JPH0831203B2 - Magnetic head - Google Patents

Magnetic head

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JPH0831203B2
JPH0831203B2 JP62131469A JP13146987A JPH0831203B2 JP H0831203 B2 JPH0831203 B2 JP H0831203B2 JP 62131469 A JP62131469 A JP 62131469A JP 13146987 A JP13146987 A JP 13146987A JP H0831203 B2 JPH0831203 B2 JP H0831203B2
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sio
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健吉 稲田
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は磁気ヘツドに係り、特に磁性膜としてのアモ
ルフアス磁性材と共に用いて好適なガラス材を具備した
磁気ヘツドに関する。
The present invention relates to a magnetic head, and more particularly to a magnetic head provided with a glass material suitable for use with an amorphous magnetic material as a magnetic film.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

磁気記録の高密度化に伴ない、高飽和磁束密度のアモ
ルフアス磁性材を磁性膜に用いた磁気ヘツドが開発され
ている。
Along with the increasing density of magnetic recording, magnetic heads have been developed that use an amorphous magnetic material having a high saturation magnetic flux density as a magnetic film.

従来のこの種の磁気ヘツドについては、特開昭56−16
9214号公報あるいは実開昭61−45716号公報などに述べ
られているが、磁気テープとの摺動面に形成されるガラ
ス材の特性については、ふれられておらず、又、耐摩耗
性等についてはセラミツクス等のバルク材を低融点ガラ
スで接着にてはめ込んでいる。
A conventional magnetic head of this type is disclosed in JP-A-56-16.
As described in Japanese Patent No. 9214 or Japanese Utility Model Laid-Open No. 61-45716, the characteristics of the glass material formed on the sliding surface with the magnetic tape are not touched, and the abrasion resistance, etc. For, the bulk material such as ceramics is attached by adhesion with low melting point glass.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problems to be solved by the invention]

上記従来技術において、低融点ガラスを用いて、耐摩
耗性のよいセラミツクスなどを埋め込み接着するもので
は、その低融点ガラスについては詳しく述べられておら
ず、セラミツクスと接着に用いているガラス層との境に
ついても詳しく述べられていない。又、接着の際、磁性
体としてのアモルフアス磁性材が接着剤としてのガラス
材によりどのように特性が劣化するか、また、該ガラス
材とギヤツプ材との間のガラス化反応や該ガラス材がト
ラック幅を形成しているアモルファス磁性材と反応し、
該アモルファス磁性材の特性劣化を引き起こし、実質的
なトラック幅を減少させるという問題について検討され
ていない。特に、トラック幅の減少については、磁気ヘ
ッドにおいて重大な問題であり、ヘッド製造プロセスに
おいて歩留まりに大きな影響を与えている。
In the above-mentioned prior art, using a low-melting glass, in the one that is embedded and bonded with good wear resistance ceramics, the low-melting glass is not described in detail, and with the glass layer used for the ceramics and adhesion. The boundaries are also not detailed. Further, at the time of bonding, how the characteristics of the amorphous magnetic material as a magnetic material are deteriorated by the glass material as an adhesive, and the vitrification reaction between the glass material and the gear material or the glass material is Reacts with the amorphous magnetic material forming the track width,
The problem of causing the characteristic deterioration of the amorphous magnetic material and reducing the substantial track width has not been studied. In particular, the reduction of the track width is a serious problem in the magnetic head and has a great influence on the yield in the head manufacturing process.

