JPH08191041A - Semiconductor manufacturing device and display method thereof - Google Patents

Semiconductor manufacturing device and display method thereof

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JPH08191041A
JPH08191041A JP1838595A JP1838595A JPH08191041A JP H08191041 A JPH08191041 A JP H08191041A JP 1838595 A JP1838595 A JP 1838595A JP 1838595 A JP1838595 A JP 1838595A JP H08191041 A JPH08191041 A JP H08191041A
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wafer
display
cassette
processing
absence
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Masashi Nakamura
昌司 中村
Masahiro Makiya
雅広 槇谷
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Kokusai Electric Corp
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Kokusai Electric Corp
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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

PURPOSE: To provide the title semiconductor manufacturing device and display method thereof capable of displaying if the individual wafer in a wafer cassette is acceptably finished or not to clearly discriminate the acceptable wafers and defective ones thereby enabling the confusion between the acceptable wafers and defective ones to be avoided. CONSTITUTION: A loader monitor 27 to detect the trench NO wherefrom wafers are carried out for giving proper NOs to wafers, a finished process monitor 22 judging if the whole process per individual wafer is acceptably finished or not to store the process results in a wafer status table 24 and a display processor 23 collecting display data specifying the display colors corresponding to the process results of respective wafers making reference to the wafer table 24 are provided thereby enabling if acceptable processing per respective wafers is finished or not to be discriminated by the display colors for display.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、CVD装置等の半導体
製造装置とそれにおける表示方法に係り、特に、ウエハ
カセット内の個々のウエハの処理が正常に終了したかど
うかを表示して、正常ウエハと不良ウエハの区別を明確
にし、正常ウエハと不良ウエハの混同を防ぐことができ
る半導体製造装置及びそれにおける表示方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor manufacturing apparatus such as a CVD apparatus and a display method therefor, and more particularly to displaying whether or not processing of individual wafers in a wafer cassette has been completed normally. The present invention relates to a semiconductor manufacturing apparatus and a display method in the same which can clearly distinguish between a wafer and a defective wafer and prevent confusion between a normal wafer and a defective wafer.

【0002】[0002]

【従来の技術】ウエハを1枚ずつ処理する枚葉式のCV
D装置としては、従来、図11に示すようなものがあっ
た。図11は、従来の枚葉式CVD装置の構成を示す平
面図である。図11に示すように、従来の枚葉式CVD
装置は、ウエハカセットを格納するカセット室(カセッ
トチャンバ:CC)5a(CC1)及び5b(CC2)
と、処理を行う反応炉(プロセスチャンバ:PC)6a
(PC1)及び6b(PC2)と、搬送室(ロードロッ
クチャンバ:LC)7とから構成されている。また、上
記構成に加えて、反応炉6cとしてPC3を接続するこ
ともある。
2. Description of the Related Art Single wafer type CV for processing wafers one by one
Conventionally, as the D device, there is a device as shown in FIG. FIG. 11 is a plan view showing the structure of a conventional single-wafer CVD apparatus. As shown in FIG. 11, the conventional single wafer CVD
The apparatus is a cassette chamber (cassette chamber: CC) 5a (CC1) and 5b (CC2) for storing wafer cassettes.
And a reaction furnace (process chamber: PC) 6a for processing
(PC1) and 6b (PC2), and a transfer chamber (load lock chamber: LC) 7. In addition to the above configuration, the PC 3 may be connected as the reaction furnace 6c.

【0003】搬送室7には、カセット室5からのウエハ
の出し入れを行うCCアーム71と、反応炉6に対する
ウエハの出し入れを行うPCアーム72と、ウエハを待
機させておくストレージカセット(SC)73と、ウエ
ハの位置合わせを行うアライメントユニット(AU)7
4とが設けられている。
In the transfer chamber 7, a CC arm 71 for loading / unloading a wafer from the cassette chamber 5, a PC arm 72 for loading / unloading a wafer to / from the reaction furnace 6, and a storage cassette (SC) 73 for holding a wafer in standby. And an alignment unit (AU) 7 for aligning the wafer
And 4 are provided.

【0004】上記構成の従来のCVD装置では、CCア
ーム71によってカセット室5aまたは5bから搬送室
7に取り込まれたウエハは、ストレージカセット73を
介してPCアーム72に移載される。PCアーム72
は、予め指定されたレシピに従ってウエハを反応炉6a
または6bに搬送し、指定された処理が終了すると、ウ
エハは、PCアーム72によってストレージカセット7
3に移され、CCアーム71によってカセット室5aま
たは5bに搬出される。ここでは、1度搬送室内にとり
込んだウエハをカセット室に搬出せずに、複数の処理を
連続して行うことができるようになっている。
In the conventional CVD apparatus having the above structure, the wafer taken into the transfer chamber 7 from the cassette chamber 5a or 5b by the CC arm 71 is transferred to the PC arm 72 via the storage cassette 73. PC arm 72
Uses a wafer in a reaction furnace 6a according to a recipe designated in advance.
Or when the wafer is transferred to 6b and the designated processing is completed, the wafer is transferred to the storage cassette 7 by the PC arm 72.
3 is moved to the cassette chamber 5a or 5b by the CC arm 71. Here, a plurality of processes can be continuously performed without carrying out the wafer once taken into the transfer chamber to the cassette chamber.

【0005】また、カセット室5a及び5bからのウエ
ハの出し入れは、ウエハカセットを上下するカセットエ
レベータ(図示せず)が、予め指定されたレシピに従っ
て上下することにより、CCアーム71がウエハカセッ
ト内の所定の位置(溝)からウエハを取り出したり、所
定の位置にウエハを戻すことができるようになってい
る。
Further, when the wafers are taken in and out of the cassette chambers 5a and 5b, a CC elevator 71 which moves the wafer cassette up and down (not shown) moves up and down in accordance with a predesignated recipe so that the CC arm 71 is placed in the wafer cassette. The wafer can be taken out from the predetermined position (groove) or returned to the predetermined position.

【0006】そして、枚葉式CVD装置の前面には、装
置の状況を表示するCRT等の表示部が設けられており
(図示せず)、装置の運転状況や、レシピの設定画面を
表示させるようになっている。
A display unit such as a CRT for displaying the status of the apparatus is provided on the front surface of the single-wafer CVD apparatus (not shown) to display the operation status of the apparatus and a recipe setting screen. It is like this.

【0007】ここで、上記従来の枚葉式CVD装置にお
ける表示例について図12を用いて説明する。図12
は、従来の枚葉式CVD装置における表示画面の例を示
す説明図である。図12に示すように、従来のCVD装
置においては、モニタ画面に上から見た装置イメージを
描画し、ウエハが装置内のどこに存在するかをオペレー
タに知らせるようにしていた。特に、カセット室5のイ
メージの横に、各カセット室5のウエハの搭載状態を表
示するカセット表示エリア8a及び8bを設けて、個々
のカセット室5内のウエハ搭載状態を表示するようにな
っていた。
Here, a display example in the above conventional single-wafer CVD apparatus will be described with reference to FIG. 12
FIG. 7 is an explanatory diagram showing an example of a display screen in a conventional single-wafer CVD apparatus. As shown in FIG. 12, in the conventional CVD apparatus, the apparatus image viewed from above is drawn on the monitor screen to inform the operator where the wafer is in the apparatus. In particular, beside the image of the cassette chamber 5, cassette display areas 8a and 8b for displaying the wafer mounting state of each cassette chamber 5 are provided to display the wafer mounting state in each cassette chamber 5. It was

【0008】次に、カセット表示エリア8内の表示例に
ついて図12を用いて説明する。ウエハカセットには、
ウエハを格納するための「溝」が形成されており、通
常、1つのウエハカセットには25枚のウエハを格納す
ることができるものである。カセット表示エリア8a及
び8bは、このような25枚入りのウエハカセットを想
定しており、表示エリア8a内には、25本の溝に対応
するウエハ表示エリア9-1〜9-25 が設けられ、表示エ
リア8b内には、ウエハ表示エリア9-26 〜9-50 が設
けられている。そして、カセット内のウエハの搭載状態
及び処理状態に対応して、各ウエハ表示エリア9に表示
を行うものである。
Next, a display example in the cassette display area 8 will be described with reference to FIG. In the wafer cassette,
A “groove” for storing wafers is formed, and normally one wafer cassette can store 25 wafers. The cassette display areas 8a and 8b are assumed to be a wafer cassette containing 25 such wafers, and the wafer display areas 9-1 to 9-25 corresponding to the 25 grooves are provided in the display area 8a. In the display area 8b, wafer display areas 9-26 to 9-50 are provided. Then, the display is performed in each wafer display area 9 in accordance with the mounting state and the processing state of the wafer in the cassette.

