JPH0821627B2 - Multilayer wiring compaction method for integrated circuits - Google Patents

Multilayer wiring compaction method for integrated circuits

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JPH0821627B2
JPH0821627B2 JP1125690A JP12569089A JPH0821627B2 JP H0821627 B2 JPH0821627 B2 JP H0821627B2 JP 1125690 A JP1125690 A JP 1125690A JP 12569089 A JP12569089 A JP 12569089A JP H0821627 B2 JPH0821627 B2 JP H0821627B2
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line segment
wiring
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functional block
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一善 脇
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孝明 滝井
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は多層配線されたレイアウトのコンパクション
を行う集積回路用多層配線コンパクション法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a multilayer wiring compaction method for an integrated circuit, which performs compaction of a layout in which multilayer wiring is performed.

[従来の技術] 集積回路、特に大規模集積回路(LSI)は、通常、以
下のプロセスを経て製造される。
[Prior Art] An integrated circuit, particularly a large scale integrated circuit (LSI) is usually manufactured through the following processes.

(イ)システム仕様に基づきLSIの機能仕様を作成し、
動作の詳細を設計する機能設計プロセス。
(B) Create LSI functional specifications based on system specifications,
A functional design process that designs the behavioral details.

(ロ)ゲートとゲートの接続関係、即ち論理回路構成に
主眼をおいた設計を行う論理設計プロセス。
(B) A logic design process for designing with a focus on the connection relationship between gates, that is, the logic circuit configuration.

(ハ)LSIの製造条件に基づき使用するトランスタの形
状、電気特性などを設計するデバイス設計プロセス。
(C) A device design process that designs the shape and electrical characteristics of the transformer used based on the LSI manufacturing conditions.

(ニ)論理セルライブラリに使用する基本論理単位とデ
バイス設計によって得られたトランジスタライブラリを
組み合わせて基本回路または回路セルの設計を行い回路
シミュレータにより性能を予測する回路設計プロセス。
(D) A circuit design process in which the basic logic unit used in the logic cell library and the transistor library obtained by device design are combined to design a basic circuit or circuit cell, and the performance is predicted by a circuit simulator.

(ホ)LSIマスクのパターンを作成するレイアウト設計
プロセス。
(E) Layout design process for creating LSI mask patterns.

(ヘ)レイアウト設計プロセスのマスクパターンを用い
てLSIを製造する製造プロセス。
(F) A manufacturing process for manufacturing an LSI using the mask pattern of the layout design process.

これらのプロセスのうち、特にレイアウト設計プロセ
スはLSI設計の中で最も重要な設計プロセスであり、論
理設計により得られた接続情報と回路設計により準備さ
れた論理セルライブラリを用いて論理ゲートの配置、配
線を行うプロセスである。
Of these processes, the layout design process is the most important design process in LSI design, and the layout of logic gates is calculated using the connection information obtained by logic design and the logic cell library prepared by circuit design. This is the process of wiring.

このレイアウト設計プロセスにおいては、チップ歩留
まりを向上させるために製造条件による制約(デザイン
ルール)に従いながらチップ面積を可能なかぎり小さく
することが要求され、この面積の縮小化の手法としてい
わゆるコンパクション法が広く用いられている。
In this layout design process, in order to improve the chip yield, it is required to make the chip area as small as possible while complying with the constraints (design rules) due to manufacturing conditions. As a method for reducing this area, the so-called compaction method is widely used. It is used.

従来より行われているコンパクション法は次の3つに
大別することができる。
Conventional compaction methods can be roughly classified into the following three.

(a)初期レイアウトの上下関係をそれぞれ直交する2
方向であるX方向とY方向に有向グラフを用いて表現
し、それをデザインルールの許す範囲内でコンパクショ
ンを行い最小化されたレイアウトデータを得る有向グラ
フ法。
(A) The vertical relationship of the initial layout is orthogonal to each other 2
A directed graph method that uses a directed graph in the X and Y directions, which are directions, and performs compaction within the range allowed by the design rules to obtain minimized layout data.

