JPH08273538A - Manufacture of cell barrier for plasma display panel - Google Patents
Manufacture of cell barrier for plasma display panelInfo
- Publication number
- JPH08273538A JPH08273538A JP9594295A JP9594295A JPH08273538A JP H08273538 A JPH08273538 A JP H08273538A JP 9594295 A JP9594295 A JP 9594295A JP 9594295 A JP9594295 A JP 9594295A JP H08273538 A JPH08273538 A JP H08273538A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- shape
- cell barrier
- sheet
- ionizing radiation
- meth
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2211/00—Plasma display panels with alternate current induction of the discharge, e.g. AC-PDPs
- H01J2211/20—Constructional details
- H01J2211/34—Vessels, containers or parts thereof, e.g. substrates
- H01J2211/36—Spacers, barriers, ribs, partitions or the like
Landscapes
- Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、セル障壁により形成さ
れた複数の放電用空間を備えてなるプラズマディスプレ
イパネル(以下、PDPと記す。)のセル障壁製造方法
に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a cell barrier of a plasma display panel (hereinafter referred to as PDP) having a plurality of discharge spaces formed by the cell barrier.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、PDPのセル障壁製造方法として
は、ガラス基板上にガラスペーストをスクリーン印刷法
によりパターンニングした後、焼成する方法が利用され
ているが、セル障壁に必要な高さを得るために、印刷と
乾燥を例えば十数回繰り返すことによって積層した後に
焼成することが行われている。また、その障壁形状の精
度を向上させるために、ガラス基板上のセル障壁を設け
る部分に新油性高分子層を設けておく方法(特開平5−
166460号公報)等も提案されている。2. Description of the Related Art Conventionally, as a method for manufacturing a cell barrier of a PDP, a method of patterning a glass paste on a glass substrate by a screen printing method and then firing the glass paste has been used. In order to obtain it, printing and drying are carried out, for example, by repeating dozens of times, and then laminated and then fired. In addition, in order to improve the accuracy of the barrier shape, a method of providing a new oil-based polymer layer on a portion of the glass substrate where the cell barrier is provided (Japanese Patent Laid-Open No. Hei 5-
No. 166460) has been proposed.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記の従来の
製造方法では、製造装置が特殊ではなく工程が容易であ
る反面、工程数が多くなる点、また、スクリーン印刷に
よるセル障壁の形状が焼成前に崩れ、しかも印刷の繰り
返し回数が増えるにつれ形状精度が悪化する傾向があ
り、精巧さに劣る点などに問題がある。その結果、ディ
スプレイパネルの性能として、高精細な画像を得にくい
という問題があった。However, in the above-described conventional manufacturing method, the manufacturing apparatus is not special and the steps are easy, but the number of steps is large, and the shape of the cell barrier formed by screen printing is fired. The shape accuracy tends to deteriorate as the number of times printing is repeated increases, and there is a problem in that it is inferior in sophistication. As a result, there is a problem in that it is difficult to obtain a high-definition image as the performance of the display panel.
【0004】そこで、本発明は、上記のような従来技術
の欠点を解消し、さらに精度の良いセル障壁を、簡便で
迅速に且つ安定して製造し得る、新たな製造方法を提供
することを目的とする。Therefore, the present invention aims to solve the above-mentioned drawbacks of the prior art, and to provide a new manufacturing method capable of manufacturing a cell barrier with higher accuracy simply, quickly and stably. To aim.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明のプラズマディスプレイパネルのセル障壁製
造方法は、前面板と、複数の放電用空間を構成するセル
障壁を備えた背面板とを互いに平行に対向するように配
設してなるプラズマディスプレイパネルのセル障壁を製
造する方法について、次の(A) 〜(D) より構成する。 (A) セル障壁部の形状に対応した版凹部を有するロール
凹版を使用し、該ロール凹版の少なくとも版凹部に電離
放射線硬化性樹脂を充填すると共に、フィルム基材をロ
ール凹版に接触させ、接触している間に電離放射線を照
射してフィルム基材とロール凹版間に介在する電離放射
線硬化性樹脂を硬化させて電離放射線硬化性樹脂層とし
た後、フィルム基材に固着した電離放射線硬化性樹脂層
をフィルム基材と共に版凹部から剥離して、セル障壁部
と逆凹凸形状のシート凹部を有する賦形シートを得る賦
形シート製造工程。 (B) ガラス基板表面にガラスペーストを塗布する塗布工
程。 (C) ガラスペーストが塗布されたガラス基板に賦形シー
トを圧接した後、賦形シートを剥離して、ガラス基板表
面上のガラスペーストをセル障壁形状に成形する成形工
程。 (D) 成形されたガラスペーストを焼成する焼成工程。In order to achieve the above object, a method of manufacturing a cell barrier of a plasma display panel according to the present invention comprises a front plate and a back plate having cell barriers forming a plurality of discharge spaces. A method of manufacturing a cell barrier of a plasma display panel in which the cells are arranged so as to face each other in parallel is constituted by the following (A) to (D). (A) using a roll intaglio having a plate indentation corresponding to the shape of the cell barrier portion, at least the plate indentation of the roll intaglio is filled with an ionizing radiation curable resin, the film substrate is contacted with the roll intaglio, contact The ionizing radiation curable resin that is present between the film base material and the roll intaglio is cured to form an ionizing radiation curable resin layer while A step of manufacturing a shaped sheet, in which a resin layer is peeled off together with a film base material from a plate concave portion to obtain a shaped sheet having a cell concave portion and a concave portion of a sheet having an uneven shape. (B) A coating step of coating the glass paste on the surface of the glass substrate. (C) A molding step in which the shaping sheet is pressed against the glass substrate coated with the glass paste, the shaping sheet is peeled off, and the glass paste on the surface of the glass substrate is shaped into a cell barrier shape. (D) A firing step of firing the formed glass paste.
【0006】以下、本発明のプラズマディスプレイパネ
ルのセル障壁製造方法について図面を参照しながら詳述
する。Hereinafter, a method of manufacturing a cell barrier of a plasma display panel according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
【0007】本発明の製造方法は、先ず最初に、PDP
セル障壁部の形状とは逆凹凸形状の賦形シートを製造す
る。賦形シートはフィルム基材上に、シート凹部を形成
した電離放射線硬化性樹脂層を有し、このシート凹部が
PDPセル障壁部形状と逆形状をなす鋳型である。The manufacturing method of the present invention is as follows.
A shaped sheet having an uneven shape opposite to the shape of the cell barrier portion is manufactured. The shaped sheet is a mold having an ionizing radiation curable resin layer having a sheet recess formed on a film substrate, and the sheet recess having a shape opposite to the PDP cell barrier section shape.
