JPH08259666A - Thermosetting resin composition - Google Patents

Thermosetting resin composition

Info

Publication number
JPH08259666A
JPH08259666A JP8747395A JP8747395A JPH08259666A JP H08259666 A JPH08259666 A JP H08259666A JP 8747395 A JP8747395 A JP 8747395A JP 8747395 A JP8747395 A JP 8747395A JP H08259666 A JPH08259666 A JP H08259666A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
epoxy resin
group
resin
parts
resin composition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP8747395A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP3127772B2 (en
Inventor
Toshio Shiobara
利夫 塩原
Kazuhiro Arai
一弘 新井
Kazuharu Ikeda
多春 池田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=13915894&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=JPH08259666(A) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Shin Etsu Chemical Co Ltd filed Critical Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority to JP07087473A priority Critical patent/JP3127772B2/en
Publication of JPH08259666A publication Critical patent/JPH08259666A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3127772B2 publication Critical patent/JP3127772B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)

Abstract

PURPOSE: To obtain a thermosetting resin composition comprising an epoxy resin, a curing agent, an inorganic filler, a thermoplastic resin and a specific organic silicon compound in a specific ratio, low in viscosity on molding, excellent in adhesivity and the warping resistance of packages after cured, and useful as a sealing material for semiconductor devices, etc. CONSTITUTION: This composition comprises (A) an epoxy resin such as a bisphenol A type epoxy resin or a cresol novolack epoxy resin, (B) a curing agent, (C) an inorganic filler, (D) a thermoplastic resin such as methyl methacrylate-butadiene-styrene copolymer or styrene-ethylene-butylene-styrene copolymer, and (E) an organic silicon compound having a SH group or a group producing the SH group and a hydrolyzable group, wherein the contents of the components C, D and E are 100-1000 pts.wt., 0.5-20 pts.wt. and 0.1-5 pts.wt., respectively, per 100 pts.wt. of A+B.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、金メッキ表面及びソル
ダーレジストとの接着性に優れ、特にBGAパッケージ
のような片面成形の半導体パッケージ用封止樹脂等とし
て好適に用いられる熱硬化性樹脂組成物に関する。
The present invention relates to a thermosetting resin composition which is excellent in adhesiveness to a gold-plated surface and a solder resist and is particularly suitable for use as a single-sided molding semiconductor package sealing resin such as a BGA package. Regarding

【0002】[0002]

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来か
らエポキシ樹脂、エポキシ樹脂の硬化剤としてのフェノ
ール樹脂及び無機質充填剤を配合した熱硬化性樹脂組成
物が、半導体パッケージ用に使用されている。
2. Description of the Related Art A thermosetting resin composition containing an epoxy resin, a phenol resin as a curing agent for the epoxy resin, and an inorganic filler has been used for a semiconductor package. .

【0003】更に近年、半導体パッケージの多ピン化に
伴い、BGA(ボールグリッドアレー)と称される半田
バンプを有する有機樹脂基板上に半導体チップを搭載
し、その片面をエポキシ樹脂封止材で封止するパッケー
ジが開発されている。このパッケージは、多ピン化にも
かかわらず、半田付けが容易であることや、数個の半導
体チップを搭載できること、更には製造コストが安いこ
となどから用途が拡大する傾向にある。
Further, in recent years, with the increase in the number of pins of semiconductor packages, semiconductor chips are mounted on an organic resin substrate having solder bumps called BGA (ball grid array), and one surface thereof is sealed with an epoxy resin sealing material. A package to stop is being developed. Despite the increase in the number of pins, this package has a tendency to expand its applications because it is easy to solder, several semiconductor chips can be mounted, and the manufacturing cost is low.

【0004】しかしながら、上記したBGAパッケージ
は、BGAパッケージを構成する材料同士の膨張係数が
違うことからパッケージ成形後に容易にパッケージが反
ってしまい、プリント基板に接続できないといった致命
的な問題が生じている。
However, in the above BGA package, the materials forming the BGA package have different expansion coefficients, so that the package is easily warped after the molding of the package, which causes a fatal problem that it cannot be connected to a printed circuit board. .

【0005】また、BGAパッケージは、パッケージが
大きく、ピン数も多いことから半導体チップと基板上の
配線を接続する金線の数も多く、かつ長さも長くなって
いる。このため、成形時粘度の高い封止材料を使用した
場合、金線が曲がったり金線同士が接触するといった問
題も起こり易い。
In addition, since the BGA package is large in size and has a large number of pins, the number of gold wires connecting the semiconductor chip and the wiring on the substrate is large and the length thereof is also long. Therefore, when a sealing material having a high viscosity at the time of molding is used, problems such as bending of the gold wires and contact between the gold wires are likely to occur.

