JPH08201604A - レーザ光の減衰装置 - Google Patents
レーザ光の減衰装置Info
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- JPH08201604A JPH08201604A JP1440795A JP1440795A JPH08201604A JP H08201604 A JPH08201604 A JP H08201604A JP 1440795 A JP1440795 A JP 1440795A JP 1440795 A JP1440795 A JP 1440795A JP H08201604 A JPH08201604 A JP H08201604A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】減衰フィルタを破損させずに、高出力のレーザ
光を効率良く減衰させることができ、高出力のレーザ発
振器から低出力のレーザ光を安定して得ることができる
レーザ光の減衰装置を提供する。 【構成】この減衰装置は、レーザ発振器１１から出力さ
れるレーザ光の光路に減衰フィルタ２ａ，２ｂ，２ｃを
配置し、レーザ光を減衰フィルタ２ａ，２ｂ，２ｃに透
過させて減衰させるレーザ光の減衰装置である。減衰フ
ィルタ２ａ，２ｂ，２ｃの前面及び背面に冷却水を直接
接触させて冷却する水冷室４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄが減
衰フィルタ２ａ，２ｂ，２ｃの前後に設けられる。
光を効率良く減衰させることができ、高出力のレーザ発
振器から低出力のレーザ光を安定して得ることができる
レーザ光の減衰装置を提供する。 【構成】この減衰装置は、レーザ発振器１１から出力さ
れるレーザ光の光路に減衰フィルタ２ａ，２ｂ，２ｃを
配置し、レーザ光を減衰フィルタ２ａ，２ｂ，２ｃに透
過させて減衰させるレーザ光の減衰装置である。減衰フ
ィルタ２ａ，２ｂ，２ｃの前面及び背面に冷却水を直接
接触させて冷却する水冷室４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄが減
衰フィルタ２ａ，２ｂ，２ｃの前後に設けられる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、レーザー加工機等に使
用され、レーザ発振器から出力されるレーザ光を安定し
て減衰させる減衰装置に関する。
用され、レーザ発振器から出力されるレーザ光を安定し
て減衰させる減衰装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】例えば、超４００Ｗ級の高出力ＹＡＧレ
ーザを出力するレーザ加工機では、各種の条件の加工を
行う必要性から、レーザ出力を数Ｗ程度の低出力に落し
て加工を行う場合がある。
ーザを出力するレーザ加工機では、各種の条件の加工を
行う必要性から、レーザ出力を数Ｗ程度の低出力に落し
て加工を行う場合がある。
【０００３】このような場合、レーザ発振器の放電電流
や電圧等を調整して、レーザ発振器の出力を低下させ、
低出力のレーザ光とすることが行われているが、レーザ
発振器の放電電流等を下げて出力を低くした場合、レー
ザ出力が不安定となり、精密な微細加工ができなくなる
問題があった。
や電圧等を調整して、レーザ発振器の出力を低下させ、
低出力のレーザ光とすることが行われているが、レーザ
発振器の放電電流等を下げて出力を低くした場合、レー
ザ出力が不安定となり、精密な微細加工ができなくなる
問題があった。
【０００４】このため、従来では、レーザ発振器の出力
を、安定出力が得られる高出力に設定しておき、レーザ
発振器から出力されたレーザ光の光路に減衰フィルタを
配置し、レーザ光を減衰フィルタに透過させて、目的の
出力まで減衰させる方法がとられていた。
を、安定出力が得られる高出力に設定しておき、レーザ
発振器から出力されたレーザ光の光路に減衰フィルタを
