して保護用の短絡配線に接
続してなり、基板が、引出配線の部分を境界として切断
されて被測定用配線部分側が配線として使用される薄膜
トランジスタアレイ基板であることを特徴とする請求項
9または10記載の配線基板の検査装置。
16. The wiring to be measured is a wiring formed in a matrix on a substrate, a thin film transistor is formed at each intersection of the matrix wiring, and an end of the wiring in the matrix is connected via a lead wiring. 11. The thin film transistor array substrate, which is connected to a short-circuit wiring for protection and is cut at the lead-out wiring portion as a boundary so that the measured wiring portion side is used as the wiring. The wiring board inspection device described.
【請求項17】 基板と、この基板上に形成された複数
の被測定用配線と、前記複数の被測定用配線を短絡して
基板上に形成された保護用の短絡配線とを具備してなる
配線基板を検査する方法であって、 保護用の短絡配線と第1番目の配線の端部との間に所定
の電流を印可するとともに保護用の短絡配線と第2番目
の配線の端部との間に前記と極性が逆の所定の電流を印
可しながら前記保護用の短絡配線と第1番目の配線の端
部との間の電圧を測定し、電圧の計測値から前記第1番
目の配線と前記第2番目の配線との間の断線と短絡を判
断することを特徴とする配線基板の検査方法。
17. A substrate, a plurality of wirings to be measured formed on the substrate, and a short-circuit wiring for protection formed on the substrate by short-circuiting the plurality of wirings to be measured. A method for inspecting a wiring board, comprising applying a predetermined current between the short-circuit wiring for protection and the end of the first wiring, and at the same time applying the short-circuit wiring for protection and the end of the second wiring. The voltage between the short-circuit wiring for protection and the end of the first wiring is measured while applying a predetermined current whose polarity is opposite to that between A method for inspecting a wiring board, which comprises determining a disconnection and a short circuit between the second wiring and the second wiring.
【請求項18】 基板と、この基板上に形成された複数
の被測定用配線と、前記複数の被測定用配線を短絡して
基板上に形成された保護用の短絡配線とを具備してなる
配線基板を検査する方法であって、 保護用の短絡配線と第1番目の配線の端部との間に所定
の電流を印可しながら前記保護用の短絡配線と第1番目
の配線の端部との間の電圧を測定するとともに、保護用
の短絡配線と第2番目の配線の端部との間に前記と極性
が逆の所定の電流を印可しながら前記保護用の短絡配線
と第2番目の配線の端部との間の電圧を測定し、各電圧
の計測値から前記第1番目の配線と前記第2番目の配線
との間の断線と短絡を判断することを特徴とする配線基
板の検査方法。
18. A substrate, a plurality of wirings to be measured formed on the substrate, and a short circuit wiring for protection formed on the substrate by short-circuiting the plurality of wirings to be measured. A method for inspecting a wiring board comprising: a short circuit wiring for protection and an end of the first wiring while applying a predetermined current between the short circuit wiring for protection and the end of the first wiring. The voltage between the protective short-circuit wire and the second short-circuit wire while applying a predetermined current of the opposite polarity to the short-circuit wire for protection and the end of the second wire. A voltage between the end of the second wiring is measured, and a disconnection and a short circuit between the first wiring and the second wiring are determined from the measured value of each voltage. Wiring board inspection method.
【請求項19】 被測定用配線として、基板上に整列形
成された短冊状の複数の電極配線を用い、これらの電極
配線の端部が引出配線を介して保護用の短絡配線に接続
されたものを用いることを特徴とする請求項17または
18記載の配線基板の検査方法。
19. A plurality of strip-shaped electrode wirings aligned and formed on a substrate are used as the wirings to be measured, and end portions of these electrode wirings are connected to short-circuiting wirings for protection through lead-out wirings. 19. The method for inspecting a wiring board according to claim 17, wherein a wiring board is used.
【請求項20】 基板として、引出配線の部分を境界と
して切断されて被測定用配線部分側が電極として使用さ
れる単純マトリックス液晶表示素子用基板を用いること
を特徴とする請求項17または18記載の配線基板の検
査方法。
20. The substrate for a simple matrix liquid crystal display device, wherein the substrate is a substrate for a simple matrix liquid crystal display element, which is cut at the lead-out wiring portion as a boundary and the measured wiring portion side is used as an electrode. Wiring board inspection method.
