JPH08246119A - 金属の表面処理装置 - Google Patents
金属の表面処理装置Info
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- JPH08246119A JPH08246119A JP7045888A JP4588895A JPH08246119A JP H08246119 A JPH08246119 A JP H08246119A JP 7045888 A JP7045888 A JP 7045888A JP 4588895 A JP4588895 A JP 4588895A JP H08246119 A JPH08246119 A JP H08246119A
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- Japan
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- plasma
- torches
- magnetic
- metal surface
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 複数のプラズマトーチを並設して同時にリメ
ルト処理する場合の相互間の磁気吹きによる精度低下を
解決する。 【構成】 複数のプラズマトーチを並設して金属の表面
を同時に溶融処理する金属の表面処理装置において、上
記複数のプラズマトーチの各々の周囲にプラズマアーク
の発生方向を可変制御する磁気攪拌制御装置を設けた。
ルト処理する場合の相互間の磁気吹きによる精度低下を
解決する。 【構成】 複数のプラズマトーチを並設して金属の表面
を同時に溶融処理する金属の表面処理装置において、上
記複数のプラズマトーチの各々の周囲にプラズマアーク
の発生方向を可変制御する磁気攪拌制御装置を設けた。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本願発明は、例えばプラズマアー
ク等の高密度熱エネルギー源である電子流を発生する複
数の電子流トーチを並設して金属の表面を同時に溶融処
理する金属の表面処理装置に関するものである。
ク等の高密度熱エネルギー源である電子流を発生する複
数の電子流トーチを並設して金属の表面を同時に溶融処
理する金属の表面処理装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】例えば高密度熱エネルギー源である電子
流としてプラズマアークを利用した、アルミニウム合金
や鋳鉄等金属部材の溶接、溶融装置は、プラズマトーチ
として例えば特開平２−１４７１６９号公報に示される
ように従来から知られている。そして、該装置を同様の
金属製品の再溶融処理(リメルト処理)に使用すること
も、従来より自動車用エンジンシリンダヘッド部の吸排
気弁間領域の内部応力向上加工(対熱疲労強度向上加工)
などの分野において多く採用されている。
流としてプラズマアークを利用した、アルミニウム合金
や鋳鉄等金属部材の溶接、溶融装置は、プラズマトーチ
として例えば特開平２−１４７１６９号公報に示される
ように従来から知られている。そして、該装置を同様の
金属製品の再溶融処理(リメルト処理)に使用すること
も、従来より自動車用エンジンシリンダヘッド部の吸排
気弁間領域の内部応力向上加工(対熱疲労強度向上加工)
などの分野において多く採用されている。
【０００３】そして、該後者の場合において、その加工
効率、生産性を向上させるために、例えば図４に示すよ
うに、上記のような複数のプラズマトーチを２本(図４
の符号２１,２２参照)並設して同時に当該ワーク３の表
面を再溶融処理する並設加工方法が採用されることがあ
る。
効率、生産性を向上させるために、例えば図４に示すよ
うに、上記のような複数のプラズマトーチを２本(図４
の符号２１,２２参照)並設して同時に当該ワーク３の表
面を再溶融処理する並設加工方法が採用されることがあ
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記のよう
に複数のプラズマトーチ２１,２２を２本並設して使用
するようにした場合、各トーチ２１,２２間の間隔が所
定距離以上に近くなると、発生するプラズマアーク同士
の磁気吹き(アークブロー)の影響により、例えば図４に
