JPH08267689A - Transparent laminated film - Google Patents

Transparent laminated film

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JPH08267689A
JPH08267689A JP7340788A JP34078895A JPH08267689A JP H08267689 A JPH08267689 A JP H08267689A JP 7340788 A JP7340788 A JP 7340788A JP 34078895 A JP34078895 A JP 34078895A JP H08267689 A JPH08267689 A JP H08267689A
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JP
Japan
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film
laminated film
transparent laminated
transparent
weight
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Application number
JP7340788A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazuo Hachiman
一雄 八幡
Satoshi Igarashi
聡 五十嵐
Yuuji Tamura
優次 田村
Hiroyuki Fujishima
博行 藤島
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Teijin Ltd
Original Assignee
Teijin Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE: To provide a transparent laminated film which has excellent optical properties to be sufficiently applied to a liquid crystal display element. CONSTITUTION: A protective layer having solvent resistance is provided at least on one surface of a polymer film, and formed of cured resin of epoxy cured resin. The transparent laminated film has high solvent resistance for simultaneously satisfying organic solvent resistance, alkali resistance and etchant liquid resistance which are required for various applications, small load for the steps, and can be sufficiently applied to an electrode board for various display or particularly a liquid crystal display element in which requirements are severe.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、耐溶剤性、透明性
の優れた透明積層フィルムに関し、更に詳しくは光学用
途、特に液晶表示パネル、タッチパネル、フラット照明
パネル等の透明基板、透明電極基板に好適な透明積層フ
ィルムに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a transparent laminated film having excellent solvent resistance and transparency, and more particularly to optical applications, particularly for transparent substrates such as liquid crystal display panels, touch panels and flat lighting panels, and transparent electrode substrates. The present invention relates to a suitable transparent laminated film.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、液晶表示装置関連の部材には、よ
り軽薄化、より大型化という要求に加え、長期信頼性、
形状の自由度、曲面表示等の高度な要求がなされてい
る。特にペイジャー(ポケットベル)、携帯電話、電子
手帳、ペン入力機器など、携帯して移動の出来る機器の
利用が普及するにつれ、これらの透明基板、透明電極基
板には、従来の厚くて重く、割れ易いガラス基板に代わ
って、プラスチックフィルムを基板とする透明基板、透
明電極基板が検討され、一部で実用化が始まっている。
2. Description of the Related Art In recent years, in addition to the demands for lighter and thinner and larger size members for liquid crystal display devices, long-term reliability,
There are high demands on the degree of freedom of shape and curved surface display. In particular, as the use of portable and mobile devices such as pagers (pagers), mobile phones, electronic organizers, and pen input devices becomes widespread, these transparent substrates and transparent electrode substrates are thick, heavy, and cracked. Transparent substrates and transparent electrode substrates using a plastic film as a substrate have been studied in place of the easy glass substrate, and some of them have been put into practical use.

【0003】しかしながら、このプラスチックフィルム
基板は耐溶剤性がガラス基板より一般的に劣っている。
ところで、透明導電層を設けたプラスチックフィルムの
透明電極基板は、上述の液晶表示パネル等に用いる場
合、透明導電層をエッチングする酸性水溶液、パターニ
ング後にレジストを溶解させるためのアルカリ性液、及
び用途によっては配向膜作製時に有機溶媒に曝されるこ
とになる。この際、プラスチックフィルムには膨潤や白
化が起こり、さらに溶解することもあり、電極基板とし
て使用できないという問題がある。
However, this plastic film substrate is generally inferior in solvent resistance to the glass substrate.
By the way, the transparent electrode substrate of a plastic film provided with a transparent conductive layer, when used in the above liquid crystal display panel or the like, an acidic aqueous solution for etching the transparent conductive layer, an alkaline liquid for dissolving the resist after patterning, and depending on the application. It will be exposed to an organic solvent when the alignment film is formed. At this time, the plastic film may be swollen or whitened and may be further dissolved, so that it cannot be used as an electrode substrate.

【0004】この問題を改良する具体的な提案として、
耐溶剤性を有する保護層をプラスチックフィルムに設け
ることが提案されている。例えば、特開昭64−500
22号公報等にはフェノキシエ−テル型樹脂にイソシア
ネ−ト基等で架橋させる樹脂層をコ−ティング法により
設けることが提案されているが、耐溶剤性は充分満足さ
れていない。また、特開平5−313150号公報には
活性エネルギ−線硬化型樹脂層を設けることが提案され
ているが、硬化時に離型フィルムが必要であり、工程上
困難を伴う。
As a concrete proposal for improving this problem,
It has been proposed to provide a plastic film with a protective layer having solvent resistance. For example, JP-A-64-500
No. 22, etc. propose to provide a resin layer for crosslinking a phenoxyether type resin with an isocyanate group or the like by a coating method, but the solvent resistance is not sufficiently satisfied. Further, Japanese Patent Laid-Open No. 5-313150 proposes to provide an active energy ray curable resin layer, but a release film is required at the time of curing, which causes difficulty in the process.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記問題を
解決するものであり、充分な耐溶剤性具体的には各種用
途で必要とされる耐有機溶剤性、耐アルカリ性、耐エッ
チング液性を同時に満足する高度な耐溶剤性をもち、か
つ工程上の負荷が少なく、各種ディスプレイ用電極基
板、特に要求の厳しい液晶表示用素子にも十分適用でき
る光学特性の優れた透明積層フィルムを提供することを
目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention is to solve the above problems and has sufficient solvent resistance, specifically, organic solvent resistance, alkali resistance and etching solution resistance required for various applications. To provide a transparent laminated film having high solvent resistance, satisfying all of the requirements at the same time, having a small load on the process, and being sufficiently applicable to various display electrode substrates, particularly to liquid crystal display elements that are particularly demanding. The purpose is to

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記の目的は、以下の本
発明により達成される。すなわち、本発明は、高分子フ
ィルムの少なくとも一方の面に耐溶剤性を有する保護層
を設けた透明積層フィルムにおいて、該保護層がノボラ
ック型のエポキシ系硬化性樹脂の硬化物からなることを
特徴とする透明積層フィルムである。
The above object can be achieved by the present invention described below. That is, the present invention is a transparent laminated film in which a protective layer having solvent resistance is provided on at least one surface of a polymer film, wherein the protective layer comprises a cured product of a novolac type epoxy curable resin. It is a transparent laminated film.

【0007】上述の本発明は、エポキシ樹脂の中でもノ
ボラック型のエポシキ系硬化性樹脂の硬化物からなる層
が、前述の耐有機溶剤性、耐アルカリ性、耐エッチング
液性を同時に満足する高度な耐溶剤性を有し、且つ光学
特性も十分であることを見出し、なされたものである。
According to the present invention described above, a layer composed of a cured product of a novolac type epoxy curable resin among epoxy resins has a high resistance to the above-mentioned organic solvent resistance, alkali resistance and etching solution resistance at the same time. It was made by finding that it has a solvent property and sufficient optical characteristics.