【0008】図3は、この賦形シートの製造装置の一例
を示す概念図である。ロール凹版4は多数のセル障壁か
らなるセル障壁部に対応した形状の版凹部41を有し、
矢印方向に回転している。そこに、フィルム基材21が
適宜移送手段により供給され押し圧ロール51でロール
凹版に圧接され、ロール凹版に接触した状態で同期して
搬送されて、剥離ロール52によりロール凹版から剥離
されて搬送される。なお、押し圧ロール及び剥離ロール
ともロール凹版とのクリアランス調整等が可能となって
いる。FIG. 3 is a conceptual diagram showing an example of an apparatus for manufacturing the shaped sheet. The roll intaglio 4 has a plate recess 41 having a shape corresponding to a cell barrier portion composed of a large number of cell barriers,
It is rotating in the direction of the arrow. There, the film base material 21 is appropriately supplied by a transfer means, pressed against the roll intaglio by the pressing pressure roll 51, and synchronously conveyed in contact with the roll intaglio, and separated from the roll intaglio by the peeling roll 52 and conveyed. To be done. It is possible to adjust the clearance between the pressing roll and the peeling roll with the intaglio roll.
【0009】このようなロール凹版4、フィルム基材2
1に対して、電離放射線硬化性樹脂3をロール凹版の少
なくとも版凹部41に充填すべく適宜手段により供給す
る。同図では、電離放射線硬化性樹脂はロール凹版の下
方から塗工装置6によりロール凹版に直接供給する。そ
して、フィルム基材をロール凹版に接触させるようにし
て、フィルム基材とロール凹版上の電離放射線硬化性樹
脂をフィルム基材とロール凹版とで挟みながら、電離放
射線照射装置7によってフィルム基材側から電離放射線
を照射して、フィルム基材とロール凹版との間に介在し
ている電離放射線硬化性樹脂を硬化させる。電離放射線
硬化性樹脂は硬化することによって、フィルム基材に固
着した状態の電離放射線硬化性樹脂層22となる。次
に、剥離ロールによって、フィルム基材をロール凹版か
ら剥離すると、電離放射線硬化性樹脂層はフィルム基材
と共に剥離され、電離放射線硬化性樹脂層がセル障壁部
以外の部分(放電空間)の形状を成し、電離放射線硬化
性樹脂層によって形成されるシート凹部23がセル障壁
部の形状を成す賦形シート2が得られる。Such roll intaglio 4 and film substrate 2
1, the ionizing radiation curable resin 3 is supplied by an appropriate means so as to fill at least the plate recess 41 of the roll intaglio. In the figure, the ionizing radiation curable resin is directly supplied to the roll intaglio by the coating device 6 from below the roll intaglio. Then, the film base material is brought into contact with the roll intaglio plate, and the ionizing radiation curable resin on the film base material and the roll intaglio plate is sandwiched between the film base material and the roll intaglio plate by the ionizing radiation irradiation device 7 and the film base material side. To irradiate ionizing radiation to cure the ionizing radiation curable resin interposed between the film base material and the roll intaglio. When the ionizing radiation curable resin is cured, it becomes the ionizing radiation curable resin layer 22 that is fixed to the film base material. Next, when the film substrate is peeled from the roll intaglio by a peeling roll, the ionizing radiation curable resin layer is peeled together with the film substrate, and the ionizing radiation curable resin layer has a shape other than the cell barrier portion (discharge space). The shaped sheet 2 in which the sheet recessed portion 23 formed by the ionizing radiation curable resin layer has the shape of the cell barrier portion is obtained.
【0010】ここで、目的とするセル障壁形状と、賦形
シートのシート凹部、ロール凹版の版凹部の形状の関係
を説明しておく。図2で(a)はロール凹版4とその版
凹部41を、(b)は(a)のロール凹版から得られる
賦形シート2とそのシート凹部23を、(c)は(b)
の賦形シートから得られるセル障壁1を示す。そしてロ
ール凹版はセル障壁部の形状に対応した版凹部を有す
る。すなわち、ロール凹版4の版凹部41とは直観的に
は凹んだ部分であり凹部空間とすれば、版凹部がセル障
壁部以外の部分(放電空間)と同一形状であり、逆に言
えば、版凹部以外の部分(凸部)がセル障壁部と同一形
状である。一方、賦形シート2ではシート凹部23の凹
部空間が、セル障壁部と同一形状となる。なお、平凹版
から型シートを枚葉で作ることも可能であるが、説明の
便宜上、図2(a)ではロール凹版の版面は平面化して
ある。Here, the relationship between the intended cell barrier shape and the shapes of the sheet recess of the shaping sheet and the plate recess of the roll intaglio will be described. In FIG. 2, (a) shows the roll intaglio 4 and its plate recess 41, (b) shows the shaped sheet 2 obtained from the roll intaglio of (a) and its sheet recess 23, and (c) shows (b).
1 shows a cell barrier 1 obtained from the shaped sheet of FIG. The roll intaglio plate has a plate recess corresponding to the shape of the cell barrier. That is, if the plate recess 41 of the roll intaglio 4 is intuitively a recessed part and has a recessed space, the plate recessed part has the same shape as the part other than the cell barrier part (discharge space), and conversely, The part (projection) other than the plate recess has the same shape as the cell barrier part. On the other hand, in the shaped sheet 2, the recessed space of the seat recessed portion 23 has the same shape as the cell barrier portion. Although it is possible to make a die sheet from a planographic intaglio plate, the roll intaglio plate surface is flattened in FIG. 2A for convenience of explanation.
【0011】上記したフィルム基材2としては、可撓性
及び電離放射線透過性があるフィルムであれば良い。例
えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフ
タレート等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリカー
ボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリスチレン、エ
チレン−酢酸エチレン共重合体、ポリビニルアルコー
ル、等の樹脂からなるフィルムが挙げられる。中でも、
加工適性、強度、コスト等の点を考慮した場合、特にポ
リエチレンテレフタレートフィルムが良い。The above-mentioned film base 2 may be a film which is flexible and transparent to ionizing radiation. For example, a film made of a resin such as polyester such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polycarbonate, polyamide, polyimide, polystyrene, ethylene-ethylene acetate copolymer, polyvinyl alcohol, etc. Can be mentioned. Above all,
Considering the processability, strength, cost, etc., a polyethylene terephthalate film is particularly preferable.
【0012】なお、電離放射線硬化性樹脂の供給充填
は、図3に示す如くロール凹版にロールコート法にて直
接供給して行える他、Tダイ等のダイからロール凹版に
直接供給したり、あるいは、フィルム基材がロール凹版
に当接する前に、該フィルム基材上に予めロールコート
法等にて塗布形成して供給してもよい。The ionizing radiation curable resin can be supplied and filled by directly supplying it to the roll intaglio by a roll coating method as shown in FIG. 3, or directly from a die such as a T die to the roll intaglio. Before the film base material comes into contact with the roll intaglio, the film base material may be applied and formed in advance by a roll coating method or the like and supplied.
