JPH08334731A - アイソレータ付き無偏光フィルタ - Google Patents

アイソレータ付き無偏光フィルタ

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JPH08334731A
JPH08334731A JP13931295A JP13931295A JPH08334731A JP H08334731 A JPH08334731 A JP H08334731A JP 13931295 A JP13931295 A JP 13931295A JP 13931295 A JP13931295 A JP 13931295A JP H08334731 A JPH08334731 A JP H08334731A
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beams
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Toshio Sakane
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 境界面反射依存性、および透過偏光依存性を
小さくし、光システム動作を安定化し得るアイソレータ
付き無偏光フィルタの提供。 【構成】 入射光を2つの偏光ビームに分離する偏光分
離素子と、前記偏光ビームに45度の偏光回転を与える
偏光回転ファラデイ素子と、この45度回転偏光ビーム
を、前記偏光分離素子から出射された偏光ビームの偏光
方向とを直交する偏光方向を有する偏光ビームに変換す
る半波長板と、これらの偏光ビームを1本の偏光ビーム
に合成する偏光合成素子とを順次に配置し、前記偏光回
転ファラデイ素子と、前記半波長板との間にバンドパス
光フィルタを配置して透過波長を可変にしたアイソレー
タ付き無偏光フィルタ。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、アイソレータ付き無偏
光フィルタに関するものであって、光通信システムに有
用なものである。
【0002】
【従来の技術】光通信システムは、光増幅器の実用化に
よって、実用可能な現実的システムとなりつつある。ま
た波長多重化により、通信情報量の増大も可能になりつ
つある。このような光通信システムにおいては、特定の
狭い波長帯域のみを透過し、それ以外の波長帯域を遮蔽
するバンドパス光フィルタは、不可欠な重要部材の一つ
である。
【0003】例えば波長多重光通信システムにおいて、
光フィルタは、重複する多数の波長光のなかから、特定
波長の光のみを選択する機能を有する。また、光増幅器
中の光フィルタは、発生する自然放出光(ASE)を遮
断し、所望の信号光のみを透過させる機能を有する。
【0004】バンドパス光フィルタには、下記のような
種類がある。 (イ)屈折率の異なる2種の誘電体が交互に多層に積層
されている誘電体多層膜フィルタ(以下単に光フィルタ
と記す) (ロ)端面に高反射膜を具備している面を、互に平行に
対向させたファブリペローフィルタ (ハ)ファイバに回折格子を刻み込んだグレーティング
ミラー
【0005】上記のバンドパス光フィルタの中でも、光
フィルタ((イ))には、(イ)膜厚、層数を変化させ
ることにより、中心透過波長、および透過波長幅を制御
することができること、(ロ)入射角を変化させること
により透過波長を変化させ得ること、(ハ)環境温度に
対する温度依存性が低いこと、および(ニ)寿命が長い
ことなどの特長があるため、広く実用されている。
【0006】このような光フィルタは、入射角を変化さ
せることにより、透過波長を設定するものであるから、
必然的に境界面における反射光、および透過光の偏光依
存性を有し、挿入損(以下ILと記す)の偏光依存性
(以下PDLと記す)がある。特に、光増幅器を数百段
も直列に接続する光システムにおいては、それらの各々
に発生する小さなPDLが累積されると、出力端におい
ては大きなPDLとなり、これが光システム動作を不安
