JPH08309575A - Laser beam machine - Google Patents

Laser beam machine

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Publication number
JPH08309575A
JPH08309575A JP7113462A JP11346295A JPH08309575A JP H08309575 A JPH08309575 A JP H08309575A JP 7113462 A JP7113462 A JP 7113462A JP 11346295 A JP11346295 A JP 11346295A JP H08309575 A JPH08309575 A JP H08309575A
Authority
JP
Japan
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laser
processing
light
shutter
shutter mechanism
Prior art date
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Pending
Application number
JP7113462A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yasutoshi Kaneko
泰俊 金子
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
Priority to JP7113462A priority Critical patent/JPH08309575A/en
Publication of JPH08309575A publication Critical patent/JPH08309575A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE: To provide a laser beam machine capable of accurately detecting the light quantity not emitted on an object to be machined in the case where the shutter is closed during laser irradiation. CONSTITUTION: An optical reflector means 126 for reflecting machining laser beams 104a at the time of stoppage of a shutter mechanism 122 is provided in that shutter mechanism 120, 122 which is arranged in the optical path of the machining laser beams 104a generated from a laser light source 102 and which is freely closed or opened. As a result, a reflected light beam 104c reflected by the optical reflector means 126 is received by a light quantity detector 112, causing the shutter mechanism 120 to be closed, and thereby enabling the accurate detection of the light quantity not emitted on an object 206 to be machined.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はレーザ加工装置に関する
ものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a laser processing apparatus.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体製造工程においては、回路内に予
備のセル(リダンダンシイ回路)を予め設けておき、プ
ローブ装置などによる回路検査の結果、一部のセルに不
良が発見された場合には、不良セルと予備のセルとを置
き換える、いわゆるリダンダンシイ処理を行うことによ
り、不良チップの発生を救済し、歩留まりの向上を図っ
ている。かかるリダンダンシイ処理は、いわゆるレーザ
加工装置により、チップ内に形成された特殊回路(フュ
ーズ回路)に高エネルギーのレーザスポット光を照射し
て切断したり、あるいは高抵抗の配線層にレーザスポッ
ト光を照射して低抵抗化することにより行われている。
2. Description of the Related Art In a semiconductor manufacturing process, a spare cell (redundancy circuit) is previously provided in a circuit, and when a defect is found in a part of cells as a result of circuit inspection by a probe device or the like, By performing a so-called redundancy process for replacing a defective cell with a spare cell, the generation of defective chips is relieved and the yield is improved. Such redundancy processing irradiates a special circuit (fuse circuit) formed in a chip with a high-energy laser spot light to cut it by a so-called laser processing device, or a laser spot light is applied to a high resistance wiring layer. This is done by irradiating to reduce the resistance.

【0003】ところで、かかるレーザ加工装置は、加工
用レーザ光を発生する加工用レーザ発生部と、この加工
用レーザ発生部から出射されたレーザ光を走査し集光し
てステージ上に載置された被加工物に照射するレーザ加
工部とから主に構成されている。加工用レーザ発生部
は、ハウジング内に一体的に収容されており、必要に応
じてレーザ加工部にレーザ光を供給する。また、上記ハ
ウジングのレーザ出射口には、開閉自在のシャッタ機構
が設けられている。このシャッタ機構は、制御器からの
信号に応じて開閉駆動されるとともに、レーザ照射中で
あっても、装置に何らかの異常が発生した場合には、自
動的に閉止され、レーザ光の照射を遮断するように構成
されている。
By the way, such a laser processing apparatus scans and condenses a processing laser generating section for generating a processing laser beam and a laser beam emitted from the processing laser generating section and mounts it on a stage. It is mainly composed of a laser processing part for irradiating the work piece. The processing laser generation unit is integrally housed in the housing, and supplies laser light to the laser processing unit as necessary. A shutter mechanism that can be opened and closed is provided at the laser emission port of the housing. This shutter mechanism is driven to open and close in response to a signal from the controller, and is automatically closed if any abnormality occurs in the device even during laser irradiation, shutting off laser light irradiation. Is configured to.