【0006】更に、基板上のソルダーマスクや金メッキ
部分との接着性もBGAパッケージの信頼性向上には重
要な要素である。特にBGAのような片面成形のパッケ
ージでは、ソルダーマスクや金メッキ部分との接着が不
十分であると、半田リフロー時に容易にソルダーマスク
や金メッキ部分から剥離してパッケージにクラックが入
ってしまうという問題が指摘されている。
Further, the adhesiveness with the solder mask and the gold-plated portion on the substrate is also an important factor for improving the reliability of the BGA package. Particularly in a single-sided package such as BGA, if the adhesion to the solder mask or the gold-plated portion is insufficient, there is a problem that the solder mask and the gold-plated portion are easily separated from each other during solder reflow, and the package is cracked. It has been pointed out.

【0007】以上のような問題点を解決するため、半導
体業界ではBGAパッケージ用の封止樹脂として成形時
の樹脂粘度が低く、ソルダーマスクや金メッキとの接着
性に優れ、かつパッケージの反りも低減することが可能
な熱硬化性樹脂組成物の開発が求められている。
In order to solve the above problems, in the semiconductor industry, as a sealing resin for a BGA package, the resin viscosity at the time of molding is low, the adhesiveness with a solder mask or gold plating is excellent, and the warpage of the package is also reduced. There is a demand for the development of a thermosetting resin composition that can be used.

【0008】なお、本発明者は、上記問題点を改善する
ため、特公平5−77686号、同6−17458号公
報に片面成形のパッケージの反りを防止することが可能
な樹脂組成物を提案したが、この組成物はパッケージサ
イズが25cm角以上になる場合の反りの防止効果が十
分とは言い難った。
In order to improve the above problems, the present inventor proposes a resin composition capable of preventing warpage of a single-sided molded package in Japanese Patent Publication Nos. 5-77686 and 6-17458. However, it was difficult to say that this composition was sufficiently effective in preventing warpage when the package size was 25 cm square or more.

【0009】本発明は上記事情に鑑みなされたもので、
成形時粘度が低く、ソルダーマスクや金メッキとの接着
性に優れた硬化物を与え、パッケージの反りを低減する
ことができる半導体封止用として好適な熱硬化性樹脂組
成物を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances.
An object of the present invention is to provide a thermosetting resin composition suitable for semiconductor encapsulation, which has a low viscosity during molding and gives a cured product excellent in adhesiveness to a solder mask or gold plating and which can reduce warpage of a package. And

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段及び作用】本発明者は上記
目的を達成するため鋭意検討を重ねた結果、エポキシ樹
脂、硬化剤、無機質充填剤を含有してなる熱硬化性樹脂
組成物に、熱可塑性樹脂とメルカプト基又は分解により
メルカプト基を生成する基及び加水分解性基を有する有
機ケイ素化合物とを下記特定範囲で併用した場合、成形
時粘度が低く、金線の曲がりや金線同士の接触の発生が
ない上、金メッキとソルダーマスクとの両基材との接着
性に優れた硬化物を与え、パッケージの反りを十分満足
に低減することが可能であり、BGAパッケージ用の半
導体封止材として好適に使用できること、即ち、これら
熱可塑性樹脂或いはメルカプト基又は分解によりメルカ
プト基を生成する基と加水分解性基とを含有する有機ケ
イ素化合物を単独使用した場合には金メッキとの接着性
が低いにも拘らず、これら両成分の併用により、予想外
に金メッキとの接着性が顕著に向上することを知見し、
本発明をなすに至った。
Means and Actions for Solving the Problems As a result of extensive studies conducted by the present inventor in order to achieve the above object, a thermosetting resin composition containing an epoxy resin, a curing agent and an inorganic filler, When a thermoplastic resin and an organosilicon compound having a mercapto group or a group that generates a mercapto group by decomposition and a hydrolyzable group are used in combination in the following specific ranges, the viscosity at the time of molding is low, and the bending of gold wires and gold wires A cured product that does not cause contact and that has excellent adhesion to both the base material of the gold plating and the solder mask can be sufficiently reduced in warping of the package, and semiconductor encapsulation for BGA packages can be achieved. It can be preferably used as a material, that is, an organic silicon compound containing a thermoplastic resin or a mercapto group or a group that produces a mercapto group by decomposition and a hydrolyzable group is used alone. Despite the low adhesion with the gold plating when use, the combined use of these two components, the adhesion of the gold unexpectedly has found that significantly improved,
The present invention has been made.