定にするという欠点がある。
【0007】光増幅器は、光フィルタの他にアイソレー
タを含んでいる。このアイソレータは入射信号が光増幅
器内部で反射し、前段の増幅器、又は光源に戻って増幅
度、又は波長を変化させることを防止すること、すなわ
ち戻り光雑音を防止することを目的として用いられるも
のである。光通信システムにおいては、その線路を構成
するシングルモードファイバ中において偏光がランダム
になるため、アイソレータは、偏光無依存性であること
が必要である。このような要件を満たすアイソレータ
を、以下無偏波アイソレータと記す。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】本発明は光フィルタの
上記の問題点、すなわち境界面における反射光および透
過光の偏光依存性を小さくし、光システム動作を安定化
し得るアイソレータ付き無偏光フィルタを提供しようと
するものである。
【0009】特に本発明は、入射光の偏光方向に無関係
に、光フィルタへの入射偏光を一定化し、それによって
PDLを防止し、アイソレータ機能を光フィルタに付加
し、さらにILの波長依存性が小さなアイソレータ付き
無偏光フィルタを提供しようとするものである。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明は光フィルタを、
無偏波アイソレータのファラデイ素子と、半波長板の間
に配置することによって、上記課題の解決に成功したも
のである。
【0011】すなわち本発明のアイソレータ付き無偏光
フィルタは、入射光ビームを互に直交する偏光方向を有
する2つの偏光ビームに分離し、これらを出射する偏光
分離素子と、この偏光分離素子から入射した2つの偏光
ビームのそれぞれに、45度の偏光回転を与えて出射す
る45度偏光回転ファラデイ素子と、前記45度偏光回
転ファラデイ素子から入射した前記2つの偏光ビームの
それぞれを、前記偏光分離素子から出射された2つの偏
光ビームと直交する偏光方向を有する2つの偏光ビーム
に変換してこれらを出射する半波長板と、前記半波長板
から入射した2つの偏光ビームを、1本の偏光ビームに
合成し、これを出射する偏光合成素子とを有し、前記4
5度偏光回転ファラデイ素子と、前記半波長板との間
に、バンドパス光フィルタを配置して透過波長を変化可
能にしたことを特徴とするものである。
【0012】本発明のアイソレータ付き無偏光フィルタ
において、前記バンドパス光フィルタが入射角により透
過波長が変化する誘電体多層膜フィルタであること、前
記45度偏光回転ファラデイ素子への印加磁場が、前記
偏光分離素子から入射した2つの偏光ビームの偏光方向
に対して同一方向の磁場であること、前記誘電体多層膜
フィルタの回転軸が前記偏光分離素子から出射する2つ
の偏光方向のいずれか一方と一致していること、および
前記誘電体多層膜フィルタがその回転軸の廻りに入射角
度可変であることが好ましい。
【0013】本発明のアイソレータ付き無偏光フィルタ
において、前記45度偏光回転ファラデイ素子が、磁場
印加手段を有し、この磁場の方向が、前記偏光分離素子
から入射した2つの偏光ビームに対して互に逆方向であ
ること、および前記バンドパス光フィルタが入射角によ
り透過波長が変化する誘電体多層膜フィルタであって、
前記45度偏光回転ファラデイ素子から入射する前記2
つの偏光ビームの偏光方向に対して平行又は直交する方
向の回転軸の廻りに角度可変であることが好ましい。
【0014】
【作用】本発明のアイソレータ付き無偏光フィルタを添
付図面を参照しながら下記に説明する。図1Aは、本発
明のアイソレータ付き無偏光フィルタの一実施態様の構
成を示す説明図であり、図1Bは図1Aのアイソレータ
付き無偏光フィルタの座標軸方向を示し、図2Aは、図
1のアイソレータ付き無偏光フィルタ内各部位において
形成される二つの偏光の位相関係を示す説明図であり、
図2Bは、その座標軸方向を示す。こゝで、図2Aにお
ける偏光方向は、光の進行方向に向って見たときのもの
である。
【0015】図1Aにおいて、偏光分離素子1および偏
