JPH08298926A - エチレン除去装置 - Google Patents
エチレン除去装置Info
- Publication number
- JPH08298926A JPH08298926A JP11063795A JP11063795A JPH08298926A JP H08298926 A JPH08298926 A JP H08298926A JP 11063795 A JP11063795 A JP 11063795A JP 11063795 A JP11063795 A JP 11063795A JP H08298926 A JPH08298926 A JP H08298926A
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- air
- air flow
- generating means
- ethylene
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 紫外線ランプをオゾン発生手段とするエチレ
ン除去装置においてオゾン処理手段へ入る空気中のオゾ
ン濃度を均一化し、かつオゾン発生手段とオゾン処理手
段との間の空気流路長さを延長してエチレン除去のため
の反応時間を長くする。 【構成】 空気の入口６を上流側に出口７を下流側に有
するケーシング１内に、上流側からオゾン発生手段（紫
外線ランプ４）、オゾン処理手段５及び通風手段（ファ
ン２）をこの順に配設したエチレン除去装置において、
前記オゾン発生手段とオゾン処理手段との間の空気流路
中に遮風部材１２を設置した。また、前記遮風部材１２
を空気流と直交する方向の円板とし、またこの円板をオ
ゾン発生手段と同心状に設置した。
ン除去装置においてオゾン処理手段へ入る空気中のオゾ
ン濃度を均一化し、かつオゾン発生手段とオゾン処理手
段との間の空気流路長さを延長してエチレン除去のため
の反応時間を長くする。 【構成】 空気の入口６を上流側に出口７を下流側に有
するケーシング１内に、上流側からオゾン発生手段（紫
外線ランプ４）、オゾン処理手段５及び通風手段（ファ
ン２）をこの順に配設したエチレン除去装置において、
前記オゾン発生手段とオゾン処理手段との間の空気流路
中に遮風部材１２を設置した。また、前記遮風部材１２
を空気流と直交する方向の円板とし、またこの円板をオ
ゾン発生手段と同心状に設置した。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、青果物等から排出され
熟成・老化促進作用を有するエチレンを除去するための
エチレン除去装置に関する。
熟成・老化促進作用を有するエチレンを除去するための
エチレン除去装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】図２は、従来のエチレン除去装置の１例
の概略構成を示す縦断面図である。
の概略構成を示す縦断面図である。
【０００３】エチレン除去装置は、冷蔵庫内に設置さ
れ、冷蔵庫内の青果物等から排出される熟成・老化促進
作用を有するエチレンをオゾンによって除去したり、冷
蔵庫内に浮遊する細菌、微生物を不活性ないしは死滅さ
せて青果物の鮮度を保持するためのものである。
れ、冷蔵庫内の青果物等から排出される熟成・老化促進
作用を有するエチレンをオゾンによって除去したり、冷
蔵庫内に浮遊する細菌、微生物を不活性ないしは死滅さ
せて青果物の鮮度を保持するためのものである。
【０００４】図２において、１は本装置の外殻を形成す
るためのケーシングで、その内部にはファン２、モータ
３、オゾン発生手段としての紫外線ランプ（以下ＵＶラ
ンプという）４及びオゾン処理器５等が装着されてい
る。オゾン処理器５は、活性炭やマンガン、鉄、コバル
ト等の金属触媒又はこれらの金属酸化物を素材とした直
方体の多数のオゾン処理触媒５１とこれを保持するため
のフレーム（図示省略）よりなる。
るためのケーシングで、その内部にはファン２、モータ
３、オゾン発生手段としての紫外線ランプ（以下ＵＶラ
ンプという）４及びオゾン処理器５等が装着されてい
る。オゾン処理器５は、活性炭やマンガン、鉄、コバル
ト等の金属触媒又はこれらの金属酸化物を素材とした直
方体の多数のオゾン処理触媒５１とこれを保持するため
のフレーム（図示省略）よりなる。
【０００５】また、ケーシング１の下面には吸込口６、
上面には吹出口７がそれぞれ設けられており、吸込口６
にはフィルタ８が着脱自在に装着されている。なお、１
０はケーシング１とオゾン処理器５との間の隙間を遮風
するための遮風板である。そして、ケーシング１の遮風