配置し、レーザ光を減衰フィルタに透過させて、目的の
出力まで減衰させる方法がとられていた。
【０００５】しかし、高出力のレーザ光を減衰率の比較
的大きい減衰フィルタに通して減衰させた場合、減衰フ
ィルタ自体が高温に加熱され、短時間でフィルタが破損
するという問題が生じていた。
的大きい減衰フィルタに通して減衰させた場合、減衰フ
ィルタ自体が高温に加熱され、短時間でフィルタが破損
するという問題が生じていた。
【０００６】一方、減衰フィルタにワイヤスクリーンを
使用し、レーザ光の回折や反射によりレーザ光を減衰さ
せる技術が、ＵＳＰ４，５６１，７２１等により提案さ
れているが、この場合でも、ワイヤスクリーンやそのハ
ウジングの温度上昇が著しく、機器の破損や寿命の低下
を招く問題があった。
使用し、レーザ光の回折や反射によりレーザ光を減衰さ
せる技術が、ＵＳＰ４，５６１，７２１等により提案さ
れているが、この場合でも、ワイヤスクリーンやそのハ
ウジングの温度上昇が著しく、機器の破損や寿命の低下
を招く問題があった。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の点に
鑑みてなされたもので、減衰フィルタを破損させずに、
高出力のレーザ光を効率良く減衰させることができ、高
出力のレーザ発振器から低出力のレーザ光を安定して得
ることができるレーザ光の減衰装置を提供することを目
的とする。
鑑みてなされたもので、減衰フィルタを破損させずに、
高出力のレーザ光を効率良く減衰させることができ、高
出力のレーザ発振器から低出力のレーザ光を安定して得
ることができるレーザ光の減衰装置を提供することを目
的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明のレーザ光の減衰装置は、レーザ発振器から
出力されるレーザ光の光路に減衰フィルタを配置し、レ
ーザ光を減衰フィルタに透過させて減衰させるレーザ光
の減衰装置において、減衰フィルタの前面及び背面に冷
却水を直接接触させて冷却する水冷室が減衰フィルタの
前後に設けられていることを特徴とする。
に、本発明のレーザ光の減衰装置は、レーザ発振器から
出力されるレーザ光の光路に減衰フィルタを配置し、レ
ーザ光を減衰フィルタに透過させて減衰させるレーザ光
の減衰装置において、減衰フィルタの前面及び背面に冷
却水を直接接触させて冷却する水冷室が減衰フィルタの
前後に設けられていることを特徴とする。
【０００９】ここで、減衰フィルタは、間隔をおいて光
路上に複数枚を並設し、それらの減衰フィルタ間に水冷
室を設けるようにすることもできる。また、水冷室には
冷却水を循環させる冷却水循環路を連通・接続すること
もできる。さらに、冷却水循環路の一部にタンクを設
け、そのタンク内の冷却水を冷却する冷却ユニットを設
けるようにしてもよい。
路上に複数枚を並設し、それらの減衰フィルタ間に水冷
室を設けるようにすることもできる。また、水冷室には
冷却水を循環させる冷却水循環路を連通・接続すること
もできる。さらに、冷却水循環路の一部にタンクを設
け、そのタンク内の冷却水を冷却する冷却ユニットを設
けるようにしてもよい。
【００１０】
【作用・効果】このような構成の減衰装置では、レーザ
発振器から照射されたレーザ光が減衰フィルタを透過
し、レーザ光の光強度を減衰させるように使用される
が、この間、減衰フィルタはその前面及び背面が冷却水
に直接接して冷却されるため、温度上昇は効果的に抑制
され、加熱による減衰フィルタの破損は防止され、減衰
フィルタの寿命を伸ばすことができる。
発振器から照射されたレーザ光が減衰フィルタを透過
し、レーザ光の光強度を減衰させるように使用される
が、この間、減衰フィルタはその前面及び背面が冷却水
に直接接して冷却されるため、温度上昇は効果的に抑制
され、加熱による減衰フィルタの破損は防止され、減衰
フィルタの寿命を伸ばすことができる。
【００１１】さらに、複数のフィルタを並設して使用す
れ、段階的にレーザ光を減衰させることができ、各減衰
