JPH03265539A - Magnetic head - Google Patents

Magnetic head

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JPH03265539A
JPH03265539A JP6415290A JP6415290A JPH03265539A JP H03265539 A JPH03265539 A JP H03265539A JP 6415290 A JP6415290 A JP 6415290A JP 6415290 A JP6415290 A JP 6415290A JP H03265539 A JPH03265539 A JP H03265539A
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JP
Japan
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magnetic
glass material
glass
film
core halves
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JP6415290A
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Japanese (ja)
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Tsukasa Ohata
大畑 司
Yasuyuki Arikawa
康之 有川
Ikuo Shinoda
郁夫 信太
Takashi Namekawa
孝 滑川
Takashi Naito
孝 内藤
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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    • G11B5/127Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
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    • G11B5/127Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
    • G11B5/1272Assembling or shaping of elements

Abstract

PURPOSE:To raise the hardness of glass material to adhere a pair of core halves, to reduce cracking or chipping of glass during working, and to obtain a magnetic head of high reliability by using such a glass having a specified composition. CONSTITUTION:A magnetic head is manufactured by adhering a pair of core halves 8 each comprising a substrate 6 covered with a magnetic film 1 with glass material 4 in a manner that the magnetic films 1 face to each other through an insulating film 5 which acts as a magnetic gap. The glass material 4 has a composition of 70<=PbO<=75, 15<=B2O3<=23, 1<SiO2<5,2>ZnO<9, and 0<=Al2O3<5 (by wt.%). This glass material shows particularly high effect when the head is manufactured with using amorphous magnetic films as the magnetic films.

Description

【発明の詳細な説明】 C産業上の利用分野〕 本発明は磁気ヘッドに係り、特に磁性膜としてのアモル
ファス磁性材と共に用いて好適なガラス材を具備した磁
気ヘッドに関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of Industrial Application The present invention relates to a magnetic head, and particularly to a magnetic head comprising a glass material suitable for use with an amorphous magnetic material as a magnetic film.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

磁気記録の高密度化に伴ない、高飽和磁束密度のアモル
ファス磁性材を磁性膜に用いた磁気ヘッドが開発されて
いる。従来この種の磁気ヘッドに用いられる、テープと
の摺動面に形成されるガラス材の特性については、例え
ば特開昭63−298807号公報に開示されているよ
うに低融点ガラスを用いることが必須となっていた。
2. Description of the Related Art As the density of magnetic recording increases, magnetic heads using amorphous magnetic materials with high saturation magnetic flux density as magnetic films have been developed. Regarding the characteristics of the glass material formed on the sliding surface with the tape conventionally used in this type of magnetic head, it is possible to use a low melting point glass as disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-298807. It had become mandatory.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

上記従来技術によるガラス材を用いた場合、量産上いく
つかの問題点が見つかってきた。即ち、摩擦係数の高い
磁気テープを40℃、90%といった高温高湿中で走行
すると、ガラス部が偏摩耗して出力劣化を生じるとか、
あるいはヘッド摺動面コア厚を数+μm程度としてテー
プコンタクトの安定性を得ようとすると、ガラス強度不
足によるカケ、チッピングが激しくヘッド製造歩留りを
著しく低下してしまうといった問題が発生し、さらに硬
度の高いガラス材が必要となった。
When using the glass material according to the above-mentioned prior art, several problems have been found in mass production. In other words, if a magnetic tape with a high coefficient of friction is run at a high temperature of 40°C and high humidity of 90%, the glass part will wear unevenly and cause output deterioration.
Alternatively, if an attempt is made to stabilize the tape contact by increasing the core thickness of the head sliding surface to a few micrometers, problems such as chipping and chipping due to insufficient glass strength will occur, which will significantly reduce the head manufacturing yield. This required expensive glass materials.

本発明の目的は、上記従来技術のガラス材がビッカース
硬度300程度と低いことに着目し、ガラス材の改良を
ビッカース硬度が320(HV)から350(HV)と
硬度アップすることにより、加工時に生じるカケ、チッ
ピングを少くし、テープが接触摺動走行しても偏摩耗の
ない信頼性の高い磁気ヘッドを提供することにある。
The purpose of the present invention is to improve the glass material by increasing the Vickers hardness from 320 (HV) to 350 (HV), focusing on the fact that the glass material of the prior art has a low Vickers hardness of about 300. It is an object of the present invention to provide a highly reliable magnetic head that reduces chipping and chipping and is free from uneven wear even when a tape runs in sliding contact.

