JPH08288464A - Structure of rc circuit element - Google Patents

Structure of rc circuit element

Info

Publication number
JPH08288464A
JPH08288464A JP11240295A JP11240295A JPH08288464A JP H08288464 A JPH08288464 A JP H08288464A JP 11240295 A JP11240295 A JP 11240295A JP 11240295 A JP11240295 A JP 11240295A JP H08288464 A JPH08288464 A JP H08288464A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resistor
circuit element
layer
capacitor
metal layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11240295A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Mitsuhiro Tsuchioka
充裕 土岡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Murata Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Murata Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Murata Manufacturing Co Ltd filed Critical Murata Manufacturing Co Ltd
Priority to JP11240295A priority Critical patent/JPH08288464A/en
Publication of JPH08288464A publication Critical patent/JPH08288464A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)

Abstract

PURPOSE: To reduce an area occupied by an RC circuit element by overlapping a capacitor over a resistor on a semiconductor layer. CONSTITUTION: An RC circuit element 1 is provided by laminating a capacitor 12, which is composed of a first metal layer 4, a second metal layer 5 and a dielectric layer 6, through an insulator layer 7 on a resistor 3 formed on a semiconductor substrate 2. A resistor 3 and a first metal layer 4 are electrically connected in a second opening 10 provided on the insulator layer 7, and the capacitor 12 and a resistor 13 are connected in series. Thus, the RC circuit element is manufactured on a small area, high integration of an integrated circuit, etc., is allowed and circuit components are downsized.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はRC回路素子の構造に関
する。具体的にいうと、絶縁体層を介して一対の導電材
料をオーバーレイさせたキャパシタ(C)と抵抗体
(R)とを半導体層上に形成されたRC回路素子の構造
に関する。
This invention relates to the structure of RC circuit elements. More specifically, it relates to the structure of an RC circuit element in which a capacitor (C) and a resistor (R) overlaid with a pair of conductive materials via an insulating layer are formed on a semiconductor layer.

【0002】[0002]

【従来の技術】マイクロ波用集積回路(monolithic micr
owave IC)上にMIM(金属−絶縁体−金属)キャパ
シタと抵抗体が構成された従来のRC回路素子51の構
造を図7(a)(b)に示す。図7(a)にはRC回路
部品の平面構造を示すが、平面構造には誘電体層58を
示さず、図の実線は誘電体層58を形成する直前の状態
を示し、図の想像線は誘電体層58形成後のものを示し
ている(図8においても同様)。このRC回路素子51
は図7(c)の等価回路図に示すようにキャパシタ61
と抵抗体55が直列に接続されており、次のようにして
作製することができる。半導体基板52の上に抵抗体5
5を形成してから絶縁体層53を形成し、開口54を形
成する。次に絶縁体層53上に、抵抗体55の一端に電
気的に接続する第1の金属層56を抵抗体55と直列方
向に形成し、抵抗体55の他端には抵抗体55と電気的
に接続する電極引出し線57を形成する。図7(a)の
実線はこのときの平面構造を示すものである。次に、少
なくとも第1の金属層56の上面を覆うようにして誘電
体層58を半導体基板52上に形成し、その後図7
(a)の想像線で示すように第1の金属層56と対向し
て第2の金属層59及び電極引出し線60を誘電体層5
8上に形成する。
2. Description of the Related Art Microwave integrated circuits (monolithic micr
FIGS. 7A and 7B show the structure of a conventional RC circuit element 51 in which a MIM (metal-insulator-metal) capacitor and a resistor are formed on an owave IC). FIG. 7A shows the planar structure of the RC circuit component, but the planar structure does not show the dielectric layer 58, and the solid line in the drawing shows the state immediately before the formation of the dielectric layer 58. Shows the state after the dielectric layer 58 is formed (the same applies in FIG. 8). This RC circuit element 51
Is a capacitor 61 as shown in the equivalent circuit diagram of FIG.
And the resistor 55 are connected in series, and can be manufactured as follows. Resistor 5 on semiconductor substrate 52
5, the insulator layer 53 is formed, and the opening 54 is formed. Next, on the insulator layer 53, a first metal layer 56 electrically connected to one end of the resistor 55 is formed in series with the resistor 55, and the other end of the resistor 55 is electrically connected to the resistor 55. The electrode lead wire 57 that is electrically connected is formed. The solid line in FIG. 7A shows the planar structure at this time. Next, a dielectric layer 58 is formed on the semiconductor substrate 52 so as to cover at least the upper surface of the first metal layer 56, and then, as shown in FIG.
As shown by the imaginary line in (a), the second metal layer 59 and the electrode lead-out line 60 are provided so as to face the first metal layer 56 and the dielectric layer 5 is formed.
Form on 8.