フィルタにおいてはレーザ光の減衰量を小さくできるた
め、比較的大きい減衰率でレーザ光を減衰させる場合で
も、急激な温度上昇を防止し、減衰フィルタの破損を防
止することができる。
れ、段階的にレーザ光を減衰させることができ、各減衰
フィルタにおいてはレーザ光の減衰量を小さくできるた
め、比較的大きい減衰率でレーザ光を減衰させる場合で
も、急激な温度上昇を防止し、減衰フィルタの破損を防
止することができる。
【００１２】さらに、タンク内の冷却水はポンプにより
加圧循環されるため、上記水冷チャンバ内には常に新鮮
な冷却水が循環することとなり、上記減衰フィルタの冷
却効果を向上させる。
加圧循環されるため、上記水冷チャンバ内には常に新鮮
な冷却水が循環することとなり、上記減衰フィルタの冷
却効果を向上させる。
【００１３】さらに、複数の減衰フィルタを円筒状のケ
ーシング内に間隔をおいて並設する場合、ケーシングを
複数のケーシング片に分割して形成し、複数のケーシン
グ片が各々減衰フィルタを保持するように組み付ける構
造とすれば、減衰フィルタの数を自由に変更し、減衰フ
ィルタの透過率の変更を自由に行うことができ、１台の
減衰装置で、減衰量を任意に且つ容易に設定することが
できる。
ーシング内に間隔をおいて並設する場合、ケーシングを
複数のケーシング片に分割して形成し、複数のケーシン
グ片が各々減衰フィルタを保持するように組み付ける構
造とすれば、減衰フィルタの数を自由に変更し、減衰フ
ィルタの透過率の変更を自由に行うことができ、１台の
減衰装置で、減衰量を任意に且つ容易に設定することが
できる。
【００１４】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。
する。
【００１５】図１はレーザ光の減衰装置の全体構成を示
している。減衰装置は、水冷式のフィルタ装置、冷却水
用のタンク、及び冷却水を供給する冷却水供給路とから
構成される。１はフィルタ装置のケーシングであリ、両
端を開口した円筒状に形成される。ケーシング１内に
は、５個の円周溝が間隔をおいて形成され、それらの円
周溝に嵌合させるように、２枚の透明ガラス３ａ，３ｂ
と３枚の減衰フィルタ２ａ，２ｂ，２ｃがケーシング１
内に嵌着される。
している。減衰装置は、水冷式のフィルタ装置、冷却水
用のタンク、及び冷却水を供給する冷却水供給路とから
構成される。１はフィルタ装置のケーシングであリ、両
端を開口した円筒状に形成される。ケーシング１内に
は、５個の円周溝が間隔をおいて形成され、それらの円
周溝に嵌合させるように、２枚の透明ガラス３ａ，３ｂ
と３枚の減衰フィルタ２ａ，２ｂ，２ｃがケーシング１
内に嵌着される。
【００１６】減衰フィルタ２ａ，２ｂ，２ｃには、波長
に拘らず一定の割合で光強度を弱め適当な光量の光を得
るＮＤフィルタ（ニュートラルデンシティフィルタ）が
使用され、ＮＤフィルタとしては、例えばクロメルの金
属蒸着フィルタ、或はＣｏ、Ｎｉを含む灰色フィルタを
使用することができる。
に拘らず一定の割合で光強度を弱め適当な光量の光を得
るＮＤフィルタ（ニュートラルデンシティフィルタ）が
使用され、ＮＤフィルタとしては、例えばクロメルの金
属蒸着フィルタ、或はＣｏ、Ｎｉを含む灰色フィルタを
使用することができる。
【００１７】３枚の減衰フィルタ２ａ，２ｂ，２ｃはケ
ーシング１の中央部に配置され、それらの減衰フィルタ
の外側（両側）に透明ガラス３ａと３ｂが配置される。
３枚の減衰フィルタ２ａ，２ｂ，２ｃは、例えば１／２
０の減衰率を実現する場合、各々、レーザ光の入射側よ
り、５０％、５０％、２０％の透過率を有するように構
成・配置される。このように、複数の減衰フィルタによ
り段階的にレーザ光を減衰させ、且つ出射側に透過率の
低い減衰フィルタ２ｃを配置することにより、フィルタ
の急激な温度上昇を防止し、その破損を防止することが
できる。
ーシング１の中央部に配置され、それらの減衰フィルタ
の外側（両側）に透明ガラス３ａと３ｂが配置される。
３枚の減衰フィルタ２ａ，２ｂ，２ｃは、例えば１／２