板１０とオゾン処理器５によって仕切られる下方の部分
に反応室１１が形成されている。
上面には吹出口７がそれぞれ設けられており、吸込口６
にはフィルタ８が着脱自在に装着されている。なお、１
０はケーシング１とオゾン処理器５との間の隙間を遮風
するための遮風板である。そして、ケーシング１の遮風
板１０とオゾン処理器５によって仕切られる下方の部分
に反応室１１が形成されている。
【０００６】この従来のエチレン除去装置では、モータ
３によってファン２が駆動されると、冷蔵庫１００内の
エチレンを含んだ空気は吸込口６、フィルタ８を経て、
ケーシング１内に導入され、反応室１１内を上方に向っ
て流れる。この空気がＵＶランプ４から放射される波長
１８４．９ｎｍの紫外線に照射されることによって、空
気中の酸素からオゾンが生成される。このオゾンはエチ
レンを酸化してエチレン化合物に転化させると共に、空
気中に浮遊する細菌等を死滅させる。余剰のオゾンはＵ
Ｖランプ４から放射される波長２５３．７ｎｍの紫外線
に照射されることによって分解され、酸素と発生期の酸
素を生成する。この発生期の酸素は空気中に残存するエ
チレンを酸化してエチレン化合物に転化させる。
３によってファン２が駆動されると、冷蔵庫１００内の
エチレンを含んだ空気は吸込口６、フィルタ８を経て、
ケーシング１内に導入され、反応室１１内を上方に向っ
て流れる。この空気がＵＶランプ４から放射される波長
１８４．９ｎｍの紫外線に照射されることによって、空
気中の酸素からオゾンが生成される。このオゾンはエチ
レンを酸化してエチレン化合物に転化させると共に、空
気中に浮遊する細菌等を死滅させる。余剰のオゾンはＵ
Ｖランプ４から放射される波長２５３．７ｎｍの紫外線
に照射されることによって分解され、酸素と発生期の酸
素を生成する。この発生期の酸素は空気中に残存するエ
チレンを酸化してエチレン化合物に転化させる。
【０００７】次いで、空気はオゾン処理器５に流入し、
ここでオゾン処理触媒５１に接触し、空気中になお残存
する余剰のオゾンが酸素等に分解される。オゾンを除か
れた空気は吹出口７を経て冷蔵庫１００内に戻される。
ここでオゾン処理触媒５１に接触し、空気中になお残存
する余剰のオゾンが酸素等に分解される。オゾンを除か
れた空気は吹出口７を経て冷蔵庫１００内に戻される。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】前記の従来のエチレン
除去装置においては、ＵＶランプ４に直角方向の空気流
過路断面における等照度線は、図３に示すように、ラン
プ管軸を中心とした円形となり、放射照度が低くなる程
この円形は大きくなる。放射照度が高いほどオゾン生成
からエチレン除去に至る化学反応が活発となるので、オ
ゾン濃度はランプに接近した場所では高く、離れる程低
くなる。また、吸込口６から反応室１１内に導入された
空気の流れは、ＵＶランプ４にほぼ平行な層流状態とな
る。従って、ＵＶランプ４に直角方向の空気流過路断面
でのオゾン濃度の不均一がほぼそのまま（混合しない
で）オゾン処理器５入口まで持ち込まれ、オゾン処理触
媒５１の場所にらるオゾン濃度が不均一となり多数個数
のオゾン処理触媒５１に均一な負荷とならないという問
題があり、オゾン濃度の高い場所（中央部）にあるオゾ
ン処理触媒５１ほど、性能劣化が早く進行し、オゾンが
装置外へ漏洩する怖れが生ずるという危険性があった。
除去装置においては、ＵＶランプ４に直角方向の空気流
過路断面における等照度線は、図３に示すように、ラン
プ管軸を中心とした円形となり、放射照度が低くなる程
この円形は大きくなる。放射照度が高いほどオゾン生成
からエチレン除去に至る化学反応が活発となるので、オ
ゾン濃度はランプに接近した場所では高く、離れる程低
くなる。また、吸込口６から反応室１１内に導入された
空気の流れは、ＵＶランプ４にほぼ平行な層流状態とな
る。従って、ＵＶランプ４に直角方向の空気流過路断面
でのオゾン濃度の不均一がほぼそのまま（混合しない
で）オゾン処理器５入口まで持ち込まれ、オゾン処理触
媒５１の場所にらるオゾン濃度が不均一となり多数個数
のオゾン処理触媒５１に均一な負荷とならないという問
題があり、オゾン濃度の高い場所（中央部）にあるオゾ
ン処理触媒５１ほど、性能劣化が早く進行し、オゾンが
装置外へ漏洩する怖れが生ずるという危険性があった。
【０００９】また、エチレン除去能力を高めるために
は、オゾン生成からエチレン除去に至る反応時間をかせ
ぐことが必要でありＵＶランプ４上端とオゾン処理触媒
５１との距離Ｂ（図２参照）をある程度大きくとる必要