【0003】また、別な従来例であるRC回路素子51
の構造を図8及び図9に示すが、RC回路素子51は、
図10の等価回路図に示すように抵抗体55とキャパシ
タ61が並列に接続されている。図8はこのRC回路素
子51の平面構造を示し、図9(a)は図8のA−A線
に於ける断面図、図9(b)は図8のB−B線に於ける
断面図、図9(c)は図8のC−C線に於ける断面図を
示す。このRC回路素子51は次のようにして作製する
ことができる。半導体基板52の上に抵抗体55を形成
してから絶縁体層53を形成し、開口54を形成する。
次に絶縁体層53上に、抵抗体55の一端に抵抗体55
と電気的に接続する第1の金属層56を抵抗体55と並
列方向に形成するとともに電極引出し線57を形成し、
抵抗体55の他端には電極引出し線60を形成する。ま
た、電極引出し線60には第2の金属層59を引き出す
ための接続部62を形成する。図8の実線はこのときの
平面構造を示すものである。次に少なくとも第1の金属
層56を覆うように半導体基板52上に誘電体層58を
形成し、その後図8の想像線で示すように第1の金属層
56と対向して第2の金属層59を誘電体層58上に形
成し、誘電体層58に設けた開口63から第2の金属層
59と接続部62とを電気的に接続する。
An RC circuit element 51 which is another conventional example.
8 and 9 show the structure of the RC circuit element 51,
As shown in the equivalent circuit diagram of FIG. 10, the resistor 55 and the capacitor 61 are connected in parallel. 8A and 8B show a planar structure of the RC circuit element 51. FIG. 9A is a sectional view taken along the line AA of FIG. 8, and FIG. 9B is a sectional view taken along the line BB of FIG. FIG. 9 (c) is a sectional view taken along the line CC of FIG. The RC circuit element 51 can be manufactured as follows. A resistor 55 is formed on the semiconductor substrate 52, then an insulator layer 53 is formed, and an opening 54 is formed.
Next, on the insulator layer 53, the resistor 55 is attached to one end of the resistor 55.
A first metal layer 56 electrically connected to the resistor 55 is formed in parallel with the resistor 55, and an electrode lead wire 57 is formed.
An electrode lead wire 60 is formed on the other end of the resistor 55. Further, the electrode lead wire 60 is formed with a connection portion 62 for drawing out the second metal layer 59. The solid line in FIG. 8 shows the planar structure at this time. Next, a dielectric layer 58 is formed on the semiconductor substrate 52 so as to cover at least the first metal layer 56, and then a second metal layer 56 is formed so as to face the first metal layer 56 as shown by an imaginary line in FIG. The layer 59 is formed on the dielectric layer 58, and the second metal layer 59 and the connection portion 62 are electrically connected to each other through the opening 63 provided in the dielectric layer 58.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
のRC回路素子にあっては、キャパシタと抵抗体はそれ
ぞれ半導体基板上に並べられて配置されているため、半
導体基板の面積をそれぞれ占有する結果となり、RC回
路素子が大型化していた。
However, in these RC circuit elements, since the capacitors and the resistors are arranged side by side on the semiconductor substrate, respectively, the area of the semiconductor substrate is occupied. , The RC circuit element was getting larger.

【0005】本発明は叙上の従来例の欠点に鑑みてなさ
れたものであり、その目的とするところは、キャパシタ
と抵抗体とが半導体層上に形成されたRC回路素子にお
いて、RC回路素子の占有面積を少なくすることにあ
る。
The present invention has been made in view of the drawbacks of the above conventional examples, and an object thereof is to provide an RC circuit element in which a capacitor and a resistor are formed on a semiconductor layer. Occupying less area.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明のRC回路素子の
構造は、絶縁体層の両面をそれぞれ電極層で挟んだキャ
パシタと、抵抗体とからなるRC回路素子の構造であっ
て、半導体層の表面もしくは上方に形成された前記抵抗
体と、半導体層の上方に形成された前記キャパシタとを
重ねるように配置したことを特徴としている。
The structure of an RC circuit element according to the present invention is a structure of an RC circuit element comprising a capacitor and a resistor in which both surfaces of an insulator layer are sandwiched between electrode layers, and a semiconductor layer. The resistor formed on the surface of or above and the capacitor formed above the semiconductor layer are arranged so as to overlap each other.

【0007】このRC回路素子においては、同一層内に
2以上の抵抗体を設けてもよく、2以上のキャパシタを
設けることにしてもよい。
In this RC circuit element, two or more resistors may be provided in the same layer, or two or more capacitors may be provided.