【0013】また、本発明で使用する電離放射線硬化性
樹脂としては、電離放射線により架橋重合反応を起こし
固体化するポリマー、プレポリマー、あるいはモノマー
が用いられる。具体的には、(メタ)アクリルアミド、
(メタ)アクリロニトリル、(メタ)アクリル酸、(メ
タ)アクリル酸エステル等の(メタ)アクリロイル基を
有する化合物からなるラジカル重合系(ここで、(メ
タ)アクリロイルとはアクリロイル又はメタクリロイル
を意味する。以下同様。)、エポキシ、環状エーテル、
環状アセタール、ラクトン、ビニルモノマー、環状シロ
キサンとアリールジアゾニウム塩、ジアリールヨードニ
ウム塩等との組み合わせからなるカチオン重合系、チオ
ール基を有する化合物、例えば、トリメチロールプロパ
ントリチオグリコレート、トリメチロールプロパントリ
チオプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラチオ
グリコールとポリエン化合物とからなる、ポリエン/チ
オール系等が使用できる。Further, as the ionizing radiation curable resin used in the present invention, a polymer, a prepolymer or a monomer which undergoes a cross-linking polymerization reaction by an ionizing radiation to be solidified is used. Specifically, (meth) acrylamide,
A radical polymerization system composed of a compound having a (meth) acryloyl group such as (meth) acrylonitrile, (meth) acrylic acid, and (meth) acrylic acid ester (where (meth) acryloyl means acryloyl or methacryloyl. The same), epoxy, cyclic ether,
A cationic polymerization system comprising a combination of cyclic acetal, lactone, vinyl monomer, cyclic siloxane and aryl diazonium salt, diaryl iodonium salt, etc., a compound having a thiol group, for example, trimethylolpropane trithioglycolate, trimethylolpropane trithioproto A polyene / thiol system composed of pionate, pentaerythritol tetrathioglycol and a polyene compound can be used.
【0014】ラジカル重合系の(メタ)アクリレート化
合物の単官能モノマーとしては、例えば、メチル(メ
タ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチ
ル(メタ)アクリレート、メトキシエチル(メタ)アク
リレート、メトキシブチル(メタ)アクリレート、ブト
キシエチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル
(メタ)アクリレート、N,N−ジメチルアミノメチル
(メタ)アクリレート、N,N−ジメチルアミノエチル
(メタ)アクリレート、N,N−ジエチルアミノエチル
(メタ)アクリレート、N,N−ジエチルアミノプロピ
ル(メタ)アクリレート、N,N−ジベンジルアミノエ
チル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレ
ート、イソホニル(メタ)アクリレート、エチルカルビ
トルール(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メ
タ)アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール
(メタ)アクリレート、テトラヒドロキシフルフリル
(メタ)アクリレート、メトキシトリプロピレングリコ
ール(メタ)アクリレート、2−(メタ)アクリロイル
オキシエチル−2−ヒドロキシプロピルフタレート、2
−(メタ)アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフ
タレート等が挙げられる。Examples of the monofunctional monomer of the radical polymerization type (meth) acrylate compound include, for example, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, methoxyethyl (meth) acrylate and methoxybutyl (meth). ) Acrylate, butoxyethyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, N, N-dimethylaminomethyl (meth) acrylate, N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, N, N-diethylaminoethyl (meth ) Acrylate, N, N-diethylaminopropyl (meth) acrylate, N, N-dibenzylaminoethyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, isophonyl (meth) acrylate, ethylcarbitol (meth) acrylate Relate, phenoxyethyl (meth) acrylate, phenoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, tetrahydroxyfurfuryl (meth) acrylate, methoxytripropylene glycol (meth) acrylate, 2- (meth) acryloyloxyethyl-2-hydroxypropyl phthalate, Two
-(Meth) acryloyloxypropyl hydrogen phthalate and the like.
【0015】また、ラジカル重合系の多官能モノマーと
しては、例えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリ
レート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、
プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロ
ピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチ
ルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキシ
ルジオールジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジ
オールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコ
ールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコー
ルジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールA−ジ(メ
タ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メ
タ)アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオ
キサイドトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリト
ールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトール
テトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトール
ペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトール
ヘキサ(メタ)アクリレート、グリセリンポリエチレン
オキサイドトリ(メタ)アクリレート、トリス(メタ)
アクリロイルオキシエチルフォスフェート等で挙げられ
る。Further, as the radical polymerization type polyfunctional monomer, for example, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate,
Propylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexyldiol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, Tetraethylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, bisphenol A-di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane ethylene oxide tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (Meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) ac , Glycerin polyethylene oxide tri (meth) acrylate, tris (meth)
Examples thereof include acryloyloxyethyl phosphate.
【0016】また、ラジカル重合系のプレポリマー、と
しては、例えば、アルキッド(メタ)アクリレート、ウ
レタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリ
レート、ポリエステル(メタ)アクリレート、ポリブタ
ジエン(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリレート
類、不飽和ポリエステル等がある。Examples of radical polymerization prepolymers include (meth) acrylates such as alkyd (meth) acrylates, urethane (meth) acrylates, epoxy (meth) acrylates, polyester (meth) acrylates and polybutadiene (meth) acrylates. ) Acrylates and unsaturated polyesters.
【0017】これら(メタ)アクリロイル基を含む化合
物の中でも特にアクリロイル基を含む化合物、すなわち
アクリレートの方が重合反応速度が速い。そのため、電
離放射線硬化性樹脂層を塗工形成する生産速度を重視す
る場合は、アクリレートの方がメタクリレートより好ま
しい。Among these compounds containing a (meth) acryloyl group, a compound containing an acryloyl group, that is, an acrylate has a higher polymerization reaction rate. Therefore, when importance is attached to the production rate of coating and forming the ionizing radiation curable resin layer, acrylate is preferable to methacrylate.
【0018】そして、ラジカル重合系の電離放射線硬化
性樹脂としては、以上の化合物を必要に応じて、1種も
しくは2種以上混合して用いる。As the radical polymerization type ionizing radiation curable resin, the above compounds may be used alone or in admixture of two or more.
【0019】ここで、紫外線による硬化の場合の光重合
開始剤としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテ
ル、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ミヒラーケト
ン、ジフェニルサルファイド、ジベンジルジサルファイ
ド、ジエチルオキサイド、トリフェニルビイミダゾー
ル、イソプロピル−N,N−ジメチルアミノベンゾエー
ト等の1種もしくは2種以上を該電離放射線硬化性樹脂
100重量部に対して、0.1〜10重量部の範囲で混
合して用いることができる。Here, as a photopolymerization initiator in the case of curing by ultraviolet rays, benzoin, benzoin methyl ether, acetophenone, benzophenone, Michler's ketone, diphenyl sulfide, dibenzyl disulfide, diethyl oxide, triphenyl biimidazole, isopropyl-N. , N-dimethylaminobenzoate, etc. may be used alone or in combination in the range of 0.1 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the ionizing radiation curable resin.