〔課題を解決するための手段〕 上記目的を達成するために、充填するガラス材の組成を
変化させ、そのそれぞれが、アモルファスとの反応が大
きいか小さいかを調べ、又、それぞれが、その機械的性
質において機械加工にとって好ましいものであるか否か
を調べた。
[Means for solving the problem] In order to achieve the above object, we changed the composition of the glass material to be filled and examined whether each of them had a large or small reaction with the amorphous material. It was investigated whether or not it was suitable for machining in terms of physical properties.

また、ガラス材の充填・接着時、磁性膜としてアモルフ
ァス磁性材を用いるため、該アモルファス膜の結晶化温
度以上では該アモルファス磁性材が結晶化してしまい、
その磁気特性が劣化してしまう。即ち、充填・接着時の
処理温度には上限があり、かつ量産を考慮した時には電
気炉の温度分布等のマージンを考えて、アモルファス磁
性材の結晶化温度より極力低い温度にて処理を行なう必
要がある。
Furthermore, since an amorphous magnetic material is used as the magnetic film when filling and adhering the glass material, the amorphous magnetic material will crystallize at temperatures above the crystallization temperature of the amorphous film.
Its magnetic properties deteriorate. In other words, there is an upper limit to the processing temperature during filling and bonding, and when considering mass production, it is necessary to consider margins such as temperature distribution in the electric furnace and perform processing at a temperature as low as possible than the crystallization temperature of the amorphous magnetic material. There is.

第5図は本発明を説明するためのガラス材の組成を示す
説明図である。
FIG. 5 is an explanatory diagram showing the composition of a glass material for explaining the present invention.

ガラスの組成は基本的にはPb0−B、O□−8i○、
−Zn○−AQ2O3の5元素から成り、それぞれの成
分をいろいろ変えてサンプル名A−Fとして示したもの
である。
The composition of glass is basically Pb0-B, O□-8i○,
It consists of five elements: -Zn○-AQ2O3, and each component is changed in various ways and shown as sample names A to F.

第6図は第5図に示したサンプル名A−Fの各ガラス材
の特性を示す説明図である。
FIG. 6 is an explanatory diagram showing the characteristics of each glass material with sample names A to F shown in FIG.

また、第7図は第5図に示したサンプル名A〜Fの各ガ
ラスのピンカース硬度とガラス素材の折れ強度を示すグ
ラフ図である。
Further, FIG. 7 is a graph showing the Pinkers hardness of each of the glasses with sample names A to F shown in FIG. 5 and the bending strength of the glass material.

第5図、第6図、第7図において、ガラスの軟化点が4
20〜450℃とほとんど変わらないにもかかわらず、
その組成により硬度2強度、またアモルファス磁性材と
の反応の程度などが著しく異なっている。
In Figures 5, 6, and 7, the softening point of glass is 4.
Despite the fact that there is almost no difference between 20 and 450 degrees Celsius,
Depending on the composition, the hardness and strength, as well as the degree of reaction with the amorphous magnetic material, etc., vary significantly.

また、サンプル名り、E、Fはビッカース強度、折れ強
度がサンプル名A、B、Cに比べて大きく効果があるこ
とがわかる。
It can also be seen that sample names E and F have greater effects on Vickers strength and bending strength than sample names A, B and C.

機械加工ではビッカース硬度が、大きいほどカケ、チッ
ピングが少なくなり、歩留りが向上する。
In machining, the higher the Vickers hardness, the less chipping and chipping, and the higher the yield.

また、サンプル名り、E、Fはアモルファス磁性材との
反応が極力少なくなり、特にサンプル名Aのガラスに比
較してみるとサンプル名り及びEなどは、その反応が約
173以下となり効果が著しい。
In addition, the reaction of sample names E and F with the amorphous magnetic material is as small as possible, especially when compared with the glass of sample name A, the reaction of sample names E and E is about 173 or less, which is less effective. Significant.

サンプル名B、Cとサンプル名り、E、Fを比較すると
、その大きい違いはS i O、の組成が2〜3%、B
2O3が15〜17%であり、この辺の値が効果あるよ
うに示される。
Comparing sample names B and C with sample names E and F, the major difference is that the composition of SiO is 2-3%, and B
2O3 is 15-17%, and values around this range are shown to be effective.