【0011】従って、本発明は、(A)エポキシ樹脂及
び硬化剤100重量部、(B)無機質充填剤100〜1
000重量部、(C)熱可塑性樹脂0.5〜20重量
部、(D)メルカプト基又は分解によりメルカプト基を
生成する基及び加水分解性基を有する有機ケイ素化合物
0.1〜5重量部を含有してなることを特徴とする熱硬
化性樹脂組成物を提供する。
Therefore, according to the present invention, 100 parts by weight of (A) epoxy resin and curing agent, and (B) inorganic fillers 100 to 1 are used.
000 parts by weight, (C) 0.5 to 20 parts by weight of a thermoplastic resin, and (D) 0.1 to 5 parts by weight of an organosilicon compound having a mercapto group or a group that produces a mercapto group by decomposition and a hydrolyzable group. Provided is a thermosetting resin composition characterized by containing the same.

【0012】以下、本発明につき更に詳細に説明する
と、本発明に係る熱硬化性樹脂組成物は、エポキシ樹
脂、硬化剤、無機質充填剤等を含有してなるものであ
る。
The present invention will be described in more detail below. The thermosetting resin composition according to the present invention contains an epoxy resin, a curing agent, an inorganic filler and the like.

【0013】ここで、本発明に使用されるエポキシ樹脂
としては、1分子中にエポキシ基を少なくとも2個以上
有するエポキシ樹脂であれば如何なるものでも使用可能
である。エポキシ樹脂として具体的には、ビスフェノ−
ルA型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、脂環
式エポキシ樹脂、グリシジル型エポキシ樹脂、更には下
記構造式で示されるエポキシ樹脂などが例示され、これ
らの1種を単独で又は2種以上を併用して用いることが
できる。
As the epoxy resin used in the present invention, any epoxy resin having at least two epoxy groups in one molecule can be used. Specific examples of the epoxy resin include bisphenol-
A type epoxy resin, novolac type epoxy resin, alicyclic epoxy resin, glycidyl type epoxy resin, and epoxy resin represented by the following structural formula are exemplified, and one of these is used alone or two or more of them are used in combination. Can be used.

【0014】[0014]

【化1】 Embedded image

【0015】[0015]

【化2】 (但し、tBuはt−ブチル基を示す。また、nは0又
は1〜10の整数である。)
Embedded image (However, tBu represents a t-butyl group, and n is 0 or an integer of 1 to 10.)

【0016】本発明では、これらのエポキシ樹脂の中で
も上記したビスフェノールA型エポキシ樹脂、クレゾー
ルノボラック型エポキシ樹脂やフェニル基にn−ブチル
基などの炭素数1〜6のアルキル基、その他の一価炭化
水素基を有する多官能型のエポキシ樹脂を用いることが
金メッキとの接着性の向上のために好ましい。
In the present invention, among these epoxy resins, the above-mentioned bisphenol A type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, phenyl group, alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as n-butyl group, and other monovalent carbonization. It is preferable to use a polyfunctional epoxy resin having a hydrogen group in order to improve adhesion with gold plating.

【0017】これらのエポキシ樹脂は、軟化点が50〜
100℃でエポキシ当量が100〜400であるものが
望ましい。
These epoxy resins have a softening point of 50 to 50.
It is desirable that the epoxy equivalent is 100 to 400 at 100 ° C.

【0018】更に、エポキシ樹脂として上記以外に難燃
化のためブロム化エポキシ樹脂を使用することができ
る。
In addition to the above, a brominated epoxy resin may be used as the epoxy resin for flame retardancy.

【0019】次に、硬化剤としては、フェノ−ル樹脂が
好適に使用され、具体的にはフェノ−ルノボラック樹
脂、クレゾ−ルノボラック樹脂、トリフェノ−ルメタン
などのフェノール性水酸基を2個以上有するものなどが
例示される。このようなフェノール樹脂の中でも、軟化
点が60〜120℃を有し、かつ水酸基当量が90〜1
50のものが望ましく使用される。
Next, a phenol resin is preferably used as the curing agent, specifically, a phenol resin having two or more phenolic hydroxyl groups such as phenol novolac resin, cresol novolac resin, and triphenol methane. Is exemplified. Among such phenolic resins, the softening point is 60 to 120 ° C. and the hydroxyl group equivalent is 90 to 1
Those of 50 are preferably used.

【0020】硬化剤としてのフェノール樹脂の使用量
は、上記エポキシ樹脂中のエポキシ基とフェノール樹脂
中の水酸基との当量比が0.5〜2の範囲であれば如何
る量でもよいが、通常エポキシ樹脂100部(重量部、
以下同様)に対して30〜100部、特に40〜70部
の範囲が好適である。フェノール樹脂の使用量が30部
未満では十分な強度が得られない場合があり、100部
を超えると未反応のフェノール樹脂が残って耐湿性を低
下させる場合がある。
The amount of the phenol resin used as the curing agent may be any amount as long as the equivalent ratio of the epoxy groups in the epoxy resin to the hydroxyl groups in the phenol resin is in the range of 0.5 to 2, but is usually Epoxy resin 100 parts (weight part,
The same applies hereinafter), and a range of 30 to 100 parts, particularly 40 to 70 parts is preferable. If the amount of the phenolic resin used is less than 30 parts, sufficient strength may not be obtained, and if it exceeds 100 parts, unreacted phenolic resin may remain to lower the moisture resistance.

