JPH0827104A - ヒドロペルオキシド混合物の処理方法 - Google Patents
ヒドロペルオキシド混合物の処理方法Info
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- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C37/00—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
- C07C37/08—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring by decomposition of hydroperoxides, e.g. cumene hydroperoxide
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- C07C407/00—Preparation of peroxy compounds
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- C07C409/02—Peroxy compounds the —O—O— group being bound between a carbon atom, not further substituted by oxygen atoms, and hydrogen, i.e. hydroperoxides
- C07C409/04—Peroxy compounds the —O—O— group being bound between a carbon atom, not further substituted by oxygen atoms, and hydrogen, i.e. hydroperoxides the carbon atom being acyclic
- C07C409/08—Compounds containing six-membered aromatic rings
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- C07C2601/08—Systems containing only non-condensed rings with a five-membered ring the ring being saturated
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 芳香族１級ヒドロペルオキシド類と芳香族３
級ヒドロペルオキシド類を含有するヒドロペルオキシド
混合物を処理して、芳香族１級ヒドロペルオキシド類の
含有率を選択的に減少せしめる方法を提供する。 【構成】 芳香族１級ヒドロペルオキシド類および芳香
族３級ヒドロペルオキシド類を含有するヒドロペルオキ
シド混合物を、アルカリ及び芳香族有機カルボン酸塩の
共存下で処理することを特徴とするヒドロペルオキシド
混合物の処理方法。
級ヒドロペルオキシド類を含有するヒドロペルオキシド
混合物を処理して、芳香族１級ヒドロペルオキシド類の
含有率を選択的に減少せしめる方法を提供する。 【構成】 芳香族１級ヒドロペルオキシド類および芳香
族３級ヒドロペルオキシド類を含有するヒドロペルオキ
シド混合物を、アルカリ及び芳香族有機カルボン酸塩の
共存下で処理することを特徴とするヒドロペルオキシド
混合物の処理方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、芳香族１級ヒドロペル
オキシド類と芳香族３級ヒドロペルオキシド類を含有す
るヒドロペルオキシド混合物を処理して、芳香族１級ヒ
ドロペルオキシド類の含有率を選択的に減少せしめる方
法に関するものである。
オキシド類と芳香族３級ヒドロペルオキシド類を含有す
るヒドロペルオキシド混合物を処理して、芳香族１級ヒ
ドロペルオキシド類の含有率を選択的に減少せしめる方
法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】アルキ
ル芳香族化合物の酸化によって得られるヒドロペルオキ
シド類を酸分解してフェノ−ル類を製造する方法は、フ
ェノ−ル、クレゾ−ル、ヒドロキノン、レゾルシン等の
工業的製法として有用な方法であり、このようなヒドロ
ペルオキシド類はまた、ペルオキシドや芳香族アルコ−
ルの製造原料としても有用である。そして、アルキル芳
香族化合物が２種以上のアルキル基を有している場合に
は、アルキル基のそれぞれがヒドロペルオキシド化され
て、２種以上のヒドロペルオキシドの混合物が得られる
ことが多く、この混合物をそのままフェノ−ル等の製造
原料として用いると、希望しない化合物が生成してしま
ったり、反応に悪影響が生じてしまう。例えば、シメン
の液相酸化においては、メチル基の酸化された芳香族１
級ヒドロペルオキシド類とイソプロピル基の酸化された
芳香族３級ヒドロペルオキシド類の混合物が生成し、こ
の混合物を酸分解させると芳香族３級ヒドロペルオキシ
ド類からはクレゾールとアセトンが、また芳香族１級ヒ
ドロペルオキシド類からはイソプロピルフェノールとホ
ルムアルデヒドが生成する。そして、芳香族１級ヒドロ
ペルオキシド類から生成したホルムアルデヒドは、酸分
解条件下でクレゾールと反応して樹脂状物質を形成し、
芳香族３級ヒドロペルオキシド類からのクレゾール収率
を著しく低下せしめてしまう。このため、酸分解に先立
って芳香族１級ヒドロペルオキシド類を、選択的に減少
させる方法が種々検討されている。
ル芳香族化合物の酸化によって得られるヒドロペルオキ
シド類を酸分解してフェノ−ル類を製造する方法は、フ
ェノ−ル、クレゾ−ル、ヒドロキノン、レゾルシン等の
工業的製法として有用な方法であり、このようなヒドロ
ペルオキシド類はまた、ペルオキシドや芳香族アルコ−
ルの製造原料としても有用である。そして、アルキル芳
香族化合物が２種以上のアルキル基を有している場合に
は、アルキル基のそれぞれがヒドロペルオキシド化され
て、２種以上のヒドロペルオキシドの混合物が得られる