〔作用〕[Effect]

以上のことを総合的に見てみると、ガラスの軟化点をほ
とんど変えることなくアモルファス磁性膜との反応、加
工性、ガラス強度などを、好ましい方向にもってゆくこ
とができることがわかる。
If we take a comprehensive look at the above, we can see that the reaction with the amorphous magnetic film, processability, glass strength, etc. can be brought in favorable directions without changing the softening point of the glass.

軟化点を上げることなく処理できるということは、アモ
ルファス磁性材膜を用いてヘッドを作成する上で著しく
効果のあることである。逆に言えば。
The ability to process without raising the softening point is extremely effective in producing heads using amorphous magnetic material films. Conversely.

軟化点を上げてよいならば他に好ましいガラスは多々あ
る。本発明では軟化点に対して40℃前後高いぐらいの
ボンディング処理温度、あるいは熱処理温度を考えてお
り、アモルファス磁性材膜の結晶化温度Txを520〜
550℃ぐらいに想定している。
There are many other glasses that are preferable if the softening point can be raised. In the present invention, we are considering a bonding treatment temperature or heat treatment temperature that is approximately 40°C higher than the softening point, and the crystallization temperature Tx of the amorphous magnetic material film is set at 520 to 520°C.
The temperature is assumed to be around 550℃.

例えばCo−Nb−Zrアモルファス磁性材膜では、T
xを520〜550℃ぐらいを想定すると飽和磁束密度
Bsは0.9T〜1.0Tぐらいの膜が得られ。
For example, in a Co-Nb-Zr amorphous magnetic material film, T
Assuming x to be about 520 to 550°C, a film with a saturation magnetic flux density Bs of about 0.9T to 1.0T can be obtained.

Heが1400〜15000 eのメタル粉テープに充
分書き込むことができる。
It is possible to write sufficiently on a metal powder tape with a He of 1,400 to 15,000 e.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明の実施例を図面を用いて説明する。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

第1図は本発明による磁気ヘッドの一実施例を示すヘッ
ドチップの磁気テープ摺動面の正面図であって、1はア
モルファス磁性材の膜(以下、アモルファス磁性膜と称
する)、2はSiO□から成る絶縁膜、3はCrから成
る保護膜、4は充填・接着剤としてのガラス材の層(以
下、ガラス層と称する)、5はSio2から成るギャッ
プ材、6はフェライトから成る基体、7は山形形成面、
7′は山形形成面の山形頂部、−β−はコア半体である
FIG. 1 is a front view of a magnetic tape sliding surface of a head chip showing an embodiment of a magnetic head according to the present invention, in which 1 is a film of an amorphous magnetic material (hereinafter referred to as an amorphous magnetic film), 2 is an SiO 3 is a protective film made of Cr; 4 is a layer of glass material as a filler/adhesive (hereinafter referred to as a glass layer); 5 is a gap material made of Sio2; 6 is a base made of ferrite; 7 is a chevron forming surface;
7' is the chevron top of the chevron-forming surface, and -β- is the core half.

同図において、磁気ヘッドは、フェライトから成る基体
6に形成された山形の山形形成面7上に被着したアモル
ファス磁性膜1と、この上に被着した絶縁膜2及び保護
膜3を有する一対のコア半体lを、山形形成面7の山形
頂部7′上のアモルファス磁性膜を研削・ラッピング加
工して成るトラック幅規制のための加工面同志が対向す
るように、ギャップ材5を介して突き合わせ、一対のコ
ア半体旦の各山形形成面7間で保護膜3上にガラス材を
充填・加熱してガラス層4となし、両コア半体を接着し
て成るものである。
In the figure, the magnetic head consists of a pair of amorphous magnetic films 1 deposited on a chevron-shaped surface 7 formed on a base 6 made of ferrite, and an insulating film 2 and a protective film 3 deposited thereon. The core half l is placed through the gap material 5 so that the processed surfaces for regulating the track width, which are formed by grinding and lapping the amorphous magnetic film on the peak 7' of the peak forming surface 7, face each other. The core halves are butted together, a glass material is filled and heated on the protective film 3 between the chevron-forming surfaces 7 of the pair of core halves to form a glass layer 4, and the two core halves are bonded together.

なお、このとき、ギャップ材5としてのSin。Note that at this time, the gap material 5 is made of Sin.