示すように相互のプラズマアーク７,７が水平面方向内
側に傾むく現象が発生し、各々の再溶融処理面３a,３a
に対して正確な衝射位置精度を保てなくなる問題を生じ
る。
に複数のプラズマトーチ２１,２２を２本並設して使用
するようにした場合、各トーチ２１,２２間の間隔が所
定距離以上に近くなると、発生するプラズマアーク同士
の磁気吹き(アークブロー)の影響により、例えば図４に
示すように相互のプラズマアーク７,７が水平面方向内
側に傾むく現象が発生し、各々の再溶融処理面３a,３a
に対して正確な衝射位置精度を保てなくなる問題を生じ
る。
【０００５】これは、例えば図５に示すように、上記プ
ラズマアーク７,７自体が上方から下方に流れる電子流
であり、右ネジの法則に基く磁界が矢印のように発生
し、該磁界が相互に相手側プラズマアークを吸引力Ｖ2
によって吸引するためである。なお、図５は、一方側を
中心として示したが、他方側でも同様の事情となる。
ラズマアーク７,７自体が上方から下方に流れる電子流
であり、右ネジの法則に基く磁界が矢印のように発生
し、該磁界が相互に相手側プラズマアークを吸引力Ｖ2
によって吸引するためである。なお、図５は、一方側を
中心として示したが、他方側でも同様の事情となる。
【０００６】上掲の公知例公報中には、例えばプラズマ
アーク中において、ミグアークの位置および角度の何れ
か一方を変化させることにより発生するプラズマアーク
の強度分布を変える技術思想が開示されているが、その
ようにプラズマアークの強度分布を変える方法では、該
問題を解決することができない。
アーク中において、ミグアークの位置および角度の何れ
か一方を変化させることにより発生するプラズマアーク
の強度分布を変える技術思想が開示されているが、その
ようにプラズマアークの強度分布を変える方法では、該
問題を解決することができない。
【０００７】本願発明は、このような事情に基いてなさ
れたもので、上記プラズマアーク自体が磁気の影響を受
ける電子流であることに着眼して磁気制御を行うことに
より、アーク方向をコントロール可能として、上記のよ
うな問題を解決した金属の表面処理装置を提供すること
を目的とするものである。
れたもので、上記プラズマアーク自体が磁気の影響を受
ける電子流であることに着眼して磁気制御を行うことに
より、アーク方向をコントロール可能として、上記のよ
うな問題を解決した金属の表面処理装置を提供すること
を目的とするものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】そして、本願発明は、該
目的を達成するために、次のような課題解決手段を備え
て構成されている。
目的を達成するために、次のような課題解決手段を備え
て構成されている。
【０００９】すなわち、先ず本願発明の金属の表面処理
装置は、例えば複数のプラズマトーチ等電子流トーチを
並設して金属の表面を同時に溶融又は再溶融処理する金
属の表面処理装置において、上記複数のプラズマトーチ
等電子流トーチの各々の周囲にプラズマアーク等電子流
の発生方向を例えば回転方向等任意の方向に可変制御す
る磁気制御装置を設けて構成されている。
装置は、例えば複数のプラズマトーチ等電子流トーチを
並設して金属の表面を同時に溶融又は再溶融処理する金
属の表面処理装置において、上記複数のプラズマトーチ
等電子流トーチの各々の周囲にプラズマアーク等電子流
の発生方向を例えば回転方向等任意の方向に可変制御す
る磁気制御装置を設けて構成されている。
【００１０】そして、上記磁気制御装置は、例えば上記
プラズマトーチ等電子流トーチのトーチ部外周囲に巻成
された電磁コイルと該電磁コイルに矩形波電流を流す矩
形波電源とから構成されており、また、そのトーチ部直
下で例えば１〜３０ガウスの交番磁界を発生させるよう
に構成されている。
プラズマトーチ等電子流トーチのトーチ部外周囲に巻成
された電磁コイルと該電磁コイルに矩形波電流を流す矩
形波電源とから構成されており、また、そのトーチ部直
下で例えば１〜３０ガウスの交番磁界を発生させるよう
に構成されている。
【００１１】
【作用】したがって、本願発明の金属の表面処理装置で
は、上記構成に対応して次のような作用が得られる。
は、上記構成に対応して次のような作用が得られる。
【００１２】すなわち、本願発明の金属の表面処理装置
の構成では、以上のように、複数のプラズマトーチ等電