【0021】本発明で使用する無機質充填剤は、封止材
の膨張係数を小さくし、半導体素子に加わる応力を低下
させるためのものである。具体例としては、破砕状、球
状の形状を持った溶融シリカ、結晶性シリカ等が主に用
いられ、その他にアルミナ、チッ化ケイ素、チッ化アル
ミなども使用可能である。なお、上記無機質充填剤の平
均粒径としては、5〜20μmの範囲が好ましい。更
に、形状は特に限定されず、球状、破砕状等種々のもの
を使用することができるが、硬化物の低膨張化と成形性
を両立させるためには球状と破砕品のブレンド、あるい
は球状品のみを用いたほうがよい。この種の無機質充填
剤は予めシランカップリング剤で表面処理して使用する
ことができる。
The inorganic filler used in the present invention is to reduce the expansion coefficient of the encapsulant and to reduce the stress applied to the semiconductor element. As a specific example, fused silica having a crushed or spherical shape, crystalline silica, or the like is mainly used, and in addition, alumina, silicon nitride, aluminum nitride, or the like can also be used. The average particle size of the inorganic filler is preferably in the range of 5 to 20 μm. Further, the shape is not particularly limited, and various shapes such as spherical shape and crushed shape can be used, but in order to achieve both low expansion of the cured product and moldability, a blend of spherical and crushed products, or a spherical product It is better to use only. This type of inorganic filler can be used after being surface-treated with a silane coupling agent in advance.

【0022】無機質充填剤の充填量は、エポキシ樹脂と
硬化剤との合計量100部に対して100〜1000部
が好ましく、100部未満では膨張係数が大きくなりB
GAパッケージの反りが大きくなる上、半導体素子に加
わる応力が増大し、素子特性の劣化を招く場合があり、
1000部を超えると成形時の粘度が高くなり成形性が
悪くなる場合がある。
The filling amount of the inorganic filler is preferably 100 to 1000 parts with respect to 100 parts of the total amount of the epoxy resin and the curing agent, and if it is less than 100 parts, the expansion coefficient becomes large and B
In addition to the large warpage of the GA package, the stress applied to the semiconductor element may increase, which may lead to deterioration of element characteristics.
If it exceeds 1000 parts, the viscosity at the time of molding becomes high and the moldability may deteriorate.

【0023】次に、本発明における重要な成分である熱
可塑性樹脂としては、例えばスチレン−エチレン−ブチ
レン−スチレン共重合体(SEBS樹脂)、メタクリル
酸メチル−ブタジエン−スチレン共重合体(MBS樹
脂)等のポリマーが好適に使用されるが、とりわけメタ
クリル酸メチル−ブタジエン−スチレン共重合体(MB
S樹脂)がより好適に使用される。
Next, as the thermoplastic resin which is an important component in the present invention, for example, styrene-ethylene-butylene-styrene copolymer (SEBS resin), methyl methacrylate-butadiene-styrene copolymer (MBS resin). Polymers such as Methyl Methacrylate-Butadiene-Styrene Copolymer (MB
S resin) is more preferably used.

【0024】更に、MBS樹脂としては、ブタジエン・
スチレン共重合ゴムを乳化重合により調製し、これにス
チレン・メチルメタクリレートをグラフト重合した後、
凝固乾燥させ、パウダー状にしたものを用いることが効
果的である。
Further, as the MBS resin, butadiene.
Styrene copolymer rubber was prepared by emulsion polymerization, and after styrene / methyl methacrylate was graft-polymerized,
It is effective to use a powder that is solidified and dried.

【0025】上記熱可塑性樹脂は、エポキシ樹脂組成物
に混合する際にはできるだけ微粉末にして添加するか、
あるいは予めエポキシ樹脂やフェノール樹脂と溶融混合
した後に添加することが望ましい。
When the above-mentioned thermoplastic resin is mixed with the epoxy resin composition, it is added as fine powder as possible.
Alternatively, it is desirable to add it after previously melt-mixing with an epoxy resin or a phenol resin.

【0026】また、熱可塑性樹脂と共に使用することで
接着性を改善するメルカプト基又は分解してメルカプト
基を生成する基と加水分解性基とを有する有機ケイ素化
合物としては、下記構造式で示されるような化合物を代
表例として挙げることができる。上記加水分解性基とし
ては、炭素数1〜5のアルコキシ基を挙げることができ
る。
The organosilicon compound having a hydrolyzable group and a mercapto group that improves adhesiveness when used together with a thermoplastic resin or a group that decomposes to form a mercapto group is represented by the following structural formula. Such compounds can be mentioned as typical examples. Examples of the hydrolyzable group include alkoxy groups having 1 to 5 carbon atoms.