はガラス層4とガラス化反応してガラス化され、両コア
半体間でガラス層4と一体化される。
is vitrified by a vitrification reaction with the glass layer 4, and is integrated with the glass layer 4 between the two core halves.

第2図は第1図に示した磁気テープ摺動面の要部拡大図
であって、第1図と同一符号は同一部分を示す。
FIG. 2 is an enlarged view of a main part of the magnetic tape sliding surface shown in FIG. 1, and the same reference numerals as in FIG. 1 indicate the same parts.

同図において1両コア半体8を突き合わせてガラス層4
を充填すると、前記したように、トラック幅規制用の加
工面(ギャップ部分)にあるギャップ材は、ガラス材と
ガラス化反応してガラス層4として均一化される。
In the figure, one core half 8 is butted against the glass layer 4.
When filled, as described above, the gap material present on the processed surface (gap portion) for controlling the track width undergoes a vitrification reaction with the glass material and is uniformized as the glass layer 4.

しかし、このガラス材の充填により一対のコア半体を接
着するときに、上記したギャップ材5のコア半体接着部
分での該ガラス材とのガラス化反応は、接着性の観点か
らみて好ましいものであるが、上記ガラス化反応はコア
半体接着部分に留らず、ギャップ部分にも及び傾向があ
る。その結果、トラック幅規制長さ(第1図にTpで示
す)が短くなってしまうということがあり、例えば第5
図のサンプル名Aガラスを用いるとこれが著しい。
However, when the pair of core halves are bonded together by filling this glass material, the vitrification reaction between the gap material 5 and the glass material at the bonded portion of the core halves is preferable from the viewpoint of adhesion. However, the vitrification reaction tends to extend not only to the bonded portion of the core halves but also to the gap portion. As a result, the track width regulation length (indicated by Tp in Figure 1) may become shorter, for example,
This is remarkable when sample name A glass in the figure is used.

また、充填ガラス材はアモルファス磁性材とも反応し、
ガラス材がアモルファス磁性材に入り込み、そのHeを
大きくする様な磁性特性の劣化をまねき、有効トラック
幅の短縮をもたらすのみでなく、磁気ヘッドとしての動
作に重大な悪影響を及ぼす。
In addition, the filled glass material also reacts with the amorphous magnetic material,
The glass material enters the amorphous magnetic material, causing deterioration of its magnetic properties such as increasing its He, which not only shortens the effective track width but also seriously affects the operation of the magnetic head.

以上の事態の発生状況を第2図に■として概念的に示し
た。
The occurrence of the above situation is conceptually shown in Figure 2 as ■.

しかし、この様な事態の発生は、本発明によるガラス材
、すなわち、70≦pbo≦75.15≦B20、≦2
3.l < 5iOz < 5 、2 < Z n○く
9.o≦AQ、○、く5.を各重量パーセント含む組成
のガラス材を用いることによって低減することができる
However, the occurrence of such a situation is limited to the glass material according to the present invention, that is, 70≦pbo≦75.15≦B20, ≦2
3. l < 5iOz < 5, 2 < Z n○ku9. o≦AQ, ○, 5. It can be reduced by using a glass material having a composition containing each weight percent.

例えば、ガラス材として第5図のサンプル名りのものを
用いると、第1図に示した構造の磁気へラドにおいて、
第2図に示した反応部分■の大きさを前記サンプル名A
のガラス材を用いた場合の3分の1以下とすることがで
き、トラック幅方向の長さの短縮を0.2μm以下とす
ることができる。
For example, if the sample shown in Figure 5 is used as the glass material, in the magnetic helad with the structure shown in Figure 1,
The size of the reaction area ■ shown in Figure 2 is the sample name A.
This can be reduced to one-third or less of that when using glass material, and the length in the track width direction can be reduced to 0.2 μm or less.

この短縮長さは実用上はとんど無視できる量であり、こ
の結果、ヘッドの製造歩留りを20%以上向上させるこ
とができた。
This shortened length is practically negligible in practical terms, and as a result, the manufacturing yield of the head could be improved by more than 20%.

しかも、上記第5図に示したサンプル名りのガラス材は
サンプル名Aと同じ温度プロファイルで充填・接着の各
作業処理ができ、特別の条件を設定する必要はない。
Furthermore, the glass material shown in FIG. 5 above can be subjected to filling and bonding operations with the same temperature profile as sample A, and there is no need to set any special conditions.

