JPH0821357B2 - イオン注入装置におけるイオンビーム調整状態確認装置 - Google Patents
イオン注入装置におけるイオンビーム調整状態確認装置Info
- Publication number
- JPH0821357B2 JPH0821357B2 JP62336240A JP33624087A JPH0821357B2 JP H0821357 B2 JPH0821357 B2 JP H0821357B2 JP 62336240 A JP62336240 A JP 62336240A JP 33624087 A JP33624087 A JP 33624087A JP H0821357 B2 JPH0821357 B2 JP H0821357B2
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- Japan
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- ion
- pattern
- ion beam
- ion current
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Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、イオン注入される試料面におけるイオンビ
ームの調整状態を確認するイオン注入装置におけるイオ
ンビーム調整状態確認装置に関する。
ームの調整状態を確認するイオン注入装置におけるイオ
ンビーム調整状態確認装置に関する。
（従来の技術） 従来、第５図示のように、イオン源ａ、分析マグネッ
トｂ及び加速管ｃを経て射出された特定のイオンビーム
ｄを、レンズ、スキャン箱ｅにおいてイオンビームと直
角のＸ方向に第６図（Ａ）に示すような波形のスキャン
電圧でスキャンし、Ｙ方向に第６図（Ｂ）に示すような
波形及びＸ方向よりは短い周期のスキャン電圧でスキャ
ンして注入室ｆ内の試料ｇ面に照射し、該試料面にイオ
ンを注入するイオン注入装置において、前記試料ｇの位
置にスキャンされたイオンビームのイオン電流をＹ方向
へのスキャン毎に積分する電流積分器（図示しない）を
試料ｇと置換して配置し、その電流積分器の出力（第６
図（Ｃ））を、例えばＸ方向のスキャン電圧を横軸スキ
ャン電圧としてオシロスコープ上に例えば第７図示のよ
うに表示させ、表示されたビーム波形の形状から試料ｇ
におけるイオンビームの調整状態をオペレータが確認し
ていた。
トｂ及び加速管ｃを経て射出された特定のイオンビーム
ｄを、レンズ、スキャン箱ｅにおいてイオンビームと直
角のＸ方向に第６図（Ａ）に示すような波形のスキャン
電圧でスキャンし、Ｙ方向に第６図（Ｂ）に示すような
波形及びＸ方向よりは短い周期のスキャン電圧でスキャ
ンして注入室ｆ内の試料ｇ面に照射し、該試料面にイオ
ンを注入するイオン注入装置において、前記試料ｇの位
置にスキャンされたイオンビームのイオン電流をＹ方向
へのスキャン毎に積分する電流積分器（図示しない）を
試料ｇと置換して配置し、その電流積分器の出力（第６
図（Ｃ））を、例えばＸ方向のスキャン電圧を横軸スキ
ャン電圧としてオシロスコープ上に例えば第７図示のよ
うに表示させ、表示されたビーム波形の形状から試料ｇ
におけるイオンビームの調整状態をオペレータが確認し
ていた。
例えば、第８図（Ａ）に示すように、イオンビーム波
形の立上りの傾きと立下りの傾きが異なっているとき、
あるいは、第８図（Ｂ）に示すようにイオンビーム波形
の立上りと立下りの中間部に傾きがあるときは、ビーム
集束に異常があるときであり、第８図（Ｃ）に示すよう
に、スキャン幅Ｗに対してイオンビーム波形が偏った位
置にあるときはスキャンに異常があるときであり、第８
図（Ｄ）に示すように、イオンビーム波形の全幅がスキ
ャン幅Ｗとほぼ同じときはオーバースキャンが不足して
いることを示している。オーバースキャンは試料の大き
さに対して余分にスキャンすることを意味し、このよう
にすることは、試料の端部に注入するイオンがスキャン
電圧の変動に拘らず常に中央部と同じにするために必要
な条件である。
形の立上りの傾きと立下りの傾きが異なっているとき、
あるいは、第８図（Ｂ）に示すようにイオンビーム波形
の立上りと立下りの中間部に傾きがあるときは、ビーム
集束に異常があるときであり、第８図（Ｃ）に示すよう
に、スキャン幅Ｗに対してイオンビーム波形が偏った位
置にあるときはスキャンに異常があるときであり、第８
図（Ｄ）に示すように、イオンビーム波形の全幅がスキ