０の減衰率を実現する場合、各々、レーザ光の入射側よ
り、５０％、５０％、２０％の透過率を有するように構
成・配置される。このように、複数の減衰フィルタによ
り段階的にレーザ光を減衰させ、且つ出射側に透過率の
低い減衰フィルタ２ｃを配置することにより、フィルタ
の急激な温度上昇を防止し、その破損を防止することが
できる。
【００１８】一方、これらの透明ガラス３ａ，３ｂ、及
び減衰フィルタ２ａ，２ｂ，２ｃによって、ケーシング
１内には、４個の水冷室４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄが形成
され、冷却水が循環・供給される。
び減衰フィルタ２ａ，２ｂ，２ｃによって、ケーシング
１内には、４個の水冷室４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄが形成
され、冷却水が循環・供給される。
【００１９】即ち、透明ガラス３ａと減衰フィルタ２ａ
の間に水冷室４ａが形成され、減衰フィルタ２ａと減衰
フィルタ２ｂの間に水冷室４ｂが形成され、減衰フィル
タ２ｂと減衰フィルタ２ｃの間に水冷室４ｃが形成さ
れ、透明ガラス３ｂと減衰フィルタ２ｃの間に水冷室４
ｄが形成される。各透明ガラス、各減衰フィルタとケー
シング１との接合部は完全にシールされる。
の間に水冷室４ａが形成され、減衰フィルタ２ａと減衰
フィルタ２ｂの間に水冷室４ｂが形成され、減衰フィル
タ２ｂと減衰フィルタ２ｃの間に水冷室４ｃが形成さ
れ、透明ガラス３ｂと減衰フィルタ２ｃの間に水冷室４
ｄが形成される。各透明ガラス、各減衰フィルタとケー
シング１との接合部は完全にシールされる。
【００２０】そして、水冷室４ａと４ｂがケーシング１
内に設けた水路７ａにより連通され、水冷室４ｂと４ｃ
がケーシング１内に設けた水路７ｂにより連通され、水
冷室４ｃと４ｄがケーシング１内に設けた水路７ｃによ
り連通される。さらに、ケーシング１には冷却水用の導
入管６ａと導出管６ｂが接続され、導入管６ａが水冷室
４ａに連通し、導出管６ｂが水冷室４ｄに連通する。
内に設けた水路７ａにより連通され、水冷室４ｂと４ｃ
がケーシング１内に設けた水路７ｂにより連通され、水
冷室４ｃと４ｄがケーシング１内に設けた水路７ｃによ
り連通される。さらに、ケーシング１には冷却水用の導
入管６ａと導出管６ｂが接続され、導入管６ａが水冷室
４ａに連通し、導出管６ｂが水冷室４ｄに連通する。
【００２１】１０は冷却水用の水槽であり、水槽１０と
導入管６ａ間に配管５ａが接続され、水槽１０と導出管
６ｂ間にポンプ１４を設けた配管５ｂが接続され、これ
らの部材により冷却水循環路が形成される。そして、ポ
ンプ１４の作動により、水槽１０内の冷却水が、配管５
ａ，５ｂを通して水冷室４ａ〜４ｄ内に順に循環・供給
される。
導入管６ａ間に配管５ａが接続され、水槽１０と導出管
６ｂ間にポンプ１４を設けた配管５ｂが接続され、これ
らの部材により冷却水循環路が形成される。そして、ポ
ンプ１４の作動により、水槽１０内の冷却水が、配管５
ａ，５ｂを通して水冷室４ａ〜４ｄ内に順に循環・供給
される。
【００２２】水槽１０の底部には水槽内を冷却する冷却
ユニット８が取付けられ、この冷却ユニット８は温度調
節器９により冷却水の温度が所定の冷却温度となるよう
に制御される。１１はＹＡＧレーザ等のレーザ発振器で
あり、レーザ光Ｌを水冷式フィルタ装置の入射側に向け
て放射するように配置される。
ユニット８が取付けられ、この冷却ユニット８は温度調
節器９により冷却水の温度が所定の冷却温度となるよう
に制御される。１１はＹＡＧレーザ等のレーザ発振器で
あり、レーザ光Ｌを水冷式フィルタ装置の入射側に向け
て放射するように配置される。
【００２３】このように構成された減衰装置は、レーザ
加工機等のレーザ発振器１１の光路の前方に配置され、
高出力のレーザ光を低出力に落すために使用される。
加工機等のレーザ発振器１１の光路の前方に配置され、
高出力のレーザ光を低出力に落すために使用される。