光合成素子2は、複屈折素子、例えばルチル、又は方解
石などからなるものである。入射光ビーム3が偏光分離
素子1に、図1Bに示されているZ軸方向に入射し、こ
の偏光分離素子1により、互に直交する2つの偏光方向
の偏光ビーム4(E−ray4)と偏光ビーム5(O−
ray5)に分離され出射される。このE−ray4お
よびO−ray5は、図2A−(1)に示されているよ
うに、互に直交する偏光方向を有する。但し、図2Aの
座標軸は図2Bに示されているように、x軸およびy軸
である。すなわち、E−ray4はx軸方向の偏光方向
を有し、O−ray5はy軸方向の偏光方向を有する。
【0016】偏光ビーム4および5は45度偏光回転フ
ァラデイ素子6に入射する。このファラデイ素子6は、
YIG(イットリウム鉄ガーネット)膜又はGdBiI
G(ビスマス置換ガーネット)膜などからなるものであ
る。このファラデイ素子6において、磁石(図示されて
いない)により、図1Aに示されているように−Z軸方
向の磁場7を印加すると、ファラデイ素子6を透過する
2つの偏光は、Z軸に対して左廻りの偏光回転を受け、
偏光4' および5' として出射する。すなわち、ファラ
デイ素子6の長さを調節して、偏光回転角度を45度に
設定し、これに例えばSm −Co 磁石などにより、飽和
磁場を印加するとファラデイ素子6から出射される2つ
の透過偏光ビームは図2A−(2)に示されているよう
に、図2A−(1)に示されている偏光方向から45度
回転した偏光4' ,5' となる。
【0017】偏光ビーム4' を、y軸と22.5度の角
度をなす方向の主軸22を有する半波長板8に入射し、
これを透過させ出射させると、この出射偏光は、図2A
−(3)に示されているように、y軸方向の偏光方向を
有する偏光ビーム4''となる。すなわちこの偏光ビーム
4''の偏光方向は前記偏光ビーム4(図2(A)−
(1))の偏光方向と直交するものである。また偏光ビ
ーム5' を、x軸と22.5度の角度をなす主軸23を
有する半波長板9に入射し、これを透過させ、出射させ
ると、この出射偏光は、図2A−(3)に示されている
ようにx軸方向の偏光方向を有する偏光ビーム5''とな
る。すなわち、この偏光ビーム5''は前記偏光ビーム5
(図2A−(1))の偏光方向と直交するものである。
【0018】これら偏光ビーム4'',5''を、偏光合成
素子2に入射する。偏光合成素子2は、偏光分離素子1
と同一素材からなり、但し、その方向を180度回転さ
せたものである。偏光合成素子2において、互に直交す
る偏光方向を有する偏光4''および5''は、合成されて
1本のビーム10として出射される。
【0019】戻り光に対する各素子の作用を下記に説明
する。偏光合成素子2に、逆方向に入射した光ビーム
は、2つの偏光に分離され、半波長板8,9を逆方向に
伝播して、図2A−(4)に示されている偏光方向を有
する偏光ビーム4''' ,5''' となる。この偏光ビーム
4''' ,5''' は、ファラデイ素子6に逆方向に入射さ
れ、磁場7により(−Z)軸方向に対して右廻りに45
度回転し、図2A−(5)に示されているように偏光ビ
ーム4'''',5''''となる。これら偏光ビーム4'''',
5''''はそれぞれ、前記偏光ビーム4,5と直交する偏
光方向を有する。この偏光ビーム4'''',5''''が逆方
向に偏光分離素子1に入射されると、図2A−(6)に
示されているように、偏光ビーム4''''はO−ray1
2aとなって直進し、偏光ビーム5''''はE−ray1
2bとなって屈折する。O−ray12aおよびE−r
ay12bの光路は、入射光3の光路から外れており、
従って逆方向の戻り光が入射光3の光路と一致すること
はない。
【0020】前記偏光分離素子1、45度偏光回転ファ
ラデイ素子6、半波長板8,9、および偏光合成素子2
からなるアイソレータは、入力光3の偏光方向に依存せ
ず、無偏波アイソレータとしての機能を示す。
【0021】本発明においてファラデイ素子6と、半波
長板8,9との間に光フィルタ11が配置される。この