また、第5図のサンプル名Eのガラス材を用い、サンプ
ル名りのガラス材と同一プロセス、同一プロファイルで
磁気ヘッドの作成を行ったが、サンプル名りのガラス材
を用いた場合と同様に、アモルファス磁性材との反応が
少なく、ギャップ材とのガラス化反応によるトラック幅
方向長さの短縮が少なく、精度、信頼性が高く、歩留り
のよい磁気ヘッドが得られた。
In addition, a magnetic head was created using the glass material with the sample name E in Figure 5, using the same process and the same profile as the glass material with the sample name. A magnetic head with low reaction with the amorphous magnetic material, little shortening of track width direction length due to vitrification reaction with the gap material, high precision, high reliability, and high yield was obtained.

また、サンプル名り、Eのガラス材を用いた磁気ヘッド
を長時間走行させ、その偏摩耗の発生程度、出力の経時
変化等を試験した結果、いづれも特別に問題がなく、か
つ、高温・高温雰囲気中での試験においても良好な結果
が得られた。
In addition, as a result of running a magnetic head using a glass material with the sample name E for a long period of time and testing the degree of uneven wear and changes in output over time, there were no particular problems in any of them, and there was no problem at high temperatures. Good results were also obtained in tests in high-temperature atmospheres.

このことから、アモルファス磁性材を磁性膜として用い
た磁気ヘッドのコア半体の接着用ガラス材としては、第
5図のサンプル名C−Fのガラス材が適当であり、特に
サンプル名り、E、Fのガラス材を用いるのが好適であ
る。
From this, the glass materials with sample names C-F in Fig. 5 are suitable as adhesive glass materials for the core half of a magnetic head using an amorphous magnetic material as the magnetic film, and in particular, the glass materials with sample names C-F are suitable. , F glass material is preferably used.

なお、第5図の組成においては、すべて整数で示しであ
るが、これはあくまで概数であって、実施例に記載した
重量パーセントの範囲内であれば、その数値は整数とは
限らないことに注意すべきである。
In addition, in the composition of FIG. 5, all numbers are shown as integers, but these are only approximate numbers, and as long as they are within the weight percentage range described in the examples, the numbers are not necessarily integers. You should be careful.

次に、本発明の磁気ヘッドの製造方法を説明する。Next, a method for manufacturing the magnetic head of the present invention will be explained.

第3図はコア半体を製作するためのコア半体ブロックの
一つを示す正面図であって、1はアモルファス磁性膜、
2はSin、膜、3はCr膜、4はガラス層、5はSi
n、膜(ギャップ材)、6はフェライト(基体)、7は
山形形成面、9−はコア半体ブロックである。
FIG. 3 is a front view showing one of the core half blocks for manufacturing the core half, in which 1 is an amorphous magnetic film;
2 is a Sin film, 3 is a Cr film, 4 is a glass layer, and 5 is a Si film.
n is a film (gap material), 6 is a ferrite (substrate), 7 is a chevron forming surface, and 9- is a core half block.

同図において、先ず、基体6となるフェライトにダイシ
ングソーなどにより山形溝を複数個形成して山形形成面
7をつくる。この山形形成面7上にスパッタリング装置
を用いて、アモルファス磁性材(例えば、Co−Nb−
Zr)を20〜30μm厚に被着して磁性膜1を形成す
る。次に、保護膜2.3を形成するが、ここでは、保護
膜2としてSin、膜を0.3μm厚に、保護膜3とし
てCr膜を0.5μI厚にスパッタリング装置により形
成する。
In the figure, first, a plurality of chevron-shaped grooves are formed in ferrite, which will become the base body 6, using a dicing saw or the like to form a chevron-formed surface 7. Using a sputtering device, an amorphous magnetic material (for example, Co-Nb-
A magnetic film 1 is formed by depositing Zr) to a thickness of 20 to 30 μm. Next, the protective film 2.3 is formed. Here, the protective film 2 is formed of a Sin film to a thickness of 0.3 μm, and the protective film 3 is formed of a Cr film to a thickness of 0.5 μm using a sputtering apparatus.

保護膜2,3は磁性膜1と後述のガラス材との間の反応
を抑制する機能を有する。
The protective films 2 and 3 have the function of suppressing the reaction between the magnetic film 1 and a glass material to be described later.