【0004】かかるシャッタの開閉状態を検出するため
に、従来のレーザ加工装置では、シャッタに開閉状態検
出器を取り付け、シャッタの開閉状態の検出を行ってい
た。なお、かかる開閉状態検出器は、例えば、シャッタ
に取り付けられたフィンと、このフィンの動作を光学的
に検出する検出器とを備えることにより、シャッタの開
閉状態を検出していた。
In order to detect the open / closed state of the shutter, in the conventional laser processing apparatus, an open / closed state detector is attached to the shutter to detect the open / closed state of the shutter. The open / closed state detector detects the open / closed state of the shutter by including, for example, a fin attached to the shutter and a detector that optically detects the operation of the fin.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】上記の如き従来の装置
においては、レーザ照射中にシャッタが閉じたことを検
出するためには、シャッタに備えた開閉状態検出器を常
時モニタする機構を備えなければできないという問題点
があった。また、上記検出器は単にシャッタの開閉状態
を検知するものなので、照射中にシャッタが閉じたこと
により、被加工物への照射されなかった光量を検出する
ことができないという問題点があった。
In the conventional apparatus as described above, in order to detect the closing of the shutter during laser irradiation, a mechanism for constantly monitoring the open / closed state detector provided in the shutter must be provided. There was a problem that it could not be done. Further, since the detector only detects the open / closed state of the shutter, there is a problem in that it is impossible to detect the amount of light that has not been irradiated to the workpiece because the shutter is closed during irradiation.

【0006】本発明は、上記のような従来のレーザ加工
装置が有する問題点に鑑みてなされたものであり、シャ
ッタの開閉状態検出器とそれを常時モニタする機構を備
えなくても、レーザ照射中にシャッタが閉じたことを検
出することが可能であり、シャッタが閉じたことによ
り、被加工物へ照射されなかった光量を求めることがで
きるレーザ加工装置を得ることを目的とする。
The present invention has been made in view of the problems of the conventional laser processing apparatus as described above. Even if the shutter open / close state detector and a mechanism for constantly monitoring the same are not provided, laser irradiation is performed. An object of the present invention is to obtain a laser processing apparatus capable of detecting that a shutter is closed therein, and being able to determine the amount of light that has not been irradiated to the workpiece by closing the shutter.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は、加工用レーザ光を発するレーザ光源(1
02)とその加工用レーザ光を集光してスポット光を形
成し被加工物(206)上に照射する集光光学系(20
4)とを備えたレーザ加工装置に、加工用レーザ光の光
路中に配置される開閉自在のシャッタ機構(120、1
22)と、そのシャッタ機構(120、122)の閉止
時に加工用レーザ光を反射する光反射手段(126)
と、その光反射手段(126)により反射された加工用
レーザ光を受光する光量検出器(112)とを設けてい
る。
In order to solve the above problems, the present invention provides a laser light source (1) which emits a processing laser beam.
02) and its processing laser light to form spot light and irradiate it onto the workpiece (206).
4), and a shutter mechanism (120, 1 which is openable / closable) arranged in the optical path of the processing laser beam.
22) and a light reflecting means (126) for reflecting the processing laser light when the shutter mechanism (120, 122) is closed.
And a light quantity detector (112) for receiving the processing laser light reflected by the light reflecting means (126).

【0008】そして、本発明によれば、シャッタ機構
(120、122)の閉止後に加工を再開する際に、光
量検出器(112)により検出された光量に応じて、シ
ャッタ機構(120、122)を再び開放した後の加工
用レーザ光の出力量が決定される。
Further, according to the present invention, when the shutter mechanism (120, 122) is closed and the processing is restarted, the shutter mechanism (120, 122) is responsive to the light amount detected by the light amount detector (112). The output amount of the processing laser light after the laser beam is released again is determined.

【0009】[0009]

【作用】上記の如き構成に於いては、レーザ照射中にシ
ャッタ機構(120、122)が閉じた場合には、加工
用レーザ光は光反射手段(126)により反射されて、
光量検出器(112)へ照射されるので、単に光量検出
器(112)の出力をモニタすることにより、従来のレ
ーザ加工装置に必要であったシャッタ開閉状態の検出器
などを使用せずに、レーザ照射中にシャッタ機構(12
0、122)が閉じたことを検出できる。
In the above structure, when the shutter mechanism (120, 122) is closed during laser irradiation, the processing laser light is reflected by the light reflecting means (126),
Since the light amount detector (112) is irradiated, simply by monitoring the output of the light amount detector (112), without using a shutter open / close state detector or the like which is necessary for a conventional laser processing apparatus, The shutter mechanism (12
0, 122) can be detected to be closed.