本発明は、アモルファス磁性材を用いた磁気ヘッドの
切り欠け部にガラスを充填した構造において、該ガラス
材が該アモルファス磁性材と反応し、実質的にトラック
幅を変化させることなく、また、加工時に生じるかけ、
チツピングを少なくし、テープが接触摺動走行している
時偏摩耗のない、安定した出力が常に得られるように耐
摩耗性・信頼性を向上させた磁気ヘツドを提供すること
を目的とする。
The present invention has a structure in which a notch portion of a magnetic head using an amorphous magnetic material is filled with glass, the glass material reacts with the amorphous magnetic material, and the track width is not substantially changed. Sometimes it happens,
It is an object of the present invention to provide a magnetic head with reduced wear and improved wear resistance and reliability so that stable output can be obtained at all times without uneven wear when the tape is in sliding contact.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

上記目的を達成するために、充填するガラス材の組成
を変化させ、そのそれぞれが、アモルフアスとの反応が
大きいか小さいかを調べ、又、それぞれが、その機械的
性質において機械加工にとつて好ましいものであるか否
かを調べた。
In order to achieve the above object, the composition of the glass material to be filled is changed, and each of them is examined for a large reaction or a small reaction with amorphous, and each is preferable in terms of mechanical properties for machining. I checked whether it was a thing.

また、ガラス材の充填・接着時、磁性膜としてアモル
フアス磁性材を用いるため、該アモルフアス膜の結晶化
温度以上では該アモルフアス磁性材が結晶化してしま
い、その磁気特性が劣化してしまう。即ち、充填・接着
時の処理温度には上限があり、かつ量産を考慮した時に
は電気炉の温度分布等のマージンを考えて、アモルフア
ス磁性材の結晶化温度より極力低い温度にて処理を行な
う必要がある。
Further, since the amorphous magnetic material is used as the magnetic film during filling and bonding of the glass material, the amorphous magnetic material is crystallized at a temperature equal to or higher than the crystallization temperature of the amorphous film, and its magnetic characteristics are deteriorated. That is, there is an upper limit to the processing temperature during filling and bonding, and when considering mass production, it is necessary to consider the margin such as the temperature distribution of the electric furnace and perform the processing at a temperature as low as possible lower than the crystallization temperature of the amorphous magnetic material. There is.

第5図は本発明を説明するためのガラス材の組成を示
す説明図である。
FIG. 5 is an explanatory view showing the composition of the glass material for explaining the present invention.

ガラスの組成は基本的にはPbO−B2O3−SiO2−ZnO−Al
2O3−Bi2O3の6元素から成り、それぞれの成分をいろい
ろ変えてサンプル名A〜Fとして示したものである。
The composition of the glass is basically P b O-B 2 O 3 -SiO 2 -ZnO-Al
It is composed of 6 elements of 2 O 3 —Bi 2 O 3 , and is shown as sample names A to F by changing various components.

第6図は第5図に示したサンプル名A〜Fの各ガラス
材の特性を示す説明図である。
FIG. 6 is an explanatory diagram showing the characteristics of the glass materials of sample names A to F shown in FIG.

また、第7図は第5図に示したサンプル名A〜Fの各
ガラスのビツカース硬度とガラス素材の折れ強度を示す
グラフ図である。
Further, FIG. 7 is a graph showing the Vickers hardness of each glass of sample names A to F shown in FIG. 5 and the breaking strength of the glass material.

第5図,第6図,第7図において、ガラスの軟化点が
360〜370℃とほとんど変わらないにもかかわらず、その
組成により硬度,強度、またアモルフアス磁性材との反
応の程度などが著しく異なつている。特にサンプル名A
のガラスに対し、他のサンプル名B〜Fについては、ま
ず、耐水性が著しく向上している。ここで、耐水性と
は、60℃の水に浸漬した場合、どのくらいガラスがとけ
てしまうかを示したものであり、サンプル名Aのガラス
を1として時の相対値を表示する方法で表わしている。
この数値は小さい法がよい(すなわち、とけにくい)。
In FIGS. 5, 6, and 7, the softening point of the glass is
Despite being almost unchanged from 360 to 370 ℃, the hardness, strength, and degree of reaction with amorphous magnetic materials are remarkably different depending on the composition. Especially sample name A
For the other sample names B to F, the water resistance was remarkably improved. Here, the water resistance refers to how much the glass melts when immersed in water at 60 ° C., and is represented by a method of displaying the relative value of time when the glass of sample name A is 1. There is.
This number should be small (ie, difficult to melt).