【0020】ここで、該電離放射線硬化性樹脂を含む組
成物中に、該電離放射線硬化性樹脂を溶解しその粘度等
を調整し塗工適性を持たせるための溶剤として、酢酸エ
チル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート等のエステル
類、アセトン、メチルエチルケトン、エチルイソブチル
ケトン等のケトン類、メチルアルコール、エチルアルコ
ール、イソプロピルアルコール等のアルコール類等の1
種又は2種以上を任意に混合して使用することもでき
る。Here, ethyl acetate and butyl acetate are used as a solvent for dissolving the ionizing radiation-curable resin in the composition containing the ionizing radiation-curable resin and adjusting the viscosity of the resin to impart coating suitability. 1, esters such as cellosolve acetate, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and ethyl isobutyl ketone, alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol and isopropyl alcohol 1
It is also possible to use one kind or a mixture of two or more kinds.
【0021】電離放射線としては、可視光線、紫外線、
X線、電子線等の電磁波又は粒子線が用いられる。実用
上主に使用されるのは、紫外線又は電子線である。紫外
線源としては、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、低圧水銀
灯、カーボンアーク、ブラックライト、メタルハライド
ランプ等の光源が使用される。The ionizing radiation includes visible light, ultraviolet light,
Electromagnetic waves such as X-rays and electron beams or particle beams are used. Ultraviolet rays or electron beams are mainly used in practice. As the ultraviolet ray source, a light source such as a high-pressure mercury lamp, an ultra-high-pressure mercury lamp, a low-pressure mercury lamp, a carbon arc, a black light, and a metal halide lamp is used.
【0022】電子線源としては、コッククロフトワルト
ン型、バンデグラフ型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器
型、あるいは、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等
の各種電子線加速器を用い、100〜1000keV、
好ましくは、100〜300keVのエネルギーをもつ
電子を照射するものを使用できる。照射線量は、通常
0.5〜30Mradである。As the electron beam source, various electron beam accelerators such as Cockcroft-Walton type, Van de Graaff type, resonance transformer type, insulating core transformer type, linear type, dynamitron type, high frequency type, etc. are used, and 100 to 1000 keV are used. ,
Preferably, one that irradiates with an electron having an energy of 100 to 300 keV can be used. The irradiation dose is usually 0.5 to 30 Mrad.
【0023】なお、電離放射線の照射方法として、ま
ず、紫外線を照射して電離放射線硬化性樹脂層を少なく
とも表面が指触乾燥する程度以上に硬化させ、しかる
後、電子線で完全硬化させることも可能である。As a method of irradiating with ionizing radiation, first, the ionizing radiation-curable resin layer is cured by irradiating it with ultraviolet rays so that at least the surface is dry to the touch, and then completely cured with an electron beam. It is possible.
【0024】以上のようにして得られた賦形シートを賦
形型として、ガラス基板上に適宜手段により塗布され
た、PbO等からなるガラスフリット、耐熱顔料等を有
機ビヒクルに分散してなるガラスペーストに対して、押
し当ててガラスペーストを所望のセル障壁形状に成形す
ることとなる。The shaped sheet obtained as described above is used as a shaping mold, and a glass frit made of PbO or the like, a heat resistant pigment or the like, which is applied onto a glass substrate by an appropriate means, is dispersed in an organic vehicle. The glass paste is pressed against the paste to form a desired cell barrier shape.
【0025】ガラスペーストをガラス基板に塗布する塗
布工程における塗布手段としては、、Tダイのような押
し出し法、あるいはブレードによるギャップを利用する
方法(図11参照)等が適宜使用できる。図3(a)で
は、ガラスペーストをTダイによって塗工する。As a coating means in the coating step of coating the glass paste on the glass substrate, an extrusion method such as T-die or a method utilizing a gap by a blade (see FIG. 11) can be appropriately used. In FIG. 3A, the glass paste is applied by a T die.
【0026】次いで、ガラスペーストの成形工程とし
て、ガラスペーストのビヒクルの溶剤が乾かないうち
に、図3(b)の如く、賦形シート2を塗布されたガラ
スペーストに押し当てて、賦形シートのシート凹部の中
にガラスペーストを充填すると共に、必要に応じ、賦形
シートの電離放射線硬化性樹脂層の凸面をガラス基板に
接触するまで当接する。次に、図3(c)に示すよう
に、シート凹部内に充填されたガラスペーストが乾かな
いうちに、賦形シートを剥離すると、ガラス基板側にガ
ラスペーストが成形された状態で残留する。図4は、賦
形シート2と、賦形シート2で成形されたガラス基板1
0上のセル障壁1を示す。なお、シート凹部の内面は電
離放射線硬化性樹脂層等の材料を適宜調整してガラス基
板表面よりガラスペーストに対するぬれを少なくしてい
るので、剥離時にガラスペーストはガラス基板側に残る
こととなる。Next, in the step of molding the glass paste, the shaping sheet 2 is pressed against the coated glass paste as shown in FIG. 3 (b) before the solvent of the vehicle of the glass paste dries, and the shaping sheet is formed. The sheet concave portion is filled with the glass paste, and if necessary, the convex surface of the ionizing radiation-curable resin layer of the shaping sheet is brought into contact until it comes into contact with the glass substrate. Next, as shown in FIG. 3C, if the shaping sheet is peeled off before the glass paste filled in the sheet recesses is dried, the glass paste remains on the glass substrate side in a molded state. FIG. 4 shows a shaping sheet 2 and a glass substrate 1 molded by the shaping sheet 2.
Cell barrier 1 on 0 is shown. Since the inner surface of the recessed portion of the sheet is appropriately adjusted with a material such as an ionizing radiation curable resin layer so as to be less wetted by the glass paste than the surface of the glass substrate, the glass paste remains on the glass substrate side at the time of peeling.
【0027】かくして、一回の操作でガラス基板上に所
望の高さで所望のセル障壁形状となり得るガラスペース
トが成形され、これを所定の焼成条件で焼成すれば、目
的とする形状のセル障壁が得られる。そして、セル障壁
が形成された背面板と前面板とを封着して図5に示すよ
うなセル障壁構造のPDPが得られる。Thus, a glass paste capable of forming a desired cell barrier shape at a desired height is formed on a glass substrate by a single operation, and if the glass paste is fired under predetermined firing conditions, the cell barrier having the desired shape is formed. Is obtained. Then, the back plate having the cell barrier and the front plate are sealed to obtain a PDP having a cell barrier structure as shown in FIG.
【0028】本発明は、ガラス基板への一回のパターン
ニング処理で、所望の高さで所望の形状のセル障壁を形
成できる点が特徴の一つであり、図4に示すしたような
断面が台形形状は、前面板と接合される部分のセル障壁
前面の面積を小さくできるので、画素面積を広くとれP
DPの開口率向上による輝度の向上が得られる利点があ
る。The present invention is characterized in that a cell barrier having a desired height and a desired shape can be formed by a single patterning process on a glass substrate, and the cross section as shown in FIG. The trapezoidal shape makes it possible to reduce the area of the front surface of the cell barrier at the portion joined to the front plate, so that the pixel area can be increased.