光フィルタ11にファラデイ素子6からの偏光ビーム
4' ,5' が入射される。偏光ビーム4' ,5' は、そ
の偏光方向がx−y面内のx軸から互に反対方向に45
度傾いた方向であり、入力光ビーム3の偏光方向には依
存しない。偏光ビーム4' ,5' のx成分の和は入力ビ
ーム3の偏光方向に依存せず、一定であり、またそれら
のy成分の和も同様に一定である。すなわち、光フィル
タ11に入射する偏光ビーム4' ,5' のP成分および
S成分は入射光3の偏光状態に依存せず一定である。従
って光フィルタ11に起因する偏光依存損失(PDL)
はゼロとなる。
【0022】これは、光フィルタ11の回転軸が、y軸
方向(O−ray5方向すなわち回転軸11a)であっ
ても、或はx軸方向(E−ray4方向、回転軸11
b)であっても同様であって、ともにPDLはゼロとな
る。光フィルタ11以外の部位における偏光依存損失
は、これらの部位の構成が、従来(手段)の無偏波アイ
ソレートと同一であるから、実用可能な低レベルにあ
る。すなわち、バンドパス光フィルタ11と、アイソレ
ータとを組み合わせることにより偏光依存損失(PD
L)の無い、無偏波アイソレータ付き光フィルタが構成
される。
【0023】光フィルタ11をその回転軸のまわりに傾
けると、透過波長を変化させることができる。この場
合、回転軸は、図3に示されているように、x軸方向に
設定してもよく(回転軸11b)或はy軸方向に設定
(回転軸11a)してもよい。光フィルタ11とその回
転軸11a,11bと、偏光ビーム4' ,5' との関係
は図3に示されているようになる。
【0024】上記の実施態様においては、半波長板8,
9の光軸を、互に90度の角度をなすように交差させた
ものであるが、これら半波長板8,9のいずれか一方の
みを用いて、これに偏光ビーム4' および5' を共通に
通してもよい。
【0025】図4は、本発明のアイソレータ付き無偏光
フィルタの他の実施態様の構成を示す説明図であって、
そのx,y,z軸方向は、図1Bに示されているものと
同一であり、図5は図4のアイソレータ付き無偏光フィ
ルタの各部位において形成される二つの偏光の方向を示
す説明図であり、そのx,y,z軸方向は図2Bに示さ
れているものと同一である。
【0026】図4に示されたアイソレータ付き無偏光フ
ィルタにおいて、ファラデイ素子13,14は互に分割
されていて偏光分離素子1から出射される偏光ビーム4
(E−ray)はファラデイ素子13に入射され、偏光
ビーム5(O−ray)はファラデイ素子14に入射さ
れる。ファラデイ素子13においては方向15の磁場が
印加され、ファラデイ素子14においては方向16の磁
場が印加される。これらファラデイ素子13,14を形
成する材料(素材)および印加磁場形成のための磁石の
材料(素材)は、図1Aのアイソレータ付き無偏光フィ
ルタにおいて用いられるものと同じである。このファラ
デイ素子13,14を1回通過することによる偏光の回
転角度は前記と同様に45度である。
【0027】前記のように偏光分離素子1において分離
された2つの偏光ビーム4および5は図5−(1)に示
されている偏光方向を有している。偏光ビーム4には、
ファラデイ素子13における方向15の磁場が印加さ
れ、Z軸方向に右廻りに45度回転し、図5−(2)に
示されている偏光ビーム4' の偏光方向を有するように
なる。また、偏光ビーム5にはファラデイ素子14にお
いて、方向16(方向15に対し反対方向)の磁場が印
加され、Z軸方向に向って左廻り回転し、図5−(2)
に示されている偏光ビーム5' の偏光方向を有するよう
になる。すなわち、ファラデイ素子13,14を透過し
た偏光ビーム4' ,5' は互に同一偏光方向を有するよ
うになる。
【0028】ファラデイ素子13,14から出射された
偏光ビーム4' ,5' はそれぞれ半波長板17,18に
入射される。偏光ビーム4' に対応する半波長板17の
主軸24はy軸に対し22.5度をなし、偏光ビーム
5' に対応する半波長板18の主軸25はx軸に対し2