【0027】[0027]

【化3】 Embedded image

【0028】また、分解してメルカプト基を発生する化
合物としては、下記のものを挙げることができる。 (CH3O)3SiCH2CH2CH2SSCH2CH2CH2
Si(OCH33
Further, examples of the compound which decomposes to generate a mercapto group include the following. (CH 3 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 SSCH 2 CH 2 CH 2
Si (OCH 3 ) 3

【0029】上記熱可塑性樹脂の配合量は、エポキシ樹
脂と硬化剤との合計量100部に対して0.5〜20
部、好ましくは2〜10部とする。熱可塑性樹脂の配合
量が0.5部未満では十分な接着性が得られず、20部
を超えるとエポキシ樹脂組成物の粘度が高くなり流動性
が低下する上、機械的な強度が弱くなるといった問題が
生じる。
The blending amount of the thermoplastic resin is 0.5 to 20 with respect to 100 parts of the total amount of the epoxy resin and the curing agent.
Parts, preferably 2 to 10 parts. If the blending amount of the thermoplastic resin is less than 0.5 part, sufficient adhesiveness cannot be obtained, and if it exceeds 20 parts, the viscosity of the epoxy resin composition increases and the fluidity decreases, and the mechanical strength becomes weak. Such a problem occurs.

【0030】また、メルカプト基と加水分解性基とを有
する有機ケイ素化合物の配合量は、エポキシ樹脂と硬化
剤との合計量100部に対して0.1〜5部、好ましく
は0.2〜2部とする。上記有機ケイ素化合物の配合量
が0.1部未満では十分な接着力を得ることができない
ばかりか場合によっては半導体特性が低下してしまい、
5部を超えると半導体特性が低下する。
The amount of the organosilicon compound having a mercapto group and a hydrolyzable group is 0.1 to 5 parts, preferably 0.2 to 5 parts, based on 100 parts of the total amount of the epoxy resin and the curing agent. 2 copies. If the blending amount of the above organosilicon compound is less than 0.1 part, sufficient adhesive force cannot be obtained, and in some cases, semiconductor characteristics are deteriorated.
If it exceeds 5 parts, the semiconductor characteristics deteriorate.

【0031】更に、熱可塑性樹脂とメルカプト基及び加
水分解性基を有する有機ケイ素化合物との配合比率は、
重量比で熱可塑性樹脂1に対して上記有機ケイ素化合物
の配合比率が0.01〜0.5、特に0.01〜0.3
の範囲となることが望ましい。熱可塑性樹脂1に対して
上記有機ケイ素化合物の配合比率が0.01未満ではや
はり十分な接着が得られない場合があり、0.5を超え
ると半導体特性が低下する場合がある。
Further, the mixing ratio of the thermoplastic resin and the organosilicon compound having a mercapto group and a hydrolyzable group is
The weight ratio of the organic silicon compound to the thermoplastic resin 1 is 0.01 to 0.5, particularly 0.01 to 0.3.
It is desirable to be within the range. If the compounding ratio of the above organosilicon compound to the thermoplastic resin 1 is less than 0.01, sufficient adhesion may not be obtained, and if it exceeds 0.5, the semiconductor properties may deteriorate.

【0032】本発明では、上記成分に加え、硬化触媒を
配合することが好ましい。硬化触媒としては、例えばイ
ミダゾール又はその誘導体、ホスフィン誘導体、シクロ
アミジン誘導体等が代表例として挙げられるが、特に下
記構造式で示される2P4MHZや2PHZが望ましく
使用される。
In the present invention, it is preferable to add a curing catalyst in addition to the above components. Typical examples of the curing catalyst include imidazole or a derivative thereof, a phosphine derivative, and a cycloamidine derivative, and 2P4MHZ and 2PHZ represented by the following structural formulas are particularly preferably used.

【0033】[0033]

【化4】 [Chemical 4]

【0034】硬化触媒の使用量は、触媒量とすることが
できるが、エポキシ樹脂と硬化剤との合計量100部に
対して0.001〜10部、特に0.1〜4部が好適で
ある。0.001部に満たないと短時間で硬化させるこ
とができない場合があり、10部を超えると硬化速度が
早すぎて良好な成形品が得られない場合がある。
The amount of the curing catalyst used may be a catalytic amount, but 0.001 to 10 parts, particularly 0.1 to 4 parts is suitable for 100 parts of the total amount of the epoxy resin and the curing agent. is there. If it is less than 0.001 part, it may not be possible to cure in a short time, and if it exceeds 10 parts, the curing rate may be too fast to obtain a good molded product.

