JPH08241899A - Bonding of chip - Google Patents

Bonding of chip

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Publication number
JPH08241899A
JPH08241899A JP4562595A JP4562595A JPH08241899A JP H08241899 A JPH08241899 A JP H08241899A JP 4562595 A JP4562595 A JP 4562595A JP 4562595 A JP4562595 A JP 4562595A JP H08241899 A JPH08241899 A JP H08241899A
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JP
Japan
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bond
chip
substrate
amount
bonding method
Prior art date
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Application number
JP4562595A
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Japanese (ja)
Inventor
Hideki Nagafuku
秀喜 永福
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/74Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies
    • H01L24/741Apparatus for manufacturing means for bonding, e.g. connectors
    • H01L24/743Apparatus for manufacturing layer connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/74Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and for methods related thereto
    • H01L2224/741Apparatus for manufacturing means for bonding, e.g. connectors
    • H01L2224/743Apparatus for manufacturing layer connectors

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  • Power Engineering (AREA)
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Abstract

PURPOSE: To provide a chip bonding method capable of eliminating and suppressing the generation of a void (bubble) within a bond when a chip is bonded to a substrate with the bond. CONSTITUTION: A bond 2 is spread on the upper surface of a substrate 1 in a matrix-form with even number (4) of spots to which the bond is spread being arranged longitudinally and laterally respectively. In this case, the spread amount of the bond 2a at the 4 central points is made more than that at the other points. Then, a chip 3 is mounted on the bond 2, 2a and pressed slightly. Thereupon, the bond 2a at the central 4 points with increased amount is spread to neighborhoods while pushing out inside air, and then the other bond 2 is spread also to neighborhoods so that all bond 2 is unified. Thus, a void 4 does not exist at all internally or is generated scacsely, and the chip 3 can be bonded to the substrate 1 satisfactorily.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、チップをボンドにより
基板にボンディングするチップのボンディング方法に関
するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a chip bonding method for bonding a chip to a substrate by bonding.

【0002】[0002]

【従来の技術】ウエハから切り出されたチップは、一般
にボンドによりリードフレームやプリント基板などの基
板にボンディングされる。以下に、従来のチップのボン
ディング方法について説明する。
2. Description of the Related Art A chip cut out from a wafer is generally bonded to a substrate such as a lead frame or a printed circuit board by bonding. The conventional chip bonding method will be described below.

【0003】図7は従来のチップのボンディング方法の
説明図であって、図7(a)は基板にボンドを塗布した
状態を、また図7(b)はボンド上にチップをボンディ
ングした状態を示している。また図7(a),図7
(b)で、上図は下図のA−A断面図、下図は基板の平
面図である。なお(b)の下図では、チップ3は除去し
ている。
7A and 7B are explanatory views of a conventional chip bonding method. FIG. 7A shows a state where a bond is applied to a substrate, and FIG. 7B shows a state where a chip is bonded onto the bond. Shows. In addition, FIG.
In (b), the upper diagram is a cross-sectional view taken along the line AA of the lower diagram and the lower diagram is a plan view of the substrate. In the lower diagram of (b), the chip 3 is removed.

【0004】まず図7(a)に示すように、基板1の上
面にボンド2をスポット的にマトリクス状に多数個塗布
する。ボンド2はタテm・ヨコn共に4個(偶数個)す
べて等量塗布されている。このボンド塗布は、転写ピン
やディスペンサにより行われる。
First, as shown in FIG. 7A, a large number of bonds 2 are spot-wise applied in a matrix on the upper surface of the substrate 1. The bond 2 is applied in the same amount in all 4 (even) vertical and horizontal n. This bond application is performed by a transfer pin or a dispenser.