また、サンプ名D,E,Fはビツカース強度、折れ強度が
サンプル名A,B,Cに比べて大きく効果があることがわか
る。
Further, it can be seen that the sump names D, E, and F are more effective in the Vickers strength and the bending strength than the sample names A, B, and C.

機械加工ではビツカース硬度が、270〜280以上になる
と、そのカケ,チツピングが著しく少なくなり、歩留り
が向上する。
In machining, if the Vickers hardness is 270 to 280 or more, chipping and chipping are significantly reduced and the yield is improved.

また、サンプル名D,E,Fは第2図ので示したアモル
ファス磁性材との反応量が極力小さくなり、特にサンプ
ル名Aのガラスに比較してみるとサンプル名D,E及びF
などは、その反応が約1/3以下となり、実効トラック幅
の変化量が問題とならない値となり、その効果が著しい
ことがわかる。
In addition, the sample names D, E, and F have the least amount of reaction with the amorphous magnetic material shown in Fig. 2, and when compared with the glass of the sample name A, the sample names D, E, and F are particularly small.
For example, the response is about 1/3 or less, and the amount of change in the effective track width is a value that does not pose a problem, and the effect is remarkable.

サンプル名A,B及びCをサンプル名D,E及びFと比較す
ると、その大きな違いは、SiO2の組成比が1〜2%から
3%に増加していることと、Al2O3もしくはBi2O3が微少
量添加されていることであり、これにより、アモルファ
ス磁性材との反応が少なくなる。
When the sample names A, B and C are compared with the sample names D, E and F, the major differences are that the composition ratio of SiO 2 is increased from 1 to 2% to 3%, and Al 2 O 3 or This means that Bi 2 O 3 is added in a very small amount, which reduces the reaction with the amorphous magnetic material.

また、耐水性については、ZnOの添加が効果あるよう
に示されている。
Regarding water resistance, addition of ZnO is shown to be effective.

〔作用〕[Action]

以上のことを総合的に見てみると、ガラスの軟化点を
ほとんど変えることなく耐水性、アモルフアス磁性膜と
の反応、加工性、ガラス強度などを、好ましい方向にも
つてゆくことができることがわかる。軟化点を上げるこ
となく処理できるということは、アモルフアス磁性材膜
を用いてヘツドを作成する上で著しく効果のあることで
ある。逆に言えば、軟化点を上げてよいならば他に好ま
しいガラスは多々ある。本発明では軟化点に対して100
℃前後高い温度、つまり、440〜490℃のボンデイング処
理温度、あるいは熱処理温度を考えており、アモルフア
ス磁性材膜の結晶化温度Txを520〜550℃ぐらいに想定し
ている。例えばCo−Nb−Zrアモルフアス磁性材膜では、
Txを520〜550℃ぐらいを想定すると飽和磁束密度Bsは90
00〜10000Gぐらいの膜が得られ、Hcが1400〜1500Oeのメ
タル粉テープに充分書き込むことができる。
Comprehensively looking at the above, it can be seen that the water resistance, the reaction with the amorphous magnetic film, the processability, the glass strength, etc. can be favorably changed without changing the softening point of the glass. . The fact that the treatment can be performed without raising the softening point is remarkably effective in producing a head using the amorphous magnetic material film. Conversely, there are many other glasses that are preferable if the softening point can be raised. In the present invention, the softening point is 100
A high temperature around ℃, that is, a bonding treatment temperature or a heat treatment temperature of 440 to 490 ℃ is considered, and the crystallization temperature Tx of the amorphous magnetic material film is assumed to be about 520 to 550 ℃. For example, in a Co-Nb-Zr amorphous magnetic material film,
Assuming Tx of about 520 to 550 ℃, the saturation magnetic flux density Bs is 90.
A film of about 100 to 10,000 G can be obtained and can be sufficiently written on a metal powder tape having an Hc of 1400-1500 Oe.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明の実施例を図面を用いて説明する。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

