JPH08337898A - 金属表面の電解研磨方法および電解研磨装置 - Google Patents
金属表面の電解研磨方法および電解研磨装置Info
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- JPH08337898A JPH08337898A JP16451895A JP16451895A JPH08337898A JP H08337898 A JPH08337898 A JP H08337898A JP 16451895 A JP16451895 A JP 16451895A JP 16451895 A JP16451895 A JP 16451895A JP H08337898 A JPH08337898 A JP H08337898A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 被処理金属の電解研磨を行う金属表面の電解
研磨方法および電解研磨装置に関し、被処理金属の表面
を高品質に保持したままスケールを除去できるようにす
る。 【構成】 金属表面の電解研磨装置を、被処理金属を一
方の電極とし電解質溶液を媒体として通電回路を形成し
て成る研磨部３と、整流波形を出力する整流波形発生回
路１Ａと、その整流波形をパルス波形とするべく制御信
号を出力するパルス制御回路１Ｂと、その制御信号を受
けて整流波形発生回路１Ａからの整流波形の極性を所定
のスイッチングタイムで反転するとともにその反転部分
に所定時間幅を持たせてパルス波形を生成し電解研磨用
波形として出力する極性反転回路１Ｃと、から成る電源
部１と、上記研磨部３と電源部１とを接続する接続部２
と、から構成する。
研磨方法および電解研磨装置に関し、被処理金属の表面
を高品質に保持したままスケールを除去できるようにす
る。 【構成】 金属表面の電解研磨装置を、被処理金属を一
方の電極とし電解質溶液を媒体として通電回路を形成し
て成る研磨部３と、整流波形を出力する整流波形発生回
路１Ａと、その整流波形をパルス波形とするべく制御信
号を出力するパルス制御回路１Ｂと、その制御信号を受
けて整流波形発生回路１Ａからの整流波形の極性を所定
のスイッチングタイムで反転するとともにその反転部分
に所定時間幅を持たせてパルス波形を生成し電解研磨用
波形として出力する極性反転回路１Ｃと、から成る電源
部１と、上記研磨部３と電源部１とを接続する接続部２
と、から構成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、金属表面の電解研磨
を行う金属表面の電解研磨方法およびその装置に関する
ものである。
を行う金属表面の電解研磨方法およびその装置に関する
ものである。
【０００２】
【従来の技術】ステンレス鋼等の合金鋼に溶接を行った
ときにその溶接箇所および周囲に発生するスケールを除
去する方法の一つとして、電解研磨によるスケール除去
方法が知られている。この電解研磨によるスケール除去
方法は、被処理金属を一方の電極とするとともに、他方
の電極部材との間に電解質溶液を介在させて通電回路を
構成し、その通電回路に所定波形の電流を流すことによ
り、スケールを除去するようにしたものである。
ときにその溶接箇所および周囲に発生するスケールを除
去する方法の一つとして、電解研磨によるスケール除去
方法が知られている。この電解研磨によるスケール除去
方法は、被処理金属を一方の電極とするとともに、他方
の電極部材との間に電解質溶液を介在させて通電回路を
構成し、その通電回路に所定波形の電流を流すことによ
り、スケールを除去するようにしたものである。
【０００３】そして、上記所定波形の電流は、特公平５
−４８３１５号公報に開示してあるように単なる直流電
圧を使用するか、または特公平５−４８３１８号公報に
開示してあるように直流電圧に通常の商用交流電圧を重
畳したものを使用して生成するようにしていた。
−４８３１５号公報に開示してあるように単なる直流電
圧を使用するか、または特公平５−４８３１８号公報に
開示してあるように直流電圧に通常の商用交流電圧を重
畳したものを使用して生成するようにしていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来のス
ケール除去方法では、スケールを除去できるものの、連
続的に通電するため被処理金属の表面の不動態化が過剰