【0009】例えば、ウエハカセットの溝にウエハがあ
る場合には、対応するウエハ表示エリア9にウエハが存
在することを示す横線を表示し、ウエハがない場合に
は、横線の表示を行わない。図12の例では、表示エリ
ア8bには横線の表示がなく、カセット室5bのウエハ
カセットにウエハが搭載されていないことを示してい
る。また、ウエハがある場合には、ウエハの処理状態に
応じて、「処理済」は表示色A、「未処理」は表示色B
で横線を表示して、処理の状態が一目で分かるようにし
ている。尚、表示色A及びBは、ユーザが任意に設定す
ることができるものである。
For example, when there is a wafer in the groove of the wafer cassette, a horizontal line indicating that the wafer exists in the corresponding wafer display area 9 is displayed, and when there is no wafer, the horizontal line is not displayed. In the example of FIG. 12, no horizontal line is displayed in the display area 8b, which indicates that no wafer is mounted on the wafer cassette in the cassette chamber 5b. Further, when there is a wafer, "processed" has a display color A and "unprocessed" has a display color B, depending on the processing state of the wafer.
A horizontal line is displayed in order to show the processing status at a glance. The display colors A and B can be arbitrarily set by the user.

【0010】次に、上記表示を実現するための従来の半
導体製造装置の表示に関与する部分について図13を用
いて説明する。図13は、従来の半導体製造装置の表示
に関与する部分の構成例を示す構成ブロック図である。
図13に示すように、従来の半導体製造装置は、表示デ
ータ作成に伴う処理制御を行うモニタ画面制御部1と、
表示部17と、表示部17における表示の制御を行う表
示制御部16とから構成され、更に、モニタ画面制御部
1は、ウエハカセットのどの溝にウエハがあるかを検出
するウエハ検出手段11と、処理を終了したウエハがど
の溝に戻ったかを検出するプロセス終了監視手段12
と、表示データを作成する表示処理手段13と、個々の
溝に対応して、ウエハの有無や処理状況等を格納するウ
エハ状況テーブル14と、表示データを格納する表示メ
モリ15とから構成されるものがあった。
Next, a portion related to the display of the conventional semiconductor manufacturing apparatus for realizing the above display will be described with reference to FIG. FIG. 13 is a configuration block diagram showing a configuration example of a portion related to display of a conventional semiconductor manufacturing apparatus.
As shown in FIG. 13, the conventional semiconductor manufacturing apparatus includes a monitor screen control unit 1 that performs processing control associated with display data creation,
The monitor screen control unit 1 includes a display unit 17 and a display control unit 16 that controls display on the display unit 17. Further, the monitor screen control unit 1 includes a wafer detection unit 11 that detects in which groove of the wafer cassette the wafer is located. , Process end monitoring means 12 for detecting which groove the processed wafer has returned to
A display processing means 13 for creating display data, a wafer status table 14 for storing the presence / absence of wafers and the processing status corresponding to each groove, and a display memory 15 for storing the display data. There was something.

【0011】次に、各構成部分について具体的に説明す
る。モニタ画面制御部1のウエハ検出手段11は、ウエ
ハカセットのどの溝にウエハがあるかを検出するもので
あり、カセット室5aのウエハカセット(ウエハカセッ
トa)と、カセット室5bのカセット(ウエハカセット
b)の各溝についてウエハの有無を検出して、ウエハの
有無のデータをウエハ状況テーブル14に格納するもの
である。この時、カセット室5に設置されたウエハカセ
ットの底部から順に、各溝に番号(溝No. )を付与し、
その溝No. とウエハの有無のデータとを対応させて格納
するようにしている。また、ウエハカセットaについて
は、溝No. として1〜25を与え、ウエハカセットbに
ついては、26〜50を与えるようにしている。
Next, each component will be specifically described. The wafer detection means 11 of the monitor screen control unit 1 detects which groove of the wafer cassette the wafer is in, and includes a wafer cassette (wafer cassette a) in the cassette chamber 5a and a cassette (wafer cassette) in the cassette chamber 5b. The presence / absence of a wafer is detected for each groove of b), and the data on the presence / absence of a wafer is stored in the wafer status table 14. At this time, a number (groove No.) is given to each groove in order from the bottom of the wafer cassette installed in the cassette chamber 5,
The groove number and the data regarding the presence or absence of the wafer are stored in association with each other. Further, for the wafer cassette a, groove numbers 1 to 25 are given, and for the wafer cassette b, 26 to 50 are given.

【0012】その際、ウエハ検出手段11は、溝にウエ
ハがある場合には「1」、ウエハがない場合には「0」
のデータを、カセットに対応したウエハ状況テーブル1
4の、該溝No. に対応する「ウエハの有無」に格納し、
更に、表示処理手段13に表示データ作成指示を送出す
る。
At this time, the wafer detecting means 11 outputs "1" when there is a wafer in the groove and "0" when there is no wafer.
Data for wafer status table 1
Store in “No Wafer” corresponding to the groove No. 4
Further, a display data creation instruction is sent to the display processing means 13.

【0013】また、プロセス終了監視手段12は、ウエ
ハが、処理を終えて搬送室7からカセット室5に戻って
きた場合に、どのカセットのどの溝に格納されたかを検
出して、ウエハ状況テーブル14の当該溝No. に対応す
る「処理済フラグ」に、フラグ「1」を格納し、表示処
理手段13に表示データ作成指示を送出する。ここで、
プロセス終了監視手段12は、搬送室7からカセット室
5へののアンロードの際に、カセットエレベータの位置
を検出して、ウエハカセットの溝No. を特定する。これ
により、どの溝No. のウエハがアンロードされたのか、
すなわち、どのウエハが処理済なのかを管理することが
できるものである。
Further, the process end monitoring means 12 detects in which groove of which cassette the wafer is stored when the wafer is returned from the transfer chamber 7 to the cassette chamber 5 after the processing, and the wafer status table is displayed. The flag “1” is stored in the “processed flag” corresponding to the groove number 14 and the display data creation instruction is sent to the display processing means 13. here,
The process end monitoring means 12 detects the position of the cassette elevator at the time of unloading from the transfer chamber 7 to the cassette chamber 5, and specifies the groove number of the wafer cassette. As a result, which groove No. wafer was unloaded,
That is, it is possible to manage which wafer has been processed.

【0014】ここで、従来のウエハ状況テーブル14に
ついて図14を用いて説明する。図14は、ウエハ状況
テーブル14の模式説明図である。図14に示すよう
に、ウエハ状況テーブル14は、ウエハカセットa及び
bの各溝に対応して、ウエハ検出手段11から送出され
た「ウエハの有無」と、プロセス終了監視手段12から
送出された「処理済フラグ」とを格納するものである。
The conventional wafer status table 14 will be described with reference to FIG. FIG. 14 is a schematic explanatory diagram of the wafer status table 14. As shown in FIG. 14, the wafer status table 14 corresponds to each groove of the wafer cassettes a and b, and "was present or absent" sent from the wafer detection means 11 and sent from the process end monitoring means 12. The “processed flag” is stored.

【0015】ウエハ状況テーブル14においては、「ウ
エハの有無」が「1」の場合には「ウエハ有り」、
「0」の場合には「ウエハ無し」を示し、また、「処理
済フラグ」が「1」の場合には「処理済」、「0」に場
合には「未処理」を示すようになっている。
In the wafer status table 14, when "presence or absence of wafer" is "1", "wafer present",
In the case of "0", it indicates "no wafer", when the "processed flag" is "1", it indicates "processed", and when it is "0", it indicates "unprocessed". ing.

【0016】そして、図13に示した表示処理手段13
は、ウエハ状況テーブル14を参照して、ウエハ表示エ
リア9の表示データを作成するものであり、ウエハカセ
ットa及びbの溝No. 1〜50に対応する表示エリア9
-1〜9-50 について、ウエハの有無と、ウエハがある場
合にはその処理状況を示す表示色を指定する表示データ
を作成し、表示メモリ15に格納する。
Then, the display processing means 13 shown in FIG.
Is for creating the display data of the wafer display area 9 by referring to the wafer status table 14, and the display area 9 corresponding to the groove Nos. 1 to 50 of the wafer cassettes a and b.
With respect to -1 to 9-50, display data designating the presence or absence of a wafer and, if there is a wafer, a display color indicating the processing status is created and stored in the display memory 15.

【0017】具体的に説明すると、表示処理手段13
は、ウエハ状況テーブル14から、各溝No. の「ウエハ
の有無」と「処理済フラグ」とを読み取り、「ウエハの
有無」が「0」である溝No. に対応するウエハ表示エリ
ア9ついては、ウエハ無しとして「背景色」のデータを
表示メモリ15に格納する。また、「ウエハの有無」が
「1」である溝No. については、更に、「処理済フラ
グ」を読み取り、「1」であれば処理済として表示色A
を格納し、「0」であれば未処理として表示色Bを格納
するようになっている。そして、表示制御部16に表示
指示を出力する。
More specifically, the display processing means 13
Reads the “wafer presence / absence” and “processed flag” of each groove number from the wafer status table 14, and for the wafer display area 9 corresponding to the groove number whose “wafer presence / absence” is “0”, , "Background color" data is stored in the display memory 15 as no wafer. Further, for the groove No. for which "wafer presence / absence" is "1", the "processed flag" is further read.
Is stored, and if it is “0”, the display color B is stored as unprocessed. Then, the display instruction is output to the display control unit 16.