【0008】以下に本発明を詳細に説明する。本発明に
おいて耐溶剤性を有するとは、透明導電層を設けた高分
子フィルム基板を各種ディスプレイ用電極基板へ応用す
る場合等の如く、基板が透明導電層をエッチングする酸
性水溶液、パターニング後にレジストを溶解させるため
のアルカリ性液、及び用途によっては配向膜作製時の有
機溶媒等の各種溶剤にさらされた時、膨潤や白化及び溶
解せず、且つこれら溶剤を通さないことを言う。つま
り、耐溶剤性を有する層を設けることにより上記溶媒に
さらされた時、耐溶剤性を有する層が膨潤や白化や溶解
せず、また溶媒を浸透せず、そして基板となる高分子フ
ィルムを溶剤による膨潤や白化及び溶解より保護するこ
とである。
The present invention will be described in detail below. In the present invention, having solvent resistance means that when a polymer film substrate provided with a transparent conductive layer is applied to an electrode substrate for various displays, the substrate is an acidic aqueous solution for etching the transparent conductive layer, and a resist is used after patterning. It means that when exposed to an alkaline liquid for dissolution and, depending on the application, various solvents such as an organic solvent during preparation of the alignment film, it does not swell, whiten or dissolve, and does not pass these solvents. That is, when exposed to the solvent by providing a layer having solvent resistance, the layer having solvent resistance does not swell or whiten or dissolve, and does not penetrate the solvent, and a polymer film serving as a substrate is formed. Protecting against swelling, whitening and dissolution by a solvent.

【0009】本発明は、上記の通り、高分子フィルム上
に設けるこの耐溶剤性を有する保護層に、ノボラック型
のエポキシ系硬化性樹脂を用いることを特徴とするもの
である。
As described above, the present invention is characterized by using a novolac type epoxy-based curable resin for the solvent-resistant protective layer provided on the polymer film.

【0010】中でも、耐溶剤性という面から下記構造式
にて示されるノボラック型エポキシ樹脂が好ましく適用
される。
Of these, a novolac type epoxy resin represented by the following structural formula is preferably applied from the viewpoint of solvent resistance.

【0011】[0011]

【化2】 Embedded image

【0012】ここで、R1 はHまたはCH3 、R2 はH
またはグリシジルフェニルエーテル基、nは1から50
の整数を示す。なお、nは一般的に分布を持っており、
ある数を特定できないが、平均の数としては大きい方が
好ましく、好ましくは3以上更に好ましくは5以上であ
る。
Here, R 1 is H or CH 3 , and R 2 is H.
Or a glycidyl phenyl ether group, n is 1 to 50
Indicates an integer. Note that n generally has a distribution,
Although a certain number cannot be specified, the average number is preferably large, preferably 3 or more, more preferably 5 or more.

【0013】以上のエポキシ樹脂を硬化させる硬化剤と
しては、公知のものが適用できる。例えばアミン系、ポ
リアミノアミド系、酸及び酸無水物、イミダゾール、メ
ルカプタン、フェノール樹脂等の硬化剤が用いられる。
As the curing agent for curing the above epoxy resin, known ones can be applied. For example, curing agents such as amine-based, polyaminoamide-based, acids and acid anhydrides, imidazole, mercaptan, and phenol resin are used.

【0014】中でも、上述のノボラック型エポキシ樹脂
を硬化させる硬化剤としては、特に耐溶剤性、光学特
性、熱特性等より、酸無水物、酸無水物構造を含むポリ
マーまたは脂環族アミン類が好ましく用いられ、更に好
ましくは酸無水物または酸無水物構造を含むポリマーで
ある。酸無水物としては、メチルヘキサヒドロ無水フタ
ル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸等の脂環族酸無
水物、無水フタル酸等の芳香族酸無水物、ドデセニル無
水コハク酸等の脂肪族酸無水物が挙げられるが、メチル
ヘキサヒドロ無水フタル酸が好ましく用いられる。ま
た、酸無水物構造を含むポリマーとして、例えば無水マ
レイン酸共重合ポリマーが上げられ、スチレン−無水マ
レイン酸共重合ポリマー、イソブチレン−無水マレイン
酸共重合ポリマーなどが好ましく用いられる。酸無水物
構造を持ったポリマーは単独で用いても良いし、酸無水
物と混合して用いても良い。脂環族アミンとして、ビス
(4−アミノ−3−メチルジシクロヘキシル)メタン、
ジアミノジシクロヘキシルメタン、イソフォロンジアミ
ン等が挙げられ、ビス(4−アミノ−3−メチルジシク
ロヘキシル)メタンが好ましく用いられる。
Among them, as the curing agent for curing the above-mentioned novolac type epoxy resin, an acid anhydride, a polymer containing an acid anhydride structure, or an alicyclic amine is particularly preferable in view of solvent resistance, optical characteristics, thermal characteristics and the like. It is preferably used, more preferably an acid anhydride or a polymer containing an acid anhydride structure. Examples of the acid anhydride include methylhexahydrophthalic anhydride, alicyclic acid anhydrides such as methyltetrahydrophthalic anhydride, aromatic acid anhydrides such as phthalic anhydride, and aliphatic acid anhydrides such as dodecenylsuccinic anhydride. Among them, methylhexahydrophthalic anhydride is preferably used. Examples of the polymer having an acid anhydride structure include maleic anhydride copolymers, and styrene-maleic anhydride copolymers and isobutylene-maleic anhydride copolymers are preferably used. The polymer having an acid anhydride structure may be used alone or as a mixture with an acid anhydride. Bis (4-amino-3-methyldicyclohexyl) methane as an alicyclic amine,
Examples thereof include diaminodicyclohexylmethane and isophoronediamine, and bis (4-amino-3-methyldicyclohexyl) methane is preferably used.

【0015】なお、酸無水物、酸無水物構造を含むポリ
マーを硬化剤として用いる場合、反応速度を上げるため
に公知の第三アミン類やイミダゾール類等の硬化触媒を
適量加えることが好ましい。
When an acid anhydride or a polymer containing an acid anhydride structure is used as a curing agent, it is preferable to add an appropriate amount of a known curing catalyst such as a tertiary amine or imidazole in order to increase the reaction rate.

