JPH08319337A - Epoxy resin mixture, epoxy resin composition, cured product and laminate - Google Patents

Epoxy resin mixture, epoxy resin composition, cured product and laminate

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JPH08319337A
JPH08319337A JP9173396A JP9173396A JPH08319337A JP H08319337 A JPH08319337 A JP H08319337A JP 9173396 A JP9173396 A JP 9173396A JP 9173396 A JP9173396 A JP 9173396A JP H08319337 A JPH08319337 A JP H08319337A
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JP
Japan
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epoxy resin
polymer
weight
formula
resin composition
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Application number
JP9173396A
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Japanese (ja)
Inventor
Kenichi Kuboki
健一 窪木
Yasumasa Akatsuka
泰昌 赤塚
Yoshiro Shimamura
芳郎 嶋村
Hiromi Morita
博美 森田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Kayaku Co Ltd
Original Assignee
Nippon Kayaku Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH08319337A publication Critical patent/JPH08319337A/en
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0313Organic insulating material
    • H05K1/032Organic insulating material consisting of one material
    • H05K1/0326Organic insulating material consisting of one material containing O

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  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)

Abstract

PURPOSE: To obtain an epoxy resin mixture capable of giving cured products with low dielectric constant, low dielectric dissipation factor, low hygroscopicity and high heat resistance, useful for laminates, comprising a phenolated polybutadiene lower (co)polymer's glycidylated product and a specific epoxy resin. CONSTITUTION: This mixture comprises (A) a phenolated polybutadiene lower (co)polymer's glycidylated epoxy resin obtained by adding to (i) a butadiene lower (co)polymer (pref. with a number-average molecular weight of 500-2000) (ii) a phenolic compound at the molar ratio of the component (ii) to the double bond in the component (i) of pref. 0.27 to 0.45 and (B) an epoxy resin of formula I [A is of formula II (R is H, a halogen, etc. ; G is glycidyl; (l) is 1-2), X is of formula III ((m) is the same as (l); (n) is >=0] which is obtained, for example, by glycidylating a phenolic resin prepared by reaction between a phenolic compound and dicyclopentadiene in the presence of an acid catalyst.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、低誘電率、低誘電
正接、低吸湿性、高耐熱性を示す硬化物を得ることがで
き、積層板(プリント配線板)用に極めて有用な成形性
に優れたエポキシ樹脂混合物及びエポキシ樹脂組成物に
関する。
TECHNICAL FIELD The present invention can provide a cured product having a low dielectric constant, a low dielectric loss tangent, a low hygroscopicity, and a high heat resistance, and is extremely useful in forming a laminate (printed wiring board). And an epoxy resin composition having excellent properties.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、電気・電子分野における発展に伴
い、各電気・電子部品の性能及びその各原料に対する要
求性能は益々厳しくなっている。特に積層板(プリント
配線板)においては、電気・電子部品の高密度実装のた
めの回路パターンの微細化、信号の高速化、高周波数化
に伴って、信号の遅延、伝送ロス等の問題が浮上してき
た。このため、コンピューターや通信機器に使用される
プリント配線板には、誘電率及び誘電正接が低いものが
求められている。
2. Description of the Related Art In recent years, with the development in the electric / electronic fields, the performance of each electric / electronic component and the performance required for each raw material thereof have become more and more severe. In particular, in laminated boards (printed wiring boards), problems such as signal delay and transmission loss are accompanied by miniaturization of circuit patterns for high-density mounting of electric / electronic components, speeding up of signals, and higher frequencies. It has surfaced. For this reason, printed wiring boards used in computers and communication devices are required to have low permittivity and dielectric loss tangent.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】これらの要求に応える
ものとして、ポリエチレンやフッ素樹脂等を用いた積層
板が開発されているが、銅箔との接着強度や耐熱性の低
下等の問題がある。そのため、最近急速に普及されつつ
ある移動式通信機器等では、その性格上あらゆる環境に
耐えることが必要であり、さらに現在の高密度実装法に
耐え得る物性を実現するには、これらの樹脂では充分と
言えない。
To meet these demands, a laminated board using polyethylene, fluororesin or the like has been developed, but there are problems such as a decrease in adhesive strength with a copper foil and heat resistance. . For this reason, mobile communication devices, etc., which have been rapidly becoming popular recently, are required to withstand all environments due to their characteristics, and in order to realize the physical properties that can withstand the current high-density mounting method, these resins cannot be used. Not enough.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明者らは前記のよう
な課題を解決する方法について鋭意研究の結果、本発明
を完成した。即ち、本発明は、(1)ブタジエン低
(共)重合体にフェノール類を付加して得られるフェノ
ール化ポリブタジエン低(共)重合体をグリシジル化し
て得られるエポキシ樹脂(A)及び式(1)
The present inventors have completed the present invention as a result of earnest research on a method for solving the above problems. That is, the present invention relates to (1) an epoxy resin (A) obtained by glycidylating a phenolized polybutadiene low (co) polymer obtained by adding a phenol to a butadiene low (co) polymer and a formula (1).

【0005】[0005]

【化3】 Embedded image

【0006】(式中、Aは式(2)を、またXは式
(3)
(Where A is equation (2) and X is equation (3).

【0007】[0007]

【化4】 [Chemical 4]

【0008】(式(2)及び(3)中複数存在するRは
それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、又は炭素数
1〜10のアルキル基を表す。Gはグリシジル基を表
す。l、mは1〜2の整数を表す。)をそれぞれ表し、
l、mは同一であっても異なっていてもよい。また、n
は0以上の整数を表す。)で表されるエポキシ樹脂
(B)を含有するエポキシ樹脂混合物、(2)上記
(1)記載のエポキシ樹脂混合物、硬化剤を含有するエ
ポキシ樹脂組成物、(3)上記(2)記載のエポキシ樹
脂混合物を硬化してなる硬化物、(4)上記(2)記載
のエポキシ樹脂混合物を用いて調製されてなる積層板に
関する。
(In the formulas (2) and (3), a plurality of R's each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. G represents a glycidyl group. Represents an integer of 1 to 2),
l and m may be the same or different. Also, n
Represents an integer of 0 or more. ) An epoxy resin mixture containing the epoxy resin (B) represented by the formula (2), (2) an epoxy resin mixture according to the above (1), an epoxy resin composition containing a curing agent, (3) an epoxy according to the above (2). A cured product obtained by curing a resin mixture, and (4) a laminated board prepared by using the epoxy resin mixture as described in (2) above.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】上記(1)記載のエポキシ樹脂
(A)の原料であるフェノール化ブタジエン低(共)重
合体の合成法としては、例えばブタジエン低(共)重合
体にフェノール類を付加する方法が挙げられる。該ブタ
ジエン(共)重合体としてはその数平均分子量が好まし
くは300〜3000、より好ましくは500〜200
0のブタジエン低重合体、あるいはブタジエンと共役ジ
オレフィン及び/または芳香族ビニルモノマー等との低
共重合体等を挙げることができる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION As a method for synthesizing a phenolized butadiene low (co) polymer which is a raw material of the epoxy resin (A) described in (1) above, for example, phenols are added to a butadiene low (co) polymer. There is a method of doing. The butadiene (co) polymer has a number average molecular weight of preferably 300 to 3000, more preferably 500 to 200.
No. 0 butadiene low polymer or a low copolymer of butadiene with a conjugated diolefin and / or an aromatic vinyl monomer or the like.

【0010】該ブタジエンの低重合体は公知の方法で製
造できる。例えばアルカリ金属または有機アルカリ金属
化合物を触媒としてブタジエンを0〜100℃の温度で
アニオン重合させる方法などによって製造することが出
来る。この場合、分子量を制御してゲル分などの少ない
低重合体を得るためには、ベンジルナトリウム等の有機
アルカリ金属化合物を触媒とし、アルキルアリール基を
有する化合物、例えばトルエンなどを連鎖移動剤とする
連鎖移動重合法、テトラヒドロフラン溶媒中でナフタレ
ンなどの多環芳香族化合物を活性剤とし、ナトリウムな
どのアルカリ金属を触媒とするリビング重合法、トルエ
ン、キシレンなどの芳香族炭化水素を溶媒とし、ナトリ
ウムなどのアルカリ金属を触媒とし、ジオキサンなどの
エーテル類を添加して分子量を制御する重合法、または
コバルト、ニッケル類等の第8族金属のアセチルアセナ
ート化合物及びアルキルアルミニウムハロゲニドを触媒
とする配位アニオン重合法等の方法が好ましい。
The butadiene low polymer can be produced by a known method. For example, it can be produced by a method of anionically polymerizing butadiene at a temperature of 0 to 100 ° C. using an alkali metal or organic alkali metal compound as a catalyst. In this case, in order to control the molecular weight to obtain a low polymer with less gel content, etc., an organic alkali metal compound such as benzyl sodium is used as a catalyst, and a compound having an alkylaryl group, for example, toluene is used as a chain transfer agent. Chain transfer polymerization method, living polymerization method using polycyclic aromatic compounds such as naphthalene as an activator in a tetrahydrofuran solvent and alkali metal such as sodium as a catalyst, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene as a solvent, sodium, etc. Method of controlling the molecular weight by adding ethers such as dioxane and the like with an alkali metal as a catalyst, or coordination using an acetylacenate compound of a Group 8 metal such as cobalt and nickel and an alkylaluminum halogenide as a catalyst A method such as an anionic polymerization method is preferable.

【0011】また、前記ブタジエン低共重合体として
は、例えばブタジエンに対して好ましくは3〜40モル
%、より好ましくは5〜30モル%のイソプレン、2,
3ージメチルブタジエン、ピペリレン等の共役オレフィ
ンまたはスチレン、αーメチルスチレン、ビニルトルエ
ン、ビニルベンゼン等の芳香族ビニルモノマーを共重合
させたものなどを使用することができる。
The butadiene low copolymer is, for example, preferably 3 to 40 mol%, more preferably 5 to 30 mol% isoprene, 2, or 2, based on butadiene.
A conjugated olefin such as 3-dimethylbutadiene or piperylene or a copolymer of aromatic vinyl monomers such as styrene, α-methylstyrene, vinyltoluene and vinylbenzene can be used.

【0012】また、ブタジエン低(共)重合体にフェノ
ール類を付加する方法は特に限定されず、例えば特開昭
61ー126162号公報等に記載の方法などを用いる
ことができる。
The method for adding phenols to the butadiene low (co) polymer is not particularly limited, and the method described in, for example, JP-A-61-126162 can be used.

【0013】即ちルイス酸触媒の存在下において、ブタ
ジエン低(共)重合体にフェノール類などを反応させる
方法を用いることができる。この際用いうるフェノール
類の具体例としては、フェノール、o−クレゾール、m
−クレゾール、p−クレゾール、2,4ージメチルフェ
ノール、2,6ージメチルフェノール、2ーtertブ
チルー5ーメチルフェノール、臭素化フェノール、ハイ
ドロキノン、2ーメチルハイドロキノン、レゾルシン、
カテコール、1ーナフトール、2ーナフトール、2,7
ージヒドロキシナフタレン、1,6ージヒドロキシナフ
タレン等が挙げられるがこれらに限定されない。
That is, a method of reacting a butadiene low (co) polymer with a phenol or the like in the presence of a Lewis acid catalyst can be used. Specific examples of phenols that can be used at this time include phenol, o-cresol, and m.
-Cresol, p-cresol, 2,4-dimethylphenol, 2,6-dimethylphenol, 2-tertbutyl-5-methylphenol, brominated phenol, hydroquinone, 2-methylhydroquinone, resorcin,
Catechol, 1 naphthol, 2 naphthol, 2,7
-Dihydroxynaphthalene, 1,6-dihydroxynaphthalene and the like are included, but are not limited thereto.

【0014】該フェノール類の使用量はブタジエン低
(共)重合体中に存在する二重結合のモル数よりも多い
モル数を使用する必要があり、好ましくは1.2倍モル
以上、より好ましくは1.2〜2倍モルである。また、
フェノール類の付加量がブタジエン低(共)重合体中に
存在する二重結合1モルに対して0.25〜0.5モル
となるのが好ましく、0.27〜0.45モルとなるの
が特に好ましい。
The amount of the phenols used should be larger than the number of double bonds present in the butadiene low (co) polymer, preferably 1.2 times or more, and more preferably 1.2 times or more. Is 1.2 to 2 times the molar amount. Also,
The addition amount of phenols is preferably 0.25 to 0.5 mol, and more preferably 0.27 to 0.45 mol, based on 1 mol of the double bond present in the butadiene low (co) polymer. Is particularly preferable.

【0015】前記ルイス酸触媒の用いうる具体例として
は、たとえば三フッ化ホウ素・エーテル錯体、三フッ化
ホウ素・フェノール錯体等の三フッ化ホウ素錯体類等が
挙げられる。ルイス酸触媒の使用量は特に限定されず、
使用する触媒の種類に応じて適宜選択でき、例えば三フ
ッ化ホウ素を用いた場合は、ブタジエン低(共)重合体
100g当り、好ましくは5〜50ミリモル、より好ま
しくは10〜20ミリモルである。
Specific examples of the Lewis acid catalyst that can be used include boron trifluoride complexes such as boron trifluoride / ether complex and boron trifluoride / phenol complex. The amount of the Lewis acid catalyst used is not particularly limited,
It can be appropriately selected depending on the type of catalyst used, and for example, when boron trifluoride is used, it is preferably 5 to 50 mmol, more preferably 10 to 20 mmol per 100 g of the butadiene low (co) polymer.

【0016】前記ブタジエン低(共)重合体にフェノー
ル類を付加する反応は、通常50〜120℃、好ましく
は70〜100℃で行うことができる。
The reaction for adding phenols to the butadiene low (co) polymer can be carried out usually at 50 to 120 ° C, preferably 70 to 100 ° C.

【0017】前記反応に於いては、フェノール類の付加
反応と同時にブタジエン(共)重合体中に存在する二重
結合の環化反応が併発し発熱するので、反応温度を制御
するために、触媒を逐次添加する方法及び/または
ブタジエン低(共)重合体を逐次添加する方法などを採
用するのが好ましいが、特にが好ましい。
In the above reaction, the cyclization reaction of the double bond existing in the butadiene (co) polymer simultaneously occurs at the same time as the addition reaction of the phenols, and heat is generated. Therefore, in order to control the reaction temperature, the catalyst is used. Is preferably used, and / or a method in which the butadiene low (co) polymer is sequentially added is preferably used, but particularly preferably.

【0018】また前記反応に於いては、反応混合物の粘
度を下げる目的で少量の不活性溶媒、例えばトルエン、
キシレンなどを使用することもできる。更に反応混合物
中の水分量は、通常100重量ppm以下、好ましくは
60重量ppm以下とするのが好ましい。
In the above reaction, a small amount of an inert solvent such as toluene, for the purpose of decreasing the viscosity of the reaction mixture,
Xylene or the like can also be used. Further, the water content in the reaction mixture is usually 100 ppm by weight or less, preferably 60 ppm by weight or less.

【0019】前記反応により得られるフェノール化ブタ
ジエン低(共)重合体は、軟化点が90〜200℃、好
ましくは100〜160℃、水酸基当量が通常250〜
700g/当量、好ましくは280〜600g/当量で
あることが好ましい。以下このようにして得られたフェ
ノール化ポリブタジエン低(共)重合物を特に断りのな
い限りフェノール樹脂(C)という。
The phenolized butadiene low (co) polymer obtained by the above reaction has a softening point of 90 to 200 ° C., preferably 100 to 160 ° C. and a hydroxyl equivalent of usually 250 to.
It is preferably 700 g / equivalent, preferably 280-600 g / equivalent. The phenolized polybutadiene low (co) polymer thus obtained will be referred to as a phenol resin (C) unless otherwise specified.

【0020】本発明に用いるエポキシ樹脂(B)は、下
記式(4)で表されるフェノール樹脂を公知の方法でグ
リシジル化して得ることができる。
The epoxy resin (B) used in the present invention can be obtained by glycidylating a phenol resin represented by the following formula (4) by a known method.

【0021】[0021]

【化5】 Embedded image

【0022】(式中、Bは式(5)を、またYは式
(6)
(Where B is the equation (5) and Y is the equation (6).

【0023】[0023]

【化6】 [Chemical 6]

【0024】(式(5)及び(6)中l、m及びRは式
(2)におけるのと同じ意味を表す。)をそれぞれ表
し、nは0以上の整数を表す。)
(In formulas (5) and (6), l, m and R have the same meanings as in formula (2)), and n represents an integer of 0 or more. )

【0025】前記式(4)で表されるフェノール樹脂の
製造法は特に限定されず、例えば以下の方法で製造でき
る。即ち、酸触媒の存在下において、フェノール類とジ
シクロペンタジエンを反応させる方法などを採用するこ
とができる。この際用いうるフェノール類としては、前
記で具体的に例示したフェノール類が挙げられるが、こ
れらに特に限定されない。
The method for producing the phenolic resin represented by the above formula (4) is not particularly limited, and for example, it can be produced by the following method. That is, a method of reacting phenols with dicyclopentadiene in the presence of an acid catalyst can be adopted. Examples of the phenols that can be used at this time include the phenols specifically exemplified above, but are not particularly limited thereto.

【0026】前記酸触媒の用いうる具体例としては、三
フッ化ホウ素やこの錯体類、塩化アルミニウム、塩化亜
鉛、硫酸、塩化チタン等のルイス酸、りん酸、硫酸、シ
ュウ酸等の無機あるいは有機酸等を挙げることができ
る。これらは単独でも二種以上併用してもよい。
Specific examples of the acid catalyst that can be used include boron trifluoride and its complexes, aluminum chloride, zinc chloride, sulfuric acid, Lewis acids such as titanium chloride, phosphoric acid, sulfuric acid, oxalic acid and other inorganic or organic acids. An acid etc. can be mentioned. These may be used alone or in combination of two or more.

【0027】上記フェノール類とジシクロペンタジエン
とを反応させる方法としては、例えば、フェノール類を
加熱溶融させ、そこへ触媒を添加し、均一に溶解した
後、50〜180℃、好ましくは80〜150℃でジシ
クロペンタジエンを滴下する。それぞれの添加量はジシ
クロペンタジエン1モルに対して、酸触媒0.001〜
0.1モル、好ましくは0.005〜0.10モルとフ
ェノール類0.1〜10モル、好ましくは0.3〜4モ
ルである。前記方法以外にも、ジシクロペンタジエンと
触媒の混合物に対してフェノール類を添加しても良い
し、ジシクロペンタジエンとフェノール類の混合物に触
媒を徐々に添加してもよい。それぞれの原料の添加時間
は、上記したような原料の配合方法及びフェノール類の
種類により異なるが、1〜10時間、その後数時間反応
させ、次に未反応モノマーを減圧加熱蒸留により留去す
ることにより、上記式(4)で表されるフェノール樹脂
が得られる。
As a method for reacting the above-mentioned phenols with dicyclopentadiene, for example, phenols are heated and melted, a catalyst is added thereto and uniformly dissolved, and then 50 to 180 ° C., preferably 80 to 150. Dicyclopentadiene is added dropwise at ° C. The addition amount of each is 0.001 to 1 mol of dicyclopentadiene,
0.1 mol, preferably 0.005 to 0.10 mol and phenols 0.1 to 10 mol, preferably 0.3 to 4 mol. Besides the above method, phenols may be added to the mixture of dicyclopentadiene and the catalyst, or the catalyst may be gradually added to the mixture of dicyclopentadiene and the phenol. The addition time of each raw material varies depending on the raw material blending method and the type of phenols as described above, but the reaction is carried out for 1 to 10 hours and then for several hours, and then the unreacted monomer is distilled off by heating under reduced pressure. Thus, the phenol resin represented by the above formula (4) is obtained.

【0028】また前記反応に於いては、反応混合物の粘
度を下げる目的で少量の不活性溶媒、例えばトルエン、
キシレン、ニトロベンゼンなどを使用することもでき
る。更に反応混合物中の水分量は、通常100重量pp
m以下、好ましくは60重量ppm以下とするのが好ま
しい。以下特に断りのない限りこのようにして得られた
フェノール樹脂をフェノール樹脂(D)という。
In the above reaction, a small amount of an inert solvent such as toluene, for the purpose of decreasing the viscosity of the reaction mixture,
Xylene, nitrobenzene, etc. can also be used. Further, the amount of water in the reaction mixture is usually 100 weight pp.
m or less, preferably 60 ppm by weight or less. Hereinafter, the phenol resin thus obtained will be referred to as a phenol resin (D) unless otherwise specified.

【0029】本発明で用いる上記(1)記載のエポキシ
樹脂(A)及びエポキシ樹脂(B)はそれぞれフェノー
ル樹脂(C)及びフェノール樹脂(D)にエピハロヒド
リンを反応させてグリシジル化させることによって得ら
れる。グリシジル化の方法としては例えば以下の方法が
挙げられる。フェノール樹脂(C)または(D)とエピ
ハロヒドリンの混合物に水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウムなどのアルカリ金属水酸化物の固体を一括で添加ま
たは徐々に添加しながら20〜120℃の間の温度で
0.5〜30時間反応させる。この際アルカリ金属水酸
化物は水溶液を使用してもよく、その場合は該アルカリ
金属水酸化物を連続的に添加すると共に反応混合物中か
ら減圧下、または常圧下、連続的に水及びエピハロヒド
リンを留出せしめ更に分液し水は除去しエピハロヒドリ
ンは反応混合物中に連続的に戻す方法でもよい。エピハ
ロヒドリンとしては、エピクロルヒドリン、エピブロム
ヒドリン、エピヨードヒドリン、β−メチルエピクロル
ヒドリン等を挙げることができるが、エピクロルヒドリ
ンが最も好ましい。
The epoxy resin (A) and the epoxy resin (B) described in (1) used in the present invention are obtained by reacting a phenol resin (C) and a phenol resin (D) with epihalohydrin to form a glycidyl group. . Examples of the glycidylation method include the following methods. At a temperature between 20 and 120 ° C., a solid of an alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide or potassium hydroxide is added to the mixture of the phenol resin (C) or (D) and epihalohydrin all at once or gradually. React for 5 to 30 hours. At this time, an aqueous solution may be used as the alkali metal hydroxide. In that case, water and epihalohydrin are continuously added from the reaction mixture under reduced pressure or normal pressure while continuously adding the alkali metal hydroxide. A method may be used in which distilling is performed, liquid separation is performed, water is removed, and epihalohydrin is continuously returned to the reaction mixture. Examples of epihalohydrin include epichlorohydrin, epibromhydrin, epiiodohydrin, β-methylepichlorohydrin, and the like, with epichlorohydrin being most preferred.

【0030】上記の方法においてフェノール樹脂(C)
または(D)中の水酸基1当量に対してエピハロヒドリ
ンの使用量は通常0.5〜20モル、好ましくは0.7
〜10モル、アルカリ金属水酸化物の使用量は通常0.
5〜1.5モル、好ましくは0.7〜1.2モルであ
る。また、ジメチルスルホン、ジメチルスルホキシド、
ジメチルホルムアミド、1,3−ジメチル−2−イミダ
ゾリジノン等の非プロトン性極性溶媒を添加することに
より加水分解性ハロゲン量の低い樹脂が得られ、電子材
料封止用の用途に適する。非プロトン性極性溶媒の使用
量はエピハロヒドリンの重量に対し5〜200重量%、
好ましくは10〜100重量%である。上記の溶媒以外
にもメタノール、エタノール等のアルコール類やジオキ
サンを添加することによっても反応が進み易くなる。ア
ルコール類やジオキサンの使用量は、エピハロヒドリン
の重量に対して通常2〜100重量%、好ましくは4〜
50重量%である。またエピハロヒドリンの使用量が少
ない場合、反応混合物の粘度が高くなるが、これを下げ
る目的で不活性溶媒、例えばトルエン、キシレン等も使
用することができる。
Phenolic resin (C) in the above method
Alternatively, the amount of epihalohydrin used is usually 0.5 to 20 mol, preferably 0.7, relative to 1 equivalent of the hydroxyl group in (D).
The amount of alkali metal hydroxide used is usually 0.1.
It is 5 to 1.5 mol, preferably 0.7 to 1.2 mol. In addition, dimethyl sulfone, dimethyl sulfoxide,
By adding an aprotic polar solvent such as dimethylformamide or 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, a resin having a low amount of hydrolyzable halogen can be obtained, which is suitable for applications for encapsulating electronic materials. The amount of the aprotic polar solvent used is 5 to 200% by weight based on the weight of epihalohydrin,
It is preferably 10 to 100% by weight. The reaction is facilitated by adding alcohols such as methanol and ethanol or dioxane in addition to the above solvents. The amount of alcohol or dioxane used is usually 2 to 100% by weight, preferably 4 to 100% by weight based on the weight of epihalohydrin.
It is 50% by weight. When the amount of epihalohydrin used is small, the viscosity of the reaction mixture increases, but an inert solvent such as toluene or xylene can be used for the purpose of decreasing the viscosity.

【0031】また、フェノール樹脂(C)または(D)
とエピハロヒドリンの混合物(上記に示した溶媒を含ん
でも良い)にテトラメチルアンモニウムクロライド、テ
トラメチルアンモニウムブロマイド、トリメチルベンジ
ルアンモニウムクロライドなどの第四級アンモニウム塩
を触媒として使用し、通常は30〜150℃、好ましく
は40℃〜120℃で1〜30時間反応させ、得られる
フェノール樹脂(C)または(D)のハロヒドリンエー
テルに水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカ
リ金属水酸化物の固体または水溶液を加え、通常20〜
120℃、好ましくは30〜100℃で1〜30時間で
反応させて、ハロヒドリンエーテルを閉環させてグリシ
ジルエーテルを得ることもできる。この場合の第四級ア
ンモニウム塩の使用量はフェノール樹脂(C)または
(D)の水酸基1当量に対して通常0.001〜0.2
モル、好ましくは0.05〜0.1モルである。
Further, the phenol resin (C) or (D)
And a mixture of epihalohydrin (which may include the solvent shown above) tetramethylammonium chloride, tetramethylammonium bromide, quaternary ammonium salts such as trimethylbenzylammonium chloride as a catalyst, usually 30 ~ 150 ℃, Preferably, the reaction is carried out at 40 ° C to 120 ° C for 1 to 30 hours, and the resulting halohydrin ether of the phenol resin (C) or (D) is a solid or aqueous solution of an alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide or potassium hydroxide. , Usually 20 ~
It is also possible to react at 120 ° C., preferably 30 to 100 ° C. for 1 to 30 hours to ring-close the halohydrin ether to obtain a glycidyl ether. In this case, the amount of the quaternary ammonium salt used is usually 0.001 to 0.2 with respect to 1 equivalent of the hydroxyl group of the phenol resin (C) or (D).
The molar amount is preferably 0.05 to 0.1 mol.

【0032】通常、これらの反応生成物は水洗後、また
は水洗無しに加熱減圧下において過剰のエピハロヒドリ
ンを除去した後、トルエン、キシレン、メチルイソブチ
ルケトン等の溶媒に溶解し、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウムなどのアルカリ金属水酸化物の水溶液を加えて
反応を行う。この場合アルカリ金属水酸化物の使用量は
フェノール樹脂(C)または(D)の水酸基1当量に対
して0.01〜0.2モル、好ましくは0.05〜0.
1モルである。反応温度は通常40〜120℃、好まし
くは50〜100℃、反応時間は通常0.5〜5時間、
好ましくは1〜3時間である。
Usually, these reaction products are washed with water or after removing excess epihalohydrin under heating and reduced pressure without washing with water, and then dissolved in a solvent such as toluene, xylene or methyl isobutyl ketone to obtain sodium hydroxide or hydroxide. The reaction is carried out by adding an aqueous solution of an alkali metal hydroxide such as potassium. In this case, the amount of the alkali metal hydroxide used is 0.01 to 0.2 mol, preferably 0.05 to 0. 0, relative to 1 equivalent of the hydroxyl group of the phenol resin (C) or (D).
It is 1 mol. The reaction temperature is usually 40 to 120 ° C., preferably 50 to 100 ° C., the reaction time is usually 0.5 to 5 hours,
It is preferably 1 to 3 hours.

【0033】反応終了後副生した塩をろ過、水洗などに
より除去し、さらに加熱減圧下においてトルエン、キシ
レン、メチルイソブチルケトン等の溶媒を留去すること
により加水分解性ハロゲン量の少ないエポキシ樹脂を得
ることができる。以上のようにしてエポキシ樹脂(A)
またはエポキシ樹脂(B)を得ることができる。
After completion of the reaction, the by-produced salt is removed by filtration, washing with water, etc., and the solvent such as toluene, xylene and methyl isobutyl ketone is distilled off under heating and reduced pressure to obtain an epoxy resin having a small amount of hydrolyzable halogen. Obtainable. As described above, the epoxy resin (A)
Alternatively, the epoxy resin (B) can be obtained.

【0034】本発明のエポキシ樹脂混合物は、エポキシ
樹脂(A)とエポキシ樹脂(B)を必須成分とし、更に
必要により他のエポキシ樹脂と併用して含有せしめても
よい。本発明のエポキシ樹脂混合物において、エポキシ
樹脂(A)とエポキシ樹脂(B)の配合比は、重量比で
エポキシ樹脂(A)/エポキシ樹脂(B)が通常0.2
5〜4.0、好ましくは0.32〜3.1、より好まし
くは0.42〜2.4の範囲である。
The epoxy resin mixture of the present invention contains the epoxy resin (A) and the epoxy resin (B) as essential components, and may be contained in combination with other epoxy resins if necessary. In the epoxy resin mixture of the present invention, the compounding ratio of the epoxy resin (A) and the epoxy resin (B) is usually such that the weight ratio of the epoxy resin (A) / epoxy resin (B) is 0.2.
The range is 5 to 4.0, preferably 0.32 to 3.1, and more preferably 0.42 to 2.4.

【0035】エポキシ樹脂(A)及びエポキシ樹脂
(B)と併用されうる他のエポキシ樹脂の具体例として
は、ノボラック型エポキシ樹脂、トリスフェノールメタ
ン系エポキシ樹脂、ビスフェノール型エポキシ樹脂、ビ
フェノール型エポキシ樹脂、フェノール類と各種アルデ
ヒド類との縮合物、脂環式エポキシ樹脂、グリシジルア
ミン系エポキシ樹脂、グリシジルエステル系エポキシ樹
脂、脂環式エポキシ樹脂、グリシジル基を有する反応性
希釈剤等が挙げられるが通常エポキシ樹脂として用いら
れるものであればこれらに限定される必要は全くない。
これらは単独で用いてもよく、2種以上を混合して使用
してもよい。併用され得る他のエポキシ樹脂の使用量
は、下記式 L=(エポキシ樹脂(A)とエポキシ樹脂(B)の合計
重量)/(併用する他のエポキシ樹脂の重量) のLが通常0.4以上、好ましくは0.6以上、より好
ましくは0.65以上となる条件を満たすものである。
Specific examples of other epoxy resins which can be used in combination with the epoxy resin (A) and the epoxy resin (B) include novolac type epoxy resin, trisphenol methane type epoxy resin, bisphenol type epoxy resin, biphenol type epoxy resin, Condensates of phenols and various aldehydes, alicyclic epoxy resins, glycidyl amine epoxy resins, glycidyl ester epoxy resins, alicyclic epoxy resins, reactive diluents having a glycidyl group and the like are usually epoxy. There is no need to be limited to these as long as it can be used as a resin.
These may be used alone or in combination of two or more. The amount of the other epoxy resin that can be used together is usually 0.4 in the following formula L = (total weight of epoxy resin (A) and epoxy resin (B)) / (weight of other epoxy resin used in combination). The above conditions are satisfied, preferably 0.6 or more, and more preferably 0.65 or more.

【0036】また、本発明のエポキシ樹脂混合物を硬化
させて難燃性を有する硬化物を得るためには、テトラブ
ロムビスフェノールAのグリシジルエーテルや、臭素化
フェノールノボラックエポキシ樹脂等のハロゲン化エポ
キシ樹脂や、水酸化アルミニウム、三酸化アンチモン等
をはじめとする一般に用いられるポリマー用難燃剤をを
併用すればよい。
Further, in order to cure the epoxy resin mixture of the present invention to obtain a cured product having flame retardancy, a glycidyl ether of tetrabromobisphenol A, a halogenated epoxy resin such as a brominated phenol novolac epoxy resin, or a , Commonly used flame retardants for polymers such as aluminum hydroxide and antimony trioxide.

【0037】本発明のエポキシ樹脂組成物は前記エポキ
シ樹脂混合物及び硬化剤を含有する。用いうる硬化剤の
具体例としては、トリエチレンテトラミン、ジエチレン
トリアミン、N−アミノエチルピペラジン、イソホロン
ジアミン等の脂肪族ポリアミン、ジアミノジフェニルメ
タン、ジアミノジフェニルスルホン等の芳香族ポリアミ
ン、ポリアミドポリアミン等のアミン系硬化剤、各種の
フェノール型ノボラック樹脂、トリスフェノールメタン
類、本発明において使用するフェノール樹脂(C)、フ
ェノール樹脂(D)等のフェノール系硬化剤、無水フタ
ル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水メチルテトラヒ
ドロフタル酸、無水メチルナフタレンジカルボン酸、無
水ピロメリット酸、無水トリメリット酸、無水ドデシル
コハク酸等の酸無水物系硬化剤、ジシアンジアミドなど
の硬化剤が挙げられるが、通常エポキシ樹脂の硬化剤と
して用いられているものであればこれらに限定される必
要は全くない。これらは単独で用いてもよく、2種以上
併用してもよい。
The epoxy resin composition of the present invention contains the above epoxy resin mixture and a curing agent. Specific examples of the curing agent that can be used include aliphatic polyamines such as triethylenetetramine, diethylenetriamine, N-aminoethylpiperazine and isophoronediamine, aromatic polyamines such as diaminodiphenylmethane and diaminodiphenylsulfone, amine curing agents such as polyamide polyamines. , Various phenol type novolac resins, trisphenolmethanes, phenolic curing agents such as phenolic resin (C) and phenolic resin (D) used in the present invention, phthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride Acid, methylnaphthalenedicarboxylic acid anhydride, pyromellitic acid anhydride, trimellitic acid anhydride, acid anhydride curing agents such as dodecyl succinic anhydride, and curing agents such as dicyandiamide, but usually with a curing agent for epoxy resins There is no need to be limited to these as long as they are used Te. These may be used alone or in combination of two or more.

【0038】本発明のエポキシ樹脂組成物において使用
される硬化剤の量は、使用するエポキシ樹脂のエポキシ
基1当量に対して、通常0.5〜1.5当量、好ましく
は0.65〜1.2当量、より好ましくは0.8〜1.
1当量、更に好ましくは0.85〜1.05当量となる
量使用する。ただし、上記において硬化剤として酸無水
物を使用する場合、酸無水物の当量に0.9を乗じた数
を酸無水物の使用当量とする。また、ジシアンジアミド
を使用する場合、ジシアンジアミドの当量に0.65を
乗じた数をジシアンジアミドの使用当量とする。このこ
とは、例えば硬化剤を1当量使用する場合、酸無水物は
0.9当量、ジシアンジアミドは0.65当量となる量
使用すればよいことを意味する。
The amount of the curing agent used in the epoxy resin composition of the present invention is usually 0.5 to 1.5 equivalents, preferably 0.65 to 1 equivalent to 1 equivalent of epoxy groups of the epoxy resin used. .2 equivalents, more preferably 0.8-1.
It is used in an amount of 1 equivalent, more preferably 0.85 to 1.05 equivalent. However, when an acid anhydride is used as the curing agent in the above, the equivalent of the acid anhydride is multiplied by 0.9 to be the equivalent of the acid anhydride used. When dicyandiamide is used, the equivalent of dicyandiamide is multiplied by 0.65 to obtain the equivalent of dicyandiamide. This means that when one equivalent of the curing agent is used, 0.9 equivalent of the acid anhydride and 0.65 equivalent of the dicyandiamide should be used.

【0039】本発明のエポキシ樹脂組成物は、硬化促進
剤を必要に応じて含有する。用いうる硬化促進剤の具体
例としては、2−メチルイミダゾール、2−エチルイミ
ダゾール等のイミダゾール系化合物、トリス−(ジメチ
ルアミノメチル)フェノール等の第3アミン系化合物、
トリフェニルホスフィン化合物、三弗化ホウ素等のルイ
ス酸またはそれらの塩類等、公知の種々の硬化促進剤が
挙げられ、特に限定されるものではない。これらは単独
で用いてもよく、2種以上併用してもよい。硬化促進剤
は、エポキシ樹脂100重量部に対して0.01〜15
重量部が必要に応じ用いられる。
The epoxy resin composition of the present invention optionally contains a curing accelerator. Specific examples of the curing accelerator that can be used include imidazole compounds such as 2-methylimidazole and 2-ethylimidazole, tertiary amine compounds such as tris- (dimethylaminomethyl) phenol,
Examples of known curing accelerators include triphenylphosphine compounds, Lewis acids such as boron trifluoride and salts thereof, and the like, but are not particularly limited. These may be used alone or in combination of two or more. The curing accelerator is 0.01 to 15 with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin.
Parts by weight are used as needed.

【0040】本発明のエポキシ樹脂組成物には、更に必
要に応じて公知の添加剤を配合することが出来る。添加
剤としては、例えば、ポリブタジエン及びこの変性物、
アクリロニトリル共重合体の変性物、シリコーンゲル、
シリコーンオイル、シリカ、アルミナ、炭酸カルシウ
ム、石英粉、アルミニウム粉末、グラファイト、タル
ク、クレー、酸化鉄、酸化チタン、窒化アルミニウム、
アスベスト、マイカ、ガラス粉末、ガラス繊維、ガラス
不織布、カーボン繊維等の無機充填剤、シランカップリ
ング剤のような充填剤の表面処理剤、離型剤、カーボン
ブラック、フタロシアニンブルー、フタロシアニングリ
ーン等の着色剤が挙げられる。
The epoxy resin composition of the present invention may further contain known additives, if desired. Examples of the additive include polybutadiene and its modified products,
Modified product of acrylonitrile copolymer, silicone gel,
Silicone oil, silica, alumina, calcium carbonate, quartz powder, aluminum powder, graphite, talc, clay, iron oxide, titanium oxide, aluminum nitride,
Inorganic fillers such as asbestos, mica, glass powder, glass fiber, glass non-woven fabric, carbon fiber, surface treatment agents for fillers such as silane coupling agents, release agents, carbon black, phthalocyanine blue, phthalocyanine green, etc. Agents.

【0041】本発明のエポキシ樹脂組成物は、上記各成
分を所定の割合で均一に混合することにより得られ、こ
の際の混合は、通常本発明のエポキシ樹脂組成物を構成
する各成分の軟化点より20〜100℃程度高い温度で
加熱溶融することによって行うことが出来る。また、エ
ポキシ樹脂組成物の各成分を溶剤等に均一に分散または
溶解させることにより、混合することもできる。溶媒は
各成分を均一に混合できうるものであれば特に限定され
ないが、例えばトルエン、キシレン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、ジオキサン、メチルセロ
ソルブ、ジメチルホルムアミド等が挙げられる。
The epoxy resin composition of the present invention is obtained by uniformly mixing the above-mentioned components in a predetermined ratio, and the mixing at this time is usually a softening of each component constituting the epoxy resin composition of the present invention. It can be performed by heating and melting at a temperature about 20 to 100 ° C. higher than the point. Also, the respective components of the epoxy resin composition can be mixed by uniformly dispersing or dissolving them in a solvent or the like. The solvent is not particularly limited as long as each component can be uniformly mixed, and examples thereof include toluene, xylene, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, dioxane, methyl cellosolve, and dimethylformamide.

【0042】本発明のエポキシ樹脂組成物は、通常公知
の方法によりその硬化物とすることができる。例えば0
〜250℃で0.5分〜500時間でそのその硬化物を
得ることができる。
The epoxy resin composition of the present invention can be made into a cured product thereof by a generally known method. Eg 0
The cured product can be obtained in 0.5 minutes to 500 hours at 250 ° C.

【0043】また、本発明のエポキシ樹脂組成物は、低
誘電率積層板に好適に用いることが出来る。積層板用と
して使用する場合、難燃性を要求されるため、本発明の
エポキシ樹脂組成物を硬化してなる硬化物中に通常、1
0〜40重量%、好ましくは12〜35重量%、より好
ましくは15〜27%の臭素が含有されるように前記ハ
ロゲン化エポキシ樹脂や、構造中にハロゲンを含んだ硬
化剤を配合することが望ましい。この場合、本発明のエ
ポキシ樹脂組成物を溶媒に溶解してワニスとし、このワ
ニスをガラスクロス、ガラス不織布、合成繊維、紙等の
基材に含浸・塗布し、加熱半乾燥して溶媒を除去してプ
リプレグを作製する。次に、このプリプレグを所要枚数
重ねて積層体を形成し、この積層体の片面または両面に
銅箔を重ね、加熱加圧して本発明のエポキシ樹脂組成物
を硬化させた積層板を製造することが出来る。このとき
の溶媒としては、トルエン、キシレン、アセトン、メチ
ルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジメチルホ
ルムアミド等が用いうる具体例として挙げられ、これら
の使用量は、エポキシ樹脂組成物と溶媒の合計重量に対
して通常10〜70重量%、好ましくは15〜65重量
%である。
Further, the epoxy resin composition of the present invention can be suitably used for a low dielectric constant laminate. When used as a laminate, flame retardancy is required, and therefore, in the cured product obtained by curing the epoxy resin composition of the present invention, usually 1
The halogenated epoxy resin or the curing agent containing halogen in the structure may be blended so as to contain 0 to 40% by weight, preferably 12 to 35% by weight, more preferably 15 to 27% of bromine. desirable. In this case, the epoxy resin composition of the present invention is dissolved in a solvent to form a varnish, and the varnish is impregnated and applied to a substrate such as glass cloth, glass non-woven fabric, synthetic fiber or paper, and heated and semi-dried to remove the solvent. Then, a prepreg is produced. Next, a required number of the prepregs are laminated to form a laminate, copper foil is laminated on one side or both sides of this laminate, and the laminate is produced by heating and pressing to cure the epoxy resin composition of the present invention. Can be done. Examples of the solvent at this time include toluene, xylene, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, dimethylformamide, and the like as specific examples, and the amount of these is usually relative to the total weight of the epoxy resin composition and the solvent. It is 10 to 70% by weight, preferably 15 to 65% by weight.