ことが多く、この混合物をそのままフェノ−ル等の製造
原料として用いると、希望しない化合物が生成してしま
ったり、反応に悪影響が生じてしまう。例えば、シメン
の液相酸化においては、メチル基の酸化された芳香族１
級ヒドロペルオキシド類とイソプロピル基の酸化された
芳香族３級ヒドロペルオキシド類の混合物が生成し、こ
の混合物を酸分解させると芳香族３級ヒドロペルオキシ
ド類からはクレゾールとアセトンが、また芳香族１級ヒ
ドロペルオキシド類からはイソプロピルフェノールとホ
ルムアルデヒドが生成する。そして、芳香族１級ヒドロ
ペルオキシド類から生成したホルムアルデヒドは、酸分
解条件下でクレゾールと反応して樹脂状物質を形成し、
芳香族３級ヒドロペルオキシド類からのクレゾール収率
を著しく低下せしめてしまう。このため、酸分解に先立
って芳香族１級ヒドロペルオキシド類を、選択的に減少
させる方法が種々検討されている。
【０００３】そして、ヒドロペルオキシド混合物中の芳
香族１級ヒドロペルオキシド類を選択的に減少させる優
れた方法として、 ・アルカリ及び ・有機第４級アンモニウム塩又は水酸化有機第４級アン
モニウム の存在下、ヒドロペルオキシド混合物を処理する方法が
知られている（特開昭６３−３５５５８号公報参照）。
香族１級ヒドロペルオキシド類を選択的に減少させる優
れた方法として、 ・アルカリ及び ・有機第４級アンモニウム塩又は水酸化有機第４級アン
モニウム の存在下、ヒドロペルオキシド混合物を処理する方法が
知られている（特開昭６３−３５５５８号公報参照）。
【０００４】しかしながら、この方法は、芳香族１級ヒ
ドロペルオキシド類の含有率を選択的に減少させること
ができる点では優れているが、 ・有機第４級アンモニウム塩のアニオン残基が、製造装
置の金属材料に悪影響を及ぼす場合があり、また、 ・アンモニウム化合物は処理の過程において最終的に、
分離が困難なアミン化合物となって処理後の混合物に含
まれてしまう という問題を有している。このため、このような問題な
く工業的に容易にヒドロペルオキシド混合物中の芳香族
１級ヒドロペルオキシド類を選択的に減少させることの
できる方法の開発が望まれる。
ドロペルオキシド類の含有率を選択的に減少させること
ができる点では優れているが、 ・有機第４級アンモニウム塩のアニオン残基が、製造装
置の金属材料に悪影響を及ぼす場合があり、また、 ・アンモニウム化合物は処理の過程において最終的に、
分離が困難なアミン化合物となって処理後の混合物に含
まれてしまう という問題を有している。このため、このような問題な
く工業的に容易にヒドロペルオキシド混合物中の芳香族
１級ヒドロペルオキシド類を選択的に減少させることの
できる方法の開発が望まれる。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、かかる課
題について鋭意検討した結果、本発明に到達した。即ち
本発明は、芳香族１級ヒドロペルオキシド類および芳香
族３級ヒドロペルオキシド類を含有するヒドロペルオキ
シド混合物を、アルカリ及び芳香族有機カルボン酸塩の
共存下で処理することを特徴とするヒドロペルオキシド
混合物の処理方法に関するものである。
題について鋭意検討した結果、本発明に到達した。即ち
本発明は、芳香族１級ヒドロペルオキシド類および芳香
族３級ヒドロペルオキシド類を含有するヒドロペルオキ
シド混合物を、アルカリ及び芳香族有機カルボン酸塩の
共存下で処理することを特徴とするヒドロペルオキシド
混合物の処理方法に関するものである。
【０００６】以下、本発明を詳細に説明する。芳香族１
級ヒドロペルオキシド類は特に限定されるものではな
く、例えば、 （式中、Ａｒは芳香族基であり、Ｒ1 、Ｒ2 はそれぞれ
独立に低級アルキル基であり、互いに結合して環を形成
していることがあり、ｍ、ｎはそれぞれ独立に１又２で
ある。）で示される化合物の１種以上が挙げられる。
級ヒドロペルオキシド類は特に限定されるものではな
く、例えば、 （式中、Ａｒは芳香族基であり、Ｒ1 、Ｒ2 はそれぞれ
独立に低級アルキル基であり、互いに結合して環を形成
していることがあり、ｍ、ｎはそれぞれ独立に１又２で
ある。）で示される化合物の１種以上が挙げられる。
【０００７】芳香族１級ヒドロペルオキシド類として
は、例えば、以下の化合物が挙げられる。
は、例えば、以下の化合物が挙げられる。
【０００８】
【０００９】芳香族３級ヒドロペルオキシド類は特に限
定されるものではなく、例えば、 （式中、Ａｒ' は芳香族基であり、Ｒ1'、Ｒ2' はそれ
ぞれ独立に低級アルキル基であり、互いに結合して環を
形成していることがあり、ｍ' ｎ' はそれぞれ独立に１
又２である。）で示される化合物の１種以上が挙げられ
る。芳香族３級ヒドロペルオキシド類としては、例え
ば、以下の化合物が挙げられる。
定されるものではなく、例えば、 （式中、Ａｒ' は芳香族基であり、Ｒ1'、Ｒ2' はそれ
ぞれ独立に低級アルキル基であり、互いに結合して環を
形成していることがあり、ｍ' ｎ' はそれぞれ独立に１
又２である。）で示される化合物の１種以上が挙げられ
る。芳香族３級ヒドロペルオキシド類としては、例え
ば、以下の化合物が挙げられる。
【００１０】
【００１１】ヒドロペルオキシド混合物における、芳香
族１級ヒドロペルオキシド類と芳香族３級ヒドロペルオ
キシド類の割合は特に限定されるものではないが、芳香
族１級ヒドロペルオキシド類と芳香族３級ヒドロペルオ
キシド類の合計を１００重量部とする時、例えば、芳香
族１級ヒドロペルオキシド類１〜３０重量部に対し芳香
族３級ヒドロペルオキシド類９９〜７０重量部であり、
好ましくは、芳香族１級ヒドロペルオキシド類２〜２５
重量部に対し芳香族３級ヒドロペルオキシド類９８〜７
５重量部である。
族１級ヒドロペルオキシド類と芳香族３級ヒドロペルオ
キシド類の割合は特に限定されるものではないが、芳香
族１級ヒドロペルオキシド類と芳香族３級ヒドロペルオ
キシド類の合計を１００重量部とする時、例えば、芳香
族１級ヒドロペルオキシド類１〜３０重量部に対し芳香
族３級ヒドロペルオキシド類９９〜７０重量部であり、
好ましくは、芳香族１級ヒドロペルオキシド類２〜２５