保護膜の上に充填するガラス材としては、第5図のサン
プル名りの組成のものを用いる。
As the glass material filled on the protective film, a glass material having a composition similar to the sample name shown in FIG. 5 is used.

このガラス材は板状のものを山形形成面上にのせ、N2
雰囲気電気炉で470℃、20分間保持することにより
、前記山形の溝部分に充填される。
This glass material is plate-shaped and placed on the chevron-forming surface.
By keeping the atmosphere at 470° C. for 20 minutes in an electric furnace, the chevron-shaped groove portions are filled.

ガラス材を充填してガラス層4を形成した後、この充填
面を研削、ラッピングして、山形頂部の磁性膜1をトラ
ック幅を規制する分だけ露出させる(トラック幅出し加
工)。
After filling the glass material to form the glass layer 4, the filled surface is ground and lapped to expose the magnetic film 1 at the top of the chevron by an amount that regulates the track width (track width enlarging process).

トラック幅出し加工した磁性膜の面は、通常o、os 
sの表面粗さ(すなわち、表面上の凹凸のピーク・ピー
クが0.05μm)の鏡面とされる。
The surface of the magnetic film processed for track width is usually o, os.
The mirror surface has a surface roughness of s (that is, the peak to peak of unevenness on the surface is 0.05 μm).

次に、ベツドギャップとなるギャップ材(SiC2)5
をスパッタリングにより被着形成し、一方のコア半体ブ
ロック9を得る。
Next, gap material (SiC2) 5 that will become the bed gap
is deposited by sputtering to obtain one core half block 9.

第4図は第3図のコア半体ブロック9を二個(すなわち
一対)として、両者のトラック幅規制面を互いに突き合
わせた状態を示す正面図であって、第3回と同一符号は
同一部分に相当し、旦はへラドチップのコア半体となる
部分、IOは切りシロである。
FIG. 4 is a front view showing a state in which two core half blocks 9 (that is, a pair) in FIG. It corresponds to , the part is the core half of the helad chip, and the IO is the cutting part.

同図に示す様に、一対のコア半体ブロック9゜9−を、
それらのトラック幅規制面を突き合わせて、前記と同様
のN2雰囲気電気炉で473℃、20分間保持すること
により、互いに接着して一体化したヘッドブロックを得
る。
As shown in the figure, a pair of core half blocks 9°9- are
Their track width regulating surfaces are butted against each other and held at 473° C. for 20 minutes in the same N2 atmosphere electric furnace as described above to obtain an integrated head block that is adhered to each other.

このヘッドブロックをダイシングソーあるいはワイヤソ
ーなどにより、切りシロ10部分で切断し。
Cut this head block at 10 cutting edges using a dicing saw or wire saw.

複数個のへラドチップとする。Use multiple helad chips.

こうして得たヘッドチップの一つが前記第1図に示した
ものとなる。
One of the head chips thus obtained is shown in FIG. 1 above.