【0005】図7(a)に示すように基板1にボンド2
を塗布したならば、次に図7(b)に示すようにボンド
2上にチップ3が搭載される。この場合、チップ3はボ
ンド2に軽く押し付けて搭載されるので、スポット的に
塗布されたボンド2は周囲に拡がる。したがって図7
(a)の下図に示すボンド2よりも、図7(b)の下図
に示すボンド2の直径は大きく拡がっている。なおチッ
プ3は、ダイボンダなどの自動実装装置により、ボンド
2上に搭載される。
As shown in FIG. 7A, a bond 2 is formed on the substrate 1.
After coating, the chip 3 is mounted on the bond 2 as shown in FIG. In this case, the chip 3 is mounted by pressing it lightly against the bond 2, so that the bond 2 applied spotwise spreads to the periphery. Therefore, FIG.
The diameter of the bond 2 shown in the lower diagram of FIG. 7 (b) is larger than that of the bond 2 shown in the lower diagram of (a). The chip 3 is mounted on the bond 2 by an automatic mounting device such as a die bonder.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】図7(b)において、
黒く塗り潰した部分はボイド(気泡)4である。ボイド
4は、図7の(a)から(b)へ移行するときに、逃げ
路を失って内部に閉じ込められた空気である。ボイド4
は、チップ3のボンディング力を弱める。またこの基板
1が電子機器に組み込まれて駆動する際には、チップ3
は内部抵抗により自己発熱するが、この発熱によりボイ
ド4は熱膨張し、最悪の場合チップ3は破壊される。と
ころが図7(b)に示すように従来のチップのボンディ
ング方法では、基板1やチップ3に上記のような悪影響
をもたらすボイド4が多量に発生しやすいという問題点
を有していた。
In FIG. 7 (b),
The blackened portions are voids (air bubbles) 4. The void 4 is the air that has lost the escape route and is trapped inside when transitioning from (a) to (b) in FIG. 7. Void 4
Reduces the bonding force of the chip 3. When the substrate 1 is incorporated into an electronic device and driven, the chip 3
Self-heats due to internal resistance, but this heat causes the voids 4 to thermally expand, and in the worst case, the chip 3 is destroyed. However, as shown in FIG. 7B, the conventional chip bonding method has a problem in that a large number of voids 4 that cause the above-described adverse effects are likely to occur in the substrate 1 and the chip 3.

【0007】したがって本発明は、ボイドの発生を解消
あるいは抑制できるチップのボンディング方法を提供す
ることを目的とする。
Therefore, an object of the present invention is to provide a chip bonding method capable of eliminating or suppressing the occurrence of voids.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】このために本発明は、ボ
ンドを基板の上面にスポット的にマトリクス状に塗布
し、このボンド上にチップを搭載するチップのボンディ
ング方法であって、ボンドがタテm・ヨコn共に偶数個
塗布され、かつ中央の4点の塗布量を他の点の塗布量よ
りも多くしたものである。
To this end, the present invention is a chip bonding method in which a bond is spot-wise applied in a matrix form on the upper surface of a substrate, and a chip is mounted on the bond. An even number of m and horizontal n are applied, and the application amount of the four central points is made larger than the application amounts of the other points.

【0009】[0009]

【作用】上記構成によれば、基板に塗布されたボンド上
にチップを搭載し、チップを軽く押さえつけると、中央
の塗布量の多いボンドは、空気を外方へ押し出しながら
周囲へ拡がる。したがってボンドの内部に生じるボイド
の量は著しく減少する。
According to the above structure, when the chip is mounted on the bond applied to the substrate and the chip is lightly pressed, the central bond with a large coating amount spreads to the surroundings while pushing air outward. Therefore, the amount of voids generated inside the bond is significantly reduced.