There is an advantage that the brightness can be improved by improving the aperture ratio of the DP.
【0029】セル障壁の形状としては、図4では、セル
を形成する対向するセル障壁同士が分離している台形形
状であるが、この他各種のセル障壁1の形状と、それを
形成するための賦形シート2の形状とを、図6〜図8に
例示する。図6は対向するセル障壁同士が分離した三角
形形状であり、図7は分離した直方体形状であり、図8
は分離した前面板側に凸となる曲線形状、例えば半楕円
形状である。なお、これらセル障壁の断面は、例えば四
方が囲まれたセルの一辺を形成するセル障壁の縦断面形
状を示すもので、セルの平面形状は問わない。In FIG. 4, the shape of the cell barrier is a trapezoidal shape in which the opposing cell barriers forming the cell are separated from each other. The shape of the shaped sheet 2 is illustrated in FIGS. 6 to 8. FIG. 6 shows a triangular shape in which opposing cell barriers are separated from each other, and FIG. 7 shows a separated rectangular parallelepiped shape.
Is a curved shape that is convex toward the separated front plate side, for example, a semi-elliptical shape. The cross sections of these cell barriers show, for example, the vertical cross sectional shape of the cell barrier forming one side of the cell surrounded by four sides, and the planar shape of the cell does not matter.
【0030】[0030]
【作用】本発明の製造方法によれば、ロール凹版に充填
された電離放射線硬化性樹脂により、ガラスペーストの
賦形型となる賦形シートが高精度で得られる。そして、
この賦形シートを、ガラス基板上にほぼ均一に塗布した
ガラスペーストに押し当てることで、ガラスペーストは
シート凹部の中に押し込まれ充填され、その後、賦形シ
ートを剥離すれば、ガラスペーストのシート凹部とガラ
ス基板とのぬれの差により、ガラスペーストは成形され
てガラス基板側に残留する。ガラス基板上で成形された
ガラスペーストの形状は、シート凹部の形状に対応して
形成されるので、シート凹部の形状を目的とするセル障
壁部の形状とすることで、ガラス基板に対する一回の処
理で目的とする形状を持ったガラスペーストがガラス基
板上に形成される。そして、焼成することで、目的とす
るセル障壁が得られる。According to the production method of the present invention, the ionizing radiation-curable resin with which the roll intaglio plate is filled can highly accurately obtain a shaping sheet which is a shaping mold for the glass paste. And
By pressing this shaping sheet against the glass paste applied almost uniformly on the glass substrate, the glass paste is pushed into the concave portion of the sheet to be filled, and then the shaping sheet is peeled off to obtain a sheet of the glass paste. Due to the difference in wetness between the concave portion and the glass substrate, the glass paste is molded and remains on the glass substrate side. Since the shape of the glass paste formed on the glass substrate is formed in correspondence with the shape of the sheet recessed portion, by making the shape of the sheet recessed portion into the desired cell barrier portion shape, A glass paste having a desired shape is formed on the glass substrate by the processing. Then, by firing, the target cell barrier is obtained.
【0031】[0031]
【実施例】次に、具体的な実施例により本発明を更に詳
述する。EXAMPLES Next, the present invention will be described in more detail with reference to specific examples.
【0032】《実施例1》賦形シートの製造 フィルム基材として、厚さ25μmのポリエチレンテレ
フタレートフィルム(東レ(株)製、T−60)の片面
に、図3に示す賦形シート製造装置と、下記のように版
凹部が正四角錐形状の凹部空間を有するロール凹版及び
電離放射線硬化性樹脂組成物を使用して、且つ下記条件
にてセル障壁と逆凹凸形状のセル障壁部の雌型がフィル
ム基材の片面に設けられた賦形シートを得た。Example 1 Manufacturing of Shaped Sheet As a film substrate, a shaped sheet manufacturing apparatus shown in FIG. 3 was formed on one side of a 25 μm thick polyethylene terephthalate film (T-60 manufactured by Toray Industries, Inc.). , Using a roll intaglio and ionizing radiation curable resin composition in which the plate recess has a regular square pyramid-shaped recess space as described below, and under the following conditions, the cell barrier and the female mold of the reverse concavo-convex cell barrier part are A shaped sheet provided on one side of the film substrate was obtained.
【0033】ロール凹版 版面の断面形状:縦断面は分離した台形 〔図9参照〕 水平断面はストライプ状 セルピッチP :200μm セル溝幅W :上底180μm,下底150μm セル深さD :150μmCross-sectional shape of roll intaglio plate surface: trapezoid with separated vertical cross-section [see FIG. 9] Horizontal cross-section is stripe-shaped Cell pitch P: 200 μm Cell groove width W: Upper bottom 180 μm, lower bottom 150 μm Cell depth D: 150 μm
【0034】電離放射線硬化性樹脂組成物 ペンタエリスリトールトリアクリレート 90重量部 ウレタンアクリレートオリゴマー 10重量部 Ionizing radiation-curable resin composition pentaerythritol triacrylate 90 parts by weight Urethane acrylate oligomer 10 parts by weight
【0035】照射条件 カーテンビーム型電子線照射装置にて10Mradの電
子線を照射 Irradiation conditions Irradiate an electron beam of 10 Mrad with a curtain beam type electron beam irradiation device.
【0036】次に、低融点ガラスフリット、耐熱顔料等
を有機バインダー中に分散させたガラスペーストを、ガ
ラス基板上に100μmの膜厚にブレードコート法によ
り塗布した後、ガラス基板上の塗布されたガラスペース
トの上から上記で得た賦形シートを圧接し、その後、賦
形シートをガラス基板から剥離し、成形されたガラスペ
ーストをガラス基板上に形成した。次いで、セル障壁形
状で転写されたガラスペーストが施されたガラス基板
を、ピーク温度585℃、加熱時間15分の条件で焼成
し、PDPガラス基板にセル障壁を形成した。Next, a glass paste prepared by dispersing a low-melting-point glass frit, a heat-resistant pigment and the like in an organic binder was applied on a glass substrate by a blade coating method to a film thickness of 100 μm, and then applied on the glass substrate. The shape-imparting sheet obtained above was pressed onto the glass paste, and then the shape-imparting sheet was peeled from the glass substrate to form the molded glass paste on the glass substrate. Next, the glass substrate on which the glass paste transferred in the cell barrier shape was applied was fired under conditions of a peak temperature of 585 ° C. and a heating time of 15 minutes to form a cell barrier on the PDP glass substrate.