重量部に対し芳香族３級ヒドロペルオキシド類９８〜７
５重量部である。
【００１２】ヒドロペルオキシド混合物は、有機溶媒で
希釈されていてもよい。有機溶媒としては、例えば、ベ
ンゼン、トルエン、エチルベンゼン、クメン、キシレ
ン、シメン、ジイソプロピルベンゼン等の炭化水素類、
アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン等のケトン類の一種以上が挙げられる。有機溶媒の量
は特に限定されないが、例えば、芳香族１級ヒドロペル
オキシド類、芳香族３級ヒドロペルオキシド類及び有機
溶媒の合計を１００重量部とする時、芳香族１級ヒドロ
ペルオキシド類と芳香族３級ヒドロペルオキシド類の合
計量１〜９５重量部に対し、有機溶媒９９〜５重量部で
あり、好ましくは芳香族１級ヒドロペルオキシド類と芳
香族３級ヒドロペルオキシド類の合計量５〜３０重量部
に対し、有機溶媒９５〜７０重量部である。
希釈されていてもよい。有機溶媒としては、例えば、ベ
ンゼン、トルエン、エチルベンゼン、クメン、キシレ
ン、シメン、ジイソプロピルベンゼン等の炭化水素類、
アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン等のケトン類の一種以上が挙げられる。有機溶媒の量
は特に限定されないが、例えば、芳香族１級ヒドロペル
オキシド類、芳香族３級ヒドロペルオキシド類及び有機
溶媒の合計を１００重量部とする時、芳香族１級ヒドロ
ペルオキシド類と芳香族３級ヒドロペルオキシド類の合
計量１〜９５重量部に対し、有機溶媒９９〜５重量部で
あり、好ましくは芳香族１級ヒドロペルオキシド類と芳
香族３級ヒドロペルオキシド類の合計量５〜３０重量部
に対し、有機溶媒９５〜７０重量部である。
【００１３】ヒドロペルオキシド混合物としては、例え
ば、メチル基とイソプロピル基を置換基として有する芳
香族化合物類を液相において、酸素または酸素含有ガス
により酸化して得られる反応混合物やその濃縮物が挙げ
られる。酸化は、非水状態で行ってもアルカリ水溶液の
存在下で行ってもよい。
ば、メチル基とイソプロピル基を置換基として有する芳
香族化合物類を液相において、酸素または酸素含有ガス
により酸化して得られる反応混合物やその濃縮物が挙げ
られる。酸化は、非水状態で行ってもアルカリ水溶液の
存在下で行ってもよい。
【００１４】メチル基とイソプロピル基を置換基として
有する芳香族化合物類としては、例えば、ｍ−シメン、
ｐ−シメン、ｏ−シメン、２，４−ジメチルイソプロピ
ルベンゼン、３，５−ジメチルイソプロピルベンゼン、
１−メチル−７−イソプロピルナフタリン等の一種以上
が挙げられる。
有する芳香族化合物類としては、例えば、ｍ−シメン、
ｐ−シメン、ｏ−シメン、２，４−ジメチルイソプロピ
ルベンゼン、３，５−ジメチルイソプロピルベンゼン、
１−メチル−７−イソプロピルナフタリン等の一種以上
が挙げられる。
【００１５】メチル基とイソプロピル基を置換基として
有する芳香族化合物類を、酸素または酸素含有ガスによ
り非水状態で酸化して得られる反応混合物に本発明の処
理を施す場合、酸化して得られた反応混合物は、低級脂
肪族カルボン酸を含有しているため、予め低級脂肪族カ
ルボン酸を中和してから用いるのが好ましい。
有する芳香族化合物類を、酸素または酸素含有ガスによ
り非水状態で酸化して得られる反応混合物に本発明の処
理を施す場合、酸化して得られた反応混合物は、低級脂
肪族カルボン酸を含有しているため、予め低級脂肪族カ
ルボン酸を中和してから用いるのが好ましい。
【００１６】本発明の原料として用いるヒドロペルオキ
シド混合物の好ましい例としては、例えば、シメンを液
相中非水状態で酸化して得られる、未反応シメンを有機
溶媒とする反応混合物が挙げられる。さらに好ましく
は、シメンを液相中非水状態で酸化後、低級脂肪族カル
ボン酸を中和して得られる、未反応シメンを有機溶媒と
する反応混合物が挙げられる。
シド混合物の好ましい例としては、例えば、シメンを液
相中非水状態で酸化して得られる、未反応シメンを有機
溶媒とする反応混合物が挙げられる。さらに好ましく
は、シメンを液相中非水状態で酸化後、低級脂肪族カル
ボン酸を中和して得られる、未反応シメンを有機溶媒と
する反応混合物が挙げられる。
【００１７】芳香族有機カルボン酸塩の種類は、特に限
定されないが、例えば、一般式〔３〕 （式中、Ａｒ''は置換基を有していてもよい芳香族基を
表し、Ｘは陽イオンを表す。ｍ''は１〜６の整数を表
す。）で示される化合物の１種以上が挙げられる。
定されないが、例えば、一般式〔３〕 （式中、Ａｒ''は置換基を有していてもよい芳香族基を
表し、Ｘは陽イオンを表す。ｍ''は１〜６の整数を表
す。）で示される化合物の１種以上が挙げられる。
【００１８】陽イオンとしては、例えば、リチウム、ナ
トリウム、カリウム等のアルカリ金属、ベリリウム、マ
グネシウム、カルシウム等のアルカリ土類金属等の金属
陽イオンが挙げられる。芳香族基としては、例えば、ベ
ンゼン、ナフタレン等が挙げられ、芳香族基は、１個以
上の置換基を有していてもよい。置換基としては、例え
ば、水酸基を有していてもよい低級アルキル基、水酸
基、アシル基等が挙げられる。
トリウム、カリウム等のアルカリ金属、ベリリウム、マ
グネシウム、カルシウム等のアルカリ土類金属等の金属
陽イオンが挙げられる。芳香族基としては、例えば、ベ
ンゼン、ナフタレン等が挙げられ、芳香族基は、１個以
上の置換基を有していてもよい。置換基としては、例え
ば、水酸基を有していてもよい低級アルキル基、水酸
基、アシル基等が挙げられる。
【００１９】一般式〔３〕で示される芳香族有機カルボ
ン酸塩の具体例としては、例えば、安息香酸ナトリウ
ム、トルイル酸ナトリウム、エチル−安息香酸ナトリウ
ム、ｎプロピル−安息香酸ナトリウム、イソプロピル−
安息香酸ナトリウム、ｎブチル−安息香酸ナトリウム、
ｓｅｃブチル−安息香酸ナトリウム、ｔｅｒｔブチル−
安息香酸ナトリウム、（１−ヒドロキシ−１−メチル）
エチル−安息香酸ナトリウム、ジメチル−安息香酸ナト
リウム、ジエチル−安息香酸ナトリウム、ジｎプロピル