(b)初期レイアウトにおいてX方向あるいはY方向に
一定幅のスペースが完全に横切っている帯状部位を発見
し、その帯状部位をコンパクションするコンプレッショ
ンリッジ法。
(B) A compression ridge method in which a band-shaped portion in which a space having a constant width is completely crossed in the initial layout is found and the band-shaped portion is compacted.

(c)初期レイアウトのX方向あるいはY方向のデータ
を順番に並べてそれぞれバーチュアルグリッドに登録
し、それぞれのグリッドをデザインルールの範囲内で接
近させるバーチュアルグリッド法。
(C) A virtual grid method in which data in the X direction or Y direction of the initial layout are arranged in order and registered in the virtual grids, and the respective grids are approached within the range of the design rule.

これらのコンパクション法のうち、(b)のコンプレ
ッションリッジ法はアルゴリズム的に明確で設計しやす
いが、縮小化のポイントである配線の折れ曲がり(ジョ
グ)がシアライン(帯状部位のとぎれるライン)で決定
されてしまうという欠点がある。
Among these compaction methods, the compression ridge method of (b) is algorithmically clear and easy to design, but the bending of the wiring (jog), which is the point of reduction, is determined by the shear line (the line that breaks the strip-shaped portion). There is a drawback that it ends up.

また、(c)のバーチュアルグリッド法においても、
処理時間は速いものの各グリッドの順番を入れ替えるこ
とが出来ず、本来コンパクションされるべき領域がコン
パクションされない等の欠点がある。このため、現在の
能力、将来の可能性を考慮すると、(a)の有向グラフ
法が現在最も有望視されている。
Also, in the virtual grid method of (c),
Although the processing time is fast, there is a drawback that the order of the grids cannot be changed and the areas that should be compacted are not compacted. Therefore, in view of the present ability and future possibility, the directed graph method of (a) is regarded as the most promising at present.

一方、チップ面積を小さくするために配線層を複数形
成して多層配線を行い配線面積を実質的に減少させる技
術も特に超大規模集積回路(VLSI)には必要不可欠とな
っており、この多層配線においても有向グラフ法を用い
たコンパクションが検討されている。
On the other hand, a technique for forming a plurality of wiring layers to reduce the chip area and performing multilayer wiring to substantially reduce the wiring area is also indispensable especially for very large scale integrated circuits (VLSI). In, the compaction using the directed graph method is also examined.

多層配線における従来の有向グラフを用いたコンパク
ション法は、まず初期レイアウトにおける機能ブロック
や配線のデータ、デザインルールを読み込み内部表現に
変換してデータファイルを作成する。データとしては、
機能ブロックに関してはブロック各と各頂点座標、配線
に関しては配線層と端点座標を入力する。そして、コン
パクション方向等の初期パラメータを設定し、コンパク
ション方向に基づいて線分データを作成する。
In the conventional compaction method using a directed graph in multi-layer wiring, first, data of functional blocks and wiring in the initial layout and design rules are read and converted into an internal representation to create a data file. As data,
For each functional block, the coordinates of each block and each vertex are input, and for the wiring, the wiring layer and end point coordinates are input. Then, initial parameters such as a compaction direction are set, and line segment data is created based on the compaction direction.

次に、この線分データに基づき以下のルールに従い有
向グラフを作成する。
Then, based on this line segment data, a directed graph is created according to the following rules.

(i)各線分データを節とし、ある2節点に対応する配
線又は機能ブロックが同一X座標上で隣り合う場合に
は、これらの節点間に枝を設ける。なお、この操作にお
いてはデザインルールで定められた大きさや最小間隔を
考慮にいれることとする。
(I) When each line segment data is a node and wiring or a functional block corresponding to a certain two nodes are adjacent on the same X coordinate, a branch is provided between these nodes. In addition, in this operation, the size and the minimum interval determined by the design rule shall be taken into consideration.