【0018】そして、表示制御部16は、表示メモリ1
5に格納された表示データを読み取って表示部17に出
力し、指定された表示色で表示するものである。
Then, the display controller 16 controls the display memory 1
The display data stored in No. 5 is read and output to the display unit 17 to be displayed in the designated display color.

【0019】[0019]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の半導体製造装置及びそれにおける表示方法では、各
ウエハの処理/未処理の表示を行うことができるが、処
理が正常に終了したのかどうかは表示できないため、処
理室内で異常が発生して、不良ウエハが回収された場合
に、不良ウエハを特定することが困難であり、オペレー
タが正常ウエハと不良ウエハを混同してしまう恐れがあ
るという問題点があった。
However, although the above-mentioned conventional semiconductor manufacturing apparatus and the display method therefor can display the processed / unprocessed state of each wafer, whether or not the processing has been normally completed is displayed. Therefore, if an abnormality occurs in the processing chamber and a defective wafer is collected, it is difficult to identify the defective wafer, and the operator may confuse the normal wafer with the defective wafer. was there.

【0020】また、上記従来の半導体製造装置及びそれ
における表示方法では、ウエハの有無は表示するように
しているが、ウエハカセット自体が搭載されているかど
うかの表示がないため、オペレータがウエハカセットを
搭載し忘れる恐れがあるという問題点があった。
Further, in the above-mentioned conventional semiconductor manufacturing apparatus and the display method therefor, the presence / absence of a wafer is displayed. However, since there is no display as to whether or not the wafer cassette itself is mounted, the operator cannot change the wafer cassette. There was a problem that you might forget to install it.

【0021】本発明は上記実情に鑑みて為されたもの
で、各ウエハの処理/未処理だけでなく、処理が正常に
終了したかどうかを表示して、正常ウエハと不良ウエハ
の区別を明確にし、正常ウエハと不良ウエハの混同を防
ぐことができ、また、ウエハカセットの有無を表示して
オペレータがウエハカセットを確実に搭載することがで
きる半導体製造装置及びそれにおける表示方法を提供す
ることを目的とする。
The present invention has been made in view of the above situation, and not only the processing / non-processing of each wafer but also whether or not the processing has been normally completed is displayed to clearly distinguish between a normal wafer and a defective wafer. It is possible to prevent confusion between a normal wafer and a defective wafer, and to provide a semiconductor manufacturing apparatus and a display method in the same in which an operator can surely mount a wafer cassette by displaying the presence or absence of a wafer cassette. To aim.

【0022】[0022]

【課題を解決するための手段】上記従来例の問題点を解
決するための請求項1記載の発明によれば、半導体製造
装置によれば、ウエハカセット内のウエハ格納の溝番号
毎にウエハの有無を検出するウエハ検出手段と、前記溝
番号に対応するウエハのプロセスの処理結果を監視する
プロセス終了監視手段と、前記ウエハ検出手段で検出さ
れたウエハの有無と前記プロセス終了監視手段で監視さ
れたプロセスの処理結果を溝番号毎に格納するウエハ状
況テーブルと、前記ウエハ状況テーブルを参照して表示
部における溝番号に対応するウエハ位置に各プロセスの
処理結果に対応した表示色で表示データを作成する表示
処理手段とを有する表示画面制御部を具備することを特
徴としている。
According to the invention as set forth in claim 1 for solving the problems of the conventional example, according to the semiconductor manufacturing apparatus, the wafer is stored for each groove number of the wafer stored in the wafer cassette. Wafer detection means for detecting the presence / absence, process end monitoring means for monitoring the processing result of the process of the wafer corresponding to the groove number, presence / absence of the wafer detected by the wafer detection means, and monitoring by the process end monitoring means The wafer status table for storing the processing result of each process for each groove number, and the display data in the display color corresponding to the processing result of each process are displayed at the wafer position corresponding to the groove number on the display unit by referring to the wafer status table. It is characterized by comprising a display screen control section having a display processing means to be created.

【0023】上記従来例の問題点を解決するための請求
項2記載の発明によれば、請求項1記載の半導体製造装
置における表示方法において、表示画面制御部のウエハ
検出手段が、ウエハカセット内のウエハ格納の溝番号毎
にウエハの有無を検出してウエハ状況テーブルに書き込
み、プロセス終了監視手段が、プロセス処理が為される
ウエハについてその処理結果を監視し、前記ウエハの溝
番号に対応して処理結果を前記ウエハ状況テーブルに書
き込み、表示処理手段が、前記ウエハ状況テーブルを参
照して表示部における溝番号に対応するウエハ位置に各
プロセスの処理結果に対応した表示色で表示データを作
成することを特徴としている。
According to a second aspect of the present invention for solving the problems of the conventional example, in the display method of the semiconductor manufacturing apparatus according to the first aspect, the wafer detection means of the display screen control section is in the wafer cassette. The presence / absence of a wafer is detected for each groove number of the stored wafers and written in the wafer status table, and the process end monitoring means monitors the processing result of the wafer on which the process is performed, and corresponds to the groove number of the wafer. The processing result is written in the wafer status table, and the display processing means refers to the wafer status table and creates display data in the display position corresponding to the processing result of each process at the wafer position corresponding to the groove number in the display section. It is characterized by doing.

【0024】上記従来例の問題点を解決するための請求
項3記載の発明によれば、請求項1記載の半導体製造装
置において、ウエハカセット搭載の有無を検出するカセ
ット検出手段を設け、表示処理手段が、前記カセット検
出手段での検出結果に従って表示部におけるウエハカセ
ット搭載の有無を表示する表示データを作成する表示処
理手段であることを特徴としている。
According to the third aspect of the present invention for solving the problems of the conventional example, the semiconductor manufacturing apparatus according to the first aspect is provided with cassette detection means for detecting the presence / absence of a wafer cassette, and the display processing is performed. The means is a display processing means for creating display data indicating whether or not the wafer cassette is mounted on the display unit according to the detection result of the cassette detecting means.

【0025】上記従来例の問題点を解決するための請求
項4記載の発明によれば、請求項3記載の半導体製造装
置における表示方法において、カセット検出手段が、ウ
エハカセット搭載の有無を検出し、表示処理手段が、前
記カセット検出手段での検出結果に従って表示部におけ
るウエハカセット搭載の有無を表示する表示データを作
成することを特徴としている。
According to the invention of claim 4 for solving the problems of the conventional example, in the display method in the semiconductor manufacturing apparatus of claim 3, the cassette detecting means detects whether or not the wafer cassette is mounted. The display processing means creates display data indicating whether or not the wafer cassette is mounted on the display unit according to the detection result of the cassette detection means.

【0026】[0026]

【作用】請求項1,2記載の発明によれば、表示画面制
御部のウエハ検出手段でウエハカセット内のウエハ格納
の溝番号毎にウエハの有無を検出してウエハ状況テーブ
ルに書き込み、プロセス終了監視手段でプロセス処理が
為されるウエハについてその処理結果を監視し、そのウ
エハの溝番号に対応して処理結果をウエハ状況テーブル
に書き込み、表示処理手段でウエハ状況テーブルを参照
して表示部における溝番号に対応するウエハ位置に各プ
ロセスの処理結果に対応した表示色で表示データを作成
する半導体製造装置及びそれにおける表示方法としてい
るので、溝番号毎のウエハに関してプロセスの処理結果
を対応する表示色で表示でき、正常ウエハと不良ウエハ
の区別を明確にして、混同を防ぐことができる。
According to the present invention, the wafer detecting means of the display screen control unit detects the presence or absence of a wafer for each groove number of the wafer stored in the wafer cassette, writes the wafer in the wafer status table, and ends the process. The processing result of the wafer to be processed by the monitoring means is monitored, the processing result is written in the wafer status table corresponding to the groove number of the wafer, and the display processing means refers to the wafer status table to display in the display section. Since the semiconductor manufacturing apparatus and the display method therefor are used to create the display data in the display color corresponding to the processing result of each process at the wafer position corresponding to the groove number, the display of the processing result of the process corresponding to the wafer for each groove number is performed. It can be displayed in color, which makes it possible to clearly distinguish between a normal wafer and a defective wafer and prevent confusion.