があり、装置の全高が高くなるという問題があった。
は、オゾン生成からエチレン除去に至る反応時間をかせ
ぐことが必要でありＵＶランプ４上端とオゾン処理触媒
５１との距離Ｂ（図２参照）をある程度大きくとる必要
があり、装置の全高が高くなるという問題があった。
【００１０】本発明は、従来のエチレン除去装置の前記
の問題点を解決することができるエチレン除去装置を提
供しようとするものである。
の問題点を解決することができるエチレン除去装置を提
供しようとするものである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明のエチレン除去装
置は、次の手段を講じた。
置は、次の手段を講じた。
【００１２】（１）空気の入口を上流側に出口を下流側
に有するケーシング内に、上流側からオゾン発生手段、
オゾン処理手段及び通風手段をこの順に配設してなるエ
チレン除去装置において、前記オゾン発生手段とオゾン
処理手段との間の空気流路中に遮風部材を設置してなる
ことを特徴とする。
に有するケーシング内に、上流側からオゾン発生手段、
オゾン処理手段及び通風手段をこの順に配設してなるエ
チレン除去装置において、前記オゾン発生手段とオゾン
処理手段との間の空気流路中に遮風部材を設置してなる
ことを特徴とする。
【００１３】（２）前記（１）のエチレン除去装置にお
いて、前記遮風部材を空気流と直交する方向に設置され
た円板にて構成してなることを特徴とする。
いて、前記遮風部材を空気流と直交する方向に設置され
た円板にて構成してなることを特徴とする。
【００１４】（３）前記（２）のエチレン除去装置にお
いて、前記円板を前記オゾン発生手段と同心状に設置し
てなることを特徴とする。
いて、前記円板を前記オゾン発生手段と同心状に設置し
てなることを特徴とする。
【００１５】
【作用】前記本発明（１）においては、オゾン発生手段
を流過した空気はオゾン発生手段とオゾン処理手段との
間の空気流路中に設置された遮風部材に当たり、遮風部
材の外周からオゾン処理手段に流入するので、ここで空
気流には混合作用が生ずる。このように、空気が前記遮
風部材を流過する過程で空気流は混合されるので、オゾ
ン発生手段に直交する方向の空気流路断面でのオゾン濃
度の不均一は、前記遮風部材による空気の混合によって
解消されてオゾン濃度は均一化されるので、オゾン処理
手段の場所によるオゾン濃度を均一化することができ
る。また、遮風部材を設置することによって、この部分
の空気流路長さが延長されてこの部分に空気が滞溜する
時間が長くなり、エチレン除去に至る反応時間が長くな
るので、装置のエチレン除去能力を向上させることがで
きる。
を流過した空気はオゾン発生手段とオゾン処理手段との
間の空気流路中に設置された遮風部材に当たり、遮風部
材の外周からオゾン処理手段に流入するので、ここで空
気流には混合作用が生ずる。このように、空気が前記遮
風部材を流過する過程で空気流は混合されるので、オゾ
ン発生手段に直交する方向の空気流路断面でのオゾン濃
度の不均一は、前記遮風部材による空気の混合によって
解消されてオゾン濃度は均一化されるので、オゾン処理
手段の場所によるオゾン濃度を均一化することができ
る。また、遮風部材を設置することによって、この部分
の空気流路長さが延長されてこの部分に空気が滞溜する
時間が長くなり、エチレン除去に至る反応時間が長くな
るので、装置のエチレン除去能力を向上させることがで
きる。
【００１６】前記本発明（２）及び（３）においては、
前記遮風部材を空気流に直交する方向に設置された円板
とし、またはこの円板をオゾン発生手段と同心状に設置
しているので、遮風部材を流過する際の空気の混合が遮
風部材のまわりで均一に行われることになり、前記本発
明（１）におけるオゾン発生手段に直交する方向の空気
流路断面でのオゾン濃度の均一化と空気流路長さの延長
を効果的に実現することができる。
前記遮風部材を空気流に直交する方向に設置された円板
とし、またはこの円板をオゾン発生手段と同心状に設置
しているので、遮風部材を流過する際の空気の混合が遮
風部材のまわりで均一に行われることになり、前記本発
明（１）におけるオゾン発生手段に直交する方向の空気
流路断面でのオゾン濃度の均一化と空気流路長さの延長
を効果的に実現することができる。
【００１７】
【実施例】本発明の一実施例を、図１によって説明す
る。本実施例は、図２に示すエチレン除去装置において
以下説明する遮風部材を設けたもので、図１において図
２におけると同一の部分には同一の符号が付されてお
り、その説明を省略する。
る。本実施例は、図２に示すエチレン除去装置において
以下説明する遮風部材を設けたもので、図１において図
２におけると同一の部分には同一の符号が付されてお
り、その説明を省略する。
【００１８】本実施例では、ＵＶランプ４とオゾン処理
器５との間の空気流路中に空気流に直角に長方形の板状
をした遮風部材１２が設置されている。
器５との間の空気流路中に空気流に直角に長方形の板状
をした遮風部材１２が設置されている。
【００１９】本実施例で、ＵＶランプ４を流過した空気
は前記遮風部材１２に当たり、遮風部材１２の外周を通
ってオゾン処理器５に流入するので、この過程で空気流
には混合作用が生ずる。この結果、オゾン処理器５の場
所によるオゾン濃度の差は均一化され、オゾン処理器５
内のオゾン処理触媒５１の性能低下の進行度合いは均一
化される。
は前記遮風部材１２に当たり、遮風部材１２の外周を通
ってオゾン処理器５に流入するので、この過程で空気流
には混合作用が生ずる。この結果、オゾン処理器５の場
所によるオゾン濃度の差は均一化され、オゾン処理器５
内のオゾン処理触媒５１の性能低下の進行度合いは均一
化される。
【００２０】また、前記遮風部材１２によってこの部分
の空気流路長さが延長され、空気滞溜時間が長くなり反
応時間が長くなることから装置のエチレン除去能力が向
上する。また更に、空気流路長さが遮風部材１２によっ
て延長されることは、図２中Ｂで示される寸法を長くし
たものと同じ効果を発揮することとなり、装置全高を低
くすることができる。
の空気流路長さが延長され、空気滞溜時間が長くなり反
応時間が長くなることから装置のエチレン除去能力が向
上する。また更に、空気流路長さが遮風部材１２によっ
て延長されることは、図２中Ｂで示される寸法を長くし
たものと同じ効果を発揮することとなり、装置全高を低
くすることができる。
【００２１】前記実施例において、遮風部材１２を空気
流と直交する方向に設置された円板で構成し、またこの
円板をオゾン発生手段であるＵＶランプ４と円心状に設
置するようにすることもできる。これによって、遮風部
材１２による空気流の混合作用を空気流と直交する方向
で均一化することができ、オゾン処理器５内のオゾン触
媒５１の性能低下の進行度合を確実に均一化することが
できる。また、遮風部材による空気流路長さの延長も空
気流と直交する方向で均一化されエチレン除去能力を向
上させることができる。
流と直交する方向に設置された円板で構成し、またこの
円板をオゾン発生手段であるＵＶランプ４と円心状に設
置するようにすることもできる。これによって、遮風部
材１２による空気流の混合作用を空気流と直交する方向
で均一化することができ、オゾン処理器５内のオゾン触
媒５１の性能低下の進行度合を確実に均一化することが
できる。また、遮風部材による空気流路長さの延長も空
気流と直交する方向で均一化されエチレン除去能力を向
上させることができる。
【００２２】
【発明の効果】本発明においては、オゾン発生手段（Ｕ
Ｖランプ）とオゾン処理手段との間の空気流路中に遮風
部材が設置されているので、空気流がこの遮風部材を流
過する過程で混合し、オゾン処理手段の場所によるオゾ
ン濃度分布を均一化することができる。この結果、オゾ
ン処理手段の場所のちがいによる性能劣化の進行度合は
ほぼ均一化され、オゾンの装置外への漏洩を防止するこ
とができる。
Ｖランプ）とオゾン処理手段との間の空気流路中に遮風
部材が設置されているので、空気流がこの遮風部材を流
過する過程で混合し、オゾン処理手段の場所によるオゾ
ン濃度分布を均一化することができる。この結果、オゾ
ン処理手段の場所のちがいによる性能劣化の進行度合は
ほぼ均一化され、オゾンの装置外への漏洩を防止するこ
とができる。
【００２３】また、前記遮風部材によって、この部分の
空気流路長さが延長され、空気滞溜時間が長くなって反
応時間が長くなるために、装置のエチレン除去能力を向
上させることができると共に、装置全高を低くすること
ができる。
空気流路長さが延長され、空気滞溜時間が長くなって反
応時間が長くなるために、装置のエチレン除去能力を向
上させることができると共に、装置全高を低くすること
ができる。
【図１】本発明の一実施例に係るエチレン除去装置の縦
断面図である。
断面図である。
【図２】従来のエチレン除去装置の概略構成を示す縦断
面図である。
面図である。
【図３】照度分布を示す図２のＡ−Ａ矢視断面図であ
る。
る。
１ ケーシング ２ ファン ３ モータ ４ 紫外線ランプ ５ オゾン処理器 ６ 吸込口 ７ 吹出口 １１ 反応室 １２ 遮風部材 ５１ オゾン処理触媒
Claims (3)
- 【請求項１】 空気の入口を上流側に出口を下流側に有