【００２４】レーザ発振器１１が動作し、レーザ光を水
冷式フィルタ装置を通して照射する間、ポンプ１４が運
転され、水槽１０内の冷却水が、配管５ａ，５ｂを通し
て水冷室４ａ〜４ｄ内に順に循環・供給される。これに
より、減衰フィルタ２ａは水冷室４ａ，４ｂの冷却水に
直接接触することによって冷却され、同様に、減衰フィ
ルタ２ｂは水冷室４ｂ，４ｃの冷却水に接触して冷却さ
れ、さらに、減衰フィルタ２ｃは水冷室４ｃ，４ｄの冷
却水に接触して冷却される。
冷式フィルタ装置を通して照射する間、ポンプ１４が運
転され、水槽１０内の冷却水が、配管５ａ，５ｂを通し
て水冷室４ａ〜４ｄ内に順に循環・供給される。これに
より、減衰フィルタ２ａは水冷室４ａ，４ｂの冷却水に
直接接触することによって冷却され、同様に、減衰フィ
ルタ２ｂは水冷室４ｂ，４ｃの冷却水に接触して冷却さ
れ、さらに、減衰フィルタ２ｃは水冷室４ｃ，４ｄの冷
却水に接触して冷却される。
【００２５】レーザ発振器１１から放射されたレーザ光
は、各減衰フィルタ２ａ，２ｂ，２ｃを通過する際、各
々フィルタの持つ透過率に応じて徐々に段階的に減衰さ
れ、例えば、各減衰フィルタ２ａ，２ｂ，２ｃの透過率
が５０％、５０％、２０％に設定されている場合、各減
衰フィルタを透過したレーザ光は、約１／２０の光量に
減衰される。
は、各減衰フィルタ２ａ，２ｂ，２ｃを通過する際、各
々フィルタの持つ透過率に応じて徐々に段階的に減衰さ
れ、例えば、各減衰フィルタ２ａ，２ｂ，２ｃの透過率
が５０％、５０％、２０％に設定されている場合、各減
衰フィルタを透過したレーザ光は、約１／２０の光量に
減衰される。
【００２６】レーザ光の減衰部分は熱エネルギーに変換
され減衰フィルタ２ａ，２ｂ，２ｃを加熱するが、各減
衰フィルタ２ａ，２ｂ，２ｃは、水冷室４ａ〜４ｄを流
れる冷却水に接して効率良く冷却される。このため、そ
の温度上昇は防止され、減衰フィルタ２ａ，２ｂ，２ｃ
やケーシング１の熱による破損を防止することができ
る。
され減衰フィルタ２ａ，２ｂ，２ｃを加熱するが、各減
衰フィルタ２ａ，２ｂ，２ｃは、水冷室４ａ〜４ｄを流
れる冷却水に接して効率良く冷却される。このため、そ
の温度上昇は防止され、減衰フィルタ２ａ，２ｂ，２ｃ
やケーシング１の熱による破損を防止することができ
る。
【００２７】また、複数の減衰フィルタ２ａ，２ｂ，２
ｃにより段階的にレーザ光を減衰させ、且つ出射側に透
過率のより低い減衰フィルタ２ｃを配置しているため、
フィルタの急激な温度上昇を防止し、比較的大きい減衰
率でレーザ光を減衰させる場合でも、その破損を防止す
ることができる。
ｃにより段階的にレーザ光を減衰させ、且つ出射側に透
過率のより低い減衰フィルタ２ｃを配置しているため、
フィルタの急激な温度上昇を防止し、比較的大きい減衰
率でレーザ光を減衰させる場合でも、その破損を防止す
ることができる。
【００２８】また、実験によれば、水冷を行わない減衰
フィルタに、出力１０Ｗのレーザ光を透過させた場合、
約３０秒の照射で減衰フィルタが破損したが、上記構成
の水冷式フィルタ装置では、出力８０Ｗのレーザ光を約
５分間連続して減衰フィルタに透過させた場合でも、減
衰フィルタの破損は生じなかった。
フィルタに、出力１０Ｗのレーザ光を透過させた場合、
約３０秒の照射で減衰フィルタが破損したが、上記構成
の水冷式フィルタ装置では、出力８０Ｗのレーザ光を約
５分間連続して減衰フィルタに透過させた場合でも、減
衰フィルタの破損は生じなかった。
【００２９】このように、減衰フィルタを使用してレー
ザ光を任意の低出力に減衰させることができるため、レ
ーザ加工機等のレーザ発振器の出力を、安定出力が得ら
れる高出力に維持しながら、出力変動の少ない安定した
低出力のレーザ光を得ることができる。
ザ光を任意の低出力に減衰させることができるため、レ
ーザ加工機等のレーザ発振器の出力を、安定出力が得ら
れる高出力に維持しながら、出力変動の少ない安定した
低出力のレーザ光を得ることができる。