【0010】また、シャッタ機構(120、122)が
閉じたことにより被加工物に照射されなかった加工用レ
ーザ光の光量を光量検出器(112)により求めること
ができるので、加工再開時に、残余の加工に必要な光量
の加工用レーザ光を過不足無く被加工物(206)に照
射することが可能である。
Further, since the light quantity of the processing laser light which has not been irradiated to the work piece due to the closing of the shutter mechanism (120, 122) can be obtained by the light quantity detector (112), the residual quantity remains when the processing is restarted. It is possible to irradiate the object to be processed (206) with the laser light for processing of the amount of light necessary for the above processing without excess or deficiency.

【0011】[0011]

【実施例】以下に添付図面を参照しながら、本発明にか
かるレーザ加工装置の好適な実施例について詳細に説明
する。なお、図1は、本発明にかかるレーザ加工装置の
概略構成を示す構成図であり、図2は、シャッタ機構1
20を拡大して示す構成図である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of a laser processing apparatus according to the present invention will be described in detail below with reference to the accompanying drawings. 1 is a block diagram showing a schematic structure of a laser processing apparatus according to the present invention, and FIG. 2 is a shutter mechanism 1.
It is a block diagram which expands and shows 20.

【0012】図1に示すように、本発明にかかるレーザ
加工装置は、加工用レーザ光104aを発生する加工用
レーザ発生部100と、この加工用レーザ発生部100
から出射された加工用レーザ光104aを走査し集光し
てステージ208上に載置された被加工物206に照射
するレーザ加工部200と、これらの加工用レーザ発生
部100とレーザ加工部200の動作を制御する制御部
300とから主に構成されている。
As shown in FIG. 1, a laser processing apparatus according to the present invention includes a processing laser generator 100 for generating a processing laser beam 104a and a processing laser generator 100.
A laser processing section 200 that scans and collects the processing laser beam 104a emitted from the laser beam and irradiates the workpiece 206 placed on the stage 208 with the laser processing section 200, and the processing laser generating section 100 and the laser processing section 200. The control unit 300 mainly controls the operation of the above.

【0013】加工用レーザ発生部100は、加工用レー
ザ光源102と、そのレーザ光源102から射出された
レーザビーム104をより大きな平行ビームに拡大する
ビームエクスパンダ106と、拡大されたレーザビーム
104を加工用のレーザ光104aとモニタ用のレーザ
光104bに分離するビームスプリッタ108とを備え
ている。さらに、加工用レーザ発生部100は、ビーム
スプリッタ108で分離されたモニタ用のレーザ光10
4bを反射する半透過ミラー110と、半透過ミラー1
10で反射されたモニタ用のレーザ光104b(およ
び、後述するようにシャッタ機構120のミラー126
で反射された反射光104c)を受光する光量検出器1
12を備えている。また、加工用レーザ発生部100
は、ビームスプリッタ108で分離された加工用レーザ
光104aを反射するミラー114と、レーザ加工部2
00へ出射される加工用レーザ光104aを遮蔽するこ
とができるシャッタ機構120を備えている。そして、
加工用レーザ発生部100を構成する上記部材は、ハウ
ジング130内に一体的に収納されている。
The processing laser generator 100 includes a processing laser light source 102, a beam expander 106 for expanding a laser beam 104 emitted from the laser light source 102 into a larger parallel beam, and an expanded laser beam 104. A beam splitter 108 for separating the processing laser beam 104a and the monitoring laser beam 104b is provided. Further, the processing laser generation unit 100 uses the laser light 10 for monitoring separated by the beam splitter 108.
4b and semi-transmissive mirror 110, and semi-transmissive mirror 1
The laser beam 104b for monitoring reflected by the laser beam 10b (and the mirror 126 of the shutter mechanism 120 as described later).
Light amount detector 1 for receiving the reflected light 104c) reflected by
It has twelve. Further, the processing laser generator 100
Is a mirror 114 for reflecting the processing laser beam 104a separated by the beam splitter 108, and the laser processing unit 2
A shutter mechanism 120 capable of blocking the processing laser beam 104a emitted to the laser beam 00 is provided. And
The above-mentioned members forming the processing laser generation unit 100 are integrally housed in the housing 130.