【0010】[0010]

【実施例】【Example】

(実施例1)次に本発明の実施例を図面を参照しながら
説明する。図1は本発明の第一実施例のチップのボンデ
ィング方法の説明図である。(a)は基板1にボンド
2,2aを塗布した状態を、(b)はボンド2,2a上
にチップ3を搭載した直後の状態を、(c)はチップ3
をボンド2,2aに軽く押しつけてボンディングが終了
した状態を示している。また(a)(b)(c)におい
て、上図は下図のB−B断面図であり、また下図は基板
の平面図である。なお(b)(c)の下図では、チップ
3は省略している。
(Embodiment 1) Next, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is an explanatory diagram of a chip bonding method according to a first embodiment of the present invention. (A) shows a state in which the bonds 2 and 2a are applied to the substrate 1, (b) shows a state immediately after mounting the chip 3 on the bonds 2 and 2a, and (c) shows the chip 3
Shows a state in which bonding is completed by lightly pressing against the bonds 2 and 2a. Further, in (a), (b) and (c), the upper diagram is a cross-sectional view taken along the line BB of the lower diagram, and the lower diagram is a plan view of the substrate. Note that the chips 3 are omitted in the lower diagrams of (b) and (c).

【0011】次に、チップのボンディング方法を説明す
る。まず図1(a)に示すように、基板1の上面にボン
ド2をタテm・ヨコn共に偶数個(本実施例では共に4
個づつ)マトリクス状に塗布する。この場合、図示する
ように中央の4点のボンド2aを増量し、その塗布量を
他の点の塗布量よりも多くする。塗布量を増量するため
の具体的手段については、後で図5および図6を参照し
て説明する。
Next, a chip bonding method will be described. First, as shown in FIG. 1A, an even number of bonds 2 (vertical m and horizontal n) are formed on the upper surface of the substrate 1 (both 4 in this embodiment).
Apply one by one) in a matrix. In this case, as shown in the figure, the bonds 4a at the four central points are increased in amount, and the applied amount is made larger than the applied amounts at the other points. Specific means for increasing the coating amount will be described later with reference to FIGS. 5 and 6.

【0012】図1(a)に示すようにボンド2(2a)
を塗布したならば、次に図1(b)に示すように、ダイ
ボンダによりボンド2(2a)上にチップ3を搭載し、
ボンド2(2a)に軽く押しつける。すると、基板1上
のボンド2(2a)はチップ3の下面に押し潰されて、
(b)の下図に示すようにボンド2(2a)の直径は大
きくなり、周囲へ拡がっていく。
Bond 2 (2a) as shown in FIG. 1 (a)
After coating, the chip 3 is mounted on the bond 2 (2a) by a die bonder as shown in FIG. 1 (b).
Press lightly on bond 2 (2a). Then, the bond 2 (2a) on the substrate 1 is crushed by the lower surface of the chip 3,
As shown in the lower diagram of (b), the diameter of the bond 2 (2a) increases and spreads to the surroundings.

【0013】図1(c)は、ボンディングの完了状態を
示している。この状態では、チップ3がボンド2に押し
つけられたことにより、ボンド2は十分に拡がって、す
べてのボンド2は一体化している。なおチップ3をボン
ド2に強く押しつけると、ボイド4の発生は少なくなる
が、ボンド2はチップ3の周囲にばり出してしまい、最
悪の場合には、周囲にばり出したボンド2がチップ3の
上面にまでせり上るので、チップ3はボンド2に軽く押
しつけねばならない。
FIG. 1C shows a completed state of bonding. In this state, since the chip 3 is pressed against the bond 2, the bond 2 is sufficiently expanded and all the bonds 2 are integrated. When the chip 3 is strongly pressed against the bond 2, the occurrence of the void 4 is reduced, but the bond 2 is squeezed out to the periphery of the chip 3, and in the worst case, the bond 2 squeezed out to the periphery of the chip 3 is generated. As it rises to the top surface, the chip 3 must be pressed lightly against the bond 2.