以上のようにして5本発明の磁気ヘッドを製造すること
ができる。
In the above manner, the magnetic head of the present invention can be manufactured.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように、本発明によれば、ガラス層の充填
・接着のための処理温度を上げることなく、すなわちガ
ラス材の軟化点温度プラス100℃前後とすることでア
モルファス磁性体の結晶化温度以下で処理できる最適組
成のガラス材を選定することにより、アモルファス磁性
膜に最も適した充填ガラスを用いることができ、加工性
の向上、アモルファス磁性膜との反応が少なく、かつ耐
摩耗性が大で高い信頼性を有する磁気ヘッドを提供する
ことができる。
As explained above, according to the present invention, the crystallization temperature of the amorphous magnetic material can be adjusted without increasing the processing temperature for filling and adhering the glass layer, that is, by setting the temperature to about 100° C. above the softening point of the glass material. By selecting a glass material with an optimal composition that can be processed as follows, it is possible to use the most suitable filled glass for the amorphous magnetic film, which improves processability, reduces reaction with the amorphous magnetic film, and has high wear resistance. This makes it possible to provide a magnetic head with high reliability.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明による磁気ヘッドの一実施例を示すヘッ
ドチップの磁気テープ摺動面の正面図。 第2図は第1図に示した磁気テープ摺動面の要部拡大図
、第3図はコア半体を製作するためのコア半体ブロック
の正面図、第4図は二つのコア半体ブロックを突き合わ
せた状態を示す正面図、第5図はガラス材の組成を示す
説明図、第6図は第5図に示したガラス材の特性を示す
説明図、第7図は第5図に示したガラス材の硬度とガラ
ス素材の折れ強度を示すグラフ図である。 1・・・アモルファス磁性膜、 2・・・S i O2膜、 3・・・Cr膜、 4・・・ガラス層、 5・・・Sin、膜、 6・・・基体。 7・・・山形形成面、 7′・・・山形頂部、 8・・・コア半体、 9・・・コア半体ブロック、 第 f−・−アモ、ILフ7ス淵【江J( 5−ギャフブオオ(siO2#更ン 第 閉 拓 4国 第
FIG. 1 is a front view of a magnetic tape sliding surface of a head chip showing an embodiment of a magnetic head according to the present invention. Figure 2 is an enlarged view of the main parts of the magnetic tape sliding surface shown in Figure 1, Figure 3 is a front view of the core half block for manufacturing the core halves, and Figure 4 is the two core halves. A front view showing the blocks butted together, Fig. 5 is an explanatory diagram showing the composition of the glass material, Fig. 6 is an explanatory diagram showing the characteristics of the glass material shown in Fig. 5, and Fig. 7 is the same as Fig. 5. It is a graph diagram showing the hardness of the glass material shown and the bending strength of the glass material. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Amorphous magnetic film, 2... SiO2 film, 3... Cr film, 4... Glass layer, 5... Sin, film, 6... Substrate. 7...Chevron formation surface, 7'...Chevron top, 8...Core half body, 9...Core half block, No. -Gafbuoo (siO2

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、基体上に磁性膜を被着した一対のコア半体を、その
該各磁性膜間に磁気ギャップとなる絶縁膜を介して突き
合わせガラス材料により接着して成る磁気ヘッドにおい
て、前記ガラス材が、70≦PbO≦75、15≦B_
2O_3≦23、1<SiO_2<5、2<ZnO<9
、0≦Al_2O_3<5を各重量パーセント含む組成
であることを特徴とする磁気ヘッド。 2、請求項1記載の磁気ヘッドにおいて、前記磁性膜の
少くとも一部をCoを含有したアモルファス磁性材によ
り構成したことを特徴とする磁気ヘッド。 3、請求項1記載の磁気ヘッドにおいて、山形に形成さ
れた基体の該山形形成面に被着したアモルファス磁性材
から成る磁性膜を有し、該山形形成面の山形頂部の磁性
膜にトラック幅規制のための加工面を備えた一対のコア
半体と、該一対のコア半体の上記磁性膜間に介在させた
絶縁膜と、該一対のコア半体を上記加工面を除く山形形
成面間において接着する前記ガラス材の層を少くとも有
し、上記一対のコア半体を上記各加工面を上記絶縁膜を
介して突き合わせて上記ガラス材の層により接着した構
成としたことを特徴とする磁気ヘッド。
[Scope of Claims] 1. A magnetic head comprising a pair of core halves each having a magnetic film coated on a base, butted and bonded together using a glass material with an insulating film forming a magnetic gap between the two magnetic films. In the glass material, 70≦PbO≦75, 15≦B_
2O_3≦23, 1<SiO_2<5, 2<ZnO<9
, 0≦Al_2O_3<5, in each weight percent. 2. The magnetic head according to claim 1, wherein at least a portion of the magnetic film is made of an amorphous magnetic material containing Co. 3. The magnetic head according to claim 1, further comprising a magnetic film made of an amorphous magnetic material adhered to the chevron-formed surface of the base body formed in a chevron-shape, and the magnetic film on the top of the chevron-shaped surface has a track width. A pair of core halves each having a processed surface for regulation, an insulating film interposed between the magnetic films of the pair of core halves, and a chevron-formed surface excluding the processed surface of the pair of core halves. The core halves have at least a layer of the glass material bonded therebetween, and each of the processed surfaces of the pair of core halves are butted together with the insulating film interposed therebetween and bonded by the layer of the glass material. magnetic head.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2001003128A1 (en) * 1999-07-02 2001-01-11 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Sealing glass for magnetic head and magnetic head using the same

Cited By (2)

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WO2001003128A1 (en) * 1999-07-02 2001-01-11 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Sealing glass for magnetic head and magnetic head using the same
US6631050B1 (en) 1999-07-02 2003-10-07 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Sealing glass for magnetic head and magnetic head using the same

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