【0035】本発明組成物には、低応力化のためシリコ
ーン系の可とう性付与剤を添加することもできる。シリ
コーン系の可とう性付与剤としては、例えばシリコーン
ゴムパウダー、シリコーンゲル、有機樹脂とシリコーン
ポリマーとのブロックポリマーなどが挙げられる。ま
た、二液タイプのシリコーンゴムやシリコーンゲルで無
機質充填剤表面を処理しても良い。
A silicone-based flexibility-imparting agent may be added to the composition of the present invention to reduce stress. Examples of the silicone-based flexibility imparting agent include silicone rubber powder, silicone gel, block polymers of organic resin and silicone polymer, and the like. The surface of the inorganic filler may be treated with a two-component type silicone rubber or silicone gel.

【0036】通常この種の低応力化剤の使用量は、組成
物全体の0.5〜10重量%、特に1〜5重量%が望ま
しく、0.5重量%に満たないと十分な耐衝撃性を与え
ない場合があり、10重量%を超えると機械的強度が不
十分となる場合がある。
Usually, the amount of this type of stress reducing agent used is preferably 0.5 to 10% by weight, more preferably 1 to 5% by weight, based on the whole composition. May not be imparted, and if it exceeds 10% by weight, mechanical strength may be insufficient.

【0037】なお、本発明の組成物には、必要に応じて
カルナバワックス、高級脂肪酸、合成ワックス類などの
離型剤、更にメルカプト基を有さないシランカップリン
グ剤、酸化アンチモン、リン化合物などを配合しても良
い。
In the composition of the present invention, if necessary, a releasing agent such as carnauba wax, higher fatty acid or synthetic wax, silane coupling agent having no mercapto group, antimony oxide, phosphorus compound, etc. May be blended.

【0038】本発明組成物は、上記した各成分を加熱ロ
ールによる溶融混練、ニーダーによる溶融混練、連続押
し出し機による溶融混練などで溶融混練することにより
製造することができる。なお、硬化条件は特に制限され
ないが、165〜185℃で2〜8時間ポストキュアー
することが望ましい。
The composition of the present invention can be produced by melt-kneading the above-mentioned components by melt-kneading with a heating roll, melt-kneading with a kneader, melt-kneading with a continuous extruder, or the like. The curing conditions are not particularly limited, but post-curing at 165 to 185 ° C. for 2 to 8 hours is desirable.

【0039】[0039]

【発明の効果】本発明の熱硬化性樹脂組成物は、成形時
の樹脂粘度が低く、ソルダーマスクや金メッキとの接着
性に優れた硬化物を与え、パッケージの反りを低減する
ことが可能であり、BGAパッケージのような片面成形
の半導体パッケージ用の封止材等として好適に使用する
ことができる。
EFFECT OF THE INVENTION The thermosetting resin composition of the present invention provides a cured product having a low resin viscosity at the time of molding and excellent adhesiveness with a solder mask or gold plating, and can reduce the warpage of the package. Therefore, it can be suitably used as a sealing material for a single-sided semiconductor package such as a BGA package.

【0040】[0040]

【実施例】以下、実施例及び比較例を示して本発明を具
体的に説明するが、本発明は下記実施例に制限されるも
のではない。なお、各例中の部はいずれも重量部であ
る。
EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to the following Examples. All parts in each example are parts by weight.

【0041】〔実施例、比較例〕表1に示す配合組成に
従い、原料を均一に混合した後、90℃に設定された2
本ロールで均一に溶融混合して熱硬化性樹脂組成物を得
た。
[Examples and Comparative Examples] According to the blending composition shown in Table 1, the raw materials were uniformly mixed and then set to 90 ° C.
A thermosetting resin composition was obtained by uniformly melt-mixing with this roll.

【0042】これらの熱硬化性樹脂組成物について、以
下の諸特性を測定した。結果を表1に示す。 (イ)スパイラルフロー EMMI規格に準じた金型を使用して175℃、70k
g/cm2の条件で測定した。 (ロ)溶融粘度 島津高化式フローテスターを用い、175℃で測定し
た。 (ハ)機械的強度(曲げ強度及び曲げ弾性率) JIS−K6911に準じて175℃、70kg/cm
2、成形時間2分の条件で10×100×4mmの抗折
棒を成形し、180℃で4時間ポストキュアーしたもの
について測定した。 (ハ)ガラス転移温度、膨張係数 175℃、70kg/cm2、成形時間2分の条件で4
×4×15mmの試験片を成形し、180℃で4時間ポ
ストキュアーしたものを用い、ディライトメーターによ
り毎分5℃で昇温させることにより測定した。 (ヘ)接着性 金メッキした42アロイ板に直径15mm、高さ5mm
の円筒成形品を175℃、70kg/cm2、成形時間
2分の条件で成形し、180℃で4時間ポストキュアー
した後、プッシュプルゲージで成形物と金メッキとの接
着性を測定した。n=5の平均値。
The following various properties were measured for these thermosetting resin compositions. The results are shown in Table 1. (A) Spiral flow 175 ° C, 70k using a mold conforming to EMMI standard
It was measured under the condition of g / cm 2 . (B) Melt viscosity It was measured at 175 ° C. using a Shimadzu Koka type flow tester. (C) Mechanical strength (flexural strength and flexural modulus) 175 ° C., 70 kg / cm according to JIS-K6911
2. A bending bar of 10 × 100 × 4 mm was molded under the condition of a molding time of 2 minutes, and post-cured at 180 ° C. for 4 hours, and then measured. (C) Glass transition temperature, expansion coefficient 175 ° C., 70 kg / cm 2 , molding time 2 minutes 4
It was measured by molding a test piece of × 4 × 15 mm, post-curing at 180 ° C. for 4 hours, and raising the temperature at 5 ° C./min with a delight meter. (F) Adhesiveness A gold-plated 42 alloy plate with a diameter of 15 mm and a height of 5 mm
The cylindrical molded article was molded under the conditions of 175 ° C., 70 kg / cm 2 and a molding time of 2 minutes, post-cured at 180 ° C. for 4 hours, and the adhesiveness between the molded product and gold plating was measured with a push-pull gauge. Average of n = 5.