【0014】ここで、上述のように、中央の4点のボン
ド2aを増量したことにより、この4点のボンド2aが
拡がる際に、内部の空気は外部へ押し出される。したが
って(c)の下図に示すように、中央の4点のボンド2
aによって取り囲まれているために外部へ脱出できなか
った中央の空気によってのみ、わずかにボイド4が生じ
ている。このようにこのチップのボンディング方法によ
れば、中央の増量された4点のボンド2aが周囲に押し
拡がることにより、内部の空気を外部へ押し出せるの
で、ボイド4の発生を極小に抑えることができる。なお
この程度のボイド4であれば、上述したボイド4による
悪影響は実質的に解消できる。
Here, as described above, by increasing the amount of the bonds 4a at the four points in the center, when the bonds 2a at the four points are expanded, the air inside is pushed out to the outside. Therefore, as shown in the lower diagram of (c), the four bond 2 at the center
The void 4 is slightly generated only by the central air that cannot be escaped to the outside because it is surrounded by a. As described above, according to this chip bonding method, the air in the inside can be pushed out by spreading the centrally increased four-point bonds 2a to the surroundings, so that the generation of voids 4 can be suppressed to a minimum. it can. It should be noted that the voids 4 of this degree can substantially eliminate the above-mentioned adverse effects of the voids 4.

【0015】(実施例2)図2は本発明の第二実施例の
チップのボンディング方法の説明図である。(a)は基
板1にボンド2,2bを塗布した状態を、(b)はボン
ド1上にチップ3を搭載した直後の状態を、(c)はチ
ップ3をボンド2,2bに軽く押しつけてボンディング
が終了した状態を示している。また(a)(b)(c)
において、上図は下図のC−C断面図であり、また下図
は基板1の平面図である。また(b)(c)の下図で
は、チップ3は除去している。
(Embodiment 2) FIG. 2 is an explanatory view of a chip bonding method according to a second embodiment of the present invention. (A) shows a state where the bonds 2 and 2b are applied to the substrate 1, (b) shows a state immediately after mounting the chip 3 on the bond 1, and (c) shows the state where the chip 3 is lightly pressed against the bonds 2 and 2b. It shows a state in which bonding is completed. Also (a) (b) (c)
In the above, the upper diagram is a cross-sectional view taken along line C-C of the lower diagram, and the lower diagram is a plan view of the substrate 1. Further, in the lower diagrams of (b) and (c), the chip 3 is removed.

【0016】次に、チップのボンディング方法を説明す
る。まず図2(a)に示すように基板1の上面にボンド
2をタテm・ヨコn共に奇数個(本実施例では共に5
個)マトリクス状に塗布する。この場合、図示するよう
に中央の1点のボンド2bを増量し、その塗布量を他の
点の塗布量よりも多くする。
Next, a chip bonding method will be described. First, as shown in FIG. 2A, an odd number of bonds 2 (vertical m and horizontal n) (both are 5 in this embodiment) are formed on the upper surface of the substrate 1.
Pieces) Apply in matrix. In this case, as shown in the drawing, the amount of the bond 2b at one point in the center is increased, and the amount of application thereof is made larger than the amounts of application at other points.

【0017】次に(b)に示すようにボンド2上にチッ
プ3を搭載し、ボンド2に軽く押しつける。すると最初
にチップ3の下面に接触した中央のボンド2bは周囲に
大きく拡がり、次いで他のボンド2もそれぞれ周囲に拡
がり、ついには(c)に示すようにすべてのボンド2は
一体化し、チップ3は完全にボンディングされる。この
第二実施例では、中央のボンド2bが先に周囲に大きく
拡がることにより、内部の空気は完全に外部へ押し出さ
れるので、ボイド4はまったく発生しない。
Next, as shown in (b), the chip 3 is mounted on the bond 2 and lightly pressed against the bond 2. Then, the central bond 2b that first comes into contact with the lower surface of the chip 3 spreads greatly to the periphery, then the other bonds 2 also spread to the periphery, and finally all the bonds 2 are integrated as shown in (c), and the chip 3 Are completely bonded. In the second embodiment, since the central bond 2b spreads largely to the periphery first, the air inside is completely pushed out to the outside, so that the void 4 does not occur at all.