2.5度をなしている。上記半波長板17,18を透過
した偏光ビーム4''および5''は図5−(3)に示され
ているように、互に直交する偏光方向を有している。偏
光ビーム4''および5''は、偏光合成素子2において合
成され単一の偏光ビーム10として出力される。
【0029】偏光合成素子2からの戻り光(偏光ビー
ム)は、半波長板17,18によりその偏光方向が回転
し、図5−(4)に示されているように、互に同一偏光
方向を有する戻り偏光ビーム4''' ,5''' となる。こ
の戻り偏光ビーム4''' ,5''' は、ファラデイ素子1
3,14において、回転する。すなわち戻り偏光ビーム
4''' の偏光方向はファラデイ素子13において、(−
Z)軸に対して左廻りに45度回転し、戻り偏光ビーム
5''' の偏光方向は、ファラデイ素子14において、
(−Z)軸に対して右廻りに45度回転する。その結果
互に平行な戻り偏光ビーム4''' ,5''' の偏光方向は
図5−(5)に示されているように互に直交する偏光方
向を有する戻り偏光ビーム4'''',5''''となり、又こ
れらは、それぞれ偏光ビーム4,5とは互に直交する偏
光方向となる。この戻り偏光ビーム4'''',5''''は、
図2−(6)により説明したように、入射偏光ビーム3
と同一光路に戻ることはない。
【0030】本発明においてファラデイ素子13,14
と、半波長板17,18の間に光フィルタ19を配置す
ると、光フィルタ19に入射する偏光ビーム4' ,5'
の偏光方向は、ともにx−y面内のx軸から45度傾い
た方向であるから、これは入射偏光ビーム3の偏光方向
とは無関係であって常に一定となる。すなわち、この光
フィルタ19は、入射光3の偏光状態に依存することが
なく、すなわちその偏光依存性損失(PDL)がゼロと
なる。
【0031】図6に偏光ビーム4' ,5' と光フィルタ
19の回転軸との関係を示す。図6において、光フィル
タ19を、それに入射する偏光ビーム4' ,5' の偏光
方向(互に平行)に直交する回転軸21のまわりに角度
変更させると、それを透過する偏光ビームは、常にP偏
光となる。また光フィルタ19を、それに入射する偏光
ビーム4' ,5' の偏光方向(互に平行)に平行な回転
軸20のまわりに角度変更させると、それを透過する偏
光は常にS偏光となる。
【0032】反射率の入射角依存性はP偏光の方がS偏
光よりも小さい。すなわち光フィルタ19を回転軸21
のまわりに角度可変とすることにより入射角依存性(透
過波長依存性と等価)のより少ない、かつ偏光依存損失
(PDL)のない無偏波アイソレータ付き波長可変フィ
ルタの構成が可能になる。
【0033】図4において、互に分割されたファラデイ
素子13,14を配置し、それぞれに逆方向の磁場1
5,16を印加する。このように、互に分離しているフ
ァラデイ素子に、別個の磁石を用いて磁場を印加する場
合、これらに入射される偏光ビーム4,5の間隔を十分
大きくする必要がある。しかしこれは偏光分離素子1、
および偏光合成素子2の長さが増すことを意味し、寸法
的に問題がある。そこで筒状の磁石を軸方向に沿って二
分割し、それぞれを逆方向に、適当な間隔をおいて配置
すれば、それぞれを含むファラデイ素子13,14中に
逆磁場の区分が生ずるから、これらを通る偏光ビーム
4,5の間隔を小さくすることが可能となる。
【0034】
【発明の効果】本発明のアイソレータ付き無偏光フィル
タは偏光依存性損失(PDL)をゼロとすることがで
き、かつ無偏光アイソレータの機能を併せ有し、かつ、
ILの波長依存性が小さい波長可変光フィルタとして有
用なものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1(A)は本発明のアイソレータ付き無偏光
フィルタの一実施態様の構成を示す説明図。図1(B)
は図1(A)のアイソレータ付き無偏光フィルタの主要
部位の軸方向を示す説明図。
【図2】図2(A)は図1のアイソレータ付き無偏光フ
ィルタの主要部位における偏光方向を示す説明図。図2