【0043】[0043]

【表1】 [Table 1]

【0044】[0044]

【化5】 Embedded image

【0045】表1の結果より、熱可塑性樹脂とメルカプ
ト基含有有機ケイ素化合物とを併用した場合、金メッキ
との接着力に優れた硬化物を与えるが、熱可塑性樹脂と
メルカプト基含有有機ケイ素化合物とをそれぞれ単独使
用した場合(比較例2,3)は、金メッキとの接着力が
劣ることが認められる。また、熱可塑性樹脂を多量に配
合した場合(比較例1)、高粘度となり、スパイラルフ
ローも低下する上、曲げ強さ、曲げ弾性率も劣ることが
認められる。
From the results shown in Table 1, when the thermoplastic resin and the mercapto group-containing organosilicon compound are used in combination, a cured product having excellent adhesion to gold plating is obtained. It is recognized that when each of these is used alone (Comparative Examples 2 and 3), the adhesive strength to gold plating is poor. Further, when a large amount of a thermoplastic resin is blended (Comparative Example 1), the viscosity becomes high, the spiral flow is lowered, and the bending strength and bending elastic modulus are also inferior.

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成8年2月21日[Submission date] February 21, 1996

【手続補正1】[Procedure Amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0014[Correction target item name] 0014

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0014】[0014]

【化1】 Embedded image

【手続補正2】[Procedure Amendment 2]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0015[Name of item to be corrected] 0015

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0015】[0015]

【化2】 (但し、tBuはt−ブチル基を示す。また、nは0又
は1〜10の整数である。)
Embedded image (However, tBu represents a t-butyl group, and n is 0 or an integer of 1 to 10.)

【手続補正3】[Procedure 3]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0044[Correction target item name] 0044

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0044】[0044]

【化5】 タフテックM1943:スチレン−エチレン−ブチレン
−スチレン共重合体(旭化成社製) M901:メタクリル酸メチル−スチレン−ブタジエン
共重合体(鐘淵化学社製)
Embedded image Tuftec M1943: Styrene-ethylene-butylene-styrene copolymer (manufactured by Asahi Kasei) M901: Methyl methacrylate-styrene-butadiene copolymer (manufactured by Kanegafuchi Chemical Co., Ltd.)

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C08L 101:00) (72)発明者 池田 多春 群馬県碓氷郡松井田町大字人見1番地10 信越化学工業株式会社シリコーン電子材料 技術研究所内─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI technical display location C08L 101: 00) (72) Inventor Taharu Ikeda 1 Hitomi, Osamu Matsuida-cho, Usui District, Gunma Prefecture Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Silicone Electronic Materials Technology Laboratory

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (A)エポキシ樹脂及び硬化剤100重
量部、(B)無機質充填剤100〜1000重量部、
(C)熱可塑性樹脂0.5〜20重量部、(D)メルカ
プト基又は分解によりメルカプト基を生成する基及び加
水分解性基を有する有機ケイ素化合物0.1〜5重量部
を含有してなることを特徴とする熱硬化性樹脂組成物。
1. (A) 100 parts by weight of an epoxy resin and a curing agent, (B) 100 to 1000 parts by weight of an inorganic filler,
(C) 0.5 to 20 parts by weight of a thermoplastic resin, and (D) 0.1 to 5 parts by weight of an organosilicon compound having a mercapto group or a group that generates a mercapto group by decomposition and a hydrolyzable group. A thermosetting resin composition comprising:
【請求項2】 熱可塑性樹脂がメタクリル酸メチル−ブ
タジエン−スチレン共重合体又はスチレン−エチレン−
ブチレン−スチレン共重合体である請求項1記載の熱硬
化性樹脂組成物。
2. The thermoplastic resin is methyl methacrylate-butadiene-styrene copolymer or styrene-ethylene-
The thermosetting resin composition according to claim 1, which is a butylene-styrene copolymer.
【請求項3】 エポキシ樹脂としてビスフェノールA型
エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂及
びフェニル基に一価炭化水素基を有する多官能型のエポ
キシ樹脂から選ばれるものを使用する請求項1又は2記
載の熱硬化性樹脂組成物。
3. An epoxy resin selected from a bisphenol A type epoxy resin, a cresol novolac type epoxy resin and a polyfunctional type epoxy resin having a monovalent hydrocarbon group in a phenyl group. Thermosetting resin composition.
JP07087473A 1995-03-20 1995-03-20 Thermosetting resin composition Expired - Fee Related JP3127772B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP07087473A JP3127772B2 (en) 1995-03-20 1995-03-20 Thermosetting resin composition