子流トーチを並設して金属の表面を同時に溶融又は再溶
融処理する金属の表面処理装置において、上記複数のプ
ラズマトーチ等電子流トーチの各々のトーチ部周囲にプ
ラズマアーク等電子流の発生方向を回転方向等任意の方
向に可変制御する磁気制御装置を設けているので、当該
磁気制御装置により電子流であるプラズマアーク等溶融
ビームの発生方向が任意の方向に可変コントロールされ
る。
の構成では、以上のように、複数のプラズマトーチ等電
子流トーチを並設して金属の表面を同時に溶融又は再溶
融処理する金属の表面処理装置において、上記複数のプ
ラズマトーチ等電子流トーチの各々のトーチ部周囲にプ
ラズマアーク等電子流の発生方向を回転方向等任意の方
向に可変制御する磁気制御装置を設けているので、当該
磁気制御装置により電子流であるプラズマアーク等溶融
ビームの発生方向が任意の方向に可変コントロールされ
る。
【００１３】そのため、上述の図４のように並設された
例えば２本のプラズマトーチ等電子流トーチの間隔が所
定距離以上に小さく、相互のプラズマアーク等電子流間
の磁気吹きにより、発生するプラズマアーク等電子流が
所定の方向に傾むくような場合には、それと反対方向又
は求心方向に磁力が作用する磁界を形成することによ
り、本来の適正なトーチ直下方向にプラズマアーク等電
子流の発生方向を可変設定することができるようにな
る。
例えば２本のプラズマトーチ等電子流トーチの間隔が所
定距離以上に小さく、相互のプラズマアーク等電子流間
の磁気吹きにより、発生するプラズマアーク等電子流が
所定の方向に傾むくような場合には、それと反対方向又
は求心方向に磁力が作用する磁界を形成することによ
り、本来の適正なトーチ直下方向にプラズマアーク等電
子流の発生方向を可変設定することができるようにな
る。
【００１４】その場合において、上記磁気制御装置が、
特にトーチ部外周囲に巻成された電磁コイルと該電磁コ
イルに矩形波電流を流す矩形波電源とから構成されてい
ると、より正確な交番磁界を形成することができ、回転
方向への磁気攪拌が可能になるとともにその制御も容易
になる。
特にトーチ部外周囲に巻成された電磁コイルと該電磁コ
イルに矩形波電流を流す矩形波電源とから構成されてい
ると、より正確な交番磁界を形成することができ、回転
方向への磁気攪拌が可能になるとともにその制御も容易
になる。
【００１５】また、該交番磁界の強度は、母材の溶融部
自体に磁気攪拌を生じさせないために、例えば上記トー
チ部直下において１〜３０ガウスが適当であり、上記磁
気制御装置は、トーチ部直下で１〜３０ガウスの範囲の
交番磁界を発生するように構成されていることが適切で
ある。
自体に磁気攪拌を生じさせないために、例えば上記トー
チ部直下において１〜３０ガウスが適当であり、上記磁
気制御装置は、トーチ部直下で１〜３０ガウスの範囲の
交番磁界を発生するように構成されていることが適切で
ある。
【００１６】
【発明の効果】以上の結果、本願発明の金属の表面処理
装置によると、プラズマアーク等電子流同士の磁気吹き
による溶融部のビードのうねりや位置ズレを生じること
なく、高精度のメルト、リメルト処理が可能となる。
装置によると、プラズマアーク等電子流同士の磁気吹き
による溶融部のビードのうねりや位置ズレを生じること
なく、高精度のメルト、リメルト処理が可能となる。
【００１７】従って、複数のプラズマトーチ等電子流ト
ーチの並設加工による生産性の向上効果を問題なく実現
することができる。
ーチの並設加工による生産性の向上効果を問題なく実現
することができる。
【００１８】
【実施例】図１〜図３は、例えば複数のプラズマトーチ
を並設して構成した本願発明の実施例に係る金属の表面
処理装置の構成および作用を示している。
を並設して構成した本願発明の実施例に係る金属の表面
処理装置の構成および作用を示している。
【００１９】先ず図１は、同装置のワークリメルト処理
(再溶融処理)状態における全体的な構成を表しており、
符号１は第１のプラズマトーチ、２は第２のプラズマト
ーチ、３は該第１、第２の２つのプラズマトーチ１,２
によってリメルト処理される例えばエンジンのシリンダ
ヘッド等のアルミニウム合金製ワークである。
(再溶融処理)状態における全体的な構成を表しており、
符号１は第１のプラズマトーチ、２は第２のプラズマト
ーチ、３は該第１、第２の２つのプラズマトーチ１,２
