JPH08217786A - ルイスｘ誘導体及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】炎症、虚血再灌流障害、自己免疫疾患あるいは
癌転移等の原因として知られているルイスＸ及びシアリ
ルルイスＸ糖誘導体の製造に有用な中間体及びその製造
方法を提供する。 【構成】例えば、式 【化１】 で表される化合物（ただし、式中Ｒ¹ は２−トリ（Ｃ₁
−Ｃ₄ アルキル／フェニル）シリルエチル基を表す）。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は炎症、虚血再灌流障害、
自己免疫疾患あるいは癌転移等の原因物質として知られ
ているルイスＸ及びシアリルルイスＸ糖鎖類の誘導体の
製造方法、その中間体および中間体の製造方法に関する
ものである。本発明のアミノ糖化合物は各種Ｏ−グリコ
シドまたはＮ−置換ルイスＸ及びシアリルルイスＸ誘導
体の合成中間体として有用である。

【０００２】

【従来の技術】血管内皮細胞に発現する好中球接着分子
であるＥ−セレクチン、血管内皮細胞及び血小板に発現
する好中球接着分子であるＰ−セレクチン、及びリンパ
球のホーミングレセプターであるＬ−セレクチンは、ル
イスＸ及びシアリルルイスＸ糖鎖構造をリガンドとして
認識することが知られている（諸岡茂昭, 医学のあゆ
み, 169，108 (1994)）。例えば、各種の炎症性疾患の
発症は、これらのセレクチンとリガンドの結合を介した
相互作用から開始することから、このような接着を阻害
する物質は抗炎症薬となるのではないかと予想されてい
る（M. P. Bevilacqua等, Thrombosis Haemostasis, 7
0, 152 (1993)）。従って、糖鎖誘導体はこれらセレク
チンの関与する疾患への適応が期待され、糖鎖の治療薬
への応用が試みられている。インビボ病態モデルでの報
告としてはＩｇＧ免疫複合体（M. S. Mulligan 等, J.
Exp. Med., 178, 623 (1993) ）やコブラ毒素による肺
障害（M.S. Mulligan 等, Nature, 364, 149 (1993)
）また、心臓虚血後の再灌流障害（D.Lefer 等, J. Cl
in. Invest., 93, 1140 (1994) ）がシアリルルイスＸ
誘導体により改善されていることから、これら各種誘導
体を効率良く合成し、構造活性相関研究を行なうことは
各種疾患の治療薬を創製する上で極めて重要である。一
般的なルイスＸ及びシアリルルイスＸ誘導体の合成法と
しては、化学的な合成法（K. C. Nicolaou 等, J. Am.
Chem. Soc., 112, 3693 (1990)）のみならず、酵素的
な合成法（C. H. Wong 等, J. Am. Chem. Soc., 114,
9283 (1992)）及び両者を組み合わせた合成法（J. C.
Paulson 等, WO 9119502）が知られている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、いずれ
の方法も初期の工程でＯ−グリコシドを導入しているこ
と、また、酵素法を用いる場合には、Ｏ−グリコシドや
Ｎ−置換基の種類により、酵素の基質に対する特異性に
基づく反応の制約を受ける為、所望の目的物を容易に得
ることが出来ないなどの不利があり、より効率的な各種
Ｏ−グリコシドまたはＮ−置換ルイスＸ及びシアリルル
イスＸ誘導体の製造法が強く望まれていた。本発明の目
的は、各種Ｏ−グリコシドまたはＮ−置換ルイスＸ及び
シアリルルイスＸ誘導体の効率的製造原料となる中間体
を提供することにある。かかる本発明中間体は、低廉な
出発原料であるＤ−グルコサミンから製造することが出
来る。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記目的
を達成するため鋭意検討を重ねた結果、後述の化合物す
なわち、２−三置換シリルエチル β−Ｄ−ガラクトピ
ラノシル−（１→４）−Ｏ−〔α−Ｌ−フコピラノシル
−（１→３）−Ｏ〕−（β−Ｄ−グルコサミノピラノシ
ド）誘導体が、各種Ｏ−グリコシドまたはＮ−置換ルイ
スＸ及びシアリルルイスＸ誘導体の製造に有用な化合物
であることを見出した。またこれらの化合物は、後述の
２−三置換シリルエチル β−Ｄ−ガラクトピラノシ
ル−（１→４）−Ｏ−（β−Ｄ−グルコサミノピラノシ
ド）誘導体が前駆体となることを見出した。またこれら
の化合物が低廉な出発原料であるＤ−グルコサミンから
簡便に製造できることを見出し本発明を完成するに至っ
た。

【０００５】すなわち本発明は、第一には、一般式

【化３９】 〔式中、Ｒ¹ は２−トリ（Ｃ₁-Ｃ₄ アルキル／フェニ
ル）シリルエチル基である。Ｒ² およびＲ³ はそれぞ
れ、水素原子、Ｃ₁-Ｃ₆ アルカノイル基、アロイル基、
ベンジル基または置換ベンジル基である。Ｘは水素原
子、Ｃ₁-Ｃ₆ アルカノイル基、アロイル基または一般式

【化４０】 （式中、Ｒ⁴ は水素原子またはＣ₁-Ｃ₆ アルキル基であ
る。Ｒ⁵ は水素原子、Ｃ₁-Ｃ₆ アルカノイル基またはア
ロイル基である。Ｒ⁶ はメチル基、ヒドロキシメチル
基、Ｃ₁-Ｃ₆ アルカノイルオキシメチル基またはアロイ
ルオキシメチル基である。）で表される基である。〕で
表される化合物またはその塩に関する。すなわち、前述
の ２−三置換シリルエチル β−Ｄ−ガラクトピラノ
シル−（１→４）−Ｏ−〔α−Ｌ−フコピラノシル−
（１→３）−Ｏ〕−（β−Ｄ−グルコサミノピラノシ
ド）誘導体またはその塩に関する。

【０００６】第二には、一般式

【化４１】 （式中、Ｒ¹ 、Ｒ² およびＸは前述と同意義を示す。）
で表される化合物またはその塩に関する。すなわち、前
述の ２−三置換シリルエチル β−Ｄ−ガラクトピラ
ノシル−（１→４）−Ｏ−（β−Ｄ−グルコサミノピラ
ノシド）誘導体またはその塩に関する。

【０００７】第三には、一般式

【化４２】 （式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ およびＸは前述と同意義を示
す。）で表される本発明化合物のアミノ基を適宜修飾し
て、一般式

【化４３】 （式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ およびＸは前述と同意義を示
す。ＹはＣ（Ｏ）、ＳＯ₂ 、ＨＮＣ（Ｏ）、ＯＣ（Ｏ）
あるいはＳＣ（Ｏ）である。Ｒ⁷ はＣ₁-Ｃ₆ アルキル
基、アリール基、置換されたアリール基またはアリール
Ｃ₁-Ｃ₆ アルキル基である。）で表される化合物とな
し、次いでこれをＯ−アシル化反応（Ｒ⁴ が水素原子の
場合には、エステル化反応も）に付し（Ｒ² 、Ｒ³ およ
びＸのいずれもが水素原子ではなく、かつＸが未保護の
カルボキシル基または水酸基を有さない基である場合に
は本Ｏ−アシル化反応を行う必要はない）、一般式

【化４４】 （式中、Ｒ¹ 、ＹおよびＲ⁷ は前述と同意義を示す。Ｒ
²'およびＲ³'はＣ₁-Ｃ₆アルカノイル基またはアロイル
基である。Ｘ' はＣ₁-Ｃ₆ アルカノイル基、アロイル基
または一般式

【化４５】 （式中、Ｒ⁴'はＣ₁-Ｃ₆ アルキル基である。Ｒ⁵'はＣ₁-
Ｃ₆ アルカノイル基またはアロイル基である。Ｒ⁶'はメ
チル基、Ｃ₁-Ｃ₆ アルカノイルオキシメチル基またはア
ロイルオキシメチル基である。）で表される基であ
る。〕で表される化合物となし、ついでこの還元末端の
２−トリ（Ｃ₁-Ｃ₄ アルキル／フェニル）シリルエチル
オキシ基を適宜脱離基に変換して、一般式

【化４６】 （式中、Ｒ²'、Ｘ’、Ｙ、Ｒ³'およびＲ⁷ は前述と同意
義を示す。Ｚは脱離基である。）で表される化合物とな
し、ついでこれを一般式 Ｒ⁸ ＯＨ （式中、Ｒ⁸ はＣ₁-Ｃ₁₈アルキル基、置換基を有するＣ
₁-Ｃ₁₈アルキル基、アリール基または置換されたアリー
ル基である。）で表される化合物とグリコシル化して、
一般式

【化４７】 （式中、Ｒ²'、Ｘ’、Ｙ、Ｒ³'、Ｒ⁷ およびＲ⁸ は前述
と同意義を示す。）で表される化合物となし、ついでこ
れを加水分解することを特徴とする、一般式

【化４８】 〔式中、Ｙ、Ｒ⁷ およびＲ⁸ は前述したものと同意義を
示す。Ｗは水素原子または一般式

【化４９】 （式中、Ｒ⁹ はメチル基またはヒドロキシメチル基であ
る。）で表される基である。〕で表されるルイスＸ誘導
体を製造する方法に関する。

【０００８】第四には、一般式

【化５０】 （式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ およびＸは前述と同意義を示
す。）で表される本発明化合物のＮ原子を適宜保護し
て、一般式

【化５１】 （式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ およびＸは前述と同意義を示
す。Ｒ¹⁰はアリル基、ｔ−ブチル基またはベンジル基で
ある。）で表される化合物となし、次いでこれをＯ−ア
シル化反応（Ｒ⁴ が水素原子の場合には、エステル化反
応も）に付し（Ｒ² 、Ｒ³ およびＸのいずれもが水素原
子ではなく、かつＸが未保護のカルボキシル基または水
酸基を有さない基である場合には本Ｏ−アシル化反応を
行う必要はない）、一般式

【化５２】 （式中、Ｒ¹ 、Ｒ²'、Ｒ³'、Ｘ' およびＲ¹⁰は前述と同
意義を示す。) で表される化合物となし、次いでこの還
元末端の２−トリ（Ｃ₁-Ｃ₄ アルキル／フェニル）シリ
ルエチルオキシ基を適宜脱離基に変換して、一般式

【化５３】 （式中、Ｒ²'、Ｘ' 、Ｒ³'、Ｒ¹⁰およびＺは前述と同意
義を示す。) で表される化合物となし、ついでこれを一
般式 Ｒ⁸ ＯＨ （式中、Ｒ⁸ は前述と同意義を示す。) で表される化合
物とグリコシル化して、一般式

【化５４】 （式中、Ｒ²'、Ｘ’、Ｒ³'、Ｒ⁸ およびＲ¹⁰は前述と同
意義を示す。）で表される化合物を得て、引き続きＮ−
脱保護反応を行って、一般式

【化５５】 （式中、Ｒ²'、Ｘ' 、Ｒ³'およびＲ⁸ は前述と同意義を
示す。) で表される化合物を得、さらにこの化合物のア
ミノ基を適宜修飾して、一般式

【化５６】 （式中、Ｒ²'、Ｘ' 、Ｒ³'、Ｒ⁷ 、ＹおよびＲ⁸ は前述
と同意義を示す。) で表される化合物となし、次いでこ
れを加水分解することを特徴とする、一般式

【化５７】 （式中、Ｒ⁷ 、Ｒ⁸ 、ＹおよびＷは前述したものと同意
義を示す。）で表されるルイスＸ誘導体の製造方法に関
する。

【０００９】第五には、一般式

【化５８】 （式中、Ｒ¹ 、Ｒ²'およびＸ' は前述と同意義を示
す。）で表される化合物のＮ原子を適宜保護して、一般
式

【化５９】 （式中、Ｒ¹ 、Ｒ²'、Ｘ' およびＲ¹⁰は前述と同意義を
示す。）で表される化合物となし、次いでこれを、一般
式

【化６０】 （式中、Ｚは前述と同意義を示す。Ｒ¹¹はＣ₁-Ｃ₆ アル
カノイル基、アロイル基、ベンジル基または置換ベンジ
ル基である。) で表されるＬ−フコピラノシル誘導体と
のグリコシル化反応に供して、一般式

【化６１】 （式中、Ｒ¹ 、Ｒ²'、Ｒ¹⁰、Ｘ' およびＲ¹¹は前述と同
意義を示す。）で表される化合物を得、次いで必要に応
じて、保護基を脱保護して（特にＲ¹¹がベンジル基また
は置換ベンジル基である場合には、必ず脱保護して）、
一般式、

【化６２】 （式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ¹⁰およびＸは前述と同意
義を示す。）で表される化合物となした後、引き続きＮ
−脱保護反応を行うことを特徴とする、一般式

【化６３】 （式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ およびＸは前述と同意義を示
す。）で表される本発明化合物の製造方法に関する。

【００１０】第六には、一般式

【化６４】 （式中、Ｒ¹ 、Ｒ² およびＸは前述と同意義を示す。）
で表される化合物のＮ原子を適宜保護し、必要に応じて
Ｏ−脱保護反応および脱エステル化反応を行って、一般
式

【化６５】 （式中、Ｒ¹ 、ＷおよびＲ¹⁰は前述と同意義を示す。）
で表される化合物となし、次いでこれを、フコース転移
酵素を用いてＧＤＰ−フコースと反応させて、一般式

【化６６】 （式中、Ｒ¹ 、ＷおよびＲ¹⁰は前述と同意義を示す。）
で表される化合物となし、必要に応じてＯ−アシル化反
応およびカルボキシル基のエステル化反応に付した後、
引き続きＮ−脱保護反応を行うことを特徴とする、一般
式

【化６７】 （式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ およびＸは前述と同意義を示
す。）で表される本発明化合物の製造方法に関する。

【００１１】そして第七には、一般式

【化６８】 （式中、Ｒ¹ およびＲ¹⁰は前述と同意義を示す。）で表
されるグルコサミン誘導体を、ガラクトース転移酵素を
用いてＵＤＰ−ガラクトースと反応させ、更に、必要に
応じて、シアル酸転移酵素を用いてＣＭＰ−Ｎ−アセチ
ルノイラミン酸と反応させることにより、一般式

【化６９】 （式中、Ｒ¹ 、Ｒ¹⁰およびＷは前述と同意義を示す。）
で表される化合物となし、次いで、必要に応じて、これ
をＯ−アシル化反応（必要に応じ、カルボキシル基のエ
ステル化反応も）に付し、一般式

【化７０】 （式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ¹⁰およびＸは前述と同意義を示
す。）で表される化合物となし、引き続きＮ−脱保護反
応に付し、一般式

【化７１】 （式中、Ｒ¹ 、Ｒ² およびＸは前述と同意義を示す。）
で表される化合物となし、次いでこれを、位置選択的な
脱アシル化反応に付すことを特徴とする、一般式

【化７２】 （式中、Ｒ¹ 、Ｒ² およびＸは前述と同意義を示す。）
で表される化合物の製造方法に関する。

【００１２】本発明における置換基を、以下に説明す
る。ハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原
子またはヨウ素原子を意味する。Ｃ₁-Ｃ₆ アルキル基と
は、炭素数１〜６個からなる直鎖状または分枝状のアル
キル基であり、具体的には、メチル基、エチル基、プロ
ピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔ
−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチ
ル基、ヘキシル基等が挙げられる。アリ−ル基とは、炭
化水素、酸素原子を一つ含む炭化水素、硫黄原子を一つ
含む炭化水素、窒素原子を一つ含む炭化水素、あるいは
窒素原子を二つ含む炭化水素のいずれかが環をなすこと
により形成される、五員単環式、六員単環式、六員環と
五員環が縮合した縮合多環式、あるいは六員環同志が縮
合した縮合多環式の芳香環基を意味する。すなわち、ア
リ−ル基としては、例えばフェニル基等の単環式芳香族
炭化水素基、例えばナフチル基、アントラセニル基（ア
ンスリル基）、フェナンスレニル基等の縮合多環式芳香
族炭化水素基、例えばフリル基、チエニル基、ピリジル
基、ピラジニル基、ベンゾフラニル（ベンゾ〔ｂ〕フラ
ニル）基、イソベンゾフラニル（ベンゾ〔ｃ〕フラニ
ル）基、ベンゾチエニル（ベンゾ〔ｂ〕チエニル）基、
イソベンゾチエニル（ベンゾ〔ｃ〕チエニル）基、ピリ
ミジニル基、ピリダジニル基、キノリニル基、イソキノ
リニル基、キノキサリニル基、ナフチリジニル基、フタ
ラジニル基、キナゾリニル基等の酸素原子、硫黄原子あ
るいは１ないし２個の窒素原子を含む芳香族複素環式基
などが挙げられる。基を形成するにあたっての結合枝の
位置は、取り得る全ての位置より任意に選択することが
できる。

【００１３】置換されたアリール基とは、以下に述べる
置換基のうち１ないし数種を、１ないし複数個、芳香環
上に有するアリール基である。かかる置換基としては、
ハロゲン原子、ニトロ基、トリフルオロメチル基、例え
ばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、
ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、
３−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ヘ
キシル基、ヘプチル基、４−ヘプチル基、オクチル基、
ノニル基、５−ノニル基、デシル基、ウンデシル基、６
−ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、７−トリ
デシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、８−ペン
タデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、９−ヘ
プタデシル基、オクタデシル基、等の炭素数１〜１８個
のアルキル基、フェニル基、例えばメトキシ基、エトキ
シ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、
ペンチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、ヘキシル
オキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ
基、オクチルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ
基、ウンデシルオキシ基、ドデシルオキシ基、トリデシ
ルオキシ基、テトラデシルオキシ基、ペンタデシルオキ
シ基、ヘキサデシルオキシ基、ヘプタデシルオキシ基、
オクタデシルオキシ基等の炭素数１〜１８個のアルコキ
シ基、フェノキシ基、ベンジルオキシ基、（置換ベンジ
ル）オキシ基、アミノ基、ベンジルアミノ基、（置換ベ
ンジル）アミノ基、炭素数１〜１８個のモノアルキルア
ミノ基、各々が炭素数１〜１８個のジアルキルアミノ
基、アルキル鎖の炭素数が１〜１８個のアルキルベンジ
ルアミノ基、例えばアセチルアミノ基、プロピオニルア
ミノ基、ブチリルアミノ基、バレリルアミノ基、ペンタ
ノイルアミノ基、シクロペンタンカルボキサミド基、ヘ
キサノイルアミノ基、シクロヘキサンカルボキサミド
基、ヘプタノイルアミノ基、オクタノイルアミノ基、ノ
ナノイルアミノ基、デカノイルアミノ基、ウンデカノイ
ルアミノ基、ドデカノイルアミノ基、トリデカノイルア
ミノ基、テトラデカノイルアミノ基、ペンタデカノイル
アミノ基、ヘキサデカノイルアミノ基、ヘプタデカノイ
ルアミノ基等の炭素数１〜１８個のアルカノイルアミノ
基（アルキルカルボキサミド基）、例えばベンゾイルア
ミノ基、ナフトイルアミノ基等の炭素数１〜１０個のア
ロイルアミノ基、カルボキシル基、例えばメチルカルバ
モイル基、エチルカルバモイル基、プロピルカルバモイ
ル基、ブチルカルバモイル基、ペンチルカルバモイル
基、シクロペンチルカルバモイル基、ヘキシルカルバモ
イル基、シクロヘキシルカルバモイル基、ヘプチルカル
バモイル基、オクチルカルバモイル基、ノニルカルバモ
イル基、デシルカルバモイル基、ウンデシルカルバモイ
ル基、ドデシルカルバモイル基、トリデシルカバモイル
基、テトラデシルカルバモイル基、ペンタデシルカルバ
モイル基、ヘキサデシルカルバモイル基、ヘプタデシル
カルバモイル基、オクタデシルカルバモイル基等のアル
キル部分の炭素数が１〜１８個のアルキルカルバモイル
基（アルキルアミノカルボニル基）等を挙げることがで
きる。

【００１４】Ｃ₁-Ｃ₆ アルカノイル基とは、炭素数１〜
６個からなる直鎖状または分枝状のアルキルカルボニル
基であり、そのアルキル部分は１または複数個のハロゲ
ン原子等により置換されていてもよい。具体的には、ホ
ルミル基、アセチル基、クロロアセチル基、ジクロロア
セチル基、トリクロロアセチル基、プロピオニル基、ブ
チリル基、イソブチリル基、バレリル基、イソバレリル
基、ピバロイル基、ペンタノイル基、イソペンタノイル
基、ネオペンタノイル基等が挙げられ、特に好適には、
アセチル基、クロロアセチル基、トリクロロアセチル基
およびピバロイル基が挙げられる。アロイル基とは、ア
リールカルボニル基と同意義であり、そのアリール部分
は上に述べた如き置換されたアリール基であってもよ
い。置換ベンジル基とは、フェニル環上にハロゲン原
子、ニトロ基、炭素数１〜６個からなるアルコキシ基等
の置換基を有するベンジル基であり、具体的には、４−
ブロモベンジル基、４−ニトロベンジル基、４−メトキ
シベンジル基等が挙げられる。