【0037】《実施例2》実施例1において、賦形シー
トの製造に関する、ロール凹版、電離放射線硬化性樹脂
組成物、照射条件を下記とした以外は、実施例1と同様
にして、セル障壁をガラス基板上に形成した。Example 2 A cell barrier was prepared in the same manner as in Example 1 except that the roll intaglio, the ionizing radiation-curable resin composition, and the irradiation conditions for producing the shaped sheet were changed as follows. Was formed on a glass substrate.
【0038】ロール凹版 版面の断面形状:縦断面は分離した台形 〔図10参照〕 水平断面は正方形 セルピッチP :500μm セル溝幅W :上底450μm,下底100μm セル深さD :150μmCross-sectional shape of roll intaglio plate : trapezoid with separated vertical section [see FIG. 10] Horizontal section is square Cell pitch P: 500 μm Cell groove width W: Upper bottom 450 μm, lower bottom 100 μm Cell depth D: 150 μm
【0039】電離放射線硬化性樹脂組成物 ペンタエリスリトールトリアクリレート 90重量部 ウレタンアクリレートオリゴマー 10重量部 2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン (メルク社製、ダロキュア1173) 0.7重量部 Ionizing radiation curable resin composition pentaerythritol triacrylate 90 parts by weight Urethane acrylate oligomer 10 parts by weight 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one (Merck & Co., Darocur 1173) 0.7 Parts by weight
【0040】照射条件 オゾン有りの高圧水銀灯、160W/cm×2灯 Irradiation conditions High pressure mercury lamp with ozone, 160 W / cm x 2 lamps
【0041】[0041]
【発明の効果】以上詳述した如く本発明のセル障壁製造
方法によれば、精度が良く、任意の形状のセル障壁を、
一回のパターンニング処理により、簡便、迅速に且つ安
定して製造できる。しかも、セル障壁の形状が直方体以
外の例えば台形形状等も可能となり、PDPの前面板側
のセル障壁面の面積を小さくでき、PDPの高精細化も
容易となる。As described above in detail, according to the cell barrier manufacturing method of the present invention, a cell barrier having a high precision and an arbitrary shape can be formed.
A single patterning process enables simple, rapid, and stable manufacture. Moreover, the shape of the cell barrier can be a trapezoidal shape other than the rectangular parallelepiped shape, the area of the cell barrier surface on the front plate side of the PDP can be reduced, and high definition of the PDP is facilitated.
【図1】(a)は塗布工程を、(b)は成形工程前半、
(c)は後半を示す概念図。1A is a coating process, FIG. 1B is a first half of a molding process,
(C) is a conceptual diagram showing the latter half.
【図2】ロール凹版、賦形シート、得られるセル障壁形
状の一例と関係を示す断面図。FIG. 2 is a cross-sectional view showing an example of the relationship between an intaglio roll, a shaping sheet, and an obtained cell barrier shape.
【図3】賦形シート製造工程で使用する製造装置の一例
を示す概念図。FIG. 3 is a conceptual diagram showing an example of a manufacturing apparatus used in a shaped sheet manufacturing process.
【図4】賦形シートと、対応するセル障壁の形状(断面
が分離した台形)の一例を示す断面図。FIG. 4 is a cross-sectional view showing an example of a shape sheet and a shape of a corresponding cell barrier (a trapezoid whose cross section is separated).
【図5】セル障壁を持つ背面板と前面板とを封着してパ
ネルとした断面の概念図。FIG. 5 is a conceptual diagram of a cross section in which a back plate having a cell barrier and a front plate are sealed to form a panel.
【図6】セル障壁の形状(断面が分離した三角形)と対
応する賦形シートの他の一例を示す断面図。FIG. 6 is a cross-sectional view showing another example of the shaped sheet corresponding to the shape of the cell barrier (triangular shape whose cross section is separated).
【図7】セル障壁の形状(断面が分離した長方形)と対
応する賦形シートの他の一例を示す断面図。FIG. 7 is a cross-sectional view showing another example of the shaped sheet corresponding to the shape of the cell barrier (rectangular shape whose cross section is separated).
【図8】セル障壁の形状(断面が分離した凸曲線)と対
応する賦形シートの他の一例を示す断面図。FIG. 8 is a cross-sectional view showing another example of the shaped sheet corresponding to the shape of the cell barrier (convex curve with separated cross section).
【図9】ロール凹版の版凹部形状の一例を示す断面図及
び斜視図。9A and 9B are a sectional view and a perspective view showing an example of a plate recess shape of a roll intaglio plate.
【図10】ロール凹版の版凹部形状の他の一例を示す断
面図及び斜視図。FIG. 10 is a cross-sectional view and a perspective view showing another example of the plate recess shape of the roll intaglio plate.
【図11】塗布工程の他の方法を示す概念図。FIG. 11 is a conceptual diagram showing another method of the coating step.
1 セル障壁 2 賦形シート 21 フィルム基材 22 電離放射線硬化性樹脂層 23 シート凹部 3 電離放射線硬化性樹脂 4 ロール凹版 41 版凹部 51 押し圧ロール 52 剥離ロール 6 塗工装置 7 電離放射線照射装置 8 ガラスペースト 9 ブレード 10 ガラス基板 1 Cell Barrier 2 Shaped Sheet 21 Film Substrate 22 Ionizing Radiation Curable Resin Layer 23 Sheet Recess 3 Ionizing Radiation Curable Resin 4 Roll Intaglio 41 Plate Recess 51 Pressing Roll 52 Peeling Roll 6 Coating Device 7 Ionizing Radiation Irradiation Device 8 Glass paste 9 Blade 10 Glass substrate
Claims (1)
セル障壁を備えた背面板とを互いに平行に対向するよう
に配設してなるプラズマディスプレイパネルのセル障壁
を製造する方法において、次の(A) 〜(D) よりなること
を特徴とするプラズマディスプレイパネルのセル障壁製
造方法。 (A) セル障壁部の形状に対応した版凹部を有するロール
凹版を使用し、該ロール凹版の少なくとも版凹部に電離
放射線硬化性樹脂を充填すると共に、フィルム基材をロ
ール凹版に接触させ、接触している間に電離放射線を照
射してフィルム基材とロール凹版間に介在する電離放射
線硬化性樹脂を硬化させて電離放射線硬化性樹脂層とし
た後、フィルム基材に固着した電離放射線硬化性樹脂層
をフィルム基材と共に版凹部から剥離して、セル障壁部
と逆凹凸形状のシート凹部を有する賦形シートを得る賦
形シート製造工程。 (B) ガラス基板表面にガラスペーストを塗布する塗布工
程。 (C) ガラスペーストが塗布されたガラス基板に賦形シー
トを圧接した後、賦形シートを剥離して、ガラス基板表
面上のガラスペーストをセル障壁形状に成形する成形工
程。 (D) 成形されたガラスペーストを焼成する焼成工程。1. A method of manufacturing a cell barrier of a plasma display panel, comprising a front plate and a back plate having cell barriers forming a plurality of discharge spaces, which are arranged so as to face each other in parallel. A method of manufacturing a cell barrier for a plasma display panel, comprising the following steps (A) to (D): (A) using a roll intaglio having a plate indentation corresponding to the shape of the cell barrier portion, at least the plate indentation of the roll intaglio is filled with an ionizing radiation curable resin, the film substrate is contacted with the roll intaglio, contact The ionizing radiation curable resin that is present between the film base material and the roll intaglio is cured to form an ionizing radiation curable resin layer while A step of manufacturing a shaped sheet, in which a resin layer is peeled off together with a film base material from a plate concave portion to obtain a shaped sheet having a cell concave portion and a concave portion of a sheet having an uneven shape. (B) A coating step of coating the glass paste on the surface of the glass substrate. (C) A molding step in which the shaping sheet is pressed against the glass substrate coated with the glass paste, the shaping sheet is peeled off, and the glass paste on the surface of the glass substrate is shaped into a cell barrier shape. (D) A firing step of firing the formed glass paste.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9594295A JP3591910B2 (en) | 1995-03-30 | 1995-03-30 | Manufacturing method of cell barrier for plasma display panel |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9594295A JP3591910B2 (en) | 1995-03-30 | 1995-03-30 | Manufacturing method of cell barrier for plasma display panel |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08273538A true JPH08273538A (en) | 1996-10-18 |