によってリメルト処理される例えばエンジンのシリンダ
ヘッド等のアルミニウム合金製ワークである。
【００２０】上記第１、第２のプラズマトーチ１,２
は、相互に並列した状態で一体的に固定され、ワーク３
の一端から他端方向に移動可能に支持されている。該第
１、第２のプラズマトーチ１,２は、例えば図２に詳細
に示すように、棒状のプラズマ電極４を中心として、そ
の外周囲に各々筒状のパイロットガスノズル５、シール
ドカセット６を順次同心状に配設して構成されている。
そして、上記パイロットガスノズル５内には、パイロッ
トガス供給源から例えばアルゴン等の不活性ガスを採用
したパイロットガスが供給され、そのノズル先端側噴口
部５aから上記ワーク３の予じめ設定されたリメルト処
理部３a方向に向けて吹き出されるようになっている。
また、上記シールドカセット６内にも同様の不活性ガス
が供給され、その先端側開口部６aから上記ワーク３側
リメルト処理部３a外周囲方向に吹き出されるようにな
っている。
は、相互に並列した状態で一体的に固定され、ワーク３
の一端から他端方向に移動可能に支持されている。該第
１、第２のプラズマトーチ１,２は、例えば図２に詳細
に示すように、棒状のプラズマ電極４を中心として、そ
の外周囲に各々筒状のパイロットガスノズル５、シール
ドカセット６を順次同心状に配設して構成されている。
そして、上記パイロットガスノズル５内には、パイロッ
トガス供給源から例えばアルゴン等の不活性ガスを採用
したパイロットガスが供給され、そのノズル先端側噴口
部５aから上記ワーク３の予じめ設定されたリメルト処
理部３a方向に向けて吹き出されるようになっている。
また、上記シールドカセット６内にも同様の不活性ガス
が供給され、その先端側開口部６aから上記ワーク３側
リメルト処理部３a外周囲方向に吹き出されるようにな
っている。
【００２１】そして、該不活性ガス雰囲気中において、
上記プラズマ電極４に所定の電源電圧が印加されると、
図示のように当該プラズマ電極４の先端４aからは高密
度エネルギー熱源である電子流の一種であるビーム状の
プラズマアーク７が生成され、該プラズマアーク７が上
記ワーク３のリメルト処理部３aに衝射されることによ
って当該リメルト処理部３aの母材が図示のようにプラ
ズマトーチ１,２の移動方向に所望の深さで再溶融され
てゆく。
上記プラズマ電極４に所定の電源電圧が印加されると、
図示のように当該プラズマ電極４の先端４aからは高密
度エネルギー熱源である電子流の一種であるビーム状の
プラズマアーク７が生成され、該プラズマアーク７が上
記ワーク３のリメルト処理部３aに衝射されることによ
って当該リメルト処理部３aの母材が図示のようにプラ
ズマトーチ１,２の移動方向に所望の深さで再溶融され
てゆく。
【００２２】該局部的なリメルト完了部８は、ワーク３
のアルミニウム合金母材全体への熱伝導(熱拡散)による
自己冷却作用によって内部応力を十分に高くした状態で
急冷凝固され、組織が微細化されて、その強度(特に対
熱疲労強度)が強化向上される。
のアルミニウム合金母材全体への熱伝導(熱拡散)による
自己冷却作用によって内部応力を十分に高くした状態で
急冷凝固され、組織が微細化されて、その強度(特に対
熱疲労強度)が強化向上される。
【００２３】一方、該第１、第２のプラズマトーチ１,
２の上記シールドカセット６下端部の外周には、図１に
示すように各々第１、第２の電磁コイル９,１０がリン
グ状に巻成固定されており、該第１、第２の電磁コイル
９,１０の各々には第１、第２の矩形波電源１１,１２か
ら励磁電流として矩形波電流がそれぞれ供給されるよう
になっている。
２の上記シールドカセット６下端部の外周には、図１に
示すように各々第１、第２の電磁コイル９,１０がリン
グ状に巻成固定されており、該第１、第２の電磁コイル
９,１０の各々には第１、第２の矩形波電源１１,１２か
ら励磁電流として矩形波電流がそれぞれ供給されるよう
になっている。
【００２４】上記第１、第２の電磁コイル９,１０は、
例えば図３(電極部縦断面図)に示すように、それぞれ上
記第１、第２の矩形波電源１１,１２による所定周期で
の電流の印加方向の変化によって上記プラズマ電極４,
４からのプラズマアーク７,７に相互に作用する磁力(磁
気ベクトルＶ2)の方向が変わり、プラズマアーク７を所
定の半径で右又は左回り方向に回転させる磁気攪拌作用