【００３０】図２、図３は他の実施例のフィルタ装置を
示している。このフィルタ装置は、ケーシング２０が分
割して形成されている点を除き、その基本的構成におい
て、上記実施例と同様である。
示している。このフィルタ装置は、ケーシング２０が分
割して形成されている点を除き、その基本的構成におい
て、上記実施例と同様である。
【００３１】即ち、ケーシング２０は、幅の短い円筒状
のケーシング片２０ａ，２０ｂ，２０ｃを重ねて、減衰
フィルタ保持用のケーシング部とすると共に、その外側
（両側）に透明ガラス保持用のケーシング片２１ａ，２
１ｂを組み付け、円筒状に形成される。
のケーシング片２０ａ，２０ｂ，２０ｃを重ねて、減衰
フィルタ保持用のケーシング部とすると共に、その外側
（両側）に透明ガラス保持用のケーシング片２１ａ，２
１ｂを組み付け、円筒状に形成される。
【００３２】各ケーシング片２０ａ，２０ｂ，２０ｃに
は、減衰フィルタ２ａ，２ｂ，２ｃを嵌込むための凹
部、及び冷却水用の水路が形成され、各凹部に減衰フィ
ルタ２ａ，２ｂ，２ｃの周縁部を各々嵌入し、その上か
ら隣接するケーシング片の凸部を押えるように組み付け
られる。そして、この状態で、各ケーシング片内の水路
が相互に接続され、水路７ａ，７ｂ，７ｃが形成され
る。
は、減衰フィルタ２ａ，２ｂ，２ｃを嵌込むための凹
部、及び冷却水用の水路が形成され、各凹部に減衰フィ
ルタ２ａ，２ｂ，２ｃの周縁部を各々嵌入し、その上か
ら隣接するケーシング片の凸部を押えるように組み付け
られる。そして、この状態で、各ケーシング片内の水路
が相互に接続され、水路７ａ，７ｂ，７ｃが形成され
る。
【００３３】さらに、ケーシング片２０ａの外側に透明
ガラス保持用のケーシング片２１ａが嵌込まれ、ケーシ
ング片２０ｃの外側に同様のケーシング片２１ｂが嵌込
まれる。その状態で、長尺の締付ボルト２７が各ケーシ
ング片の縁部に設けた孔に挿通され、各ケーシング片２
０ａ，２０ｂ，２０ｃ、２１ａ，２１ｂが相互に締付け
固定され、ケーシングが組立てられる。
ガラス保持用のケーシング片２１ａが嵌込まれ、ケーシ
ング片２０ｃの外側に同様のケーシング片２１ｂが嵌込
まれる。その状態で、長尺の締付ボルト２７が各ケーシ
ング片の縁部に設けた孔に挿通され、各ケーシング片２
０ａ，２０ｂ，２０ｃ、２１ａ，２１ｂが相互に締付け
固定され、ケーシングが組立てられる。
【００３４】そして、ケーシング片２１ａの内側に透明
ガラス３ａが嵌込まれ、ケーシング片２１ｂの内側に透
明ガラス３ｂが嵌込まれ、それらの外側から円環状のリ
ングねじ２３ａと２３ｂをねじ込むことにより、透明ガ
ラス３ａ，３ｂが減衰フィルタの外側（両側）に取付け
られる。
ガラス３ａが嵌込まれ、ケーシング片２１ｂの内側に透
明ガラス３ｂが嵌込まれ、それらの外側から円環状のリ
ングねじ２３ａと２３ｂをねじ込むことにより、透明ガ
ラス３ａ，３ｂが減衰フィルタの外側（両側）に取付け
られる。
【００３５】また、これによって上記と同様に、透明ガ
ラス３ａと減衰フィルタ２ａの間に水冷室４ａが形成さ
れ、減衰フィルタ２ａと減衰フィルタ２ｂの間に水冷室
４ｂが形成され、減衰フィルタ２ｂと減衰フィルタ２ｃ
の間に水冷室４ｃが形成され、透明ガラス３ｂと減衰フ
ィルタ２ｃの間に水冷室４ｄが形成される。
ラス３ａと減衰フィルタ２ａの間に水冷室４ａが形成さ
れ、減衰フィルタ２ａと減衰フィルタ２ｂの間に水冷室
４ｂが形成され、減衰フィルタ２ｂと減衰フィルタ２ｃ
の間に水冷室４ｃが形成され、透明ガラス３ｂと減衰フ
ィルタ２ｃの間に水冷室４ｄが形成される。
【００３６】なお、各ケーシング片２ａ，２ｂ，２ｃ間
には環状のシール部材２４ａが介挿され、透明ガラス３
ａ，３ｂの周縁部にシール部材２４ｂが嵌着され、接合
部は完全にシールされる。また、一方のケーシング片２
１ａには冷却水用の導入管２６ａが設けられ、他方のケ
ーシング片２１ｂには導出管２６ｂが設けられる。
には環状のシール部材２４ａが介挿され、透明ガラス３
ａ，３ｂの周縁部にシール部材２４ｂが嵌着され、接合