となり、溶接熱を受けている部分とそうでない部分とで
は脱スケールや不動態化速度が異なることとなり、表面
全体に仕上がりむらが生じてしまうという問題点を有し
ていた。この発明は上記に鑑み提案されたもので、被処
理金属の表面を高品質に保持したままスケールを除去で
きる金属表面の電解研磨方法およびその装置を提供する
ことを目的とする。
ケール除去方法では、スケールを除去できるものの、連
続的に通電するため被処理金属の表面の不動態化が過剰
となり、溶接熱を受けている部分とそうでない部分とで
は脱スケールや不動態化速度が異なることとなり、表面
全体に仕上がりむらが生じてしまうという問題点を有し
ていた。この発明は上記に鑑み提案されたもので、被処
理金属の表面を高品質に保持したままスケールを除去で
きる金属表面の電解研磨方法およびその装置を提供する
ことを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、この発明の金属表面の電解研磨方法では、整流波形
を所定のスイッチングタイムで極性反転させるとともに
その反転部分に所定時間幅を持たせて整流波形にパルス
を形成することにより電解研磨用波形を生成し、その電
解研磨用波形を、被処理金属を一方の電極とし電解質溶
液を媒体として形成した通電回路に通電し、その通電に
よって被処理金属の電解研磨を行う。
に、この発明の金属表面の電解研磨方法では、整流波形
を所定のスイッチングタイムで極性反転させるとともに
その反転部分に所定時間幅を持たせて整流波形にパルス
を形成することにより電解研磨用波形を生成し、その電
解研磨用波形を、被処理金属を一方の電極とし電解質溶
液を媒体として形成した通電回路に通電し、その通電に
よって被処理金属の電解研磨を行う。
【０００６】また、この発明の金属表面の電解研磨装置
は、被処理金属を一方の電極とし電解質溶液を媒体とし
て通電回路を形成して成る研磨部と、整流波形を出力す
る整流波形発生回路と、その整流波形をパルス波形とす
るべく制御信号を出力するパルス制御回路と、その制御
信号を受けて整流波形発生回路からの整流波形の極性を
所定のスイッチングタイムで反転するとともにその反転
部分に所定時間幅を持たせてパルス波形を生成し電解研
磨用波形として出力する極性反転回路と、から成る電源
部と、上記研磨部と電源部とを接続する接続部と、から
構成される。
は、被処理金属を一方の電極とし電解質溶液を媒体とし
て通電回路を形成して成る研磨部と、整流波形を出力す
る整流波形発生回路と、その整流波形をパルス波形とす
るべく制御信号を出力するパルス制御回路と、その制御
信号を受けて整流波形発生回路からの整流波形の極性を
所定のスイッチングタイムで反転するとともにその反転
部分に所定時間幅を持たせてパルス波形を生成し電解研
磨用波形として出力する極性反転回路と、から成る電源
部と、上記研磨部と電源部とを接続する接続部と、から
構成される。
【０００７】
【作用】上述したように、この発明によれば、電解研磨
用波形として、整流波形を所定のスイッチングタイムで
極性反転させるとともにその反転部分に所定時間幅を持
たせて整流波形にパルスを形成することにより生成した
波形を用いるので、被処理金属には、そのパルスによっ
て短時間だけ瞬間的に逆極性の電流が流れ、被処理金属
表面での脱スケールおよび不動態化が均一に促進する。
用波形として、整流波形を所定のスイッチングタイムで
極性反転させるとともにその反転部分に所定時間幅を持
たせて整流波形にパルスを形成することにより生成した
波形を用いるので、被処理金属には、そのパルスによっ
て短時間だけ瞬間的に逆極性の電流が流れ、被処理金属
表面での脱スケールおよび不動態化が均一に促進する。
【０００８】
【実施例】以下にこの発明の実施例を図面に基づいて詳
細に説明する。図１はこの発明の金属表面の電解研磨装
置の構成を示すブロック図である。図において、この発
明に係る電解研磨装置は、被処理金属を一方の電極とし
電解質溶液を媒体として通電回路を形成して成る研磨部
３と、整流波形を出力する整流波形発生回路１Ａと、そ
の整流波形をパルス波形とするべく制御信号を出力する
パルス制御回路１Ｂと、その制御信号を受けて整流波形
発生回路１Ａからの整流波形の極性を所定のスイッチン
グタイムで反転するとともにその反転部分に所定時間幅
を持たせてパルス波形を生成し電解研磨用波形として出