−安息香酸ナトリウム、ジイソプロピル−安息香酸ナト
リウム、ジｎブチル−安息香酸ナトリウム、ジｓｅｃブ
チル−安息香酸ナトリウム、ジｔｅｒｔブチル−安息香
酸ナトリウム、ジ（１−ヒドロキシ−１−メチル）エチ
ル−安息香酸ナトリウム、エチル−メチル−安息香酸ナ
トリウム、メチル−ｎプロピル−安息香酸ナトリウム、
メチル−イソプロピル−安息香酸ナトリウム、ｎブチル
−メチル−安息香酸ナトリウム、ｓｅｃブチル−メチル
−安息香酸ナトリウム、ｔｅｒｔブチル−メチル−安息
香酸ナトリウム、（１−ヒドロキシ−１−メチル）エチ
ル−トルイル酸ナトリウム、（１−ヒドロキシ−１−メ
チル）エチル−エチル−安息香酸ナトリウム、（１−ヒ
ドロキシ−１−メチル）エチル−イソプロピル−安息香
酸ナトリウム、（１−ヒドロキシ−１−メチル）エチル
−ｎブチル−安息香酸ナトリウム、（１−ヒドロキシ−
１−メチル）エチル−ｓｅｃブチル−安息香酸ナトリウ
ム、（１−ヒドロキシ−１−メチル）エチル−ｔｅｒｔ
ブチル−安息香酸ナトリウム、フタル酸ナトリウム、メ
チル−フタル酸ナトリウム、エチル−フタル酸ナトリウ
ム、ｎプロピル−フタル酸ナトリウム、イソプロピル−
フタル酸ナトリウム、ｎブチル−フタル酸ナトリウム、
ｓｅｃブチル−フタル酸ナトリウム、ｔｅｒｔブチル−
フタル酸ナトリウム、（１−ヒドロキシ−１−メチル）
エチル−フタル酸ナトリウム、（１−ヒドロキシ−１−
メチル）エチル−メチル−フタル酸ナトリウム、（１−
ヒドロキシ−１−メチル）エチル−エチル−フタル酸ナ
トリウム、（１−ヒドロキシ−１−メチル）エチル−ｎ
プロピル−フタル酸ナトリウム、（１−ヒドロキシ−１
−メチル）エチル−イソプロピル−フタル酸ナトリウ
ム、（１−ヒドロキシ−１−メチル）エチル−ｎブチル
−フタル酸ナトリウム、（１−ヒドロキシ−１−メチ
ル）エチル−ｓｅｃブチル−フタル酸ナトリウム、（１
−ヒドロキシ−１−メチル）エチル−ｔｅｒｔブチル−
フタル酸ナトリウム、ベンゼントリカルボン酸ナトリウ
ム、メチル−ベンゼントリカルボン酸ナトリウム、エチ
ル−ベンゼントリカルボン酸ナトリウム、ｎプロピル−
ベンゼントリカルボン酸ナトリウム、イソプロピル−ベ
ンゼントリカルボン酸ナトリウム、ｎブチル−ベンゼン
トリカルボン酸ナトリウム、ｓｅｃブチル−ベンゼント
リカルボン酸ナトリウム、ｔｅｒｔブチル−ベンゼント
リカルボン酸ナトリウム、ベンゼンテトラカルボン酸ナ
トリウム、ヒドロキシ−安息香酸ナトリウム、メチル−
ヒドロキシ−安息香酸ナトリウム、エチル−ヒドロキシ
−安息香酸ナトリウム、ｎプロピル−ヒドロキシ−安息
香酸ナトリウム、イソプロピル−ヒドロキシ−安息香酸
ナトリウム、ｎブチル−ヒドロキシ−安息香酸ナトリウ
ム、ｓｅｃブチル−ヒドロキシ−安息香酸ナトリウム、
ｔｅｒｔブチル−ヒドロキシ−安息香酸ナトリウム、
（１−ヒドロキシ−１−メチル）エチル−ヒドロキシ−
安息香酸ナトリウム、アセチル−安息香酸ナトリウム、
アセチル−トルイル酸ナトリウム、アセチル−エチル−
安息香酸ナトリウム、アセチル−ｎプロピル−安息香酸
ナトリウム、アセチル−イソプロピル−安息香酸ナトリ
ウム、アセチル−ｎブチル−安息香酸ナトリウム、アセ
チル−ｓｅｃブチル−安息香酸ナトリウム、アセチル−
ｔｅｒｔブチル−安息香酸ナトリウム、アセチル−（１
−ヒドロキシ−１−メチル）エチル−安息香酸ナトリウ
ム、アセチル−フタル酸ナトリウム、アセチル−ベンゼ
ントリカルボン酸ナトリウム、アセチル−ベンゼンテト
ラカルボン酸ナトリウム、ナフタレンカルボン酸ナトリ
ウム、メチル−ナフタレンカルボン酸ナトリウム、エチ
ル−ナフタレンカルボン酸ナトリウム、ｎプロピル−ナ
フタレンカルボン酸ナトリウム、イソプロピル−ナフタ
レンカルボン酸ナトリウム、ｎブチル−ナフタレンカル
ボン酸ナトリウム、ｓｅｃブチル−ナフタレンカルボン
酸ナトリウム、ｔｅｒｔブチル−ナフタレンカルボン酸
ナトリウム、アセチル−ナフタレンカルボン酸ナトリウ
ム、（１−ヒドロキシ−１−メチル）エチル−ナフタレ
ンカルボン酸ナトリウム、およびこれらナトリウム塩に
対応するリチウム塩、カリウム塩等や、これらに対応す
る位置異性体等が挙げられる。
ン酸塩の具体例としては、例えば、安息香酸ナトリウ
ム、トルイル酸ナトリウム、エチル−安息香酸ナトリウ
ム、ｎプロピル−安息香酸ナトリウム、イソプロピル−
安息香酸ナトリウム、ｎブチル−安息香酸ナトリウム、
ｓｅｃブチル−安息香酸ナトリウム、ｔｅｒｔブチル−
安息香酸ナトリウム、（１−ヒドロキシ−１−メチル）
エチル−安息香酸ナトリウム、ジメチル−安息香酸ナト
リウム、ジエチル−安息香酸ナトリウム、ジｎプロピル
−安息香酸ナトリウム、ジイソプロピル−安息香酸ナト
リウム、ジｎブチル−安息香酸ナトリウム、ジｓｅｃブ
チル−安息香酸ナトリウム、ジｔｅｒｔブチル−安息香
酸ナトリウム、ジ（１−ヒドロキシ−１−メチル）エチ
ル−安息香酸ナトリウム、エチル−メチル−安息香酸ナ
トリウム、メチル−ｎプロピル−安息香酸ナトリウム、
メチル−イソプロピル−安息香酸ナトリウム、ｎブチル
−メチル−安息香酸ナトリウム、ｓｅｃブチル−メチル
−安息香酸ナトリウム、ｔｅｒｔブチル−メチル−安息
香酸ナトリウム、（１−ヒドロキシ−１−メチル）エチ
ル−トルイル酸ナトリウム、（１−ヒドロキシ−１−メ
チル）エチル−エチル−安息香酸ナトリウム、（１−ヒ
ドロキシ−１−メチル）エチル−イソプロピル−安息香
酸ナトリウム、（１−ヒドロキシ−１−メチル）エチル
−ｎブチル−安息香酸ナトリウム、（１−ヒドロキシ−
１−メチル）エチル−ｓｅｃブチル−安息香酸ナトリウ
ム、（１−ヒドロキシ−１−メチル）エチル−ｔｅｒｔ
ブチル−安息香酸ナトリウム、フタル酸ナトリウム、メ
チル−フタル酸ナトリウム、エチル−フタル酸ナトリウ
ム、ｎプロピル−フタル酸ナトリウム、イソプロピル−
フタル酸ナトリウム、ｎブチル−フタル酸ナトリウム、
ｓｅｃブチル−フタル酸ナトリウム、ｔｅｒｔブチル−
フタル酸ナトリウム、（１−ヒドロキシ−１−メチル）
エチル−フタル酸ナトリウム、（１−ヒドロキシ−１−
メチル）エチル−メチル−フタル酸ナトリウム、（１−
ヒドロキシ−１−メチル）エチル−エチル−フタル酸ナ