(B)は、図2(A)の偏光方向の軸方向を示す説明
図。
【図3】図3は、図1および2のアイソレータ付き無偏
光フィルタの光フィルタの回転軸と、偏光ビームの偏光
方向との関係を示す説明図。
【図4】図4は本発明のアイソレータ付き無偏光フィル
タの他の実施態様の構成を示す説明図。
【図5】図5は、図4のアイソレータ付き無偏光フィル
タの主要部位における偏光方向を示す説明図。
【図6】図6は、図4および5のアイソレータ付き無偏
光フィルタの光フィルターの回転軸と、偏光ビームの偏
光方法との関係を示す説明図。
【符号の説明】
1…偏光分離素子 2…偏光合成素子 3…入射光ビーム 4…偏光ビーム(E−ray) 5…偏光ビーム4に直交する偏光ビーム(O−ray) 6,13,14…偏光回転ファラデイ素子 7,15,16…磁場方向 4' ,5' …偏光ビーム4,5から45度回転した偏光
ビーム 8,9,17,18…半波長板 4'',5''…半波長板を透過した偏光ビーム 10…合成偏光ビーム 11,19…光フィルタ 11a…光フィルタのy軸方向回転軸 11b…光フィルタのx軸方向回転軸 4''' ,5''' ,4'''',5''''…戻り偏光ビーム 12a…直進する戻り偏光ビーム 12b…屈折する戻り偏光ビーム 20,21…光フィルタの回転軸 22,23,24,25…半波長板の主軸

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 入射光ビームを互に直交する偏光方向を
    有する2つの偏光ビームに分離し、これらを出射する偏
    光分離素子と、この偏光分離素子から入射した前記2つ
    の偏光ビームのそれぞれに45度の偏光回転を与えて出
    射する45度偏光回転ファラデイ素子と、前記45度偏
    光回転ファラデイ素子から入射した前記2つの偏光ビー
    ムのそれぞれを、前記偏光分離素子から出射された2つ
    の偏光ビームと直交する偏光方向を有する2つの偏光ビ
    ームに変換してこれらを出射する半波長板と、前記半波
    長板から入射した前記2つの偏光ビームを、1本の偏光
    ビームに合成し、これを出射する偏光合成素子とを有
    し、 前記45度偏光回転ファラデイ素子と、前記半波長板と
    の間に、バンドパス光フィルタを配置して透過波長を変
    化可能にしたことを特徴とするアイソレータ付き無偏光
    フィルタ。
  2. 【請求項2】 前記バンドパス光フィルタが、入射角に
    より透過波長が変化する誘電体多層膜フィルタであるこ
    と、前記45度偏光回転ファラデイ素子への印加磁場
    が、前記偏光分離素子から入射した2つの偏光ビームに
    対して同一方向の磁場であること、前記誘電体多層膜フ
    ィルタの回転軸が、前記偏光分離素子から出射する2つ
    の偏光方向のいずれか一方と一致していること、および
    前記誘電体多層膜フィルタがその回転軸の廻りに入射角
    度可変であることを特徴とする、請求項1に記載のアイ
    ソレータ付き無偏光フィルタ。
  3. 【請求項3】 前記45度偏光回転ファラデイ素子が、
    磁場印加手段を有し、この磁場の方向が、前記偏光分離
    素子から入射した2つの偏光ビームに対して互いに逆方
    向であること、および前記バンドパス光フィルタが、入
    射角により透過波長が変化する誘電体多層膜フィルタで
    あって、前記45度偏光回転ファラデイ素子から入射す
    る前記2つの偏光ビームの偏光方向に対して平行又は直
    交する方向の回転軸の廻りに角度可変である、請求項1
    に記載のアイソレータ付き無偏光フィルタ。
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JP2020041960A (ja) * 2018-09-13 2020-03-19 株式会社片岡製作所 分光分析装置

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