【００１５】式中のＲ¹ は、２−トリ（Ｃ₁-Ｃ₄ アルキ
ル／フェニル）シリルエチル基を意味する。ここで、２
−トリ（Ｃ₁-Ｃ₄ アルキル／フェニル）シリルエチル基
とは、同種または異種のＣ₁-Ｃ₄ アルキル基またはフェ
ニル基が珪素原子上に計３個置換した２−シリルエチル
基を意味し、具体的には２−トリメチルシリルエチル
基、２−トリエチルシリルエチル基、２−（トリイソプ
ロピルシリル）エチル基、２−（ｔ−ブチルジメチルシ
リル）エチル基、２−トリフェニルシリルエチル基、２
−（ジフェニルメチルシリル）エチル基、２−（ｔ−ブ
チルジフェニルシリル）エチル基などを挙げることがで
きる。式中のＲ⁷ におけるアリールＣ₁-Ｃ₆ アルキル基
とは、例えばフェニルＣ₁-Ｃ₆ アルキル基、すなわち、
末端にフェニル基を有する炭素数１〜６個からなる直鎖
状ないしは分枝状のアルキル基であり、具体的には、ベ
ンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、フェニ
ルブチル基、フェニルペンチル基、フェニルヘキシル基
等を挙げることができる。式中のＲ⁸ におけるＣ₁-Ｃ₁₈
アルキル基とは、炭素数１〜１８個からなる直鎖状ない
しは分枝状のアルキル基またはシクロアルキル基であ
り、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イ
ソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、２−ブチル
基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、３−ペンチル基、イソ
ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル
基、４−ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、５−ノニ
ル基、デシル基、ウンデシル基、６−ウンデシル基、ド
デシル基、トリデシル基、７−トリデシル基、テトラデ
シル基、ペンタデシル基、８−ペンタデシル基、ヘキサ
デシル基、ヘプタデシル基、９−ヘプタデシル基、オク
タデシル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シク
ロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、
シクロオクチル基、（４−シクロヘキシル）シクロヘキ
シル基等が挙げられる。

【００１６】式中のＲ⁸ における、置換基を有するＣ₁-
Ｃ₁₈アルキル基とは、以下に述べる置換基を有する、炭
素数１〜１８個からなる直鎖状または分枝状のアルキル
基である。かかる置換基としては、ハロゲン原子、トリ
フルオロメチル基、例えばシクロプロピル基、シクロブ
チル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロ
ヘプチル基、シクロオクチル基等の炭素数１〜１８個の
シクロアルキル基、アリール基、置換されたアリール
基、ジフェニルメチル基、トリフェニルメチル基、水酸
基、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イ
ソプロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、シク
ロペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシ
ルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、ノ
ニルオキシ基、デシルオキシ基、ウンデシルオキシ基、
ドデシルオキシ基、トリデシルオキシ基、テトラデシル
オキシ基、ペンタデシルオキシ基、ヘキサデシルオキシ
基、ヘプタデシルオキシ基、オクタデシルオキシ基等の
炭素数１〜１８個のアルコキシ基、ジフェニルメトキシ
基、トリフェニルメトキシ基、アリールオキシ基、置換
されたアリールオキシ基、ベンジルオキシ基、（置換ベ
ンジル）オキシ基、アミノ基、ベンジルアミノ基、（置
換ベンジル）アミノ基、炭素数１〜１８個のモノアルキ
ルアミノ基、各々が炭素数１〜１８個のジアルキルアミ
ノ基、アルキル鎖の炭素数が１〜１８個のアルキルベン
ジルアミノ基、例えばアセチルアミノ基、プロピオニル
アミノ基、ブチリルアミノ基、バレリルアミノ基、ペン
タノイルアミノ基、シクロペンタンカルボキサミド基、
ヘキサノイルアミノ基、シクロヘキサンカルボキサミド
基、ヘプタノイルアミノ基、オクタノイルアミノ基、ノ
ナノイルアミノ基、デカノイルアミノ基、ウンデカノイ
ルアミノ基、ドデカノイルアミノ基、トリデカノイルア
ミノ基、テトラデカノイルアミノ基、ペンタデカノイル
アミノ基、ヘキサデカノイルアミノ基、ヘプタデカノイ
ルアミノ基等の炭素数１〜１８個のアルカノイルアミノ
基（アルキルカルボキサミド基）、前述のアロイル基も
しくは置換されたアロイル基がアミノ基上に置換したア
ロイルアミノ基、カルボキシル基、例えばメチルカルバ
モイル基、エチルカルバモイル基、プロピルカルバモイ
ル基、ブチルカルバモイル基、ペンチルカルバモイル
基、シクロペンチルカルバモイル基、ヘキシルカルバモ
イル基、シクロヘキシルカルバモイル基、ヘプチルカル
バモイル基、オクチルカルバモイル基、ノニルカルバモ
イル基、デシルカルバモイル基、ウンデシルカルバモイ
ル基、ドデシルカルバモイル基、トリデシルカバモイル
基、テトラデシルカルバモイル基、ペンタデシルカルバ
モイル基、ヘキサデシルカルバモイル基、ヘプタデシル
カルバモイル基、オクタデシルカルバモイル基等のアル
キル部分の炭素数が１〜１８個のアルキルカルバモイル
基（アルキルアミノカルボニル基）、各々が炭素数１〜
１８個のジアルキルカルバモイル基（ジアルキルアミノ
カルボニル基）、ベンジルカルバモイル基、アルキル鎖
の炭素数が１〜１８個のアルキルベンジルカルバモイル
基、前述のアリール基もしくは置換されたアリール基が
アミノ基上に置換したアリールカルバモイル基、炭素数
１〜１８個のアルカノイル基、アロイル基、炭素数１〜
１８個のアルキルチオ基、アリールチオ基、炭素数１〜
１８個のアルキルスルホニル基、アリールスルホニル
基、シアノ基、ニトロ基等々が挙げられる。また、これ
らの置換基のアルキル鎖上あるいはアリール環上に、さ
らに上述の置換基が置換してもよい。かかる置換基の置
換位置としては、糖鎖還元末端の酸素原子と直接結合す
る炭素原子を除く、全ての炭素原子上が可能である。さ
らには、これらの置換基は、かかるアルキル鎖上に、単
にひとつのみならず、複数個（２〜５個）置換すること
もでき、その置換基の種類は、同種のものでも異種のも
のでもよい。

【００１７】式中のＺにおける脱離基としては、具体的
には、ハロゲン原子、例えばアセトキシ基、プロポキシ
基等の炭素数１〜６個からなるアルカノイルオキシ基、
例えばベンゾイルオキシ基等のアロイルオキシ基、例え
ばメチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、イソ
プロピルチオ基等の炭素数１〜６個からなる直鎖状ある
いは分枝状のアルキルチオ基、フェニルチオ基、ピリジ
ルチオ基、フェニルスルフィニル基、フェニルセレニル
基、例えばアセトイミデート基、トリクロロアセトイミ
デート基、Ｎ−メチルアセトイミデート基等のイミデー
ト基、例えばジメチルホスホリル基、ジエチルホスホリ
ル基等の炭素数１〜６個のアルキル基からなるジアルキ
ルホスホリル基、ジフェニルホスホリル基等が挙げられ
る。本発明のルイスＸ誘導体の塩としては、酸付加塩、
すなわち、例えば、塩酸塩、臭化水素酸塩、沃化水素酸
塩、硫酸塩、硝酸塩、リン酸塩等の無機塩、例えば、蟻
酸塩、酢酸塩、シュウ酸塩、酒石酸塩、マンデル酸塩、
コハク酸塩、マレイン酸塩、フマル酸塩等のモノまたは
ジカルボン酸塩などが挙げられる。また、Ｒ⁴ がアルキ
ル基でない場合には、ナトリウム塩、リチウム塩、カリ
ウム塩、マグネシウム塩、カルシウム塩等のアルカリ金
属塩あるいはアルカリ土類金属塩として単離することも
できる。

【００１８】本発明化合物（１）は、以下に記載する方
法によって、ルイスＸ誘導体（７）へと変換することが
できる。 〔スキームＡ〕

【化７３】

【化７４】 （式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｘ、Ｒ⁷ 、Ｙ、Ｒ²'、
Ｒ³'、Ｘ' 、Ｚ、Ｒ⁸ およびＷは前述と同意義を示
す。）

【００１９】（Ａ−１工程）本発明の化合物（１）を種
々の反応条件下で親電子剤と反応させることにより、化
合物（２）を製造することができる。塩基の存在下で反
応せしめる場合の親電子剤としては、前記のＲ⁷ で表さ
れる置換基を含むカルボン酸ハライド、カルボン酸無水
物、ハロギ酸エステル、ピロカーボネート、スルホン酸
ハライド、あるいはスルホン酸無水物等を用いることが
できる。ハライドのハロゲン原子としては塩素、臭素、
ヨウ素などが挙げられる。塩基としては、炭酸ナトリウ
ムや炭酸カリウムなどの炭酸塩、水酸化ナトリウムや水
酸化カリウムなどの水酸化物、重炭酸ナトリウムや重炭
酸カリウムなどの重炭酸塩、リン酸水素二ナトリウム、
リン酸水素二カリウム、あるいはトリエチルアミン、
Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、ジメ
チルアニリン、１，８−ジアザビシクロ〔５．４．０〕
ウンデセン（ＤＢＵ）、ヘキサメチルジシラザンリチウ
ムなどの有機塩基等を用いることができる。中性条件下
で反応せしめる場合の親電子剤としては、前記のＲ⁷ で
表される置換基を含むイソシアネート、イソチオシアネ
ート等を用いることができる。縮合剤共存下で反応せし
める場合の親電子剤としては、前記のＲ⁷ で表される置
換基を含むカルボン酸、スルホン酸、チオカルボン酸等
を用いることができる。縮合剤としては、ジシクロヘキ
シルカルボジイミド（ＤＣＣ）、ジイソプロピルカルボ
ジイミド（ＤＩＰＣ）、Ｎ−エチル−Ｎ’−３−ジメチ
ルアミノプロピルカルボジイミド（ＷＳＣＩ）およびそ
の塩酸塩（ＷＳＣ・ＨＣｌ）、ベンゾトリアゾール−１
−イル−トリス（ジメチルアミノ）ホスホニウムヘキサ
フルオロリン化物塩（ＢＯＰ）、ジフェニルホスホリル
アジド（ＤＰＰＡ）等を用いることができる。これらは
単独で、あるいはＮ−ヒドロキシスクシンイミド（ＨＯ
ＮＳｕ）、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール（ＨＯＢ
ｔ）、３−ヒドロキシ−４−オキソ−３，４−ジヒドロ
−１，２，３−ベンゾトリアジン（ＨＯＯｂｔ）等と組
み合わせて用いる。

【００２０】反応は溶媒中で行うのが好ましく、溶媒と
しては塩化メチレン、１，２−ジクロロエタンなどのハ
ロゲン系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジメトキシエタン、ジオキサンなどのエーテル系溶
媒、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼンなどの芳香族
系溶媒、ヘキサン、シクロヘキサンなどの脂肪族炭化水
素系溶媒、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチル
アセトアミド、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、ア
セトニトリルなどの極性非プロトン性溶媒、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、イソプロパノールなど
のアルコール系溶媒、アセトン、水などが挙げられる。
これらは単独もしくは混合溶媒として使用される。反応
温度は−７０℃から１００℃、好ましくは０℃から６０
℃（もしくは溶媒の沸点）の範囲で選ばれる。反応時間
は主に反応温度、使用される原料化合物、試剤、溶媒等
により左右されるが、通常１時間から２日間である。た
だし、化合物（１）がいずれかの位置に水酸基を有する
場合には、すなわち、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｘのいずれかが水素
原子であるか、あるいはＸが未保護のカルボキシル基ま
たは水酸基を有する場合には、反応条件により酸素原子
上への親電子剤の反応も同時に進行する場合がある。酸
素原子上への反応を避けるためには、中性条件下、ある
いは塩基として重炭酸ナトリウムや重炭酸カリウムなど
の重炭酸塩を用いて、親電子剤と反応させるのが好まし
い。

【００２１】（Ａ−２工程）上記で得られた化合物
（２）を、塩基の存在下、アシル化剤と反応させること
により、化合物（３）を製造することができる。アシル
化剤としては、前記のＲ^2'ないしはＲ^3'で表されるアシ
ル基を含むカルボン酸ハライド、カルボン酸無水物等を
用いることができる。ハライドのハロゲン原子としては
塩素、臭素、ヨウ素などが挙げられる。塩基としては、
炭酸ナトリウムや炭酸カリウムなどの炭酸塩、水酸化ナ
トリウムや水酸化カリウムなどの水酸化物、重炭酸ナト
リウムや重炭酸カリウムなどの重炭酸塩、リン酸水素二
ナトリウム、リン酸水素二カリウム、あるいはトリエチ
ルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、ピリ
ジン、ジメチルアニリン、１，８−ジアザビシクロ
〔５．４．０〕ウンデセン（ＤＢＵ）、ヘキサメチルジ
シラザンリチウムなどの有機塩基等を用いることができ
る。反応は溶媒中で行うのが好ましく、溶媒としては塩
化メチレン、１，２−ジクロロエタンなどのハロゲン系
溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメト
キシエタン、ジオキサンなどのエーテル系溶媒、ベンゼ
ン、トルエン、クロロベンゼンなどの芳香族系溶媒、ヘ
キサン、シクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素系溶媒、
ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルアセトアミ
ド、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、アセトニトリ
ルなどの極性非プロトン性溶媒などが挙げられる。これ
らは単独もしくは混合溶媒として使用される。反応温度
は−７０℃から１００℃、好ましくは０℃から６０℃
（もしくは溶媒の沸点）の範囲で選ばれる。反応時間は
主に反応温度、使用される原料化合物、試剤、溶媒等に
より左右されるが、通常１時間から２日間である。

【００２２】なお、化合物（２）がカルボキシル基を有
する場合には、すなわちＲ⁴ が水素原子である場合に
は、本工程を行うに先立ち、その保護を行う必要があ
る。カルボキシル基のＣ₁-Ｃ₆ アルキル基による保護法
としては、例えばジアゾメタン、ジアゾエタン等のジア
ゾアルカンと反応させるか、あるいは縮合剤および有機
塩基の存在下、相当するアルコールと反応させる。縮合
剤としては、ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣ
Ｃ）、ジイソプロピルカルボジイミド（ＤＩＰＣ）、Ｎ
−エチル−Ｎ’−３−ジメチルアミノプロピルカルボジ
イミド（ＷＳＣＩ）およびその塩酸塩（ＷＳＣ・ＨＣ
ｌ）、ベンゾトリアゾール−１−イル−トリス（ジメチ
ルアミノ）ホスホニウムヘキサフルオロリン化物塩（Ｂ
ＯＰ）、ジフェニルホスホリルアジド（ＤＰＰＡ）等を
用いることができる。これらは単独で、あるいはＮ−ヒ
ドロキシスクシンイミド（ＨＯＮＳｕ）、１−ヒドロキ
シベンゾトリアゾール（ＨＯＢｔ）、３−ヒドロキシ−
４−オキソ−３，４−ジヒドロ−１，２，３−ベンゾト
リアジン（ＨＯＯｂｔ）等と組み合わせて用いる。有機
塩基としては、例えば、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジ
イソプロピルエチルアミン、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルアミノピリジン、ジメチルアニリン、１，８−ジアザ
ビシクロ〔５．４．０〕ウンデセン（ＤＢＵ）などを挙
げることができる。反応は溶媒中で行うのが好ましく、
溶媒としては塩化メチレン、１，２−ジクロロエタンな
どのハロゲン系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロ
フラン、ジメトキシエタン、ジオキサンなどのエーテル
系溶媒、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼンなどの芳
香族系溶媒、ヘキサン、シクロヘキサンなどの脂肪族炭
化水素系溶媒、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメ
チルアセトアミド、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳ
Ｏ）、アセトニトリルなどの極性非プロトン性溶媒、メ
タノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノー
ルなどのアルコール系溶媒、アセトン、水などが挙げら
れる。これらは単独もしくは混合溶媒として使用され
る。反応温度は−７０℃から１００℃、好ましくは０℃
から６０℃（もしくは溶媒の沸点）の範囲で選ばれる。
反応時間は主に反応温度、使用される原料化合物、試
剤、溶媒等により左右されるが、通常１時間から２日間
である。ただし、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｘのいずれもが水素原子
でなく、且つ、Ｘが未保護のカルボキシル基および水酸
基をひとつも有さない場合には、化合物（２）と化合物
（３）は全く等価であり、本工程は何ら行う必要がな
い。

【００２３】（Ａ−３工程）上記の方法により得られた
化合物（３）は、Magnusson らの方法により（J.Org. C
hem., 55, 3181 (1990) ）、触媒量のルイス酸の存在
下、１，１−ジハロメチルメチルエーテルなどのハロゲ
ン化試剤で処理することにより、対応する糖ハライド体
（４）に導くことができる。ハライドのハロゲン原子と
しては塩素、臭素、ヨウ素などが挙げられる。あるい
は、Magnusson らの別の方法に従って（J. Org. Chem.,
53, 5629 (1988) ）、ルイス酸の存在下に酸無水物と反
応させるか、あるいはプロトン酸と反応させることによ
り、１−Ｏ−アシル化糖（４）あるいは１−ＯＨ体へと
導くことができる。用いるルイス酸としては、例えば塩
化亜鉛、臭化亜鉛、ヨウ化亜鉛、塩化第一スズ、臭化第
一スズ、ヨウ化第一スズ、塩化第二スズ、臭化第二ス
ズ、ヨウ化第二スズ、四塩化チタン、四臭化チタン、四
ヨウ化チタン、塩化第二鉄、臭化第二鉄、ヨウ化第二
鉄、塩化アルミニウム、臭化アルミニウム、ヨウ化アル
ミニウム、トリメチルシリルトリフルオロメタンスルホ
ネート（ＴＭＳトリフラート）、スズトリフラート、エ
ーテル性三フッ化ホウ素などを挙げることができる。一
方、プロトン酸としては、例えば、蟻酸、酢酸、トリフ
ルオロ酢酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンス
ルホン酸、塩酸、過塩素酸、硫酸等を用いることができ
る。ルイス酸を用いる場合の使用量は、通常０．００１
〜１当量である。一方、プロトン酸を用いる場合には、
通常０．０１当量以上であり、時に反応溶媒を兼ねて大
過剰に用いる。反応は無溶媒下、あるいは溶媒中で行わ
れ、用いる溶媒としてはクロロホルム、塩化メチレン、
１，２−ジクロロエタンなどのハロゲン系溶媒、ジエチ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、
ジオキサンなどのエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエ
ン、クロロベンゼンなどの芳香族系溶媒、ジメチルホル
ムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルアセトアミド、ジメチル
スルホキシド（ＤＭＳＯ）、アセトニトリル、ニトロメ
タンなどの極性非プロトン性溶媒などが挙げられる。こ
れらは単独もしくは混合溶媒として使用される。反応温
度は−７０℃から１００℃、好ましくは−２０℃から６
０℃（もしくは溶媒の沸点）の範囲で選ばれる。反応時
間は主に反応温度、使用される原料化合物、試剤、溶媒
等により左右されるが、通常１時間から１日間である。
これらのハライド体、１−Ｏ−アシル化糖もしくは１−
ＯＨ体は、さらに既知の方法により、アルキルチオ基、
フェニルチオ基、ピリジルチオ基、フェニルスルフィニ
ル基、フェニルセレニル基、イミデート基、ジアルキル
ホスホリル基、あるいはジフェニルホスホリル基など種
々の脱離基Ｚを有する化合物（４）へと変換することも
できる（例えば、第４版実験化学講座、26巻、有機合成
VII 、267 〜354 頁、日本化学会編 (1992）を参照のこ
と）。

【００２４】（Ａ−４工程）このようにして得られた化
合物（４）を、ルイス酸もしくは金属塩の存在下、各種
アルコールもしくはフェノール類と反応させることによ
り、化合物（５）を製造することができる（例えば、第
４版実験化学講座、26巻、有機合成VII 、267 〜354
頁、日本化学会編 (1992）を参照のこと）。反応に用い
るルイス酸もしくは金属塩としては、塩化亜鉛、臭化亜
鉛、ヨウ化亜鉛、塩化第一スズ、臭化第一スズ、ヨウ化
第一スズ、塩化第二スズ、臭化第二スズ、ヨウ化第二ス
ズ、四塩化チタン、四臭化チタン、四ヨウ化チタン、塩
化第二鉄、臭化第二鉄、ヨウ化第二鉄、塩化第二銅、臭
化第二銅、塩化アルミニウム、臭化アルミニウム、ヨウ
化アルミニウム、塩化第二水銀、臭化第二水銀、ヨウ化
第二水銀、シアン化第二水銀、酸化水銀、酸化銀、炭酸
銀、過塩素酸銀、塩化第一銀、臭化第一銀、ヨウ化第一
銀、ケイ酸銀、四フッ化ホウ素酸銀、銀ゼオライト、ト
リメチルシリルトリフルオロメタンスルホネート（ＴＭ
Ｓトリフラート）、銀トリフラート、スズトリフラー
ト、メチルトリフラート、無水トリフラート、過塩素酸
トリチル、四フッ化珪素、塩化トリメチルシラン、臭化
トリメチルシラン、ヨウ化トリメチルシラン、エーテル
性三フッ化ホウ素などが挙げられ、必要に応じてこれら
を組み合わせて用いることもできる。反応は溶媒中で行
うのが好ましく、用いる溶媒としては塩化メチレン、
１，２−ジクロロエタンなどのハロゲン系溶媒、ジエチ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、
ジオキサンなどのエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエ
ン、クロロベンゼンなどの芳香族系溶媒、ヘキサン、シ
クロヘキサンなどの脂肪族炭化水素系溶媒、ジメチルホ
ルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルアセトアミド、アセト
ニトリル、プロピオニトリル、ニトロメタン、ニトロエ
タン、ニトロプロパンなどの極性非プロトン性溶媒、も
しくはアセトンなどが挙げられる。これらは単独もしく
は混合溶媒として使用される。反応に伴って系内に生成
する酸の捕捉剤として、反応系内にＮ，Ｎ，Ｎ',Ｎ'−
テトラメチルウレア、ピリジン、２，６−ジ−ｔ−ブチ
ルピリジン、２，６−ルチジン、２，４，６−コリジ
ン、トリエチルアミンあるいはモレキュラーシーブス
（ＭＳ３Ａ、ＭＳ４ＡあるいはＭＳ５Ａ）等を共存させ
てもよい。反応は無水の条件下で行うことが望ましく、
従って、溶媒、試薬、基質、反応容器等について、でき
る限り水分を除去したほうがよい。場合により、水分除
去のため、反応系内にモレキュラーシーブス（ＭＳ３
Ａ、ＭＳ４ＡあるいはＭＳ５Ａ）または無水硫酸カルシ
ウム等の脱水剤を共存させてもよい。また、銀塩を用い
る反応は、光を遮断して行ったほうがよい。反応温度は
−７０℃から１００℃、好ましくは−２０℃から６０℃
（もしくは溶媒の沸点）の範囲で選ばれる。反応時間は
主に反応温度、使用される原料化合物、試剤、溶媒等に
より左右されるが、通常１時間から５日間である。