【0008】[0008]

【作用】本発明のRC回路素子の構造にあっては、半導
体層上に抵抗体とキャパシタとを重ねるように配置して
いるので、小さな面積でRC回路素子を作製することが
でき、集積回路などの高集積化を図ることができ回路部
品を小型化できる。
In the structure of the RC circuit element of the present invention, since the resistor and the capacitor are arranged on the semiconductor layer so as to overlap with each other, the RC circuit element can be manufactured in a small area, and the integrated circuit can be manufactured. High integration can be achieved, and circuit components can be downsized.

【0009】また、抵抗体を2つ以上設けたり、キャパ
シタを2つ以上設けることによって、抵抗体とキャパシ
タを直列又は並列に接続することにより、種々の回路構
成をすることができ、豊富なRC回路素子を作製でき
る。また同一層内に2以上の抵抗体やキャパシタを設け
れば、素子数が増加した場合でも製造プロセスの工程数
を少なくできる。
Further, by providing two or more resistors or two or more capacitors and connecting the resistors and the capacitors in series or in parallel, various circuit configurations can be realized, and abundant RC is provided. A circuit element can be manufactured. If two or more resistors and capacitors are provided in the same layer, the number of manufacturing process steps can be reduced even when the number of elements increases.

【0010】[0010]

【実施例】図1(a)(b)に本発明の一実施例である
RC回路素子1の構造を示す。図1(a)にはRC回路
素子1の平面構造を示すが、図1(a)の平面構造には
誘電体層6は示さず、図1(a)の実線は誘電体層6を
形成する直前の状態を示し、図1(a)の想像線は誘電
体層6形成後のものを示している(以下、平面構造を表
わす図においては同様である。)。このRC回路素子1
においては、半導体基板2上に形成された抵抗体3の上
面に、第1の金属層4と第2の金属層5及び誘電体層6
とで構成されたキャパシタ12が絶縁体層7を介して積
層されており、絶縁体層7に設けられた第2の開口10
内において抵抗体3と第1の金属層4とが電気的に接続
され、図1(c)の等価回路図に示すようにキャパシタ
12と抵抗体3が直列に接続されている。このRC回路
素子1は例えば次のようにして作製することができる。
まず、図2(a)に示すように半導体基板2(または積
層された半導体層であってもよい。)上の所定領域に抵
抗体3を形成し、抵抗体3を覆うようにして半導体基板
2上に絶縁体層7を形成する。また、抵抗体3は半導体
基板2の表面にイオン注入により作り込んでもよい。次
に抵抗体3の両端に位置して第1の開口8及び第2の開
口10を設け、第1の開口8内において抵抗体3の一端
と電気的に接続する電極引出し線9を絶縁体層7上に形
成する。また、抵抗体3の他端と第2の開口10内にお
いて電気的に接続する第1の金属層4を抵抗体3上方の
絶縁体層7上に形成する(図2(b))。このとき、電
極引出し線9と接触しないようにして電極引出し線9と
同一工程で第1の金属層4を形成する。図1(a)の実
線で示すものはこのときの平面構造である。次に、この
構造体のほぼ全面に誘電体層6を形成し(図2
(c))、最後に図1(a)の想像線で示すように、第
1の金属層4と対向させて第2の金属層5を誘電体層6
上に形成するとともに、第2の金属層5と電気的に接続
する電極引出し線11を形成してRC回路素子1を作製
する(図2(d))。
1A and 1B show the structure of an RC circuit element 1 according to an embodiment of the present invention. 1A shows the planar structure of the RC circuit element 1, but the dielectric layer 6 is not shown in the planar structure of FIG. 1A, and the solid line in FIG. 1A forms the dielectric layer 6. 1A, the imaginary line in FIG. 1A shows the state after the dielectric layer 6 is formed (the same applies to the drawings showing the planar structure hereinafter). This RC circuit element 1
In the above, the first metal layer 4, the second metal layer 5, and the dielectric layer 6 are formed on the upper surface of the resistor 3 formed on the semiconductor substrate 2.
The capacitor 12 composed of and is laminated via the insulator layer 7, and the second opening 10 provided in the insulator layer 7 is formed.
Inside, the resistor 3 and the first metal layer 4 are electrically connected, and the capacitor 12 and the resistor 3 are connected in series as shown in the equivalent circuit diagram of FIG. 1 (c). The RC circuit element 1 can be manufactured, for example, as follows.
First, as shown in FIG. 2A, the resistor 3 is formed in a predetermined region on the semiconductor substrate 2 (or may be a laminated semiconductor layer), and the resistor 3 is covered to form the semiconductor substrate. An insulator layer 7 is formed on the second layer 2. The resistor 3 may be formed on the surface of the semiconductor substrate 2 by ion implantation. Next, a first opening 8 and a second opening 10 are provided at both ends of the resistor 3, and an electrode lead wire 9 electrically connected to one end of the resistor 3 is provided in the first opening 8 as an insulator. Formed on layer 7. Further, the first metal layer 4 which is electrically connected to the other end of the resistor 3 in the second opening 10 is formed on the insulator layer 7 above the resistor 3 (FIG. 2B). At this time, the first metal layer 4 is formed in the same step as the electrode lead wire 9 so as not to contact the electrode lead wire 9. What is indicated by the solid line in FIG. 1A is the planar structure at this time. Next, a dielectric layer 6 is formed on almost the entire surface of this structure (see FIG.
(C)), and finally, as shown by an imaginary line in FIG.
The RC circuit element 1 is manufactured by forming the electrode lead wire 11 which is formed on the upper surface and electrically connected to the second metal layer 5 (FIG. 2D).