【0018】なお、第二実施例のように、タテm・ヨコ
n共に奇数個ボンド2を塗布する場合は、中央のボンド
2bとタテ方向および横方向で隣接するボンドの量を中
央のボンド2bと同じ量にしてもよい。
As in the second embodiment, when an odd number of the bonds 2 are applied to both the vertical m and the horizontal n, the amount of the bond adjacent to the central bond 2b in the vertical direction and the lateral direction is set to the central bond 2b. The same amount may be used.

【0019】(実施例3)図3は本発明の第三実施例の
チップのボンディング方法の説明図である。(a)は基
板1にボンド2,2cを塗布した状態を、(b)はボン
ド2,2c上にチップ3を搭載した直後の状態を、
(c)はチップ3をボンド2,2cに軽く押しつけてボ
ンディングが終了した状態を示している。また(a)
(b)(c)において、上図は下図のD−D断面図であ
り、また下図は基板1の平面図である。(b)(c)の
下図では、チップ3を除去している。
(Embodiment 3) FIG. 3 is an explanatory view of a chip bonding method of a third embodiment of the present invention. (A) shows a state in which the bonds 2 and 2c are applied to the substrate 1, and (b) shows a state immediately after the chip 3 is mounted on the bonds 2 and 2c.
(C) shows a state where the chip 3 is lightly pressed against the bonds 2 and 2c to complete the bonding. Also (a)
In (b) and (c), the upper diagram is a cross-sectional view taken along line D-D of the lower diagram, and the lower diagram is a plan view of the substrate 1. In the lower diagrams of (b) and (c), the chip 3 is removed.

【0020】次に、チップのボンディング方法を説明す
る。まず図3(a)に示すように、基板1の上面にボン
ド2をヨコn偶数個(本実施例では4個)、タテm奇数
個(本実施例では5個)塗布する。この場合、図示する
ように中央の2点のボンド2cを増量し、その塗布量を
他の点の塗布量よりも多くする。
Next, a chip bonding method will be described. First, as shown in FIG. 3A, the bond 2 is applied on the upper surface of the substrate 1 in an even number (n = 4 in this embodiment) and in an odd number (5 in this embodiment). In this case, as shown in the figure, the bonds 2c at the two central points are increased in amount, and the applied amount is made larger than the applied amounts at the other points.

【0021】次に(b)に示すようにボンド2上にチッ
プ3を搭載し、ボンド2(2c)に軽く押しつける。す
ると最初にチップ3の下面に接触した中央のボンド2c
は周囲に大きく拡がり、次いで他のボンド2もそれぞれ
周囲に拡がり、ついには(c)に示すようにすべてのボ
ンド2は一体化し、チップ3は完全にボンディングされ
る。この第三実施例では、中央のボンド2cが周囲に先
に大きく拡がることにより、内部の空気は完全に外部へ
押し出されるので、ボイド4はまったく発生しない。以
上のように本実施例によれば、チップ3をボンド2に軽
く押しつけて搭載すると、内部の空気はボンド2が拡が
ることにより外部へ押し出されるので、ボイドの発生を
抑制・解消し、チップ3を良好にボンディングすること
ができる。
Next, as shown in (b), the chip 3 is mounted on the bond 2 and lightly pressed against the bond 2 (2c). Then, the central bond 2c that first contacts the lower surface of the chip 3
Spread greatly around, and then the other bonds 2 also spread around, respectively, and finally all the bonds 2 are integrated as shown in (c), and the chip 3 is completely bonded. In the third embodiment, since the central bond 2c spreads greatly to the surroundings, the air inside is completely pushed out to the outside, so that the void 4 does not occur at all. As described above, according to this embodiment, when the chip 3 is lightly pressed against the bond 2 to be mounted, the air inside is pushed out to the outside due to the expansion of the bond 2, so that the generation of voids is suppressed and eliminated, and the chip 3 Can be bonded well.