【００２５】（Ａ−５工程）上記で得られた化合物
（５）を、溶媒中、塩基性条件下で加水分解することに
より、ルイスＸ誘導体（６）を製造することができる。
塩基としては、炭酸ナトリウムや炭酸カリウムなどの炭
酸塩、水酸化ナトリウムや水酸化カリウムなどの水酸化
物、重炭酸ナトリウムや重炭酸カリウムなどの重炭酸
塩、リン酸水素二ナトリウム、リン酸水素二カリウム、
あるいはトリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエ
チルアミン、ピリジン、ジメチルアニリン、１，８−ジ
アザビシクロ〔５．４．０〕ウンデセン（ＤＢＵ）、ヘ
キサメチルジシラザンリチウム、ナトリウムメトキシ
ド、ナトリウムエトキシドなどの有機塩基等を用いるこ
とができる。反応は溶媒中で行うのが好ましく、溶媒と
しては塩化メチレン、１，２−ジクロロエタンなどのハ
ロゲン系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジメトキシエタン、ジオキサンなどのエーテル系溶
媒、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼンなどの芳香族
系溶媒、ヘキサン、シクロヘキサンなどの脂肪族炭化水
素系溶媒、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチル
アセトアミド、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、ア
セトニトリルなどの極性非プロトン性溶媒、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、イソプロパノールなど
のアルコール系溶媒、アセトン、水などが挙げられる。
これらは単独もしくは混合溶媒として使用される。化合
物（５）が保護されたカルボキシル基を有する場合に
は、水との混合溶媒を用いるか、水酸基の脱保護を行っ
た後に反応系内に水または塩基の水溶液を加えるか、も
しくは水酸基の脱保護体を一旦単離した後に水または含
水溶媒中で塩基を用いるかのいずれかの方法により、カ
ルボキシル基の脱保護も行うことができる。反応温度は
−７０℃から１００℃、好ましくは０℃から６０℃（も
しくは溶媒の沸点）の範囲で選ばれる。反応時間は主に
反応温度、使用される原料化合物、試剤、溶媒等により
左右されるが、通常１時間から２日間である。

【００２６】あるいは、本発明化合物（１）は、以下に
記載する方法によっても、ルイスＸ誘導体（６）へと変
換することができる。 〔スキームＢ〕

【化７５】

【化７６】

【化７７】 （式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｘ、Ｒ¹⁰、Ｒ²'、Ｒ³'、
Ｘ' 、Ｚ、Ｒ⁸ 、Ｙ、Ｒ⁷およびＷは前述と同意義を示
す。）

【００２７】（Ｂ−１工程）本発明の化合物（１）の窒
素原子を、アリルオキシカルボニル基（Ａｌｌｏｃ）、
ｔ−ブトキシカルボニル基（Ｂｏｃ）あるいはベンジル
オキシカルボニル基（Ｃｂｚ）で保護することにより、
化合物（７）を製造することができる。保護基を導入す
る場合の試剤としては、相当するハロホルメートやピロ
カーボネートが用いられる( 例えば“Protective Group
s in Organic Synthesis”( T.W. Greene, P. G. M. Wu
ts 共著、第２版、John Wiley & Sons,Inc. (1991) ）
の 327〜338 頁を参照のこと) 。反応は通常、中性条件
下もしくは塩基の共存下で行われる。塩基としては、炭
酸ナトリウムや炭酸カリウムなどの炭酸塩、水酸化ナト
リウムや水酸化カリウムなどの水酸化物、重炭酸ナトリ
ウムや重炭酸カリウムなどの重炭酸塩、リン酸水素二ナ
トリウム、リン酸水素二カリウム、あるいはトリエチル
アミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、ピリジ
ン、ジメチルアニリン、１，８−ジアザビシクロ〔５．
４．０〕ウンデセン（ＤＢＵ）、ヘキサメチルジシラザ
ンリチウムなどの有機塩基等を用いることができる。反
応は溶媒中で行うのが好ましく、溶媒としては塩化メチ
レン、１，２−ジクロロエタンなどのハロゲン系溶媒、
ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエ
タン、ジオキサンなどのエーテル系溶媒、ベンゼン、ト
ルエン、クロロベンゼンなどの芳香族系溶媒、ヘキサ
ン、シクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素系溶媒、ジメ
チルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルアセトアミド、
ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、アセトニトリルな
どの極性非プロトン性溶媒、メタノール、エタノール、
プロパノール、イソプロパノールなどのアルコール系溶
媒、アセトン、水などが挙げられる。これらは単独もし
くは混合溶媒として使用される。反応温度は−７０℃か
ら１００℃、好ましくは０℃から６０℃（もしくは溶媒
の沸点）の範囲で選ばれる。反応時間は主に反応温度、
使用される原料化合物、試剤、溶媒等により左右される
が、通常１時間から１日間である。

【００２８】（Ｂ−２工程）上記の方法により得られた
化合物（７）を用い、Ａ−２工程と同様の方法でアシル
化することにより、全ての官能基が保護された化合物
（８）を製造することができる。なお、化合物（７）が
カルボキシル基を有する場合には、すなわちＲ⁴ が水素
原子である場合には、本工程を行うに先立ち、Ａ−２工
程と同様の方法でその保護を行う。ただし、Ｒ² 、
Ｒ³ 、Ｘのいずれもが水素原子でなく、且つ、Ｘが未保
護のカルボキシル基および水酸基をひとつも有さない場
合には、化合物（７）と化合物（８）は全く等価であ
り、本工程は何ら行う必要がない。

【００２９】（Ｂ−３工程）上記で得られた化合物
（８）は、Ａ−３工程と同様の方法により、脱離基Ｚを
有する化合物（９）へと導くことができる。 （Ｂ−４工程）上記で得られた化合物（９）を、Ａ−４
工程と同様の方法で反応させることにより、グリコシデ
ーション成績体（１０）を製造することができる。

【００３０】（Ｂ−５工程）上記の方法により得られた
化合物（１０）のアミノ基上の保護基を、選択的に脱保
護し、化合物（１１）を製造することができる。脱保護
の方法としては、例えば、“Protective Groups in Org
anic Synthesis”( T. W. Greene, P. G. M. Wuts 共
著、第２版、John Wiley & Sons,Inc. (1991) ）の 327
〜338 頁に記載の方法が挙げられる。実際に脱保護を行
うに当たっては、これらの方法のなかから、アミノ基上
の保護基のみを選択的に脱保護しうる方法を適宜選択す
ることが必要である。かかる保護基がＡｌｌｏｃである
場合には、例えば、アリル捕捉剤の存在下、テトラキス
（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＴＰＡＬ）を
用いることにより、容易に脱保護できる。ＴＰＡＬの使
用量は触媒量でよく、通常は０．００１〜１当量用い
る。また、アリル捕捉剤としては、例えばジメドン、マ
ロン酸ジエチル、モルホリン、アニリン、水素化トリブ
チルスズ、ポリメチルヒドロシロキサン等を挙げること
ができる。また、かかる保護基がＣｂｚである場合に
は、例えば、パラジウム炭素の存在下、水素添加を行う
ことにより、容易に脱保護できる。パラジウム炭素の使
用量は触媒量でよく、通常は０．００１〜１当量用い
る。また、水素供給源としては、例えば水素分子、ギ
酸、ギ酸アンモニウム、シクロヘキセン、１，４−シク
ロヘキサジエン、シス−デカリン等を挙げることができ
る。いずれの反応も溶媒中で行うのが好ましく、溶媒と
しては塩化メチレン、１，２−ジクロロエタンなどのハ
ロゲン系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジメトキシエタン、ジオキサンなどのエーテル系溶
媒、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼンなどの芳香族
系溶媒、ヘキサン、シクロヘキサンなどの脂肪族炭化水
素系溶媒、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチル
アセトアミド、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、ア
セトニトリルなどの極性非プロトン性溶媒、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、イソプロパノールなど
のアルコール系溶媒等が挙げられる。これらは単独もし
くは混合溶媒として使用される。反応温度は−７０℃か
ら１００℃、好ましくは０℃から６０℃（もしくは溶媒
の沸点）の範囲で選ばれる。反応時間は主に反応温度、
使用される原料化合物、試剤、溶媒等により左右される
が、通常１時間から１日間である。

【００３１】（Ｂ−６工程）上記の方法により得られた
化合物（１１）を、Ａ−１工程と同様の方法で親電子剤
と反応させることにより、化合物（５）を製造すること
ができる。 （Ｂ−７工程）上記の方法により得られた化合物（５）
を、Ａ−５工程と全く同様の方法で加水分解することに
より、ルイスＸ誘導体（６）を製造することができる。

【００３２】ところで、本発明化合物（１）は、以下に
記載する方法によって製造することができる。 〔スキームＣ〕

【化７８】

【化７９】 （式中、Ｒ¹ 、Ｒ²'、Ｘ' 、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹、Ｚ、Ｒ² 、Ｘ
およびＲ³ は前述と同意義を示す。Ｒ¹²は水酸基、Ｃ₁-
Ｃ₆ アルカノイル基、アロイル基、ベンジル基または置
換ベンジル基である。）

【００３３】（Ｃ−１工程）化合物（１２）の窒素原子
を、Ｂ−１工程と同様の方法で、アリルオキシカルボニ
ル基（Ａｌｌｏｃ）、ｔ−ブトキシカルボニル基（Ｂｏ
ｃ）あるいはベンジルオキシカルボニル基（Ｃｂｚ）で
保護することにより、化合物（１３）を製造することが
できる。 （Ｃ−２工程）上記で得られた化合物（１３）を、ルイ
ス酸もしくは金属塩の存在下、脱離基Ｚを有する化合物
（１４）と反応させることにより、グリコシデーション
成績体（１５）を製造することができる。反応に用いる
ルイス酸もしくは金属塩としては、塩化亜鉛、臭化亜
鉛、ヨウ化亜鉛、塩化第一スズ、臭化第一スズ、ヨウ化
第一スズ、塩化第二スズ、臭化第二スズ、ヨウ化第二ス
ズ、四塩化チタン、四臭化チタン、四ヨウ化チタン、塩
化第二鉄、臭化第二鉄、ヨウ化第二鉄、塩化第二銅、臭
化第二銅、塩化アルミニウム、臭化アルミニウム、ヨウ
化アルミニウム、塩化第二水銀、臭化第二水銀、ヨウ化
第二水銀、シアン化第二水銀、酸化水銀、酸化銀、炭酸
銀、過塩素酸銀、塩化第一銀、臭化第一銀、ヨウ化第一
銀、ケイ酸銀、四フッ化ホウ素酸銀、銀ゼオライト、ト
リメチルシリルトリフルオロメタンスルホネート（ＴＭ
Ｓトリフラート）、銀トリフラート、スズトリフラー
ト、メチルトリフラート、無水トリフラート、過塩素酸
トリチル、四フッ化珪素、塩化トリメチルシラン、臭化
トリメチルシラン、ヨウ化トリメチルシラン、エーテル
性三フッ化ホウ素などが挙げられ、必要に応じてこれら
を組み合わせて用いることもできる。（例えば、第４版
実験化学講座、26巻、有機合成VII 、267 〜354 頁、日
本化学会編 (1992）を参照のこと）。

【００３４】反応は溶媒中で行うのが好ましく、用いる
溶媒としては塩化メチレン、１，２−ジクロロエタンな
どのハロゲン系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロ
フラン、ジメトキシエタン、ジオキサンなどのエーテル
系溶媒、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼンなどの芳
香族系溶媒、ヘキサン、シクロヘキサンなどの脂肪族炭
化水素系溶媒、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメ
チルアセトアミド、アセトニトリル、プロピオニトリ
ル、ニトロメタン、ニトロエタン、ニトロプロパンなど
の極性非プロトン性溶媒、もしくはアセトンなどが挙げ
られる。これらは単独もしくは混合溶媒として使用され
る。反応に伴って系内に生成する酸の捕捉剤として、反
応系内にＮ，Ｎ，Ｎ',Ｎ'−テトラメチルウレア、ピリ
ジン、２，６−ジ−ｔ−ブチルピリジン、２，６−ルチ
ジン、２，４，６−コリジン、トリエチルアミンあるい
はモレキュラーシーブス（ＭＳ３Ａ、ＭＳ４Ａあるいは
ＭＳ５Ａ）等を共存させてもよい。反応は無水の条件下
で行うことが望ましく、従って、溶媒、試薬、基質、反
応容器等について、できる限り水分を除去したほうがよ
い。場合により、水分除去のため、反応系内にモレキュ
ラーシーブス（ＭＳ３Ａ、ＭＳ４ＡあるいはＭＳ５Ａ）
または無水硫酸カルシウム等の脱水剤を共存させてもよ
い。また、銀塩を用いる反応は、光を遮断して行ったほ
うがよい。反応温度は−７０℃から１００℃、好ましく
は−２０℃から６０℃（もしくは溶媒の沸点）の範囲で
選ばれる。反応時間は主に反応温度、使用される原料化
合物、試剤、溶媒等により左右されるが、通常１時間か
ら５日間である。なお、本反応で用いる、脱離基Ｚを有
する化合物（１４）は、２，３，４−トリ−Ｏ−保護−
Ｌ−フコピラノース、アルキル ２，３，４−トリ−Ｏ
−保護−Ｌ−フコピラノシド、あるいは、アシル ２，
３，４−トリ−Ｏ−保護−Ｌ−フコピラノシドを用い、
常法によって製造することができる。（例えば、第４版
実験化学講座、26巻、有機合成VII 、267 〜354 頁、日
本化学会編 (1992）を参照のこと）。

【００３５】（Ｃ−３工程）上記で得られた化合物（１
５）を、必要に応じ、Ａ−５工程と同様の方法で加水分
解することにより、化合物（１６）へと変換することが
できる。なお、化合物（１５）における水酸基およびカ
ルボキシル基上の保護基を、なんら脱保護する必要がな
い場合には、化合物（１５）および化合物（１６）は全
く等価であり、本工程は何ら行う必要がない。 （Ｃ−４工程）化合物（１６）におけるＲ¹²がベンジル
基または置換ベンジル基である場合には、例えば、パラ
ジウム炭素の存在下、水素添加を行うことにより容易に
脱保護を行うことができ、化合物（７）を得ることがで
きる。パラジウム炭素の使用量は触媒量でよく、通常は
０．００１〜１当量用いる。また、水素供給源として
は、例えば水素分子、ギ酸、ギ酸アンモニウム、シクロ
ヘキセン、１，４−シクロヘキサジエン、シス−デカリ
ン等を挙げることができる。特に、Ｒ¹²が４−メトキシ
ベンジル基である場合には、例えば硝酸セリウムアンモ
ニウム（ＣＡＮ）あるいはジクロロジシアノキノン（Ｄ
ＤＱ）を用いても脱保護を行うことができ、化合物
（２）を得ることができる。いずれの反応も溶媒中で行
うのが好ましく、溶媒としては塩化メチレン、１，２−
ジクロロエタンなどのハロゲン系溶媒、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、ジオキサ
ンなどのエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、クロロ
ベンゼンなどの芳香族系溶媒、ヘキサン、シクロヘキサ
ンなどの脂肪族炭化水素系溶媒、ジメチルホルムアミド
（ＤＭＦ）、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキ
シド（ＤＭＳＯ）、アセトニトリルなどの極性非プロト
ン性溶媒、メタノール、エタノール、プロパノール、イ
ソプロパノールなどのアルコール系溶媒あるいは水等が
挙げられる。これらは単独もしくは混合溶媒として使用
される。反応温度は−７０℃から１００℃、好ましくは
０℃から６０℃（もしくは溶媒の沸点）の範囲で選ばれ
る。反応時間は主に反応温度、使用される原料化合物、
試剤、溶媒等により左右されるが、通常１時間から１日
間である。なお、化合物（１６）におけるＲ¹²がベンジ
ル基でも置換ベンジル基でもない場合には、化合物（１
６）および化合物（７）は全く等価であり、本工程は何
ら行う必要がない。一方、化合物（１６）におけるＲ¹⁰
とＲ¹²が共にベンジル基である場合には、すなわち、か
かるアミノ基上の保護基がＣｂｚでありＲ¹²がベンジル
基である場合には、本工程における水素添加により両者
共に脱保護され、次なるＣ−５工程を行わずして、目的
とする本発明化合物（１）を得ることができる。 （Ｃ−５工程）上記で得られた化合物（７）のアミノ基
上の保護基を、Ｂ−５工程と同様の方法で除去し、目的
とする本発明化合物（１）を製造することができる。

【００３６】また、本発明化合物（１）は、以下に記載
する方法によっても製造することができる。 〔スキームＤ〕

【化８０】

【化８１】 （式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｘ、Ｒ¹⁰、ＷおよびＲ³ は前述と
同意義を示す。）

【００３７】（Ｄ−１工程）化合物（１７）の窒素原子
を、Ｂ−１工程と同様の方法で、アリルオキシカルボニ
ル基（Ａｌｌｏｃ）、ｔ−ブトキシカルボニル基（Ｂｏ
ｃ）あるいはベンジルオキシカルボニル基（Ｃｂｚ）で
保護することにより、化合物（１８）を製造することが
できる。 （Ｄ−２工程）上記で得られた化合物（１８）の水酸基
およびカルボキシル基が保護されている場合には、Ａ−
５工程と同様の方法により、これらを脱保護して、化合
物（１９）を製造することができる。 （Ｄ−３工程）上記で得られた化合物（１９）を、フコ
ース転移酵素を用いてＧＤＰ−フコースと反応させて、
化合物（２０）を製造することができる。本反応は、文
献記載の方法（M. M. Palcic 等, Carbohydr. Res.,
190, 1 (1989) 、C-H. Wong 等, Bioorg. Med. Chem. L
ett., 1, 425 (1991) ）に従って行うことができる。す
なわち、ｐＨ緩衝液中に、ＧＤＰ−フコース、塩化マン
ガン、化合物（１９）およびフコース転移酵素を加えて
反応させることにより、化合物（２０）を得ることがで
きる。必要に応じ、アジ化ナトリウムを加えることもで
きる。ｐＨ緩衝液としては、例えば、ヒ酸ナトリウム緩
衝液、ヒ酸カリウム緩衝液、Ｎ−（２−ヒドロキシエチ
ル）ピペラジン−Ｎ’−（２−エタンスルホン酸）（Ｈ
ＥＰＥＳ）緩衝液等が挙げられる。反応液のｐＨは、４
から９、好ましくは６から８の範囲で選ばれる。反応温
度は、０℃から６０℃、好ましくは２０℃から４５℃の
範囲で選ばれる。反応時間は主に反応温度、ｐＨ、使用
される原料化合物、試剤の当量、溶媒量等により左右さ
れるが、通常１日から２週間である。なお、ＧＤＰ−フ
コースとは、グアノシン−５’−ジホスホ−１−Ｌ−フ
コピラノシドを意味し、これは SIGMA 社により供給さ
れているし、例えば R. R.Schmidt 等の方法（Tetrahe
dron Lett., 33, 1585 (1992) ）により、Ｌ−フコピ
ラノースから製造することもできる。

【００３８】（Ｄ−４工程）上記で得られた化合物（２
０）の水酸基およびカルボキシル基を、必要に応じ、Ａ
−２工程と同様の方法で保護することにより、化合物
（７）を製造することができる。なお、化合物（２０）
の水酸基およびカルボキシル基を何ら保護する必要がな
い場合には、化合物（２０）と化合物（７）は全く等価
であり、本工程を行う必要はない。 （Ｄ−５工程）上記で得られた化合物（７）のアミノ基
上の保護基を、Ｂ−５工程と同様の方法で除去し、目的
とする本発明化合物（１）を製造することができる。