ャン幅Ｗとほぼ同じときはオーバースキャンが不足して
いることを示している。オーバースキャンは試料の大き
さに対して余分にスキャンすることを意味し、このよう
にすることは、試料の端部に注入するイオンがスキャン
電圧の変動に拘らず常に中央部と同じにするために必要
な条件である。
（発明が解決しようとする問題点） 以上のように、イオンビームの調整が充分か否かの判
断はオシロスコープ上のイオンビーム波形を見てオペレ
ータが行なうため、オペレータの習熟度の違いにより製
品の特性にばらつきが発生するという問題があった。
断はオシロスコープ上のイオンビーム波形を見てオペレ
ータが行なうため、オペレータの習熟度の違いにより製
品の特性にばらつきが発生するという問題があった。
本発明は、このような問題を解消するイオン注入装置
におけるイオンビーム調整状態確認装置を提供すること
をその目的とするものである。
におけるイオンビーム調整状態確認装置を提供すること
をその目的とするものである。
（問題点を解決するための手段） 本発明は、上記の目的を達成するために、特定のイオ
ンビームを、該イオンビーム方向と直角のＸ方向及びＹ
方向にスキャンして試料面に照射し、該試料面にイオン
を注入するイオン注入装置におけるイオンビーム調整状
態確認装置において、前記試料の位置に配置されスキャ
ンされたイオンビームのイオン電流をスキャン毎に積分
する電流積分器と、スキャン電圧と該電流積分器から出
力したイオン電流とからデータ処理を行ない、スキャン
に対するイオン電流パターンのディジタルデータを得
て、これを最小二乗法により直線近似させ、これから、
立上りの直線の傾き、立下りの直線の傾き、立上りと立
下りの中間部の傾き、パターン幅に対するスキャン始点
とパターン始点間長さの大きさ、パターン幅に対するパ
ターン終点とスキャン終点間長さの大きさ及びスキャン
幅に対するパターン中心とスキャン終点間長さの大きさ
から成るイオン電流パターンの形状情報を得る変換手段
と、イオンビームが試料全面に均等に入射したときのイ
オン電流パターンの形状情報を基準データとして記憶す
る記憶手段と、前記変換手段で得られたイオン電流パタ
ーンの形状情報が前記記憶手段に記憶された基準データ
としての形状情報からあらかじめ定めた判断基準内に入
っているか否かを判断する判断手段とを具備することを
特徴とする。
ンビームを、該イオンビーム方向と直角のＸ方向及びＹ
方向にスキャンして試料面に照射し、該試料面にイオン
を注入するイオン注入装置におけるイオンビーム調整状
態確認装置において、前記試料の位置に配置されスキャ
ンされたイオンビームのイオン電流をスキャン毎に積分
する電流積分器と、スキャン電圧と該電流積分器から出
力したイオン電流とからデータ処理を行ない、スキャン
に対するイオン電流パターンのディジタルデータを得
て、これを最小二乗法により直線近似させ、これから、
立上りの直線の傾き、立下りの直線の傾き、立上りと立
下りの中間部の傾き、パターン幅に対するスキャン始点
とパターン始点間長さの大きさ、パターン幅に対するパ
ターン終点とスキャン終点間長さの大きさ及びスキャン
幅に対するパターン中心とスキャン終点間長さの大きさ
から成るイオン電流パターンの形状情報を得る変換手段
と、イオンビームが試料全面に均等に入射したときのイ
オン電流パターンの形状情報を基準データとして記憶す
る記憶手段と、前記変換手段で得られたイオン電流パタ
ーンの形状情報が前記記憶手段に記憶された基準データ
としての形状情報からあらかじめ定めた判断基準内に入
っているか否かを判断する判断手段とを具備することを
特徴とする。
（作用） 変換手段において、スキャン電圧と、電流積分器から
出力したイオン電流とからデータ処理を行ない、スキャ
ンに対するイオン電流パターンのディジタルデータを得
て、これを最小二乗法により直線近似させ、これから、
立上りの直線の傾き、立下りの直線の傾き、立上りと立
下りの中間部の傾き、パターン幅に対するスキャン始点
とパターン始点間長さの大きさ、パターン幅に対するパ
ターン終点とスキャン終点間長さの大きさ及びスキャン
幅に対するパターン中心とスキャン終点間長さの大きさ
から成るイオン電流パターンの形状情報を得て、これ
が、記憶手段に記憶された基準データとしての形状情報
からあらかじめ定めた判断基準内に入っているか否かを
判断手段で判断する。
出力したイオン電流とからデータ処理を行ない、スキャ
ンに対するイオン電流パターンのディジタルデータを得
て、これを最小二乗法により直線近似させ、これから、