【0022】次に、基板1にスポット的に塗布するボン
ド2の量を加減するための装置について説明する。図4
は本発明の一実施例におけるチップのボンディング装置
の第1の例を示す説明図である。10はシャフトであ
り、その下端部に転写ヘッド11が着脱自在に装着され
ている。転写ヘッド11は、ブロック12の下面に複数
本の転写ピン13,14を突設して形成されている。転
写ピン13,14の配列は、タテm・ヨコn各5本であ
って、中央の転写ピン14の断面積(転写ピンが円柱の
場合はその直径)は大きく、他の転写ピン13の断面積
は小さくしてある。本例の転写ヘッド11は、図2に示
す中央の1点の塗布量を増量する場合に用いられる。
Next, an apparatus for adjusting the amount of the bond 2 spotwise applied to the substrate 1 will be described. FIG.
FIG. 3 is an explanatory diagram showing a first example of a chip bonding apparatus according to an embodiment of the present invention. Reference numeral 10 denotes a shaft, and a transfer head 11 is detachably attached to the lower end of the shaft. The transfer head 11 is formed by projecting a plurality of transfer pins 13 and 14 on the lower surface of the block 12. The transfer pins 13 and 14 are arranged in an array of 5 in each of vertical and horizontal, and the central transfer pin 14 has a large cross-sectional area (the diameter of the transfer pin when it is a cylinder) and the disconnection of the other transfer pins 13. The area is small. The transfer head 11 of this example is used to increase the coating amount at one point in the center shown in FIG.

【0023】ボンド皿15にボンド2が貯溜されてお
り、転写ヘッド11をボンド皿15の情報で上下動作を
させることにより、転写ピン13,14の下面にボンド
2を付着させ、次に転写ヘッド11を基板1の上方へ移
動させ(矢印a参照)、そこで上下動作を行わせること
により、転写ピン13,14の下面に付着するボンド2
を基板1に転写する。その後、ダイボンダのコレット1
6に真空吸着されたチップ3を、ボンド2上に搭載して
ボンディングする(矢印b参照)。
The bond 2 is stored in the bond tray 15, and the transfer head 11 is moved up and down by the information of the bond tray 15 to attach the bond 2 to the lower surface of the transfer pins 13 and 14, and then the transfer head. The bond 2 attached to the lower surfaces of the transfer pins 13 and 14 is moved by moving 11 above the substrate 1 (see arrow a) and performing vertical movement there.
Is transferred to the substrate 1. After that, die bonder collet 1
The chip 3 vacuum-adsorbed by 6 is mounted on the bond 2 and bonded (see arrow b).

【0024】ボンド2の塗布手段として転写ピン13,
14を用いる場合には、転写ピン13,14の断面積を
かえることにより、ボンド2の塗布量をかえることがで
きる。勿論、図1に示す実施例の場合は、中央の4本の
ピンの断面積を大きくするか、もしくは長さを短くし、
また図3に示す実施例の場合は、中央の2本のピンの断
面積を大きくするか、もしくは長さを短くする。
The transfer pin 13 is used as a means for applying the bond 2.
When using 14, the amount of the bond 2 applied can be changed by changing the cross-sectional areas of the transfer pins 13 and 14. Of course, in the case of the embodiment shown in FIG. 1, the cross-sectional area of the four central pins is increased or the length is shortened,
Further, in the case of the embodiment shown in FIG. 3, the cross-sectional area of the two central pins is increased or the length thereof is shortened.

【0025】図5は本発明の一実施例におけるチップの
ボンディング装置の第2の例を示す説明図である。20
はボンド塗布ヘッドであり、ボンド2を貯溜したシリン
ジ21と、シリンジ21の下部に装着されたノズル22
により構成されている。ノズル22は中空のニードル2
3,24を備えており、このニードル23,24からボ
ンド2を吐出して基板1にボンド2をマトリクス状に塗
布する。
FIG. 5 is an explanatory view showing a second example of the chip bonding apparatus in one embodiment of the present invention. 20
Is a bond application head, a syringe 21 storing the bond 2 and a nozzle 22 mounted below the syringe 21.
It consists of. The nozzle 22 is a hollow needle 2
3 and 24, the bond 2 is discharged from the needles 23 and 24 to apply the bond 2 to the substrate 1 in a matrix.