【0016】また、このエポキシ樹脂層を設ける手段と
して、マイヤーバーコート法、グラビアロールコート
法、スピンコート法等の湿式コーティング法、デッピン
グ法、ラミネートコート法等が挙げられるが、均一な膜
厚が制御し易い点から湿式コーティング法が好ましく用
いられる。なお、コーティング時に、エポキシ樹脂の可
使時間や粘度の調整の目的で、溶媒による希釈が可能で
ある。溶媒としては、ケトン類、エーテルエステル類
等、エポキシを均一に溶解させるものならばよく、目的
に合わせて適量加えることが可能である。
Means for providing this epoxy resin layer include wet coating methods such as the Mayer bar coating method, the gravure roll coating method, the spin coating method, the dipping method, the laminate coating method, etc., but the uniform film thickness is obtained. The wet coating method is preferably used because it is easy to control. In addition, at the time of coating, dilution with a solvent is possible for the purpose of adjusting the pot life and viscosity of the epoxy resin. As the solvent, any solvent capable of uniformly dissolving epoxy, such as ketones and ether esters, may be used, and an appropriate amount can be added according to the purpose.

【0017】このコーティングされたエポキシ樹脂層
は、高分子フィルムのガラス転移温度以下の熱処理によ
り硬化し、耐溶剤性を持つ硬化樹脂層を形成する。
The coated epoxy resin layer is cured by heat treatment at a temperature not higher than the glass transition temperature of the polymer film to form a cured resin layer having solvent resistance.

【0018】エポキシ系硬化性樹脂層の厚さは、硬化後
の厚さで0.1μm以上30μm以下が好ましく、0.
3μm以上20μm以下が更に好ましい。0.1μm未
満では耐溶剤性の層としての効果が不十分となり、30
μmを越えると加工、組み立て等に必要な屈曲性が不十
分となり、実用面で適切でない。
The thickness of the epoxy-based curable resin layer is preferably 0.1 μm or more and 30 μm or less in terms of the thickness after curing, and is 0.1.
It is more preferably 3 μm or more and 20 μm or less. If it is less than 0.1 μm, the effect as a solvent resistant layer becomes insufficient,
If it exceeds μm, the flexibility required for processing, assembly, etc. becomes insufficient, which is not suitable for practical use.

【0019】また、透明積層フィルムが溶剤に浸漬され
る可能性がある場合は、高分子フィルムの両面に以上の
保護層を設けることが望ましい。
When the transparent laminated film may be dipped in a solvent, it is desirable to provide the above protective layers on both sides of the polymer film.

【0020】この保護層を設けた透明積層フィルムは、
液晶表示パネル等の表示パネルで使用する場合の如く高
度の光学特性が必要な光学用途を考慮すると、リターデ
ーション値が20nm以下であり、波長550nmでの
光線透過率が80%以上であることが好ましい。
The transparent laminated film provided with this protective layer is
Considering optical applications that require a high degree of optical characteristics such as when used in a display panel such as a liquid crystal display panel, the retardation value is 20 nm or less, and the light transmittance at a wavelength of 550 nm is 80% or more. preferable.

【0021】ここで、リターデーション値は公知の複屈
折の屈折率の差△nと膜厚dとの積△n・dであり、測
定波長により異なるが、測定波長が590nmでの測定
値を代表値とする。リターデーション値が20nmを越
えると、特に液晶表示素子として用いたとき着色の原因
となる。一方、光線透過率が80%未満であると、各種
ディスプレイ用電極基板としての透明性が不十分とな
る。
Here, the retardation value is a product Δn · d of the known difference Δn in birefringence refractive index and the film thickness d, and it depends on the measurement wavelength, but the measurement value at the measurement wavelength of 590 nm is Use as a representative value. When the retardation value exceeds 20 nm, it causes coloring especially when used as a liquid crystal display device. On the other hand, when the light transmittance is less than 80%, the transparency as an electrode substrate for various displays becomes insufficient.

【0022】本発明における高分子フィルムとしては、
ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポ
リスルホン、ポリエーテルスルホン等の公知の透明な高
分子フィルムが適用されるが、上記の光学用途等を含め
ると、中でもリターデーション値が20nm以下であ
り、波長550nmでの光線透過率が85%以上の光学
等方性高分子フィルムが好ましい。
The polymer film in the present invention includes
Known transparent polymer films such as polyester, polycarbonate, polyarylate, polysulfone, and polyethersulfone are applied, but when the above optical applications are included, the retardation value is 20 nm or less, and at a wavelength of 550 nm. An optically isotropic polymer film having a light transmittance of 85% or more is preferable.

【0023】一般に高分子フィルムは、その原料の高分
子材料を熱的に溶融させて、ダイより押し出して製膜す
る溶融押出法、または該高分子材料を溶媒に溶解させて
支持体上に流延させ加熱して溶媒を蒸発させて製膜する
溶液流延法にて得られるが、前記のリターデーションを
達成するには溶液流延法が好ましく用いられる。溶融押
出法では、低リターデーションのフィルムが得るのが難
しいだけではなく、フィルム中にダイライン、ゲル化
物、フィッシュアイ等が発生し易く、広い面積に渡って
均一な光学特性のフィルムを得ることが難しい。
In general, a polymer film is prepared by a melt extrusion method in which a raw material polymer material is thermally melted and extruded from a die to form a film, or the polymer material is dissolved in a solvent and poured onto a support. It can be obtained by a solution casting method of rolling and heating to evaporate the solvent to form a film, but the solution casting method is preferably used to achieve the retardation. In the melt extrusion method, it is not only difficult to obtain a film with low retardation, but die lines, gelation products, fish eyes, etc. are likely to occur in the film, and it is possible to obtain a film with uniform optical properties over a wide area. difficult.

【0024】また前記の光学等方性高分子フィルム用の
高分子材料としては、ポリカーボネート、ポリアリレー
ト、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン等の非晶性高
分子材料が挙げられるが、光学特性、熱特性の点からポ
リカーボネートまたはポリアリレートが特に好ましく用
いられる。
Examples of the polymer material for the above-mentioned optically isotropic polymer film include amorphous polymer materials such as polycarbonate, polyarylate, polyether sulfone and polysulfone. From the viewpoint, polycarbonate or polyarylate is particularly preferably used.

【0025】ポリカーボネートは、2,2−ビス(4−
ヒドロキシフェニル)プロパンを主成分とし、光学特
性、耐熱性改善のため、共重合成分を含んでも良い。共
重合成分としては、例えば、ビス(4−オキシフェニ
ル)メタン、1,1−ビス(4−オキシフェニル)エタ
ン、1,1−ビス(4−オキシフェニル)ブタン、2,
2−ビス(4−オキシフェニル)ブタン、1,1−シク
ロヘキシレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)フルオレン、1,1−ビス(4−ヒドロキシヘニ
ル)3,3,5−トリメチルシクロヘキサン等が挙げら
れる。
Polycarbonate is 2,2-bis (4-
A main component is hydroxyphenyl) propane, and a copolymerization component may be included for improving optical characteristics and heat resistance. Examples of the copolymerization component include bis (4-oxyphenyl) methane, 1,1-bis (4-oxyphenyl) ethane, 1,1-bis (4-oxyphenyl) butane, 2,
2-bis (4-oxyphenyl) butane, 1,1-cyclohexylene, 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) 3,3,5-trimethylcyclohexane Etc.