立上りの直線の傾き、立下りの直線の傾き、立上りと立
下りの中間部の傾き、パターン幅に対するスキャン始点
とパターン始点間長さの大きさ、パターン幅に対するパ
ターン終点とスキャン終点間長さの大きさ及びスキャン
幅に対するパターン中心とスキャン終点間長さの大きさ
から成るイオン電流パターンの形状情報を得て、これ
が、記憶手段に記憶された基準データとしての形状情報
からあらかじめ定めた判断基準内に入っているか否かを
判断手段で判断する。
（実施例） 以下本発明の実施例を図面につき説明する。
第１図は本発明の一実施例のブロック図を示す。同図
において、１はＸスキャン電源及びＹスキャン電源から
成るスキャン電源で、該スキャン電源１はスキャン電源
制御部２により制御され、Ｘスキャンプレート及びＹス
キャンプレートに所定値のＸスキャン電圧及びＹスキャ
ン電圧を供給すると共にスキャンモニタ（オシロスコー
プ）３の横軸にスキャン電圧を供給するようになってお
り、更にＡ−Ｄ変換及びストレッジ回路４にリレー接点
5a又は6aを介してＸスキャン電圧又はＹスキャン電圧を
供給するように接続されている。該Ａ−Ｄ変換及びスト
レッジ回路４は、前記Ｘスキャン電圧（又はＹスキャン
電圧）と電流積分器７から出力するイオン電流をＡ−Ｄ
変換とすると共にラッチした後、コンピュータ８に供給
する。前記リレー接点5a、6aはコンピュータ８により制
御されるリレー５、６の接点である。電流積分器７は試
料と同じ大きさを有するファラディカップであり、これ
に入射するイオンビームを例えばＹ方向へのスキャン毎
に積分して出力するもので、出力したイオン電流は、前
記スキャンモニタ３のオシロスコープで、第７図示のよ
うに、例えばＸスキャン電圧によりスキャンされて表示
される。このオシロスコープによる表示は従来行なって
おり、本実施例では補助用として使用される。
において、１はＸスキャン電源及びＹスキャン電源から
成るスキャン電源で、該スキャン電源１はスキャン電源
制御部２により制御され、Ｘスキャンプレート及びＹス
キャンプレートに所定値のＸスキャン電圧及びＹスキャ
ン電圧を供給すると共にスキャンモニタ（オシロスコー
プ）３の横軸にスキャン電圧を供給するようになってお
り、更にＡ−Ｄ変換及びストレッジ回路４にリレー接点
5a又は6aを介してＸスキャン電圧又はＹスキャン電圧を
供給するように接続されている。該Ａ−Ｄ変換及びスト
レッジ回路４は、前記Ｘスキャン電圧（又はＹスキャン
電圧）と電流積分器７から出力するイオン電流をＡ−Ｄ
変換とすると共にラッチした後、コンピュータ８に供給
する。前記リレー接点5a、6aはコンピュータ８により制
御されるリレー５、６の接点である。電流積分器７は試
料と同じ大きさを有するファラディカップであり、これ
に入射するイオンビームを例えばＹ方向へのスキャン毎
に積分して出力するもので、出力したイオン電流は、前
記スキャンモニタ３のオシロスコープで、第７図示のよ
うに、例えばＸスキャン電圧によりスキャンされて表示
される。このオシロスコープによる表示は従来行なって
おり、本実施例では補助用として使用される。
コンピュータ８は、前述の変換手段及び判断手段を構
成するCPUと記憶手段を構成するメモリとから成り、CPU
において、取り込んだイオン電流と例えばＸスキャン電
圧とからデータ処理を行ない、例えばＸ方向のスキャン
に対するイオン電流の大きさの分布を示すイオン電流パ
ターンに変換する。データ処理としては、各スキャン
Ｉ、II、III、IV（第２図（Ａ）のイオン電流（第２図
（Ｂ）を重ねる。すなわち、スキャンII、IVのイオン電
流については反転してスキャンＩのイオン電流に重ね、
スキャンIIIのイオン電流はそのままスキャンＩのイオ
ン電流に重ねて平均化した、第２図（Ｃ）に示すような
例えばＸ方向へのスキャンに対するイオン電流の大きさ
の分布を示すイオン電流パターンのデイジタルデータを
得る。
成するCPUと記憶手段を構成するメモリとから成り、CPU
において、取り込んだイオン電流と例えばＸスキャン電
圧とからデータ処理を行ない、例えばＸ方向のスキャン
に対するイオン電流の大きさの分布を示すイオン電流パ
ターンに変換する。データ処理としては、各スキャン
Ｉ、II、III、IV（第２図（Ａ）のイオン電流（第２図
（Ｂ）を重ねる。すなわち、スキャンII、IVのイオン電
流については反転してスキャンＩのイオン電流に重ね、
スキャンIIIのイオン電流はそのままスキャンＩのイオ
ン電流に重ねて平均化した、第２図（Ｃ）に示すような
例えばＸ方向へのスキャンに対するイオン電流の大きさ