力する極性反転回路１Ｃと、から成る電源部１と、上記
研磨部３と電源部１とを接続する接続部２と、から構成
される。
細に説明する。図１はこの発明の金属表面の電解研磨装
置の構成を示すブロック図である。図において、この発
明に係る電解研磨装置は、被処理金属を一方の電極とし
電解質溶液を媒体として通電回路を形成して成る研磨部
３と、整流波形を出力する整流波形発生回路１Ａと、そ
の整流波形をパルス波形とするべく制御信号を出力する
パルス制御回路１Ｂと、その制御信号を受けて整流波形
発生回路１Ａからの整流波形の極性を所定のスイッチン
グタイムで反転するとともにその反転部分に所定時間幅
を持たせてパルス波形を生成し電解研磨用波形として出
力する極性反転回路１Ｃと、から成る電源部１と、上記
研磨部３と電源部１とを接続する接続部２と、から構成
される。
【０００９】図２は上記電解研磨装置の構成例を概略的
に示す図である。図において、電源部１０は、整流波形
発生回路１１とパルス制御回路１２と極性反転回路１３
とから構成されている。
に示す図である。図において、電源部１０は、整流波形
発生回路１１とパルス制御回路１２と極性反転回路１３
とから構成されている。
【００１０】整流波形発生回路１１は、変圧器１１０を
用いて１次側の交流電源電圧、例えば通常の商用交流電
圧（単相１００ボルト）を降圧し、その降圧して得た所
定の２次側電圧をダイオードブリッジ回路１１１で全波
整流し、その全波整流波形を極性反転回路１３に出力す
る。この全波整流波形は、変圧器１１０の二次側にとっ
た中性点に対してＰ点では図３（ａ）に示すようにプラ
ス側の全波整流波形ＰＷとなり、Ｑ点では逆にマイナス
側の全波整流波形ＱＷ（図示省略）となる。
用いて１次側の交流電源電圧、例えば通常の商用交流電
圧（単相１００ボルト）を降圧し、その降圧して得た所
定の２次側電圧をダイオードブリッジ回路１１１で全波
整流し、その全波整流波形を極性反転回路１３に出力す
る。この全波整流波形は、変圧器１１０の二次側にとっ
た中性点に対してＰ点では図３（ａ）に示すようにプラ
ス側の全波整流波形ＰＷとなり、Ｑ点では逆にマイナス
側の全波整流波形ＱＷ（図示省略）となる。
【００１１】一方、パルス制御回路１２は、整流波形発
生回路１１が出力した全波整流波形をパルス波形とする
べく制御信号を生成し極性反転回路１３に出力するため
の回路である。このパルス制御回路１２には波形設定部
１２１が設けてあり、パルス制御回路１２はその波形設
定部１２１に予め設定してある時間幅ＴＣとスイッチン
グタイムＴＤとに基づいて制御信号を生成する。
生回路１１が出力した全波整流波形をパルス波形とする
べく制御信号を生成し極性反転回路１３に出力するため
の回路である。このパルス制御回路１２には波形設定部
１２１が設けてあり、パルス制御回路１２はその波形設
定部１２１に予め設定してある時間幅ＴＣとスイッチン
グタイムＴＤとに基づいて制御信号を生成する。
【００１２】上記の時間幅ＴＣは図３（ａ）に示すよう
に、全波整流波形ＰＷを構成する各波形Ｗｕを所定の時
間幅でセグメント化するとした場合のその時間幅であ
り、スイッチングタイムＴＤは、プラス側の全波整流波
形ＰＷからマイナス側の全波整流波形ＱＷへのスイッチ
イングを指令する際のタイミングである。スイッチング
タイムＴＤは、時間幅ＴＣの整数倍となるように設定し
てある。
に、全波整流波形ＰＷを構成する各波形Ｗｕを所定の時
間幅でセグメント化するとした場合のその時間幅であ
り、スイッチングタイムＴＤは、プラス側の全波整流波
形ＰＷからマイナス側の全波整流波形ＱＷへのスイッチ
イングを指令する際のタイミングである。スイッチング
タイムＴＤは、時間幅ＴＣの整数倍となるように設定し
てある。
【００１３】極性反転回路１３には２つのトランジスタ
１３１，１３２が設けてあり、パルス制御回路１２の制
御信号はこの２つのトランジスタ１３１，１３２の各ベ
ース側に入力してトランジスタ１３１，１３２を動作さ
せる。
１３１，１３２が設けてあり、パルス制御回路１２の制
御信号はこの２つのトランジスタ１３１，１３２の各ベ
ース側に入力してトランジスタ１３１，１３２を動作さ
せる。
【００１４】極性反転回路１３は制御信号を受けると、
各波形Ｗｕのスタート時点ｔ０（図３（ａ））からスイ
ッチングタイムＴＤが周期的に経過するたびに、すなわ
ちＴＤ１，ＴＤ２，ＴＤ３，…毎に、時間幅ＴＣにわた
って、プラス側の全波整流波形ＰＷからマイナス側の全