部は完全にシールされる。また、一方のケーシング片２
１ａには冷却水用の導入管２６ａが設けられ、他方のケ
ーシング片２１ｂには導出管２６ｂが設けられる。
【００３７】このようなフィルタ装置では、ケーシング
２０がケーシング片２０ａ，２０ｂ，２０ｃ、２１ａ，
２１ｂにより分割形成され、減衰フィルタ保持用の各ケ
ーシング片２０ａ，２０ｂ，２０ｃを、使用する減衰フ
ィルタの数に応じて任意の数だけ組み付けることができ
るため、使用する減衰フィルタの数を任意に決定し、レ
ーザ光を減衰させる減衰量を任意に且つ容易に設定する
ことができる。
２０がケーシング片２０ａ，２０ｂ，２０ｃ、２１ａ，
２１ｂにより分割形成され、減衰フィルタ保持用の各ケ
ーシング片２０ａ，２０ｂ，２０ｃを、使用する減衰フ
ィルタの数に応じて任意の数だけ組み付けることができ
るため、使用する減衰フィルタの数を任意に決定し、レ
ーザ光を減衰させる減衰量を任意に且つ容易に設定する
ことができる。
【００３８】上記構成のフィルタ装置は、上記実施例と
同様に、レーザ発振器から放射されるレーザ光の光路上
に配置され、導入管２６ａと導出管２６ｂに冷却水循環
路を接続し、ポンプ１４を通してタンク１０内の冷却水
を各水冷室４ａ〜４ｄに循環・供給し、減衰フィルタ２
ａ，２ｂ，２ｃを水冷しながら、レーザ光を減衰させる
ように動作する。
同様に、レーザ発振器から放射されるレーザ光の光路上
に配置され、導入管２６ａと導出管２６ｂに冷却水循環
路を接続し、ポンプ１４を通してタンク１０内の冷却水
を各水冷室４ａ〜４ｄに循環・供給し、減衰フィルタ２
ａ，２ｂ，２ｃを水冷しながら、レーザ光を減衰させる
ように動作する。
【図１】本発明の一実施例を示すレーザ光の減衰装置の
全体構成図である。
全体構成図である。
【図２】他の実施例の減衰装置におけるフィルタ装置の
断面図である。
断面図である。
【図３】同フィルタ装置の正面図である。
１−ケーシング、 ２ａ，２ｂ，２ｃ−減衰フィルタ、 ３ａ，３ｂ−透明ガラス、 ４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄ−水冷室、 ５ａ，５ｂ−配管、 ８−冷却ユニット、 １０−ポンプ、 １１−レーザ発振器。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 亀山 美知夫 愛知県刈谷市昭和町１丁目１番地 日本電 装株式会社内
Claims (5)
- 【請求項１】 レーザ発振器から出力されるレーザ光の
光路に減衰フィルタを配置し、レーザ光を該減衰フィル
タに透過させて減衰させるレーザ光の減衰装置におい
て、 該減衰フィルタの前面及び背面に冷却水を直接接触させ
て冷却する水冷室が該減衰フィルタの前後に設けられて
いることを特徴とするレーザ光の減衰装置。 - 【請求項２】 複数枚の減衰フィルタが間隔をおいて光
路上に並設され、該減衰フィルタ間に水冷室が設けられ
た請求項１記載のレーザ光の減衰装置。 - 【請求項３】 前記水冷室に冷却水を循環させる冷却水
循環路が該水冷室に連通・接続された請求項１又は２記
載のレーザ光の減衰装置。 - 【請求項４】 該冷却水循環路の一部にタンクが設けら
れ、該タンク内の冷却水を冷却する冷却ユニットが設け
られた請求項３記載のレーザ光の減衰装置。 - 【請求項５】 前記複数の減衰フィルタが円筒状のケー
シング内に間隔をおいて並設され、該ケーシングが分割
された複数のケーシング片を組み合せて形成され、該複
数のケーシング片が各々減衰フィルタを保持する構成と
した請求項２記載のレーザ光の減衰装置。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP01440795A JP3500752B2 (ja) | 1995-01-31 | 1995-01-31 | レーザ光の減衰装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP01440795A JP3500752B2 (ja) | 1995-01-31 | 1995-01-31 | レーザ光の減衰装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08201604A true JPH08201604A (ja) | 1996-08-09 |