【0011】このRC回路素子1にあっては、半導体基
板2上に形成された抵抗体3の上方にキャパシタ12が
積層された構造となっているため、従来のRC回路素子
51に比べて小さな占有面積でRC回路素子1を作製で
きる。例えば、キャパシタ12の占有面積と抵抗体3の
占有面積とが等しい場合には、従来のRC回路素子51
に比べて約50%以下の占有面積とすることができ、従
来の約1/2の大きさでRC回路素子1を提供でき、半
導体回路における集積度の向上に寄与することができ
る。
Since this RC circuit element 1 has a structure in which the capacitor 12 is laminated above the resistor 3 formed on the semiconductor substrate 2, it is smaller than the conventional RC circuit element 51. The RC circuit element 1 can be manufactured in the occupied area. For example, when the occupied area of the capacitor 12 and the occupied area of the resistor 3 are equal, the conventional RC circuit element 51
Compared with the above, the occupying area can be about 50% or less, the RC circuit element 1 can be provided with a size of about 1/2 of the conventional size, and it can contribute to the improvement of the degree of integration in the semiconductor circuit.

【0012】図3(a)(b)に示すものは本発明の別
な実施例であるRC回路素子1の平面構造図及び断面構
造図であるが、このRC回路素子1にあっては、図3
(c)の等価回路図に示すようにキャパシタ12と抵抗
体3は並列に接続されている。このRC回路素子1は例
えば次のようにして作製することができる。まず図4
(a)に示すように半導体基板2上の所定の領域に抵抗
体3を形成し、抵抗体3を覆うようにして半導体基板2
上に絶縁体層7を形成する。次に、抵抗体3の両端に位
置して第1の開口8及び第2の開口10を設け、絶縁体
層7上に第1の金属層4を形成して、両開口8、10内
において抵抗体3と第1の金属層4とを電気的に接続す
る。また、第1の金属層4と電気的に接続する電極引出
し線9を絶縁体層7上に形成する(図4(b))。次に
第2の開口10内においてその外縁部に沿って第1の金
属層4をエッチング等によって環状に除去し、金属層4
から分離された領域により第2の開口10内に抵抗体3
と電気的に接続する接続部13を形成する(図4
(c))。このとき、接続部13と第1の金属層4とは
絶縁される。図3(a)の実線で示すものはこのときの
平面構造である。このようにして形成された構造体のほ
ぼ全面に誘電体層6を形成する。この後、接続部13に
位置して誘電体層6に第3の開口14を設け接続部13
の上面の一部を再び露出させる(図4(d))。最後に
図3(a)の想像線に示すように、誘電体層6上に第1
の金属層4と対向させて第2の金属層5を形成して第3
の開口14内において接続部13と電気的に接続すると
ともに、第2の金属層5と電気的に接続する電極引出し
線11を絶縁体層7上に形成して、RC回路素子1を作
製できる(図4(e))。
3 (a) and 3 (b) are a plan structural view and a sectional structural view of an RC circuit element 1 which is another embodiment of the present invention. In this RC circuit element 1, Figure 3
As shown in the equivalent circuit diagram of (c), the capacitor 12 and the resistor 3 are connected in parallel. The RC circuit element 1 can be manufactured, for example, as follows. First, FIG.
As shown in (a), the resistor 3 is formed in a predetermined region on the semiconductor substrate 2, and the semiconductor substrate 2 is covered with the resistor 3.
An insulator layer 7 is formed on top. Next, the first opening 8 and the second opening 10 are provided at both ends of the resistor 3, the first metal layer 4 is formed on the insulator layer 7, and the first opening 8 and the second opening 10 are formed in the openings 8 and 10. The resistor 3 and the first metal layer 4 are electrically connected. Further, an electrode lead wire 9 electrically connected to the first metal layer 4 is formed on the insulator layer 7 (FIG. 4B). Next, in the second opening 10, the first metal layer 4 is annularly removed by etching or the like along the outer edge of the second opening 10.
The resistor 3 in the second opening 10 by a region separated from
The connection portion 13 is formed to electrically connect with (see FIG. 4).
(C)). At this time, the connection portion 13 and the first metal layer 4 are insulated. What is indicated by the solid line in FIG. 3A is the planar structure at this time. The dielectric layer 6 is formed on almost the entire surface of the structure thus formed. After that, the third opening 14 is provided in the dielectric layer 6 at the connecting portion 13, and the third opening 14 is provided.
A part of the upper surface of is exposed again (FIG. 4D). Finally, as shown in the phantom line in FIG. 3A, the first layer is formed on the dielectric layer 6.
To form a second metal layer 5 facing the metal layer 4 of
The RC circuit element 1 can be manufactured by forming the electrode lead wire 11 electrically connected to the connection portion 13 in the opening 14 and electrically connected to the second metal layer 5 on the insulator layer 7. (FIG.4 (e)).