JP3591910B2 JP3591910B2 (en) | 2004-11-24 |
Family
ID=14151327
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9594295A Expired - Fee Related JP3591910B2 (en) | 1995-03-30 | 1995-03-30 | Manufacturing method of cell barrier for plasma display panel |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3591910B2 (en) |
Cited By (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0802170A2 (en) * | 1996-04-16 | 1997-10-22 | Corning Incorporated | Method and apparatus for forming glass rib structures |
EP0837486A2 (en) * | 1996-10-21 | 1998-04-22 | Hitachi, Ltd. | Gas discharge type display panel, manufacturing method for gas discharge type display panel, and displaying arrangement using gas discharge type display panel |
EP0875915A2 (en) * | 1997-04-30 | 1998-11-04 | Kyocera Corporation | Method for manufacturing flat plate with precise bulkhead, flat plate with precise bulkhead, method for manufacturing plasma display unit substrate and plasma display unit substrate |
EP0878019A1 (en) * | 1996-01-30 | 1998-11-18 | Sarnoff Corporation | Plasma display and method of making same |
FR2763741A1 (en) * | 1997-05-22 | 1998-11-27 | Samsung Display Devices Co Ltd | Cover manufacture method for plasma display mechanism |
FR2764438A1 (en) * | 1997-06-10 | 1998-12-11 | Thomson Tubes Electroniques | METHOD FOR PRODUCING A DIELECTRIC LAYER COMPRISING RELIEF PATTERNS ON A PLASMA PANEL TILE |
KR19990012635A (en) * | 1997-07-30 | 1999-02-25 | 엄길용 | Manufacturing Method of Plasma Display Device |
US6039619A (en) * | 1997-05-22 | 2000-03-21 | Samsung Display Devices Co., Ltd. | Method and apparatus for manufacturing partition wall of plasma display device |
KR20030017246A (en) * | 2001-08-24 | 2003-03-03 | 주식회사 유피디 | Fabrication method of soft mold for barrier rib in plasma display panel and method of forming barrier rib using the soft mold |
KR100406783B1 (en) * | 1997-04-08 | 2004-01-24 | 삼성에스디아이 주식회사 | Barrier rib manufacturing method and apparatus of a plasma display panel |
WO2004010452A2 (en) * | 2002-07-17 | 2004-01-29 | 3M Innovative Properties Company | Flexible mold and method of manufacturing microstructure using same |
KR100418866B1 (en) * | 1997-07-05 | 2004-06-12 | 오리온전기 주식회사 | Method for forming function layer of flat plate device |
US6821178B2 (en) * | 2000-06-08 | 2004-11-23 | 3M Innovative Properties Company | Method of producing barrier ribs for plasma display panel substrates |
WO2005021260A1 (en) * | 2003-08-22 | 2005-03-10 | 3M Innovative Properties Company | Flexible mold, production method thereof and production method of fine structures |
KR100488294B1 (en) * | 1997-11-29 | 2005-07-29 | 오리온전기 주식회사 | Bulkhead Forming Device for Plasma Display Device |
KR100624829B1 (en) * | 2001-09-27 | 2006-09-18 | 미츠비시 마테리알 가부시키가이샤 | Blade for forming ribs its production method |
JP2007513467A (en) * | 2003-10-31 | 2007-05-24 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | Method for forming microstructure group on substrate and microstructure assembly used in the method |
US7361409B2 (en) | 2003-08-22 | 2008-04-22 | 3M Innovative Properties Company | Microstructured article comprising a polymerized composition having low glass transition temperature |
CN100440034C (en) * | 2001-05-14 | 2008-12-03 | 大日本印刷株式会社 | Thin board for projection screen, light diffusion thin board and projection screen |
US7478791B2 (en) | 2005-04-15 | 2009-01-20 | 3M Innovative Properties Company | Flexible mold comprising cured polymerizable resin composition |
US7943206B2 (en) | 2005-02-17 | 2011-05-17 | 3M Innovative Properties Company | Brightness enhancement film comprising polymerized organic phase having low glass transition temperature |
CN106129269A (en) * | 2016-06-24 | 2016-11-16 | 京东方科技集团股份有限公司 | A kind of preparation method of flexible display substrates |
-
1995
- 1995-03-30 JP JP9594295A patent/JP3591910B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (34)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0878019A1 (en) * | 1996-01-30 | 1998-11-18 | Sarnoff Corporation | Plasma display and method of making same |
EP0878019A4 (en) * | 1996-01-30 | 2000-01-05 | Sarnoff Corp | Plasma display and method of making same |
EP0802170A3 (en) * | 1996-04-16 | 1997-11-05 | Corning Incorporated | Method and apparatus for forming glass rib structures |
EP0802170A2 (en) * | 1996-04-16 | 1997-10-22 | Corning Incorporated | Method and apparatus for forming glass rib structures |
WO1998018146A1 (en) * | 1996-10-21 | 1998-04-30 | Hitachi, Ltd. | Gas-discharge display panel, method for manufacturing the same, and display device using the same |
EP0837486A3 (en) * | 1996-10-21 | 1998-11-25 | Hitachi, Ltd. | Gas discharge type display panel, manufacturing method for gas discharge type display panel, and displaying arrangement using gas discharge type display panel |
US6199404B1 (en) | 1996-10-21 | 2001-03-13 | Hitachi, Ltd. | Manufacturing method for gas discharge type display panel |
EP0837486A2 (en) * | 1996-10-21 | 1998-04-22 | Hitachi, Ltd. | Gas discharge type display panel, manufacturing method for gas discharge type display panel, and displaying arrangement using gas discharge type display panel |
KR100406783B1 (en) * | 1997-04-08 | 2004-01-24 | 삼성에스디아이 주식회사 | Barrier rib manufacturing method and apparatus of a plasma display panel |
EP0875915A2 (en) * | 1997-04-30 | 1998-11-04 | Kyocera Corporation | Method for manufacturing flat plate with precise bulkhead, flat plate with precise bulkhead, method for manufacturing plasma display unit substrate and plasma display unit substrate |
EP0875915A3 (en) * | 1997-04-30 | 1999-06-16 | Kyocera Corporation | Method for manufacturing flat plate with precise bulkhead, flat plate with precise bulkhead, method for manufacturing plasma display unit substrate and plasma display unit substrate |
FR2763741A1 (en) * | 1997-05-22 | 1998-11-27 | Samsung Display Devices Co Ltd | Cover manufacture method for plasma display mechanism |
US6039619A (en) * | 1997-05-22 | 2000-03-21 | Samsung Display Devices Co., Ltd. | Method and apparatus for manufacturing partition wall of plasma display device |