トリウム、（１−ヒドロキシ−１−メチル）エチル−ｎ
プロピル−フタル酸ナトリウム、（１−ヒドロキシ−１
−メチル）エチル−イソプロピル−フタル酸ナトリウ
ム、（１−ヒドロキシ−１−メチル）エチル−ｎブチル
−フタル酸ナトリウム、（１−ヒドロキシ−１−メチ
ル）エチル−ｓｅｃブチル−フタル酸ナトリウム、（１
−ヒドロキシ−１−メチル）エチル−ｔｅｒｔブチル−
フタル酸ナトリウム、ベンゼントリカルボン酸ナトリウ
ム、メチル−ベンゼントリカルボン酸ナトリウム、エチ
ル−ベンゼントリカルボン酸ナトリウム、ｎプロピル−
ベンゼントリカルボン酸ナトリウム、イソプロピル−ベ
ンゼントリカルボン酸ナトリウム、ｎブチル−ベンゼン
トリカルボン酸ナトリウム、ｓｅｃブチル−ベンゼント
リカルボン酸ナトリウム、ｔｅｒｔブチル−ベンゼント
リカルボン酸ナトリウム、ベンゼンテトラカルボン酸ナ
トリウム、ヒドロキシ−安息香酸ナトリウム、メチル−
ヒドロキシ−安息香酸ナトリウム、エチル−ヒドロキシ
−安息香酸ナトリウム、ｎプロピル−ヒドロキシ−安息
香酸ナトリウム、イソプロピル−ヒドロキシ−安息香酸
ナトリウム、ｎブチル−ヒドロキシ−安息香酸ナトリウ
ム、ｓｅｃブチル−ヒドロキシ−安息香酸ナトリウム、
ｔｅｒｔブチル−ヒドロキシ−安息香酸ナトリウム、
（１−ヒドロキシ−１−メチル）エチル−ヒドロキシ−
安息香酸ナトリウム、アセチル−安息香酸ナトリウム、
アセチル−トルイル酸ナトリウム、アセチル−エチル−
安息香酸ナトリウム、アセチル−ｎプロピル−安息香酸
ナトリウム、アセチル−イソプロピル−安息香酸ナトリ
ウム、アセチル−ｎブチル−安息香酸ナトリウム、アセ
チル−ｓｅｃブチル−安息香酸ナトリウム、アセチル−
ｔｅｒｔブチル−安息香酸ナトリウム、アセチル−（１
−ヒドロキシ−１−メチル）エチル−安息香酸ナトリウ
ム、アセチル−フタル酸ナトリウム、アセチル−ベンゼ
ントリカルボン酸ナトリウム、アセチル−ベンゼンテト
ラカルボン酸ナトリウム、ナフタレンカルボン酸ナトリ
ウム、メチル−ナフタレンカルボン酸ナトリウム、エチ
ル−ナフタレンカルボン酸ナトリウム、ｎプロピル−ナ
フタレンカルボン酸ナトリウム、イソプロピル−ナフタ
レンカルボン酸ナトリウム、ｎブチル−ナフタレンカル
ボン酸ナトリウム、ｓｅｃブチル−ナフタレンカルボン
酸ナトリウム、ｔｅｒｔブチル−ナフタレンカルボン酸
ナトリウム、アセチル−ナフタレンカルボン酸ナトリウ
ム、（１−ヒドロキシ−１−メチル）エチル−ナフタレ
ンカルボン酸ナトリウム、およびこれらナトリウム塩に
対応するリチウム塩、カリウム塩等や、これらに対応す
る位置異性体等が挙げられる。
【００２０】好ましくは、Ａｒ''が置換基を有していて
もよいベンゼン環であり、ｍ''が１又は２であり、Ｘが
アルカリ金属陽イオンである一般式〔３〕で示される芳
香族有機カルボン酸塩の一種以上であり、さらに好まし
くは、Ａｒ''が置換基を有していてもよいベンゼン環で
あり、ｍ''が１又は２であり、Ｘがアルカリ金属陽イオ
ンである炭素数１５以下の一般式〔３〕で示される芳香
族有機カルボン酸塩の一種以上である。
もよいベンゼン環であり、ｍ''が１又は２であり、Ｘが
アルカリ金属陽イオンである一般式〔３〕で示される芳
香族有機カルボン酸塩の一種以上であり、さらに好まし
くは、Ａｒ''が置換基を有していてもよいベンゼン環で
あり、ｍ''が１又は２であり、Ｘがアルカリ金属陽イオ
ンである炭素数１５以下の一般式〔３〕で示される芳香
族有機カルボン酸塩の一種以上である。
【００２１】芳香族有機カルボン酸塩は、対応する芳香
族有機カルボン酸に、例えばアルカリを添加して芳香族
有機カルボン酸塩としたものでもよい。すなわち、ヒド
ロペルオキシド混合物中には、酸化方法の種類等によっ
ては芳香族有機カルボン酸が含まれていることがあり、
このようなヒドロペルオキシド混合物にアルカリ水溶液
を添加することにより、芳香族有機カルボン酸を芳香族
有機カルボン酸塩とし、利用することができる。芳香族
有機カルボン酸塩の存在量は、特に限定されないが、例
えば、芳香族１級ヒドロペルオキシド類１モルに対し
て、０．００１〜１０モルであり、好ましくは０．００
１〜５モルであり、さらに好ましくは０．１〜５モルで
ある。
族有機カルボン酸に、例えばアルカリを添加して芳香族
有機カルボン酸塩としたものでもよい。すなわち、ヒド
ロペルオキシド混合物中には、酸化方法の種類等によっ
ては芳香族有機カルボン酸が含まれていることがあり、
このようなヒドロペルオキシド混合物にアルカリ水溶液
を添加することにより、芳香族有機カルボン酸を芳香族
有機カルボン酸塩とし、利用することができる。芳香族
有機カルボン酸塩の存在量は、特に限定されないが、例
えば、芳香族１級ヒドロペルオキシド類１モルに対し
て、０．００１〜１０モルであり、好ましくは０．００
１〜５モルであり、さらに好ましくは０．１〜５モルで
ある。
【００２２】アルカリの種類は特に限定されないが、例
えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチ
ウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム、水酸化マグ
ネシウム、水酸化ストロンチウム等のアルカリ金属水酸
化物やアルカリ土類金属水酸化物の一種以上が挙げられ
る。好ましくは、アルカリ金属水酸化物の一種以上であ
る。
えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチ
ウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム、水酸化マグ
ネシウム、水酸化ストロンチウム等のアルカリ金属水酸
化物やアルカリ土類金属水酸化物の一種以上が挙げられ
る。好ましくは、アルカリ金属水酸化物の一種以上であ
る。
【００２３】アルカリの使用量は、特に限定されない
が、例えば、芳香族一級ヒドロペルオキシド類１モルに
対し、０．１ないし２０モルであり、１級ヒドロペルオ
キシド類の選択的分解性の点で、好ましくは、０．５〜
１０モルであり、さらに好ましくは１〜８モルである。