| JP3500752B2 JP3500752B2 (ja) | 2004-02-23 |
Family
ID=11860204
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP01440795A Expired - Fee Related JP3500752B2 (ja) | 1995-01-31 | 1995-01-31 | レーザ光の減衰装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3500752B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1382982A1 (en) * | 2002-07-05 | 2004-01-21 | Agilent Technologies, Inc. | Heating compensated optical device |
| JP2004214240A (ja) * | 2002-12-26 | 2004-07-29 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | レーザ照射装置およびレーザ処理方法、並びに半導体装置の作製方法 |
| JP2004282026A (ja) * | 2003-02-28 | 2004-10-07 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | レーザ光照射装置、レーザ光の照射方法、レーザ光の照射システム及び半導体装置の作製方法 |
| JP2010274322A (ja) * | 2009-06-01 | 2010-12-09 | V Technology Co Ltd | レーザダンパー |
| US7900478B2 (en) | 2004-12-13 | 2011-03-08 | Asml Holding N.V. | Method of manufacturing an ultrathin optical element |
| WO2021064964A1 (ja) * | 2019-10-03 | 2021-04-08 | 日本電信電話株式会社 | 回折素子固定装置 |
-
1995
- 1995-01-31 JP JP01440795A patent/JP3500752B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| JP4593073B2 (ja) * | 2002-12-26 | 2010-12-08 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | レーザ照射装置 |
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| US7900478B2 (en) | 2004-12-13 | 2011-03-08 | Asml Holding N.V. | Method of manufacturing an ultrathin optical element |
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| JPWO2021064964A1 (ja) * | 2019-10-03 | 2021-04-08 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3500752B2 (ja) | 2004-02-23 |
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