【0014】シャッタ機構120について、図2を参照
しながら説明する。図示のようにシャッタ機構120
は、ハウジング130の開口部132付近に設置されて
おり、その開口部132を開閉するシャッタ122と、
そのシャッタ122を駆動するシャッタ駆動装置124
を備えている。さらに上記シャッタ122のハウジング
側にはミラー126が貼設されており、図2に実線で示
すように、シャッタ122を閉止したときに、加工用レ
ーザ光104aを反射して、半透過ミラー110を介し
て光量検出器112に送ることが可能である。なお、図
中点線は、シャッタ122を開放したときに、加工用レ
ーザ光104aがレーザ加工部200に出射する光路を
示すものである。
The shutter mechanism 120 will be described with reference to FIG. As shown, the shutter mechanism 120
Is installed in the vicinity of the opening 132 of the housing 130, and a shutter 122 that opens and closes the opening 132,
A shutter drive device 124 that drives the shutter 122
It has. Further, a mirror 126 is attached to the housing side of the shutter 122. As shown by the solid line in FIG. 2, when the shutter 122 is closed, the processing laser beam 104a is reflected and the semi-transmissive mirror 110 is turned on. It is possible to send to the light amount detector 112 via the light source. Note that the dotted line in the figure indicates the optical path through which the processing laser beam 104a is emitted to the laser processing section 200 when the shutter 122 is opened.

【0015】再び、図1に戻り、レーザ加工装置のレー
ザ加工部200について説明する。レーザ加工部200
は、レーザ走査系202と、加工用レーザを集光する集
光光学系204と、ウェハなどの被加工物206が載置
されるステージ208とを備えている。ステージ208
は不図示の駆動機構により、X方向、Y方向、Z方向、
θ方向に駆動することができるもので、主制御器302
に予め格納されたウェハのエラーマップに基づいて、被
加工部206の加工位置(すなわち、加工用レーザ光の
照射位置)を最適に位置決めすることができる。
Returning to FIG. 1 again, the laser processing unit 200 of the laser processing apparatus will be described. Laser processing unit 200
Includes a laser scanning system 202, a condensing optical system 204 that condenses a processing laser, and a stage 208 on which a workpiece 206 such as a wafer is placed. Stage 208
Is driven by a drive mechanism (not shown) in the X direction, Y direction, Z direction,
It can be driven in the θ direction, and the main controller 302
It is possible to optimally position the processing position of the processed portion 206 (that is, the irradiation position of the processing laser light) based on the wafer error map stored in advance.

【0016】さて、制御部300は、主制御器302と
CRTやキーボードから構成されるインタフェース手段
304とから主に構成されている。主制御器302は、
シャッタ駆動機構120や光量検出器112からシャッ
タ駆動情報や光量情報を受けて、それらの情報に応じた
最適な制御指令をレーザ光源102、シャッタ駆動機構
120、レーザ走査系202、ステージ208などに出
力することにより、レーザ加工装置を最適に制御するこ
とができる。また主制御器302は、インタフェース手
段304のCRTにレーザ加工装置の処理状態を出力
し、オペレータは必要な指令をインタフェース手段30
4のキーボードから主制御器302に入力することがで
きる。
The control section 300 is mainly composed of a main controller 302 and an interface means 304 composed of a CRT and a keyboard. The main controller 302 is
The shutter drive information and the light amount information are received from the shutter drive mechanism 120 and the light amount detector 112, and an optimum control command corresponding to the information is output to the laser light source 102, the shutter drive mechanism 120, the laser scanning system 202, the stage 208, and the like. By doing so, the laser processing apparatus can be optimally controlled. Further, the main controller 302 outputs the processing state of the laser processing apparatus to the CRT of the interface means 304, and the operator issues a necessary command to the interface means 30.
4 can be input to the main controller 302 from the keyboard.

【0017】次に、上記レーザ加工装置によりウェハに
対してリダンダンシィ処理を行う場合を例に挙げて、本
発明にかかるレーザ加工装置の動作について説明する。
なお、本発明装置の効果をより良く理解するために、リ
ダンダンシィ処理の途中に、例えばフェールセーフ機構
が働いてシャッタ122が閉じ、それにより加工用レー
ザ104aの出射が遮断され、安全が確認された後に、
再びレーザ加工を再開するものとする。
Next, the operation of the laser processing apparatus according to the present invention will be described by taking as an example the case where the redundancy processing is performed on the wafer by the laser processing apparatus.
In order to better understand the effect of the device of the present invention, in the middle of the redundancy process, for example, a fail-safe mechanism works to close the shutter 122, which shuts off the emission of the processing laser 104a and confirms the safety. After
Laser processing shall be restarted again.