するケーシング内に、上流側からオゾン発生手段、オゾ
ン処理手段及び通風手段をこの順に配設してなるエチレ
ン除去装置において、前記オゾン発生手段とオゾン処理
手段との間の空気流路中に遮風部材を設置してなること
を特徴とするエチレン除去装置。 - 【請求項２】 前記遮風部材を空気流と直交する方向に
設置された円板にて構成してなることを特徴とする請求
項１に記載のエチレン除去装置。 - 【請求項３】 前記円板を前記オゾン発生手段と同心状
に設置してなることを特徴とする請求項２に記載のエチ
レン除去装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11063795A JPH08298926A (ja) | 1995-05-09 | 1995-05-09 | エチレン除去装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11063795A JPH08298926A (ja) | 1995-05-09 | 1995-05-09 | エチレン除去装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08298926A true JPH08298926A (ja) | 1996-11-19 |
Family
ID=14540782
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11063795A Pending JPH08298926A (ja) | 1995-05-09 | 1995-05-09 | エチレン除去装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08298926A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7560013B2 (en) * | 2006-06-20 | 2009-07-14 | Fluid Analytics, Inc. | Tree fruit postharvest chemical sensor |
| JP2009225677A (ja) * | 2008-03-19 | 2009-10-08 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | エチレン除去装置およびこれを備えた冷蔵庫 |
| CN107371646A (zh) * | 2017-06-26 | 2017-11-24 | 广西启顺企业孵化器有限公司 | 粮种存储容器 |
| CN110302956A (zh) * | 2019-07-09 | 2019-10-08 | 巴州农夫情肥业科技有限公司 | 一种具有干燥功能的有机肥料筛分装置 |
| CN115633714A (zh) * | 2022-11-14 | 2023-01-24 | 北京市农林科学院 | 一种乙烯去除装置 |
-
1995
- 1995-05-09 JP JP11063795A patent/JPH08298926A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7560013B2 (en) * | 2006-06-20 | 2009-07-14 | Fluid Analytics, Inc. | Tree fruit postharvest chemical sensor |
| JP2009225677A (ja) * | 2008-03-19 | 2009-10-08 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | エチレン除去装置およびこれを備えた冷蔵庫 |
| CN107371646A (zh) * | 2017-06-26 | 2017-11-24 | 广西启顺企业孵化器有限公司 | 粮种存储容器 |
| CN110302956A (zh) * | 2019-07-09 | 2019-10-08 | 巴州农夫情肥业科技有限公司 | 一种具有干燥功能的有机肥料筛分装置 |
| CN115633714A (zh) * | 2022-11-14 | 2023-01-24 | 北京市农林科学院 | 一种乙烯去除装置 |
| CN115633714B (zh) * | 2022-11-14 | 2023-12-22 | 北京市农林科学院 | 一种乙烯去除装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20021203 |