波整流波形ＱＷへスイッチイングし、その部分の極性を
反転させ、これによって全波整流波形をパルス化する
（図３（ｂ））。このパルス波形は、プラス側の全波整
流波形ＰＷにおいて、各波形Ｗｕのスタート時点ｔ０か
ら周期的にスイッチングタイムＴＤがやってくる度に、
そのスイッチングタイムＴＤから開始する１セグメント
分をその全波整流波形ＰＷから反転させたような波形に
なっている。
各波形Ｗｕのスタート時点ｔ０（図３（ａ））からスイ
ッチングタイムＴＤが周期的に経過するたびに、すなわ
ちＴＤ１，ＴＤ２，ＴＤ３，…毎に、時間幅ＴＣにわた
って、プラス側の全波整流波形ＰＷからマイナス側の全
波整流波形ＱＷへスイッチイングし、その部分の極性を
反転させ、これによって全波整流波形をパルス化する
（図３（ｂ））。このパルス波形は、プラス側の全波整
流波形ＰＷにおいて、各波形Ｗｕのスタート時点ｔ０か
ら周期的にスイッチングタイムＴＤがやってくる度に、
そのスイッチングタイムＴＤから開始する１セグメント
分をその全波整流波形ＰＷから反転させたような波形に
なっている。
【００１５】なお、図３（ｂ）に示したパルス波形で
は、山と谷のレベルを所定レベルに制御して全体として
台形状の波形となるようにしている。この波形制御は、
パルス制御回路１２に設けたパワー制御部１２２からの
指令に基づいて、パルス制御回路１３がトランジスタ１
３１，１３２の各ベース電流を変化させそれによって各
コレクタ・エミッタ間の電流を制御することにより行
う。そして、パワー制御部１２２が指令するパワーの大
きさは、オペレータがパワー調整器１２４のダイヤル１
２４ａを調整したときの位置に応じて決まるようになっ
ており、その際のパワーが大きければ大きいほど、表示
ランプ１２４ｂの右側のランプが点灯しパワーの大きさ
が一見して分かるようになっている。
は、山と谷のレベルを所定レベルに制御して全体として
台形状の波形となるようにしている。この波形制御は、
パルス制御回路１２に設けたパワー制御部１２２からの
指令に基づいて、パルス制御回路１３がトランジスタ１
３１，１３２の各ベース電流を変化させそれによって各
コレクタ・エミッタ間の電流を制御することにより行
う。そして、パワー制御部１２２が指令するパワーの大
きさは、オペレータがパワー調整器１２４のダイヤル１
２４ａを調整したときの位置に応じて決まるようになっ
ており、その際のパワーが大きければ大きいほど、表示
ランプ１２４ｂの右側のランプが点灯しパワーの大きさ
が一見して分かるようになっている。
【００１６】また、パルス制御回路１２では、上記の波
形設定部１２１にスイッチングタイムＴＤおよび時間幅
ＴＣが複数パターン（例えば３パターン）予め設定して
あり、極性反転回路１３ではそのＴＤおよびＴＣの設定
に対応するパルス波形が生成される。なお、ＴＤ，ＴＣ
の設定はボリュウムを用いて時定数として任意の値に設
定可能である。
形設定部１２１にスイッチングタイムＴＤおよび時間幅
ＴＣが複数パターン（例えば３パターン）予め設定して
あり、極性反転回路１３ではそのＴＤおよびＴＣの設定
に対応するパルス波形が生成される。なお、ＴＤ，ＴＣ
の設定はボリュウムを用いて時定数として任意の値に設
定可能である。
【００１７】この波形設定部１２１のＴＤ，ＴＣの選択
はモードセレクタ１２３で行われ、オペレータがモード
セレクタ１２３の選択スイッチ１２３ａを切り換えるこ
とにより、例えば図４に示すような３つのパターンＡ，
Ｂ，Ｃのいずれかのパルス波形を選択でき、モードセレ
クタ１２３ではそのときのパターンに該当する表示ラン
プ１２３ｂが点灯するようになっている。
はモードセレクタ１２３で行われ、オペレータがモード
セレクタ１２３の選択スイッチ１２３ａを切り換えるこ
とにより、例えば図４に示すような３つのパターンＡ，
Ｂ，Ｃのいずれかのパルス波形を選択でき、モードセレ
クタ１２３ではそのときのパターンに該当する表示ラン
プ１２３ｂが点灯するようになっている。
【００１８】図４のパターンＡでは、プラス側のパルス
幅Ｔｐがマイナス側のパルス幅ＴNより大きくなってお
り、パターンＢではその逆にマイナス側のパルス幅ＴN
がプラス側のパルス幅Ｔｐより大きくなっており、パタ
ーンＣではその両者が等しくなっている。また、パター
ンＡ，Ｂ，Ｃのいずれにおいてもプラス側の電位レベル
Ｖｐとマイナス側の電位レベルＶN は、その絶対値が等