アルカリは、アルカリ水溶液としてヒドロペルオキシド
混合物に添加しても、水を含むヒドロペルオキシド混合
物に固体状態で添加してもよい。アルカリと水の割合
は、特に限定されないが、例えば、水とアルカリの合計
を１００重量部とする時、水９９．５重量部〜５０重量
部に対し、アルカリ０．０５〜５０重量部である。
が、例えば、芳香族一級ヒドロペルオキシド類１モルに
対し、０．１ないし２０モルであり、１級ヒドロペルオ
キシド類の選択的分解性の点で、好ましくは、０．５〜
１０モルであり、さらに好ましくは１〜８モルである。
アルカリは、アルカリ水溶液としてヒドロペルオキシド
混合物に添加しても、水を含むヒドロペルオキシド混合
物に固体状態で添加してもよい。アルカリと水の割合
は、特に限定されないが、例えば、水とアルカリの合計
を１００重量部とする時、水９９．５重量部〜５０重量
部に対し、アルカリ０．０５〜５０重量部である。
【００２４】好ましくは、アルカリ水溶液として添加す
る方法であり、必要により、ＰＨを調整するため、炭酸
ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、リン酸塩等から調製
した緩衝液を併用してもよい。
る方法であり、必要により、ＰＨを調整するため、炭酸
ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、リン酸塩等から調製
した緩衝液を併用してもよい。
【００２５】処理は撹拌下で行うことが好ましい。処理
温度は、特に限定されないが、例えば、５０〜１２０℃
であり、好ましくは７０〜１００℃である。処理時間
は、特に限定されないが、例えば、０．００１〜１０時
間であり、好ましくは０．０１〜５時間である。処理の
終了時間は、例えば、反応混合物中の芳香族１級ヒドロ
ペルオキシド類および芳香族３級ヒドロペルオキシド類
の含有量を液体クロマトグラフィーで分析することによ
り、容易に判断することができる。
温度は、特に限定されないが、例えば、５０〜１２０℃
であり、好ましくは７０〜１００℃である。処理時間
は、特に限定されないが、例えば、０．００１〜１０時
間であり、好ましくは０．０１〜５時間である。処理の
終了時間は、例えば、反応混合物中の芳香族１級ヒドロ
ペルオキシド類および芳香族３級ヒドロペルオキシド類
の含有量を液体クロマトグラフィーで分析することによ
り、容易に判断することができる。
【００２６】芳香族有機カルボン酸塩の存在量、アルカ
リの使用量、処理時間、処理温度等を適宜選択すること
により、芳香族１級ヒドロペルオキシド類の分解率及び
芳香族３級ヒドロペルオキシド類の回収率を調整するこ
とができる。そして、本発明によれば、芳香族１級ヒド
ロペルオキシド類の分解率及び芳香族３級ヒドロペルオ
キシド類の回収率を例えば、芳香族１級ヒドロペルオキ
シド類の分解率８０％以上、芳香族３級ヒドロペルオキ
シド類の回収率９０％以上とすることができ、好ましく
は、芳香族１級ヒドロペルオキシド類の分解率９０％以
上、芳香族３級ヒドロペルオキシド類の回収率９５％以
上とすることができる。
リの使用量、処理時間、処理温度等を適宜選択すること
により、芳香族１級ヒドロペルオキシド類の分解率及び
芳香族３級ヒドロペルオキシド類の回収率を調整するこ
とができる。そして、本発明によれば、芳香族１級ヒド
ロペルオキシド類の分解率及び芳香族３級ヒドロペルオ
キシド類の回収率を例えば、芳香族１級ヒドロペルオキ
シド類の分解率８０％以上、芳香族３級ヒドロペルオキ
シド類の回収率９０％以上とすることができ、好ましく
は、芳香族１級ヒドロペルオキシド類の分解率９０％以
上、芳香族３級ヒドロペルオキシド類の回収率９５％以
上とすることができる。
【００２７】処理方式は、何ら制限されるものではな
く、例えば、回分反応方式、半回分反応方式、連続反応
方式等で行うことができる。処理反応終了後、処理後の
液は、そのまま又は必要により通常の後処理を施した
後、フェノ−ル類やペルオキシド類の製造原料として用
いることができる。
く、例えば、回分反応方式、半回分反応方式、連続反応
方式等で行うことができる。処理反応終了後、処理後の
液は、そのまま又は必要により通常の後処理を施した
後、フェノ−ル類やペルオキシド類の製造原料として用
いることができる。
【００２８】処理後の液は、有機層と水層に分離してい
るので、分液操作により容易にヒドロペルオキシド混合
物を有機層に、アルカリ及び芳香族有機カルボン酸塩を
水層に取り出すことができる。得られた有機層は、必要
により、さらに水または酸水溶液で洗浄してもよい。分
離された水層は、一過式に全量ブローしてもよいが、芳
香族有機カルボン酸塩の量およびアルカリの量を調整
後、再使用することができる。
るので、分液操作により容易にヒドロペルオキシド混合
物を有機層に、アルカリ及び芳香族有機カルボン酸塩を
水層に取り出すことができる。得られた有機層は、必要
により、さらに水または酸水溶液で洗浄してもよい。分
離された水層は、一過式に全量ブローしてもよいが、芳
香族有機カルボン酸塩の量およびアルカリの量を調整
後、再使用することができる。
【００２９】
【発明の効果】本発明によれば、製造装置の金属材料に
対して悪影響が生じてしまうようなことなく且つ分離が
困難な化合物が残留してしまうこともなく、工業的に容
易にヒドロペルオキシド混合物中の芳香族一級ヒドロペ
ルオキシド類を選択的に減少させることができる。
対して悪影響が生じてしまうようなことなく且つ分離が
困難な化合物が残留してしまうこともなく、工業的に容
易にヒドロペルオキシド混合物中の芳香族一級ヒドロペ
ルオキシド類を選択的に減少させることができる。
【００３０】
【実施例】以下、本発明を実施例により更に詳細に説明
するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００３１】実施例 １〜３ 温度計と還流コンデンサーを備えた撹拌棒付きの４つ口
フラスコ中で処理を行った。シメンを液相中非水状態で
酸化した後に中和処理して得た、未反応シメンで希釈さ
れた１級ヒドロペルオキシド類（式〔１〕において、Ａ
ｒはベンゼン環であり、Ｒ1 、Ｒ2 はそれぞれメチル基