【0013】このRC回路素子1にあっても、キャパシ
タ12と抵抗体3は絶縁体層7を介して積層されている
ので、RC回路素子1の占有面積は小さくて済む。ま
た、従来のRC回路素子51に比べ、キャパシタ12と
抵抗体3を接続するための金属領域が少なくなり、この
金属領域による寄生成分をなくすことができる。
Even in this RC circuit element 1, since the capacitor 12 and the resistor 3 are laminated via the insulator layer 7, the area occupied by the RC circuit element 1 can be small. Further, as compared with the conventional RC circuit element 51, the metal region for connecting the capacitor 12 and the resistor 3 is reduced, and the parasitic component due to this metal region can be eliminated.

【0014】図5(a)に示すものは、本発明のさらに
別な実施例であるRC回路素子1の平面構造図、図5
(b)に示すものはその断面構造図である。このRC回
路素子1は図5(c)の等価回路図に示すように第2の
抵抗体3bとキャパシタ12の並列回路に第1の抵抗体
3aが直列に接続された構造となっている。このRC回
路素子1は次のようにして作製できる。半導体基板2上
に2つの抵抗体3a、3bを一体として形成したのち、
2つの抵抗体3a、3bを覆うようにして絶縁体層7を
形成する。次に、抵抗体3bと反対側において抵抗体3
aの一端に位置して第1の開口8を設け、開口8内にお
いて抵抗体3aと電気的に接続する電極引出し線9を絶
縁体層7上に形成する。また、電極引出し線9と接触し
ないようにして電極引出し線9と同一の工程で絶縁体層
7上に第1の金属層4を形成し、第2の開口10内にお
いて抵抗体3bと電気的に接続し、第4の開口15にお
いて抵抗体3a,3bと電気的に接続する。次に、第2
の開口10内においてその外縁部に沿って第1の金属層
4をエッチング等によって環状に削除して金属層4から
分離された領域により接続部13を形成する。図5
(a)の実線で示すものはこのときの平面構造である。
こうして形成された構造体上のほぼ全域に誘電体層6を
形成した後、第2の開口10内に位置して第3の開口1
4を誘電体層6に設け、接続部13の上面の一部を再び
露出させる。最後に図5(a)の想像線で示すように、
第1の金属層4と対向して誘電体層6上に第2の金属層
5を形成して第3の開口14内において接続部13と電
気的に接続するとともに、第2の金属層5と電気的に接
続された電極引出し線11を絶縁体層7上に形成し、R
C回路素子1を作製できる。この実施例においては、2
つの抵抗体3a、3bの上方にキャパシタ12を構成し
た2層構造としている。この場合第1の抵抗体3aの上
方に第2の抵抗体3bを形成し、さらに第2の抵抗体3
bの上方にキャパシタ12を形成して3層構造とするこ
ともできるが製造プロセスが複雑になる。この点、同一
層内に抵抗体3a、3bを構成すると、同一工程により
2つの抵抗体3a、3bを同時に形成できるので、製造
プロセスを簡単にしてRC回路素子1を作製できる。
FIG. 5 (a) is a plan structural view of an RC circuit element 1 which is still another embodiment of the present invention.
What is shown in (b) is a cross-sectional structure diagram. This RC circuit element 1 has a structure in which a first resistor 3a is connected in series to a parallel circuit of a second resistor 3b and a capacitor 12, as shown in the equivalent circuit diagram of FIG. 5 (c). The RC circuit element 1 can be manufactured as follows. After the two resistors 3a and 3b are integrally formed on the semiconductor substrate 2,
The insulator layer 7 is formed so as to cover the two resistors 3a and 3b. Next, on the side opposite to the resistor 3b, the resistor 3
A first opening 8 is provided at one end of a, and an electrode lead wire 9 electrically connected to the resistor 3a in the opening 8 is formed on the insulator layer 7. In addition, the first metal layer 4 is formed on the insulator layer 7 in the same step as the electrode lead wire 9 so as not to come into contact with the electrode lead wire 9, and electrically connected to the resistor 3b in the second opening 10. And is electrically connected to the resistors 3a and 3b in the fourth opening 15. Then the second
In the opening 10, the first metal layer 4 is annularly removed along the outer edge thereof by etching or the like to form the connection portion 13 by the region separated from the metal layer 4. Figure 5
The solid line in (a) shows the planar structure at this time.
After the dielectric layer 6 is formed on almost the entire area of the structure thus formed, the third opening 1 is located inside the second opening 10.
4 is provided on the dielectric layer 6, and a part of the upper surface of the connecting portion 13 is exposed again. Finally, as shown by the imaginary line in Fig. 5 (a),
A second metal layer 5 is formed on the dielectric layer 6 so as to face the first metal layer 4 to electrically connect to the connection portion 13 in the third opening 14, and the second metal layer 5 is also formed. Forming an electrode lead wire 11 electrically connected to the insulator layer 7 on the insulator layer 7;
The C circuit element 1 can be manufactured. In this example, 2
The capacitor 12 is formed above the two resistors 3a and 3b to form a two-layer structure. In this case, the second resistor 3b is formed above the first resistor 3a, and the second resistor 3b is further formed.
A capacitor 12 may be formed above b to form a three-layer structure, but the manufacturing process becomes complicated. In this respect, if the resistors 3a and 3b are formed in the same layer, the two resistors 3a and 3b can be simultaneously formed in the same step, so that the RC circuit element 1 can be manufactured by simplifying the manufacturing process.

【0015】また、図6にはさらに別な実施例であるR
C回路素子1を示すが、このRC回路素子1にあって
は、図6(c)の等価回路図に示すように第2のキャパ
シタ12bと抵抗体3の並列回路に第1のキャパシタ1
2aが直列に接続されている。このRC回路素子1は、
次のようにして作製することができる。半導体基板2上
に形成された抵抗体3を覆うようにして絶縁体層7を形
成する。抵抗体3の両端に位置して絶縁体層7に第1の
開口8及び第2の開口10を設け、絶縁体層7上に第1
の金属層4を形成して第1の開口8内及び第2の開口1
0内でそれぞれ抵抗体3と第1の金属層4を電気的に接
続する。次に、第2の開口10内においてその外縁部に
沿って第1の金属層4を環状に除去した後、接続部13
を形成する。図6(a)の実線で示すものはこのときの
平面構造である。こうして形成された構造体のほぼ全面
に誘電体層6を形成する。この後、第2の開口10に位
置して誘電体層6に第3の開口14を設けて接続部13
の上面の一部を再び露出させる。最後に、図6(a)の
想像線で示すように、誘電体層6上に第2の金属層5a
と第3の金属層5bを電気的に分離して形成するととも
に第3の開口14内において第3の金属層5bを接続部
13に電気的に接続する。こうして抵抗体3の上方に第
1のキャパシタ12aと第2のキャパシタ12bを形成
してRC回路構造1を作製できる。なお、9は第1のキ
ャパシタ12aを引出すための電極引出し線、11は第
2のキャパシタ12bを引出すための電極引出し線であ
る。この実施例においてもキャパシタ12a、抵抗体
3、キャパシタ12bというように積層して3層構造と
することもできるが、本実施例のように2つのキャパシ
タ12a、12bを同一層内に構成すると同一工程によ
り、2つのキャパシタ12a、12bを同時に形成でき
るので製造プロセスを簡単にしてRC回路素子1を作製
できる。
Further, FIG. 6 shows another embodiment of R.
The C circuit element 1 is shown. In this RC circuit element 1, as shown in the equivalent circuit diagram of FIG. 6C, the first capacitor 1 is provided in the parallel circuit of the second capacitor 12b and the resistor 3.
2a are connected in series. This RC circuit element 1 is
It can be manufactured as follows. The insulator layer 7 is formed so as to cover the resistor 3 formed on the semiconductor substrate 2. A first opening 8 and a second opening 10 are provided in the insulating layer 7 at both ends of the resistor 3, and the first opening 8 and the second opening 10 are provided on the insulating layer 7.
Forming a metal layer 4 in the first opening 8 and in the second opening 1
Within 0, the resistor 3 and the first metal layer 4 are electrically connected to each other. Next, in the second opening 10, the first metal layer 4 is annularly removed along the outer edge portion thereof, and then the connection portion 13 is formed.
To form. What is indicated by the solid line in FIG. 6A is the planar structure at this time. The dielectric layer 6 is formed on almost the entire surface of the structure thus formed. After that, the third opening 14 is provided in the dielectric layer 6 at the second opening 10 to form the connecting portion 13
Re-expose a part of the upper surface of. Finally, as shown by the phantom line in FIG. 6A, the second metal layer 5a is formed on the dielectric layer 6.
And the third metal layer 5b are electrically separated from each other, and the third metal layer 5b is electrically connected to the connection portion 13 in the third opening 14. In this way, the RC circuit structure 1 can be manufactured by forming the first capacitor 12a and the second capacitor 12b above the resistor 3. Reference numeral 9 is an electrode lead wire for leading out the first capacitor 12a, and 11 is an electrode lead wire for leading out the second capacitor 12b. Also in this embodiment, the capacitor 12a, the resistor 3 and the capacitor 12b may be laminated to form a three-layer structure, but if the two capacitors 12a and 12b are formed in the same layer as in this embodiment, they are the same. Since the two capacitors 12a and 12b can be simultaneously formed by the steps, the manufacturing process can be simplified and the RC circuit element 1 can be manufactured.

【0016】このように、本発明のRC回路素子の構造
は、キャパシタと抵抗体の直列回路や並列回路に限ら
ず、RC並列回路と抵抗との直列回路やRC並列回路と
キャパシタとの直列回路など、さまざまなRC回路に応
用することができる。また、同一層内に2つ以上の抵抗
体やキャパシタを設ければ、素子数が増えた場合でも製
造プロセスの工程数を少なくできる。
As described above, the structure of the RC circuit element of the present invention is not limited to the series circuit or parallel circuit of the capacitor and the resistor, but the series circuit of the RC parallel circuit and the resistor or the series circuit of the RC parallel circuit and the capacitor. It can be applied to various RC circuits. Further, if two or more resistors and capacitors are provided in the same layer, the number of steps in the manufacturing process can be reduced even if the number of elements increases.

【0017】[0017]

【発明の効果】本発明によれば、少ない占有面積で、直
列、並列となったRC回路素子を作製することができ、
集積回路の小型化、集積度の向上を図ることができる。
According to the present invention, series and parallel RC circuit elements can be manufactured with a small occupation area.
It is possible to reduce the size of the integrated circuit and improve the degree of integration.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】(a)は本発明の一実施例であるRC回路素子
の一部省略した平面構造図、(b)はその断面構造図、
(c)はその等価回路図である。
FIG. 1 (a) is a plan structural view in which an RC circuit element according to an embodiment of the present invention is partially omitted, and FIG. 1 (b) is a sectional structural view thereof.
(C) is the equivalent circuit diagram.

【図2】(a)〜(d)は同上のRC回路素子の作製方
法を示す説明図である。
2A to 2D are explanatory views showing a method for manufacturing the RC circuit element of the above.

【図3】(a)は本発明の別な実施例であるRC回路素
子の一部省略した平面構造図、(b)はその断面構造
図、(c)はその等価回路図である。
FIG. 3A is a plan structural view in which an RC circuit element according to another embodiment of the present invention is partially omitted, FIG. 3B is a sectional structural view thereof, and FIG. 3C is an equivalent circuit diagram thereof.

【図4】(a)〜(e)は同上のRC回路素子の作製方
法を示す説明図である。
4 (a) to 4 (e) are explanatory views showing a method for manufacturing the RC circuit element of the above.

【図5】(a)は本発明のさらに別な実施例であるRC
回路素子の一部省略した平面構造図、(b)はその断面
構造図、(c)はその等価回路図である。
FIG. 5 (a) is an RC according to still another embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a plan view showing a circuit element with a part thereof omitted, FIG.

【図6】(a)は本発明のさらに別な実施例であるRC
回路素子の一部省略した平面構造図、(b)はその断面
構造図、(c)はその等価回路図である。
FIG. 6 (a) is an RC according to still another embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a plan view showing a circuit element with a part thereof omitted, FIG.

【図7】(a)は従来例であるRC回路素子の一部省略
した平面構造図、(b)はその断面構造図、(c)はそ
の等価回路図である。
FIG. 7A is a plan structural view in which a part of an RC circuit element of a conventional example is omitted, FIG. 7B is a sectional structural view thereof, and FIG. 7C is an equivalent circuit diagram thereof.