の分布を示すイオン電流パターンのデイジタルデータを
得る。
次いで、このデータを最小二乗法により直線近似さ
せ、これからイオン電流パターンの形状情報を得る。
せ、これからイオン電流パターンの形状情報を得る。
形状情報としては、第３図示のように、（１）立上り
の直線ａの傾き、（２）立下りの直線ｃの傾き、（３）
立上りの立下りの中間部ｂの傾き、（４）パターン幅Ｅ
に対するスキャン始点とパターン始点間長さＡの大き
さ、（５）パターン幅Ｅに対するパターン終点とスキャ
ン終点間長さｃの大きさ、（６）スキャン幅Ｄに対する
パターン中心とスキャン終点間長さＢの大きさ等があ
る。
の直線ａの傾き、（２）立下りの直線ｃの傾き、（３）
立上りの立下りの中間部ｂの傾き、（４）パターン幅Ｅ
に対するスキャン始点とパターン始点間長さＡの大き
さ、（５）パターン幅Ｅに対するパターン終点とスキャ
ン終点間長さｃの大きさ、（６）スキャン幅Ｄに対する
パターン中心とスキャン終点間長さＢの大きさ等があ
る。
該情報（１）（２）（３）は、前述のように、イオン
ビームの集束の異常についての判断資料を、情報（４）
（５）はオーバースキャンについての判断資料を、更に
情報（６）はDCオフセットすなわちスキャンの異常につ
いての判断資料をそれぞれ提供するものである。
ビームの集束の異常についての判断資料を、情報（４）
（５）はオーバースキャンについての判断資料を、更に
情報（６）はDCオフセットすなわちスキャンの異常につ
いての判断資料をそれぞれ提供するものである。
コンピュータ８のメモリには、イオンビームが試料全
面に均等に入射したときの前述のような形状情報が基準
データとして記憶されているから、この基準データから
予め定めた判断基準内に、データ処理により得たイオン
電流パターンの形状情報が入っているか否かをコンピュ
ータのCPUにおいて判断する。
面に均等に入射したときの前述のような形状情報が基準
データとして記憶されているから、この基準データから
予め定めた判断基準内に、データ処理により得たイオン
電流パターンの形状情報が入っているか否かをコンピュ
ータのCPUにおいて判断する。
リレー５の接点5aが閉成された状態で行なわれた以上
の判断が終了した後、コンピュータ８によりリレー５が
消勢されリレー６が付勢されて、リレー接点5aが開成さ
れリレー接点6aが閉成される。かくて、Ａ−Ｄ変換及び
ストレッジ回路４にはＹスキャン電圧とイオン電流が入
力する。このときのＹスキャン電圧とイオン電流の関係
は第４図（Ａ）及び（Ｂ）に示す通りで、試料の中央で
最大となり、端部にいくに従って小さくなる。場合につ
いても前述と同じようなデータ処理を行ない、第４図
（Ｃ）に示すようなＹ方向へのスキャンに対するイオン
電流の大きさの分布を示すイオン電流パターンのデイジ
タルデータを得て、これからイオン電流パターンの形状
情報を得る。このイオン電流パターンの形状情報からイ
オンビームの調整状態の良否を判断する手順は前述と同
じである。
の判断が終了した後、コンピュータ８によりリレー５が
消勢されリレー６が付勢されて、リレー接点5aが開成さ
れリレー接点6aが閉成される。かくて、Ａ−Ｄ変換及び
ストレッジ回路４にはＹスキャン電圧とイオン電流が入
力する。このときのＹスキャン電圧とイオン電流の関係
は第４図（Ａ）及び（Ｂ）に示す通りで、試料の中央で
最大となり、端部にいくに従って小さくなる。場合につ
いても前述と同じようなデータ処理を行ない、第４図
（Ｃ）に示すようなＹ方向へのスキャンに対するイオン
電流の大きさの分布を示すイオン電流パターンのデイジ
タルデータを得て、これからイオン電流パターンの形状
情報を得る。このイオン電流パターンの形状情報からイ
オンビームの調整状態の良否を判断する手順は前述と同
じである。
（発明の効果） 以上説明したように、本発明によるときは、試料に入
射するイオンビームの調整状態の確認をオペレータの習
熟度に無関係に且つ熟練オペレータと同等又はそれ以上
の正確さで行なうことができ、また作業能率が向上する
効果を有する。
射するイオンビームの調整状態の確認をオペレータの習
熟度に無関係に且つ熟練オペレータと同等又はそれ以上
の正確さで行なうことができ、また作業能率が向上する
効果を有する。
第１図は本発明の一実施例のブロック図、第２図、第３
図並びに第４図はいずれも本発明の作動を説明するため
の線図、第５図はイオン注入装置の構成を示す線図、第
６図、第７図及び第８図（Ａ）（Ｂ）（Ｃ）及び（Ｄ）
はいずれも従来のものの作動を説明するための線図であ