【0027】請求項3,4記載の発明によれば、カセッ
ト検出手段でウエハカセット搭載の有無を検出し、表示
処理手段で前記カセット検出手段での検出結果に従って
表示部におけるウエハカセット搭載の有無を表示する表
示データを作成する請求項1記載の半導体製造装置及び
それにおける表示方法としているので、ウエハカセット
の搭載の有無を明確に認識ででき、オペレータのカセッ
ト搭載忘れを防止することができる。
According to the third and fourth aspects of the present invention, the presence / absence of mounting of the wafer cassette is detected by the cassette detecting means, and the presence / absence of mounting of the wafer cassette on the display unit is detected by the display processing means according to the detection result of the cassette detecting means. Since the display data to be displayed is created by the semiconductor manufacturing apparatus and the display method therefor according to claim 1, it is possible to clearly recognize whether or not the wafer cassette is mounted, and prevent the operator from forgetting to mount the cassette.

【0028】[0028]

【実施例】本発明の一実施例について図面を参照しなが
ら説明する。図1は、本発明の一実施例に係る半導体製
造装置である枚葉式CVD装置の概略構成説明図であ
る。本実施例の枚葉式CVD装置は、モニタ画面にカセ
ット室内のウエハカセットの有無とウエハの搭載状況を
表示し、更に、個々のウエハについて処理/未処理だけ
でなく、処理が正常に終了したか否かを色によって区別
して表示するようにしたものである。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic configuration explanatory view of a single-wafer CVD apparatus which is a semiconductor manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention. The single-wafer CVD apparatus of the present embodiment displays the presence / absence of wafer cassettes in the cassette chamber and the mounting status of the wafers on the monitor screen, and further, not only the processed / unprocessed individual wafers but also the normal processing. Whether or not it is displayed is distinguished by the color.

【0029】図1に示すように、本実施例の枚葉式CV
D装置の基本的な構成は、図11に示した従来の枚葉式
CVD装置とほぼ同様であり、カセット室5a及び5b
と、反応炉6a(PC1)及び6b(PC2)と、搬送
室7と、反応炉6から取り出したウエハを冷却する冷却
室31a及び31bとから構成されており、各カセット
室5には、ウエハカセットを出し入れするカセットロー
ダ32と、ウエハカセットを上下するカセットエレベー
タ33とが設けられている。更に、反応炉6にガスを供
給する配管部や、各反応炉6の制御系が設けられ、装置
前面のパネルには、表示部17が設けられている。
As shown in FIG. 1, the single-wafer CV of this embodiment
The basic configuration of the D apparatus is almost the same as that of the conventional single-wafer CVD apparatus shown in FIG. 11, and the cassette chambers 5a and 5b are
, A reaction chamber 6a (PC1) and 6b (PC2), a transfer chamber 7, and cooling chambers 31a and 31b for cooling the wafer taken out of the reaction chamber 6. Each cassette chamber 5 has a wafer. A cassette loader 32 for loading and unloading the cassette and a cassette elevator 33 for moving the wafer cassette up and down are provided. Further, a piping portion for supplying gas to the reaction furnace 6 and a control system for each reaction furnace 6 are provided, and a display unit 17 is provided on a panel on the front surface of the apparatus.

【0030】また、本実施例のCVD装置は、従来と同
様に、1回装置内に搬入したウエハについて、反応炉6
及び冷却室15での複数の処理(ここでは4処理まで)
を連続して行うことができるものである。そして、搬送
順や各々の処理室での処理の内容等は予めレシピによっ
て設定されており、それに従って処理が行われるもので
ある。
Further, in the CVD apparatus of the present embodiment, as in the conventional case, the reaction furnace 6 is used for the wafer once loaded into the apparatus.
And multiple treatments in the cooling chamber 15 (up to 4 treatments here)
Can be continuously performed. The order of conveyance and the contents of processing in each processing chamber are set in advance by a recipe, and the processing is performed according to the recipe.

【0031】次に、本実施例のCVD装置における表示
例について図2を用いて説明する。図2は、本実施例の
CVD装置における表示例を示す説明図である。本実施
例の表示例は、図2に示すように、従来と同様に装置イ
メージを描画し、カセット室5a及び5bのイメージの
横に、表示エリア8a及び8bを設け、各カセット室5
におけるウエハカセット及びウエハの搭載状況を表示す
るものである。従来例と同様に、表示エリア8aの内部
に個々のウエハに対応したウエハ表示エリア9-1〜9-2
5 が設けられ、表示エリア8b内にウエハ表示エリア9
-26 〜9-50 が設けられている。
Next, a display example in the CVD apparatus of this embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 2 is an explanatory view showing a display example in the CVD apparatus of this embodiment. In the display example of the present embodiment, as shown in FIG. 2, a device image is drawn as in the conventional case, display areas 8a and 8b are provided next to the images of the cassette chambers 5a and 5b, and each cassette chamber 5
The wafer cassette and the mounting status of the wafer are displayed. Similar to the conventional example, wafer display areas 9-1 to 9-2 corresponding to individual wafers are provided inside the display area 8a.
5 is provided, and the wafer display area 9 is provided in the display area 8b.
-26 to 9-50 are provided.

【0032】そして、従来と同様にウエハがある溝につ
いては対応するウエハ表示エリア9に横線を表示し、ウ
エハがない溝についてはウエハ表示エリア9に横線を表
示しない。また、本実施例の特徴として、「未処理」の
ウエハを表示色Cで表示し、「処理済」のウエハのう
ち、正常に処理が終了したウエハを表示色Dで表示し、
異常があったウエハを表示色Eで表示するようにしてい
る。このように、正常ウエハと異常ウエハとの区別を明
確に表示することにより、正常ウエハと異常ウエハとの
混同を防ぐことができるものである。
As in the conventional case, a horizontal line is displayed in the corresponding wafer display area 9 for a groove having a wafer, and no horizontal line is displayed in the wafer display area 9 for a groove having no wafer. Further, as a feature of the present embodiment, "unprocessed" wafers are displayed in display color C, and among "processed" wafers, wafers that have been normally processed are displayed in display color D,
An abnormal wafer is displayed in the display color E. By clearly displaying the distinction between the normal wafer and the abnormal wafer in this way, confusion between the normal wafer and the abnormal wafer can be prevented.

【0033】更に、本実施例では、ウエハカセットが搭
載されている場合のみ、ウエハの処理状況を分かり易く
するために、ウエハ5枚、つまり溝5本毎に目印となる
スケールを表示している。すなわち、スケール表示の有
無により、オペレータにカセットが搭載されているかど
うかを知らせることができるものである。
Further, in this embodiment, only when the wafer cassette is mounted, a scale serving as a mark is displayed for every five wafers, that is, every five grooves, in order to make the processing condition of the wafer easy to understand. . That is, the presence or absence of the scale display can inform the operator whether or not the cassette is installed.

【0034】次に、上記表示例を実現する本実施例の半
導体製造装置の構成について図3を用いて説明する。図
3は、本実施例の半導体製造装置の構成を示す構成ブロ
ック図である。図3に示すように、本実施例の半導体製
造装置は、従来の半導体製造装置と同様に、モニタ画面
制御部2と、表示制御部16と、表示部17とから構成
されている。更に、モニタ画面制御部2は、従来と同様
のウエハ検出手段21と、表示メモリ25とを備え、更
に、各プロセスの処理結果を監視するプロセス終了監視
手段22と、溝No. 毎のウエハの有無や処理結果等を格
納するウエハ状況テーブル24と、表示データを作成す
る表示処理手段23と、ウエハカセットの有無を検出す
るカセット検出手段26と、どのウエハカセットのどの
溝からウエハが搬送室7内に搬送されたかを監視するロ
ーダ監視手段27と、ウエハ毎に各プロセスの処理結果
を格納するプロセス管理テーブル28とから構成されて
いる。
Next, the structure of the semiconductor manufacturing apparatus of this embodiment which realizes the above display example will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a configuration block diagram showing the configuration of the semiconductor manufacturing apparatus of this embodiment. As shown in FIG. 3, the semiconductor manufacturing apparatus according to the present embodiment includes a monitor screen control unit 2, a display control unit 16, and a display unit 17, as in the conventional semiconductor manufacturing apparatus. Further, the monitor screen control unit 2 includes a wafer detection means 21 and a display memory 25, which are the same as those of the conventional one, and further, a process end monitoring means 22 for monitoring the processing result of each process and a wafer for each groove number. A wafer status table 24 storing presence / absence and processing results, display processing means 23 for creating display data, cassette detection means 26 for detecting the presence / absence of a wafer cassette, and which groove of which wafer cassette the wafer is transferred from the transfer chamber 7. It is composed of a loader monitoring means 27 for monitoring whether or not the wafer has been transferred, and a process management table 28 for storing the processing result of each process for each wafer.

【0035】次に、各構成部分について具体的に説明す
る。ウエハ検出手段21は、従来と同様の部分であり、
一定時間毎に、ウエハカセットa及びbの各溝のウエハ
の有無を検出して、結果をウエハ状況テーブル24の
「ウエハの有無」に溝No. 毎に格納し、表示処理手段2
3に表示データ作成指示を送出するものである。
Next, each component will be specifically described. The wafer detection means 21 is the same part as the conventional one,
The presence / absence of a wafer in each groove of the wafer cassettes a and b is detected at regular time intervals, and the result is stored in the “wafer presence / absence” of the wafer status table 24 for each groove number.
The display data creation instruction is sent to the display unit 3.

【0036】次に、ウエハ状況テーブル24について図
4を用いて説明する。図4は、本実施例のウエハ状況テ
ーブル24の模式説明図である。図4に示すように、本
実施例のウエハ状況テーブル24は、カセット室5a及
びカセット室5bのそれぞれについてカセットが搭載さ
れているかどうかを示す「カセット」と、ウエハカセッ
トの個々の溝に対応する「溝No. 」と、それぞれの溝N
o. に対応して、「ウエハの有無」と、処理が終わった
かどうかを示す「処理済フラグ」と、全ての処理が正常
に終了したかどうかを示す「処理結果」の各エリアから
構成されている。これらのエリアの内、「溝No. 」と
「ウエハの有無」と「処理済フラグ」は、図14に示し
た従来のウエハ状況テーブル14と同様の部分である。
Next, the wafer status table 24 will be described with reference to FIG. FIG. 4 is a schematic explanatory view of the wafer status table 24 of this embodiment. As shown in FIG. 4, the wafer status table 24 of the present embodiment corresponds to "cassettes" indicating whether or not cassettes are mounted in the cassette chambers 5a and 5b, and individual grooves of the wafer cassettes. "Groove No." and each groove N
Corresponding to o., each area consists of "wafer presence / absence", "processed flag" indicating whether processing is completed, and "process result" indicating whether all processing is completed normally. ing. Among these areas, “groove No.”, “presence / absence of wafer” and “processed flag” are the same as those in the conventional wafer status table 14 shown in FIG.

【0037】ウエハ状況テーブル24において、「カセ
ット」は、溝No. 1〜25に対応する部分がウエハカセ
ットa、溝No. 26〜50に対応する部分がウエハカセ
ットbの検出結果となっている。そして、「1」が「ウ
エハカセット有り」、「0」が「ウエハカセット無し」
を示している。また、「処理結果」は、プロセス終了監
視手段22から送出された処理結果のデータを格納する
エリアであり、各溝No. のウエハについて、全てのプロ
セスが正常に終了した場合には「正常(OK)」、異常
のプロセスが1つでもあった場合には「異常(NG)」
とする。これにより、ウエハカセットの溝No. 毎に、当
該溝に格納されているウエハのプロセスが正常に終了し
たかどうかを管理することができるものである。
In the wafer status table 24, in the "cassette", the portions corresponding to the groove numbers 1 to 25 are the wafer cassette a, and the portions corresponding to the groove numbers 26 to 50 are the wafer cassette b. . And "1" means "wafer cassette exists" and "0" means "wafer cassette not present".
Is shown. The "process result" is an area for storing the data of the process result sent from the process end monitoring means 22, and when all the processes of the wafer of each groove No. are normally completed, "normal ( OK) ”, and if there is even one abnormal process,“ abnormal (NG) ”
And This makes it possible to manage, for each groove number of the wafer cassette, whether or not the process of the wafer stored in the groove has been normally completed.

【0038】次に、本実施例の特徴部分であるカセット
検出手段26と、ローダ監視手段27と、プロセス監視
手段22と、表示処理手段23について図3を用いて説
明する。カセット検出手段26は、カセット室5a及び
5bにウエハカセットが搭載されているかどうかを検出
するものである。そして、ウエハカセットa,bそれぞ
れについて検出データをウエハ状況テーブル24の「カ
セット」に格納し、表示処理手段23に表示データ作成
指示を送出する。
Next, the cassette detecting means 26, the loader monitoring means 27, the process monitoring means 22 and the display processing means 23, which are the characteristic parts of this embodiment, will be described with reference to FIG. The cassette detecting means 26 detects whether or not a wafer cassette is loaded in the cassette chambers 5a and 5b. Then, the detection data for each of the wafer cassettes a and b is stored in the “cassette” of the wafer status table 24, and the display data creating instruction is sent to the display processing means 23.

【0039】また、ローダ監視手段27は、ウエハが、
ウエハカセットa又はbのどの溝から搬送室7内に搬送
されたかを検出して、その溝No. をプロセス終了監視手
段22に送出し、搬送室7に搬送されたウエハに固有の
番号を与えるものである。つまり、本実施例では溝No.
をそのままウエハの固有番号として処理に用いるように
している。
Further, the loader monitoring means 27
It is detected from which groove of the wafer cassette a or b the wafer has been transferred into the transfer chamber 7, the groove number is sent to the process end monitoring means 22, and a unique number is given to the wafer transferred to the transfer chamber 7. It is a thing. That is, in this embodiment, the groove No.
Is directly used for processing as the unique number of the wafer.

【0040】また、プロセス終了監視手段22は、従来
と同様に、処理が終了したウエハがウエハカセットのど
の溝に戻ったかを検出すると共に、本実施例の特徴とし
て、各処理室(反応炉6a,6b及び冷却室31a,3
1b)におけるプロセスが正常に終了したか否かを検出
して、プロセス結果としてプロセス管理テーブル28に
格納し、更に、個々のウエハについて、全てのプロセス
が正常に終了したかどうかを判断して、処理結果として
ウエハ状況テーブル24に格納するものである。
Further, the process end monitoring means 22 detects which groove of the wafer cassette the processed wafer has returned to, as in the conventional case, and features of this embodiment is that each processing chamber (reactor furnace 6a , 6b and cooling chambers 31a, 3
It is detected whether or not the process in 1b) has been normally completed, and the result is stored in the process management table 28. Further, it is judged whether or not all the processes have been normally completed for each wafer. It is stored in the wafer status table 24 as a processing result.

【0041】ここで、本実施例の特徴部分であるプロセ
ス管理テーブル28について、図5を用いて説明する。
図5は、プロセス管理テーブル28の模式説明図であ
る。図5に示すように、プロセス管理テーブル28は、
ウエハカセットa及びbの溝No. と、プロセス結果を対
応させて格納するものであり、各溝から取り出された個
々のウエハについて、プロセス結果を記憶しておくよう
になっている。本実施例では連続4処理まで行うことが
できるので、溝No. 1〜50に対応して、「プロセス
1」、「プロセス2」、「プロセス3」、「プロセス
4」のエリアを設け、プロセス終了監視手段22から送
出されたプロセス結果として、「正常(OK)」または
「異常(NG)」を格納するようになっている。
The process management table 28, which is a characteristic part of this embodiment, will be described with reference to FIG.
FIG. 5 is a schematic explanatory diagram of the process management table 28. As shown in FIG. 5, the process management table 28 is
The groove numbers of the wafer cassettes a and b are stored in association with the process result, and the process result is stored for each wafer taken out from each groove. In this embodiment, up to 4 consecutive treatments can be performed. Therefore, corresponding to the groove Nos. 1 to 50, the areas of "process 1", "process 2", "process 3" and "process 4" are provided. As a process result sent from the end monitoring means 22, "normal (OK)" or "abnormal (NG)" is stored.

【0042】更に、プロセス管理テーブル28には、
「現在プロセス」のエリアが設けられ、処理中のウエハ
については、現在実行中のプロセスの番号1〜4を示す
ようになっている。
Further, in the process management table 28,
A "current process" area is provided, and for wafers being processed, the numbers 1 to 4 of the processes currently being executed are indicated.

【0043】そして、図3に示したプロセス終了監視手
段22は、全ての処理が終了したウエハについて、プロ
セス管理テーブル28からプロセス結果を読み取って、
全てのプロセス結果が「正常」であるかどうかを判断
し、ウエハ状況テーブル24の「処理結果」に「正常
(OK)」か「異常(NG)」かを格納し、表示処理手
段23に表示データ作成指示を送出するものである。
尚、プロセス終了監視手段22の処理については、後で
詳細に説明する。
Then, the process end monitoring means 22 shown in FIG. 3 reads the process result from the process management table 28 for the wafer for which all the processes have been completed,
It is determined whether or not all the process results are "normal", and "normal (OK)" or "abnormal (NG)" is stored in the "processing result" of the wafer status table 24 and displayed on the display processing means 23. It sends a data creation instruction.
The process of the process end monitoring means 22 will be described later in detail.

【0044】また、表示処理手段23は、ウエハ状況テ
ーブル24を参照して、表示エリア8の表示データを作
成し、表示メモリ25に格納するものである。本実施例
では、ウエハ状況テーブル24の「カセット」に対応し
て、表示エリア8のスケール表示を行うようにしてお
り、カセット有りの場合には、スケール表示を行い、カ
セット無しの場合は、スケール表示を行わない。カセッ
ト無しの場合には、当然、ウエハも無いので、表示エリ
ア8には何も表示されないことになる。
Further, the display processing means 23 refers to the wafer status table 24 and creates display data of the display area 8 and stores it in the display memory 25. In this embodiment, the scale of the display area 8 is displayed corresponding to the "cassette" in the wafer status table 24. When the cassette is present, the scale is displayed, and when the cassette is not present, the scale is displayed. Do not display. When there is no cassette, of course, there are no wafers, so nothing is displayed in the display area 8.