(ii)接続すべき配線ブロックと配線に対応する節点間
にも枝を設ける。
(Ii) Branches are also provided between the wiring blocks to be connected and the nodes corresponding to the wiring.

(iii)枝の向きはY座標の大きいものから小さいもの
へ向かうように定め、同一Y座標を持つ場合には任意に
定める。
(Iii) The directions of the branches are determined from those having a large Y coordinate to those having a small Y coordinate, and are arbitrarily determined when the Y coordinates are the same.

(iv)(i)〜(iii)で作成されたグラフがサイクル
を有する場合にはそのサイクル状の節点のうち交差する
2つの配線を求め、その配線を2つに分割することによ
りサイクルを解除する。
(Iv) When the graphs created in (i) to (iii) have cycles, two wirings that intersect among the cycle-like nodes are obtained, and the wirings are divided into two to cancel the cycle. To do.

このルールに従い、第6図に示すような機能ブロック
A,B及び一層目の配線l,j,m、2層目の配線kが配された
初期レイアウトのOY方向の有向グラフを作成すると第7
図のようになる。図において太い枝はその節間の距離が
固定されている枝を、細い枝はその節間がデザインルー
ルで規定される枝であることを示している。
According to this rule, the functional block as shown in FIG.
If a directed graph in the OY direction of the initial layout in which the wirings A, B and the wirings l, j, m in the first layer and the wiring k in the second layer are arranged is created,
It becomes like the figure. In the figure, thick branches indicate branches whose distance between nodes is fixed, and thin branches indicate branches whose nodes are defined by design rules.

そして、この有向グラフにおいて、細い枝で結ばれた
節をデザインルールの許す範囲内で順次最低ライン(図
の下側)へ縮小化していく。
Then, in this directed graph, the nodes connected by thin branches are successively reduced to the lowest line (lower side of the figure) within the range allowed by the design rules.

このようにしてOY方向にコンパクションされた結果を
第8図(B)に示す。なお、第8図(A)には比較のた
め第6図(A)と同図が記載してある。
The result of compaction in the OY direction is shown in FIG. 8 (B). In addition, FIG. 8 (A) shows the same figure as FIG. 6 (A) for comparison.

[発明が解決しようとする課題] しかしながら、従来の多層配線コンパクション法にお
いては幾つかの問題が生じていた。前述したように、コ
ンパクションを行うための線分データはレイアウトデー
タに基づいて作成されるが、従来のレイアウトデータ
は、機能ブロックに対してブロック名と頂点の座標を入
力している。このため、このデータに基づき線分データ
を作成し有向グラフを作ると、第7図に示されるごと
く、1層目の機能ブロックに対応する線分データkと2
層目の配線に対応する線分データe間にはデザインルー
ルで規定される枝が存在することになる。
[Problems to be Solved by the Invention] However, some problems have occurred in the conventional multilayer wiring compaction method. As described above, the line segment data for performing compaction is created based on the layout data, but in the conventional layout data, the block name and the coordinates of the vertices are input to the functional block. Therefore, if line segment data is created based on this data and a directed graph is created, line segment data k and 2 corresponding to the functional block of the first layer are generated as shown in FIG.
There is a branch defined by the design rule between the line segment data e corresponding to the wiring of the layer.

従って、この有向グラフを用いてコンパクションを行
うと、第8図(B)に示されるごとく、2層目の配線に
対応する線分データkは1層目の機能ブロックに対応す
る線分データeより下にはコンパクションされず、本来
コンパクションできる図中一点鎖線で示される機能ブロ
ック上の領域が無効領域として存在してしまい、コンパ
クション効率の低下を招いていた。
Therefore, if compaction is performed using this directed graph, the line segment data k corresponding to the second layer wiring is obtained from the line segment data e corresponding to the first layer functional block as shown in FIG. 8B. The area on the functional block indicated by the alternate long and short dash line in the figure, which is not compacted but is originally compacted, exists as an ineffective area, resulting in a reduction in compaction efficiency.