【0026】シリンジ21には、シリンジ21内に圧縮
空気を供給する圧縮空気供給手段(図示せず)が接続さ
れている。中央のニードル24は、他のニードル23よ
りもその内径が大きくなっており、シリンジ21内に圧
縮空気が供給されるとニードル24は、他のニードル2
3よりも多量のボンド2を吐出する。このように、ニー
ドル24の内径を他のニードル23よりも大きくするこ
とによって、塗布されるボンド2の量を加減することが
できる。したがってボンド2を多めに塗布したい位置に
対応するノズルの径を大きくすることにより図1〜図3
に示すようにボンド2を1回の塗布動作で基板1にマト
リクス状に塗布することができる(矢印a参照)。ボン
ド2が基板1に塗布されると、ダイボンダのコレット1
6に真空吸着されたチップ3をボンド2上に搭載してボ
ンディングする(矢印b参照)。
A compressed air supply means (not shown) for supplying compressed air into the syringe 21 is connected to the syringe 21. The inner diameter of the central needle 24 is larger than that of the other needles 23, and when compressed air is supplied into the syringe 21, the needle 24 will not move to the other needles 2.
A larger amount of bond 2 than 3 is discharged. In this way, by making the inner diameter of the needle 24 larger than the other needles 23, the amount of the bond 2 applied can be adjusted. Therefore, by increasing the diameter of the nozzle corresponding to the position where a large amount of the bond 2 is desired to be applied, as shown in FIGS.
As shown in, the bond 2 can be applied to the substrate 1 in a matrix form by a single application operation (see arrow a). When the bond 2 is applied to the substrate 1, the collet 1 of the die bonder
The chip 3 vacuum-adsorbed by 6 is mounted on the bond 2 and bonded (see arrow b).

【0027】図6は本発明の一実施例におけるチップの
ボンディング装置の第3の例を示す説明図である。図5
に示す構造と同じ構成については図5の符号と同一符号
を付すことにより説明を省略する。25はノズルであり
1本の中空のニードル26を備えている。ボンド塗布ヘ
ッド20は矢印aで示すようにピッチ移動しながらボン
ド2を1点づつ塗布する。ボンド2を多めに塗布したい
場所では、ボンド2の吐出時間を長くしたり、シリンジ
21内に加える圧縮空気の圧力を高くしてボンド2を塗
布する。このように、1本のニードル26からボンド2
を塗布する場合でもボンド2の量を加減しながらマトリ
クス状に塗布することが可能である。
FIG. 6 is an explanatory view showing a third example of the chip bonding apparatus in one embodiment of the present invention. Figure 5
The same configurations as the structure shown in FIG. A nozzle 25 is provided with a single hollow needle 26. The bond application head 20 applies the bonds 2 one by one while moving the pitch as indicated by the arrow a. In a place where a large amount of the bond 2 is desired to be applied, the bond 2 is applied by prolonging the discharge time of the bond 2 or increasing the pressure of the compressed air applied to the syringe 21. In this way, from one needle 26 to the bond 2
Even in the case of applying, it is possible to apply in a matrix while adjusting the amount of the bond 2.

【0028】[0028]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、チ
ップ基板にボンディングするボンドの内部にボイドが発
生するのを抑制・解消し、チップを良好にボンディング
することができる。
As described above, according to the present invention, it is possible to suppress / eliminate the occurrence of voids inside the bond to be bonded to the chip substrate and bond the chip well.

【0029】またボンド塗布手段として転写ピンを用い
る場合には、転写ピンの断面積や長さをかえるという簡
単な手段により、所定のボンドの塗布量を簡単に増量す
ることができ、しかもボンド塗布量を的確にコントロー
ルすることができる。
When a transfer pin is used as the bond applying means, the application amount of a predetermined bond can be easily increased by simply changing the cross-sectional area and length of the transfer pin, and the bond application can be performed. The amount can be controlled accurately.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第一実施例のチップのボンディング方
法の説明図
FIG. 1 is an explanatory diagram of a chip bonding method according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第二実施例のチップのボンディング方
法の説明図
FIG. 2 is an explanatory diagram of a chip bonding method according to a second embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第三実施例のチップのボンディング方
法の説明図
FIG. 3 is an explanatory diagram of a chip bonding method according to a third embodiment of the present invention.

【図4】本発明の一実施例におけるチップのボンディン
グ装置の第1の例を示す説明図
FIG. 4 is an explanatory diagram showing a first example of a chip bonding apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図5】本発明の一実施例におけるチップのボンディン
グ装置の第2の例を示す説明図
FIG. 5 is an explanatory diagram showing a second example of a chip bonding apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図6】本発明の一実施例におけるチップのボンディン
グ装置の第3の例を示す説明図
FIG. 6 is an explanatory diagram showing a third example of a chip bonding apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図7】従来のチップのボンディング方法の説明図FIG. 7 is an explanatory diagram of a conventional chip bonding method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板 2,2a,2b,2c ボンド 3 チップ 4 ボイド(気泡) 11 転写ヘッド 13,14 転写ピン 20 ボンド塗布ヘッド 23,24,26 ニードル 1 Substrate 2, 2a, 2b, 2c Bond 3 Chip 4 Void (Transfer) 11 Transfer Head 13, 14 Transfer Pin 20 Bond Application Head 23, 24, 26 Needle

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】ボンドを基板の上面にスポット的にm×n
のマトリクス状に塗布し、このボンド上にチップを搭載
するチップのボンディング方法であって、前記ボンドが
m・n共に偶数個塗布され、かつ中央の4点の塗布量を
他の点の塗布量よりも多くしたことを特徴とするチップ
のボンディング方法。
1. A bond of m × n spots on the upper surface of a substrate.
Is a chip bonding method in which a chip is mounted on this bond by applying it in the form of a matrix, and an even number of the m and n bonds are applied, and the central four application amounts are applied to other points. Chip bonding method characterized by more than
【請求項2】ボンドを基板の上面にスポット的にm×n
のマトリクス状に塗布し、このボンド上にチップを搭載
するチップのボンディング方法であって、前記ボンドが
m・n共に奇数個塗布され、かつ中央の1点の塗布量を
他の点の塗布量よりも多くしたことを特徴とするチップ
のボンディング方法。
2. The bond is spotted on the upper surface of the substrate by m × n.
A chip bonding method in which the chips are mounted on the bond by applying the chips in a matrix form, and an odd number of m and n of the bonds are applied, and the application amount of one point in the center is applied to the other points. Chip bonding method characterized by more than
【請求項3】ボンドを基板の上面にスポット的にm×n
のマトリクス状に塗布し、このボンド上にチップを搭載
するチップのボンディング方法であって、前記ボンドが
m・nのうちの何れか一方が偶数個、他方が奇数個塗布
され、かつ中央の2点の塗布量を他の点の塗布量よりも
多くしたことを特徴とするチップのボンディング方法。
3. The bond is spotted on the upper surface of the substrate by m × n.
Is a chip bonding method in which a chip is mounted on the bond by applying it in a matrix form, in which one of m and n of the bond is applied in an even number and the other is applied in an odd number. A chip bonding method characterized in that the amount of application of dots is made larger than the amount of application of other points.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004504714A (en) * 2000-07-17 2004-02-12 ボード・オブ・リージエンツ,ザ・ユニバーシテイ・オブ・テキサス・システム Automatic liquid dispensing method and system for transfer lithography process

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