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP07087473A JP3127772B2 (en) 1995-03-20 1995-03-20 Thermosetting resin composition

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH08259666A true JPH08259666A (en) 1996-10-08
JP3127772B2 JP3127772B2 (en) 2001-01-29

Family

ID=13915894

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP07087473A Expired - Fee Related JP3127772B2 (en) 1995-03-20 1995-03-20 Thermosetting resin composition

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3127772B2 (en)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6117953A (en) * 1998-01-22 2000-09-12 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Liquid epoxy resin composition for ball grid array package
US6139978A (en) * 1998-01-12 2000-10-31 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Semiconductor encapsulating epoxy resin compositions, and semiconductor devices encapsulated therewith
US6231997B1 (en) 1998-07-21 2001-05-15 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Semiconductor encapsulating epoxy resin compositions, and semiconductor devices
US6342309B1 (en) 1999-08-19 2002-01-29 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Epoxy resin composition and semiconductor device
US6500564B1 (en) 1999-08-19 2002-12-31 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Semiconductor encapsulating epoxy resin composition and semiconductor device

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6139978A (en) * 1998-01-12 2000-10-31 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Semiconductor encapsulating epoxy resin compositions, and semiconductor devices encapsulated therewith
US6117953A (en) * 1998-01-22 2000-09-12 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Liquid epoxy resin composition for ball grid array package
US6231997B1 (en) 1998-07-21 2001-05-15 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Semiconductor encapsulating epoxy resin compositions, and semiconductor devices
US6342309B1 (en) 1999-08-19 2002-01-29 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Epoxy resin composition and semiconductor device
US6500564B1 (en) 1999-08-19 2002-12-31 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Semiconductor encapsulating epoxy resin composition and semiconductor device

Also Published As

Publication number Publication date
JP3127772B2 (en) 2001-01-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2526747B2 (en) Epoxy resin composition and semiconductor device
KR101585271B1 (en) Epoxy resin composition for semiconductor encapsulation and semiconductor device using the same
JPS6355532B2 (en)
KR100769792B1 (en) Epoxy resin composition for semiconductor encapsulation and semiconductor device using the same
KR101997351B1 (en) Epoxy resin composition
JP2006233016A (en) Epoxy resin composition and semiconductor device
KR100592461B1 (en) Epoxy resin composition and semiconductor device for semiconductor encapsulation
JPH06102715B2 (en) Epoxy resin composition and semiconductor device
JPH08157561A (en) Semiconductor-sealing epoxy resin composition and semiconductor device
JP3127772B2 (en) Thermosetting resin composition
JPH11263826A (en) Epoxy resin composition for semiconductor sealing and semiconductor device sealed therewith
KR100429363B1 (en) Epoxy resin composition for semiconductor device sealing
JP3214266B2 (en) Epoxy resin composition for semiconductor encapsulation and semiconductor device
JP2000044774A (en) Epoxy resin composition for sealing semiconductor and semiconductor device
JPH11130936A (en) Epoxy resin composition and semiconductor device
US6168872B1 (en) Semiconductor encapsulating epoxy resin composition and semiconductor device
JP2003105057A (en) Epoxy resin composition and semiconductor device
JP2000017149A (en) Liquid epoxy resin composition for sealing medium and its cured product
JP2005162826A (en) Sealing resin composition and resin-sealed semiconductor device
JP2000095841A (en) Epoxy resin composition for sealing semiconductor and semiconductor device
JP2005290111A (en) Resin composition for encapsulation and semiconductor device
KR102571498B1 (en) Epoxy resin compositions for molding
JP3206317B2 (en) Method for producing epoxy resin composition and epoxy resin composition
JP3309688B2 (en) Method for producing epoxy resin composition
JP2874090B2 (en) Epoxy resin composition and semiconductor device

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101110

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101110

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111110

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111110

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121110

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121110

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131110

Year of fee payment: 13

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees