JPH08220313A - ミラー - Google Patents
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- JPH08220313A JPH08220313A JP2854795A JP2854795A JPH08220313A JP H08220313 A JPH08220313 A JP H08220313A JP 2854795 A JP2854795 A JP 2854795A JP 2854795 A JP2854795 A JP 2854795A JP H08220313 A JPH08220313 A JP H08220313A
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- film
- mirror
- adhesion
- plastic substrate
- oxide film
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 密着層による毒性及び密着層へのクラックを
生じさせることなく、プラスチック基板と金属反射膜と
の密着性を十分向上させることができる。 【構成】 プラスチック基板と、該プラスチック基板上
に形成した窒化シリコンからなる密着膜と、該窒化シリ
コン密着膜上に形成した金属反射膜と、該金属反射膜上
に形成した誘電体膜とからなる。
生じさせることなく、プラスチック基板と金属反射膜と
の密着性を十分向上させることができる。 【構成】 プラスチック基板と、該プラスチック基板上
に形成した窒化シリコンからなる密着膜と、該窒化シリ
コン密着膜上に形成した金属反射膜と、該金属反射膜上
に形成した誘電体膜とからなる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ミラーに係り、詳しく
は、ＯＡ機器用プラスチック製ミラーの製造技術に適用
することができる他、複写機、ＦＡＸ、レーザープリン
ター、プロジェクターやビデオカメラ、スチールカメラ
等のカメラ等の光学部品のミラーに応用することがで
き、特に、密着層による毒性及び密着層へのクラックを
生じさせることなく、プラスチック基板と金属反射膜と
の密着性を十分向上させることができるミラーに関す
る。
は、ＯＡ機器用プラスチック製ミラーの製造技術に適用
することができる他、複写機、ＦＡＸ、レーザープリン
ター、プロジェクターやビデオカメラ、スチールカメラ
等のカメラ等の光学部品のミラーに応用することがで
き、特に、密着層による毒性及び密着層へのクラックを
生じさせることなく、プラスチック基板と金属反射膜と
の密着性を十分向上させることができるミラーに関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来、ミラーは、基板にガラスを使用す
るのが一般的である。しかしながら、最近では、ミラー
の軽量化、生産性向上及び低価格化等の点でガラスより
も優れたプラスチックがミラーの基板に使用されるよう
になってきている。従来、金属表面鏡については、例え
ば特開平５−１５０１０５号公報で報告されたものがあ
る。
るのが一般的である。しかしながら、最近では、ミラー
の軽量化、生産性向上及び低価格化等の点でガラスより
も優れたプラスチックがミラーの基板に使用されるよう
になってきている。従来、金属表面鏡については、例え
ば特開平５−１５０１０５号公報で報告されたものがあ
る。
【０００３】この従来の金属表面鏡は、ガラス又はプラ
スチック若しくはセラミック基板の表面を平滑化し、こ
の平滑化された基板表面にＳｉＯ2 による保護膜を形成
し、この保護膜上に金属反射膜を形成し、この金属反射
膜上に透明保護層を形成して構成している。このため、
ガラスやプラスチック、若しくはセラミックの基板を用
いて耐環境性に優れた金属表面鏡を得ることができると
いう利点を有する。なお、ここでの透明保護層は、金属
反射膜の側から順に、ＭｇＦ2 膜、ＴｉＯ2 膜、Ａｌ2