【0018】まず、主制御器302に予め格納された被
加工物206に関するエラーマップに基づいて、ステー
ジ208を駆動して、被加工物206を所定の加工位置
にアライメントする。次いで、シャッタ機構120に指
令を送り、シャッタ122を開放するとともに、レーザ
光源102を発振させる。レーザ光源102を出射した
レーザビーム104はビームエキスパンダ106を通し
てより大きな平行ビームに拡大され、ビームスプリッタ
108を透過することにより加工用レーザ光104aと
モニタ用レーザ光104bとに分離される。
First, the stage 208 is driven to align the workpiece 206 at a predetermined processing position based on an error map for the workpiece 206 stored in the main controller 302 in advance. Then, a command is sent to the shutter mechanism 120 to open the shutter 122 and oscillate the laser light source 102. The laser beam 104 emitted from the laser light source 102 is expanded into a larger parallel beam through the beam expander 106, and is transmitted through the beam splitter 108 to be separated into a processing laser beam 104a and a monitoring laser beam 104b.

【0019】モニタ用レーザ光104bはビームスプリ
ッタ108から半透過ミラー110で反射され光量検出
器112で受光される。光量検出器112は検出値を適
宜主制御器302に出力する。主制御器302は、その
検出値に基づいてレーザ加工部200のステージ208
上に載置された被加工物206に照射される加工用レー
ザ光104aの光量を求めることが可能である。
The monitor laser beam 104b is reflected from the beam splitter 108 by the semi-transmissive mirror 110 and received by the light amount detector 112. The light amount detector 112 appropriately outputs the detected value to the main controller 302. The main controller 302 determines the stage 208 of the laser processing unit 200 based on the detected value.
It is possible to obtain the light amount of the processing laser light 104a with which the workpiece 206 placed on the workpiece is irradiated.

【0020】他方、加工用レーザ光104aはビームス
プリッタ108からミラー114で反射され、シャッタ
機構120に到達する。レーザ加工中は、シャッタ機構
120のシャッタ122は開放されているので、加工用
レーザ光104aは、ハウジング130の開口部132
を通過して、レーザ加工部200に出射される。レーザ
加工部200において、加工用レーザ光104aは、レ
ーザ走査系202により被加工物206の加工位置を正
確に照射するように走査された後、集光系204により
スポット光に集光され、被加工部206の加工位置を照
射することにより、所定のレーザ加工(例えば、フュー
ズ回路の切断など)が行われる。
On the other hand, the processing laser beam 104a is reflected by the mirror 114 from the beam splitter 108 and reaches the shutter mechanism 120. Since the shutter 122 of the shutter mechanism 120 is opened during laser processing, the processing laser beam 104 a is applied to the opening 132 of the housing 130.
And is emitted to the laser processing unit 200. In the laser processing unit 200, the processing laser beam 104a is scanned by the laser scanning system 202 so as to accurately irradiate the processing position of the workpiece 206, and then focused by the focusing system 204 into spot light. By irradiating the processing position of the processing unit 206, predetermined laser processing (for example, cutting of a fuse circuit) is performed.

【0021】ここで、レーザ加工中に、例えば不図示の
安全機構が働き、シャッタ122が閉じた場合の動作に
ついて説明する。従来のレーザ加工装置では、レーザ照
射中にシャッタが閉じたことを検出するためには、シャ
ッタに開閉状態検出器を設け、その出力を常時モニタす
る必要があった。また、照射中にシャッタが閉じたこと
により被加工物に照射されたなかった加工用レーザ光の
光量を検出することはできなかった。
Here, the operation when the shutter 122 is closed by the operation of a safety mechanism (not shown) during laser processing will be described. In the conventional laser processing apparatus, in order to detect that the shutter is closed during laser irradiation, it is necessary to provide an open / closed state detector on the shutter and constantly monitor the output thereof. Further, it was not possible to detect the light amount of the processing laser light that was not applied to the workpiece due to the shutter being closed during the irradiation.