【００３９】また、上記のスキームＣおよびＤにおける
出発物質（１２）および（１７）は、以下に記載する方
法によって製造することができる。 〔スキームＥ〕

【化８２】

【化８３】 （式中、Ｒ¹ 、Ｒ¹⁰、Ｗ、Ｒ² およびＸは前述と同意義
を示す。）

【００４０】（Ｅ−１工程）グルコサミン誘導体（２
１）を、ガラクトース転移酵素を用いてＵＤＰ−ガラク
トースと反応させて、化合物（２２）を製造することが
できる。本反応は、文献記載の方法（例えば、J. C. Pa
ulson 等, J. Am. Chem. Soc.,108, 2068 (1986)、S.
L. Flitsch 等, J. Chem. Soc., Chem. Commun., 1526
(1992) ）に従って行うことができる。これらの方法で
は、入手困難なＵＤＰ−ガラクトースに代えて入手可能
なＵＤＰ−グルコースを用い、ＵＤＰ−ガラクトース−
４−エピメラーゼを利用することによって、反応系内で
ＵＤＰ−ガラクトースを合成している。すなわち、ｐＨ
緩衝液中に、ＵＤＰ−グルココース、子牛血清アルブミ
ン、塩化マンガン、化合物（２１）、ＵＤＰ−ガラクト
ース−４−エピメラーゼ およびガラクトース転移酵素
を加えて反応させることにより、化合物（２２）を得る
ことができる。必要に応じ、アジ化ナトリウムおよび／
またはアルカリホスファターゼを加えることもできる。
ｐＨ緩衝液としては、例えば、ヒ酸ナトリウム緩衝液、
ヒ酸カリウム緩衝液、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）ピ
ペラジン−Ｎ’−（２−エタンスルホン酸）（ＨＥＰＥ
Ｓ）緩衝液等が挙げられる。基質の緩衝液に対する溶解
性が低い場合には、少量の界面活性剤（例えば、トリト
ンＣＦ−５４等、0.1 〜2.0 ％）あるいは少量のアルコ
ール（例えば、メタノール等、0.1 〜10％）を加えても
よい。反応液のｐＨは、４から９、好ましくは６から８
の範囲で選ばれる。反応温度は、０℃から６０℃、好ま
しくは２０℃から４５℃の範囲で選ばれる。反応時間は
主に反応温度、ｐＨ、使用される原料化合物、試剤の当
量、溶媒量等により左右されるが、通常１日から２週間
である。なお、ＵＤＰ−ガラクトースとは、ウリジン−
５’−ジホスホ−Ｄ−ガラクトピラノシドを意味し、Ｕ
ＤＰ−グルコースとは、ウリジン−５’−ジホスホ−Ｄ
−グルコピラノシドを意味する。後者は、SIGMA 社によ
り供給されている。ＵＤＰ−ガラクトースに代えて、Ｄ
−グルコース−１−ホスフェートを用いる方法（例え
ば、C. Auge 等, Ｔetrahedron Lett., 25, 1467 (198
4) 、C-H. Wong 等, J.Am. Chem. Soc., 113, 6300 (19
91)）、Ｄ−グルコース−６−ホスフェートを用いる方
法（G. M. Whitesides 等, J. Org. Chem., 47, 5416
(1982)）、Ｄ−ガラクトースを用いる方法（C-H. Wong
等, J. Org. Chem., 57, 4343(1992) ）も報告されて
おり、これらの方法を用いて、上記と同様に、グルコサ
ミン誘導体（２１）を化合物（２２）に変換することも
可能である。

【００４１】（Ｅ−２工程）上記で得られた化合物（２
２）を、必要に応じ、シアル酸（Ｎ−アセチルノイラミ
ン酸）転移酵素を用いてＣＭＰ−Ｎ−アセチルノイラミ
ン酸と反応させて、化合物（１９）を製造することがで
きる。本反応は、文献記載の方法（例えば、C-H. Wong
等, J. Am. Chem. Soc., 113, 4698 (1991)、J. C. Pa
ulson 等, J. Am. Chem. Soc.,115, 1603 (1993)）に従
って行うことができる。これらの方法では、入手困難な
ＣＭＰ−Ｎ−アセチルノイラミン酸を、ＣＭＰ−Ｎ−ア
セチルノイラミン酸シンセターゼを利用することによっ
て、反応系内でシアル酸より合成している。すなわち、
ｐＨ緩衝液中に、シアル酸（Ｎ−アセチルノイラミン
酸）、子牛血清アルブミン、塩化マグネシウム、塩化カ
リウム、塩化マンガン、化合物（２３）、ホスホエノー
ルピルベート、触媒量のシチジン−５’−モノホスフェ
ート（ＣＭＰ）、触媒量のアデノシン−５’−トリホス
フェート（ＡＴＰ）、ミオキナーゼ、ピルベートキナー
ゼ、ＣＭＰ−Ｎ−アセチルノイラミン酸シンセターゼお
よびシアル酸転移酵素を加えて反応させることにより、
化合物（１９）を得ることができる。必要に応じ、２−
メルカプトエタノールおよび／またはアルカリホスファ
ターゼを加えることもできる。ｐＨ緩衝液としては、例
えば、ヒ酸ナトリウム緩衝液、ヒ酸カリウム緩衝液、Ｎ
−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジン−Ｎ’−（２−
エタンスルホン酸）（ＨＥＰＥＳ）緩衝液等が挙げられ
る。

【００４２】基質の緩衝液に対する溶解性が低い場合に
は、少量の界面活性剤（例えば、トリトンＣＦ−５４
等、0.1 〜2.0 ％）あるいは少量のアルコール（例え
ば、メタノール等、0.1 〜10％）を加えてもよい。反応
液のｐＨは、４から９、好ましくは６から８の範囲で選
ばれる。反応温度は、０℃から６０℃、好ましくは２０
℃から４５℃の範囲で選ばれる。反応時間は主に反応温
度、ｐＨ、使用される原料化合物、試剤の当量、溶媒量
等により左右されるが、通常１日から２週間である。な
お、ＣＭＰ−Ｎ−アセチルノイラミン酸とは、シチジン
−５’−モノホスホ−Ｎ−アセチルノイラミン酸を意味
し、これはSIGMA 社により供給されているが非常に高価
である。しかしながら、これは、文献記載の方法（C. A
uge 等, Carbohydr. Res., 200, 257 (1990) 、G. M.
Whitesides 等, J. Am. Chem. Soc., 110, 7159 (198
8)）により、シアル酸あるいはＮ−アセチルグルコサミ
ンから製造することもできる。ＣＭＰ−Ｎ−アセチルノ
イラミン酸を当量以上用いて反応を行うことが可能な場
合には、文献記載の方法（例えば、J. C. Paulson 等,
J. Am. Chem. Soc.,108, 2068 (1986)、 S. L. Flitsch
等, J. Chem. Soc., Chem. Commun., 1526 (1992) ）を
用いて、上記と同様に、化合物（２２）を化合物（１
９）に変換することも可能である。ここで、化合物（２
２）へのシアル酸の導入が何ら必要ない場合には、化合
物（２２）と化合物（１９）は全く等価であり、本工程
を行う必要はない。

【００４３】（Ｅ−３工程）上記で得られた化合物（１
９）の水酸基およびカルボキシル基を、必要に応じ、Ａ
−２工程と同様の方法で保護することにより、化合物
（２３）を製造することができる。なお、化合物（１
９）の水酸基およびカルボキシル基を何ら保護する必要
がない場合には、化合物（１９）と化合物（２３）は全
く等価であり、本工程を行う必要はない。 （Ｅ−４工程）上記で得られた化合物（２３）のアミノ
基上の保護基を、Ｂ−５工程と同様の方法で除去し、化
合物（２４）を製造することができる。

【００４４】（Ｅ−５工程）上記で得られた化合物（２
４）の、グルコサミン部分の３位水酸基上の保護基のみ
を選択的に脱保護し、目的の化合物（１７）を製造する
ことができる。かかる位置選択的な脱保護は、溶媒中、
中性もしくは弱酸性条件下で進行する。用いる溶媒とし
ては塩化メチレン、１，２−ジクロロエタンなどのハロ
ゲン系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、
ジメトキシエタン、ジオキサンなどのエーテル系溶媒、
ベンゼン、トルエン、クロロベンゼンなどの芳香族系溶
媒、ヘキサン、シクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素系
溶媒、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルアセ
トアミド、アセトニトリル、プロピオニトリル、ニトロ
メタン、ニトロエタン、ニトロプロパンなどの極性非プ
ロトン性溶媒、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、イソプロパノール、ブタノール、ｔ−プタノール、
アミルアルコール、イソアミルアルコール等のアルコー
ル系溶媒、アセトンもしくは水などが挙げられる。これ
らは単独もしくは混合溶媒として使用される。中でも、
極性溶媒を用いるのが好ましい。反応液のｐＨは、２か
ら８、好ましくは４から７の範囲で選ばれる。反応温度
は−７０℃から１００℃、好ましくは−２０℃から６０
℃（もしくは溶媒の沸点）の範囲で選ばれる。反応時間
は主に反応温度、使用される原料化合物、ｐＨ、溶媒等
により左右されるが、通常１日間から２週間である。な
お、化合物（２４）のＲ² が水素原子である場合、化合
物（２４）と化合物（１７）は全く等価であり、本工程
を行う必要はない。一方、もうひとつの目的化合物（１
２）は、化合物（１７）の範疇に属する化合物であり、
Ｅ−３工程の実施を必須とすることにより本スキームの
方法で製造することができる。

【００４５】ところで、上記スキームＥに記載の製造方
法における原料化合物、すなわち、グルコサミン誘導体
（２１）は、以下に記載する方法によって製造すること
ができる。 〔スキームＦ〕

【化８４】 （式中、Ｒ¹ 、Ｒ¹⁰およびＺは前述と同意義を示す。Ｒ
¹³はＣ₁-Ｃ₆ アルカノイル基またはアロイル基であ
る。）

【００４６】（Ｆ−１工程）文献記載の方法（例えば、
P. Boullanger 等, Can. J. Chem., 65, 1343 (1987)
）により、グルコサミンから誘導できる化合物（２
５）は、Ａ−３工程と同様の方法により、脱離基Ｚを有
する化合物（２６）へと導くことができる。 （Ｆ−２工程）上記で得られた化合物（２６）を、Ａ−
４工程と同様の方法で、２−トリ（Ｃ₁-Ｃ₄ アルキル／
フェニル）シリルエタノールと反応させることにより、
グリコシデーション成績体（２７）を製造することがで
きる。 （Ｆ−３工程）上記で得られた化合物（２７）を、Ａ−
５工程と同様の方法で加水分解することにより、所望の
グルコサミン誘導体（２１）を製造することができる。
なお、上記いずれの反応においても、反応の目的生成物
は、反応終了後、常法に従って、反応混合物から採取さ
れる。例えば、反応の目的生成物が水溶性を有さない場
合には、反応混合物に水と混和しない有機溶媒を加え、
水洗後、溶媒を留去することによって、目的生成物を得
ることができる。一方、反応の目的生成物が脂溶性を有
さない場合には、反応混合物中の溶媒を必要に応じ留去
して水に置換し、水と混和しない有機溶媒にて洗浄後、
水を留去することによって、目的生成物を得ることがで
きる。得られた目的物は、必要に応じ、常法、例えば、
再結晶、再沈澱あるいはクロマトグラフィー等によっ
て、更に精製することもできる。

【００４７】

【実施例】

実施例１ 以下に、実施例１における化合物（１）から（６）の構
造式を示す。

【化８５】

【化８６】

【００４８】〔実施例１−１〕 ２−（トリメチルシリル）エチル β−Ｄ−ガラクトピ
ラノシル−（１→４）−Ｏ−（２−Ｎ−アリルオキシカ
ルボニル−２−アミノ−２−デオキシ−β−Ｄ−グルコ
ピラノシド）（２）の合成 ２−（トリメチルシリル）エチル ２−Ｎ−アリルオキ
シカルボニル−２−アミノ−２−デオキシ−β−Ｄ−グ
ルコピラノシド（１）（2.18 g，6.00 mmol)を、５０ｍ
Ｍ−ヒ酸ナトリウム緩衝液（120 ml) に溶解し、ウリジ
ン ５' −ジフォスフォグルコース（ＵＤＰ−Ｇｌｃ）
(4.56 g, 8.05 mmol）、５％−子牛血清アルブミン（５
％−ＢＳＡ）(2.46 ml) 、0.３５Ｍ−塩化マンガン（I
I) 水溶液(780 μl)、0.５Ｎ−アジ化ナトリウム水溶液
（1.68 ml)、アルカリフォスファターゼ (1320 U) 、ウ
リジン ５' −ジフォスフォガラクトース ４−エピメ
ラーゼ（ＵＤＰ−Ｇａｌ epimerase) (240 U）と１，４
−ガラクトシルトランスフェラーゼ（ＧＴ）（30 U）を
順に加え、３７℃にて静置した。４日後系内にＧＴ（10
U）を追加し、さらに４日間３７℃にて静置した。反応
終了確認後、沈澱物をろ別後、ろ液を濃縮し、得られた
残渣をポリアクリルアミドゲルを用いたクロマトグラフ
ィーにて精製することにより、目的化合物２（3.01 g，
収率 98 ％）を白色固体として得た。¹ H-NMR (270MHz, D₂O) 6.04-5.88 (1H, m) 、4.56 (1H, d, J=4.62 Hz, H-1)、
4.47 (1H, d, J=7.59Hz, H-1') 、1.08-0.93 (2H, m, M
e₃ SiCH₂ CH₂)、0.00 (9H, s, Me₃ SiCH₂CH₂)

【００４９】〔実施例１−２〕 ２−（トリメチルシリル）エチル （５−アセトアミド
−３，５−ジデオキシ−α−Ｄ−グリセロ−Ｄ−ガラク
ト−２−ノヌロピラノシロニックアシッド）−（２→
３）−Ｏ−（β−Ｄ−ガラクトピラノシル）−（１→
４）−Ｏ−（２−Ｎ−アリルオキシカルボニル−２−ア
ミノ−２−デオキシ−β−Ｄ−グルコピラノシド）
（３）の合成 シチジン ５’−モノフォスフェイト（ＣＭＰ）（656
mg, 2.03 mmol)、アデノシン ５’−トリフォスフェイ
ト（ＡＴＰ）（112 mg, 0.203 mmol) 、フォスフォ (エ
ノール) ピルベート（ＰＥＰ・３Ｎａ） (2.30 g，9.83
mmol)、１Ｍ−塩化マグネシウム水溶液（20.3 ml)、１
Ｍ−塩化マンガン（II) 水溶液 (5.38 ml)、１Ｍ−塩化
カリウム水溶液（20.3 ml)、ミオキナーゼ (32587 U）
とピルベートキナーゼ (52956Ｕ) を２００mM−Ｎ−
（２−ヒドロキシエチル）ピペラジン−Ｎ’−２’−エ
タンスルホン酸（ＨＥＰＥＳ）緩衝液 (pH 7.5，820 m
l) 中に加え、室温で１時間撹拌した。ＴＬＣにてシチ
ジン ５’−トリフォスフェイト（ＣＴＰ）の生成を確
認後、系内にノイラミン酸（6.30 g，20.3 mmol)、５％
−子牛血清アルブミン（５％−ＢＳＡ）（16.3 ml)、イ
ンオーガニック ピロフォスファターゼ (ＰＰａｓｅ）
(2444 U）、２−メルカプトエタノール（ 64 μl ）
（2.12 ml)とＣＭＰ−ノイラミンシンセターゼ（62 U）
を加え、室温で１時間静置した。ＴＬＣにて、ＣＭＰ−
ノイラミン酸の生成を確認後、系内にＰＥＰ・３Ｎａ
（9.28 g，397 mmol) 、２，３−シアリルトランスフェ
ラーゼ（62 U）と２−（トリメチルシリル）エチル β
−Ｄ−ガラクトピラノシル−（１→４）−Ｏ−（２−Ｎ
−アリルオキシカルボニル−２−アミノ−２−デオキシ
−β−Ｄ−グルコピラノシド）（２） (8.30 g，15.8 m
mol)を加え室温で５日間静置した。反応終了確認後、反
応液をメタノールで希釈した後、濃縮し、目的化合物３
（理論量 12.88 g) を含む残渣を得た。これは精製する
ことなく、次の反応に用いた。¹ H-NMR (270MHz, D₂O) 6.04-5.88 (1H, m) 、2.75 (1H, dd, J=12.5 Hz, J=4.6
Hz, H-3e of NeuAc)、2.03 (3H, s, Ac)、1.80 (1H,
t, J=12.2 Hz, H-3a of NeuAc)、1.05-0.82 (2H, m, Me
₃ SiCH₂ CH₂ ) 、0 (9H, s, Me₃ SiCH₂CH₂)

【００５０】〔実施例１−３〕 ２−（トリメチルシリル）エチル 〔メチル（５−アセ
トアミド−３，５−ジデオキシ−４，７，８，９−テト
ラ−Ｏ−アセチル−α−Ｄ−グリセロ−Ｄ−ガラクト−
２−ノヌロピラノシロネート）〕−（２→３）−Ｏ−
（２，４，６−トリ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ガラクト
ピラノシル）−（１→４）−Ｏ−（２−Ｎ−アリルオキ
シカルボニル−２−アミノ−２−デオキシ−３，６−ジ
−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド）（４）の
合成 実施例１−２で得られた２−（トリメチルシリル）エチ
ル （５−アセトアミド−３，５−ジデオキシ−α−Ｄ
−グリセロ−Ｄ−ガラクト−２−ノヌロピラノシロニッ
クアシッド）−（２→３）−Ｏ−（β−Ｄ−ガラクトピ
ラノシル）−（１→４）−Ｏ−（２−Ｎ−アリルオキシ
カルボニル−２−アミノ−２−デオキシ−β−Ｄ−グル
コピラノシド）（３）（理論量12.88 ｇ）を含む残渣を
ピリジン（377 ml) に溶解し、氷冷下にて無水酢酸 (22
7 ml) 、ジメチルアミノピリジン(500 mg) を加えた
後、室温にて１２時間攪拌した。ＴＬＣにて原料消失を
確認後、氷冷下にてメタノール（580 ml) を反応系へ加
え、室温にて２４時間攪拌した。次に反応液を濃縮し、
得られた残渣を再びピリジン（240 ml) に溶解し、氷冷
下にて無水酢酸 (150 ml) を加え、室温にて３時間攪拌
した。反応終了確認後、氷冷下にてメタノール（500 m
l) を反応系へ添加し、室温にて３０分間攪拌した後、
濃縮した。残渣を酢酸エチルに溶解し、硫酸銅水溶液、
重曹水、食塩水の順で洗浄した。有機層を硫酸ナトリウ
ムにて乾燥後、ろ過し、ろ液を濃縮し、残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーにて精製し、目的化合物４
(16.77 g,収率 化合物２より２段階で 88 ％）を無色
アモルファスとして得た。¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃) 5.90-5.84 (1H, m) 、4.68 (1H, d, H-1')、4.50 (1H,
d, H-1) 、3.85 (3H,s, CO₂ Me) 、2.59 (1H, dd, H-3
e of NeuAc)、1.88 (1H, t, H-3a of NeuAc)、0.98-0.9
1 (2H, m, Me₃ SiCH₂ CH₂)、0.00 (9H, s,Me₃ SiCH₂C
H₂)

【００５１】〔実施例１−４〕 ２−（トリメチルシリル）エチル 〔メチル（５−アセ
トアミド−３，５−ジデオキシ−４，７，８，９−テト
ラ−Ｏ−アセチル−α−Ｄ−グリセロ−Ｄ−ガラクト−
２−ノヌロピラノシロネート）〕−（２→３）−Ｏ−
（２，４，６−トリ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ガラクト
ピラノシル）−（１→４）−Ｏ−（２−アミノ−２−デ
オキシ−３，６−ジ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピ
ラノシド）（５）の合成 ２−（トリメチルシリル）エチル 〔メチル（５−アセ
トアミド−３，５−ジデオキシ−４，７，８，９−テト
ラ−Ｏ−アセチル−α−Ｄ−グリセロ−Ｄ−ガラクト−
２−ノヌロピラノシロネート）〕−（２→３）−Ｏ−
（２，４，６−トリ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ガラクト
ピラノシル）−（１→４）−Ｏ−（２−Ｎ−アリルオキ
シカルボニル−２−アミノ−２−デオキシ−３，６−ジ
−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド）（４）
（16.5 g，13.7 mmol)をテトラヒドロフラン (165 ml)
に溶解し、室温にてテトラキス（トリフェニルフォスフ
ィン）パラジウム (3.30 g）、ポリメチルハイドロシロ
キサン（1.60 ml)を加え攪拌した。２時間半後、反応系
にさらに、テトラキス（トリフェニルフォスフィン）パ
ラジウム（3.30 g）、ポリメチルハイドロシロキサン
(1.60 ml)を加え、１２時間攪拌した。反応終了確認
後、反応液をジクロロメタンにて希釈し水洗した。有機
層を硫酸マグネシウムにて乾燥後、ろ過し、ろ液を濃縮
した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて
精製し、目的化合物５ (13.61 g, 収率 89 ％）を薄黄
アモルファスとして得た。

【００５２】〔実施例１−５〕 ２−（トリメチルシリル）エチル 〔メチル（５−アセ
トアミド−３，５−ジデオキシ−４，７，８，９−テト
ラ−Ｏ−アセチル−α−Ｄ−グリセロ−Ｄ−ガラクト−
２−ノヌロピラノシロネート）〕−（２→３）−Ｏ−
（２，４，６−トリ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ガラクト
ピラノシル）−（１→４）−Ｏ−（６−Ｏ−アセチル−
２−アミノ−２−デオキシ−β−Ｄ−グルコピラノシ
ド）（６）の合成 ２−（トリメチルシリル）エチル 〔メチル（５−アセ
トアミド−３，５−ジデオキシ−４，７，８，９−テト
ラ−Ｏ−アセチル−α−Ｄ−グリセロ−Ｄ−ガラクト−
２−ノヌロピラノシロネート）〕−（２→３）−Ｏ−
（２，４，６−トリ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ガラクト
ピラノシル）−（１→４）−Ｏ−（２−アミノ−２−デ
オキシ−３，６−ジ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピ
ラノシド）（５） (13.61 g, 12.1 mmol)をメタノール
(1089 ml) 、水（272 ml) の混合溶媒に溶解し、酢酸
(0.72 ml)を加え、５０℃にて攪拌した。反応終了確認
後、反応液を濃縮し、目的化合物６（理論量 13.10 g)
を含む残渣を得た。

【００５３】実施例２ 以下に、実施例２における化合物（７）から（１０）の
構造式を示す。

【化８７】

【００５４】〔実施例２−１〕 ２−（トリメチルシリル）エチル 〔メチル（５−アセ
トアミド−３，５−ジデオキシ−４，７，８，９−テト
ラ−Ｏ−アセチル−α−Ｄ−グリセロ−Ｄ−ガラクト−
２−ノヌロピラノシロネート）〕−（２→３）−Ｏ−
（２，４，６−トリ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ガラクト
ピラノシル）−（１→４）−Ｏ−（６−Ｏ−アセチル−
２−アミノ−２−Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−２−
デオキシ−β−Ｄ−グルコピラノシド）（７）の合成 実施例１で得られた２−（トリメチルシリル）エチル
〔メチル（５−アセトアミド−３，５−ジデオキシ−
４，７，８，９−テトラ−Ｏ−アセチル−α−Ｄ−グリ
セロ−Ｄ−ガラクト−２−ノヌロピラノシロネート）〕
−（２→３）−Ｏ−（２，４，６−トリ−Ｏ−アセチル
−β−Ｄ−ガラクトピラノシル）−（１→４）−Ｏ−
（６−Ｏ−アセチル−２−アミノ−２−デオキシ−β−
Ｄ−グルコピラノシド）（６）（理論量 13.10 g）を含
む残渣をジクロロメタン（262 ml) に溶解し、室温に
て、炭酸水素ナトリウム (3.05 g，36.3 mmol)、を加え
た後、ベンジルオキシカルボニル クロリド（2.60 ml,
18.2 mmol) を滴下し、１２時間攪拌した。反応終了確
認後、反応液を酢酸エチルにて希釈し水洗した。有機層
を硫酸マグネシウムにて乾燥後、ろ過し、ろ液を濃縮し
た。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精
製し、目的化合物７ (11.30 g，収率 化合物５より２
段階で 77 ％）を白色固体として得た。¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃) 7.34-7.25 (5H, m, aromatic) 、3.82 (3H, s, CO₂Me)
、2.58 (1H, dd, H-3eof NeuAc)、1.66 (1H, t, H-3a
of NeuAc) 、0.95-0.82 (2H, m, Me₃ SiCH₂ CH₂)、0.00
(9H, s,Me₃ SiCH₂ CH₂ )

【００５５】〔実施例２−２〕 ２−（トリメチルシリル）エチル 〔メチル（５−アセ
トアミド−３，５−ジデオキシ−４，７，８，９−テト
ラ−Ｏ−アセチル−α−Ｄ−グリセロ−Ｄ−ガラクト−
２−ノヌロピラノシロネート）〕−（２→３）−Ｏ−
（２，４，６−トリ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ガラクト
ピラノシル）−（１→４）−Ｏ−〔２，３，４−トリ−
Ｏ−ベンジル−α−Ｌ−フコピラノシル−（１→３）−
Ｏ〕−（６−Ｏ−アセチル−２−アミノ−２−Ｎ−ベン
ジルオキシカルボニル−２−デオキシ−β−Ｄ−グルコ
ピラノシド）（９）の合成 ２−（トリメチルシリル）エチル 〔メチル（５−アセ
トアミド−３，５−ジデオキシ−４，７，８，９−テト
ラ−Ｏ−アセチル−α−Ｄ−グリセロ−Ｄ−ガラクト−
２−ノヌロピラノシロネート）〕−（２→３）−Ｏ−
（２，４，６−トリ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ガラクト
ピラノシル）−（１→４）−Ｏ−（６−Ｏ−アセチル−
２−アミノ−２−Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−２−
デオキシ−β−Ｄ−グルコピラノシド）（７）（5.60
g，4.60 mmol)をジクロロエタン（25ml) に溶解し、モ
レキュラシーブス４Ａ（2.6 g)、テトラメチルウレア
(3.30 ml ，27.6 mmol)及び２，３，４−トリ−Ｏ−ベ
ンジル−Ｌ−フコピラノシル フルオリド（８）（12.0
g，27.5 mmol)を加えた。室温にて９０分間攪拌後、反
応容器を遮光し、−２０℃に冷却し、塩化スズ（II)
(3.49 g，18.4 mmol)、過塩素酸銀 (3.85 g，18.4 mmo
l)を加えた。その後、反応系を９０分間にて室温まで昇
温し、２４時間攪拌した。反応終了確認後、反応液をセ
ライトろ過し、ろ液を水洗し、有機層を硫酸ナトリウム
にて乾燥後濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーにて精製し、目的化合物９（6.37 g，収率 8
5 ％）を薄黄アモルファスとして得た。¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃) 7.46-7.24 (20H, m, -Ph×4)、3.94 (3H, s, CO₂Me) 、
2.60 (1H, dd, H-3e of NeuAc)、1.70 (1H, t, J=12.54
Hz, H-3a of NeuAc) 、1.26 (3H, d, J=6.27Hz, Me of
Fuc)、0.94-0.84 (2H, m, Me₃ SiCH₂ CH₂)、0.00 (9H,
s, Me₃ SiCH₂CH₂)

【００５６】〔実施例２−３〕 ２−（トリメチルシリル）エチル 〔メチル（５−アセ
トアミド−３，５−ジデオキシ−４，７，８，９−テト
ラ−Ｏ−アセチル−α−Ｄ−グリセロ−Ｄ−ガラクト−
２−ノヌロピラノシロネート）〕−（２→３）−Ｏ−
（２，４，６−トリ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ガラクト
ピラノシル）−（１→４）−Ｏ−〔α−Ｌ−フコピラノ
シル−（１→３）−Ｏ〕−（６−Ｏ−アセチル−２−ア
ミノ−２−デオキシ−β−Ｄ−グルコピラノシド）（１
０）の合成 ２−（トリメチルシリル）エチル 〔メチル（５−アセ
トアミド−３，５−ジデオキシ−４，７，８，９−テト
ラ−Ｏ−アセチル−α−Ｄ−グリセロ−Ｄ−ガラクト−
２−ノヌロピラノシロネート）〕−（２→３）−Ｏ−
（２，４，６−トリ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ガラクト
ピラノシル）−（１→４）−Ｏ−〔２，３，４−トリ−
Ｏ−ベンジル−α−Ｌ−フコピラノシル−（１→３）−
Ｏ〕−（６−Ｏ−アセチル−２−アミノ−２−Ｎ−ベン
ジルオキシカルボニル−２−デオキシ−β−Ｄ−グルコ
ピラノシド）（９）（6.25 g，3.83 mmol)をエタノール
（125 ml) に溶解し、ぎ酸アンモニウム（10 g）、１０
％Ｐｄ−Ｃ (wet. 10 g ）を加え、８時間還流した。さ
らにぎ酸アンモニウム（10 g）、１０％Ｐｄ−Ｃ (wet.
10 g ）を加え８時間還流した。反応終了確認後、反応
液をセライトろ過し、ろ液を濃縮し、目的化合物１０
（4.45 g，収率 95 ％）を無色のアモルファスとして得
た。¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃) 3.83 (3H, s, CO₂Me) 、2.30-2.00 (24H, Ac×8)、1.85
(3H, s, NH Ac) 、1.68 (1H, t, H-3a of NeuAc) 、1.
33 (3H, d, J=6.60 Hz, Me of Fuc)、 0.98-0.85 (2H,
m, Me₃SiCH₂ CH₂O) 、 0.01 (9H, s, Me₃ SiCH₂CH₂)

【００５７】実施例３ 以下に、実施例３における化合物（１１）から（１５）
の構造式を示す。

【化８８】

【化８９】

【００５８】〔実施例３−１〕 ２−（トリメチルシリル）エチル 〔メチル（５−アセ
トアミド−３，５−ジデオキシ−４，７，８，９−テト
ラ−Ｏ−アセチル−α−Ｄ−グリセロ−Ｄ−ガラクト−
２−ノヌロピラノシロネート）〕−（２→３）−Ｏ−
（２，４，６−トリ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ガラクト
ピラノシル）−（１→４）−Ｏ−〔α−Ｌ−フコピラノ
シル−（１→３）−Ｏ〕−（６−Ｏ−アセチル−２−デ
オキシ−２−ナフタミド−β−Ｄ−グルコピラノシド）
（１１）の合成 ２−（トリメチルシリル）エチル 〔メチル（５−アセ
トアミド−３，５−ジデオキシ−４，７，８，９−テト
ラ−Ｏ−アセチル−α−Ｄ−グリセロ−Ｄ−ガラクト−
２−ノヌロピラノシロネート）〕−（２→３）−Ｏ−
（２，４，６−トリ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ガラクト
ピラノシル）−（１→４）−Ｏ−〔α−Ｌ−フコピラノ
シル−（１→３）−Ｏ〕−（６−Ｏ−アセチル−２−ア
ミノ−２−デオキシ−β−Ｄ−グルコピラノシド）（１
０）（2.45 g，1.99 mmol)をジクロロメタン（50 ml)に
溶解し、室温にて炭酸水素ナトリウム（670 mg, 7.98 m
mol)、塩化β−ナフトイル（760 mg, 3.99 mmol)を加え
１２時間攪拌した。反応終了確認後、反応系に氷冷下、
メタノール（10 ml)、ピリジン（5.0 ml) を加え、室温
にて１５分間攪拌した。反応液を濃縮し、目的化合物１
１（理論量 2.76 g ）を含む残渣を得た。これは精製す
ることなく、次の反応に用いた。

【００５９】〔実施例３−２〕 ２−（トリメチルシリル）エチル 〔メチル（５−アセ
トアミド−３，５−ジデオキシ−４，７，８，９−テト
ラ−Ｏ−アセチル−α−Ｄ−グリセロ−Ｄ−ガラクト−
２−ノヌロピラノシロネート）〕−（２→３）−Ｏ−
（２，４，６−トリ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ガラクト
ピラノシル）−（１→４）−Ｏ−〔２，３，４−トリ−
Ｏ−アセチル−α−Ｌ−フコピラノシル−（１→３）−
Ｏ〕−（６−Ｏ−アセチル−２−デオキシ−２−ナフタ
ミド−β−Ｄ−グルコピラノシド）（１２）の合成 実施例３−１で得られた２−（トリメチルシリル）エチ
ル 〔メチル（５−アセトアミド−３，５−ジデオキシ
−４，７，８，９−テトラ−Ｏ−アセチル−α−Ｄ−グ
リセロ−Ｄ−ガラクト−２−ノヌロピラノシロネー
ト）〕−（２→３）−Ｏ−（２，４，６−トリ−Ｏ−ア
セチル−β−Ｄ−ガラクトピラノシル）−（１→４）−
Ｏ−〔α−Ｌ−フコピラノシル−（１→３）−Ｏ〕−
（６−Ｏ−アセチル−２−デオキシ−２−ナフタミド−
β−Ｄ−グルコピラノシド）（１１）（理論量 2.76 g
）を含む残渣をピリジン（25 ml)に溶解し、室温にて
無水酢酸 (15 ml)、４−ジメチルアミノピリジン（100
mg) を加え、室温にて８時間攪拌した。反応終了確認
後、氷冷下にて、メタノール（15 ml)を反応系内へ添加
し、室温にて３０分間攪拌した。反応液を濃縮し、残渣
を酢酸エチルで希釈し、飽和硫酸銅水溶液、ついで飽和
食塩水にて洗浄した。有機層を硫酸ナトリウムにて乾燥
後、ろ過し、ろ液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーにて精製し目的化合物１２（2.58
g，収率 化合物１０より２段階で 86 ％）を薄黄アモ
ルファスとして得た。¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃) 8.36 (1H, s)、8.10-7.85 (4H, m) 、7.68-7.59 (2H,
m) 、6.43 (1H, d, J=9.57 Hz) 、3.94 (3H, s, CO₂Me)
、2.67 (1H, dd, H-3e of NeuAc)、1.26 (3H,d, J=6.6
0 Hz, Me of Fuc)、0.98-O.91 (2H, m, Me₃ SiCH₂ C
H₂)、0.00 (9H, s,Me₃ SiCH₂CH₂)

【００６０】〔実施例３−３〕 〔メチル（５−アセトアミド−３，５−ジデオキシ−
４，７，８，９−テトラ−Ｏ−アセチル−α−Ｄ−グリ
セロ−Ｄ−ガラクト−２−ノヌロピラノシロネート）〕
−（２→３）−Ｏ−（２，４，６−トリ−Ｏ−アセチル
−β−Ｄ−ガラクトピラノシル）−（１→４）−Ｏ−
〔２，３，４−トリ−Ｏ−アセチル−α−Ｌ−フコピラ
ノシル−（１→３）−Ｏ〕−（６−Ｏ−アセチル−２−
デオキシ−２−ナフタミド−β−Ｄ−グルコピラノシ
ル）クロライド（１３）の合成 ２−（トリメチルシリル）エチル 〔メチル（５−アセ
トアミド−３，５−ジデオキシ−４，７，８，９−テト
ラ−Ｏ−アセチル−α−Ｄ−グリセロ−Ｄ−ガラクト−
２−ノヌロピラノシロネート）〕−（２→３）−Ｏ−
（２，４，６−トリ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ガラクト
ピラノシル）−（１→４）−Ｏ−〔２，３，４−トリ−
Ｏ−アセチル−α−Ｌ−フコピラノシル−（１→３）−
Ｏ〕−（６−Ｏ−アセチル−２−デオキシ−２−ナフタ
ミド−β−Ｄ−グルコピラノシド）（１２）（182.8 m
g, 0.121 mmol) をクロロホルム（25 ml)に溶解し、室
温にてジクロロメチルメチルエーテル ( 55 μl, 0.608
mmol)、塩化亜鉛 (4.2 mg, 3.08 ×10^-2 mmol)を加
え、６時間攪拌した。反応終了確認後、反応液を濃縮
し、目的化合物１３（理論量 172.9 mg)を含む残渣を得
た。これは、精製することなく次の反応に用いた。

【００６１】〔実施例３−４〕 ３，４，５−トリメトキシベンジル 〔メチル（５−ア
セトアミド−３，５−ジデオキシ−４，７，８，９−テ
トラ−Ｏ−アセチル−α−Ｄ−グリセロ−Ｄ−ガラクト
−２−ノヌロピラノシロネート）〕−（２→３）−Ｏ−
（２，４，６−トリ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ガラクト
ピラノシル）−（１→４）−Ｏ−〔２，３，４−トリ−
Ｏ−アセチル−α−Ｌ−フコピラノシル−（１→３）−
Ｏ〕−（６−Ｏ−アセチル−２−デオキシ−２−ナフタ
ミド−β−Ｄ−グルコピラノシド）（１４）の合成 実施例３−３で得られた〔メチル（５−アセトアミド−
３，５−ジデオキシ−４，７，８，９−テトラ−Ｏ−ア
セチル−α−Ｄ−グリセロ−Ｄ−ガラクト−２−ノヌロ
ピラノシロネート）〕−（２→３）−Ｏ−（２，４，６
−トリ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ガラクトピラノシル）
−（１→４）−Ｏ−〔２，３，４−トリ−Ｏ−アセチル
−α−Ｌ−フコピラノシル−（１→３）−Ｏ〕−（６−
Ｏ−アセチル−２−デオキシ−２−ナフタミド−β−Ｄ
−グルコピラノシド）クロライド（１３）（理論量 75.
7 mg) を含む残渣をジクロロメタン（5.0 ml) に溶解
し、モレキュラーシーブス４Ａ (200 mg) 、トリフルオ
ロメタンスルホン酸スズ (II) （33.1 mg, 0.078 mmol)
を加えた。この混合液に、室温にて３，４，５−トリメ
トキシベンジルアルコ−ル （21.0 mg, 0.106 mmol)と
テトラメチルウレア（9.5 μl, 0.078 mmol)とを含む
ジクロロメタン（3.0 ml) 溶液を滴下し４０時間攪拌し
た。反応終了確認後、反応系をセライトろ過し、ろ液を
飽和重曹水、食塩水の順で洗浄した。有機層を硫酸マグ
ネシウムで乾燥後ろ過し、ろ液を濃縮した。残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し目的化合物
１４（68.0mg，収率 化合物１２より２段階で 81 ％）
を無色のアモルファスとして得た。 ¹H-NMR (270MHz, C
DCl₃) 8.25 (1H, s)、7.98-7.83 (3H, m) 、7.77 (1H, d, J=
8.58 Hz) 、7.63-7.50(2H, m) 、6.39 (2H, s, aromati
c)、6.30 (1H, d, NHCO-naphthyl) 、3.87 (3H, s, CO₂
Me) 、3.74 (3H, s, OMe) 、3.47 (6H, s, OMe×2)、2.
60 (1H, dd, H-3e of NeuAc)、1.18 (3H, d, J=6.60 H
z, Me of Fuc)

【００６２】〔実施例３−５〕 ３，４，５−トリメトキシベンジル （５−アセトアミ
ド−３，５−ジデオキシ−α−Ｄ−グリセロ−Ｄ−ガラ
クト−２−ノヌロピラノシロニックアシッド）〕−（２
→３）−Ｏ−（β−Ｄ−ガラクトピラノシル）−（１→
４）−Ｏ−〔α−Ｌ−フコピラノシル−（１→３）−
Ｏ〕−（２−デオキシ−２−ナフタミド−β−Ｄ−グル
コピラノシド）（１５）の合成 ３，４，５−トリメトキシベンジル 〔メチル（５−ア
セトアミド−３，５−ジデオキシ−４，７，８，９−テ
トラ−Ｏ−アセチル−α−Ｄ−グリセロ−Ｄ−ガラクト
−２−ノヌロピラノシロネート）〕−（２→３）−Ｏ−
（２，４，６−トリ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ガラクト
ピラノシル）−（１→４）−Ｏ−〔２，３，４−トリ−
Ｏ−アセチル−α−Ｌ−フコピラノシル−（１→３）−
Ｏ〕−（６−Ｏ−アセチル−２−デオキシ−２−ナフタ
ミド−β−Ｄ−グルコピラノシド）（１４）（68.0 mg,
4.28 ×10^-2 mmol)をメタノール（5.0 ml) に溶解し、
２８％ナトリウムメトキシド溶液（メタノール溶液、0.
50 ml)を加え室温にて１４時間静置後、系内へ水（5.0
ml) を加え、さらに１２時間静置した。反応終了確認
後、反応液を酸性イオン交換樹脂（DOWEX 50W-X8) にて
中和し、ろ過し、ろ液を濃縮した。得られた残渣をポリ
アクリルアミドゲルを用いたカラムクロマトグラフィー
にて精製し、凍結乾燥を行い、目的化合物１５（36.6 m
g, 収率 77 ％）を白色粉末として得た。¹ H-NMR (270MHz, D₂O) 8.23 (1H, s)、7.99-7.68 (4H, m) 、7.60-7.40 (2H,
m) 、6.44 (2H, s, aromatic)、5.02 (1H, d, J=3.95 H
z, H-1 of Fuc) 、4.47 (1H, d, H-1 of GlcN)、3.33
(6H, s, OMe×2)、3.25 (3H, s, OMe) 、2.66 (1H, dd,
H-3e of NeuAc)、1.95 (3H, s, NHAc) 、1.77 (1H,
t, J=11.88 Hz, H-3a of NeuAc) 、1.14 (3H, d, J=6.6
0 Hz, Me of Fuc)

【００６３】実施例４ 以下に、実施例４における化合物（１６）から（２２）
の構造式を示す。

【化９０】

【化９１】

【化９２】

【００６４】〔実施例４−１〕 ２−（トリメチルシリル）エチル 〔メチル（５−アセ
トアミド−３，５−ジデオキシ−４，７，８，９−テト
ラ−Ｏ−アセチル−α−Ｄ−グリセロ−Ｄ−ガラクト−
２−ノヌロピラノシロネート）〕−（２→３）−Ｏ−
（２，４，６−トリ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ガラクト
ピラノシル）−（１→４）−Ｏ−〔α−Ｌ−フコピラノ
シル−（１→３）−Ｏ〕−（６−Ｏ−アセチル−２−Ｎ
−アリルオキシカルボニル−２−アミノ−２−デオキシ
−β−Ｄ−グルコピラノシド）（１６）の合成 ２−（トリメチルシリル）エチル 〔メチル（５−アセ
トアミド−３，５−ジデオキシ−４，７，８，９−テト
ラ−Ｏ−アセチル−α−Ｄ−グリセロ−Ｄ−ガラクト−
２−ノヌロピラノシロネート）〕−（２→３）−Ｏ−
（２，４，６−トリ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ガラクト
ピラノシル）−（１→４）−Ｏ−〔α−Ｌ−フコピラノ
シル−（１→３）−Ｏ〕−（６−Ｏ−アセチル−２−ア
ミノ−２−デオキシ−β−Ｄ−グルコピラノシド）（１
０）（2.00 g, 1.63 mmol)をジクロロメタン（50 ml)に
溶解し、室温にて炭酸水素ナトリウム（683 mg, 8.13 m
mol)、アリルクロロフォルメート (491 mg, 4.07 mmol)
を加え、７時間攪拌した。反応終了確認後、メタノール
（25 ml)、ピリジン（10 ml)を加え、１５分間攪拌し
た。反応液を濃縮し、目的化合物１６（理論量 2.14 g)
を含む残渣を得た。これは精製することなく、次の反応
に用いた。 〔実施例４−２〕 ２−（トリメチルシリル）エチル 〔メチル（５−アセ
トアミド−３，５−ジデオキシ−４，７，８，９−テト
ラ−Ｏ−アセチル−α−Ｄ−グリセロ−Ｄ−ガラクト−
２−ノヌロピラノシロネート）〕−（２→３）−Ｏ−
（２，４，６−トリ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ガラクト
ピラノシル）−（１→４）−Ｏ−〔２，３，４−トリ−
Ｏ−アセチル−α−Ｌ−フコピラノシル−（１→３）−
Ｏ〕−（６−Ｏ−アセチル−２−Ｎ−アリルオキシカル
ボニル−２−アミノ−２−デオキシ−β−Ｄ−グルコピ
ラノシド）（１７）の合成 実施例４−１で得られた２−（トリメチルシリル）エチ
ル 〔メチル（５−アセトアミド−３，５−ジデオキシ
−４，７，８，９−テトラ−Ｏ−アセチル−α−Ｄ−グ
リセロ−Ｄ−ガラクト−２−ノヌロピラノシロネー
ト）〕−（２→３）−Ｏ−（２，４，６−トリ−Ｏ−ア
セチル−β−Ｄ−ガラクトピラノシル）−（１→４）−
Ｏ−〔α−Ｌ−フコピラノシル−（１→３）−Ｏ〕−
（６−Ｏ−アセチル−２−Ｎ−アリルオキシカルボニル
−２−アミノ−２−デオキシ−β−Ｄ−グルコピラノシ
ド）（１６）（理論量 2.14 g)を含む残渣をピリジン
（25 ml)に溶解し、氷冷下無水酢酸 (20 ml)、ジメチル
アミノピリジン（100 mg）を加え、室温にて１２時間攪
拌した。反応終了確認後、氷冷下にてメタノール（25 m
l)を滴下し、室温にて３０分間攪拌した。反応液を濃縮
後、残渣を酢酸エチルにて希釈し、硫酸銅水溶液、飽和
食塩水の順にて洗浄した。有機層を硫酸ナトリウムにて
乾燥後ろ過し、ろ液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーにて精製し、目的化合物１７（1.
41 g, 収率 化合物１０より２段階で 60 ％）を薄黄ア
モルファスとして得た。¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃) 6.00-5.88 (1H, m) 、3.87 (3H, s, CO₂Me) 、2.59 (1
H, dd, H-3e of NeuAc)、1.20 (3H, d, J=6.60 Hz, Me
of Fuc)、0.96-0.87 (2H, m, Me₃ SiCH₂ CH₂)、0.00 (9
H, s,Me₃ SiCH₂CH₂)

【００６５】〔実施例４−３〕 〔メチル（５−アセトアミド−３，５−ジデオキシ−
４，７，８，９−テトラ−Ｏ−アセチル−α−Ｄ−グリ
セロ−Ｄ−ガラクト−２−ノヌロピラノシロネート）〕
−（２→３）−Ｏ−（２，４，６−トリ−Ｏ−アセチル
−β−Ｄ−ガラクトピラノシル）−（１→４）−Ｏ−
〔２，３，４−トリ−Ｏ−アセチル−α−Ｌ−フコピラ
ノシル−（１→３）−Ｏ〕−（６−Ｏ−アセチル−２−
Ｎ−アリルオキシカルボニル−２−アミノ−２−デオキ
シ−β−Ｄ−グルコピラノシル）クロライド（１８）の
合成 ２−（トリメチルシリル）エチル 〔メチル（５−アセ
トアミド−３，５−ジデオキシ−４，７，８，９−テト
ラ−Ｏ−アセチル−α−Ｄ−グリセロ−Ｄ−ガラクト−
２−ノヌロピラノシロネート）〕−（２→３）−Ｏ−
（２，４，６−トリ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ガラクト
ピラノシル）−（１→４）−Ｏ−〔２，３，４−トリ−
Ｏ−アセチル−α−Ｌ−フコピラノシル−（１→３）−
Ｏ〕−（６−Ｏ−アセチル−２−Ｎ−アリルオキシカル
ボニル−２−アミノ−２−デオキシ−β−Ｄ−グルコピ
ラノシド）（１７）（1.40 g, 0.973 mmol) をクロロホ
ルム（25 ml)に溶解し、室温にてジクロロメチルメチル
エーテル（440 μl, 4.86 mmol) 、塩化亜鉛 (27 mg,
0.198 mmol)を加え攪拌した。さらに塩化亜鉛（２時間
後に 30 mg、６時間後に 30 mg）、ジクロロメチルメチ
ルエーテル（４時間後に440 μl 、６時間後に440 μl)
を追加し、９時間攪拌した。反応終了確認後、反応液を
濃縮し、目的化合物１８（理論量 1.32 g)を含む残渣を
得た。これは精製することなく次の反応に用いた。

【００６６】〔実施例４−４〕 ドデシル 〔メチル（５−アセトアミド−３，５−ジデ
オキシ−４，７，８，９−テトラ−Ｏ−アセチル−α−
Ｄ−グリセロ−Ｄ−ガラクト−２−ノヌロピラノシロネ
ート）〕−（２→３）−Ｏ−（２，４，６−トリ−Ｏ−
アセチル−β−Ｄ−ガラクトピラノシル）−（１→４）
−Ｏ−〔２，３，４−トリ−Ｏ−アセチル−α−Ｌ−フ
コピラノシル−（１→３）−Ｏ〕−（６−Ｏ−アセチル
−２−Ｎ−アリルオキシカルボニル−２−アミノ−２−
デオキシ−β−Ｄ−グルコピラノシド（１９）の合成 実施例４−３で得られた〔メチル（５−アセトアミド−
３，５−ジデオキシ−４，７，８，９−テトラ−Ｏ−ア
セチル−α−Ｄ−グリセロ−Ｄ−ガラクト−２−ノヌロ
ピラノシロネート）〕−（２→３）−Ｏ−（２，４，６
−トリ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ガラクトピラノシル）
−（１→４）−Ｏ−〔２，３，４−トリ−Ｏ−アセチル
−α−Ｌ−フコピラノシル−（１→３）−Ｏ〕−（６−
Ｏ−アセチル−２−Ｎ−アリルオキシカルボニル−２−
アミノ−２−デオキシ−β−Ｄ−グルコピラノシル）ク
ロライド（１８）（理論量 1.32 g)を含む残渣をジクロ
ロメタン（10 ml)に溶解し、モレキュラーシーブス４Ａ
（660 mg) 、トリフルオロメタンスルホン酸スズ（II)
（607 mg, 1.46 mmol)を加えた。この混合液に室温にて
１−ドデカノール（363 mg, 1.95 mmol)とテトラメチル
ウレア (170 mg, 1.46 mmol)とを含むジクロロメタン
(50 ml)溶液を滴下し、３時間攪拌した。反応終了確認
後、反応液をセライトろ過し、ろ液を飽和重曹水、飽和
食塩水の順で洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで乾
燥後、ろ過し、ろ液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーにて精製し、目的化合物１９（77
7 mg, 収率化合物１７より２段階で 53 ％）を薄黄アモ
ルファスとして得た。¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃) 5.98-5.87 (1H, m) 、3.86 (3H, s, CO₂Me) 、2.62-2.5
6 (1H, dd, H-3e of NeuAc) 、1.60-1.40 (2H, m, OCH ₂
CH₂ (CH₂)₉Me) 、1.30-1.10 (21H, m, OCH₂CH ₂(CH₂)₉ Me
and Me of Fuc) 、0.88 (3H, t, O(CH₂) ₁₁ Me)

【００６７】〔実施例４−５〕 ドデシル 〔メチル（５−アセトアミド−３，５−ジデ
オキシ−４，７，８，９−テトラ−Ｏ−アセチル−α−
Ｄ−グリセロ−Ｄ−ガラクト−２−ノヌロピラノシロネ
ート）〕−（２→３）−Ｏ−（２，４，６−トリ−Ｏ−
アセチル−β−Ｄ−ガラクトピラノシル）−（１→４）
−Ｏ−〔２，３，４−トリ−Ｏ−アセチル−α−Ｌ−フ
コピラノシル−（１→３）−Ｏ〕−（６−Ｏ−アセチル
−２−アミノ−２−デオキシ−β−Ｄ−グルコピラノシ
ド）（２０）の合成 ドデシル 〔メチル（５−アセトアミド−３，５−ジデ
オキシ−４，７，８，９−テトラ−Ｏ−アセチル−α−
Ｄ−グリセロ−Ｄ−ガラクト−２−ノヌロピラノシロネ
ート）〕−（２→３）−Ｏ−（２，４，６−トリ−Ｏ−
アセチル−β−Ｄ−ガラクトピラノシル）−（１→４）
−Ｏ−〔２，３，４−トリ−Ｏ−アセチル−α−Ｌ−フ
コピラノシル−（１→３）−Ｏ〕−（６−Ｏ−アセチル
−２−Ｎ−アリルオキシカルボニル−２−アミノ−２−
デオキシ−β−Ｄ−グルコピラノシド）（１９）（762
mg，0.51 mmol)をテトラヒドロフラン（10 ml)に溶解
し、室温にテトラキス（トリフェニルフォスフィン）パ
ラジウム（500 mg) 、ポリメチルハイドロシロキサン
( 69 μl)を加え、3.５時間攪拌した。反応終了確認
後、反応系をジクロロメタンにて希釈し水洗した。有機
層を硫酸マグネシウムにて乾燥後、ろ過し、ろ液を濃縮
した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて
精製し、目的化合物２０（573 mg, 収率 80 ％）を薄黄
アモルファスとして得た。¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃) 3.86 (3H, s, CO₂Me) 、2.56 (1H, dd, H-3e of NeuA
c)、1.68 (3H, t, J=12.38 Hz, H-3a of NeuAc) 、1.55
-1.10 (23H, m, OCH₂CH₂(CH₂)₉ Me and Me of Fuc) 、0.
98-0.80 (3H, t, O(CH₂) ₁₁Me)

【００６８】〔実施例４−６〕 ドデシル 〔メチル（５−アセトアミド−３，５−ジデ
オキシ−４，７，８，９−テトラ−Ｏ−アセチル−α−
Ｄ−グリセロ−Ｄ−ガラクト−２−ノヌロピラノシロネ
ート）〕−（２→３）−Ｏ−（２，４，６−トリ−Ｏ−
アセチル−β−Ｄ−ガラクトピラノシル）−（１→４）
−Ｏ−〔２，３，４−トリ−Ｏ−アセチル−α−Ｌ−フ
コピラノシル−（１→３）−Ｏ〕−（２−アセタミド−
６−Ｏ−アセチル−２−デオキシ−β−Ｄ−グルコピラ
ノシド）（２１）の合成 ドデシル 〔メチル（５−アセトアミド−３，５−ジデ
オキシ−４，７，８，９−テトラ−Ｏ−アセチル−α−
Ｄ−グリセロ−Ｄ−ガラクト−２−ノヌロピラノシロネ
ート）〕−（２→３）−Ｏ−（２，４，６−トリ−Ｏ−
アセチル−β−Ｄ−ガラクトピラノシル）−（１→４）
−Ｏ−〔２，３，４−トリ−Ｏ−アセチル−α−Ｌ−フ
コピラノシル−（１→３）−Ｏ〕−（６−Ｏ−アセチル
−２−アミノ−２−デオキシ−β−Ｄ−グルコピラノシ
ド）（２０）(20.0 mg, 0.014 mmol) をジクロロメタン
(2.0 ml) に溶解し、室温にてピリジン (0.5 ml) 、無
水酢酸（0.1 ml) を加え、２４時間攪拌した。反応終了
確認後、氷冷下、メタノール（1.0 ml) を加え、室温に
て３０分間攪拌した。反応液を濃縮後、酢酸エチルにて
希釈し、硫酸銅水溶液、水の順で洗浄した。有機層を硫
酸ナトリウムにて乾燥後、ろ過し、ろ液を濃縮した。残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、
目的化合物２１ ( 14.9 mg, 収率 73 ％) を薄黄アモル
ファスとして得た。¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃) 5.69 (1H, d)、3.83 (3H, s, CO₂Me) 、2.67-2.53 (1H,
dd, H-3e of NeuAc)、1.68 (1H, t, H-3a of NeuAc)
、1.58-1.40 (2H, m, OCH ₂CH₂ (CH₂)₉Me) 、1.38-1.02
(21H, m, OCH₂CH ₂(CH₂)₉ Me and Me of Fuc) 、0.86 (3
H, t, O(CH₂) ₁₁Me)

【００６９】〔実施例４−７〕 ドデシル （５−アセトアミド−３，５−ジデオキシ−
α−Ｄ−グリセロ−Ｄ−ガラクト−２−ノヌロピラノシ
ロニックアシッド）−（２→３）−Ｏ−（β−Ｄ−ガラ
クトピラノシル）−（１→４）−Ｏ−〔α−Ｌ−フコピ
ラノシル−（１→３）−Ｏ〕−（２−アセタミド−２−
デオキシ−β−Ｄ−グルコピラノシド）（２２）の合成 ドデシル 〔メチル（５−アセトアミド−３，５−ジデ
オキシ−４，７，８，９−テトラ−Ｏ−アセチル−α−
Ｄ−グリセロ−Ｄ−ガラクト−２−ノヌロピラノシロネ
ート）〕−（２→３）−Ｏ−（２，４，６−トリ−Ｏ−
アセチル−β−Ｄ−ガラクトピラノシル）−（１→４）
−Ｏ−〔２，３，４−トリ−Ｏ−アセチル−α−Ｌ−フ
コピラノシル−（１→３）−Ｏ〕−（２−アセタミド−
６−Ｏ−アセチル−２−デオキシ−β−Ｄ−グルコピラ
ノシド）（２１）（ 302 mg, 0.206 mmol)をメタノール
(30 ml)に溶解し、室温にて２８％ナトリウムメトキシ
ド溶液（メタノール溶液, 1.5 ml) を加え３日間攪拌し
た。原料消失確認後、水（15 ml)を加え、室温にて２４
時間攪拌した。反応終了確認後、反応系を酸性イオン交
換樹脂（DOWEX 50W-X8) にて中和し、ろ過した。ろ液を
濃縮し、残渣をポリアクリロアミドゲルを用いたカラム
クロマトグラフィーによって精製し、凍結乾燥を行い、
目的化合物２２（88 mg, 収率 43 ％) を白色粉末とし
て得た。¹ H-NMR (270MHz, D₂O) 1.95 (6H, s, NHAc X 2) 、1.25-1.00 (21H, m, OCH₂C
H ₂(CH₂)₉ Me and Me ofFuc) 、0.77 (3H, t, O(CH₂) ₁₁ M
e)

【００７０】実施例５ 以下に、実施例５における化合物（２３）から（２５）
の構造式を示す。

【化９３】

【００７１】〔実施例５−１〕 ２−（トリメチルシリル）エチル （２，３，４，６−
テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ガラクトピラノシル）
−（１→４）−Ｏ−（２−Ｎ−アリルオキシカルボニル
−２−アミノ−２−デオキシ−３，６−ジ−Ｏ−アセチ
ル−β−Ｄ−グルコピラノシド）（２３）の合成 ２−（トリメチルシリル）エチル β−Ｄ−ガラクトピ
ラノシル−（１→４）−Ｏ−（２−Ｎ−アリルオキシカ
ルボニル−２−アミノ−２−デオキシ−β−Ｄ−グルコ
ピラノシド）（２）(613.7 mg, 1.17 mmol) をピリジン
(5.0 ml) に溶解し、室温にて無水酢酸 (3.0 ml) 、ジ
メチルアミノピリジン (50 mg)を加え１２時間攪拌し
た。反応終了確認後、氷冷下にてメタノール (5.0 ml)
を滴下し、室温にて３０分間攪拌した。反応液を濃縮
後、残渣を酢酸エチルにて希釈し、飽和硫酸銅水溶液、
飽和食塩水の順で洗浄し、有機層を硫酸ナトリウムにて
乾燥し、ろ過し、ろ液を濃縮した。得られた残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、目的化合
物２３（531.2 mg, 収率 59 ％）を薄黄アモルファスと
して得た。¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃) 5.97-5.82 (1H, m) 、4.55 (1H, d, J=5.60 Hz, H-1 of
GlcN)、4.49 (1H, d,J=7.92 Hz, H-1 of Gal) 、1.02-
0.86 (2H, m, OCH ₂CH₂ SiMe₃)、0.00 (9H, s,OCH₂CH₂Si
Me₃ )

【００７２】〔実施例５−２〕 ２−（トリメチルシリル）エチル （２，３，４，６−
テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ガラクトピラノシル）
−（１→４）−Ｏ−（２−アミノ−２−デオキシ−３，
６−ジ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド）
（２４）の合成 ２−（トリメチルシリル）エチル （２，３，４，６−
テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ガラクトピラノシル）
−（１→４）−Ｏ−（２−Ｎ−アリルオキシカルボニル
−２−アミノ−２−デオキシ−３，６−ジ−Ｏ−アセチ
ル−β−Ｄ−グルコピラノシド）（２３）（4.00 g，5.
14 mmol)をテトラヒドロフラン (80 ml)に溶解し、室温
遮光下にてポリメチルハイドロシロキサン(0.50 ml) 、
テトラキス（トリフェニルフォスフィン）パラジウム
（ＴＰＡＬ）（297 mg, 0.257 mmol）を加え攪拌した。
２４時間後にＴＰＡＬ（149 mg，0.129 mmol) を追加
し、１７時間半、攪拌した。反応終了確認後、反応液を
酢酸エチルで希釈し、飽和食塩水にて洗浄した。次に有
機層を硫酸ナトリウムにて乾燥後ろ過し、ろ液を濃縮
し、目的化合物２４（理論量 3.57 g ）を含む残渣を得
た。これは精製することなしに次の反応に用いた。¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃) 4.45 (1H, d, J=7.92 Hz) 、2.15-1.90 (18H, m, Ac ×
6)、1.15-0.85 (2H, m, Me₃ SiCH₂ CH₂O) 、0.00 (9H,
s, Me₃ SiCH₂CH₂O)

【００７３】〔実施例５−３〕 ２−（トリメチルシリル）エチル （２，３，４，６−
テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ガラクトピラノシル）
−（１→４）−Ｏ−（６−Ｏ−アセチル−２−アミノ−
２−デオキシ−β−Ｄ−グルコピラノシド）（２５）の
合成 実施例５−２で得られた２−（トリメチルシリル）エチ
ル （２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ
−ガラクトピラノシル）−（１→４）−Ｏ−（２−アミ
ノ−２−デオキシ−３，６−ジ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ
−グルコピラノシド）（２４）（理論量 3.57 g ）を含
む残渣をメタノール（180 ml) に溶解し、室温にて３日
半攪拌した。反応終了確認後、反応液を濃縮し、目的化
合物２５（理論量 3.35 g ）を含む残渣を得た。

【００７４】実施例６ 以下に、実施例６における化合物（２６）から（２８）
の構造式を示す。

【化９４】

【００７５】〔実施例６−１〕 ２−（トリメチルシリル）エチル （２，３，４，６−
テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ガラクトピラノシル）
−（１→４）−Ｏ−（６−Ｏ−アセチル−２−アミノ−
２−Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−２−デオキシ−β
−Ｄ−グルコピラノシド）（２６）の合成 実施例５で得られた２−（トリメチルシリル）エチル
（２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ガ
ラクトピラノシル）−（１→４）−Ｏ−（６−Ｏ−アセ
チル−２−アミノ−２−デオキシ−β−Ｄ−グルコピラ
ノシド）（２５）（理論量 3.57 g ）を含む残渣をジク
ロロメタンに溶解し、氷冷下、炭酸水素ナトリウム（1.
30 g，15.4 mmol ）を加え、ベンジルオキシカルボニル
クロリド（1.20 ml, 8.22 mmol) を滴下し室温にて攪
拌した。５時間後、炭酸水素ナトリウム（0.60 g，7.10
mmol)、ベンジルオキシカルボニル クロリド (0.60 m
l,4.11 mmol) を追加し、１２時間攪拌した。反応終了
確認後、反応系をジクロロメタンで希釈し、水、飽和重
曹水、飽和食塩水の順で洗浄した。有機層を硫酸ナトリ
ウムにて乾燥後、ろ過し、ろ液を濃縮した。残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、目的化合
物２６（3.04 g，収率 化合物２３より３段階で 75
％）を薄黄アモルファスとして得た。¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃) 7.40-7.25 (5H, m, aromatic) 、5.37 (1H, d, J=3.63
Hz, NHZ)、2.20-1.90(15H, m, Ac ×5)、0.95-0.80 (2
H, m, OCH ₂CH₂ SiMe₃)、0.00 (9H, s, OCH₂CH₂SiMe₃ )

【００７６】〔実施例６−２〕 ２−（トリメチルシリル）エチル （２，３，４，６−
テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ガラクトピラノシル）
−（１→４）−Ｏ−〔２，３，４−トリ−Ｏ−ベンジル
−α−Ｌ−フコピラノシル−（１→３）−Ｏ〕−（６−
Ｏ−アセチル−２−アミノ−２−Ｎ−ベンジルオキシカ
ルボニル−２−デオキシ−β−Ｄ−グルコピラノシド）
（２７）の合成 ２−（トリメチルシリル）エチル （２，３，４，６−
テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ガラクトピラノシル）
−（１→４）−Ｏ−（６−Ｏ−アセチル−２−アミノ−
２−Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−２−デオキシ−β
−Ｄ−グルコピラノシド）（２６）（3.01 g，3.83 mmo
l ）をジクロロエタン（15 ml ）に溶解し、室温にてモ
レキュラーシーブス４Ａ（1.50 g）、テトラメチルウレ
ア（2.75ml, 23.0 mmol）、２，３，４−トリ−Ｏ−ベ
ンジル−Ｌ−フコピラノシル フルオライド（10.02 g,
23.0 mmol）（８）を加え２時間攪拌した。反応容器を
遮光し、−２０℃に冷却後、塩化スズ（II）（2.90 g，
15.3 mmol ）、過塩素酸銀（3.20 g，15.3 mmol)を添加
した。反応系を６０分間にて室温まで昇温し、１５時間
攪拌した。反応終了確認後、反応液を酢酸エチルにて希
釈し、セライトろ過し、ろ液を水洗した。有機層を硫酸
ナトリウムにて乾燥後ろ過し、ろ液を濃縮し、得られた
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製
し、目的化合物２７（4.60 g）を薄黄アモルファスとし
て得た。¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃) 7.45-7.15 (20H, m, aromatic ×4)、5.34 (1H, m, NH
Z) 、2.15-1.85 (15H,m, Ac ×5)、1.13 (3H, d, J=6.6
0 Hz, Me of Fuc)、0.95-0.78 (2H, m, MeSiCH₂ CH₂O)
、0.00 (9H, s, Me₃ SiCH₂CH₂O)

【００７７】〔実施例６−３〕 ２−（トリメチルシリル）エチル （２，３，４，６−
テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ガラクトピラノシル）
−（１→４）−Ｏ−〔α−Ｌ−フコピラノシル−（１→
３）−Ｏ〕−（６−Ｏ−アセチル−２−アミノ−２−デ
オキシ−β−Ｄ−グルコピラノシド）（２８）の合成 ２−（トリメチルシリル）エチル （２，３，４，６−
テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ガラクトピラノシル）
−（１→４）−Ｏ−〔２，３，４−トリ−Ｏ−ベンジル
−α−Ｌ−フコピラノシル−（１→３）−Ｏ〕−（６−
Ｏ−アセチル−２−アミノ−２−Ｎ−ベンジルオキシカ
ルボニル−２−デオキシ−β−Ｄ−グルコピラノシド）
（２７）（503 mg, 0.42 mmol ）をエタノール（25 ml
）に溶解し、ぎ酸アンモニウム（1.0 g)、１０％Ｐｄ
−Ｃ(wet. 1.0 g ）を加え、加熱還流した。３時間後、
同量のぎ酸アンモニウム、１０％Ｐｄ−Ｃを添加し、さ
らに４時間還流した。反応終了確認後、反応液をセライ
トろ過し、ろ液を濃縮し、目的化合物２８（250 mg，収
率 化合物２６より２段階で 75 ％）を無色のアモルフ
ァスとして得た。

【００７８】実施例７ 以下に、実施例７における化合物（２９）から（３２）
の構造式を示す。

【化９５】

【化９６】

【００７９】〔実施例７−１〕 ２−（トリメチルシリル）エチル （２，３，４，６−
テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ガラクトピラノシル）
−（１→４）−Ｏ−〔２，３，４−トリ−Ｏ−アセチル
−α−Ｌ−フコピラノシル−（１→３）−Ｏ〕−（６−
Ｏ−アセチル−２−デオキシ−２−アセタミド−β−Ｄ
−グルコピラノシド）（２９）の合成 実施例６で得られた２−（トリメチルシリル）エチル
（２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ガ
ラクトピラノシル）−（１→４）−Ｏ−〔α−Ｌ−フコ
ピラノシル−（１→３）−Ｏ〕−（６−Ｏ−アセチル−
２−アミノ−２−デオキシ−β−Ｄ−グルコピラノシ
ド）（２８）（807 mg, 1.01 mmol ）をピリジン（20 m
l)に溶解し、室温にて無水酢酸（10 ml)、ジメチルアミ
ノピリジン（35 mg ）を加え、３日間攪拌した。反応終
了確認後、反応液を濃縮し、残渣を酢酸エチルにて希釈
した。飽和重曹水で洗浄後、有機層を硫酸ナトリウムに
て乾燥し、ろ過して、ろ液を濃縮した。得られた残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、目的
化合物２９（724 mg，収率 74 ％）を薄黄アモルファス
として得た。¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃) 5.52 (1H, d, J=8.3 Hz, NH Ac) 、5.19 (1H, dd, J=3.
3, 10.9 Hz) 、4.67 (1H, d, J=7.3 Hz)、1.21 (3H, d,
J=6.6 Hz, Me of Fuc) 、0.84-0.96 (2H, m,MeSiCH₂ C
H₂O) 、-0.01 (9H, s, Me₃ SiCH₂CH₂O)

【００８０】〔実施例７−２〕 （２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ガ
ラクトピラノシル）−（１→４）−Ｏ−〔２，３，４−
トリ−Ｏ−アセチル−α−Ｌ−フコピラノシル−（１→
３）−Ｏ〕−（６−Ｏ−アセチル−２−デオキシ−２−
アセタミド−Ｄ−グルコピラノシル）クロライド（３
０）の合成 ２−（トリメチルシリル）エチル （２，３，４，６−
テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ガラクトピラノシル）
−（１→４）−Ｏ−〔２，３，４−トリ−Ｏ−アセチル
−α−Ｌ−フコピラノシル−（１→３）−Ｏ〕−（６−
Ｏ−アセチル−２−デオキシ−２−アセタミド−β−Ｄ
−グルコピラノシド）（２９）（687 mg, 0.71 mmol ）
をクロロホルム（70 ml ）に溶解し、室温にてジクロロ
メチルメチルエーテル（0.32 ml, 3.54 mmol）、塩化亜
鉛（58 mg, 0.43 mmol）を加え、５時間攪拌した。反応
終了確認後、反応液を濃縮し、目的化合物３０（理論量
628 mg ）を含む残渣を得た。これは精製することなく
次の反応に用いた。

【００８１】〔実施例７−３〕 エチル （２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β
−Ｄ−ガラクトピラノシル）−（１→４）−Ｏ−〔２，
３，４−トリ−Ｏ−アセチル−α−Ｌ−フコピラノシル
−（１→３）−Ｏ〕−（６−Ｏ−アセチル−２−デオキ
シ−２−アセタミド−β−Ｄ−グルコピラノシド）（３
１）の合成 実施例７−２で得られた（２，３，４，６−テトラ−Ｏ
−アセチル−β−Ｄ−ガラクトピラノシル）−（１→
４）−Ｏ−〔２，３，４−トリ−Ｏ−アセチル−α−Ｌ
−フコピラノシル−（１→３）−Ｏ〕−（６−Ｏ−アセ
チル−２−デオキシ−２−アセタミド−Ｄ−グルコピラ
ノシル）クロライド（３０）（理論量 628mg ）を含む
残渣をジクロロメタンに溶解し、モレキュラーシーブス
４Ａ（1.44g）、トリフルオロメタンスルホン酸スズ（I
I）（887 mg，2.13 mmol)を加えた。この混合液に室温
にてエタノール（0.20 ml, 3.14 mmol）とテトラメチル
ウレア（0.26 ml, 2.17 mmol）を含むジクロロメタン溶
液（10 ml)を滴下した。８時間後、トリフルオロメタン
スルホン酸スズ（II) 、エタノール、テトラメチルウレ
アを上記と同量加え、６０時間攪拌した。反応終了確認
後、反応液に飽和重曹水（10 ml ）を加え、セライトろ
過し、ろ液を飽和重曹水にて洗浄した。有機層を硫酸ナ
トリウムで乾燥後ろ過し、ろ液を濃縮し、得られた残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、
目的化合物３１（219 mg，収率 化合物２９より２段階
で 35 ％）を薄黄アモルファスとして得た。¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃) 5.63 (1H, d, J=8.6 Hz, NH Ac) 、5.21 (1H, dd, J=3.
3, 10.9 Hz) 、4.68 (1H, d, J=7.6 Hz)、4.60 (1H, d
d, J=2.6, 11.8 Hz) 、4.29 (1H, dd, J=7.6, 11.6 Hz)
、1.21 (3H, d, J=6.6 Hz, Me of Fuc) 、1.17 (3H,
t, J=7.3Hz, OCH ₂CH₃ )

【００８２】〔実施例７−４〕 エチル β−Ｄ−ガラクトピラノシル−（１→４）−Ｏ
−〔α−Ｌ−フコピラノシル−（１→３）−Ｏ〕−（２
−デオキシ−２−アセタミド−β−Ｄ−グルコピラノシ
ド）（３２）の合成 エチル （２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β
−Ｄ−ガラクトピラノシル）−（１→４）−Ｏ−〔２，
３，４−トリ−Ｏ−アセチル−α−Ｌ−フコピラノシル
−（１→３）−Ｏ〕−（６−Ｏ−アセチル−２−デオキ
シ−２−アセタミド−β−Ｄ−グルコピラノシド）（３
１）（205 mg，0.229 mmol）をメタノール（6 ml）に溶
解し、室温にて２８％ナトリウムメトキシド溶液（メタ
ノール溶液、62μl ）を加え、１２時間攪拌した。反応
終了確認後、反応液を酸性イオン交換樹脂（DOWEX 50W-
X8) にて中和し、ろ過し、ろ液を濃縮した。残渣をポリ
アクリルアミドゲルを用いたカラムクロマトグラフィー
にて精製し、凍結乾燥を行い、目的化合物３２（123 m
g，収率 96 ％）を白色粉末として得た。¹ H-NMR (270MHz, D₂O) 4.99 (1H, d, J=4.0 Hz)、4.45 (1H, d, J=7.4 Hz)、4.
34 (1H, d, J=7.6 Hz)、1.92 (3H, s, NHAc) 、1.06
(3H, d, J=7.3 Hz, Me of Fuc) 、1.05 (3H, t,J=7.3 H
z, OCH ₂CH₃ )

【００８３】実施例８ 実施例３と同様の方法により、次のグリコシデーション
成績体を製造した。以下に、化合物（３３）から（３
７）の構造式を示す。

【化９７】

【化９８】

【００８４】２−（２−エトキシエトキシ）−エチル
〔メチル （５−アセトアミド−３，５−ジデオキシ−
４，７，８，９−テトラ−Ｏ−アセチル−α−Ｄ−グリ
セロ−Ｄ−ガラクト−２−ノヌロピラノシロネート）〕
−（２→３）−Ｏ−（２，４，６−トリ−Ｏ−アセチル
−β−Ｄ−ガラクトピラノシル）−（１→４）−Ｏ−
〔２，３，４−トリ−Ｏ−アセチル−α−Ｌ−フコピラ
ノシル−（１→３）−Ｏ〕−（６−Ｏ−アセチル−２−
デオキシ−２−ナフタミド−β−Ｄ−グルコピラノシ
ド）（３３）¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃) 8.36 (1H, s)、7.95-7.80 (4H, m) 、7.62-7.50 (2H,
m) 、7.00 (1H, d, NHCO-naphthyl) 、3.86(3H, s, CO₂
Me)、2.58 (1H, broad dd, H-3e of NeuAc)、1.25-1.15
(6H, m, Me of Fuc and Me of OEt)

【００８５】３，４，５−トリメトキシフェニル 〔メ
チル （５−アセトアミド−３，５−ジデオキシ−４，
７，８，９−テトラ−Ｏ−アセチル−α−Ｄ−グリセロ
−Ｄ−ガラクト−２−ノヌロピラノシロネート）〕−
（２→３）−Ｏ−（２，４，６−トリ−Ｏ−アセチル−
β−Ｄ−ガラクトピラノシル）−（１→４）−Ｏ−
〔２，３，４−トリ−Ｏ−アセチル−α−Ｌ−フコピラ
ノシル−（１→３）−Ｏ−〕−（６−Ｏ−アセチル−２
−デオキシ−２−ナフタミド−β−Ｄ−グルコピラノシ
ド）（３４）¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃) 8.33 (1H, s)、7.96-7.83 (4H, m) 、7.62-7.50 (2H,
m) 、6.67 (1H, d, NHCO-naphthyl) 、6.24 (2H, s, ar
omatic)、3.87(3H, s, CO₂Me)、3.74 (3H, s, OMe) 、
3.71 (6H, s, OMe×2)、2.62 (1H, broad dd, H-3e of
NeuAc)、1.19 (3H, d, Me of Fuc)

【００８６】２−ベンジルオキシエチル 〔メチル
（５−アセトアミド−３，５−ジデオキシ−４，７，
８，９−テトラ−Ｏ−アセチル−α−Ｄ−グリセロ−Ｄ
−ガラクト−２−ノヌロピラノシロネート）〕−（２→
３）−Ｏ−（２，４，６−トリ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ
−ガラクトピラノシル）−（１→４）−Ｏ−〔２，３，
４−トリ−Ｏ−アセチル−α−Ｌ−フコピラノシル−
（１→３）−Ｏ〕−（６−Ｏ−アセチル−２−デオキシ
−２−ナフタミド−β−Ｄ−グルコピラノシド）（３
５）¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃) 8.25 (1H, s)、7.88-7.80 (4H, m) 、7.58-7.52 (2H,
m) 、7.18-7.15 (3H, m, -Ph)、7.07-7.04 (2H, m, -P
h)、6.43 (1H, d, J=9.24 Hz, NHCO-naphthyl)、3.87
(3H, s, CO₂Me) 、2.60 (1H, dd, H-3e of NeuAc)、1.2
6 ( 2H, m, OCH ₂CH₂ OCH₂Ph) 、1.20 (3H, d, J=6.60 H
z, Me of Fuc)

【００８７】２−〔２−（ヒドロキシエトキシ）−エト
キシ〕−エチル 〔メチル （５−アセトアミド−３，
５−ジデオキシ−４，７，８，９−テトラ−Ｏ−アセチ
ル−α−Ｄ−グリセロ−Ｄ−ガラクト−２−ノヌロピラ
ノシロネート）〕−（２→３）−Ｏ−（２，４，６−ト
リ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ガラクトピラノシル）−
（１→４）−Ｏ−〔２，３，４−トリ−Ｏ−アセチル−
α−Ｌ−フコピラノシル−（１→３）−Ｏ〕−（６−Ｏ
−アセチル−２−デオキシ−２−ナフタミド−β−Ｄ−
グルコピラノシド）（３６）¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃) 8.48 (1H, s)、8.03-7.83 (4H, m) 、7.60-7.51 (3H,
m) 、3.87 (3H, s, CO₂Me) 、3.35-3.10 (4H, m) 、2.6
0 (1H, dd, H-3e of NeuAc)、1.70 (1H, t, H-3a of Ne
uAc) 、1.22 (3H, d, Me of Fuc)

【００８８】９−ヒドロキシノニル 〔メチル （５−
アセトアミド−３，５−ジデオキシ−４，７，８，９−
テトラ−Ｏ−アセチル−α−Ｄ−グリセロ−Ｄ−ガラク
ト−２−ノヌロピラノシロネート）〕−（２→３）−Ｏ
−（２，４，６−トリ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ガラク
トピラノシル）−（１→４）−Ｏ−〔２，３，４−トリ
−Ｏ−アセチル−α−Ｌ−フコピラノシル−（１→３）
−Ｏ〕−（６−Ｏ−アセチル−２−デオキシ−２−ナフ
タミド−β−Ｄ−グルコピラノシド）（３７）¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃) 8.28 (1H, s)、7.98-7.79 (4H, m) 、7.60-7.54 (2H,
m) 、6.39 (1H, d, J=8.91 Hz, NHCO-naphthyl)、3.86
(3H, s, CO₂Me) 、2.60 (1H, dd, H-3e of NeuAc)、2.2
4-1.86 (36H, m, Ac ×12) 、1.75-0.90 (18H, m, CH
₂(CH₂)₇ CH₂OH, H-3a of NeuAc and Me of Fuc)

【００８９】実施例９ 実施例３と同様の方法により、次の化合物を製造した。
以下に、化合物（３８）から（４２）の構造式を示す。

【化９９】

【化１００】

【００９０】２−（２−エトキシエトキシ）−エチル
（５−アセトアミド−３，５−ジデオキシ−α−Ｄ−グ
リセロ−Ｄ−ガラクト−２−ノヌロピラノシロニックア
シッド）−（２→３）−Ｏ−（β−Ｄ−ガラクトピラノ
シル）−（１→４）−Ｏ−〔α−Ｌ−フコピラノシル−
（１→３）−Ｏ〕−（２−デオキシ−２−ナフタミド−
β−Ｄ−グルコピラノシド）（３８）¹ H-NMR (270MHz, CD₃OD) 8.30 (1H, s)、7.91-7.81 (4H, m) 、7.55-7.42 (2H,
m) 、5.06 (1H, d, J=3.29 Hz, H-1 of Fuc) 、4.63 (1
H, d, J=7.59 Hz, H-1 of Gal) 、4.45 (1H, d,J=7.59
Hz, H-1 of GlcN)、4.25-3.30 (29H, m)、3.24-3.30 (6
H, m) 、2.78 (1H, broad dd, H-3e of NeuAc)、1.91(3
H, s, NHAc) 、1.63 (1H, broad t, H-3a of NeuAc) 、
1.06 (3H, d, J=6.60 Hz, Me of Fuc)、0.91 (3H, t, J
=6.93 Hz, Me of OEt)

【００９１】３，４，５−トリメトキシフェニル （５
−アセトアミド−３，５−ジデオキシ−α−Ｄ−グリセ
ロ−Ｄ−ガラクト−２−ノヌロピラノシロニックアシッ
ド）−（２→３）−Ｏ−（β−Ｄ−ガラクトピラノシ
ル）−（１→４）−Ｏ−〔α−Ｌ−フコピラノシル−
（１→３）−Ｏ〕−（２−デオキシ−２−ナフタミド−
β−Ｄ−グルコピラノシド）（３９）¹ H-NMR (270MHz, D₂O) 8.24 (1H, s)、8.00-7.80 (4H, m) 、7.65-7.50 (2H,
m) 、6.28 (2H, s, aromatic)、5.11 (1H, d, J=3.96 H
z, H-1 of Fuc) 、4.50 (1H, d, H-1 of GlcN)、3.50
(6H, s, OMe×2)、3.45 (3H, s, OMe) 、2.67 (1H, dd,
H-3e of NeuAc)、1.94 (3H, s, NHAc) 、1.76 (1H,
t, H-3a of NeuAc) 、1.09 (3H, d, Me ofFuc)

【００９２】２−ベンジルオキシエチル （５−アセト
アミド−３，５−ジデオキシ−α−Ｄ−グリセロ−Ｄ−
ガラクト−２−ノヌロピラノシロニックアシッド）−
（２→３）−Ｏ−（β−Ｄ−ガラクトピラノシル）−
（１→４）−Ｏ−〔α−Ｌ−フコピラノシル−（１→
３）−Ｏ〕−（２−デオキシ−２−ナフタミド−β−Ｄ
−グルコピラノシド）（４０）¹ H-NMR (270MHz, D₂O) 8.20 (1H, s)、7.87-7.83 (3H, m) 、7.68 (1H, d, J=
8.58 Hz) 、7.60-7.51(2H, m) 、6.92-6.74 (5H, m, -P
h)、5.11 (1H, d, J=3.63 Hz, H-1 of Fuc) 、4.48 (1
H, d, J=7.26 Hz, H-1 of GlcN)、2.68 (1H, dd, H-3e
of NeuAc)、1.95(3H, s, NHAc) 、1.72 (1H, t, J=12.
21 Hz, H-3a of NeuAc) 、1.14-1.01 (5H, m, OCH ₂CH₂
OCH₂Ph and Me of Fuc)

【００９３】２−〔２−（２−ヒドロキシエトキシ）−
エトキシ〕−エチル （５−アセトアミド−３，５−ジ
デオキシ−α−Ｄ−グリセロ−Ｄ−ガラクト−２−ノヌ
ロピラノシロニックアシッド）−（２→３）−Ｏ−（β
−Ｄ−ガラクトピラノシル）−（１→４）−Ｏ−〔α−
Ｌ−フコピラノシル−（１→３）−Ｏ〕−（２−デオキ
シ−２−ナフタミド−β−Ｄ−グルコピラノシド）（４
１）¹ H-NMR (270MHz, D₂O) 8.34 (1H, s)、8.03-7.94 (3H, m) 、7.84-7.79 (1H,
m) 、7.66-7.60 (2H, m) 、5.16 (1H, d, J=3.63 Hz, H
-1 of Fuc) 、4.51 (1H, d, J=7.92 Hz, H-1 ofGlcN)、
4.25-3.43 (29H, m)、3.30-3.24 (4H, m) 、3.00-2.84
(4H, m) 、2.71(1H, dd, H-3e of NeuAc)、1.97 (3H,
s, NHAc) 、1.74 (1H, t, J=11.88 Hz,H-3a of NeuAc)
、1.11 (3H, d, J=6.60 Hz, Me of Fuc)

【００９４】９−ヒドロキシノニル （５−アセトアミ
ド−３，５−ジデオキシ−α−Ｄ−グリセロ−Ｄ−ガラ
クト−２−ノヌロピラノシロニックアシッド）−（２→
３）−Ｏ−（β−Ｄ−ガラクトピラノシル）−（１→
４）−Ｏ−〔α−Ｌ−フコピラノシル−（１→３）−
Ｏ〕−（２−デオキシ−２−ナフタミド−β−Ｄ−グル
コピラノシド) （４２）¹ H-NMR (270MHz, D₂O) 8.29 (1H, s)、7.98-7.86 (3H, m) 、7.76 (1H, d, J=
8.58 Hz) 、7.60-7,50(2H, m) 、5.10 (1H, d, J=3.63
Hz, H-1 of Fuc) 、4.49 (1H, d, J=7.59 Hz,H-1 of Gl
cN)、4.15-3.35 (25H, m)、3.21 (2H, t, J=6.76 Hz,
OCH₂ (CH₂)₉OH) 、2.67 (1H, dd, J=4.29, 11.88 Hz, H
-3e of NeuAc)、1.95 (3H, s, NHAc)、1.72 (1H, t, J
=11.72 Hz, H-3a of NeuAc) 、1.40-1.23 (2H, m) 、1.
15 (3H, d, J=6.60 Hz, Me of Fuc)、1.02-0.87 (4H,
m) 、0.82-0.67 (2H, m) 、0.59-0.29 (6H, m)

【００９５】〔参考例１〕 ２−（トリメチルシリル）エチル ２−Ｎ−アリルオキ
シカルボニル−２−アミノ−２−デオキシ−３，４，６
−トリ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド（４
３）の合成 ２−Ｎ−アリルオキシカルボニル−２−アミノ−２−デ
オキシ−１，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−
Ｄ−グルコピラノース（４４）（172.56 g，0.40 mmol)
を塩化メチレン (1035 ml)に溶解し、−１５℃に冷却
後、この溶液に２５％臭化水素−酢酸溶液 (388.4 g，
1.20 mmol)を１時間かけて滴下した。−１５℃にて２時
間攪拌し、ＴＬＣにて２−Ｎ−アリルオキシカルボニル
−２−アミノ−２−デオキシ−３，４，６−トリ−Ｏ−
アセチル−α−Ｄ−グルコピラノシル ブロマイド（４
５）の生成確認後、反応溶液を水、５％重曹水、水の順
で洗浄し、有機層をモレキュラーシーブス４Ａにて乾燥
し、ろ過し、化合物４５の塩化メチレン溶液を得た。こ
のようにして得た化合物４５の塩化メチレン溶液を−５
℃で２−（トリメチルシリル）エタノール（94.6 g，0.
80 mmol)、炭酸銀（Ｉ） (331 g, 1.2 mmol)およびモレ
キュラーシーブス４Ａ（429 g ）の塩化メチレン（1035
ml)混合液中に９０分かけて滴下後、１時間攪拌した。
反応終了確認後、反応液をろ過し、ろ液を５％重曹水、
水の順で洗浄し、有機層を濃縮した。得られた残渣をト
ルエンに溶解し、ヘキサン中に滴下し、析出した結晶を
ろ取することにより目的化合物４３ (153.0 g, 収率 7
8 ％）を白色結晶として得た。¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃) 5.90-5.75 (1H, m) 、5.27-5.08 (4H, m) 、4.96 (1H,
t, J=9.57 Hz) 、4.65-4.45 (2H, broad m) 、4.47 (1
H, d, J=4.28 Hz, H-1)、4.20 (1H, dd) 、4.04(1H, d
d) 、3.94-3.84 and 3.70-3.60 (2H, m, OCH₂ CH₂SiMe
₃) 、3.63-3.45(2H, m) 、1.99 (3H, s, Ac)、1.94 (3
H, s, Ac)、1.93 (3H, s, Ac)、0.94-0.80 (2H, m, OCH
₂CH₂ SiMe₃)、0.00 (9H, s, OCH₂CH₂SiMe₃ )

【００９６】〔参考例２〕 ２−（トリメチルシリル）エチル ２−Ｎ−アリルオキ
シカルボニル−２−アミノ−２−デオキシ−β−Ｄ−グ
ルコピラノシド（１）の合成 ２−（トリメチルシリル）エチル ２−Ｎ−アリルオキ
シカルボニル−２−アミノ−２−デオキシ−３，４，６
−トリ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド（４
３）（49.0ｇ，0.10mmol) をメタノール（150 ml) に溶
解し、室温にて２８％ナトリウムメトキシド溶液（メタ
ノール溶液、6.0 g, 0.02 mmol) を加え１時間攪拌し
た。反応終了確認後、反応液を濃縮した。残渣を塩化メ
チレンに溶解し、水洗後、ヘプタンを用いて晶析を行
い、結晶をろ取することにより目的化合物１（28.6 g，
収率 79 ％）を白色固体として得た。¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃) 5.96-5.83 (1H, m) 、5.75 (1H, d, J=8.25 Hz, -NHCO₂
-)、5.30 (1H, dd) 、5.18 (1H, dd) 、5.05 (1H, s, O
H)、4.72 (1H, s, OH)、4.55 (1H, d, J=5.60Hz, H-
1)、4.48 (1H, d, J=8.25 Hz) 、4.03-3.88 and 3.75-
3.65 (2H, m, OCH₂ CH₂SiMe₃) 、3.85 (2H, s)、3.78-
3.23 (5H, m) 、2.41 (1H, s, OH)、0.99-0.85 (2H, m,
OCH ₂CH₂ SiMe₃)、0.00 (9H, s, OCH₂CH₂SiMe₃ )

【００９７】以下に化合物（６８）から（７０）の構造
式を示す。

【化１０１】

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ａ６１Ｋ 31/70 ＡＢＮ Ａ６１Ｋ 31/70 ＡＢＮ ＡＤＵ ＡＤＵ (72)発明者 宮内 浩 大阪市此花区春日出中３丁目１番98号 住 友製薬株式会社内

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一般式 【化１】 〔式中、Ｒ¹ は２−トリ（Ｃ₁-Ｃ₄ アルキル／フェニ
   ル）シリルエチル基である。Ｒ² およびＲ³ はそれぞ
   れ、水素原子、Ｃ₁-Ｃ₆ アルカノイル基またはアロイル
   基である。Ｘは水素原子、Ｃ₁-Ｃ₆ アルカノイル基、ア
   ロイル基または一般式 【化２】 （式中、Ｒ⁴ は水素原子またはＣ₁-Ｃ₆ アルキル基であ
   る。Ｒ⁵ は水素原子、Ｃ₁-Ｃ₆ アルカノイル基またはア
   ロイル基である。Ｒ⁶ はメチル基、ヒドロキシメチル
   基、Ｃ₁-Ｃ₆ アルカノイルオキシメチル基またはアロイ
   ルオキシメチル基である。）で表される基である。〕で
   表される化合物またはその塩。
2. 【請求項２】 一般式 【化３】 〔式中、Ｒ¹ は２−トリ（Ｃ₁-Ｃ₄ アルキル／フェニ
   ル）シリルエチル基である。Ｒ² は水素原子、Ｃ₁-Ｃ₆
   アルカノイル基またはアロイル基である。Ｘは水素原
   子、Ｃ₁-Ｃ₆ アルカノイル基、アロイル基または一般式 【化４】 （式中、Ｒ⁴ は水素原子またはＣ₁-Ｃ₆ アルキル基であ
   る。Ｒ⁵ は水素原子、Ｃ₁-Ｃ₆ アルカノイル基またはア
   ロイル基である。Ｒ⁶ はメチル基、ヒドロキシメチル
   基、Ｃ₁-Ｃ₆ アルカノイルオキシメチル基またはアロイ
   ルオキシメチル基である。）で表される基である。〕で
   表される化合物またはその塩。
3. 【請求項３】 請求項１記載の化合物のアミノ基を適宜
   修飾して、一般式 【化５】 〔式中、Ｒ¹ は２−トリ（Ｃ₁-Ｃ₄ アルキル／フェニ
   ル）シリルエチル基である。Ｒ² およびＲ³ はそれぞ
   れ、水素原子、Ｃ₁-Ｃ₆ アルカノイル基またはアロイル
   基である。Ｘは水素原子、Ｃ₁-Ｃ₆ アルカノイル基、ア
   ロイル基または一般式 【化６】 （式中、Ｒ⁴ は水素原子またはＣ₁-Ｃ₆ アルキル基であ
   る。Ｒ⁵ は水素原子、Ｃ₁-Ｃ₆ アルカノイル基またはア
   ロイル基である。Ｒ⁶ はメチル基、ヒドロキシメチル
   基、Ｃ₁-Ｃ₆ アルカノイルオキシメチル基またはアロイ
   ルオキシメチル基である。）で表される基である。Ｙは
   Ｃ（Ｏ）、ＳＯ₂ 、ＨＮＣ（Ｏ）、ＯＣ（Ｏ）あるいは
   ＳＣ（Ｏ）である。Ｒ⁷ はＣ₁-Ｃ₆ アルキル基、アリー
   ル基、置換されたアリール基またはアリールＣ₁-Ｃ₃ ア
   ルキル基である。〕で表される化合物となし、次いでこ
   れをＯ−アシル化反応（Ｒ⁴ が水素原子の場合には、エ
   ステル化反応も）に付し（Ｒ² 、Ｒ³ およびＸのいずれ
   もが水素原子ではなく、かつＸが未保護のカルボキシル
   基または水酸基を有さない基である場合には本Ｏ−アシ
   ル化反応を行う必要はない）、一般式 【化７】 〔式中、Ｒ¹ 、ＹおよびＲ⁷ は前述と同意義を示す。Ｒ
   ²'およびＲ³'はＣ₁-Ｃ₆アルカノイル基またはアロイル
   基である。Ｘ' はＣ₁-Ｃ₆ アルカノイル基、アロイル基
   または一般式 【化８】 （式中、Ｒ⁴'はＣ₁-Ｃ₆ アルキル基である。Ｒ⁵'はＣ₁-
   Ｃ₆ アルカノイル基またはアロイル基である。Ｒ⁶'はメ
   チル基、Ｃ₁-Ｃ₆ アルカノイルオキシメチル基またはア
   ロイルオキシメチル基である。）で表される基であ
   る。〕で表される化合物となし、ついでこの還元末端の
   ２−トリ（Ｃ₁-Ｃ₄ アルキル／フェニル）シリルエチル
   オキシ基を適宜脱離基に変換して、一般式 【化９】 （式中、Ｒ²'、 Ｘ' 、Ｙ、Ｒ³'およびＲ⁷ は前述と同意
   義を示す。Ｚは脱離基である。）で表される化合物とな
   し、ついでこれを一般式 Ｒ⁸ ＯＨ （式中、Ｒ⁸ はＣ₁-Ｃ₁₈アルキル基、置換基を有するＣ
   ₁-Ｃ₁₈アルキル基、アリール基または置換されたアリー
   ル基である。）で表される化合物とグリコシル化して、
   一般式 【化１０】 （式中、Ｒ²'、Ｘ' 、Ｙ、Ｒ³'、Ｒ⁷ およびＲ⁸ は前述
   と同意義を示す。）で表される化合物となし、ついでこ
   れを加水分解することを特徴とする、一般式 【化１１】 〔式中、Ｙ、Ｒ⁷ およびＲ⁸ は前述したものと同意義を
   示す。Ｗは水素原子または一般式 【化１２】 （式中、Ｒ⁹ はメチル基またはヒドロキシメチル基であ
   る。）で表される基である。〕で表されるルイスＸ誘導
   体の製造方法。
4. 【請求項４】 請求項１記載の化合物のＮ原子を適宜保
   護して、一般式 【化１３】 〔式中、Ｒ¹ は２−トリ（Ｃ₁-Ｃ₄ アルキル／フェニ
   ル）シリルエチル基である。Ｒ² およびＲ³ はそれぞ
   れ、水素原子、Ｃ₁-Ｃ₆ アルカノイル基またはアロイル
   基である。Ｘは水素原子、Ｃ₁-Ｃ₆ アルカノイル基、ア
   ロイル基または一般式 【化１４】 （式中、Ｒ⁴ は水素原子またはＣ₁-Ｃ₆ アルキル基であ
   る。Ｒ⁵ は水素原子、Ｃ₁-Ｃ₆ アルカノイル基またはア
   ロイル基である。Ｒ⁶ はメチル基、ヒドロキシメチル
   基、Ｃ₁-Ｃ₆ アルカノイルオキシメチル基またはアロイ
   ルオキシメチル基である。）で表される基である。Ｒ¹⁰
   はアリル基、ｔ−ブチル基またはベンジル基である。〕
   で表される化合物となし、次いでこれをＯ−アシル化反
   応（Ｒ⁴ が水素原子の場合には、エステル化反応も）に
   付し（Ｒ² 、Ｒ³ およびＸのいずれもが水素原子ではな
   く、かつＸが未保護のカルボキシル基または水酸基を有
   さない基である場合には本Ｏ−アシル化反応を行う必要
   はない）、一般式 【化１５】 〔式中、Ｒ¹ およびＲ¹⁰は前述と同意義を示す。Ｒ²'お
   よびＲ³'はＣ₁-Ｃ₆ アルカノイル基またはアロイル基で
   ある。Ｘ' はＣ₁-Ｃ₆ アルカノイル基、アロイル基また
   は一般式 【化１６】 （式中、Ｒ⁴'はＣ₁-Ｃ₆ アルキル基である。Ｒ⁵'はＣ₁-
   Ｃ₆ アルカノイル基またはアロイル基である。Ｒ⁶'はメ
   チル基、Ｃ₁-Ｃ₆ アルカノイルオキシメチル基またはア
   ロイルオキシメチル基である。）で表される基であ
   る。〕で表される化合物となし、次いでこの還元末端の
   ２−トリ（Ｃ₁-Ｃ₄ アルキル／フェニル）シリルエチル
   オキシ基を適宜脱離基に変換して、一般式 【化１７】 （式中、Ｒ²'、 Ｘ' 、Ｒ³'およびＲ¹⁰は前述と同意義を
   示す。Ｚは脱離基である。）で表される化合物となし、
   ついでこれを一般式 Ｒ⁸ ＯＨ （式中、Ｒ⁸ はＣ₁-Ｃ₁₈アルキル基、置換基を有するＣ
   ₁-Ｃ₁₈アルキル基、アリール基または置換されたアリー
   ル基である。）で表される化合物とグリコシル化して、
   一般式 【化１８】 （式中、Ｒ²'、Ｘ' 、Ｒ³'、Ｒ⁸ およびＲ¹⁰は前述と同
   意義を示す。）で表される化合物を得て、引き続きＮ−
   脱保護反応を行って、一般式 【化１９】 （式中、Ｒ²'、Ｘ' 、Ｒ³'およびＲ⁸ は前述したものと
   同意義を示す。）で表される化合物を得、さらにこの化
   合物のアミノ基を適宜修飾して、一般式 【化２０】 （式中、Ｒ²'、Ｘ' 、Ｒ³'およびＲ⁸ は前述と同意義を
   示す。ＹはＣ（Ｏ）、ＳＯ₂ 、ＨＮＣ（Ｏ）、ＯＣ
   （Ｏ）あるいはＳＣ（Ｏ）である。Ｒ⁷ はＣ₁-Ｃ₆ アル
   キル基、アリール基、置換されたアリール基またはアリ
   ールＣ₁-Ｃ₃ アルキル基である）で表される化合物とな
   し、次いでこれを加水分解することを特徴とする、一般
   式 【化２１】 〔式中、Ｙ、Ｒ⁷ およびＲ⁸ は前述したものと同意義を
   示す。Ｗは水素原子または一般式 【化２２】 （式中、Ｒ⁹ はメチル基またはヒドロキシメチル基であ
   る。）で表される基である。〕で表されるルイスＸ誘導
   体の製造方法。
5. 【請求項５】 一般式 【化２３】 〔式中、Ｒ¹ は２−トリ（Ｃ₁-Ｃ₄ アルキル／フェニ
   ル）シリルエチル基である。Ｒ²'はＣ₁-Ｃ₆ アルカノイ
   ル基またはアロイル基である。Ｘ' はＣ₁-Ｃ₆ アルカノ
   イル基、アロイル基または一般式 【化２４】 （式中、Ｒ⁴'はＣ₁-Ｃ₆ アルキル基である。Ｒ⁵'はＣ₁-
   Ｃ₆ アルカノイル基またはアロイル基である。Ｒ⁶'はメ
   チル基、Ｃ₁-Ｃ₆ アルカノイルオキシメチル基またはア
   ロイルオキシメチル基である。）で表される基であ
   る。〕で表される化合物のＮ−原子を適宜保護して、一
   般式 【化２５】 （式中、Ｒ¹ 、Ｒ²'およびＸ' は前述と同意義を示す。
   Ｒ¹⁰はアリル基、ｔ−ブチル基またはベンジル基であ
   る。）で表される化合物となし、次いでこれを、一般式 【化２６】 （式中、Ｒ¹¹はＣ₁-Ｃ₆ アルカノイル基、アロイル基、
   ベンジル基または置換ベンジル基である。Ｚは脱離基で
   ある。）で表されるＬ−フコピラノシル誘導体とのグリ
   コシル化反応に供して、一般式 【化２７】 （式中、Ｒ¹ 、Ｒ²'、Ｒ¹⁰、Ｘ' およびＲ¹¹は前述と同
   意義を示す。）で表される化合物を得、次いで必要に応
   じて、保護基を脱保護して（特にＲ¹¹がベンジル基また
   は置換ベンジル基である場合には、必ず脱保護して）、
   一般式 【化２８】 〔式中、Ｒ¹ 、およびＲ¹⁰は前述と同意義を示す。Ｒ²
   およびＲ³ はそれぞれ、水素原子、Ｃ₁-Ｃ₆ アルカノイ
   ル基またはアロイル基である。Ｘは水素原子、Ｃ₁-Ｃ₆
   アルカノイル基、アロイル基または一般式 【化２９】 （式中、Ｒ⁴ は水素原子またはＣ₁-Ｃ₆ アルキル基であ
   る。Ｒ⁵ は水素原子、Ｃ₁-Ｃ₆ アルカノイル基またはア
   ロイル基である。Ｒ⁶ はメチル基、ヒドロキシメチル
   基、Ｃ₁-Ｃ₆ アルカノイルオキシメチル基またはアロイ
   ルオキシメチル基である。）で表される基である。〕で
   表される化合物となした後、引き続きＮ−脱保護反応を
   行うことを特徴とする、請求項１記載の化合物の製造方
   法。
6. 【請求項６】 請求項２記載の化合物のＮ原子を適宜保
   護し、必要に応じてＯ−脱保護反応および脱エステル化
   反応を行って、一般式 【化３０】 〔式中、Ｒ¹ は２−トリ（Ｃ₁-Ｃ₄ アルキル／フェニ
   ル）シリルエチル基である。Ｒ¹⁰はアリル基、ｔ−ブチ
   ル基またはベンジル基である。Ｗは水素原子または一般
   式 【化３１】 （式中、Ｒ⁹ はメチル基またはヒドロキシメチル基であ
   る。）で表される基である。〕で表される化合物とな
   し、次いでこれを、フコース転移酵素を用いてＧＤＰ−
   フコースと反応させて、一般式 【化３２】 （式中、Ｒ¹ 、ＷおよびＲ¹⁰は、前述と同意義を示
   す。）で表される化合物となし、必要に応じてＯ−アシ
   ル化反応およびカルボキシル基のエステル化反応に付し
   た後、引き続きＮ−脱保護反応を行うことを特徴とす
   る、請求項１記載の化合物の製造方法。
7. 【請求項７】 一般式 【化３３】 〔式中、Ｒ¹ は２−トリ（Ｃ₁-Ｃ₄ アルキル／フェニ
   ル）シリルエチル基である。Ｒ¹⁰はアリル基、ｔ−ブチ
   ル基またはベンジル基である〕で表されるグルコサミン
   誘導体を、ガラクトース転移酵素を用いてＵＤＰ−ガラ
   クトースと反応させ、更に、必要に応じて、シアル酸転
   移酵素を用いてＣＭＰ−Ｎ−アセチルノイラミン酸と反
   応させることにより、一般式 【化３４】 〔式中、Ｒ¹ およびＲ¹⁰は、前述と同意義を示す。Ｗは
   水素原子または一般式 【化３５】 （式中、Ｒ⁹ はメチル基またはヒドロキシメチル基であ
   る。）で表される基である。〕で表される化合物とな
   し、次いで、必要に応じて、これをＯ−アシル化反応
   （必要に応じ、カルボキシル基のエステル化反応も）に
   付し、一般式 【化３６】 〔式中、Ｒ¹ およびＲ¹⁰は、前述と同意義を示す。Ｒ²
   は水素原子、Ｃ₁-Ｃ₆ アルカノイル基またはアロイル基
   である。Ｘは水素原子、Ｃ₁-Ｃ₆ アルカノイル基、アロ
   イル基または一般式 【化３７】 （式中、Ｒ⁴ は水素原子またはＣ₁-Ｃ₆ アルキル基であ
   る。Ｒ⁵ は水素原子、Ｃ₁-Ｃ₆ アルカノイル基またはア
   ロイル基である。Ｒ⁶ は水素原子、メチル基、Ｃ₁-Ｃ₆
   アルカノイルオキシメチル基またはアロイルオキシメチ
   ル基である。）で表される基である。〕で表される化合
   物となし、引き続きＮ−脱保護反応に付し、一般式 【化３８】 〔式中、Ｒ¹ 、Ｒ² およびＸは、前述と同意義を示
   す。〕で表される化合物となし、次いでこれを、位置選
   択的な脱アシル化反応に付すことを特徴とする、請求項
   ２記載の化合物の製造方法。