もちろん、各層ごとに独立して機能ブロック及び配線
のレイアウトデータを入力し、各層ごとにコンパクショ
ンを行えば前述の課題は解決するが、この場合、1層目
と2層目は独立にコンパクションされるために1層目と
2層目の相対位置がずれてしまう問題がある。
Of course, if the layout data of the functional blocks and the wiring are input independently for each layer and the compaction is performed for each layer, the above-mentioned problem is solved, but in this case, the first layer and the second layer are compacted independently. Therefore, there is a problem that the relative positions of the first layer and the second layer are displaced.

本発明は上記従来の課題に鑑みなされたものであり、
その目的は多層配線レイアウトにおいて、多層配線のコ
ンパクションを行う際に機能ブロック上の所定領域をも
配線することができ、コンパクション効率を向上させる
ことが可能な集積回路用多層配線コンパクション法を提
供することにある。
The present invention has been made in view of the above conventional problems,
An object of the present invention is to provide a multilayer wiring compaction method for an integrated circuit capable of wiring a predetermined area on a functional block when performing compaction of the multilayer wiring in a multilayer wiring layout and improving the compaction efficiency. It is in.

[課題を解決するための手段] 上記目的を達成するために、本発明は半導体チップ上
に形成された機能ブロックの位置を表わす各層共通の基
準座標と多層配線層の各層毎にその機能ブロックの配線
禁止領域を考慮して設定された前記機能ブロックのサイ
ズを表わす頂点座標と前記機能ブロック間を接続する配
線の端点座標を入力してファイルを作成するレイアウト
データ作成プロセスと、このプロセスで作成されたレイ
アウトデータに基づき、各層毎に前記基準座標及び頂点
座標から機能ブロックに関する線分データを作成すると
ともに配線に関する線分データを作成する線分データ作
成プロセスと、このプロセスで作成された各層毎の線分
データに基づき、同一層内の線分データ間にはデザイン
ルールに規定される枝を有するとともに、異なる層の機
能ブロックに関する線分データ間には距離固定の枝を有
する有向グラフを作成する有向グラフ作成プロセスと、
このプロセスで作成された有向グラフを用いて全ての層
の機能ブロック及び配線のレイアウトを一括してコンパ
クト化するコンパクションプロセスと、を有し、機能ブ
ロックに対応する線分データを各層毎に設定してコンパ
クションを行うことを特徴としている。
[Means for Solving the Problem] In order to achieve the above object, the present invention provides reference coordinates common to each layer indicating the position of a functional block formed on a semiconductor chip and the functional block of each layer of a multilayer wiring layer. A layout data creation process for creating a file by inputting vertex coordinates representing the size of the functional block set in consideration of the wiring prohibited area and end point coordinates of the wiring connecting the functional blocks, and a layout data creation process created by this process. Based on the layout data, the line segment data creation process for creating the line segment data for the functional block from the reference coordinates and the vertex coordinates for each layer and the line segment data for the wiring, and for each layer created in this process Based on the line segment data, there is a branch defined by the design rule between the line segment data in the same layer, and A directed graph creation process that creates a directed graph with fixed distance branches between line segment data related to functional blocks in a layer
It has a compaction process that makes the layout of the functional blocks and wiring of all layers compact by using the directed graph created in this process, and sets the line segment data corresponding to the functional blocks for each layer. It is characterized by performing compaction.

[作用] 即ち、機能ブロックに対してはその位置を表わす基準
座標と機能ブロックのサイズを表わす頂点の頂点座標を
設け、この頂点座標を各層ごとに設定してレイアウトデ
ータを作成することにより機能ブロックに対応する線分
データを各層ごとに設定することができる。
[Operation] That is, the functional block is provided with reference coordinates indicating the position of the functional block and vertex coordinates of the vertices indicating the size of the functional block, and the layout data is created by setting the vertex coordinates for each layer. The line segment data corresponding to can be set for each layer.