を生じる。この結果、図５に示したような相手側磁界か
らの吸引力Ｖ2が打ち消され求心力が高まる。そして、
これによりプラズマアーク７本来の直下方向のベクトル
Ｖ1と上記相手側磁界の影響による吸引力Ｖ2とを合成し
た略直下方向へのベクトルＶ3でのプラズマアーク７が
生じるようになる。その結果、例えば隣合う第１、第２
のプラズマトーチ１,２各々での磁気吹きが生じにくく
なり、図４に示した従来のような相互の磁気吹きによる
プラズマアーク７,７の傾き現象は殆んど発生しなくな
る。
例えば図３(電極部縦断面図)に示すように、それぞれ上
記第１、第２の矩形波電源１１,１２による所定周期で
の電流の印加方向の変化によって上記プラズマ電極４,
４からのプラズマアーク７,７に相互に作用する磁力(磁
気ベクトルＶ2)の方向が変わり、プラズマアーク７を所
定の半径で右又は左回り方向に回転させる磁気攪拌作用
を生じる。この結果、図５に示したような相手側磁界か
らの吸引力Ｖ2が打ち消され求心力が高まる。そして、
これによりプラズマアーク７本来の直下方向のベクトル
Ｖ1と上記相手側磁界の影響による吸引力Ｖ2とを合成し
た略直下方向へのベクトルＶ3でのプラズマアーク７が
生じるようになる。その結果、例えば隣合う第１、第２
のプラズマトーチ１,２各々での磁気吹きが生じにくく
なり、図４に示した従来のような相互の磁気吹きによる
プラズマアーク７,７の傾き現象は殆んど発生しなくな
る。
【００２５】したがって、該構成によると、設定された
リメルト処理部３a,３aに対して適切かつ正確にプラズ
マアーク７,７を衝射できるようになり、ビードのうね
りや位置ズレがなくリメルト処理精度が向上するととも
に、複数のプラズマトーチの並設により、加工効率、生
産性を有効に向上させることができるようになる。
リメルト処理部３a,３aに対して適切かつ正確にプラズ
マアーク７,７を衝射できるようになり、ビードのうね
りや位置ズレがなくリメルト処理精度が向上するととも
に、複数のプラズマトーチの並設により、加工効率、生
産性を有効に向上させることができるようになる。
【００２６】そして、以上の場合における第１、第２の
電磁コイル９,１０の巻数および印加電流値は、例えば
上記第１、第２の各プラズマトーチ１,２直下部での磁
束密度(磁界強度)が１〜３０ガウスの範囲の値となるよ
うに設定することが効果的である。例えば同磁束密度が
３１ガウス以上になると、リメルト部の母材そのものが
攪拌される現象を生じ、リメルト部の溶融深さが浅くな
るとともに指向性凝固を妨げるようになり、かつ不活性
ガス混入によるピンホール欠陥を生じる欠点がある。
電磁コイル９,１０の巻数および印加電流値は、例えば
上記第１、第２の各プラズマトーチ１,２直下部での磁
束密度(磁界強度)が１〜３０ガウスの範囲の値となるよ
うに設定することが効果的である。例えば同磁束密度が
３１ガウス以上になると、リメルト部の母材そのものが
攪拌される現象を生じ、リメルト部の溶融深さが浅くな
るとともに指向性凝固を妨げるようになり、かつ不活性
ガス混入によるピンホール欠陥を生じる欠点がある。
【００２７】なお、以上の実施例ではプラズマアークに
よるリメルト処理の場合について説明したが、本願発明
は要するに磁気攪拌の可能な全ての場合、例えばリメル
ト用の高密度熱エネルギー源が少なくとも磁気コントロ
ールの可能な電子流によって形成されるティグアーク
(ＴＩＧアーク)や電子ビームを利用するものなどの場合
にも全く同様に適用できるものであることは言うまでも
ない。
よるリメルト処理の場合について説明したが、本願発明
は要するに磁気攪拌の可能な全ての場合、例えばリメル
ト用の高密度熱エネルギー源が少なくとも磁気コントロ
ールの可能な電子流によって形成されるティグアーク
(ＴＩＧアーク)や電子ビームを利用するものなどの場合
にも全く同様に適用できるものであることは言うまでも
ない。
【００２８】また、その技術思想の本質そのものから見
ると、何も複数のプラズマトーチを並設して同時使用す
る場合だけでなく、例えば単一のプラズマトーチの場合
の磁気吹き現象低減手段としても十分に有効なものであ
る。
ると、何も複数のプラズマトーチを並設して同時使用す
る場合だけでなく、例えば単一のプラズマトーチの場合
の磁気吹き現象低減手段としても十分に有効なものであ
る。
【００２９】さらに、また電磁コイル９,１０への印加