第1図は本発明による磁気ヘツドの一実施例を示すヘ
ツドチツプの磁気テープ摺動面の正面図であつて、1は
アモルフアス磁性材の膜(以下、アモルフアス磁性膜と
称する)、2はSiO2から成る絶縁膜、3はCrから成る保
護膜、4は充填・接着材としてのガラス材の層(以下、
ガラス層と称する)、5はSiO2から成るギヤツプ材、6
はフエライトから成る基体、7は山形形成面、7′は山
形形成面の山形頂部、8はコア半体である。
FIG. 1 is a front view of a magnetic tape sliding surface of a head chip showing an embodiment of a magnetic head according to the present invention, in which 1 is a film of an amorphous magnetic material (hereinafter referred to as an amorphous magnetic film) and 2 is SiO 2. An insulating film made of 3 is a protective film made of Cr, 4 is a glass material layer as a filling / adhesive material (hereinafter,
(Referred to as a glass layer), 5 is a gear material made of SiO 2 , 6
Is a base made of ferrite, 7 is a chevron forming surface, 7'is a chevron top of the chevron forming surface, and 8 is a core half.

同図において、磁気ヘツドは、フエライトから成る基
体6に形成された山形の山形形成面7上に被着したアモ
ルフアス磁性膜1と、この上に被着した絶縁膜2及び保
護膜3を有する一対のコア半体8を、山形形成面7の山
形頂部7′上のアモルフアス磁性膜を研削・ラツピング
加工して成るトラツク幅規制のための加工面同志が対向
するように、ギヤツプ材5を介して突き合わせ、一対の
コア半体8の各山形形成面7間で保護膜3上にガラス材
を充填・加熱してガラス層4となし、両コア半体を接着
して成るものである。
In the figure, the magnetic head is a pair of an amorphous magnetic film 1 deposited on a chevron-shaped chevron forming surface 7 formed on a base 6 made of ferrite, and an insulating film 2 and a protective film 3 deposited on the amorphous magnetic film 1. The core half body 8 of is formed by grinding and lapping the amorphous magnetic film on the chevron apex 7'of the chevron forming surface 7 so that the machined surfaces for the track width regulation face each other via the gear stopper 5 It is formed by butting and filling a glass material on the protective film 3 between the respective chevron forming surfaces 7 of the pair of core halves 8 to form a glass layer 4 and bonding both core halves.

なお、このとき、ギヤツプ材5としてのSiO2はガラス
層4とガラス化反応してガラス化され、両コア半体間で
ガラス層4と一体化される。
At this time, SiO 2 as the gear material 5 is vitrified by vitrification reaction with the glass layer 4 and integrated with the glass layer 4 between both core halves.

第2図は第1図に示した磁気テープ摺動面の要部拡大
図であつて、第1図と同一符号は同一部分を示す。
FIG. 2 is an enlarged view of a main part of the sliding surface of the magnetic tape shown in FIG. 1, and the same reference numerals as those in FIG. 1 indicate the same parts.

同図において、両コア半体8を突き合わせてガラス層
4を充填すると、前記したように、トラツク幅規制用の
加工面(ギヤツプ部分)にあるギヤツプ材は、ガラス材
とガラス化反応してガラス層4として均一化される。
In the same figure, when both core halves 8 are butted against each other and the glass layer 4 is filled, as described above, the gear tape material on the processed surface (gear tape portion) for controlling the track width vitrifies and reacts with the glass material. It is homogenized as layer 4.

しかし、このガラス材の充填により一対のコア半体を
接着するときに、上記したギヤツプ材5のコア半体接着
部分での該ガラス材とのガラス化反応は、接着性の観点
からみて好ましいものであるが、上記ガラス化反応はコ
ア半体接着部分に留らず、ギヤツプ部分にも及ぶ傾向が
ある。その結果、トラツク幅規制長さ(第1図にTDで示
す)が短くなつてしまうということがあり、例えば第5
図のサンプル名Aのガラスを用いるとこれが著しい。
However, when the pair of core halves are bonded by filling with the glass material, the vitrification reaction with the glass material at the core half bonded portion of the gear tape material 5 described above is preferable from the viewpoint of adhesiveness. However, the above-mentioned vitrification reaction tends to extend not only to the core half-body bonded portion but also to the gear gap portion. As a result, the track width regulation length (indicated by T D in FIG. 1) may become shorter.
This is remarkable when the glass of sample name A in the figure is used.

また、充填ガラス材はアモルフアス磁性材とも反応
し、ガラス材がアモルフアス磁性材に入り込み、そのHc
を大きくする様な磁性特性の劣化をまねき、有効トラツ
ク幅の短縮をもたらすのみでなく、磁気ヘツドとしての
動作に重大な悪影響を及ぼす。
The filled glass material also reacts with the amorphous magnetic material, and the glass material enters the amorphous magnetic material,
Not only leads to deterioration of the magnetic characteristics, but also shortens the effective track width, and has a serious adverse effect on the operation as a magnetic head.

しかし、この様な事態の発生は、本発明によるガラス
材、すなわち、75<PbO<85,8<B2O3<15,2<SiO2<5,2
<ZnO<9,0≦Al2O3<5,0≦Bi2O3<3を各重量パーセン
ト含む組成のガラス材を用いることによつて低減するこ
とができる。
However, such a situation occurs because the glass material according to the present invention, that is, 75 <PbO <85,8 <B 2 O 3 <15,2 <SiO 2 <5,2.
It can be reduced by using a glass material having a composition containing <ZnO <9,0 ≦ Al 2 O 3 <5,0 ≦ Bi 2 O 3 <3 in each weight percentage.

例えば、ガラス材として第5図のサンプル名Dのもの
を用いると、第1図に示した構造の磁気ヘツドにおい
て、第2図に示した反応部分の大きさを前記サンプル
名Aのガラス材を用いた場合の3分の1以下とすること
ができ、トラツク幅方向の長さの短縮を0.2μm以下と
することができる。この短縮長さは実用上ほとんど無視
できる量であり、この結果、ヘツドの製造歩留りを20%
以上向上させることができた。
For example, if the glass material having the sample name D in FIG. 5 is used, the size of the reaction portion shown in FIG. 2 in the magnetic head having the structure shown in FIG. It can be reduced to one-third or less of that used, and the length in the track width direction can be reduced to 0.2 μm or less. This shortened length is practically negligible, resulting in a head manufacturing yield of 20%.
It was possible to improve above.

しかも、上記第5図に示したサンプル名Dのガラス材
はサンプル名Aと同じ温度プロフアイルで充填・接着の
各作業処理ができ、特別の条件を設定する必要はない。
Moreover, the glass material of sample name D shown in FIG. 5 can be filled and bonded with the same temperature profile as sample name A, and there is no need to set special conditions.

また、第5図のサンプル名Eのガラス材を用い、サン
プル名Dのガラス材と同一プロセス、同一プロフアイル
で磁気ヘツドの作成を行つたが、サンプル名Dのガラス
材を用いた場合と同様に、アモルフアス磁性材との反応
が少なく、ギヤツプ材とのガラス化反応によるトラツク
幅方向長さの短縮が少なく、精度,信頼性が高く、歩留
りのよい磁気ヘツドが得られた。
Also, the glass head of sample name E in FIG. 5 was used to create the magnetic head with the same process and profile as the glass material of sample name D. Similar to the case where the glass material of sample name D was used. In addition, there was little reaction with the amorphous magnetic material, there was little reduction in the length in the width direction of the track due to vitrification reaction with the gear material, and a magnetic head with high accuracy and high yield was obtained.

また、サンプル名D,Eのガラス材を用いた磁気ヘツド
を長時間走行させ、その偏摩耗の発生程度、出力の経時
変化等を試験した結果、いづれも特別に問題がなく、か
つ、高温・高湿雰囲気中での試験においても良好な結果
が得られた。
In addition, the magnetic heads using glass materials of sample names D and E were run for a long time, and the degree of uneven wear, the change over time in output, etc. were tested. Good results were also obtained in tests in a high humidity atmosphere.