しくなっている。このパルス波形の各種パターンは、電
解研磨時の被処理金属の材質、電解質溶液の種類等の処
理条件に応じて最適マッチングして設定すればよく、こ
こに示したものはその一例である。したがって、パルス
波形において、プラス側のパルス幅がマイナス側のパル
ス幅より大きいパターンだけを複数パターン設定するよ
うにしてもよいし、必要であればパルス化しないでプラ
ス側またはマイナス側の全波整流波形にパワー制御を施
しただけのものを１パターンとして設定してもよい。
幅Ｔｐがマイナス側のパルス幅ＴNより大きくなってお
り、パターンＢではその逆にマイナス側のパルス幅ＴN
がプラス側のパルス幅Ｔｐより大きくなっており、パタ
ーンＣではその両者が等しくなっている。また、パター
ンＡ，Ｂ，Ｃのいずれにおいてもプラス側の電位レベル
Ｖｐとマイナス側の電位レベルＶN は、その絶対値が等
しくなっている。このパルス波形の各種パターンは、電
解研磨時の被処理金属の材質、電解質溶液の種類等の処
理条件に応じて最適マッチングして設定すればよく、こ
こに示したものはその一例である。したがって、パルス
波形において、プラス側のパルス幅がマイナス側のパル
ス幅より大きいパターンだけを複数パターン設定するよ
うにしてもよいし、必要であればパルス化しないでプラ
ス側またはマイナス側の全波整流波形にパワー制御を施
しただけのものを１パターンとして設定してもよい。
【００１９】図２に戻って、上記のようなパターンを持
つパルス波形が極性反転回路１３から出力されると、そ
のパルス波形は電源部１０の２つの出力端子１０ａ，１
０ｂから取り出し可能となる。その２つの出力端子１０
ａ，１０ｂには研磨部３０が、接続部２０としての２本
の接続コード２０ａ，２０ｂを介して接続される。
つパルス波形が極性反転回路１３から出力されると、そ
のパルス波形は電源部１０の２つの出力端子１０ａ，１
０ｂから取り出し可能となる。その２つの出力端子１０
ａ，１０ｂには研磨部３０が、接続部２０としての２本
の接続コード２０ａ，２０ｂを介して接続される。
【００２０】研磨部３０は、２枚のステンレス鋼材３１
１，３１１およびその２枚のステンレス鋼材３１１，３
１１を結合させた溶接部分３１２から成る被処理金属３
１と、電解質溶液を含浸させたモップ３３が先端側に巻
き付けてある電極部材（ステッシャ）３２とから構成さ
れており、被処理金属３１は接続コード２０ａを介して
出力端子１０ａに、また電極部材３２は接続コード２０
ｂを介して出力端子１０ｂにそれぞれ接続してある。し
たがって、被処理金属３１と電極部材３２とは各々電極
として機能し、モップ３３を被処理金属３１の溶接部分
３１２にあてがうことにより、モップ３３に含浸してあ
る電解質溶液を介して通電回路を形成する。なお、この
モップ３３は、天然繊維や合成繊維等の帯液性物質のも
のである。
１，３１１およびその２枚のステンレス鋼材３１１，３
１１を結合させた溶接部分３１２から成る被処理金属３
１と、電解質溶液を含浸させたモップ３３が先端側に巻
き付けてある電極部材（ステッシャ）３２とから構成さ
れており、被処理金属３１は接続コード２０ａを介して
出力端子１０ａに、また電極部材３２は接続コード２０
ｂを介して出力端子１０ｂにそれぞれ接続してある。し
たがって、被処理金属３１と電極部材３２とは各々電極
として機能し、モップ３３を被処理金属３１の溶接部分
３１２にあてがうことにより、モップ３３に含浸してあ
る電解質溶液を介して通電回路を形成する。なお、この
モップ３３は、天然繊維や合成繊維等の帯液性物質のも
のである。
【００２１】そして、電解研磨処理は、モップ３３を溶
接部分３１２に接触して通電させた状態でそのモップ３
３を溶接部分３１２に沿って数回往復摺動させることに
より行う。
接部分３１２に接触して通電させた状態でそのモップ３
３を溶接部分３１２に沿って数回往復摺動させることに
より行う。
【００２２】上記手法による電解研磨処理において、溶
接部分３１２の焼け（スケール）の除去およびステンレ
ス部分と溶接部分３１２との界面における二番焼けの除
去を行う場合、通電するパルス波形としては、パルス電
圧が１０〜３０ボルト、パルス数が２００〜１５００ヘ
ルツであって、プラス側のパルス幅がマイナス側のパル
ス幅より大きく、プラス側のパルス幅に対するマイナス
側のパルス幅の割合を極性反転割合として表現すると、
その極性反転割合が１０〜４０％程度のものを使用すれ
ば比較的良好な研磨結果が得られることがわかった。
接部分３１２の焼け（スケール）の除去およびステンレ
ス部分と溶接部分３１２との界面における二番焼けの除
去を行う場合、通電するパルス波形としては、パルス電
圧が１０〜３０ボルト、パルス数が２００〜１５００ヘ
ルツであって、プラス側のパルス幅がマイナス側のパル
ス幅より大きく、プラス側のパルス幅に対するマイナス
側のパルス幅の割合を極性反転割合として表現すると、
その極性反転割合が１０〜４０％程度のものを使用すれ
ば比較的良好な研磨結果が得られることがわかった。
【００２３】また、電解質溶液としては、その組成を特
に限定するものではないが、例えば以下の〜を単独
あるいは適宜に混合して用いることができる。 中性塩型；硫酸ナトリウム、硫酸カリウム、硝酸ナト
リウム、硝酸カリウム、塩化ナトリウム、塩化カリウム
等の、強酸と強塩基との反応鉛で、水溶液のＰＨが中性
付近のもの。 酸性塩型Ａ；硫酸水素ナトリウム、硫酸水素カリウ
ム、硫酸水素アンモニウム等の、二塩基性酸と一酸塩基
の等モル反応物で、水溶液のＰＨが１以下と非常に低い
もの。 酸性塩型Ｂ；硫酸アンモニウム、塩化アンモニウム、
硝酸アンモニウムの如き、強酸と弱塩基との反応物で、
水溶液のＰＨが３〜５程度の酸性を示すもの。 リン酸塩型；リン酸ナトリウム、リン酸カリウム、リ
ン酸アンモニウム等のリン酸塩。 酸型；硫酸、硝酸、リン酸、塩酸、塩素酸、フッ化水
素酸等の無機酸類。
に限定するものではないが、例えば以下の〜を単独
あるいは適宜に混合して用いることができる。 中性塩型；硫酸ナトリウム、硫酸カリウム、硝酸ナト
リウム、硝酸カリウム、塩化ナトリウム、塩化カリウム
等の、強酸と強塩基との反応鉛で、水溶液のＰＨが中性
付近のもの。 酸性塩型Ａ；硫酸水素ナトリウム、硫酸水素カリウ
ム、硫酸水素アンモニウム等の、二塩基性酸と一酸塩基
の等モル反応物で、水溶液のＰＨが１以下と非常に低い
もの。 酸性塩型Ｂ；硫酸アンモニウム、塩化アンモニウム、
硝酸アンモニウムの如き、強酸と弱塩基との反応物で、
水溶液のＰＨが３〜５程度の酸性を示すもの。 リン酸塩型；リン酸ナトリウム、リン酸カリウム、リ
ン酸アンモニウム等のリン酸塩。 酸型；硫酸、硝酸、リン酸、塩酸、塩素酸、フッ化水
素酸等の無機酸類。
【００２４】さらに、これらの電解質溶液には、ポリオ
キシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレン脂
肪酸エステル、アルキルアンモニウムクロライド等の非
イオン型またはカチオン型の界面活性剤や、グリセリ
ン、エチレングリコール、プロピレングリコール、ポリ
エチレングリコール等の多価アルコールを、添加助剤と
して単独にあるいは混合して適宜に加えるようにしても
よい。
キシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレン脂
肪酸エステル、アルキルアンモニウムクロライド等の非
イオン型またはカチオン型の界面活性剤や、グリセリ
ン、エチレングリコール、プロピレングリコール、ポリ
エチレングリコール等の多価アルコールを、添加助剤と
して単独にあるいは混合して適宜に加えるようにしても
よい。
【００２５】このように、この実施例では、電解研磨用
波形として、全波整流波形にパルスを形成することによ
り生成した波形を用いるので、被処理金属３１にはその
パルスに応じて短時間だけ瞬間的に逆極性の電流が流
れ、被処理金属３１表面での脱スケールおよび不動態化
を均一に促進させることができ、被処理金属３１の表面
を高品質に電解研磨することができる。
波形として、全波整流波形にパルスを形成することによ
り生成した波形を用いるので、被処理金属３１にはその
パルスに応じて短時間だけ瞬間的に逆極性の電流が流
れ、被処理金属３１表面での脱スケールおよび不動態化
を均一に促進させることができ、被処理金属３１の表面
を高品質に電解研磨することができる。
【００２６】また、パルスの時間幅やパルス数は、任意
に設定できるので、被処理金属３１や電解研磨溶液等の
処理対象が変わってもその処理対象にマッチングさせる
ことができ、処理対象が変わってもフレキシブルに対応
して最良の研磨を行うことができる。
に設定できるので、被処理金属３１や電解研磨溶液等の
処理対象が変わってもその処理対象にマッチングさせる
ことができ、処理対象が変わってもフレキシブルに対応
して最良の研磨を行うことができる。
【００２７】上記の実施例では、単相交流を全波整流す
る場合について説明したが、三相交流を全波整流するよ
うにしてもよい。また、単相交流、三相交流を半波整流
したものをパルス化するように構成してもよい。
る場合について説明したが、三相交流を全波整流するよ
うにしてもよい。また、単相交流、三相交流を半波整流
したものをパルス化するように構成してもよい。
【００２８】また、電極部材の往復摺動によって電解研
磨を行うように構成したが、被処理金属と他の電極部材
とを液槽の電解質溶液に浸漬して電解研磨を行うように
してもよい。
磨を行うように構成したが、被処理金属と他の電極部材
とを液槽の電解質溶液に浸漬して電解研磨を行うように
してもよい。
【００２９】さらに、パルス波形の山と谷のレベルを所
定レベルに制御して全体として台形状の波形となるよう
にしが、この波形制御を行わずに出力するようにしても
よい。
定レベルに制御して全体として台形状の波形となるよう
にしが、この波形制御を行わずに出力するようにしても
よい。
【００３０】
【発明の効果】以上説明したようにこの発明によれば、
電解研磨用波形として、整流波形にパルスを形成するこ
とにより生成した波形を用いるので、被処理金属にはそ
のパルスに応じて短時間だけ瞬間的に逆極性の電流が流
れ、被処理金属表面での脱スケールおよび不動態化を均
一に促進させることができ、被処理金属の表面を高品質
に電解研磨することができる。また、パルスの時間幅や
パルス数は、任意に制御できるので、被処理金属や電解
研磨溶液等の処理対象が変わってもその処理対象にマッ
チングさせることができ、処理対象が変わってもフレキ
シブルに対応して最良の研磨を行うことができる。
電解研磨用波形として、整流波形にパルスを形成するこ
とにより生成した波形を用いるので、被処理金属にはそ
のパルスに応じて短時間だけ瞬間的に逆極性の電流が流
れ、被処理金属表面での脱スケールおよび不動態化を均
一に促進させることができ、被処理金属の表面を高品質
に電解研磨することができる。また、パルスの時間幅や
パルス数は、任意に制御できるので、被処理金属や電解
研磨溶液等の処理対象が変わってもその処理対象にマッ
チングさせることができ、処理対象が変わってもフレキ
シブルに対応して最良の研磨を行うことができる。
【図１】この発明の金属表面の電解研磨装置の構成を示
すブロック図である。
すブロック図である。
【図２】電解研磨装置の構成例を概略的に示す図であ
る。
る。
【図３】全波整流波形パルス化の説明図である。
【図４】パルス波形の各種パターンを示す図である。
１，１０ 電源部 １Ａ，１１ 整流波形発生回路 １Ｂ，１２ パルス制御回路 １Ｃ，１３ 極性反転回路 ２，２０ 接続部 ３，３０ 研磨部 ３１ 被処理金属 ３２ 電極部材 ３３ モップ（帯液性物質） １１０ 変圧器 １１１ ダイオードブリッジ回路 １２１ 波形設定部 １２２ パワー制御部 １３１，１３２ トランジスタ
Claims (8)
- 【請求項１】 整流波形を所定のスイッチングタイムで
極性反転させるとともにその反転部分に所定時間幅を持
たせて整流波形にパルスを形成することにより電解研磨
用波形を生成し、 その電解研磨用波形を、被処理金属を一方の電極とし電
解質溶液を媒体として形成した通電回路に通電し、 その通電によって被処理金属の電解研磨を行うことを特
徴とする金属表面の電解研磨方法。 - 【請求項２】 上記所定のスイッチングタイムおよび所
定時間幅は、被処理金属の材質、電解質溶液の種類等の
処理条件に応じて最適マッチングして設定することを特
徴とする請求項１に記載の金属表面の電解研磨方法。 - 【請求項３】 上記所定のスイッチングタイムおよび所
定時間幅は、極性反転割合が１０〜４０％程度となるよ
うに調整してあることを特徴とする請求項１に記載の金
属表面の電解研磨方法。 - 【請求項４】 上記パルスの数は２００〜１５００ヘル
ツであることを特徴とする請求項１に記載の金属表面の
電解研磨方法。 - 【請求項５】 上記整流波形の各周期でパルスが同一パ
ターンで現れるように調整してあることを特徴とする請
求項１に記載の金属表面の電解研磨方法。 - 【請求項６】 被処理金属を一方の電極とし電解質溶液
を媒体として通電回路を形成して成る研磨部と、 整流波形を出力する整流波形発生回路と、その整流波形
をパルス波形とするべく制御信号を出力するパルス制御