【0026】ポリアリレートは、ジオール成分としては
2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン成分
を主成分とし、ジカルボン酸成分としては、テレフタル
酸及びイソフタル酸を主成分とする。
Polyarylate contains 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane component as a main component as a diol component, and terephthalic acid and isophthalic acid as a main component as dicarboxylic acid components.

【0027】これらのフィルムの製造には、前述の通
り、ポリカーボネートまたはポリアリレートを溶媒に溶
解させ支持体上に流延させる前述の溶液流延法が好まし
く適用される。この製膜用の溶媒としては、基本的にポ
リカーボネートまたはポリアリレートを溶解する溶媒で
あれば適用できるが、塩化メチレン等が好ましく用いら
れる。製膜用の溶液中の原料ポリマーの濃度は6重量%
以上30重量%以下が好ましい。30重量%を越えると
均一溶解や溶液の保存安定性が悪く、また6重量%未満
では実効粘度が低く実用上好ましくない。
For the production of these films, as described above, the above-mentioned solution casting method in which polycarbonate or polyarylate is dissolved in a solvent and cast on a support is preferably applied. As the solvent for forming the film, any solvent that basically dissolves polycarbonate or polyarylate can be applied, but methylene chloride or the like is preferably used. The concentration of the raw material polymer in the solution for film formation is 6% by weight.
The amount is preferably 30% by weight or less. If it exceeds 30% by weight, uniform dissolution and storage stability of the solution are poor, and if it is less than 6% by weight, the effective viscosity is low and it is not preferable in practice.

【0028】ところで、液晶表示パネル等の透明電極基
板に高分子フィルムを利用する場合、ガスバリアー性が
必要となってくる。すなわち、ガラス基板と比較し、高
分子フィルムは一般的にガス透過性があり、透過したガ
スは液晶部で気泡となり、表示欠点となってしまう。そ
こで、ガスの透過を防止する層、すなわちガスバリアー
層が必要となってくる。従って、以上の本発明の透明積
層フィルムも、これらの用途に適用する場合には、ガス
バリアー層を設けることが好ましい。
By the way, when a polymer film is used for a transparent electrode substrate of a liquid crystal display panel or the like, a gas barrier property is required. That is, the polymer film generally has gas permeability as compared with the glass substrate, and the permeated gas becomes bubbles in the liquid crystal part, which causes a display defect. Therefore, a layer that prevents gas permeation, that is, a gas barrier layer is required. Therefore, when the above-mentioned transparent laminated film of the present invention is also applied to these applications, it is preferable to provide a gas barrier layer.

【0029】このガスバリアー層には、公知のものが適
用でき、例えばガスバリアー性を持った高分子として知
られている、ポリビニルアルコール、ポリビニルアルコ
ール−エチレン共重合体、ポリ塩化ビリニデン及びその
共重合体、ポリアクリロニトリル及びその共重合体等が
適用できる。中でも、焼却時の発生ガスの点からポリビ
ニルアルコール、ポリビニルアルコール−エチレン共重
合体が好ましい。
As the gas barrier layer, known materials can be applied, for example, polyvinyl alcohol, polyvinyl alcohol-ethylene copolymer, polyvinylidene chloride and its copolymer weight, which are known as polymers having gas barrier properties. Coalescence, polyacrylonitrile and its copolymer, etc. can be applied. Among them, polyvinyl alcohol and polyvinyl alcohol-ethylene copolymer are preferable from the viewpoint of gas generated during incineration.

【0030】このガスバリアー層は、保護層で述べた湿
式コーテイング法等により形成される。例えば、ポリビ
ニルアルコールまたはポリビニルアルコール−エチレン
共重合体のガスバリアー層は、公知の溶媒、すなわちポ
リビニルアルコールは水、ポリビニルアルコール−エチ
レン共重合体は水とプロピルアルコールの混合溶媒にて
溶解し、上記湿式コーティング法にて高分子フィルムに
塗工し、高分子フィルムのガラス転移温度以下の乾燥処
理で脱溶媒して形成される。
This gas barrier layer is formed by the wet coating method described for the protective layer. For example, the gas barrier layer of polyvinyl alcohol or polyvinyl alcohol-ethylene copolymer is a known solvent, that is, polyvinyl alcohol is dissolved in water, polyvinyl alcohol-ethylene copolymer is dissolved in a mixed solvent of water and propyl alcohol, It is formed by coating a polymer film by a coating method and removing the solvent by a drying treatment at a temperature not higher than the glass transition temperature of the polymer film.

【0031】ガスバリアー層の厚さは、要求されるガス
バリアー性能により異なるが、通常0.1μm以上50
μm以下であり、液晶表示素子に用いる場合には、25
℃にて少なくとも酸素透過量で1cc/(m2 ・日・a
tm)以下のガスバリアー性が必要である。
The thickness of the gas barrier layer varies depending on the required gas barrier performance, but is usually 0.1 μm or more and 50 or more.
μm or less, and when used in a liquid crystal display device, 25
At least 1 cc / (m 2 · day · a
A gas barrier property of tm) or less is required.

【0032】このガスバリアー層は、本発明の透明積層
フィルムに用いる場合は、その耐溶剤性の点で、高分子
フィルムと保護層のエポキシ系硬化性樹脂層との間に設
けることが好ましい。
When used in the transparent laminated film of the present invention, this gas barrier layer is preferably provided between the polymer film and the epoxy type curable resin layer of the protective layer from the viewpoint of solvent resistance.

【0033】この構成において、高分子フィルムとガス
バリアー層間の接着性を要求される場合には、必要に応
じてこれらの間にアンカーコート層を設ける。このアン
カーコート層としては市販のウレタン系接着剤等を用い
ることが出来る。
In this structure, when the adhesiveness between the polymer film and the gas barrier layer is required, an anchor coat layer is provided between them if necessary. A commercially available urethane adhesive or the like can be used as the anchor coat layer.

【0034】また、ガスバリアー層と保護層のエポキシ
系硬化性樹脂層間の接着性を要求されるときも、必要に
応じてこれらの層の間にアンカーコート層を設ける。こ
のアンカーコート層として、γ−アミノプロピルトリメ
トキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシ
シラン等のいわゆるシランカップリング剤やトリレンジ
イソシアネートのトリメチロールプロパンのアダクト体
等のイソシアネート類が好ましく、更にはイソシアネー
ト類が好ましい。イソシアネート類は単体でも良いが、
フェノキシ樹脂、フェノキシエーテル樹脂、ポリオー
ル、アクリルポリオール等を混ぜると更に好ましい。
Also, when adhesiveness between the epoxy curable resin layers of the gas barrier layer and the protective layer is required, an anchor coat layer is provided between these layers, if necessary. As the anchor coat layer, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, a so-called silane coupling agent, or an isocyanate such as an adduct of trimethylolpropane of tolylene diisocyanate is preferable. Isocyanates are preferred. Isocyanates may be used alone,
It is more preferable to mix a phenoxy resin, a phenoxy ether resin, a polyol, an acrylic polyol, or the like.