このことから、アモルフアス磁性材を磁性膜として用
いた磁気ヘツドのコア半体の接着用ガラス材としては、
第5図のサンプル名C〜Fのガラス材が適当であり、特
にサンプル名D,E,Fのガラス材を用いるのが好適であ
る。
From this, as the glass material for bonding the core half of the magnetic head using the amorphous magnetic material as the magnetic film,
The glass materials with sample names C to F in FIG. 5 are suitable, and the glass materials with sample names D, E, and F are particularly suitable.

なお、第5図の組成においては、すべて整数で示して
あるが、これはあくまで概数であつて、実施例に記載し
た重量パーセントの範囲内であれば、その数値は整数と
は限らないことに注意すべきである。
In addition, in the composition of FIG. 5, all are shown by integers, but this is only an approximate number, and the numerical value is not necessarily an integer as long as it is within the range of the weight percentage described in the examples. You should be careful.

次に、本発明の磁気ヘツドの製造方法を説明する。 Next, a method for manufacturing the magnetic head of the present invention will be described.

第3図はコア半体を製作するためのコア半体ブロツク
の一つを示す正面図であつて、1はアモルフアス磁性
膜、2はSiO2膜、3はCr膜、4はガラス層、5はSiO2
(ギヤツプ材)、6はフエライト(基体)、7は山形形
成面、9はコア半体ブロツクである。
FIG. 3 is a front view showing one of the core half blocks for manufacturing the core half, in which 1 is an amorphous magnetic film, 2 is a SiO 2 film, 3 is a Cr film, 4 is a glass layer, 5 Is an SiO 2 film (gap material), 6 is a ferrite (base), 7 is a chevron forming surface, and 9 is a core half block.

同図において、先ず、基体6となるフエライトにダイ
シングソーなどにより山形溝を複数個形成して山形形成
面7をつくる。この山形形成面7上にスパツタリング装
置を用いて、アモルフアス磁性材(例えば、Co−Nb−Z
n)を20〜30μm厚に被着して磁性膜1を形成する。次
に、保護膜2,3を形成するが、ここでは、保護膜2とし
てSiO2膜を0.3μm厚に、保護膜3としてCr膜を0.5μm
厚にスパツタリング装置により形成する。
In the figure, first, a plurality of chevron grooves are formed on the ferrite serving as the base body 6 with a dicing saw or the like to form chevron formation surfaces 7. Using a sputtering device on the chevron-shaped surface 7, an amorphous magnetic material (for example, Co-Nb-Z) is used.
n) is deposited to a thickness of 20 to 30 μm to form the magnetic film 1. Next, the protective films 2 and 3 are formed. Here, the SiO 2 film is 0.3 μm thick as the protective film 2 and the Cr film is 0.5 μm thick as the protective film 3.
The thickness is formed by a spattering device.

保護膜2,3は磁性膜1と後述のガラス材との間の反応
を抑制する機能を有する。
The protective films 2 and 3 have a function of suppressing a reaction between the magnetic film 1 and a glass material described later.

保護膜の上に充填するガラス材としては、第5図のサ
ンプル名Dの組成のものを用いる。
As the glass material to be filled on the protective film, one having the composition of sample name D in FIG. 5 is used.

このガラス材は板状のものを山形形成面上にのせ、N2
雰囲気電気炉で470℃、20分間保持することにより、前
記山形の溝部分に充填される。
As for this glass material, a plate-shaped material is placed on the chevron-forming surface, and N 2
By holding in an atmospheric electric furnace at 470 ° C. for 20 minutes, the mountain-shaped groove portion is filled.

ガラス材を充填してガラス層4を形成した後、この充
填面を研削、ラツピングして、山形頂部の磁性膜1をト
ラツク幅を規制する分だけ露出させる(トラツク幅出し
加工)。
After the glass material is filled to form the glass layer 4, the filling surface is ground and lapped to expose the magnetic film 1 at the top of the chevron to the extent that the track width is restricted (track width forming process).