る。 １……スキャン電源 ４……Ａ−Ｄ変換及びストレッジ回路 ５、６……リレー ７……電流積分器 ８……コンピュータ
図並びに第４図はいずれも本発明の作動を説明するため
の線図、第５図はイオン注入装置の構成を示す線図、第
６図、第７図及び第８図（Ａ）（Ｂ）（Ｃ）及び（Ｄ）
はいずれも従来のものの作動を説明するための線図であ
る。 １……スキャン電源 ４……Ａ−Ｄ変換及びストレッジ回路 ５、６……リレー ７……電流積分器 ８……コンピュータ
Claims (1)
- 【請求項１】特定のイオンビームを、該イオンビーム方
向と直角のＸ方向及びＹ方向にスキャンして試料面に照
射し、該試料面にイオンを注入するイオン注入装置にお
けるイオンビーム調整状態確認装置において、前記試料
の位置に配置されスキャンされたイオンビームのイオン
電流をスキャン毎に積分する電流積分器と、スキャン電
圧と該電流積分器から出力したイオン電流とからデータ
処理を行ない、スキャンに対するイオン電流パターンの
ディジタルデータを得て、これを最小二乗法により直線
近似させ、これから、立上りの直線の傾き、立下りの直
線の傾き、立上りと立下りの中間部の傾き、パターン幅
に対するスキャン始点とパターン始点間長さの大きさ、
パターン幅に対するパターン終点とスキャン終点間長さ
の大きさ及びスキャン幅に対するパターン中心とスキャ
ン終点間長さの大きさから成るイオン電流パターンの形
状情報を得る変換手段と、イオンビームが試料全面に均
等に入射したときのイオン電流パターンの形状情報を基
準データとして記憶する記憶手段と、前記変換手段で得
られたイオン電流パターンの形状情報が前記記憶手段に
記憶された基準データとしての形状情報からあらかじめ
定めた判断基準内に入っているか否かを判断する判断手
段とを具備することを特徴とするイオン注入装置におけ
るイオンビーム調整状態確認装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62336240A JPH0821357B2 (ja) | 1987-12-29 | 1987-12-29 | イオン注入装置におけるイオンビーム調整状態確認装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62336240A JPH0821357B2 (ja) | 1987-12-29 | 1987-12-29 | イオン注入装置におけるイオンビーム調整状態確認装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01176650A JPH01176650A (ja) | 1989-07-13 |
| JPH0821357B2 true JPH0821357B2 (ja) | 1996-03-04 |
Family
ID=18297086
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62336240A Expired - Lifetime JPH0821357B2 (ja) | 1987-12-29 | 1987-12-29 | イオン注入装置におけるイオンビーム調整状態確認装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0821357B2 (ja) |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6016704B2 (ja) * | 1979-06-20 | 1985-04-26 | 日本真空技術株式会社 | イオン注入装置のビ−ム監視装置 |
| JPH0722852Y2 (ja) * | 1986-06-16 | 1995-05-24 | 日新電機株式会社 | イオン注入装置用ビ−ムモニタ |
| JPS63128540A (ja) * | 1986-11-17 | 1988-06-01 | Shimadzu Corp | イオン注入装置 |
-
1987
- 1987-12-29 JP JP62336240A patent/JPH0821357B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01176650A (ja) | 1989-07-13 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
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