【0045】更に、カセット有りの場合には、表示処理
手段23は、ウエハ状況テーブル24を参照して、各溝
No. に対応したウエハ表示エリア9の表示色を指定する
表示データを作成し、表示メモリ25に格納する。つま
り、溝No. 毎に、ウエハ状況テーブル24から「ウエハ
の有無」と、「処理済フラグ」と、「処理結果」とを読
み取って、それに対応した表示色のデータを作成し、表
示メモリ25に格納するものである。本実施例では、ウ
エハが格納されている溝については、個々のウエハの処
理結果に応じて「未処理」は表示色C、「処理済、正
常」は表示色D、「処理済、異常」は表示色Eの表示デ
ータを作成するようにしている。尚、表示処理手段23
の処理については、後で詳細に説明する。
Further, when there is a cassette, the display processing means 23 refers to the wafer status table 24 and refers to each groove.
Display data designating the display color of the wafer display area 9 corresponding to the No. is created and stored in the display memory 25. In other words, for each groove number, "wafer presence / absence", "processed flag", and "process result" are read from the wafer status table 24, and display color data corresponding to them are created, and the display memory 25 is displayed. To be stored in. In the present embodiment, regarding the groove in which the wafer is stored, "unprocessed" is the display color C, "processed, normal" is the display color D, and "processed, abnormal" according to the processing result of each wafer. Creates display data of display color E. The display processing means 23
The process will be described later in detail.

【0046】ここで、表示メモリ25について図6を用
いて説明する。図6は、表示メモリ25の模式説明図で
ある。図6に示すように、表示メモリ25は、図2に示
した表示エリア8a(図6では表示エリアa)と、表示
エリア8b(表示エリアb)に対応する「スケール表
示」と、「ウエハ表示エリア」と、各「ウエハ表示エリ
ア」に対応する「表示色」とを格納するものである。
The display memory 25 will be described below with reference to FIG. FIG. 6 is a schematic explanatory diagram of the display memory 25. As shown in FIG. 6, the display memory 25 includes a display area 8a (display area a in FIG. 6) shown in FIG. 2, a “scale display” corresponding to the display area 8b (display area b), and a “wafer display”. The "area" and the "display color" corresponding to each "wafer display area" are stored.

【0047】「スケール表示」は、表示エリア8a及び
8bにおけるスケール表示の有無(ウエハカセットの有
無)を指定するものであり、「ウエハ表示エリア」は、
表示エリアa及びb内に設けられたウエハ表示エリア9
の番号を格納している。前述したように、表示エリア9
は、ウエハカセットa及びウエハカセットb内の溝No.
に対応して、個々の溝に格納されているウエハの状況を
表示するようになっており、図6では、表示エリアaに
はウエハ表示エリア1〜25が対応し、表示エリアbに
はウエハ表示エリア26〜50が対応している。また、
「表示色」は、各「ウエハ表示エリア」に対応する表示
色を格納しているものである。
The "scale display" is for designating the presence / absence of scale display (presence / absence of a wafer cassette) in the display areas 8a and 8b, and the "wafer display area" is
Wafer display area 9 provided in display areas a and b
Stores the number of. As mentioned above, the display area 9
Indicates the groove numbers in the wafer cassette a and the wafer cassette b.
Corresponding to, the status of the wafers stored in the individual grooves is displayed. In FIG. 6, the display area a corresponds to the wafer display areas 1 to 25, and the display area b corresponds to the wafers. The display areas 26 to 50 correspond. Also,
The "display color" stores the display color corresponding to each "wafer display area".

【0048】そして、表示制御部16が、従来と同様
に、表示メモリ25から、「スケール表示」と「ウエハ
表示エリア」に対応する「表示色」の表示データを読み
取って表示部17に出力し、表示させるようになってい
る。
Then, the display control unit 16 reads the display data of the "display color" corresponding to the "scale display" and the "wafer display area" from the display memory 25 and outputs it to the display unit 17, as in the conventional case. , Is supposed to be displayed.

【0049】次に、プロセス終了監視手段22の処理に
ついて、図7及び図8を用いて説明する。図7は、プロ
セス終了監視手段22におけるプロセス監視開始時の処
理を示すフローチャート図であり、図8は、処理の終了
を検出した場合の処理を示すフローチャート図である。
図7に示すように、プロセス終了監視手段22は、ロー
ダ監視手段27から溝No. を受信する(100)と、図
5のプロセス管理テーブル28の当該溝No. に対応する
「現在プロセス」に「1」を格納する(102)。つま
り、当該溝No.で表されるウエハが、プロセス1を実行
中であることを示すものである。これによりプロセス終
了監視手段22は当該溝No. のウエハの監視状態に入
る。
Next, the processing of the process end monitoring means 22 will be described with reference to FIGS. 7 and 8. FIG. 7 is a flow chart showing the process at the start of process monitoring in the process end monitoring means 22, and FIG. 8 is a flow chart showing the process when the end of the process is detected.
As shown in FIG. 7, when the process end monitoring means 22 receives the groove number from the loader monitoring means 27 (100), it becomes the “current process” corresponding to the groove number in the process management table 28 of FIG. "1" is stored (102). That is, this indicates that the wafer represented by the groove No. is undergoing the process 1. As a result, the process end monitoring means 22 enters the monitoring state of the wafer of the groove number.

【0050】次に、プロセス終了を検出した場合の処理
について図8を用いて説明する。図8に示すように、監
視状態において、プロセス終了監視手段22が、プロセ
スi(i=1〜4)の正常終了または異常終了を検出す
る(200)と、図5のプロセス管理テーブル28から
「現在プロセス」が「i」になっている溝No. を特定す
る(202)。そして、当該溝No. のプロセスiの「プ
ロセス結果」として、検出結果(「正常」または「異
常」)を格納し(204)、全てのプロセスが終了した
かどうかを判断する(206)。全てのプロセスが終了
していない場合には、当該溝No. の「現在プロセス」に
1を加え(208)、引き続き監視を続ける。
Next, the process when the end of the process is detected will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 8, when the process end monitoring means 22 detects a normal end or an abnormal end of the process i (i = 1 to 4) in the monitoring state (200), the process management table 28 of FIG. The groove No. whose "current process" is "i" is specified (202). Then, the detection result ("normal" or "abnormal") is stored as the "process result" of the process i of the groove No. (204), and it is determined whether all the processes are completed (206). When all the processes are not completed, 1 is added to the “current process” of the groove No. (208) and the monitoring is continued.

【0051】また、処理206で、全てのプロセスが終
了したと判断された場合には、「現在プロセス」をブラ
ンクに設定し(212)、図5のプロセス管理テーブル
28を参照して当該溝No. の全てのプロセス結果が「正
常」であるかどうかを判断する(220)。
If it is determined in the process 206 that all the processes have been completed, the "current process" is set to blank (212) and the process management table 28 of FIG. It is determined whether all the process results of .. are "normal" (220).

【0052】処理220で全てのプロセス結果が「正
常」であれば、ウエハ状況テーブル24の「処理結果」
に「正常」を格納し(222)、処理226に移行す
る。また、処理220で、プロセス結果に1つでも「異
常」があれば、ウエハ状況テーブル24の「処理結果」
に「異常」を格納し(224)、処理を終了する。
If all the process results in the process 220 are “normal”, the “process result” in the wafer status table 24 is displayed.
“Normal” is stored in (222), and the process proceeds to step 226. In the process 220, if any one of the process results is “abnormal”, the “process result” in the wafer status table 24 is displayed.
“Abnormal” is stored in (224), and the process ends.

【0053】また、プロセス終了監視手段22が、処理
が終了したウエハのアンロードを検出した場合には、従
来と同様に、図4のウエハ状況テーブル24の当該溝N
o. に対応する「処理済フラグ」に「1」を格納し、表
示処理手段23に表示データ作成指示を送出し、当該溝
No. のウエハの監視を終了する。このようにしてプロセ
ス終了監視手段22の処理が行われるものである。
When the process completion monitoring means 22 detects the unloading of the processed wafer, the groove N of the wafer status table 24 shown in FIG.
“1” is stored in the “processed flag” corresponding to o., the display data creation instruction is sent to the display processing means 23, and the groove is processed.
The monitoring of the No. wafer is completed. In this way, the processing of the process end monitoring means 22 is performed.

【0054】次に、表示処理手段23の処理について図
9及び図10を用いて説明する。図9は、表示データ作
成処理の概略フローチャート図であり、図10は、図9
の処理310に示したウエハ表示エリア9の表示データ
作成処理のフローチャート図である。図9に示すよう
に、スケール表示の表示データ作成処理では、まず、表
示処理手段23が、図4のウエハ状況テーブル24から
「カセット室」と「カセット」を読み取り(300)、
カセットが搭載されているかどうかを判断し(30
2)、カセットが有る場合には、図6の表示メモリ25
の当該カセット室の表示エリアに対応する「スケール表
示」にスケール表示「有」を設定し(304)、そして
当該ウエハカセットに対応するウエハ表示エリアの表示
データの作成処理を行い(310)、処理316に移行
する。
Next, the processing of the display processing means 23 will be described with reference to FIGS. 9 and 10. 9 is a schematic flowchart of the display data creation process, and FIG.
FIG. 10 is a flowchart of the display data creation process for the wafer display area 9 shown in process 310 of FIG. As shown in FIG. 9, in the display data creation process of the scale display, the display processing means 23 first reads “cassette chamber” and “cassette” from the wafer status table 24 of FIG. 4 (300),
Determine if a cassette is loaded (30
2) If there is a cassette, display memory 25 of FIG.
The scale display “existence” is set to the “scale display” corresponding to the display area of the cassette chamber (304), and the display data of the wafer display area corresponding to the wafer cassette is created (310) and processed. Move to 316.

【0055】また、処理302で、カセット無しの場合
には、表示メモリ25の当該カセット室の表示エリアに
対応する「スケール表示」にスケール表示「無」を設定
し(312)、表示メモリ25の当該カセット室に対応
する全てのウエハ表示エリアの「表示色」に「背景色」
を格納し(314)、表示エリアa,b共に表示データ
の作成が終了したかどうかを判断し(316)、終わっ
ていなければ他方について同様の処理を行う。表示エリ
アa,b共に終わっていれば、表示制御部16に表示指
示を送出して、処理を終了する。このようにして表示デ
ータの作成処理を行うものである。
If there is no cassette in the process 302, the scale display "absent" is set in the "scale display" corresponding to the display area of the cassette chamber of the display memory 25 (312), and the display memory 25 is displayed. "Background color" in "Display color" of all wafer display areas corresponding to the cassette room
Is stored (314), it is judged whether or not the display data creation for both the display areas a and b is completed (316), and if not completed, the same processing is performed for the other. If both the display areas a and b are finished, a display instruction is sent to the display control unit 16 and the process is finished. In this way, the display data creation process is performed.

【0056】次に、図9の処理310に示したウエハ表
示エリアの表示データ作成処理について図10を用いて
説明する。図10に示すように、表示処理手段23は、
図4のウエハ状況テーブル24から先頭の溝No. につい
て「溝No. 」と「ウエハの有無」と「処理済フラグ」と
「処理結果」を読み取る(400)。そして「ウエハの
有無」が「0」か「1」かを判断し(402)、「0」
であれば表示メモリ25の当該溝No. に対応するウエハ
表示エリアの「表示色」に「背景色」を格納し(40
4)、処理420に移行する。これにより、ウエハのな
い溝については、ウエハを示す横線を背景色で表示する
ことになり、表示をしていないように見えるものであ
る。
Next, the display data creating process of the wafer display area shown in process 310 of FIG. 9 will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 10, the display processing means 23
The "groove number", "wafer presence / absence", "processed flag" and "processing result" are read from the wafer status table 24 of FIG. 4 for the leading groove number (400). Then, it is judged whether "presence or absence of wafer" is "0" or "1" (402), and "0"
If so, the “background color” is stored in the “display color” of the wafer display area corresponding to the groove number of the display memory 25 (40
4) and shifts to the processing 420. As a result, with respect to the groove having no wafer, the horizontal line indicating the wafer is displayed in the background color, which does not seem to be displayed.

【0057】また、処理402で「ウエハの有無」が
「1」であった場合には、「処理済フラグ」が「0」か
「1」かを判断し(406)、「0」であれば未処理と
して表示メモリ25に表示色Cを格納し(408)、処
理420に移行する。
If the "wafer presence / absence" is "1" in the process 402, it is judged whether the "processed flag" is "0" or "1" (406), and if it is "0". For example, the display color C is stored as unprocessed in the display memory 25 (408), and the process 420 is performed.

【0058】処理406で「処理済フラグ」が「1」で
あった場合には、更に、「処理結果」が「正常」である
か「異常」であるかを判断する(410)。「正常」で
あれば表示メモリ25に表示色Dを格納し(412)、
「異常」であれば表示色Eを格納する(414)。
When the "processed flag" is "1" in the process 406, it is further judged whether the "process result" is "normal" or "abnormal" (410). If “normal”, the display color D is stored in the display memory 25 (412),
If "abnormal", the display color E is stored (414).

【0059】そして、全ての溝No. について表示データ
を作成したかどうかを判断し(420)、作成した場合
には処理を終了し、作成していない場合には、処理40
0に戻って次の溝No. について同様の処理を繰り返す。
このようにして表示処理手段23における処理が行われ
るものである。
Then, it is judged whether or not the display data has been created for all the groove numbers (420). If the display data has been created, the processing is terminated.
Returning to 0, the same processing is repeated for the next groove No.
In this way, the processing in the display processing means 23 is performed.

【0060】本実施例の半導体製造装置及びそれにおけ
る表示方法によれば、ウエハが搬出された溝No. を検出
して、ウエハに固有番号を与えるローダ監視手段27
と、個々のウエハについて全てのプロセスが正常に終了
したかどうかを判断して、プロセス結果としてウエハ状
況テーブル24に格納するプロセス終了監視手段22
と、ウエハ状況テーブル24を参照して、各ウエハのプ
ロセス結果に対応して表示色を指定する表示データを作
成する表示処理手段23とを設けているので、表示エリ
ア8内のウエハ表示エリア9に、ウエハカセットの溝N
o. 毎に、当該溝に格納されているウエハのプロセス結
果に対応した表示色で表示を行うことができ、正常ウエ
ハと不良ウエハの区別を明確にして、混同を防ぐことが
できる効果がある。
According to the semiconductor manufacturing apparatus of this embodiment and the display method therefor, the loader monitoring means 27 that detects the groove number in which the wafer is carried out and gives a unique number to the wafer.
And the process end monitoring means 22 which determines whether or not all the processes have been normally completed for each wafer and stores the results in the wafer status table 24.
And the display processing means 23 for creating the display data for designating the display color corresponding to the process result of each wafer by referring to the wafer status table 24. Therefore, the wafer display area 9 within the display area 8 is provided. The wafer cassette groove N
Each o. can be displayed in the display color corresponding to the process result of the wafer stored in the groove, and there is an effect that the distinction between the normal wafer and the defective wafer can be made clear and confusion can be prevented. .

【0061】また、本実施例の半導体製造装置及びそれ
における表示方法によれば、ウエハカセットが搭載され
ているかどうかを検出するカセット検出手段26を設
け、表示処理手段23がカセットの有無に対応してスケ
ール表示の表示データを作成するようにしているので、
ウエハカセットが搭載されている場合のみ、表示エリア
8にスケール表示を行うことができ、ウエハカセットが
搭載されているかどうかを明確に表示して、オペレータ
のカセット搭載忘れを防止することができる効果があ
る。
Further, according to the semiconductor manufacturing apparatus of this embodiment and the display method therefor, the cassette detecting means 26 for detecting whether or not the wafer cassette is mounted is provided, and the display processing means 23 corresponds to the presence or absence of the cassette. Since the display data of the scale display is created by
Only when the wafer cassette is installed, the scale can be displayed in the display area 8, and it is possible to clearly display whether or not the wafer cassette is installed, thereby preventing the operator from forgetting to install the cassette. is there.

【0062】[0062]

【発明の効果】請求項1,2記載の発明によれば、表示
画面制御部のウエハ検出手段でウエハカセット内のウエ
ハ格納の溝番号毎にウエハの有無を検出してウエハ状況
テーブルに書き込み、プロセス終了監視手段でプロセス
処理が為されるウエハについてその処理結果を監視し、
そのウエハの溝番号に対応して処理結果をウエハ状況テ
ーブルに書き込み、表示処理手段でウエハ状況テーブル
を参照して表示部における溝番号に対応するウエハ位置
に各プロセスの処理結果に対応した表示色で表示データ
を作成する半導体製造装置及びそれにおける表示方法と
しているので、溝番号毎のウエハに関してプロセスの処
理結果を対応する表示色で表示でき、正常ウエハと不良
ウエハの区別を明確にして、混同を防ぐことができる効
果がある。
According to the first and second aspects of the present invention, the presence / absence of a wafer is detected by the wafer detection means of the display screen control unit for each groove number of the wafer storage in the wafer cassette, and written in the wafer status table. The process result is monitored with respect to the wafer to be processed by the process end monitoring means,
The processing result corresponding to the groove number of the wafer is written in the wafer status table, and the display processing means refers to the wafer status table to display the display color corresponding to the processing result of each process at the wafer position corresponding to the groove number in the display section. Since the semiconductor manufacturing apparatus that creates display data and the display method therefor are used, the processing result of the process can be displayed in the corresponding display color for the wafer for each groove number, and the distinction between normal wafers and defective wafers can be clarified and confused. There is an effect that can be prevented.