【請求項21】 基板として透明基板を用い、配線とし
てインジウム錫酸化物膜から形成されるものを用いるこ
とを特徴とする請求項17または18記載の配線基板の
検査方法。
21. The method for inspecting a wiring board according to claim 17, wherein a transparent substrate is used as the substrate, and a wiring formed of an indium tin oxide film is used.
【請求項22】 被測定用配線として、基板上にマトリ
ックス状に形成された配線を用い、マトリックス状配線
の各交差部分にスイッチ素子が形成されたものを用い、
マトリックス状の配線の端部が、引出配線を介して保護
用の短絡配線に接続されてなるものを用いることを特徴
とする請求項17または18記載の配線基板の検査方
法。
22. As the wiring to be measured, wiring formed in a matrix on a substrate is used, and a wiring in which a switch element is formed at each intersection of the matrix wiring is used.
19. The method for inspecting a wiring board according to claim 17, wherein an end portion of the matrix wiring is connected to a protective short-circuit wiring through a lead wiring.
【請求項23】 被測定用配線として、基板上にマトリ
ックス状に形成された配線を用い、マトリックス状配線
の各交差部分に薄膜トランジスタが形成されたものを用
い、マトリックス状の配線の端部が引出配線を介して保
護用の短絡配線に接続されてなるものを用い、基板とし
て、引出配線の部分を境界として切断されて被測定用配
線部分側を配線として使用する薄膜トランジスタアレイ
基板を用いることを特徴とする請求項17または18記
載の配線基板の検査装置。
23. As the wiring to be measured, wiring formed in a matrix on a substrate is used, and a thin film transistor is formed at each intersection of the wiring in the matrix, and an end portion of the wiring in the matrix is drawn out. A thin film transistor array substrate is used that is connected to a short-circuiting wiring for protection through wiring, and is used as a substrate, which is cut at the lead wiring portion as a boundary and uses the measured wiring portion side as wiring. The wiring board inspection device according to claim 17 or 18.
【請求項24】 基板と、この基板上に形成された複数
の被測定用配線と、前記複数の被測定用配線を短絡して
基板上に形成された保護用の短絡配線とを具備してなる
配線基板を検査する方法であって、 保護用の短絡配線と第1番目の配線の端部との間に所定
の電流を印可しながら前記保護用の短絡配線と第1番目
の配線の端部との間の電圧を測定するとともに、保護用
の短絡配線と第2番目の配線の端部との間に前記と極性
が逆の所定の電流を印可しながら前記保護用の短絡配線
と第2番目の配線の端部との間の電圧を測定し、更に、 保護用の短絡配線と第3番目の配線の端部との間に所定
の電流を印可しながら前記保護用の短絡配線と第3番目
の配線の端部との間の電圧を測定するとともに、保護用
の短絡配線と第4番目の配線の端部との間に前記と極性
が逆の所定の電流を印可しながら前記保護用の短絡配線
と第4番目の配線の端部との間の電圧を測定し、 各電圧の計測値から前記第1番目の配線と前記第2番目
の配線と前記第3番目の配線と前記第4番目の配線の間
の断線と短絡を判断することを特徴とする配線基板の検
査方法。
24. A substrate, a plurality of wirings to be measured formed on the substrate, and a short-circuiting wiring for protection formed on the substrate by short-circuiting the plurality of wirings to be measured. A method for inspecting a wiring board comprising: a short circuit wiring for protection and an end of the first wiring while applying a predetermined current between the short circuit wiring for protection and the end of the first wiring. The voltage between the protective short-circuit wire and the second short-circuit wire while applying a predetermined current of the opposite polarity to the short-circuit wire for protection and the end of the second wire. The voltage between the end of the second wiring is measured, and the short-circuit wiring for protection is applied while applying a predetermined current between the short-circuit wiring for protection and the end of the third wiring. While measuring the voltage between the end of the third wire and the end of the fourth short wire for protection The voltage between the short-circuiting wiring for protection and the end of the fourth wiring is measured while applying a predetermined current having a polarity opposite to that of the above, and the measured value of each voltage is used to measure the first A method of inspecting a wiring board, which comprises determining a disconnection and a short circuit between a wiring, the second wiring, the third wiring, and the fourth wiring.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2002090409A (en) * 2000-09-12 2002-03-27 Ibiden Co Ltd Apparatus and method for electric inspection of printed- wiring board
JP2020524795A (en) * 2017-06-22 2020-08-20 フォトン・ダイナミクス・インコーポレーテッド Ultra high resolution panel defect detection method

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