【0035】なお、本発明の保護層は、そのエポキシ系
硬化性樹脂に塗工前に、γ−アミノプロピルトリメトキ
シシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ン等のいわゆるシランカップリング剤を適量混ぜること
により、接着性を向上でき、アンカーコート層が設けな
くとも、対処できることもある。
The protective layer of the present invention contains a suitable amount of a so-called silane coupling agent such as γ-aminopropyltrimethoxysilane and γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane before being applied to the epoxy-based curable resin. By mixing, the adhesiveness can be improved, and even if the anchor coat layer is not provided, it can be dealt with in some cases.

【0036】さらに、以上の構成の本発明の積層フィル
ムの表面に透明導電層を設けることにより、液晶表示パ
ネル、タッチパネル等の透明電極に好適な透明導電性の
積層フィルムを得ることができる。
Further, by providing a transparent conductive layer on the surface of the laminated film of the present invention having the above constitution, a transparent conductive laminated film suitable for a transparent electrode of a liquid crystal display panel, a touch panel or the like can be obtained.

【0037】この透明導電層としては、公知の錫、イン
ジウム、チタン等の金属又はこれらの酸化物が適用でき
るが、中でも錫を5〜15重量%含むインジウム酸化物
からなるものが好ましい。また透明導電層の膜厚は、2
0〜200nmの範囲が透明性、導電性、屈曲性等の面
から好ましい。
As the transparent conductive layer, known metals such as tin, indium, titanium and the like or oxides thereof can be applied, but among them, those comprising indium oxide containing 5 to 15% by weight of tin are preferable. The thickness of the transparent conductive layer is 2
The range of 0 to 200 nm is preferable in terms of transparency, conductivity, flexibility and the like.

【0038】以下、本発明の実施例を比較例と共に説明
する。
Examples of the present invention will be described below together with comparative examples.

【0039】[0039]

【実施例】実施例、比較例の諸物性は以下のように測定
した。
EXAMPLES Various physical properties of Examples and Comparative Examples were measured as follows.

【0040】(1)耐溶剤性 (a)耐有機溶剤性 80℃のN−メチルピロリドンに3分間浸漬し、外観の
変化を目視にて観察した。 (b)耐アルカリ性 25℃の3.5wt%NaOH水溶液に10分間浸漬
し、流水にて充分洗浄を行った後、乾燥させ重量を測定
し、浸漬前後の重量差から判断した。 (c)耐エッチング液性 35%塩化第二鉄水溶液、35%塩酸、水をそれぞれ重
量比1対1対10の割合で混合した液に、25℃10分
間浸漬し、流水にて充分洗浄を行った後、乾燥させ重量
を測定し、浸漬前後の重量差から判断した。
(1) Solvent resistance (a) Organic solvent resistance It was immersed in N-methylpyrrolidone at 80 ° C. for 3 minutes, and the change in appearance was visually observed. (B) Alkali resistance It was immersed in a 3.5 wt% NaOH aqueous solution at 25 ° C. for 10 minutes, thoroughly washed with running water, dried and weighed, and the weight difference before and after immersion was judged. (C) Resistance to etching liquid: Immerse in a liquid in which 35% ferric chloride aqueous solution, 35% hydrochloric acid, and water are mixed at a weight ratio of 1: 1: 10 for 10 minutes at 25 ° C. and thoroughly rinse with running water. After that, it was dried and weighed, and the weight difference was measured before and after the immersion.

【0041】(2)光線透過率 (株)日立製作所製U−3500を用いて、波長550
nmの積分球式光線透過率測定を行った。
(2) Light Transmittance Using U-3500 manufactured by Hitachi, Ltd., a wavelength of 550
An integrated sphere type light transmittance measurement of nm was performed.

【0042】(3)リターデーション測定 日本分光株式会社製の多波長複屈折率測定装置M−15
0を用いて590nmの波長にて測定した。
(3) Retardation measurement Multi-wavelength birefringence measuring device M-15 manufactured by JASCO Corporation
0 was used for measurement at a wavelength of 590 nm.

【0043】(4)酸素透過率測定 MOCON社製オキシトラン2/20MHを用いて25
℃にて測定した。
(4) Oxygen permeability measurement 25 using Oxytran 2 / 20MH manufactured by MOCON
It was measured at ° C.

【0044】[実施例1]基板の高分子フィルムとし
て、以下のように溶液流延法によりポリカーボネートフ
ィルムを作製した。
Example 1 As a polymer film for a substrate, a polycarbonate film was prepared by the solution casting method as follows.

【0045】ポリカーボネート樹脂(具体的には、帝人
化成株式会社製C−1400)20重量部を塩化メチレ
ン80重量部に溶解させた後、ガラス板上にアプリケー
ターにて流延し、次いで、乾燥機中に置き室温から徐々
に昇温した。残留溶媒が13重量%になった時、ガラス
板より剥離させ、縦横の張力をバランスさせながら12
0℃にて残留溶媒量が0.1重量%以下になるまで乾燥
し、ポリカーボネートフィルムを得た。このフィルムの
厚さは98μmであった。
After dissolving 20 parts by weight of a polycarbonate resin (specifically, C-1400 manufactured by Teijin Kasei Co., Ltd.) in 80 parts by weight of methylene chloride, it is cast on a glass plate with an applicator and then dried. It was placed inside and gradually heated from room temperature. When the residual solvent reaches 13% by weight, peel it off from the glass plate and
It was dried at 0 ° C. until the residual solvent amount became 0.1% by weight or less to obtain a polycarbonate film. The thickness of this film was 98 μm.

【0046】このポリカーボネートフィルムの片側の面
に、アンカーコート層を形成した。アンカーコート層は
ポリウレタン樹脂とし、具体的には主剤のポリオール成
分として武田薬品工業株式会社製A310を100重量
部、硬化剤のイソシアナート成分として同社製A3を2
5重量部混合後、マイヤーバーにて塗工し、80℃で1
分更に130℃で5分熱処理することにより形成した。
An anchor coat layer was formed on one surface of this polycarbonate film. The anchor coat layer is made of polyurethane resin. Specifically, 100 parts by weight of A310 manufactured by Takeda Pharmaceutical Co., Ltd. is used as the polyol component of the main agent, and 2 parts of A3 manufactured by the same company is used as the isocyanate component of the curing agent.
After mixing 5 parts by weight, coat with a Meyer bar and apply 1 at 80 ° C.
It was further formed by heat treatment at 130 ° C. for 5 minutes.

【0047】次いで、このアンカーコート層の上に、ガ
スバリアー層を積層した。ガスバリアー層はポリビニル
アルコール(具体的には、(株)クラレ製PVA−11
7)10重量部を溶媒の水90重量部に均一に溶解させ
たものを、マイヤーバーにて塗工し、110℃で5分熱
処理することで形成した。ガスバリアー層の厚さは3μ
mであった。この構成のフィルムをガスバリアー層付き
高分子フィルムと呼ぶこととする。
Next, a gas barrier layer was laminated on this anchor coat layer. The gas barrier layer is made of polyvinyl alcohol (specifically, PVA-11 manufactured by Kuraray Co., Ltd.).
7) 10 parts by weight was uniformly dissolved in 90 parts by weight of water as a solvent, and the solution was applied with a Meyer bar and heat-treated at 110 ° C. for 5 minutes to form a film. The thickness of the gas barrier layer is 3μ
It was m. The film having this structure will be referred to as a polymer film with a gas barrier layer.

【0048】このガスバリアー層付き高分子フィルム
に、保護層を以下のように積層し、透明積層フィルムを
得た。保護層は、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂
(具体的には、日本化薬株式会社製EOCN−104
S)100重量部を、メチルイソブチルケトン150重
量部に溶解させ、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸74
重量部、1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデ
セン5重量部を加え均一に混合したものをマイヤ−バ−
にて塗工し、100℃で3分熱処理し、更にガスバリア
ー層付き高分子フィルムのもう一方の面にも同じものを
同様にマイヤーバーにて塗工して100℃で3分熱処理
後、更に135℃で30分熱処理することによって両面
に形成した。保護層の厚さは、各々8μmであった。
A protective layer was laminated on the polymer film with the gas barrier layer as follows to obtain a transparent laminated film. The protective layer is a cresol novolac type epoxy resin (specifically, EOCN-104 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.).
S) 100 parts by weight are dissolved in 150 parts by weight of methyl isobutyl ketone to give methyl hexahydrophthalic anhydride 74
1 part by weight and 5 parts by weight of 1,8-diazabicyclo (5,4,0) undecene were added and uniformly mixed to obtain a Mayer bar.
And heat treatment at 100 ° C. for 3 minutes, and then apply the same on the other side of the polymer film with a gas barrier layer in the same manner with a Meyer bar and heat-treat at 100 ° C. for 3 minutes. Further, heat treatment was performed at 135 ° C. for 30 minutes to form both surfaces. The protective layers each had a thickness of 8 μm.

【0049】得られた透明積層フィルムは、リターデー
ションが10nm、光線透過率が89.5%、酸素透過
率が0.15cc/(m2 ・日・atm)であり、耐溶
剤性も問題なく、光学特性、ガスバリアー性及び耐溶剤
性の優れた透明積層フィルムであった。
The obtained transparent laminated film had a retardation of 10 nm, a light transmittance of 89.5% and an oxygen transmittance of 0.15 cc / (m 2 · day · atm), and had no problem with solvent resistance. It was a transparent laminated film having excellent optical properties, gas barrier properties and solvent resistance.

【0050】[実施例2]実施例1で得られたガスバリ
アー層付き高分子フィルムに、以下のように保護層を積
層し、透明積層フィルムを得た。
Example 2 A protective layer was laminated on the polymer film with a gas barrier layer obtained in Example 1 as follows to obtain a transparent laminated film.

【0051】保護層は、クレゾールノボラック型エポキ
シ樹脂(日本化薬株式会社製EOCN−104S)10
0重量部を、メチルイソブチルケトン150重量部に溶
解させ、ビス(4−アミノ−3−メチルジシクロヘキシ
ル)メタンを27.5重量部、γ−グリシドキシプロピ
ルトリメトキシシラン1重量部を加え均一に混合したも
のをマイヤーバーにてガスバリアー層付き高分子フィル
ムの一方の面に塗工し、80℃で60分熱処理し、更に
そのもう一方の面にも同じものを同様にマイヤーバーに
て塗工して80℃で60分熱処理後、更に135℃で1
80分熱処理することによって両面に形成した。
The protective layer is a cresol novolac type epoxy resin (EOCN-104S manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 10
0 parts by weight was dissolved in 150 parts by weight of methyl isobutyl ketone, and 27.5 parts by weight of bis (4-amino-3-methyldicyclohexyl) methane and 1 part by weight of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane were added to homogeneity. The mixture is applied on one side of the polymer film with a gas barrier layer with a Meyer bar, heat-treated at 80 ° C for 60 minutes, and the same is applied on the other side with a Meyer bar in the same manner. After heat treatment at 80 ℃ for 60 minutes, further at 135 ℃ 1
It was formed on both sides by heat treatment for 80 minutes.

【0052】得られた透明積層フィルムは、リターデー
ションが10nm、光線透過率が89%、酸素透過率が
0.15cc/(m2 ・日・atm)であり、耐溶剤性
も問題なく、光学特性、ガスバリアー性及び耐溶剤性の
優れた透明積層フィルムであった。
The obtained transparent laminated film had a retardation of 10 nm, a light transmittance of 89%, an oxygen transmittance of 0.15 cc / (m 2 · day · atm), no solvent resistance and no optical problem. It was a transparent laminated film having excellent properties, gas barrier properties and solvent resistance.

【0053】[実施例3]基板の高分子フィルムとし
て、以下のように溶液流延法によりポリアリレートフィ
ルムを作製した。
Example 3 As a polymer film for a substrate, a polyarylate film was prepared by the solution casting method as follows.

【0054】ポリアリレート(ユニチカ株式会社製U−
100)23重量部を塩化メチレン77重量部に溶解さ
せた後、ガラス板上にアプリケーターにて流延し、次い
で、乾燥機中に置き室温から徐々に昇温した。残留溶媒
が15重量%になった時、ガラス板より剥離させ、縦横
の張力をバランスさせながら120℃にて残留溶媒量が
0.08重量%になるまで乾燥し、ポリアリレートフィ
ルムを得た。このフィルムの厚さは101μmであっ
た。
Polyarylate (U-produced by Unitika Ltd.)
After dissolving 23 parts by weight of 100) in 77 parts by weight of methylene chloride, the mixture was cast on a glass plate with an applicator, then placed in a dryer and gradually heated from room temperature. When the residual solvent was 15% by weight, it was peeled from the glass plate and dried at 120 ° C. while balancing the vertical and horizontal tensions until the residual solvent amount became 0.08% by weight to obtain a polyarylate film. The thickness of this film was 101 μm.

【0055】このポリアリレートフィルムに実施例1と
同様にしてこれと同じのアンカーコート層及びガスバリ
ア−層及び保護層を積層した。
The same anchor coat layer, gas barrier layer and protective layer as those in Example 1 were laminated on this polyarylate film in the same manner as in Example 1.

【0056】得られた透明積層フィルムは、リターデー
ションが11nm、光線透過率が87%、酸素透過率が
0.1cc/(m2 ・日・atm)であり、耐溶剤性も
問題なく、光学特性、ガスバリアー性及び耐溶剤性の優
れた透明積層フィルムであった。
The transparent laminated film thus obtained had a retardation of 11 nm, a light transmittance of 87%, an oxygen transmittance of 0.1 cc / (m 2 · day · atm), no solvent resistance and no optical problem. It was a transparent laminated film having excellent properties, gas barrier properties and solvent resistance.

【0057】[実施例4]実施例1で得られたガスバリ
アー層付き高分子フィルムに、以下のように保護層を積
層し、透明積層フィルムを得た。
[Example 4] A protective layer was laminated on the polymer film with a gas barrier layer obtained in Example 1 as follows to obtain a transparent laminated film.

【0058】保護層は、フェノールノボラック型エポキ
シ樹脂(日本化薬株式会社製EPPN−201)100
重量部を、メチルイソブチルケトン150重量部に溶解
させ、更にメチルヘキサヒドロ無水フタル酸90重量
部、1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン
5重量部を加え均一に混合したものをマイヤーバーにて
ガスバリアー層付き高分子フィルムの一方の面に塗工
し、100℃で3分熱処理し、更にガスバリアー層付き
高分子フィルムのもう一方の面にも同じものを同様にマ
イヤーバーにて塗工して100℃で3分熱処理後、更に
135℃で30分熱処理することによって両面に形成し
た。保護層の厚さは、各々8μmであった。
The protective layer is made of phenol novolac type epoxy resin (EPPN-201 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 100.
By mixing 150 parts by weight of methyl isobutyl ketone with 90 parts by weight of methylhexahydrophthalic anhydride and 5 parts by weight of 1,8-diazabicyclo (5,4,0) undecene, a uniform mixture is prepared. Apply to one side of the polymer film with gas barrier layer with a bar, heat treatment at 100 ° C for 3 minutes, and apply the same to the other side of the polymer film with gas barrier layer in the same manner as a Mayer bar. Was applied and heat-treated at 100 ° C. for 3 minutes, and then heat-treated at 135 ° C. for 30 minutes to form both surfaces. The protective layers each had a thickness of 8 μm.

【0059】得られた透明積層フィルムは、リターデー
ションが10nm、光線透過率が90%、酸素透過率が
0.15cc/(m2 ・日・atm)であり、耐溶剤性
も問題なく、光学特性、ガスバリアー性及び耐溶剤性の
優れた透明積層フィルムであった。
The transparent laminated film thus obtained had a retardation of 10 nm, a light transmittance of 90%, an oxygen transmittance of 0.15 cc / (m 2 · day · atm), no solvent resistance, and an optical property. It was a transparent laminated film having excellent properties, gas barrier properties and solvent resistance.

【0060】[実施例5]実施例1で得られたガスバリ
アー層付き高分子フィルムに、以下のように保護層を積
層し、透明積層フィルムを得た。
Example 5 A protective layer was laminated on the polymer film with a gas barrier layer obtained in Example 1 as follows to obtain a transparent laminated film.

【0061】保護層は、クレゾールノボラック型エポキ
シ樹脂(日本化薬株式会社製EOCN−104S)10
0重量部をメチルイソブチルケトン100部に溶解さ
せ、更にメチルヘキサヒドロ無水フタル酸30重量部、
1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン5重
量部を加え均一に混合したものに、更にスチレンー無水
マレイン酸共重合ポリマー(エルフ アトケム ジャパ
ン株式会社製 SMA−1000)50重量部をメチル
イソブチルケトン50重量部に均一溶解させたものを加
えた塗液を、マイヤーバーにて塗工し、100℃で3分
熱処理し、更にガスバリアー層付き高分子フィルムのも
う一方の面にも同じものを同様にマイヤーバーにて塗工
して100℃で3分熱処理後、更に135℃で30分熱
処理することによって両面積層した。保護層の厚さは、
各々8μmであった。
The protective layer is a cresol novolac type epoxy resin (EOCN-104S manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 10
0 parts by weight was dissolved in 100 parts of methyl isobutyl ketone, and further 30 parts by weight of methylhexahydrophthalic anhydride,
5 parts by weight of 1,8-diazabicyclo (5,4,0) undecene were added and mixed uniformly, and 50 parts by weight of styrene-maleic anhydride copolymer (SMA-1000 manufactured by Elf Atchem Japan Co., Ltd.) was added to methyl isobutyl. A coating solution prepared by uniformly dissolving 50 parts by weight of ketone was applied with a Meyer bar, heat-treated at 100 ° C. for 3 minutes, and the same was applied to the other side of the polymer film with a gas barrier layer. Was coated with a Meyer bar in the same manner, heat-treated at 100 ° C. for 3 minutes, and further heat-treated at 135 ° C. for 30 minutes to laminate both surfaces. The thickness of the protective layer is
Each was 8 μm.

【0062】得られた透明積層フィルムは、レターデー
ションが10nmで光線透過率が89.5%、酸素透過
率が0.15cc/(m2 ・日・atm)であり、耐溶
剤性も問題なく、光学特性、ガスバリアー性及び耐溶剤
性の優れた透明積層フィルムであった。
The obtained transparent laminated film had a retardation of 10 nm, a light transmittance of 89.5% and an oxygen transmittance of 0.15 cc / (m 2 · day · atm), and had no problem with solvent resistance. It was a transparent laminated film having excellent optical properties, gas barrier properties and solvent resistance.

【0063】[実施例6]実施例1で得られたポリカー
ボネートフィルムに直接以下のように保護層のみを積層
し、構成が簡単でガスバリヤ性が不要な用途に好適な透
明積層フィルムを得た。
[Example 6] Only the protective layer was directly laminated on the polycarbonate film obtained in Example 1 as described below to obtain a transparent laminated film having a simple structure and suitable for use in which gas barrier property is unnecessary.

【0064】保護層は、クレゾールノボラック型エポキ
シ樹脂(日本化薬株式会社製EOCN−104S)10
0重量部を、メチルイソブチルケトン150重量部に溶
解させ、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸74重量部、
1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン5重
量部を加え均一に混合したものをマイヤーバーにてポリ
カーボネートフィルムの一方の面に塗工し、100℃で
3分熱処理し、更にそのもう一方の面にも同じものを同
様にマイヤーバーにて塗工して100℃で3分熱処理
後、更に135℃で60分熱処理することによって両面
に形成した。保護層の厚さは、各々8μmであった。
The protective layer is a cresol novolac type epoxy resin (EOCN-104S manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 10
0 parts by weight was dissolved in 150 parts by weight of methyl isobutyl ketone to obtain 74 parts by weight of methyl hexahydrophthalic anhydride,
A mixture of 5 parts by weight of 1,8-diazabicyclo (5,4,0) undecene and a uniform mixture was applied to one side of a polycarbonate film with a Meyer bar and heat-treated at 100 ° C. for 3 minutes, and then another The same thing was similarly coated on one surface with a Meyer bar, heat-treated at 100 ° C. for 3 minutes, and then heat-treated at 135 ° C. for 60 minutes to form both surfaces. The protective layers each had a thickness of 8 μm.