トラツク幅出し加工した磁性膜の面は、通常0.05Sの
表面粗さ(すなわち、表面上の凹凸のピーク・ピークが
0.05μm)の鏡面とされる。
The surface of the magnetic film subjected to the track widthening process usually has a surface roughness of 0.05S (that is, the peaks and peaks of the unevenness on the surface are
(0.05 μm) mirror surface.

次に、ヘツドギヤツプとなるギヤツプ材(SiO2)5を
スパツタリングにより被着形成し、一方のコア半体ブロ
ツク9を得る。
Next, a gear tape material (SiO 2 ) 5 to be a head gear tape is adhered and formed by sputtering to obtain one core half block 9 .

第4図は第3図のコア半体ブロツク9を二個(すなわ
ち一対)として、両者のトラツク幅規制面を互いに突き
合わせた状態を示す正面図であつて、第3図と同一符号
は同一部分に相当し、8はヘツドチツプのコア半体とな
る部分、10は切りシロである。
FIG. 4 is a front view showing two core half blocks 9 shown in FIG. 3 (that is, a pair) and their track width regulating surfaces butted against each other. Corresponding to, 8 is the part that becomes the core half of the head chip, and 10 is the cut white.

同図に示す様に、一対のコア半体ブロツク99を、そ
れらのトラツク幅規制面を突き合わせて、前記と同様の
N2雰囲気電気炉で473℃、20分間保持することにより、
互いに接着して一体化したヘツドブロツクを得る。
As shown in the same figure, a pair of core half blocks 9 and 9 are butted against their track width restriction surfaces, and the same as above.
By holding at 473 ° C for 20 minutes in an N 2 atmosphere electric furnace,
Obtain an integrated head block that is glued together.

このヘツドブロツクをダイシングソーあるいはワイヤ
ソーなどにより、切りシロ10部分で切断し、複数個のヘ
ツドチツプとする。
A plurality of head chips are obtained by cutting the head block at a cutting white portion with a dicing saw or a wire saw.

こうして得たヘツドチツプの一つが前記第1図に示し
たものとなる。
One of the head chips thus obtained is the one shown in FIG.

以上のようにして、本発明の磁気ヘツドを製造するこ
とができる。
The magnetic head of the present invention can be manufactured as described above.

〔発明の効果〕 以上説明したように、本発明によれば、ガラス層の充
填・接着のための処理温度を上げることなく、すなわち
ガラス材の軟化点温度プラス100℃前後とすることでア
モルフアス磁性体の結晶化温度以下で処理できる最適組
成のガラス材を選定することにより、アモルフアス磁性
膜に最も適した充填ガラスを用いることができ、加工性
の向上、アモルフアス磁性膜との反応が少なく、かつ耐
水性、耐摩耗性が大で高い信頼性を有する磁気ヘツドを
提供することができる。
[Effects of the Invention] As described above, according to the present invention, it is possible to increase the amorphous magnetic property without increasing the processing temperature for filling and bonding the glass layer, that is, by setting the softening point temperature of the glass material to around 100 ° C. By selecting a glass material with an optimal composition that can be treated at a temperature below the crystallization temperature of the body, it is possible to use the most suitable filled glass for the amorphous magnetic film, improve the processability, have less reaction with the amorphous magnetic film, and It is possible to provide a magnetic head having high water resistance and wear resistance and high reliability.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明による磁気ヘツドの一実施例を示すヘツ
ドチツプの磁気テープ摺動面の正面図、第2図は第1図
に示した磁気テープ摺動面の要部拡大図、第3図はコア
半体を製作するためのコア半体ブロツクの正面図、第4
図は二つのコア半体ブロツクを突き合わせた状態を示す
正面図、第5図はガラス材の組成を示す説明図、第6図
は第5図に示したガラス材の特性を示す説明図、第7図
は第5図に示したガラス材の硬度とガラス素材の折れ強
度を示すグラフ図である。 1……アモルフアス磁性膜、2……SiO2膜、3……Cr
膜、4……ガラス層、5……SiO2膜、6……基体、7…
…山形形成面、7′……山形頂部、8……コア半体、9
…コア半体ブロツク、10……切りシロ。
FIG. 1 is a front view of a magnetic tape sliding surface of a head chip showing an embodiment of a magnetic head according to the present invention, and FIG. 2 is an enlarged view of an essential part of the magnetic tape sliding surface shown in FIG. 1, FIG. Is a front view of the core half block for making the core half, No. 4
FIG. 5 is a front view showing a state where two core half blocks are abutted, FIG. 5 is an explanatory view showing the composition of the glass material, FIG. 6 is an explanatory view showing the characteristics of the glass material shown in FIG. FIG. 7 is a graph showing the hardness of the glass material and the bending strength of the glass material shown in FIG. 1 ... Amorphous magnetic film, 2 ... SiO 2 film, 3 ... Cr
Film, 4 ... Glass layer, 5 ... SiO 2 film, 6 ... Substrate, 7 ...
… Yamagata formation surface, 7 ′ …… Yamagata top, 8 …… Core half, 9
… Core half block, 10 …… cut white.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 真鍋 能夫 茨城県勝田市大字稲田1410番地 株式会社 日立製作所東海工場内 (56)参考文献 特開 昭57−20910(JP,A) 特開 昭62−46409(JP,A) 特開 昭61−250810(JP,A) 特開 昭61−142520(JP,A) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Nobuo Manabe 1410 Inada, Katsuta City, Ibaraki Prefecture Inside the Tokai Works, Hitachi, Ltd. (56) References JP 57-20910 (JP, A) JP 62 -46409 (JP, A) JP 61-250810 (JP, A) JP 61-142520 (JP, A)

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】基板の山形形状をなす表面上にアモルファ
ス材からなる磁性膜が形成され、かつ、頂部に平坦なギ
ャップ面が形成されてコア半体をなし、該コア半体が1
対該ギャップ面でSiO2からなるギャップを介して接合さ
れており、さらに、該ギャップ部分以外のこれら1対の
コア半体間をガラス材で充填されてなる磁気ヘツドにお
いて、 該アモルファス材は、その組成の少なくとも一部にCoを
含有して、かつ、結晶化温度が520〜550℃であり、 該ガラス材がPbO,B2O3,SiO2及びZnOにAl2O3またはBi2O
3が含有されてなり、これら組成物が重量パーセント
で、 75<PbO<85 8<B2O3<15 2<SiO2<5 2<ZnO<9 0≦Al2O3<5 0≦Bi2O3<3 であることを特徴とする磁気ヘツド。
1. A magnetic film made of an amorphous material is formed on a chevron-shaped surface of a substrate, and a flat gap surface is formed on the top to form a core half body.
In the magnetic head, which is bonded to the gap surface through a gap made of SiO 2 , and between the pair of core halves other than the gap portion is filled with a glass material, the amorphous material is It contains Co in at least a part of its composition, and has a crystallization temperature of 520 to 550 ° C., and the glass material contains PbO, B 2 O 3 , SiO 2 and ZnO containing Al 2 O 3 or Bi 2 O.
3 is is contained, these compositions are in weight percent, 75 <PbO <85 8 < B 2 O 3 <15 2 <SiO 2 <5 2 <ZnO <9 0 ≦ Al 2 O 3 <5 0 ≦ Bi A magnetic head characterized in that 2 O 3 <3.
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JPS5720910A (en) * 1980-07-11 1982-02-03 Matsushita Electric Ind Co Ltd Magnetic head
JPS61250810A (en) * 1985-04-30 1986-11-07 Hitachi Ltd Magnetic head and its production
JPS6246409A (en) * 1985-08-23 1987-02-28 Tdk Corp Magnetic head
JPS61142520A (en) * 1985-12-13 1986-06-30 Hitachi Metals Ltd Thin film magnetic head

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