従って、この線分データに基づき有向グラフを作成す
ると、例えば2層目の配線に対応する線分データは2層
目の機能ブロックの線分データとの関係で枝が形成さ
れ、1層目の線分データに影響されることなくコンパク
ションされる。一方、機能ブロックの各線分データは一
の基準座標に基づく頂点座標であるから、コンパクショ
ンの結果1層目と2層目の線分データがずれることはな
く、機能ブロックの2層目の頂点座標を所望の値に設定
することにより2層目の配線が機能ブロックの配線可能
領域上を通過することができるようになる。
Therefore, if a directed graph is created based on this line segment data, for example, the line segment data corresponding to the wiring of the second layer forms a branch in relation to the line segment data of the functional block of the second layer, and the line of the first layer is formed. It is compacted without being affected by minute data. On the other hand, since each line segment data of the functional block is the vertex coordinates based on one reference coordinate, the line segment data of the first layer and the second layer do not shift as a result of compaction, and the vertex coordinates of the second layer of the functional block do not shift. Is set to a desired value, the second layer wiring can pass over the wirable area of the functional block.

[実施例] 以下、図面を用いながら本発明に係る集積回路用多層
配線コンパクション法の好適な実施例を第6図に示され
た2層配線レイアウトのコンパクションを行う場合を例
にとり説明する。第1図は本実施例のフローチャートで
あり、まず、レイアウトデータ作成プロセス10にて後述
するレイアウトデータを作成する。そして、コンパクシ
ョン方向等の初期パラメータを設定し(プロセス12)、
線分データを作成する(プロセス14)。その後、作成さ
れた線分データより有向グラフを作成して直交する2方
向(OX及びOY)へコンパクションを行い(プロセス16〜
28)、CADデータに変換する(プロセス30)一連のプロ
セスよりなっている。
[Embodiment] A preferred embodiment of the multilayer wiring compaction method for an integrated circuit according to the present invention will be described below with reference to the drawings, taking as an example the case of performing the compaction of the two-layer wiring layout shown in FIG. FIG. 1 is a flowchart of the present embodiment. First, layout data creation process 10 creates layout data, which will be described later. Then, set initial parameters such as compaction direction (process 12),
Create line segment data (process 14). After that, a directed graph is created from the created line segment data and compaction is performed in two orthogonal directions (OX and OY) (process 16-
28), consisting of a series of processes for converting to CAD data (process 30).

第2図にレイアウト作成プロセス10における機能ブロ
ックのデータフォーマットを示す。図に示すように、機
能ブロックに対しては機能ブロック名、機能ブロックの
原点座標(基準座標)及び各層毎の機能ブロックの頂点
座標(相対座標)のデータファイルを予め作成してお
く。原点座標は機能ブロックの位置を表わす座標であ
り、一の機能ブロックに対して各層共通の値である。一
方、頂点座標は機能ブロックのサイズを表わす値であ
り、この値を各層毎に設定することにより一の機能ブロ
ックの各層におけるサイズを設定することができる。本
実施例においては、前記した第6図のレイアウトにおけ
る機能ブロックA、Bに対し機能ブロックA、B内の配
線禁止領域を考慮して設定しファイルを作成した。一
方、配線に関しては従来と同様に配線層と端点座標を入
力しファイルを作成した。第3図に第2図に示されたレ
イアウトデータを元に作成された機能ブロックの線分デ
ータを図示している。図において実線(a,d,e,f,i)は
1層目の、破線(b,c,g,h)は2層目の線分データを表
わしており、機能ブロックAの2層目の線分データgは
ブロック内に設定されている。
FIG. 2 shows a data format of functional blocks in the layout creating process 10. As shown in the figure, for the functional blocks, a data file of the functional block name, the origin coordinates (reference coordinates) of the functional blocks, and the vertex coordinates (relative coordinates) of the functional blocks for each layer is created in advance. The origin coordinate is a coordinate indicating the position of the functional block, and is a value common to each layer for one functional block. On the other hand, the vertex coordinates are a value indicating the size of the functional block, and by setting this value for each layer, the size of one functional block in each layer can be set. In this embodiment, the function blocks A and B in the layout shown in FIG. 6 are set in consideration of the wiring prohibited areas in the function blocks A and B to create a file. On the other hand, regarding the wiring, the file was created by inputting the wiring layer and the end point coordinates as in the conventional case. FIG. 3 shows line segment data of a functional block created based on the layout data shown in FIG. In the figure, the solid line (a, d, e, f, i) represents the line segment data of the first layer, and the broken line (b, c, g, h) represents the line segment data of the second layer. The line segment data g is set in the block.

この機能ブロックの線分データ及び配線の線分データ
を元に有向グラフを作成すると、2層目の配線に対応す
る線分データkは同じ2層目の機能ブロックの線分デー
タgとの間に枝ができ、また機能ブロックの1層目と2
層目の線分データ間は距離固定の枝ができ、結局第4図
に示す有向グラフとなる。
When a directed graph is created based on the line segment data of the functional block and the line segment data of the wiring, the line segment data k corresponding to the second layer wiring is between the line segment data g of the same second layer functional block. There are branches, and the first and second layers of functional blocks
A fixed distance branch is formed between the line segment data of the layer, and the result is the directed graph shown in FIG.

そして、この有向グラフを元にコンパクションを行う
とa,d,j,l,m,f,iで示される各線分データは従来と同様
にコンパクションされるが、2層目の配線に対応する線
分データkは機能ブロックAの2層目の線分データgと
の間にデザインルールで規定される枝が存在するのみで
あり、機能ブロックAの線分データeを越えてコンパク
ションされる。
Then, when the compaction is performed based on this directed graph, each line segment data indicated by a, d, j, l, m, f, i is compacted as in the conventional case, but the line segment corresponding to the second layer wiring is The data k only has a branch defined by the design rule between the second-layer line segment data g of the functional block A and is compacted beyond the line segment data e of the functional block A.

第5図(B)に本実施例のコンパクション結果をCAD
データに変換した結果を示す。同図(A)に示した従来
のコンパクション結果と比較すると、2層目の配線kが
機能ブロックAの上を通過し、コンパクションが効率良
く行われていることがわかる。
The compaction result of this embodiment is shown in FIG.
The result of conversion into data is shown. Comparing with the conventional compaction result shown in FIG. 3A, it is understood that the wiring k of the second layer passes over the functional block A and the compaction is performed efficiently.

なお、本実施例においては2層配線の場合を示した
が、機能ブロックの各頂点の相対座標を3層、4層に設
定することにより2層以上の多層配線にも適用できるこ
とはいうまでもない。
Although the case of the two-layer wiring is shown in this embodiment, it is needless to say that the present invention can be applied to the multi-layer wiring of two or more layers by setting the relative coordinates of the vertices of the functional block to three layers or four layers. Absent.

[発明の効果] 以上説明したように、本発明によれば多層配線レイア
ウトにおいて多層配線のコンパクションを行う際に機能
ブロック上をも配線することができ、コンパクション効
率を向上させることができる。
[Effects of the Invention] As described above, according to the present invention, when performing the compaction of the multi-layer wiring in the multi-layer wiring layout, the wiring can be provided even on the functional block, and the compaction efficiency can be improved.

【図面の簡単な説明】 第1図は本発明に係る集積回路用多層配線コンパクショ
ン法の一実施例のフローチャート図、 第2図は同実施例における機能ブロックのレイアウトデ
ータのフォーマットを示す説明図、 第3図は同実施例における機能ブロックの線分データ説
明図、 第4図は同実施例における有向グラフ図、 第5図はコンパクション後のレイアウトを示す説明図、 第6図は初期レイアウトの説明図、 第7図は第6図の初期レイアウトにおける従来の多層配
線コンパクション法における有向グラフ図、 第8図は従来のコンパクション法によるコンパクション
結果の説明図である。 10……レイアウトデータ作成プロセス 14,22……線分データ作成プロセス 16,24……有向データ作成プロセス 18,26……コンパクションプロセス
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a flow chart of an embodiment of a multilayer wiring compaction method for integrated circuits according to the present invention, and FIG. 2 is an illustration showing a format of layout data of functional blocks in the embodiment, FIG. 3 is an explanatory diagram of line segment data of functional blocks in the same embodiment, FIG. 4 is a directed graph diagram in the same embodiment, FIG. 5 is an explanatory diagram showing a layout after compaction, and FIG. 6 is an explanatory diagram of an initial layout. FIG. 7 is a directed graph diagram in the conventional multilayer wiring compaction method in the initial layout of FIG. 6, and FIG. 8 is an explanatory diagram of the compaction result by the conventional compaction method. 10 …… Layout data creation process 14,22 …… Line segment data creation process 16,24 …… Directed data creation process 18,26 …… Compaction process

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 滝井 孝明 京都府京都市右京区西院溝崎町21番地 ロ ーム株式会社内 (56)参考文献 特開 昭62−115740(JP,A) 特開 昭62−274638(JP,A) 特開 昭57−113254(JP,A) 特開 平2−89343(JP,A) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Takaaki Takai, Inventor Takaaki Takai, 21 Mizozaki-cho, Saiin, Ukyo-ku, Kyoto, Japan (56) References JP 62-115740 (JP, A) JP 62 -274638 (JP, A) JP-A-57-113254 (JP, A) JP-A-2-89343 (JP, A)

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】半導体チップ上に形成された機能ブロック
の位置を表わす各層共通の基準座標と多層配線層の各層
毎にその機能ブロックの配線禁止領域を考慮して設定さ
れた前記機能ブロックのサイズを表わす頂点座標と前記
機能ブロック間を接続する配線の端点座標を入力してフ
ァイルを作成するレイアウトデータ作成プロセスと、 このプロセスで作成されたレイアウトデータに基づき、
各層毎に前記基準座標及び頂点座標から機能ブロックに
関する線分データを作成するとともに配線に関する線分
データを作成する線分データ作成プロセスと、 このプロセスで作成された各層毎の線分データに基づ
き、同一層内の線分データ間にはデザインルールに規定
される枝を有するとともに、異なる層の機能ブロックに
関する線分データ間には距離固定の枝を有する有向グラ
フを作成する有向グラフ作成プロセスと、 このプロセスで作成された有向グラフを用いて全ての層
の機能ブロック及び配線のレイアウトを一括してコンパ
クト化するコンパクションプロセスと、 を有し、機能ブロックに対応する線分データを各層毎に
設定してコンパクションを行うことを特徴とする集積回
路用多層配線コンパクション法。
1. A size of the functional block set in consideration of a wiring prohibition area of the functional block for each layer of a multilayer wiring layer and reference coordinates common to each layer indicating a position of the functional block formed on a semiconductor chip. Based on the layout data created in this process, the layout data creation process that creates a file by inputting the vertex coordinates that represent the
Based on the line segment data creation process that creates line segment data related to functional blocks from the reference coordinates and vertex coordinates for each layer and line data related to wiring, and line segment data for each layer created in this process, A directed graph creation process for creating a directed graph having branches defined by design rules between line segment data in the same layer and fixed distances between line segment data relating to functional blocks of different layers, and this process The compaction process that collectively compacts the functional block and wiring layouts of all layers by using the directed graph created in step 1. is set, and the line segment data corresponding to the functional block is set for each layer for compaction. A multilayer wiring compaction method for integrated circuits, which is characterized by being performed.
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