【0065】得られた透明積層フィルムは、リターデー
ションが10nm、光線透過率が90%であり、耐溶剤
性も問題なく、光学特性及び耐溶剤性の優れた透明積層
フィルムであった。
The obtained transparent laminated film had a retardation of 10 nm, a light transmittance of 90%, solvent resistance without problems, and excellent optical characteristics and solvent resistance.

【0066】更に透明導電層としてインジウム−錫酸化
物層をスパッタリング法により片面に形成した。スパッ
タリングターゲットには組成が重量比でインジウム/錫
=90/10で、充填密度が90%のターゲットを用い
た。得られた透明導電層付の透明積層フィルムは、、透
明タッチパネル等の透明電極基板に好適なものであっ
た。
Further, an indium-tin oxide layer was formed as a transparent conductive layer on one surface by a sputtering method. As the sputtering target, a target having a composition of indium / tin = 90/10 by weight and a packing density of 90% was used. The obtained transparent laminated film with a transparent conductive layer was suitable for a transparent electrode substrate such as a transparent touch panel.

【0067】[比較例1]実施例1で得られたガスバリ
ア−層付き高分子フィルムに、以下のように保護層を積
層し、透明積層フィルムを得た。
[Comparative Example 1] A protective layer was laminated on the polymer film with a gas barrier layer obtained in Example 1 as follows to obtain a transparent laminated film.

【0068】保護層は、フェノキシ樹脂(東都化成株式
会社製YP−50)40重量部を、メチルエチルケトン
60重量部に溶解させ、更にイソシアネートとして武田
薬品工業株式会社製A3を40重量部加え均一に混合し
たものをマイヤーバーにてガスバリアー層付き高分子フ
ィルムの一方の面に塗工し、80℃で4分熱処理し、更
にそのもう一方の面にも同じものを同様にマイヤーバー
にて塗工し80℃で4分熱処理後、更に135℃で20
分熱処理することによって両面に形成した。保護層の厚
さは、各々8μmであった。
For the protective layer, 40 parts by weight of a phenoxy resin (YP-50 manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd.) was dissolved in 60 parts by weight of methyl ethyl ketone, and 40 parts by weight of A3 manufactured by Takeda Pharmaceutical Co., Ltd. was added as an isocyanate and mixed uniformly. What was done was coated on one side of the polymer film with a gas barrier layer with a Meyer bar, heat-treated at 80 ° C for 4 minutes, and the same on the other side with the Meyer bar. Heat treatment at 80 ℃ for 4 minutes, then at 135 ℃ for 20 minutes
It was formed on both sides by heat treatment for minutes. The protective layers each had a thickness of 8 μm.

【0069】得られた透明積層フィルムは、リターデー
ションが11nm、光線透過率が90%、酸素透過率が
0.15cc/(m2 ・日・atm)であったが、耐有
機溶剤性テスト中、透明積層フィルムの膨潤がひどく、
形態が保持されず、耐有機溶剤性が悪かった。
The obtained transparent laminated film had a retardation of 11 nm, a light transmittance of 90% and an oxygen transmittance of 0.15 cc / (m 2 · day · atm). , The swelling of the transparent laminated film is severe,
The shape was not retained and the resistance to organic solvents was poor.

【0070】以上の結果をまとめて、表1に示す。The above results are summarized in Table 1.

【0071】[0071]

【表1】 [Table 1]

【0072】[0072]

【発明の効果】本発明は、耐溶剤性の保護層をノボラッ
ク型のエポキシ系樹脂で形成したもので、耐有機溶剤
性、耐アルカリ性及び耐エッチング液性を同時満たす優
れた耐溶剤性を備え、且つ光学特性も良い透明積層フィ
ルムを実現するもので、液晶表示パネル等の表示機器や
タッチパネル等の透明基板、透明電極基板等に広く適用
できるものである。
INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention has a solvent-resistant protective layer formed of a novolac type epoxy resin and has excellent solvent resistance which simultaneously satisfies organic solvent resistance, alkali resistance and etching solution resistance. Further, it realizes a transparent laminated film having good optical characteristics, and can be widely applied to a display device such as a liquid crystal display panel, a transparent substrate such as a touch panel, a transparent electrode substrate and the like.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 藤島 博行 東京都日野市旭が丘4丁目3番2号 帝人 株式会社東京研究センター内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Hiroyuki Fujishima 4-32 Asahigaoka, Hino City, Tokyo Teijin Limited Tokyo Research Center

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 高分子フィルムの少なくとも一方の面に
耐溶剤性を有する保護層を設けた透明積層フィルムにお
いて、該保護層がノボラック型のエポキシ系硬化性樹脂
の硬化物からなることを特徴とする透明積層フィルム。
1. A transparent laminated film in which a protective layer having solvent resistance is provided on at least one surface of a polymer film, wherein the protective layer comprises a cured product of a novolac type epoxy curable resin. A transparent laminated film.
【請求項2】 前記エポキシ系硬化性樹脂が、下記構造
式にて示されるノボラック型エポキシ樹脂である請求項
1記載の透明積層フィルム。 【化1】 (上式において、R1 はHまたはCH3 、R2 はHまた
はグリシジルフェニルエーテル基、nは1から50の整
数)
2. The transparent laminated film according to claim 1, wherein the epoxy curable resin is a novolac type epoxy resin represented by the following structural formula. Embedded image (In the above formula, R 1 is H or CH 3 , R 2 is H or a glycidyl phenyl ether group, and n is an integer of 1 to 50.)
【請求項3】 前記エポキシ系硬化性樹脂の硬化剤が酸
無水物または酸無水物構造を含むポリマーである請求項
1あるいは2記載の透明積層フィルム。
3. The transparent laminated film according to claim 1, wherein the curing agent for the epoxy curable resin is an acid anhydride or a polymer having an acid anhydride structure.
【請求項4】 積層フィルムのリターデーション値が2
0nm以下であり、波長550nmでの光線透過率が8
0%以上である請求項1〜3記載のいずれかの透明積層
フィルム。
4. The retardation value of the laminated film is 2.
0 nm or less and a light transmittance of 8 at a wavelength of 550 nm.
It is 0% or more, The transparent laminated film in any one of Claims 1-3.
【請求項5】 前記高分子フィルムが、ポリカ−ボネ−
トフィルムまたはポリアリレ−トフィルムである請求項
4記載の透明積層フィルム。
5. The polymer film is polycarbonate.
The transparent laminated film according to claim 4, which is a transparent film or a polyarylate film.
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