【図8】別な従来例であるRC回路素子の一部省略した
平面構造図である。
FIG. 8 is a plan structural view in which a part of an RC circuit element, which is another conventional example, is omitted.

【図9】(a)は図8のA−A線に於ける断面構造図、
(b)は図8のB−B線に於ける断面構造図、(c)は
図8のC−C線に於ける断面構造図である。
9 (a) is a sectional structural view taken along the line AA of FIG.
8B is a sectional structure view taken along line BB of FIG. 8, and FIG. 9C is a sectional structure view taken along line CC of FIG.

【図10】同上のRC回路素子の等価回路図である。FIG. 10 is an equivalent circuit diagram of the RC circuit element of the above.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2 半導体基板 3 抵抗体 4 第1の金属層 5 第2の金属層 6 誘電体層 7 絶縁体層 2 semiconductor substrate 3 resistor 4 first metal layer 5 second metal layer 6 dielectric layer 7 insulator layer

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 絶縁体層の両面をそれぞれ電極層で挟ん
だキャパシタと、抵抗体とからなるRC回路素子の構造
であって、 半導体層の表面もしくは上方に形成された前記抵抗体
と、半導体層の上方に形成された前記キャパシタとを重
ねるように配置したことを特徴とするRC回路素子の構
造。
1. A structure of an RC circuit element comprising a resistor and a capacitor having both surfaces of an insulating layer sandwiched between electrode layers, the resistor being formed on the surface of or above a semiconductor layer, and a semiconductor. A structure of an RC circuit element, wherein the capacitor formed above a layer is arranged so as to overlap.
【請求項2】 前記抵抗体が同一層内に2つ以上設けら
れていることを特徴とする請求項1に記載のRC回路素
子の構造。
2. The structure of the RC circuit element according to claim 1, wherein two or more resistors are provided in the same layer.
【請求項3】 前記キャパシタが同一層内に2つ以上設
けられていることを特徴とする請求項1に記載のRC回
路素子の構造。
3. The structure of the RC circuit element according to claim 1, wherein two or more capacitors are provided in the same layer.
JP11240295A 1995-04-12 1995-04-12 Structure of rc circuit element Pending JPH08288464A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11240295A JPH08288464A (en) 1995-04-12 1995-04-12 Structure of rc circuit element

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11240295A JPH08288464A (en) 1995-04-12 1995-04-12 Structure of rc circuit element

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH08288464A true JPH08288464A (en) 1996-11-01

Family

ID=14585765

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11240295A Pending JPH08288464A (en) 1995-04-12 1995-04-12 Structure of rc circuit element

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH08288464A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009218528A (en) * 2008-03-13 2009-09-24 Furukawa Electric Co Ltd:The GaN-BASED FIELD EFFECT TRANSISTOR
WO2023279467A1 (en) * 2021-07-08 2023-01-12 深圳镓芯半导体科技有限公司 Compound semiconductor oscillator assembly

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009218528A (en) * 2008-03-13 2009-09-24 Furukawa Electric Co Ltd:The GaN-BASED FIELD EFFECT TRANSISTOR
WO2023279467A1 (en) * 2021-07-08 2023-01-12 深圳镓芯半导体科技有限公司 Compound semiconductor oscillator assembly

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2826149B2 (en) Capacitor structure and monolithic voltage multiplier
KR100671111B1 (en) Semiconductor device and method for fabricating the same
JP4485145B2 (en) Integrated circuit
US6064108A (en) Integrated interdigitated capacitor
JPH07272975A (en) Composite capacitor
US4471406A (en) Multilayer capacitor
JPH11145387A (en) Semiconductor device and manufacture thereof
US6893935B2 (en) Semiconductor component and fabrication method
JPH08288464A (en) Structure of rc circuit element
JPH02231755A (en) Monolithic integrated circuit having mim capacitor
JP2799028B2 (en) Semiconductor device with capacitor
JPH0247862A (en) Semiconductor integrated circuit device
JP3335412B2 (en) Stacked element
JPH0653414A (en) Microwave integrated circuit
JPH0118572B2 (en)
JPH1154369A (en) Multilayered electronic component
JPH06120009A (en) Capacitive varistor
JPH0338813A (en) Lc composite component
KR100225848B1 (en) A capacitor and method of fabricating the same
JPS58164246A (en) Semiconductor device
JPH07202123A (en) Semiconductor coupling capacitor
JP2003124329A (en) Capacitive element
JPH0555459A (en) Semiconductor integrated circuit device and its manufacture
JPH07201635A (en) Ceramic capacitor
JPS63184358A (en) Semiconductor integrated circuit