【0063】請求項3,4記載の発明によれば、カセッ
ト検出手段でウエハカセット搭載の有無を検出し、表示
処理手段で前記カセット検出手段での検出結果に従って
表示部におけるウエハカセット搭載の有無を表示する表
示データを作成する請求項1記載の半導体製造装置及び
それにおける表示方法としているので、ウエハカセット
の搭載の有無を明確に認識ででき、オペレータのカセッ
ト搭載忘れを防止することができる効果がある。
According to the third and fourth aspects of the present invention, the presence / absence of mounting of the wafer cassette is detected by the cassette detecting means, and the presence / absence of mounting of the wafer cassette on the display unit is detected by the display processing means according to the detection result of the cassette detecting means. Since the display data to be displayed is created by the semiconductor manufacturing apparatus and the display method thereof according to claim 1, it is possible to clearly recognize whether or not the wafer cassette is mounted, and to prevent the operator from forgetting to mount the cassette. is there.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例に係る半導体製造装置である
枚葉式CVD装置の概略構成説明図である。
FIG. 1 is a schematic configuration explanatory diagram of a single-wafer CVD apparatus which is a semiconductor manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図2】本実施例のCVD装置における表示例を示す説
明図である。
FIG. 2 is an explanatory diagram showing a display example in the CVD apparatus of the present embodiment.

【図3】本実施例の半導体製造装置の構成を示す構成ブ
ロック図である。
FIG. 3 is a configuration block diagram showing a configuration of a semiconductor manufacturing apparatus of this embodiment.

【図4】本実施例のウエハ状況テーブル24の模式説明
図である。
FIG. 4 is a schematic explanatory diagram of a wafer status table 24 of this embodiment.

【図5】プロセス管理テーブル28の模式説明図であ
る。
FIG. 5 is a schematic explanatory diagram of a process management table 28.

【図6】表示メモリ25の模式説明図である。6 is a schematic explanatory diagram of a display memory 25. FIG.

【図7】プロセス終了監視手段22におけるプロセス監
視開始時の処理を示すフローチャート図である。
FIG. 7 is a flow chart diagram showing processing at the start of process monitoring in the process end monitoring means 22.

【図8】プロセス終了監視手段22が処理の終了を検出
した場合の処理を示すフローチャート図である。
FIG. 8 is a flowchart showing a process when the process end monitoring means 22 detects the end of the process.

【図9】表示処理手段23における表示データ作成処理
の概略フローチャート図である。
FIG. 9 is a schematic flowchart of a display data creation process in the display processing means 23.

【図10】表示処理手段23におけるウエハ表示エリア
9の表示データ作成処理のフローチャート図である。
FIG. 10 is a flowchart of a display data creation process of the wafer display area 9 in the display processing means 23.

【図11】従来の枚葉式CVD装置の構成を示す平面図
である。
FIG. 11 is a plan view showing the configuration of a conventional single-wafer CVD apparatus.

【図12】従来の枚葉式CVD装置における表示画面の
例を示す説明図である。
FIG. 12 is an explanatory diagram showing an example of a display screen in a conventional single-wafer CVD apparatus.

【図13】従来の半導体製造装置の表示に関与する部分
の構成例を示す構成ブロック図である。
FIG. 13 is a configuration block diagram showing a configuration example of a portion related to display of a conventional semiconductor manufacturing apparatus.

【図14】従来のウエハ状況テーブル14の模式説明図
である。
FIG. 14 is a schematic explanatory view of a conventional wafer status table 14.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1、2…モニタ画面制御部、 3…、 4…、 5…カ
セット室、 6…反応炉、 7…搬送室、 8…表示エ
リア、 9…ウエハ表示エリア、 11…ウエハ検出手
段、 12…プロセス終了監視手段、 13…表示処理
手段、 14…ウエハ状況テーブル、 15…表示メモ
リ、 16…表示制御部、 17…表示部、 21…ウ
エハ検出手段、 22…プロセス終了監視手段、 23
…表示処理手段、 24…ウエハ状況テーブル、 25
…表示メモリ、 26…カセット検出手段、 27…ロ
ーダ監視手段、 28…プロセス管理テーブル、 31
…冷却室、 32…カセットローダ、 33…カセット
エレベータ、 71…CCアーム、 72…PCアー
ム、 73…ストレージカセット、 74…アライメン
トユニット
1, 2 ... Monitor screen control unit, 3 ..., 4 ..., 5 ... Cassette chamber, 6 ... Reactor, 7 ... Transfer chamber, 8 ... Display area, 9 ... Wafer display area, 11 ... Wafer detecting means, 12 ... Process End monitoring means, 13 ... Display processing means, 14 ... Wafer status table, 15 ... Display memory, 16 ... Display control section, 17 ... Display section, 21 ... Wafer detecting means, 22 ... Process end monitoring means, 23
Display processing means 24 Wafer status table 25
... display memory, 26 ... cassette detecting means, 27 ... loader monitoring means, 28 ... process management table, 31
... Cooling chamber, 32 ... Cassette loader, 33 ... Cassette elevator, 71 ... CC arm, 72 ... PC arm, 73 ... Storage cassette, 74 ... Alignment unit

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ウエハカセット内のウエハ格納の溝番号
毎にウエハの有無を検出するウエハ検出手段と、前記溝
番号に対応するウエハのプロセスの処理結果を監視する
プロセス終了監視手段と、前記ウエハ検出手段で検出さ
れたウエハの有無と前記プロセス終了監視手段で監視さ
れたプロセスの処理結果を溝番号毎に格納するウエハ状
況テーブルと、前記ウエハ状況テーブルを参照して表示
部における溝番号に対応するウエハ位置に各プロセスの
処理結果に対応した表示色で表示データを作成する表示
処理手段とを有する表示画面制御部を具備することを特
徴とする半導体製造装置。
1. A wafer detecting means for detecting the presence / absence of a wafer for each groove number of a wafer stored in a wafer cassette, a process end monitoring means for monitoring a processing result of a wafer process corresponding to the groove number, and the wafer. Wafer status table for storing the presence or absence of the wafer detected by the detection means and the processing result of the process monitored by the process end monitoring means for each groove number, and corresponding to the groove number on the display unit by referring to the wafer status table A semiconductor manufacturing apparatus comprising: a display screen control unit having display processing means for creating display data in a display color corresponding to a processing result of each process at a wafer position.
【請求項2】 表示画面制御部のウエハ検出手段が、ウ
エハカセット内のウエハ格納の溝番号毎にウエハの有無
を検出してウエハ状況テーブルに書き込み、プロセス終
了監視手段が、プロセス処理が為されるウエハについて
その処理結果を監視し、前記ウエハの溝番号に対応して
処理結果を前記ウエハ状況テーブルに書き込み、表示処
理手段が、前記ウエハ状況テーブルを参照して表示部に
おける溝番号に対応するウエハ位置に各プロセスの処理
結果に対応した表示色で表示データを作成することを特
徴とする請求項1記載の半導体製造装置における表示方
法。
2. The wafer detection means of the display screen control section detects the presence / absence of a wafer for each groove number of the wafer storage in the wafer cassette and writes it in the wafer status table, and the process end monitoring means carries out the process processing. The processing result of the wafer is monitored, the processing result is written in the wafer status table corresponding to the groove number of the wafer, and the display processing means refers to the wafer status table and corresponds to the groove number in the display section. The display method in a semiconductor manufacturing apparatus according to claim 1, wherein display data is created at a wafer position in a display color corresponding to a processing result of each process.
【請求項3】 ウエハカセット搭載の有無を検出するカ
セット検出手段を設け、表示処理手段が、前記カセット
検出手段での検出結果に従って表示部におけるウエハカ
セット搭載の有無を表示する表示データを作成する表示
処理手段であることを特徴とする請求項1記載の半導体
製造装置。
3. A display for providing display data for displaying the presence / absence of mounting of a wafer cassette on the display unit according to the detection result of the cassette detecting means, the cassette detecting means for detecting presence / absence of mounting of the wafer cassette. The semiconductor manufacturing apparatus according to claim 1, which is a processing means.
【請求項4】 カセット検出手段が、ウエハカセット搭
載の有無を検出し、表示処理手段が、前記カセット検出
手段での検出結果に従って表示部におけるウエハカセッ
ト搭載の有無を表示する表示データを作成することを特
徴とする請求項3記載の半導体製造装置における表示方
法。
4. A cassette detecting means detects presence / absence of mounting of a wafer cassette, and a display processing means creates display data for displaying presence / absence of mounting of a wafer cassette on a display unit according to a detection result of the cassette detecting means. The display method in the semiconductor manufacturing apparatus according to claim 3, wherein
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