【0022】この点、本発明にかかるレーザ加工装置で
は、シャッタ122が閉じた場合、加工用レーザ光10
4aはシャッタ122の内側に設けられたミラー126
により反射される。従って、加工用レーザ光104a
は、ハウジング130の外側には出射せず、その反射光
104cは半透過ミラー110を透過して、光量検出器
112で受光される。すでに説明したように、光量検出
器112の検出値は主制御器302に随時出力されてお
り、主制御器302は検出値の変化により、シャッタ1
22が閉止されたことを検出することが可能である。
In this respect, in the laser processing apparatus according to the present invention, when the shutter 122 is closed, the processing laser beam 10 is used.
Reference numeral 4a denotes a mirror 126 provided inside the shutter 122.
Is reflected by. Therefore, the processing laser beam 104a
Does not go out to the outside of the housing 130, and its reflected light 104c passes through the semi-transmissive mirror 110 and is received by the light amount detector 112. As described above, the detection value of the light amount detector 112 is output to the main controller 302 at any time, and the main controller 302 changes the detection value to change the shutter 1
It is possible to detect that 22 is closed.

【0023】このように、本発明によれば、シャッタ開
閉状態検出器を設けて、その出力をモニタせずとも、光
量検出器112の出力の変化から容易にシャッタ122
が閉じたことを知ることができる。また、上記光量検出
器112により光量の変化を直接検出することができる
ので、シャッタ122が閉じたことにより、被加工物2
06に照射されなかった分の加工用レーザ光104aの
光量を容易にかつ正確に求めることができる。以上のよ
うに、本発明によれば、中断した処理で不足した加工用
レーザ光104aの光量を容易にかつ正確に求めること
ができるので、レーザ加工装置の安全が確認された後の
レーザ加工再開時に、不足分だけの加工用レーザ光10
4aを正確に被加工物206に照射することができる。
従って、レーザ加工処理が中断した場合であっても、加
工中の被加工物を不良品とせずに処理を完了することが
できるので、歩留まりを向上させることができる。な
お、これらの処理状態はインタフェース304のCRT
に適宜出力されるので、必要な場合にはオペレータが直
接レーザ加工装置を制御することも可能である。
As described above, according to the present invention, even if a shutter open / closed state detector is provided and its output is not monitored, the shutter 122 can be easily changed from the output of the light amount detector 112.
You can know that he was closed. Further, since the change of the light quantity can be directly detected by the light quantity detector 112, the work piece 2 is
It is possible to easily and accurately obtain the light amount of the processing laser light 104a that is not irradiated on the light beam 06. As described above, according to the present invention, it is possible to easily and accurately obtain the light amount of the processing laser beam 104a which is insufficient due to the interrupted processing, and therefore the laser processing is restarted after the safety of the laser processing apparatus is confirmed. Sometimes, the laser beam for processing 10
The workpiece 206 can be accurately irradiated with 4a.
Therefore, even if the laser processing is interrupted, the processing can be completed without making the workpiece being processed defective, and the yield can be improved. Note that these processing states are the CRT of the interface 304.
Is output appropriately, so that the operator can directly control the laser processing apparatus if necessary.

【0024】以上、本発明にかかるレーザ加工装置の好
適な実施例について、図面を参照しながら説明したが、
本発明はかかる実施例に限定されるものではなく、当業
者であれば特許請求の範囲に記載された技術的思想の範
疇において、さまざまな修正および変更が可能であり、
それらについても、本発明の技術的範囲に含まれること
は言うまでもない。
The preferred embodiment of the laser processing apparatus according to the present invention has been described above with reference to the drawings.
The present invention is not limited to such examples, and those skilled in the art can make various modifications and changes within the scope of the technical idea described in the claims.
Needless to say, these are also included in the technical scope of the present invention.

【0025】例えば、上記実施例においては、ミラー1
26により反射された反射光104cを、モニタ用レー
ザ光108を受光する光量検出器112と同一の検出器
で受光する構成を示したが、モニタ用レーザ光用の光量
検出器と反射光104c用の光量検出器とを別体に構成
することも可能である。また、上記実施例においては、
リダンダンシィ処理用のレーザ加工装置を例に挙げて、
本発明について説明したが、本発明はかかる実施例に限
定されず、加工用レーザ光の光路中に開閉自在のシャッ
タ機構が配置されるあらゆる種類のレーザ加工装置に適
用することができることは言うまでもない。
For example, in the above embodiment, the mirror 1
Although the reflected light 104c reflected by 26 is received by the same detector as the light amount detector 112 for receiving the monitor laser light 108, the light amount detector for the monitor laser light and the reflected light 104c are received. It is also possible to separately form the light amount detector of. In the above embodiment,
Taking a laser processing device for redundancy processing as an example,
Although the present invention has been described, it is needless to say that the present invention is not limited to such an embodiment and can be applied to all kinds of laser processing apparatuses in which an openable / closable shutter mechanism is arranged in the optical path of the processing laser light. .