【0044】[0044]

【実施例】以下、合成例、実施例を挙げ、本発明をより
具体的に説明する。尚、本発明はこれら実施例に限定さ
れるものではない。
EXAMPLES The present invention will be described more specifically with reference to synthesis examples and examples. The present invention is not limited to these examples.

【0045】合成例1 撹拌機、還流冷却管、撹拌装置を備えたフラスコに、フ
ェノール化ブタジエン低(共)重合体(日本石油化学
(株)製、軟化点150℃、水酸基当量317g/e
q、商品名「日石特殊フェノール樹脂PP−700−3
00」)(以下PP−700−300)317重量部、
エピクロルヒドリン925重量部、メタノール93重量
部を仕込、撹拌、溶解後、70℃に加熱して、フレーク
状水酸化ナトリウム(純分99%)41重量部を100
分かけて添加し、その後70℃で1時間反応させた。つ
いで洗浄液が中性になるまで水洗を繰り返した後、油層
から加熱減圧下において過剰のエピクロルヒドリンを留
去し、残留物に370重量部のメチルイソブチルケトン
(以下MIBK)を添加し溶解した。更に、このMIB
Kの溶液を70℃に加熱し30重量%の水酸化ナトリウ
ム水溶液13重量部を添加し、1時間反応させた後、洗
浄液が中性になるまで水洗を繰り返し行った。ついで油
層から加熱減圧下においてMIBKを留去することによ
りエポキシ樹脂(E1)(上記エポキシ樹脂(A))3
50重量部を得た。得られたエポキシ樹脂(E1)のエ
ポキシ当量は540g/eq、軟化点は128℃であっ
た。
Synthesis Example 1 A flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, and a stirrer was placed in a phenolized butadiene low (co) polymer (manufactured by Nippon Petrochemical Co., Ltd., softening point 150 ° C., hydroxyl equivalent 317 g / e).
q, trade name "Nisseki Special Phenolic Resin PP-700-3
00 ") (hereinafter PP-700-300) 317 parts by weight,
925 parts by weight of epichlorohydrin and 93 parts by weight of methanol were charged, stirred, dissolved, and heated to 70 ° C., and 41 parts by weight of 41 parts of flaky sodium hydroxide (purity 99%) was added to 100 parts.
The mixture was added over a period of minutes and then reacted at 70 ° C. for 1 hour. Then, after repeatedly washing with water until the washing liquid became neutral, excess epichlorohydrin was distilled off from the oil layer under heating and reduced pressure, and 370 parts by weight of methyl isobutyl ketone (hereinafter MIBK) was added and dissolved. Furthermore, this MIB
The solution of K was heated to 70 ° C., 13 parts by weight of a 30% by weight aqueous sodium hydroxide solution was added, and the mixture was reacted for 1 hour, and then repeatedly washed with water until the washing liquid became neutral. Then, MIBK is distilled off from the oil layer under heating and reduced pressure to obtain an epoxy resin (E1) (the above epoxy resin (A)) 3
50 parts by weight were obtained. The epoxy equivalent of the obtained epoxy resin (E1) was 540 g / eq and the softening point was 128 ° C.

【0046】合成例2 合成例1において、PP−700−300をフェノール
化ブタジエン低(共)重合体(日本石油化学(株)製、
軟化点112℃、水酸基当量555g/eq、商品名
「日石特殊フェノール樹脂PP−1000−180」)
(以下PP−1000−180)555重量部、エピク
ロルヒドリンを1620重量部、メタノールを160重
量部、MIBKを1200重量部に変えた以外は合成例
1と同様の操作を行った。この結果、エポキシ樹脂(E
2)(エポキシ樹脂(A))500重量部を得た。得ら
れたエポキシ樹脂(E2)のエポキシ当量は740g/
eq、軟化点は93℃であった。
Synthetic Example 2 In Synthetic Example 1, PP-700-300 was used as a phenolized butadiene low (co) polymer (manufactured by Nippon Petrochemical Co., Ltd.,
Softening point 112 ° C, hydroxyl equivalent 555g / eq, trade name "Nisseki special phenol resin PP-1000-180")
(The following PP-1000-180) 555 parts by weight, 1620 parts by weight of epichlorohydrin, 160 parts by weight of methanol, and 1200 parts by weight of MIBK were used. As a result, the epoxy resin (E
2) 500 parts by weight of (epoxy resin (A)) was obtained. The epoxy equivalent of the obtained epoxy resin (E2) was 740 g /
eq and softening point were 93 degreeC.

【0047】合成例3 合成例1において、PP−700−300をフェノール
樹脂(D)(日本石油化学(株)製、軟化点112℃、
水酸基当量180g/eq、商品名「日石特殊フェノー
ル樹脂DPP−3H」)(以下DPP−3H)180重
量部、エピクロルヒドリンを550重量部、メタノール
を55重量部、MIBKを470重量部に変えた以外は
合成例1と同様の操作を行った。この結果、エポキシ樹
脂(E3)(上記エポキシ樹脂(B))223重量部を
得た。得られたエポキシ樹脂(E3)のエポキシ当量は
290g/eq、軟化点は78℃であった。
Synthesis Example 3 In Synthesis Example 1, PP-700-300 was mixed with phenol resin (D) (manufactured by Nippon Petrochemical Co., Ltd., softening point 112 ° C.,
Hydroxyl equivalent 180g / eq, trade name "Nisseki Special Phenolic Resin DPP-3H") (hereinafter DPP-3H) 180 parts by weight, epichlorohydrin 550 parts by weight, methanol 55 parts by weight, MIBK 470 parts by weight except Performed the same operation as in Synthesis Example 1. As a result, 223 parts by weight of the epoxy resin (E3) (above epoxy resin (B)) was obtained. The epoxy equivalent of the obtained epoxy resin (E3) was 290 g / eq and the softening point was 78 ° C.

【0048】尚、原料に使用したDPP−3Hは式
(4)におけるBが下式(7)、Yが下式(8)でそれ
ぞれ表される構造を有する化合物である。従って得られ
たエポキシ樹脂(E3)は、式(1)におけるAが式
(9)、Xが式(10)でそれぞれ表される構造を有す
る。(式(9)、(10)中Gはグリシジル基を表
す。)
The DPP-3H used as a raw material is a compound having a structure in which B in the formula (4) is represented by the following formula (7) and Y is represented by the following formula (8). Therefore, the obtained epoxy resin (E3) has a structure in which A in the formula (1) is represented by the formula (9) and X is represented by the formula (10). (G in the formulas (9) and (10) represents a glycidyl group.)

【0049】[0049]

【化7】 [Chemical 7]

【0050】合成例4 合成例1において、PP−700−300をフェノール
樹脂樹(D)(日本石油化学(株)製、軟化点95℃、
水酸基当量170g/eq、商品名「日石特殊フェノー
ル樹脂DPP−M」)(以下DPP−M)170重量
部、エピクロルヒドリンを550重量部、メタノールを
55重量部、MIBKを470重量部に変えた以外は合
成例1と同様の操作を行った。この結果、エポキシ樹脂
(E4)(上記エポキシ樹脂(B))220重量部を得
た。得られたエポキシ樹脂(E4)のエポキシ当量は2
70g/eq、軟化点は60℃であった。尚、原料に使
用したDPP−Mは式(4)におけるBが上式(7)、
Yが上式(8)でそれぞれ表される構造を有し、エポキ
シ樹脂(E4)は、式(1)におけるAが上式(9)、
Xが上式(10)でそれぞれ表される構造を有する。
Synthesis Example 4 In Synthesis Example 1, PP-700-300 was used as a phenol resin (D) (manufactured by Nippon Petrochemical Co., Ltd., softening point 95 ° C.,
Hydroxyl equivalent 170 g / eq, trade name "Nisseki Special Phenolic Resin DPP-M") (hereinafter DPP-M) 170 parts by weight, epichlorohydrin 550 parts by weight, methanol 55 parts by weight, MIBK 470 parts by weight except Performed the same operation as in Synthesis Example 1. As a result, 220 parts by weight of the epoxy resin (E4) (the above epoxy resin (B)) was obtained. The epoxy equivalent of the obtained epoxy resin (E4) is 2
The softening point was 70 g / eq and 60 ° C. In the DPP-M used as the raw material, B in the formula (4) is represented by the above formula (7),
Y has a structure respectively represented by the above formula (8), and in the epoxy resin (E4), A in the formula (1) is represented by the above formula (9),
X has a structure represented by the above formula (10).

【0051】実施例1〜6 表1〜2に示した種類及び量の樹脂を25gのメチルエ
チルケトンに溶解した溶液に、表1〜2に示した量のジ
シアンジアミドを溶解したジメチルホルムアミド20g
及び2ーエチルー4ーメチルイミダゾール0.15gを
加え、エポキシ樹脂組成物のワニスを作成した。このワ
ニスをガラスクロス(日東紡(株) WEA18W10
5F−115)に含浸させ、150℃で5分乾燥してB
ステージ状のプリプレグを得た。このプリプレグ8枚
と、銅箔(日鉱グールド(株))1枚を重ね、180℃
で2時間加圧加熱して硬化物(積層板)とした。このよ
うにして得られた硬化物の物性を測定した結果を表1〜
2の硬化物の物性の欄に示す。
Examples 1 to 6 20 g of dimethylformamide prepared by dissolving dicyandiamide in the amounts shown in Tables 1 and 2 in a solution prepared by dissolving resins of the types and amounts shown in Tables 1 and 2 in 25 g of methyl ethyl ketone.
And 0.15 g of 2-ethyl-4-methylimidazole were added to prepare a varnish of the epoxy resin composition. Use this varnish with glass cloth (Nittobo Co., Ltd. WEA18W10)
5F-115) and dried at 150 ° C. for 5 minutes to obtain B
A stage-shaped prepreg was obtained. Eight sheets of this prepreg and one sheet of copper foil (Nikko Gould Co., Ltd.) were stacked, and 180 ° C
Then, it was heated under pressure for 2 hours to obtain a cured product (laminated plate). The results of measuring the physical properties of the cured product thus obtained are shown in Table 1
The physical properties of the cured product of No. 2 are shown.

【0052】物性値の測定は以下の方法または条件で行
った。 ・ガラス転移温度:TMA法により測定。 ・吸湿率:銅箔を剥がした試験片を温度85℃、湿度8
5%で100時間吸湿させその前後の重量変化より算出
した。 ・誘電率、誘電正接:JIS C−6481(誘電率及
び誘電正接)に記載の方法に準拠して行った。 ・銅箔引き剥し強さ:JIS C−6481(引き剥し
強さ)に記載の方法に準拠して行った。
The physical property values were measured by the following methods or conditions. -Glass transition temperature: measured by the TMA method. Moisture absorption rate: Test piece with copper foil peeled off at a temperature of 85 ° C and a humidity of 8
It was made to absorb moisture at 5% for 100 hours and calculated from the weight change before and after that. -Dielectric constant, dielectric loss tangent: It carried out based on the method described in JIS C-6481 (dielectric constant and dielectric loss tangent). -Copper foil peeling strength: Measured according to the method described in JIS C-6481 (peeling strength).

【0053】[0053]

【表1】 [Table 1]

【0054】表1中のEHは油化シェルエポキシ(株)
製 エピコート 5050を表す。(表2においても同
じ)
EH in Table 1 is Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.
Manufactured by Epicoat 5050. (Same in Table 2)

【0055】[0055]

【表2】 [Table 2]

【0056】表2中、EPは日本化薬(株)製 EPP
N−501を表す。
In Table 2, EP is EPP manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
It represents N-501.

【0057】[0057]

【発明の効果】本発明のエポキシ樹脂組成物は、優れた
低誘電率性、低誘電正接性を有しかつ、耐熱性、接着性
の低下を抑え、且つ低吸湿性(耐水性)を示す硬化物を
与え、特に積層板(プリント配線板など)の素材として
用いた場合極めて有用である。
The epoxy resin composition of the present invention has excellent low dielectric constant and low dielectric loss tangent, suppresses deterioration of heat resistance and adhesiveness, and exhibits low hygroscopicity (water resistance). It is extremely useful when a cured product is given and it is used as a material for laminated boards (printed wiring boards, etc.).

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】ブタジエン低(共)重合体にフェノール類
を付加して得られるフェノール化ポリブタジエン低
(共)重合体をグリシジル化して得られるエポキシ樹脂
(A)及び式(1) 【化1】 (式中、Aは式(2)を、またXは式(3) 【化2】 (式(2)及び(3)中複数存在するRはそれぞれ独立
して水素原子、ハロゲン原子、または炭素数1〜10の
アルキル基を表す。Gはグリシジル基を表す。l、mは
1〜2の整数を表す。)をそれぞれ表し、l、mは同一
であっても異なっていてもよい。また、nは0以上の整
数を表す。)で表されるエポキシ樹脂(B)を含有する
エポキシ樹脂混合物。
1. An epoxy resin (A) obtained by glycidylation of a phenolized polybutadiene low (co) polymer obtained by adding phenols to a butadiene low (co) polymer, and a compound of formula (1): (Where A is the formula (2) and X is the formula (3) (A plurality of Rs in formulas (2) and (3) each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. G represents a glycidyl group. Represents an integer of 2), and l and m may be the same or different. In addition, n represents an integer of 0 or more. ) An epoxy resin mixture containing an epoxy resin (B) represented by
【請求項2】請求項1記載のエポキシ樹脂混合物、硬化
剤を含有してなるエポキシ樹脂組成物。
2. An epoxy resin composition comprising the epoxy resin mixture according to claim 1 and a curing agent.
【請求項3】請求項2記載のエポキシ樹脂組成物を硬化
してなる硬化物。
3. A cured product obtained by curing the epoxy resin composition according to claim 2.
【請求項4】請求項2記載のエポキシ樹脂組成物を用い
て調製されてなる積層板。
4. A laminated board prepared by using the epoxy resin composition according to claim 2.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002105166A (en) * 2000-09-27 2002-04-10 Nippon Kayaku Co Ltd Epoxy resin, epoxy resin composition and cured product thereof

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