Ｏ3膜を積層した構造を採っている。
スチック若しくはセラミック基板の表面を平滑化し、こ
の平滑化された基板表面にＳｉＯ2 による保護膜を形成
し、この保護膜上に金属反射膜を形成し、この金属反射
膜上に透明保護層を形成して構成している。このため、
ガラスやプラスチック、若しくはセラミックの基板を用
いて耐環境性に優れた金属表面鏡を得ることができると
いう利点を有する。なお、ここでの透明保護層は、金属
反射膜の側から順に、ＭｇＦ2 膜、ＴｉＯ2 膜、Ａｌ2
Ｏ3膜を積層した構造を採っている。
【０００４】次に、従来、表面反射鏡については、例え
ば特開平５−２８１４０５号公報で報告されたものがあ
る。この従来の表面反射鏡は、樹脂基板の表面上に形成
された二酸化ケイ素からなる下地層と、下地層上に形成
されたアルミニウムからなる反射層と、反射層上に形成
された二酸化ケイ素からなる第１保護層と、第１保護層
上に形成され、酸化チタン、酸化タンタル及び酸化ジル
コニウムから選択される少なくとも一種の材料からなる
第２保護層と、第２保護層上に形成された酸化アルミニ
ウムからなる第３保護層とを有するように構成してい
る。
ば特開平５−２８１４０５号公報で報告されたものがあ
る。この従来の表面反射鏡は、樹脂基板の表面上に形成
された二酸化ケイ素からなる下地層と、下地層上に形成
されたアルミニウムからなる反射層と、反射層上に形成
された二酸化ケイ素からなる第１保護層と、第１保護層
上に形成され、酸化チタン、酸化タンタル及び酸化ジル
コニウムから選択される少なくとも一種の材料からなる
第２保護層と、第２保護層上に形成された酸化アルミニ
ウムからなる第３保護層とを有するように構成してい
る。
【０００５】このため、基板に対して圧縮応力を及ぼす
二酸化ケイ素からなる下地層を用いているので、高温高
湿雰囲気下に放置した場合でも、樹脂基板と膜構造との
間に点状欠陥を発生し難くすることができるという利点
を有する。さて、ミラーの金属反射膜には、Ａｌ膜が多
く使用されている。このＡｌ膜は、ガラス基板との密着
性には優れているが、プラスチック基板との密着性には
劣るという欠点がある。
二酸化ケイ素からなる下地層を用いているので、高温高
湿雰囲気下に放置した場合でも、樹脂基板と膜構造との
間に点状欠陥を発生し難くすることができるという利点
を有する。さて、ミラーの金属反射膜には、Ａｌ膜が多
く使用されている。このＡｌ膜は、ガラス基板との密着
性には優れているが、プラスチック基板との密着性には
劣るという欠点がある。
【０００６】このＡｌ膜とプラスチック基板の密着性が
悪くなるという欠点を補うために、プラスチック基板と
金属反射膜となるＡｌ膜の間に密着層を設けるのが一般
的に行われている。従来、このプラスチック基板と金属
反射膜の密着層には、前述した特開平５−１５０１０５
号公報や特開平５−２８１４０５号公報に示したＳｉＯ
2 膜を用いたものや、あるいはＣｒ膜を用いたものが知
られている。
悪くなるという欠点を補うために、プラスチック基板と
金属反射膜となるＡｌ膜の間に密着層を設けるのが一般
的に行われている。従来、このプラスチック基板と金属
反射膜の密着層には、前述した特開平５−１５０１０５
号公報や特開平５−２８１４０５号公報に示したＳｉＯ
2 膜を用いたものや、あるいはＣｒ膜を用いたものが知
られている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】上記した特開平５−１
５０１０５号公報や特開平５−２８１４０５号公報に示
したＳｉＯ2 膜による密着層では、金属反射膜側との密
着性を十分取ることができるが、プラスチック基板側と
の密着性を十分取り難いため、その結果、プラスチック
基板と金属反射膜との密着性を十分取り難いという問題
があった。
５０１０５号公報や特開平５−２８１４０５号公報に示
したＳｉＯ2 膜による密着層では、金属反射膜側との密
着性を十分取ることができるが、プラスチック基板側と
の密着性を十分取り難いため、その結果、プラスチック