回路と、その制御信号を受けて整流波形発生回路からの
整流波形の極性を所定のスイッチングタイムで反転する
とともにその反転部分に所定時間幅を持たせてパルス波
形を生成し電解研磨用波形として出力する極性反転回路
と、から成る電源部と、 上記研磨部と電源部とを接続する接続部と、 を有することを特徴とする金属表面の電解研磨装置。 - 【請求項７】 上記整流波形発生回路は単相交流の整流
回路であることを特徴とする請求項１に記載の金属表面
の電解研磨装置。 - 【請求項８】 上記整流波形発生回路は多相交流の整流
回路であることを特徴とする請求項１に記載の金属表面
の電解研磨装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16451895A JPH08337898A (ja) | 1995-06-08 | 1995-06-08 | 金属表面の電解研磨方法および電解研磨装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16451895A JPH08337898A (ja) | 1995-06-08 | 1995-06-08 | 金属表面の電解研磨方法および電解研磨装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08337898A true JPH08337898A (ja) | 1996-12-24 |
Family
ID=15794692
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16451895A Pending JPH08337898A (ja) | 1995-06-08 | 1995-06-08 | 金属表面の電解研磨方法および電解研磨装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08337898A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005226146A (ja) * | 2004-02-16 | 2005-08-25 | Kami Sangyo Kiki Kk | 金属表面の電解研磨方法 |
| CN103343381A (zh) * | 2013-07-08 | 2013-10-09 | 湖北交投四优钢科技有限公司 | 一种高频脉冲低温快速除锈装置及方法 |
| WO2019237810A1 (zh) * | 2018-06-13 | 2019-12-19 | 陈嘉朗 | 金属表面处理装置 |
| JP2021510768A (ja) * | 2018-01-26 | 2021-04-30 | ドライライテ エス．エル． | 自由固体を介したイオン輸送による金属の平滑化および研磨のための方法における電解質としてのｈ２ｓｏ４の使用 |
-
1995
- 1995-06-08 JP JP16451895A patent/JPH08337898A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005226146A (ja) * | 2004-02-16 | 2005-08-25 | Kami Sangyo Kiki Kk | 金属表面の電解研磨方法 |
| CN103343381A (zh) * | 2013-07-08 | 2013-10-09 | 湖北交投四优钢科技有限公司 | 一种高频脉冲低温快速除锈装置及方法 |
| JP2021510768A (ja) * | 2018-01-26 | 2021-04-30 | ドライライテ エス．エル． | 自由固体を介したイオン輸送による金属の平滑化および研磨のための方法における電解質としてのｈ２ｓｏ４の使用 |
| WO2019237810A1 (zh) * | 2018-06-13 | 2019-12-19 | 陈嘉朗 | 金属表面处理装置 |
| CN110592651A (zh) * | 2018-06-13 | 2019-12-20 | 陈嘉朗 | 金属表面处理装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20041214 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20050412 |