電源は、必ずしも上述のような矩形波電源でなくても良
く、例えば交流電源でも良い。要するに磁気攪拌作用を
実現できる動作電源であれば良い。
電源は、必ずしも上述のような矩形波電源でなくても良
く、例えば交流電源でも良い。要するに磁気攪拌作用を
実現できる動作電源であれば良い。
【図１】図１は、本願発明の実施例に係る金属の表面処
理装置の全体構成を示す概略図である。
理装置の全体構成を示す概略図である。
【図２】図２は、同装置のプラズマトーチ部の構造を示
す要部の拡大縦断面図である。
す要部の拡大縦断面図である。
【図３】図３は、同装置要部の磁気攪拌作用を説明する
説明用縦断面図である。
説明用縦断面図である。
【図４】図４は、従来の金属の表面処理装置の構成を示
す側面図である。
す側面図である。
【図５】図５は、同従来の金属の表面処理装置の問題点
を示す説明図である。
を示す説明図である。
１は第１のプラズマトーチ、２は第２のプラズマトー
チ、３はワーク、４はプラズマ電極、７はプラズマアー
ク、８はリメルト完了部、９は第１の電磁コイル、１０
は第２の電磁コイル、１１は第１の矩形波電源、１２は
第２の矩形波電源である。
チ、３はワーク、４はプラズマ電極、７はプラズマアー
ク、８はリメルト完了部、９は第１の電磁コイル、１０
は第２の電磁コイル、１１は第１の矩形波電源、１２は
第２の矩形波電源である。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 // Ｂ２３Ｋ 9/08 8315−4Ｅ Ｂ２３Ｋ 9/08 Ｃ 10/00 ５０２ 8315−4Ｅ 10/00 ５０２Ｚ
Claims (3)
- 【請求項１】 複数の電子流トーチを並設して金属の表
面を同時に溶融処理する金属の表面処理装置において、
上記複数の電子流トーチの各々の周囲に、電子流の発生
方向を可変制御する磁気制御装置を設けたことを特徴と
する金属の表面処理装置。 - 【請求項２】 磁気制御装置は、トーチ部外周囲に巻成
された電磁コイルと該電磁コイルに矩形波電流を流す矩
形波電源とから構成されていることを特徴とする請求項
１記載の金属の表面処理装置。 - 【請求項３】 磁気制御装置は、トーチ部直下で１〜３
０ガウスの交番磁界を発生するように構成されているこ
とを特徴とする請求項１又は２記載の金属の表面処理装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7045888A JPH08246119A (ja) | 1995-03-06 | 1995-03-06 | 金属の表面処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7045888A JPH08246119A (ja) | 1995-03-06 | 1995-03-06 | 金属の表面処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08246119A true JPH08246119A (ja) | 1996-09-24 |
Family
ID=12731790
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7045888A Pending JPH08246119A (ja) | 1995-03-06 | 1995-03-06 | 金属の表面処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08246119A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108890102A (zh) * | 2018-09-04 | 2018-11-27 | 湘潭大学 | 一种磁控等离子弧摆动的方法 |
| CN109986482A (zh) * | 2019-04-04 | 2019-07-09 | 四川大学 | 用于金属材料或机械零部件的电磁处理设备 |
-
1995
- 1995-03-06 JP JP7045888A patent/JPH08246119A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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