であり、ｍ、ｎはそれぞれ１である。）と３級ヒドロペ
ルオキシド類（式〔２〕において、Ａｒ' はベンゼン環
であり、Ｒ1'、Ｒ2' はそれぞれメチル基であり、ｍ'
ｎ' はそれぞれ１である。）を含むヒドロペルオキシド
混合物２００重量部に対し、芳香族有機カルボン酸塩と
してのクミン酸ナトリウム及び水酸化ナトリウムを含む
水溶液２０重量部を加え、表１に示す組成とした。これ
を、９０℃で１時間撹拌後、有機層を水層から分液し
た。有機層の分析を液体クロマトグラフィーにより行っ
た。ヒドロペルオキシド混合物の組成、芳香族有機カル
ボン酸塩の存在量、アルカリの量、反応条件及び有機層
の分析結果を表１に示す。
フラスコ中で処理を行った。シメンを液相中非水状態で
酸化した後に中和処理して得た、未反応シメンで希釈さ
れた１級ヒドロペルオキシド類（式〔１〕において、Ａ
ｒはベンゼン環であり、Ｒ1 、Ｒ2 はそれぞれメチル基
であり、ｍ、ｎはそれぞれ１である。）と３級ヒドロペ
ルオキシド類（式〔２〕において、Ａｒ' はベンゼン環
であり、Ｒ1'、Ｒ2' はそれぞれメチル基であり、ｍ'
ｎ' はそれぞれ１である。）を含むヒドロペルオキシド
混合物２００重量部に対し、芳香族有機カルボン酸塩と
してのクミン酸ナトリウム及び水酸化ナトリウムを含む
水溶液２０重量部を加え、表１に示す組成とした。これ
を、９０℃で１時間撹拌後、有機層を水層から分液し
た。有機層の分析を液体クロマトグラフィーにより行っ
た。ヒドロペルオキシド混合物の組成、芳香族有機カル
ボン酸塩の存在量、アルカリの量、反応条件及び有機層
の分析結果を表１に示す。
【００３２】比較例 １ クミン酸ナトリウムを用いない以外は、実施例１〜３と
同様の手順で実験を行った。ヒドロペルオキシド混合物
の組成、アルカリの量、反応条件及び有機層の分析結果
を表１に示す。
同様の手順で実験を行った。ヒドロペルオキシド混合物
の組成、アルカリの量、反応条件及び有機層の分析結果
を表１に示す。
【００３３】実施例 ４ 芳香族有機カルボン酸塩として、クミン酸、フタル酸、
アセチル安息香酸、（１−ヒドロキシ−１−メチル）エ
チル安息香酸、ヒドロキシ安息香酸及びヒドロキシメチ
ル安息香酸の各ナトリウム塩からなる混合物を用いた以
外は、実施例１〜３と同様の手順で実験を行った。ヒド
ロペルオキシド混合物の組成、芳香族有機カルボン酸塩
の存在量、アルカリの量、反応条件及び有機層の分析結
果を表１に示す。
アセチル安息香酸、（１−ヒドロキシ−１−メチル）エ
チル安息香酸、ヒドロキシ安息香酸及びヒドロキシメチ
ル安息香酸の各ナトリウム塩からなる混合物を用いた以
外は、実施例１〜３と同様の手順で実験を行った。ヒド
ロペルオキシド混合物の組成、芳香族有機カルボン酸塩
の存在量、アルカリの量、反応条件及び有機層の分析結
果を表１に示す。
【００３４】 （1HPO：芳香族１級ヒドロペルオキシド類、3HPO：芳香
族３級ヒドロペルオキシド類 )
族３級ヒドロペルオキシド類 )
【００３５】 表１（続き） 芳香族有機カルボン酸塩 芳香族有機カル 濃度 芳香族有機カルホ゛ン酸塩／1HPO ホ゛ン酸塩の種類 (wt ％) (モル 比) 実施例１ クミン 酸ナトリウム 8.62 0.574/1 実施例２ クミン 酸ナトリウム 8.85 0.590/1 実施例３ クミン 酸ナトリウム 4.40 0.292/1 比較例１ − − 0/1 実施例４ クミン 酸ナトリウム ＋ソノ他 8.05 0.494/1 （その他：フタル酸、アセチル安息香酸、（１−ヒドロ
キシ−１−メチル）エチル安息香酸、ヒドロキシ安息香
酸及びヒドロキシメチル安息香酸の各ナトリウム塩：こ
れらのナトリウム塩の合計濃度５．４９wt％）
キシ−１−メチル）エチル安息香酸、ヒドロキシ安息香
酸及びヒドロキシメチル安息香酸の各ナトリウム塩：こ
れらのナトリウム塩の合計濃度５．４９wt％）
【００３６】 表１（続き) アルカリ 反応条件 濃度 NaOH ／1HPO 処理温度 処理時間 (wt ％) (モル比) （℃） (hr) 実施例１ 9.40 2.91/1 90 1 実施例２ 7.39 2.29/1 90 1 実施例３ 9.59 2.97/1 90 1 比較例１ 10.0 3.03/1 95 1 実施例４ 9.82 3.04/1 90 0.5
【００３７】
フロントページの続き (72)発明者 伊藤 孝徳 大阪市此花区春日出中三丁目１番98号 住 友化学工業株式会社内 (72)発明者 河原 信裕 大阪市此花区春日出中三丁目１番98号 住 友化学工業株式会社内
Claims (2)
- 【請求項１】芳香族１級ヒドロペルオキシド類および芳
香族３級ヒドロペルオキシド類を含有するヒドロペルオ
キシド混合物を、アルカリ及び芳香族有機カルボン酸塩
の共存下で処理することを特徴とするヒドロペルオキシ
ド混合物の処理方法。 - 【請求項２】芳香族有機カルボン酸塩／芳香族１級ヒド
ロペルオキシド類のモル比が０．００１〜１０である請
求項１記載の処理方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6161976A JPH0827104A (ja) | 1994-07-14 | 1994-07-14 | ヒドロペルオキシド混合物の処理方法 |
| DE19525565A DE19525565A1 (de) | 1994-07-14 | 1995-07-13 | Verfahren zur Behandlung eines Hydroperoxidgemisches |
| US08/502,537 US5639922A (en) | 1994-07-14 | 1995-07-14 | Process for treatment of hydroperoxide mixture |
| GB9514457A GB2291057B (en) | 1994-07-14 | 1995-07-14 | Selective Decomposition of Aromatic Primary Hydroperoxide Mixture |
| CN95109167A CN1058002C (zh) | 1994-07-14 | 1995-07-14 | 氢过氧化物混合物的处理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6161976A JPH0827104A (ja) | 1994-07-14 | 1994-07-14 | ヒドロペルオキシド混合物の処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0827104A true JPH0827104A (ja) | 1996-01-30 |
Family
ID=15745665
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6161976A Pending JPH0827104A (ja) | 1994-07-14 | 1994-07-14 | ヒドロペルオキシド混合物の処理方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5639922A (ja) |
| JP (1) | JPH0827104A (ja) |
| CN (1) | CN1058002C (ja) |
| DE (1) | DE19525565A1 (ja) |
| GB (1) | GB2291057B (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114105845B (zh) * | 2021-11-16 | 2023-09-01 | 浙江新和成股份有限公司 | 一种伞花烃氧化产物的选择性分解方法及其应用 |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2728797A (en) * | 1954-06-10 | 1955-12-27 | Hercules Powder Co Ltd | Production of cresol |
| JPS5125011A (ja) * | 1974-08-27 | 1976-03-01 | Nippon Electric Co | |
| JPS5146094A (ja) * | 1974-10-18 | 1976-04-20 | Kinsekisha Lab Ltd | Atsudenshindoshi |
| CA1036162A (en) * | 1975-07-16 | 1978-08-08 | Louis L. Skaletzky | Process |
| JPS59186958A (ja) * | 1983-04-07 | 1984-10-23 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | ヒドロペルオキシド混合物の処理方法 |
| JPS6054357A (ja) * | 1983-09-02 | 1985-03-28 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | ヒドロペルオキシド混合物の処理方法 |
| JPS6215074A (ja) * | 1985-07-10 | 1987-01-23 | Fujitsu Ltd | バ−ニツシユ用スライダ |
| JPS6234755A (ja) * | 1985-08-05 | 1987-02-14 | Amada Co Ltd | 加工機械の加工状態管理装置 |
| JPH0768209B2 (ja) * | 1986-07-30 | 1995-07-26 | 住友化学工業株式会社 | ヒドロペルオキシド混合物の処理方法 |
| US4891101A (en) * | 1988-11-23 | 1990-01-02 | Arco Chemical Technology, Inc. | Purification of tertiary hydroperoxides containing primary and secondary hydroperoxide contaminants |
| JP2682134B2 (ja) * | 1989-04-28 | 1997-11-26 | 三井石油化学工業株式会社 | ヒドロペルオキシド混合物の処理方法 |
| JP3367058B2 (ja) * | 1992-05-27 | 2003-01-14 | 住友化学工業株式会社 | 芳香族一級ヒドロペルオキシド類の除去方法 |
-
1994
- 1994-07-14 JP JP6161976A patent/JPH0827104A/ja active Pending
-
1995
- 1995-07-13 DE DE19525565A patent/DE19525565A1/de not_active Withdrawn
- 1995-07-14 GB GB9514457A patent/GB2291057B/en not_active Expired - Fee Related
- 1995-07-14 CN CN95109167A patent/CN1058002C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1995-07-14 US US08/502,537 patent/US5639922A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN1128754A (zh) | 1996-08-14 |
| CN1058002C (zh) | 2000-11-01 |
| US5639922A (en) | 1997-06-17 |
| GB9514457D0 (en) | 1995-09-13 |
| GB2291057A (en) | 1996-01-17 |
| DE19525565A1 (de) | 1996-01-18 |
| GB2291057B (en) | 1998-04-15 |
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Legal Events
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