【0026】[0026]

【発明の効果】以上のように、本発明によれば、レーザ
照射中に加工用レーザ光の光路中に配置されたシャッタ
(122)が閉じたことを、光量検出器(112)によ
り容易かつ正確に検出することができるので、シャッタ
(122)が閉じたことにより被加工物(206)へ照
射されなかった分の加工用レーザ光の光量を正確に求め
ることができる。そのため、処理再開後に不足分のレー
ザ光を過不足なく被加工物(206)に照射することが
できるので、処理が中断した場合であっても、処理中の
被加工物(206)を不良品とすることなく処理を終了
させることが可能となり、歩留まりを向上させることが
できる。
As described above, according to the present invention, the fact that the shutter (122) arranged in the optical path of the processing laser beam is closed during laser irradiation can be easily and easily detected by the light amount detector (112). Since it can be accurately detected, the light amount of the processing laser light that has not been emitted to the workpiece (206) due to the closing of the shutter (122) can be accurately obtained. Therefore, after the processing is restarted, the shortage of laser light can be radiated to the work piece (206) without excess or deficiency, so that even when the processing is interrupted, the work piece (206) being processed is defective. It is possible to end the processing without doing so, and it is possible to improve the yield.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明にかかるレーザ加工装置の概略構成を示
す構成図である。
FIG. 1 is a configuration diagram showing a schematic configuration of a laser processing apparatus according to the present invention.

【図2】図1に示すレーザ加工装置に適用されるシャッ
タ機構部分を拡大して示す説明図である。
FIG. 2 is an explanatory view showing an enlarged shutter mechanism portion applied to the laser processing apparatus shown in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

100 加工用レーザ発生部 102 レーザ光源 104 レーザビーム 104a 加工用レーザ光 104b モニタ用レーザ光 104c 反射光 112 光量検出器 120 シャッタ機構 122 シャッタ 124 シャッタ駆動装置 126 ミラー 200 レーザ加工部 300 制御部 302 主制御器 100 Processing Laser Generation Unit 102 Laser Light Source 104 Laser Beam 104a Processing Laser Light 104b Monitoring Laser Light 104c Reflected Light 112 Light Quantity Detector 120 Shutter Mechanism 122 Shutter 124 Shutter Drive Device 126 Mirror 200 Laser Processing Unit 300 Control Unit 302 Main Control vessel

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 加工用レーザ光を発するレーザ光源と、
その加工用レーザ光を集光してスポット光を形成し被加
工物上に照射する集光光学系とを備えたレーザ加工装置
において、 前記加工用レーザ光の光路中に配置される開閉自在のシ
ャッタ機構と、そのシャッタ機構の閉止時に前記加工用
レーザ光を反射する光反射手段と、その光反射手段によ
り反射された前記加工用レーザ光を受光する光量検出器
とを備えたことを特徴とする、レーザ加工装置。
1. A laser light source that emits a processing laser beam,
In a laser processing apparatus having a condensing optical system for condensing the processing laser light to form a spot light and irradiating it onto a workpiece, an openable and closable optical fiber arranged in the optical path of the processing laser light. A shutter mechanism, a light reflecting means for reflecting the processing laser light when the shutter mechanism is closed, and a light quantity detector for receiving the processing laser light reflected by the light reflecting means. Laser processing equipment.
【請求項2】 前記光量検出器により検出された光量に
応じて、前記シャッタ機構を再び開放した後の加工用レ
ーザ光の出力量を決定することを特徴とする、請求項1
に記載のレーザ加工装置。
2. The output amount of the processing laser light after the shutter mechanism is reopened is determined according to the light amount detected by the light amount detector.
The laser processing apparatus described in.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021159988A (en) * 2020-04-03 2021-10-11 新東工業株式会社 Laser marking device, laser marking system and laser marking method

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2021159988A (en) * 2020-04-03 2021-10-11 新東工業株式会社 Laser marking device, laser marking system and laser marking method

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