基板と金属反射膜との密着性を十分取り難いという問題
があった。
【０００８】また、上記したＣｒ膜による密着層では、
プラスチック基板及び金属反射膜に対して密着性を十分
取ることができるが、Ｃｒがガス化して毒性があるう
え、Ｃｒ膜とプラスチック基板との堆積膨張率の差が顕
著であるため、Ｃｒ膜にクラックが入り易いという問題
があった。そこで、本発明は、密着層による毒性及び密
着層へのクラックを生じさせることなく、プラスチック
基板と金属反射膜との密着性を十分向上させることがで
きるミラーを提供することを目的としている。
プラスチック基板及び金属反射膜に対して密着性を十分
取ることができるが、Ｃｒがガス化して毒性があるう
え、Ｃｒ膜とプラスチック基板との堆積膨張率の差が顕
著であるため、Ｃｒ膜にクラックが入り易いという問題
があった。そこで、本発明は、密着層による毒性及び密
着層へのクラックを生じさせることなく、プラスチック
基板と金属反射膜との密着性を十分向上させることがで
きるミラーを提供することを目的としている。
【０００９】
【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明は、
プラスチック基板と、該プラスチック基板上に形成した
窒化シリコンからなる密着膜と、該窒化シリコン密着膜
上に形成した金属反射膜と、該金属反射膜上に形成した
誘電体膜とからなることを特徴とすものである。
プラスチック基板と、該プラスチック基板上に形成した
窒化シリコンからなる密着膜と、該窒化シリコン密着膜
上に形成した金属反射膜と、該金属反射膜上に形成した
誘電体膜とからなることを特徴とすものである。
【００１０】請求項２記載の発明は、上記請求項１記載
の発明において、前記誘電体膜は、フッ化マグネシウム
膜からなることを特徴とするものである。請求項３記載
の発明は、上記請求項１記載の発明において、前記誘電
体膜は、フッ化マグネシウム膜と該フッ化マグネシウム
膜上に形成した酸化チタン膜とからなることを特徴とす
るものである。
の発明において、前記誘電体膜は、フッ化マグネシウム
膜からなることを特徴とするものである。請求項３記載
の発明は、上記請求項１記載の発明において、前記誘電
体膜は、フッ化マグネシウム膜と該フッ化マグネシウム
膜上に形成した酸化チタン膜とからなることを特徴とす
るものである。
【００１１】請求項４記載の発明は、上記請求項１記載
の発明において、前記誘電体膜は、酸化シリコン膜から
なることを特徴とするものである。請求項５記載の発明
は、上記請求項１記載の発明において、前記誘電体膜
は、酸化シリコン膜と該酸化シリコン膜上に形成した酸
化チタン膜とからなることを特徴とするものである。
の発明において、前記誘電体膜は、酸化シリコン膜から
なることを特徴とするものである。請求項５記載の発明
は、上記請求項１記載の発明において、前記誘電体膜
は、酸化シリコン膜と該酸化シリコン膜上に形成した酸
化チタン膜とからなることを特徴とするものである。
【００１２】
【作用】請求項１記載の発明では、プラスチック基板
と、プラスチック基板上に形成した窒化シリコンからな
る密着膜と、窒化シリコン密着膜上に形成した金属反射
膜と、金属反射膜上に形成した誘電体膜とからなるよう
に構成する。このため、ポリカーボネート等のプラスチ
ック基板に対して密着性の良好な窒化シリコン密着膜を
蒸着法等により容易に形成することができる。しかも、
窒化シリコン密着膜に対して密着性の良好なＡｌ等の金
属反射膜を容易に形成することができる。従って、従来
のＳｉＯ2 密着膜の場合よりも、窒化シリコン密着膜に
よりプラスチック基板と金属反射膜との密着性を十分取
ることができる。
と、プラスチック基板上に形成した窒化シリコンからな
る密着膜と、窒化シリコン密着膜上に形成した金属反射
膜と、金属反射膜上に形成した誘電体膜とからなるよう
に構成する。このため、ポリカーボネート等のプラスチ
ック基板に対して密着性の良好な窒化シリコン密着膜を
蒸着法等により容易に形成することができる。しかも、
窒化シリコン密着膜に対して密着性の良好なＡｌ等の金
属反射膜を容易に形成することができる。従って、従来
のＳｉＯ2 密着膜の場合よりも、窒化シリコン密着膜に
よりプラスチック基板と金属反射膜との密着性を十分取
ることができる。
【００１３】また、窒化シリコン密着膜は、従来のＣｒ
密着膜等の場合よりも、ガス化し難くして毒性を生じ難
くすることができるとともに、膜にクラックを入り難く
することができる。従って、密着性に優れ、クラックや
毒性が生じ難いミラーを実現することができる。
密着膜等の場合よりも、ガス化し難くして毒性を生じ難
くすることができるとともに、膜にクラックを入り難く
することができる。従って、密着性に優れ、クラックや
毒性が生じ難いミラーを実現することができる。
【００１４】請求項２記載の発明では、誘電体膜を、フ
ッ化マグネシウム膜からなるように構成する。このた
め、ミラーの最上層に蒸着が容易なフッ化マグネシウム
膜を形成して構成することにより、作業効率及び経済性
に優れたミラーを実現することができる。
ッ化マグネシウム膜からなるように構成する。このた
め、ミラーの最上層に蒸着が容易なフッ化マグネシウム
膜を形成して構成することにより、作業効率及び経済性
に優れたミラーを実現することができる。
【００１５】請求項３記載の発明では、誘電体膜を、フ
ッ化マグネシウム膜とフッ化マグネシウム膜上に形成し
た酸化チタン膜とからなるように構成する。このため、
ミラーの保護膜に蒸着が容易なフッ化マグネシウム膜と
酸化チタン膜とを順次形成して構成することにより、作
業効率及び経済性を向上させることができる。しかも、
フッ化マグネシウム膜と酸化チタン膜を組み合わせて構
成することにより、反射率を上げることができる。更
に、ミラーの最上層に高硬度の酸化チタン膜を形成して
構成することにより、耐久性を向上させることができ
る。
ッ化マグネシウム膜とフッ化マグネシウム膜上に形成し
た酸化チタン膜とからなるように構成する。このため、
ミラーの保護膜に蒸着が容易なフッ化マグネシウム膜と
酸化チタン膜とを順次形成して構成することにより、作
業効率及び経済性を向上させることができる。しかも、
フッ化マグネシウム膜と酸化チタン膜を組み合わせて構
成することにより、反射率を上げることができる。更
に、ミラーの最上層に高硬度の酸化チタン膜を形成して
構成することにより、耐久性を向上させることができ
る。
【００１６】従って、作業効率、経済性、反射率及び耐
久性に優れたミラーを実現することができる。請求項４
記載の発明では、誘電体膜を、酸化シリコン膜からなる
ように構成する。このため、ミラーの最上層に高硬度の
保護膜となる酸化シリコン膜を形成して構成することに
より、耐久性に優れたミラーを実現することができる。
久性に優れたミラーを実現することができる。請求項４
記載の発明では、誘電体膜を、酸化シリコン膜からなる
ように構成する。このため、ミラーの最上層に高硬度の
保護膜となる酸化シリコン膜を形成して構成することに
より、耐久性に優れたミラーを実現することができる。
【００１７】請求項５記載の発明では、誘電体膜を、酸
化シリコン膜と酸化シリコン膜上に形成した酸化チタン
膜とからなるように構成する。このため、ミラーの保護
膜に酸化シリコン膜と酸化チタン膜とを順次形成して構
成することにより、酸化シリコン膜と酸化チタン膜を組
み合わせて構成することにより、反射率を上げることが
できる。しかも、ミラーの保護膜に高硬度な２層の酸化
シリコン膜及び酸化チタン膜を形成して構成することに
より、耐久性を向上させることができる。
化シリコン膜と酸化シリコン膜上に形成した酸化チタン
膜とからなるように構成する。このため、ミラーの保護
膜に酸化シリコン膜と酸化チタン膜とを順次形成して構
成することにより、酸化シリコン膜と酸化チタン膜を組
み合わせて構成することにより、反射率を上げることが
できる。しかも、ミラーの保護膜に高硬度な２層の酸化
シリコン膜及び酸化チタン膜を形成して構成することに
より、耐久性を向上させることができる。
【００１８】従って、反射率及び耐久性に優れたミラー
を実現することができる。
を実現することができる。
【００１９】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して説明
する。図１は本発明に係る一実施例のミラーの構造を示
す断面図である。本実施例では、屈折率ｎが１．５９の
ポリカーボネート等からなるプラスチック基板１上に、
屈折率が１．６０で膜厚２０ｎｍ程度のＳｉＮからなる
密着膜２、屈折率が０．７８で膜厚が１６５ｎｍ程度の
Ａｌ等からなる金属反射膜３及び屈折率が１．３８で膜
厚が１８６ｎｍ程度の保護膜となるＭｇＦ2 等からなる
誘電体膜４を電気抵抗加熱蒸着法等により順次形成し
た。
する。図１は本発明に係る一実施例のミラーの構造を示
す断面図である。本実施例では、屈折率ｎが１．５９の
ポリカーボネート等からなるプラスチック基板１上に、
屈折率が１．６０で膜厚２０ｎｍ程度のＳｉＮからなる
密着膜２、屈折率が０．７８で膜厚が１６５ｎｍ程度の
Ａｌ等からなる金属反射膜３及び屈折率が１．３８で膜
厚が１８６ｎｍ程度の保護膜となるＭｇＦ2 等からなる
誘電体膜４を電気抵抗加熱蒸着法等により順次形成し
た。
【００２０】なお、蒸着法は、電気抵抗加熱蒸着法等に
は限らず、電子ビーム蒸着法等で行ってよい。また、光
学的膜厚（ｎｄ）の制御は、回折格子または干渉フィル
ターの単色光による方法であり、この制御方法は、一般
的であるので省略する。ここで、図１に示すミラーにお
ける各々の物質の屈折率（ｎ）、幾何学的膜厚（ｄ）及
び消衰係数（ｋ）を図１に示し、図１に示すミラーにお
ける分光反射率を図３に示す。この時、基準波長
（λO ）は、５１０ｎｍとする。なお、図２は設計値で
あり、図３は実測値である。
は限らず、電子ビーム蒸着法等で行ってよい。また、光
学的膜厚（ｎｄ）の制御は、回折格子または干渉フィル
ターの単色光による方法であり、この制御方法は、一般
的であるので省略する。ここで、図１に示すミラーにお
ける各々の物質の屈折率（ｎ）、幾何学的膜厚（ｄ）及
び消衰係数（ｋ）を図１に示し、図１に示すミラーにお
ける分光反射率を図３に示す。この時、基準波長
（λO ）は、５１０ｎｍとする。なお、図２は設計値で
あり、図３は実測値である。
【００２１】このように、本実施例（請求項１）では、
プラスチック基板１と、プラスチック基板１上に形成し
たＴｉＮからなる密着膜と、ＴｉＮ密着膜２上に形成し
た金属反射膜３と、金属反射膜３上に形成した誘電体膜
４とからなるように構成している。このため、ポリカー
ボネート等のプラスチック基板１に対して密着性の良好
なＴｉＮ密着膜２を蒸着法等により容易に形成すること
ができる。しかも、ＴｉＮ密着膜２に対して密着性の良
好なＡｌ等の金属反射膜３を容易に形成することができ
る。従って、従来のＳｉＯ2 密着膜の場合よりも、Ｔｉ
Ｎ密着膜２によりプラスチック基板１と金属反射膜３と
の密着性を十分取ることができる。
プラスチック基板１と、プラスチック基板１上に形成し
たＴｉＮからなる密着膜と、ＴｉＮ密着膜２上に形成し
た金属反射膜３と、金属反射膜３上に形成した誘電体膜
４とからなるように構成している。このため、ポリカー
ボネート等のプラスチック基板１に対して密着性の良好
なＴｉＮ密着膜２を蒸着法等により容易に形成すること
ができる。しかも、ＴｉＮ密着膜２に対して密着性の良
好なＡｌ等の金属反射膜３を容易に形成することができ
る。従って、従来のＳｉＯ2 密着膜の場合よりも、Ｔｉ
Ｎ密着膜２によりプラスチック基板１と金属反射膜３と
の密着性を十分取ることができる。
【００２２】また、ＴｉＮ密着膜２は、従来のＣｒ密着
膜等の場合よりも、ガス化し難くして毒性を生じ難くす
ることができるとともに、膜にクラックを入り難くする
ことができる。従って、密着性に優れ、クラックや毒性
が生じ難いミラーを実現することができる。
膜等の場合よりも、ガス化し難くして毒性を生じ難くす
ることができるとともに、膜にクラックを入り難くする
ことができる。従って、密着性に優れ、クラックや毒性
が生じ難いミラーを実現することができる。
【００２３】本実施例（請求項２）では、誘電体膜４
を、ＭｇＦ2 膜からなるように構成している。このた
め、ミラーの最上層に蒸着が容易なＭｇＦ2 膜を形成し
て構成することにより、作業効率及び経済性に優れたミ
ラーを実現することができる。なお、上記実施例では、
金属反射膜３の誘電体４をＭｇＦ2 等のＭｇＦ2 からな
るフッ化マグネシウム膜ら構成する場合について説明し
たが、本発明（請求項３）においては、例えば図４に示
す如く、誘電体膜を、ＭｇＦ2 等のフッ化マグネシウム
膜１１ａとフッ化マグネシウム膜１１ａ上に形成したＴ
ｉＯ2 等の酸化チタン膜１１ｂとからなるように構成し
てもよい。
を、ＭｇＦ2 膜からなるように構成している。このた
め、ミラーの最上層に蒸着が容易なＭｇＦ2 膜を形成し
て構成することにより、作業効率及び経済性に優れたミ
ラーを実現することができる。なお、上記実施例では、
金属反射膜３の誘電体４をＭｇＦ2 等のＭｇＦ2 からな
るフッ化マグネシウム膜ら構成する場合について説明し
たが、本発明（請求項３）においては、例えば図４に示
す如く、誘電体膜を、ＭｇＦ2 等のフッ化マグネシウム
膜１１ａとフッ化マグネシウム膜１１ａ上に形成したＴ
ｉＯ2 等の酸化チタン膜１１ｂとからなるように構成し
てもよい。
【００２４】この場合、ミラーの保護膜に蒸着が容易な
フッ化マグネシウム膜１１ａと酸化チタン膜１１ｂとを
順次形成して構成することにより、作業効率及び経済性
を向上させることができる。しかも、フッ化マグネシウ
ム膜１１ａと酸化チタン膜１１ｂを組み合わせて構成す
ることにより、反射率を上げることができる。更に、ミ
ラーの最上層に高硬度の酸化チタン膜１１ｂを形成して
構成することにより、耐久性を向上させることができ
る。従って、作業効率、経済性、反射率及び耐久性に優
れたミラーを実現することができる。
フッ化マグネシウム膜１１ａと酸化チタン膜１１ｂとを
順次形成して構成することにより、作業効率及び経済性
を向上させることができる。しかも、フッ化マグネシウ
ム膜１１ａと酸化チタン膜１１ｂを組み合わせて構成す
ることにより、反射率を上げることができる。更に、ミ
ラーの最上層に高硬度の酸化チタン膜１１ｂを形成して
構成することにより、耐久性を向上させることができ
る。従って、作業効率、経済性、反射率及び耐久性に優
れたミラーを実現することができる。
【００２５】ここで、図４に示す各々の物質の屈折率
（ｎ）、幾何学的膜厚（ｄ）及び消衰係数（ｋ）を図５
に示し、図４に示すミラーにおける分光反射率を図６に
示す。この時、基準波長（λO ）は、５１０ｎｍとす
る。なお、図５は設計値であり、図６は実測値である。
次に、本発明（請求項４）においては、誘電体膜を、図
７に示す如く、酸化シリコン膜２１からなるように構成
してもよい。
（ｎ）、幾何学的膜厚（ｄ）及び消衰係数（ｋ）を図５
に示し、図４に示すミラーにおける分光反射率を図６に
示す。この時、基準波長（λO ）は、５１０ｎｍとす
る。なお、図５は設計値であり、図６は実測値である。
次に、本発明（請求項４）においては、誘電体膜を、図
７に示す如く、酸化シリコン膜２１からなるように構成
してもよい。
【００２６】この場合、ミラーの最上層に高硬度の保護
膜となる酸化シリコン膜２１を形成して構成することに
より、耐久性に優れたミラーを実現することができる。
ここで、図７に示す図における各々の物質の屈折率
（ｎ）、幾何学的膜厚（ｄ）及び消衰係数（ｋ）を図８
に示し、図７に示すミラーにおける分光反射率を図９に
示す。この時、基準波長（λO ）は、５１０ｎｍとす
る。なお、図８は波計値であり、図９は実測値である。
膜となる酸化シリコン膜２１を形成して構成することに
より、耐久性に優れたミラーを実現することができる。
ここで、図７に示す図における各々の物質の屈折率
（ｎ）、幾何学的膜厚（ｄ）及び消衰係数（ｋ）を図８
に示し、図７に示すミラーにおける分光反射率を図９に
示す。この時、基準波長（λO ）は、５１０ｎｍとす
る。なお、図８は波計値であり、図９は実測値である。
【００２７】次に、本発明（請求項５）においては、誘
電体膜を、酸化シリコン膜３１ａと酸化チタン膜３１ａ
上に形成した酸化チタン膜３１ｂとからなるように構成
してもよい。このため、ミラーの保護膜に酸化シリコン
膜３１ａと酸化チタン膜３１ｂとを順次形成して構成す
ることにより、酸化シリコン膜３１ａと酸化チタン膜３
１ｂを組み合わせて構成することにより、反射率を上げ
ることができる。しかも、ミラーの保護膜に高硬度な２
層の酸化シリコン膜３１ａ及び酸化チタン膜３１ｂを形
成して構成することにより、耐久性を向上させることが
できる。
電体膜を、酸化シリコン膜３１ａと酸化チタン膜３１ａ
上に形成した酸化チタン膜３１ｂとからなるように構成
してもよい。このため、ミラーの保護膜に酸化シリコン
膜３１ａと酸化チタン膜３１ｂとを順次形成して構成す
ることにより、酸化シリコン膜３１ａと酸化チタン膜３
１ｂを組み合わせて構成することにより、反射率を上げ
ることができる。しかも、ミラーの保護膜に高硬度な２
層の酸化シリコン膜３１ａ及び酸化チタン膜３１ｂを形
成して構成することにより、耐久性を向上させることが
できる。
【００２８】従って、反射率及び耐久性に優れたミラー
を実現することができる。ここで、図１０に示すミラー
における各々の物質の屈折率（ｎ）、幾何学的膜厚
（ｄ）及び消衰係数（ｋ）を図１１に示し、図１０に示
すミラーにおける分光反射率を図１２に示す。この時、
基準波長（λO ）は、５１０ｎｍとする。なお、図１１
は設計値であり、図１２は実測値である。
を実現することができる。ここで、図１０に示すミラー
における各々の物質の屈折率（ｎ）、幾何学的膜厚
（ｄ）及び消衰係数（ｋ）を図１１に示し、図１０に示
すミラーにおける分光反射率を図１２に示す。この時、
基準波長（λO ）は、５１０ｎｍとする。なお、図１１
は設計値であり、図１２は実測値である。
【００２９】なお、上記各実施例では、プラスチック基
板１にポリカーボネートを用いたが、このポリカーボネ
ート基板以外のポリスチレン，ポリエチレン，メタアク
リル酸メチル，ポリアセタール，フェノール，ポリメチ
ルメタクリレート，ポリプロピレン，ポリアミド等の基
板を用いてもよい。また、密着膜２の物質としては、Ｓ
ｉＮを用いたが、ＳｉＮだけでなくＳｉ3 Ｎ4 等の窒化
シリコンを用いてもよく、この場合も上記実施例と同様
の効果を得ることができる。
板１にポリカーボネートを用いたが、このポリカーボネ
ート基板以外のポリスチレン，ポリエチレン，メタアク
リル酸メチル，ポリアセタール，フェノール，ポリメチ
ルメタクリレート，ポリプロピレン，ポリアミド等の基
板を用いてもよい。また、密着膜２の物質としては、Ｓ
ｉＮを用いたが、ＳｉＮだけでなくＳｉ3 Ｎ4 等の窒化
シリコンを用いてもよく、この場合も上記実施例と同様
の効果を得ることができる。
【００３０】また、密着膜２の幾何学的膜厚（ｄ）を２
０ｎｍとしたが、膜厚は任意であり、実験結果では、１
５０ｎｍまで密着性、反射率に何等変化のなかったこと
を付け加えておく。
０ｎｍとしたが、膜厚は任意であり、実験結果では、１
５０ｎｍまで密着性、反射率に何等変化のなかったこと
を付け加えておく。
【００３１】
【発明の効果】本発明によれば、密着層に毒性及び密着
層へのクラックを生じさせることなく、プラスチック基
板と金属反射膜との密着性を十分向上させることができ
るという効果がある。
層へのクラックを生じさせることなく、プラスチック基
板と金属反射膜との密着性を十分向上させることができ
るという効果がある。
【図１】本発明に係る一実施例のミラーの構造を示す断
面図である。
面図である。
【図２】図１に示すミラーにおける各々の物質の屈折
率、幾何学膜及び精衰係数を示す図である。
率、幾何学膜及び精衰係数を示す図である。
【図３】図１に示すミラーにおける分光反射率を示す図
である。
である。
【図４】本発明に適用できるミラーの構造を示す断面図
である。
である。
【図５】図４に示すミラーにおける各々の物質の屈折
率、幾何学的膜厚及び消衰係数を示す図である。
率、幾何学的膜厚及び消衰係数を示す図である。
【図６】図４に示すミラーにおける分光反射率を示す断
面図である。
面図である。
【図７】本発明に適用できるミラーの構造を示す断面図
である。
である。
【図８】図７に示すミラーにおける各々の物質の屈折
率、幾何学的膜厚及び消衰係数を示す図である。
率、幾何学的膜厚及び消衰係数を示す図である。
【図９】図７に示すミラーにおける分光反射率を示す図
である。
である。
【図１０】本発明に適用できるミラーの構造を示す断面
図である。
図である。
【図１１】図１０に示すミラーにおける各々の物質の屈
折率、幾何学的膜厚及び消衰係数を示す図である。
折率、幾何学的膜厚及び消衰係数を示す図である。
【図１２】図１０に示すミラーにおける分光反射率を示
す図である。
す図である。
１ プラスチック基板 ２ 密着膜 ３ 金属反射鏡 ４ 誘電体膜 １１ａ フッ化マグネシウム膜 １１ｂ，１１ｃ 酸化チタン膜 ２１，３１ａ 酸化シリコン膜
Claims (5)
- 【請求項１】プラスチック基板と、該プラスチック基板
上に形成した窒化シリコンからなる密着膜と、該窒化シ
リコン密着膜上に形成した金属反射膜と、該金属反射膜
上に形成した誘電体膜とからなることを特徴とするミラ
ー。 - 【請求項２】前記誘電体膜は、フッ化マグネシウム膜か
らなることを特徴とする請求項１記載のミラー。 - 【請求項３】前記誘電体膜は、フッ化マグネシウム膜と
該フッ化マグネシウム膜上に形成した酸化チタン膜とか
らなることを特徴とする請求項１記載のミラー。 - 【請求項４】前記誘電体膜は、酸化シリコン膜からなる
ことを特徴とする請求項１記載のミラー。 - 【請求項５】前記誘電体膜は、酸化シリコン膜と該酸化
シリコン膜上に形成した酸化チタン膜とからなることを
特徴とする請求項１記載のミラー。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2854795A JPH08220313A (ja) | 1995-02-17 | 1995-02-17 | ミラー |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2854795A JPH08220313A (ja) | 1995-02-17 | 1995-02-17 | ミラー |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08220313A true JPH08220313A (ja) | 1996-08-30 |
Family
ID=12251693
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2854795A Pending JPH08220313A (ja) | 1995-02-17 | 1995-02-17 | ミラー |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08220313A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008066069A (ja) * | 2006-09-06 | 2008-03-21 | Ichikoh Ind Ltd | 車両用ランプ装置 |
-
1995
- 1995-02-17 JP JP2854795A patent/JPH08220313A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008066069A (ja) * | 2006-09-06 | 2008-03-21 | Ichikoh Ind Ltd | 車両用ランプ装置 |
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