US6477863B1 (en) | 1997-06-10 | 2002-11-12 | Thomson Multimedia | Method for producing a dielectric coating comprising embossed patterns on a plasma panel faceplate |
WO1998057348A1 (en) * | 1997-06-10 | 1998-12-17 | Thomson Tubes Electroniques | Method for producing a dielectric coating comprising embossed patterns on a plasma panel faceplate |
FR2764438A1 (en) * | 1997-06-10 | 1998-12-11 | Thomson Tubes Electroniques | METHOD FOR PRODUCING A DIELECTRIC LAYER COMPRISING RELIEF PATTERNS ON A PLASMA PANEL TILE |
KR100418866B1 (en) * | 1997-07-05 | 2004-06-12 | 오리온전기 주식회사 | Method for forming function layer of flat plate device |
KR19990012635A (en) * | 1997-07-30 | 1999-02-25 | 엄길용 | Manufacturing Method of Plasma Display Device |
KR100488294B1 (en) * | 1997-11-29 | 2005-07-29 | 오리온전기 주식회사 | Bulkhead Forming Device for Plasma Display Device |
US6821178B2 (en) * | 2000-06-08 | 2004-11-23 | 3M Innovative Properties Company | Method of producing barrier ribs for plasma display panel substrates |
CN100440034C (en) * | 2001-05-14 | 2008-12-03 | 大日本印刷株式会社 | Thin board for projection screen, light diffusion thin board and projection screen |
KR20030017246A (en) * | 2001-08-24 | 2003-03-03 | 주식회사 유피디 | Fabrication method of soft mold for barrier rib in plasma display panel and method of forming barrier rib using the soft mold |
KR100624829B1 (en) * | 2001-09-27 | 2006-09-18 | 미츠비시 마테리알 가부시키가이샤 | Blade for forming ribs its production method |
WO2004010452A3 (en) * | 2002-07-17 | 2004-06-10 | 3M Innovative Properties Co | Flexible mold and method of manufacturing microstructure using same |
WO2004010452A2 (en) * | 2002-07-17 | 2004-01-29 | 3M Innovative Properties Company | Flexible mold and method of manufacturing microstructure using same |
KR100951278B1 (en) * | 2002-07-17 | 2010-04-02 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 | Flexible Mold and Method of Manufacturing Microstructure Using Same |
WO2005021260A1 (en) * | 2003-08-22 | 2005-03-10 | 3M Innovative Properties Company | Flexible mold, production method thereof and production method of fine structures |
JP2007503338A (en) * | 2003-08-22 | 2007-02-22 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | Flexible mold, method for producing the same, and method for producing fine structure |
US7361409B2 (en) | 2003-08-22 | 2008-04-22 | 3M Innovative Properties Company | Microstructured article comprising a polymerized composition having low glass transition temperature |
JP2007513467A (en) * | 2003-10-31 | 2007-05-24 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | Method for forming microstructure group on substrate and microstructure assembly used in the method |
US7943206B2 (en) | 2005-02-17 | 2011-05-17 | 3M Innovative Properties Company | Brightness enhancement film comprising polymerized organic phase having low glass transition temperature |
US7478791B2 (en) | 2005-04-15 | 2009-01-20 | 3M Innovative Properties Company | Flexible mold comprising cured polymerizable resin composition |
CN106129269A (en) * | 2016-06-24 | 2016-11-16 | 京东方科技集团股份有限公司 | A kind of preparation method of flexible display substrates |
CN106129269B (en) * | 2016-06-24 | 2019-01-29 | 京东方科技集团股份有限公司 | A kind of preparation method of flexible display substrates |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3591910B2 (en) | 2004-11-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH08273538A (en) | Manufacture of cell barrier for plasma display panel | |
JPH08273537A (en) | Manufacture of cell barrier for plasma display panel | |
US7478791B2 (en) | Flexible mold comprising cured polymerizable resin composition | |
US7033534B2 (en) | Method for forming microstructures on a substrate using a mold | |
US20090008529A1 (en) | Flexible Mold and Methods | |
CA2492126A1 (en) | Flexible mold and method of manufacturing microstructure using the same | |
US6482575B2 (en) | Method of preparing barrier rib master pattern for barrier rib transfer and method of forming barrier ribs | |
EP0837486A2 (en) | Gas discharge type display panel, manufacturing method for gas discharge type display panel, and displaying arrangement using gas discharge type display panel | |
JP2007503338A (en) | Flexible mold, method for producing the same, and method for producing fine structure | |
US7018771B2 (en) | Material transfer method and manufacturing method for substrate for plasma display | |
JP2009210834A (en) | Light beam control member and method of manufacturing the same | |
JP3440352B2 (en) | Plasma display panel | |
JP3591920B2 (en) | Manufacturing method of cell barrier for plasma display panel | |
US7722789B2 (en) | Defoaming method, defoaming device and manufacturing method of transfer mold | |
JP2005149807A (en) | Manufacturing method of base plate for image display panel | |
JP2004160843A (en) | Flexible mold for molding, method for manufacturing it, and method for manufacturing fine structural body | |
KR100653811B1 (en) | Molding material transfer method and substrate structure | |
JP3690443B2 (en) | Plasma display panel | |
JP5324553B2 (en) | Flexible mold | |
JPH08276445A (en) | Manufacture of high design plastic molding | |
JP2001118513A (en) | Plasma display panel | |
KR100583227B1 (en) | Manufacturing method of multi-layer light guide panel for LCD | |
JPH0241242A (en) | Mold releasable sheet with shaping property and manufacture thereof | |
KR100813847B1 (en) | The manufacturing method of the barrier rib for the plasma display panel and the lower panel for the plasma display panel having the same | |
JPH10321144A (en) | Plasma display panel |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040302 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20040420 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040422 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040609 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040702 |
|
A911 | Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20040810 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20040824 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20040824 |
|
R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080903 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 5 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090903 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090903 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100903 Year of fee payment: 6 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |