JPH08190196A - 光重合性組成物、それを用いたカラーフィルター及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【目的】 光重合性組成物を使用し、カラーフィルター
上に塗布法もしくは転写法により保護層を形成する、液
晶表示パネルに特に有用なカラーフィルターの製造方法
を提供する。 【構成】 （１）光重合開始剤もしくは光重合開始剤
系、（２）エチレン性不飽和二重結合を有する付加重合
性モノマー、及び（３）（ａ）少なくとも下記一般式
（Ｉ）及び（ＩＩ）で示される繰り返し単位を有する樹
脂と（ｂ）同一分子中に１級アミノ基とエチレン性不飽
和二重結合を有する化合物、及び必要に応じて更に下記
一般式（ＩＩＩ）で示される１級アミンとを反応して得
られる樹脂、を含むことを特徴とする光重合性組成物、
及びそれを用いて作成した保護層を有するカラーフィル
ター。 〔式中、Ａｒ¹：フェニル基。ｘ，ｙ：樹脂中での繰り
返し単位のモル分率で、ｘ＝０．８５〜０．５５、ｙ＝
０．１５〜０．４５。 Ｒ−ＮＨ₂ （ＩＩＩ） 例、ベンジルアミン。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は光重合および熱処理後の
硬化物の耐薬品性が優れ、アルカリ水溶液で現像が可能
な光重合性組成物に関する。本発明になる光重合性組成
物は、カラーフィルターの保護層形成に特に有用であ
る。

【０００２】

【従来の技術】カラーフィルターは液晶表示パネルの重
要な部品であり、種々の要求性能項目があるが、特にＳ
ＴＮやＦＬＣ液晶表示パネルとして用いたときに、カラ
ーフィルター上に設けられる透明導電性層の形成及び引
き続く透明電極への加工にあたり、耐熱性や耐薬品性は
とりわけ重要である。即ち、前記の液晶表示パネルは、
通常はガラス製の透明基板上に多色画素の層が設けられ
る。この多色画素の層は通常赤、緑、青色の画素を交互
にマトリクスに配置したものである。この画素の大きさ
は使用目的により異なるが、１辺が１０〜１００μｍ×
５０〜４００μｍ程度の大きさを有し、また、その形状
は必ずしも前記の大きさの長方形とは限らず、使用目的
に応じて所望の形状に加工された形状をしている場合も
ある。更に、場合により前記の赤、緑、青色の画素の間
や外周部分に黒色又は光遮断性のブラックマトリックス
を有するものも用いられる。更にこの様な多色画素の層
上に保護層を形成することでカラーフィルターを得る。
この上に通常はＩＴＯのスパッタにより透明導電性層を
形成する。その後、ＳＴＮ型や強誘電性液晶型パネルの
場合には更にフォトリソグラフィーにより透明電極に加
工し電極付きカラーフィルターを得る。そして、該電極
付きカラーフィルターの上に配向膜を形成する。また別
の透明基板上の透明電極及び配向膜をスペーサーで一定
の間隙を保ってシールしたあとでこの２枚の基板間に液
晶を注入することでパネルが作製される。

【０００３】この一連の液晶表示パネルのためのカラー
フィルターの形成過程で、多色画素の層上の保護層は、
１）平坦性を与える、２）液晶のセルギャップを確保す
るためスペーサが潜り込まないほどに十分な硬度を示
す、３）透明導電性層のフォトリソグラフィー過程で用
いられる種々の薬液（フォトレジストの溶剤、酸性エッ
チング液、アルカリ性レジスト剥離液、配向膜塗液の溶
剤等）への耐性を与える、また更に、４）可視光領域で
の透明性が有り、曇りや濁りが無い事、５）多色画素の
層との密着はもちろん、多色画素の形成されていない基
板上に直接設けられる場合も有る為に基板への密着性に
優れる事が必要となる。この目的のため特開昭６０−２
１６３０７号に記載のエポキシ化合物と多価カルボン酸
またはその無水物、特開昭６０−２４４９３２号に記載
のナイロン樹脂、特開昭６３−１３１１０３号に記載の
メラミン化合物とエポキシ樹脂のような熱硬化性樹脂が
提案された。確かにこれらの熱硬化型樹脂は上記１）か
ら４）の必要性能上はほぼ目標を達成することが可能に
なった。

【０００４】しかし、保護層非画素部でのシールを確実
なものにするために、透明基板上では除去しなければな
らないという要請や、特開昭５７−４２００９号、特開
平１−１３０１０３号や特開平１−１３４３０６号に記
載のようにスクライブライン上の保護膜は除去しなけれ
ばならないという要請が出てきた。しかしながら前述の
様な熱硬化性樹脂ではこれらを精度良く実施することは
困難である。さらにこの様な熱硬化性樹脂は一般に硬化
剤とエポキシ樹脂の組み合わせのため、反応性のこの２
成分を混合して置くと、経時的に反応が進み塗液粘度が
上昇するため膜厚を均一にする事が困難で、使用可能な
時間が短かく、かつ膜厚の精度が得られにくいという欠
点がある。

【０００５】これらの問題点を解決する有効な手段とし
て、感光性で未露光部が現像できるいわゆる感光性樹脂
タイプが求められるようになった。これまで知られてい
る、感光性であって、カラーフィルター層上に塗布など
の方法で設け、光硬化して保護層として使用される例と
しては、特開昭５７−４２００９号や特開昭６０−２４
４９３２号に記載の紫外線硬化型樹脂、特開昭５９−７
３１７号に記載のビニルカルボニル基含有ポリマー、特
開昭５９−１８４３２５号のＰＶＡと感光剤からなる感
光性樹脂、特開昭６０−４２７０４号記載のゴム系樹
脂、特開平２−１９１９０１号記載の着色層として用い
られる顔料分散させた感光性樹脂組成物から顔料を除去
した感光性樹脂などが知られている。

【０００６】更に、光で硬化し、未露光部が衛生上また
公害対策上も有利なアルカリ水溶液で現像でき、その後
加熱により硬化膜に更に大きな耐アルカリ性が与えられ
るような保護層が最も好ましいが、そのような方法は特
開平３−１２６９５０号に記載の組成物、特開昭５２−
１３２０９１号記載の組成物、特公平４−２０９２３号
に記載の組成物を使用する事で可能であることが知られ
ている。

【０００７】しかしこれらの感光性の保護層形成用組成
物は、まだまだ、感光性塗膜にしたときの現像性、表面
のベタつき（タック）、現像後に硬化処理した後での塗
膜や画像の耐アルカリ性、耐溶剤性、透明性、基板との
密着性の点で不十分であった。また仮支持体上にこの様
な組成物からなる光重合性組成物層を形成し、これを転
写する方法もあるが、この様な場合においての転写性も
不十分であった。更に、保護層上に透明導電性層を形成
する場合、前述の種々の薬液（フォトレジストの溶剤、
酸性エッチング液、アルカリ性レジスト剥離液、配向膜
塗液の溶剤等）への耐性を有していても、形成された透
明導電性層にクラック等の欠陥が生ずる等の問題があっ
た。

【０００８】そこで、この様な問題を解決する方法とし
て我々は既に例えば特願平５−２０２２７２号、特開平
５−２６５２０８号等に記載の方法を見出している。し
かしながら、これらの方法においても現像性、透明導電
性層の形成性を確保する為には多量の光重合性のモノマ
ー成分を必要とするので、場合によってはタックがやや
増大すると言う問題があった。

【０００９】光重合性のモノマー成分の使用量を減らす
為には、たとえば高分子バインダーに重合性基を導入さ
せる事が考えられる。この様な化合物自身は公知であ
り、例えば特公昭５１−３７３１６号公報等にカルボキ
シル基とエチレン性不飽和二重結合を含有する高分子化
合物の例が記載がされている。また特開平５−２５７０
０９号においてもカルボキシル基とエチレン性不飽和二
重結合を含有する高分子化合物をカラーフィルターの保
護膜用に用いる例が記載されている。しかしながら、こ
れらの方法においても硬化後の樹脂にはカルボキシル基
が残存する為に硬化後の耐アルカリ性、特に透明導電性
層の形成時の耐薬品性に問題がある。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】そこで本発明の目的
は、上記１）平坦性、２）硬度、３）耐薬品性、４）透
明性、５）基板との密着性、６）透明導電性層の形成性
において各必要性能を備える保護層（ＯＣ層）を与える
ような、アルカリ現像性に優れ、かつタックの無い光重
合性組成物、特にそれを構成する為のバインダーを提供
することにある。本発明の第二の目的は、現像後の光硬
化物の耐アルカリ化処理が、比較的低い温度、且つ短い
処理時間で可能で、その加熱処理中に揮散する成分が少
ない光重合性組成物を提供することにある。本発明の第
三の目的は、上記光重合性組成物を使用し、カラーフィ
ルター上に塗布法もしくは転写法により保護層を形成す
る、液晶表示パネルに特に有用なカラーフィルターの製
造方法を提供する事にある。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意努力
した結果、本発明の目的が、（１）光重合開始剤もしく
は光重合開始剤系、（２）エチレン性不飽和二重結合を
有する付加重合性モノマー、及び（３）（ａ）少なくと
も下記一般式（Ｉ）及び（ＩＩ）で示される繰り返し単
位を有する、数平均分子量が５００〜３０，０００の樹
脂と（ｂ）同一分子中に１級アミノ基とエチレン性不飽
和二重結合を有する化合物、及び必要に応じて更に下記
一般式（ＩＩＩ）で示される１級アミンとを無水物基の
１当量に対して１．０から０．１当量の比率で反応して
得られる樹脂、を含むことを特徴とする光重合性組成
物、及びそれを用いて作成した保護層を有するカラーフ
ィルターによって達成されることを見出し、本発明を成
すに至った。

【００１２】

【化３】

【００１３】〔式中、 Ａｒ¹ ：フェニル基（該フェニル基は炭素数１から４の
アルキル基、炭素数１から４のアルコキシ基、炭素数６
から１０のアリール基、炭素数８から１２のアラルキル
基、ハロゲン原子またはそれらの２種以上の組み合わせ
で置換されてもよい） ｘ、ｙ：樹脂中での繰り返し単位のモル分率で、ｘ＝
０．８５〜０．５５、ｙ＝０．１５〜０．４５ を表す。〕 Ｒ−ＮＨ₂ （ＩＩＩ） 〔式中、 Ｒ：炭素数１から１２のアルキル基、炭素数７から１６
のアラルキル基、炭素数６から１８のアリール基を表
す。（該アルキル基、アラルキル基、アリール基はそれ
ぞれ分岐を有してもよく、更に炭素数１から４のアルキ
ル基、炭素数１から６のアルコキシ基、炭素数６から１
０のアリール基、炭素数７から１２のアラルキル基、ハ
ロゲン原子またはそれらの２種以上の組み合わせで置換
されてもよい）を表す。〕以下、本発明を詳細に説明す
る。

【００１４】本発明に用いられる樹脂の組成は、繰り返
し単位の組成比がｘ＝０．８５〜０．５５、ｙ＝０．１
５〜０．４５が好ましいが、特に好ましくはｘ＝０．８
０〜０．５５、ｙ＝０．２０〜０．４５である。該ｘの
組成比が０．５５未満では光重合性組成物の露光部のア
ルカリ現像液への耐性が不足し、０．８５を越えると未
露光部の該現像液による現像性が劣る。

【００１５】樹脂の数平均分子量としては、５００から
３０，０００の分子量を持つものが好ましいがより好ま
しくは７００から２０，０００である。数平均分子量が
５００未満の共重合体は製造が難しく、３０，０００を
越えると、感光性層のアルカリ現像性が劣るとともに、
耐現像液性も劣る。すなわち、アルカリ現像性が劣るの
で長時間現像液に浸漬することになり、露光部も膨潤し
やすくなるので良質な画像が得られない。

【００１６】本発明に使用する樹脂は、例えば無水マレ
イン酸と以下の群の単量体の一種以上を常法に従い適当
な溶媒中で重合開始剤の存在下で共重合させることによ
り得られる。単量体の例としては、スチレン、メチルス
チレン、エチルスチレン、プロピルスチレン、イソプロ
ピルスチレン、ブチルスチレン、ｓｅｃ−ブチルスチレ
ン、ｔｅｒｔ−ブチルスチレン、ジメチルスチレン、ジ
エチルスチレン、メトキシスチレン、エトキシスチレ
ン、プロポキシスチレン、ブトキシスチレン、ビニルビ
フエニル、ベンジルスチレン、クロロスチレン、フロロ
スチレン、ブロモスチレン、クロロ−メチルスチレン等
が挙げられる。

【００１７】また本発明の樹脂の性能を損なわない範囲
で更にこれらと共重合可能な単量体と共重合させても良
い。これらの内、特に好ましい例としてはスチレン／マ
レイン酸無水物共重合体が挙げられる。

【００１８】本発明に用いられる同一分子中に１級アミ
ノ基とエチレン性不飽和二重結合を有する化合物として
は例えばアミノメチルスチレン、アミノスチレン、２−
アミノエチル（メタ）アクリルアミド、３−アミノプロ
ピル（メタ）アクリルアミド等が挙げられる。これらの
内ではアミノメチルスチレンが特に好ましい。

【００１９】また上記の同一分子中に１級アミノ基とエ
チレン性不飽和二重結合を有する化合物の他に一般式
（ＩＩＩ）で示される１級アミンを併用してもよい。こ
の様な１級アミンの具体例としては、ベンジルアミン、
フェネチルアミン、３−フェニル−１−プロピルアミ
ン、４−フェニル−１−ブチルアミン、５−フェニル−
１−ペンチルアミン、６−フェニル−１−ヘキシルアミ
ン、α−メチルベンジルアミン、２−メチルベンジルア
ミン、３−メチルベンジルアミン、４−メチルベンジル
アミン、２−（ｐ−トリル）エチルアミン、β−メチル
フェネチルアミン、１−メチル−３−フェニルプロピル
アミン、２−クロロベンジルアミン、３−クロロベンジ
ルアミン、４−クロロベンジルアミン、２−フロロベン
ジルアミン、３−フロロベンジルアミン、４−フロロベ
ンジルアミン、４−ブロモフェネチルアミン、２−（２
−クロロフェニル）エチルアミン、２−（３−クロロフ
ェニル）エチルアミン、２−（４−クロロフェニル）エ
チルアミン、２−（２−フロロフェニル）エチルアミ
ン、２−（３−フロロフェニル）エチルアミン、２−
（４−フロロフェニル）エチルアミン、４−フロロ−
α、α−ジメチルフェネチルアミン、２−メトキシベン
ジルアミン、３−メトキシベンジルアミン、４−メトキ
シベンジルアミン、２−エトキシベンジルアミン、２−
メトキシフェネチルアミン、３−メトキシフェネチルア
ミン、４−メトキシフェネチルアミン等を挙げる事がで
きる。特に好ましい１級アミンの例はベンジルアミン、
フェネチルアミンである。

【００２０】本発明において、該同一分子中に１級アミ
ノ基とエチレン性不飽和二重結合を有する化合物のみを
用いることも可能だが、原材料コストの面からは性能上
問題の無い範囲内で一般式（ＩＩＩ）で示される１級ア
ミンを併用することが望ましい。該同一分子中に１級ア
ミノ基とエチレン性不飽和二重結合を有する化合物と一
般式（ＩＩＩ）で示される１級アミンの比率の好ましい
範囲としては、１００：０〜１０：９０モル比であり、
特に好ましくは１００：０〜２０：８０モル比である。
該１級アミンの比率が９０モル％を越えると透明導電性
層の形成性に劣る。

【００２１】又、本発明において、（ａ）該共重合体と
（ｂ）該同一分子中に１級アミノ基とエチレン性不飽和
二重結合を有する化合物、及び必要に応じて併用する該
１級アミンの反応比率はマレイン酸無水物基の１当量に
対し、０．１から１．０当量が好ましいが、特に好まし
くは０．２から１．０当量である。０．１当量未満では
光重合性組成物の露光後の耐アルカリ現像液性が劣る。
またアミンの仕込量をマレイン酸無水物当量より過剰に
することで目的の反応を効率的に進行させることができ
るが、その場合は過剰のアミンを共重合体の再沈澱など
の方法により除去、精製することが望ましい。

【００２２】光重合性組成物中における樹脂の全量は、
組成物中の固形分に対して２０重量％から９０重量％で
あり、特に好ましくは３０重量％から７０重量％であ
る。２０重量％未満では感光性層のタッキネスが増加し
てしまい取り扱い性に劣り、９０重量％を超えると組成
物の露光部のアルカリ現像液への耐性が劣る。

【００２３】エチレン性不飽和二重結合を有する付加重
合性モノマーは単独でまたは他のモノマーとの組み合わ
せで使用することができるもので、具体的には、ｔ−ブ
チル（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）ア
クリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリ
レート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレ
ート、２−エチル−２−ブチル−プロパンジオールジ
（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メ
タ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メ
タ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メ
タ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メ
タ）アクリレート、ポリオキシエチル化トリメチロール
プロパントリ（メタ）アクリレート、トリス（２−（メ
タ）アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、
１，４−ジイソプロペニルベンゼン、１，４−ジヒドロ
キシベンゼンジ（メタ）アクリレート、デカメチレング
リコールジ（メタ）アクリレート、スチレン、ジアリル
フマレート、トリメリット酸トリアリル、ラウリル（メ
タ）アクリレート、（メタ）アクリルアミドまたはキシ
リレンビス（メタ）アクリルアミドが含まれる。また２
−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロ
キシプロピル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリ
コールモノ（メタ）アクリレート等のようなヒドロキシ
ル基を有する化合物とヘキサメチレンジイソシアネー
ト、トルエンジイソシアネート、キシレンジイソシアネ
ート等のジイソシアネートとの反応物も使用できる。こ
れらの内、特に好ましいのはペンタエリスリトールテト
ラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリ
レート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、
トリス（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレ
ートである。

【００２４】光重合性組成物中におけるモノマーの全量
は、組成物の全固形分に対して１０重量％から８０重量
％であり、特に好ましくは３０重量％から７０重量％で
ある。１０重量％未満では組成物の露光部のアルカリ現
像液への耐性が劣り、８０重量％を越えると感光性層の
タッキネスが増加してしまい取り扱い性に劣る。

【００２５】本発明の光重合性組成物中に含ませる光重
合開始剤または光重合開始剤系は、実質的に、既知の全
ての開始剤あるいは開始剤系を使用する事ができる。例
としては、ｐ−メトキシフェニル−２，４−ビス（トリ
クロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−ブトキシ
スチリル）−５−トリクロロメチル−１，３，４−オキ
サジアゾール、９−フェニルアクリジン、９，１０−ジ
メチルベンズフェナジン、ベンゾフェノン／ミヒラーズ
ケトン、ヘキサアリールビイミダゾール／メルカプトベ
ンズイミダゾール、ベンジルジメチルケタール、チオキ
サントン／アミン、特願平６−２１２７９４号公報に記
載のビス（ハロゲン置換メチルオキサジアゾール）、特
願平６−２５３７５６号公報に記載のトリハロメチル−
ｓ−トリアジン、特願平６−２６８９５３号公報に記載
のビス（トリハロメチル−ｓ−トリアジン）などがあ
る。特に好ましいのは２−（ｐ−ブトキシスチリル）−
５−トリクロロメチル−１，３，４−オキサジアゾール
のようなトリハロメチル基含有化合物である。光重合開
始剤の添加量は全固形分の０．１重量％から２０重量
％、特に好ましくは０．５重量％から５重量％である。
０．１重量％未満では組成物の光硬化の効率が低いので
露光に長時間がかかり、２０重量％を越えると、紫外線
領域から可視領域での光透過率が劣化するのでカラーフ
ィルターの保護層には不適となる。更に公知の添加剤、
例えば可塑剤、充填剤、安定化剤等を含有させる事がで
き、カラーフイルターの保護層以外の用途には顔料、染
料等を添加することもできる。

【００２６】本発明の光重合性組成物は、カラーフィル
ターの保護層形成用材料として好適である。即ち、本発
明の光重合性組成物を前記画素を有するカラーフィルタ
ーの上に層状に設けた後、露光・現像・加熱等の工程を
経て保護層を形成する。層状に設けるには、例えば溶液
をロールコーター、バーコーターなどにより塗布する方
法、溶液を噴霧吹き付け・液中に浸漬するなどの公知の
手段により塗布する方法、もしくは仮支持体上に光重合
性組成物層を形成し、これを転写する方法等がある。保
護層の厚さは通常０．１μｍから５０μｍであり、特に
好ましくは、０．５μｍから５μｍである。

【００２７】カラーフィルターの支持体としては、金属
性支持体、金属張り合わせ支持体、ガラス、セラミッ
ク、合成樹脂フイルム等を使用することができる。特に
好ましくは、透明で寸度安定性の良好なガラスや合成樹
脂フイルムを挙げることができる。

【００２８】本発明の光重合性組成物は層転写材料とし
ても使用される。即ち、光重合性組成物は仮支持体、好
ましくはポリエチレンテレフタレートフィルム上に直
接、または酸素遮断層、剥離層、もしくは剥離層および
酸素遮断層を設けたポリエチレンテレフタレートフィル
ム上に層状に設け、通常その上に取扱上の保護のために
除去可能な合成樹脂製カバーシートを積層する。または
仮支持体上にアルカリ可溶性熱可塑性樹脂層及び中間層
を設け、更に光重合性組成物層を設けた層構成（特開平
５−１７３３２０号公報に記載）も適用できる。

【００２９】使用時に該カバーシートを除去し、光重合
性組成物層を永久支持体上、例えばカラーフィルター画
素を有する支持体表面に積層する。ついで、酸素遮断
層、剥離層等があるときはそれらの層と仮支持体の間
で、剥離層および酸素遮断層があるときは剥離層と酸素
遮断層の間で、剥離層も酸素遮断層もないときには仮支
持体と光重合性組成物層の間で剥離して、仮支持体を除
去することにより、該組成物層をカラーフィルター層上
に積層する。ついで露光を行うが、ＳＴＮの場合の様
に、カラーフィルター層上に保護層を介して透明電極を
形成する時には、マスクを通して露光し、現像して保護
層をパターンニングする。現像は重合していない領域を
適当なアルカリ現像液で洗い去ることによっておこなわ
れる。一方、ＴＦＴの場合の様に、全面に透明導電層を
有する時には、マスクを必要としない。

【００３０】本発明の光重合性組成物の現像液として
は、アルカリ性物質の希薄水溶液を使用するが、さらに
水と混和性の有機溶剤を少量添加したものも含まれる。
適当なアルカリ性物質はアルカリ金属水酸化物類（例え
ば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム）、アルカリ金属
炭酸塩類（例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム）、ア
ルカリ金属重炭酸塩類（炭酸水素ナトリウム、炭酸水素
カリウム）、アルカリ金属ケイ酸塩類（ケイ酸ナトリウ
ム、ケイ酸カリウム）アルカリ金属メタケイ酸塩類（メ
タケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウム）、トリエタ
ノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールア
ミン、モルホリン、テトラアルキルアンモンニウムヒド
ロキシド類（例えばテトラメチルアンモニウムヒドロキ
シド）または燐酸三ナトリウムである。アルカリ性物質
の濃度は、０．０１重量％〜３０重量％であり、ｐＨは
８〜１４が好ましい。

【００３１】水と混和性のある適当な有機溶剤は、メタ
ノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノ
ール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレング
リコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノ
エチルエーテル、エチレングリコールモノｎ−ブチルエ
ーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチル
ケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−
ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセ
トアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、
乳酸メチル、ε−カプロラクタム、Ｎ−メチルピロリド
ンである。水と混和性の有機溶剤の濃度は０．１重量％
〜３０重量％である。さらに公知の界面活性剤を添加す
ることができる。界面活性剤の濃度は０．０１重量％〜
１０重量％が好ましい。

【００３２】現像液は、浴液としても、あるいは噴霧液
としても用いることができる。光重合性組成物層の未硬
化部分を除去するには現像液中で回転ブラシで擦るか湿
潤スポンジで擦るなどの方法を組み合わせることができ
る。現像液の液温度は通常室温付近から４０℃が好まし
い。現像処理の後に水洗工程を入れることも可能であ
る。

【００３３】現像工程の後、加熱処理を行う。即ち、露
光により光重合した層（以下、光硬化層と称する）を有
する支持体を電気炉、乾燥器等の中で加熱する、または
光硬化層に赤外線ランプを照射する。加熱の温度及び時
間は使用した重合性組成物の組成や形成された層の厚み
に依存する。一般に、十分な耐溶剤性、耐アルカリ性を
獲得するのに、約１２０℃から約２５０℃で約１０分か
ら約６０分間加熱することが好ましい。

【００３４】次に、こうして形成された保護層の上にＩ
ＴＯ（酸化インジウムスズ）層をスパッタ法により形成
する。ＩＴＯ層を透明電極として加工する場合には、該
ＩＴＯ層上にフォトレジスト層を形成し、電極パターン
を焼き付け、フォトレジスト層を現像し、該ＩＴＯ層を
エッチングし、該フォトレジストを剥離する。さらに配
向膜の形成には、一般的にはＮ−メチルピロリドンやγ
−ブチロラクトンのような極性有機溶媒を溶剤として含
むポリイミドのような配向膜形成用塗液が塗布され、乾
燥され、配向処理が施される。

【００３５】本発明の光重合性組成物は、公知の種々の
方法、例えば転写法、着色レジスト法、染色法、印刷
法、電着法等のいずれの方法で作成されたカラーフィル
ターに対しても、保護層形成用材料として有用である。

【００３６】本発明の光重合性組成物はカラーフィルタ
ー層上の保護層形成に好適に使用できるが、この用途に
限定されるものではない。染料、顔料を含有させて高度
の耐薬品性が必要とされるカラーフィルター画素形成用
の着色レジスト（例えば特開昭６３−２９８３０４に開
示）、プリント基板用ソルダーレジスト（例えば特開平
３−２２３８５６に開示）、無電解メッキ用レジスト
（同公報に開示）、電気素子の保護膜、層間絶縁膜、接
着剤（以上例えば特開平３−１２６９５０に開示）、ス
ペーサー材料等にも有用である。以下、本発明を実施例
によって説明するが、本発明はこれらに限定されるもの
ではない。特に断らない限り、「部」は重量部を、
「％」は重量％を表す。

【００３７】

【実施例】

合成例１ スチレン／マレイン酸無水物＝６８／３２モル比の共重
合体（数平均分子量＝２８００）１１０．３部をプロピ
レングリコールモノメチルエーテルアセテート／メチル
エチルケトン＝１／１重量比の混合溶媒４４１．２部に
溶解した。これにアミノメチルスチレン１４．４部（酸
無水物に対して０．５当量）、ベンジルアミン２７．０
部（酸無水物に対して０．５当量）、２，５−ジ−ｔ−
ヘキシルハイドロキノン０．０２部をプロピレングリコ
ールモノメチルエーテルアセテート／メチルエチルケト
ン＝１／１重量比の混合溶媒１６５．６部に溶解した溶
液を室温で約１時間かけて滴下した。更に室温下で６時
間攪拌することでスチレン／マレイン酸無水物共重合体
の変性体を得た。

【００３８】実施例１ ＜カラーフィルター層の作成＞厚さ１００μｍのポリエ
チレンテレフタレートフィルム仮支持体の上に下記の処
方Ｈ１からなる塗布液を塗布、乾燥させ、乾燥膜厚が２
０μｍの熱可塑性樹脂層を設けた。

【００３９】 熱可塑性樹脂層処方Ｈ１： ・塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体（重量比：塩ビ／酢ビ＝７５／２５、 重合度：約４００、日信化学（株）製ＭＰＲ−ＴＳＬ） ２９０．０ｇ ・塩化ビニル−酢酸ビニル−マレイン酸共重合体（重量比：塩ビ／酢ビ／ マレイン酸＝８６／１３／１、重合度：約４００、日信化学（株） ・製ＭＰＲ−ＴＭ ７６．０ｇ ・フタル酸ジブチル ８８．５ｇ ・フッ素系界面活性剤（大日本インキ（株）製Ｆ−１７７Ｐ） ５．４ｇ ・ＭＥＫ ９７５．０ｇ

【００４０】次に上記熱可塑性樹脂層上に下記処方Ｂ１
から成る塗布液を塗布、乾燥させ、乾燥膜厚が１．６μ
ｍ厚の分離層を設けた。 分離層処方Ｂ１： ・ポリビニルアルコール（クラレ（株）製ＰＶＡ２０５、鹸化率＝８０％） １７３．２ｇ ・弗素系界面活性剤 ８ｇ ・蒸留水 ２８００ｇ

【００４１】上記熱可塑性樹脂層及び分離層を有する４
枚の仮支持体の上に、それぞれ表１の処方を有する、黒
（Ｂｌ層用）、赤（Ｒ層用）、青（Ｂ層用）及び緑（Ｇ
層用）の４色の感光性溶液を塗布、乾燥させ、乾燥膜厚
が２μｍの着色感光性樹脂層を形成した。

【００４２】 表１：着色感光層用塗布液の組成 赤 青 緑 黒 (ｇ) (ｇ) (ｇ) (ｇ) ────────────────────────────────── ・ヘ゛ンシ゛ルメタクリレート／ 60.0 60.0 60.0 60.0 メタクリル酸共重合体 （モル比＝73/27 粘度＝0.12） ・ペンタエリスリトール 43.2 43.2 43.2 43.2 テトラアクリレート ・ミヒラーズケトン 2.4 2.4 2.4 2.4 ・２−（ｏ−クロロフェニル−４，５− 2.5 2.5 2.5 2.5 ジフェニルイミダゾール２量体 ・イルガシンレッドＢＰＴ(赤色) 5.4 --- --- --- ・スーダンブルー(青色) --- 5.2 --- --- ・銅フタロシアニン(緑色) --- --- 5.6 --- ・カーボンブラック(黒色) --- --- --- 5.6 ・メチルセロソルブアセテート 560 560 560 560 ・メチルエチルケトン 280 280 280 280 ──────────────────────────────────

【００４３】さらに上記感光性樹脂層の上にポリプロピ
レン（厚さ１２μｍ）の被覆シートを圧着し、赤色、青
色、緑色および黒色感光性転写材料を作成した。この感
光性転写材料を用いて、以下の方法でカラーフィルター
を作成した。赤色感光性転写材料の被覆シートを剥離
し、感光性樹脂層面を透明ガラス基板（厚さ１．１ｍ
ｍ）にラミネーター（大成ラミネータ（株）製ＶＰ−Ｉ
Ｉ）を用いて加圧（０．８ｋｇ／ｃｍ²）、加熱（１３
０℃）して貼り合わせ、続い て分離層と熱可塑性樹脂
層との界面で剥離し、仮支持体と熱可塑性樹脂層を同時
に除去した。次に所定のフォトマスクを介して露光し、
下記処方の現像液を用いて３５℃で８０秒間浸漬し、不
要部を除去した後、水洗・乾燥を行い、ガラス基板上に
赤色画素パターンを形成した。

【００４４】現像液処方 ・炭酸ナトリウム １５ｇ ・ブチルセロソルブ １ｇ ・水 １ｋｇ

【００４５】次いで、赤色画素パターンが形成されたガ
ラス基板上に、緑色感光性転写材料を上記と同様にして
貼り合わせ、剥離、露光、現像を行ない、緑色画素パタ
ーンを形成した。同様な工程を青色、黒色感光性転写材
料で繰り返し、透明ガラス基板上にカラーフィルターを
形成した。

【００４６】＜保護層形成用塗液の製造＞次の組成で混
合溶解し、０．２μｍの穴径のフィルターでろ過し保護
層形成用塗液を調製した。 ・合成例１で製造した樹脂の２０重量％溶液（溶媒はプロピレングリコールモ ノメチルエーテルアセテート／メチルエチルケトンの１／１重量比混合物） ６８部 ・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート ３．４部 ・トリス（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート １０．２部 ・２−（４−ブトキシスチリル）−５−トリクロロメチル− １，３，４−オキサジアゾール ０．６５部 ・ハイドロキノンモノメチルエーテル ０．００７部 ・ふっ素系界面活性剤（大日本インキ化学（株）製 Ｆ１７７Ｐ） ０．００２部

【００４７】＜保護層の製造＞１．１ｍｍ厚のガラス基
板（大きさ３５０ｍｍ×４００ｍｍ）上に形成された、
Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の画素を有するカラーフ
ィルター層上に前記の保護層形成用塗液を、スピンコー
ターで塗布して乾燥し、３μｍ厚みの保護層形成用感光
性層を形成した。超高圧水銀灯光源のアライナーを用
い、保護層焼き付け用マスクを通して２００ｍｊ／ｃｍ
² の光量で紫外線照射した。その後、１％炭酸ナトリウ
ム水溶液である現像液をこの基板上に噴霧する事により
現像し、水洗した。その後、加熱処理のため、２００℃
の乾燥器中に２０分間放置したあとで冷却した。

【００４８】こうして得られたカラーフィルター層上の
保護層に、ＩＴＯ膜をスパッタする事により０．２μｍ
厚で設け、さらにＩＴＯ膜上にポジ型フォトレジスト
（フジハントエレクトロニクステクノロジー社製、ＦＨ
２１３０）を形成後、電極パターンマスクを介して露光
し、現像し、塩酸／塩化鉄水溶液でＩＴＯ層をエッチン
グし、レジスト剥離液（フジハントエレクトロニクステ
クノロジー社製、ＭＳ２００１）で剥離したところ、全
く欠陥のないＩＴＯ電極が得られた。粘着テープを用い
てこの電極を剥離しようとしたが剥がれなかった。また
この上に配向膜塗液（ポリイミド樹脂のＮ−メチルピロ
リドン／γ−ブチロラクトン溶液）を、スピンコーター
で塗布し乾燥したが、膨潤する事なく配向膜層が得られ
た。その他の項目の評価結果を表３に示す。

【００４９】実施例２ （フィルム状保護層形成用材
料） 実施例１の保護層形成用塗液を厚さ７５μｍのポリエチ
レンテレフタレートフィルム仮支持体上に塗布し、乾燥
して３μｍ厚の保護層形成用感光性層を形成した。この
上に厚さ１５μｍのポリプロピレン製カバーシートをラ
ミネートし、フィルム状保護層形成用材料を得た。実施
例１に記載のカラーフィルター層を有するガラス基板を
用意した。まず、該フィルム状保護層形成用材料からカ
バーシートを除去し、該感光性層をカラーフィルター層
と接触するように重ね、ラミネータを用い積層した。そ
の後該仮支持体を剥したところ、カラーフィルター層上
に感光性層が形成された。以下は実施例１と同様に、感
光性層を露光現像し、加熱処理する事で、保護層が形成
された。この保護層上に、実施例１と同様にＩＴＯの電
極を形成したところ、密着し、欠陥のないＩＴＯ電極が
得られた。また同様に保護層が膨潤する事なく、配向膜
も形成する事ができた。又、その他の項目の評価結果を
表３に示す。

【００５０】実施例３ 実施例１で作成した熱可塑性層と分離層を有するポリエ
チレンテレフタレートフィルム仮支持体上に、実施例１
の保護像形成用塗液を塗布し、この上に厚さ１５μｍの
ポリプロピレン製カバーフィルムをラミネートしてフィ
ルム状感光性転写材料を得た。実施例２と同様にしてカ
ラーフィルター層を有するガラス基板上に該フィルム状
感光性転写材料を積層し、仮支持体を剥離除去後、実施
例１と同様にして露光現像し、加熱処理を施したとこ
ろ、カラーフィルター層の画素部に気泡やピンホール等
の欠陥の無い保護層が得られた。鉛筆硬度は５Ｈであっ
た。この保護層上に、実施例１と同様にＩＴＯの電極を
形成したところ、シワやクラック等の欠陥もなくまた密
着も申し分のないＩＴＯ電極が得られた。また同様に保
護層が膨潤することなく、配向膜も形成できた。又、そ
の他の項目の評価結果を表３に示す。

【００５１】合成例２〜１１ 表２に示した樹脂、同一分子中に１級アミノ基とエチレ
ン性不飽和二重結合を有する化合物、及び必要に応じて
更にその他の１級アミンを用いて、合成例１と同様にし
てスチレン／マレイン酸無水物共重合体の変性体（分子
中にマレイン酸モノアミドとエチレン性不飽和二重結合
とを有する樹脂）、又は比較用にスチレン／マレイン酸
無水物共重合体のアミン変性体（分子中にマレイン酸モ
ノアミドを有する樹脂）等を得た。

【００５２】 表２：樹脂の合成例 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 原料樹脂 数平均 重合性アミン その他のアミン 合成例 組成(モル比) 分子量 無水物に 無水物に Ｎｏ． St/MAH 構造 対する 構造 対する 当量 当量 ──────────────────────────────────── １ 68/32 2800 アミノメチルスチレン 0.5 ヘ゛ンシ゛ルアミン 0.5 ２ 68/32 2800 アミノメチルスチレン 0.8 ヘ゛ンシ゛ルアミン 0.2 ３ 68/32 2800 アミノメチルスチレン 1.0 ４ 68/32 4000 アミノメチルスチレン 0.5 ヘ゛ンシ゛ルアミン 0.5 ５ 68/32 11300 アミノメチルスチレン 0.5 ヘ゛ンシ゛ルアミン 0.5 ６ 68/32 2800 アミノメチルスチレン 0.5 フェネチルアミン 0.5 ７ 68/32 2800 アミノメチルスチレン 0.5 シクロヘキシルアミン 0.5 ８ 68/32 2800 アミノスチレン 0.5 ヘ゛ンシ゛ルアミン 0.5 ９ 68/32 2800 − − ヘ゛ンシ゛ルアミン 1.0 １０ 68/32 2800 − − シクロヘキシルアミン 0.7 １１ 90/10 2800 アミノメチルスチレン 0.5 ヘ゛ンシ゛ルアミン 0.5 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ St：スチレン MAH：無水マレイン酸

【００５３】合成例１２ スチレン／マレイン酸無水物＝６８／３２モル比の共重
合体（数平均分子量＝２８００）１２２．５部をプロピ
レングリコールモノメチルエーテルアセテート／メチル
エチルケトン＝５０／５０重量比の混合溶媒４９０．０
部に溶解した。これに２−ヒドロキシエチルアクリレー
ト４６．４部（酸無水物に対して１．０当量）、プロピ
レングリコールモノメチルエーテルアセテート／メチル
エチルケトン＝５０／５０重量比の混合溶媒１８５．６
部、４−ジメチルアミノピリジン２．４部、２，５−ジ
−ｔ−ヘキシルハイドロキノン０．０５部を加え６０℃
で１２時間反応させる事によりスチレン／マレイン酸無
水物共重合体の変性体（分子中にカルボキシル基とエチ
レン性不飽和二重結合とを有する樹脂）を得た。

【００５４】合成例１３ 特開平５−２５７００９号明細書に記載の実施例３のメ
タクリル酸メチル／スチレン／マレイン酸とグリシジル
メタクリレートの付加反応物（分子中にカルボキシル基
とエチレン性不飽和二重結合とを有する樹脂）に関して
実施した。

【００５５】合成例１４ 特開平２−９７５０２号明細書に記載の実施例１のスチ
レン／メチルメタクリレート／マレイン酸無水物共重合
体（数平均分子量３００００、マレイン酸無水物単位は
１６モル％、プロピルアミン１．１当量使用）に関して
実施した。

【００５６】実施例４〜１０及び比較例１〜６ 実施例３と同様にして合成例２〜８（実施例）及び９〜
１４（比較例）の樹脂を用いて保護層形成用塗布液を調
製し、同様に評価を行った。評価結果を表３に示す。

【００５７】比較例７ 実施例３のジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
１．４部を６．８部に変更する以外は実施例３と同様に
して合成例９の樹脂を用いて保護層形成用塗布液を調製
し、同様に評価を行った。評価結果を表３に示す。各サ
ンプルの性能の評価方法を以下に記す。

【００５８】１．現像性 ガラス基板上にスピンコーターで、３μｍの膜厚になる
ように塗布した感光性層を１％炭酸ナトリウム水溶液中
に３０℃で１分間浸漬して、溶解するかどうかで評価し
た。

【００５９】２．耐現像液性 ガラス基板上に３μｍの膜厚になるように、スピンコー
ターで塗布した感光性層を、８０μｍ×３００μｍの矩
形の画像が得られるマスクを通して２００ｍｊ／ｃｍ²
露光し、１％炭酸ナトリウム水溶液中に３０℃で１分間
浸漬して、露光部が基板に密着しているかどうかで評価
した。

【００６０】３．平坦性 ガラス基板上の２μｍ厚のカラーフィルター層上（２μ
ｍの凹凸有り）に３μｍになるように感光性層を形成
し、露光（２００ｍｊ／ｃｍ² ）、現像、後加熱（２０
０℃、６０分）して得られる保護層の表面の凹凸を、膜
厚計を用いて測定して評価した。

【００６１】４．硬度 ガラス基板上に３μｍ厚の感光性層を形成し、露光（２
００ｍｊ／ｃｍ²）、現像、後加熱（２００℃、６０
分）したあとで、ＪＩＳ Ｋ５４００の鉛筆硬度試験に
従って評価した。

【００６２】５．耐アルカリ性 ガラス基板上に３μｍ厚の感光性層を形成し、露光（２
００ｍｊ／ｃｍ²）、現像、後加熱（２００℃、６０
分）したあとで、５％ＫＯＨ水溶液に５０℃で３０分間
浸漬した後で、表面にシワや濁りが生成しないかどうか
で評価した。

【００６３】６．光透過性 ガラス基板上に３μｍ厚の保護層形成用感光性層を形成
し、全面露光（２００ｍｊ／ｃｍ²）、現像、後加熱
（２００℃、６０分）したあとで、表面のクリヤーなも
のを透明性良好、曇りの発生するものを透明性不良と判
定した。

【００６４】７．基板密着性 ガラス基板上に３μｍ厚の保護層形成用感光性層を形成
し、全面露光（２００ｍｊ／ｃｍ²）し、現像後、及び
後加熱（２００℃、６０分）したあとで、クロスカット
し、マイラーテープで剥離して密着性を評価した。１０
０ケのクロスカット部に何も剥がれの無いものを密着性
良好、１ケ所でも剥がれを生じたものを密着性不良と判
定した。

【００６５】８．透明導電性層の形成性 ガラス基板上に３μｍ厚の保護層形成用感光性樹脂層を
形成し、全面露光（２００ｍｊ／ｃｍ²）、現像、後加
熱（２００℃、６０分）したあとで日電アネルバ社製高
周波スパッタリング装置を用い、インジウムスズ酸化物
（スズ酸化物含有率６重量％）を電圧８００Ｖ、電流
１．８Ａ、出力２７０Ｗ、アルゴン圧力５×１０^-4Ｔｏ
ｒｒの条件で１０分間蒸着した。得られた透明導電性層
の面状を顕微鏡で観察し、更にテープ剥離による密着テ
ストを行ない、透明導電性層の形成性を評価した。透明
導電性層の表面が平坦かつ均一で、密着テストで剥がれ
等の故障のないものを透明導電性層の形成性良好、透明
導電性層の表面にシワやクラックが発生しているもの、
或いは密着テストにより透明導電性層が剥がれてしまう
ものは形成性不良と判定した。

【００６６】９．タック ガラス基板上にスピンコーターで３μｍの膜厚になるよ
うに塗布し、８０℃で２分間乾燥して保護層形成様感光
性層を得た。指触テストにより表面の粘着性を評価し、
同様にして得られたカラーモザイクＫ（富士ハントエレ
クトロニクステクノロジー製）の塗膜の表面の粘着性と
比較し、カラーモザイクＫの塗膜と同等以上を良好とし
た。以上の項目の評価結果を表３に示す。

【００６７】

【表１】

【００６８】これから、評価したすべての項目に於い
て、本発明になる光重合性組成物が優れた性能を発揮し
ていることが判る。

【００６９】

【発明の効果】本発明の光重合性組成物は、優れたアル
カリ溶解性を有し、かつ光重合した部分は優れた耐現像
液性、硬度、耐アルカリ性、光透過性、基板密着性、透
明導電性層形成性、低いタックを有する。カラーフィル
ターの保護層の形成に特に有用で、耐性の優れた、平坦
性の高い保護層を形成することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０２Ｂ 5/20 １０１ Ｇ０３Ｆ 7/004 ５０３ 7/027 ５０２ 7/028 Ｇ０９Ｆ 9/00 ３２１ Ｄ 7426−5Ｈ (72)発明者 高柳 丘 静岡県富士宮市大中里200番地 富士写真 フイルム株式会社内

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （１）光重合開始剤もしくは光重合開始
   剤系、 （２）エチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性モ
   ノマー、及び （３）（ａ）少なくとも下記一般式（Ｉ）及び（ＩＩ）
   で示される繰り返し単位を有する、数平均分子量が５０
   ０〜３０，０００の樹脂と（ｂ）同一分子中に１級アミ
   ノ基とエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を無水
   物基の１当量に対して１．０から０．１当量の比率で反
   応して得られる樹脂、を含む事を特徴とする光重合性組
   成物。 【化１】 〔式中、 Ａｒ¹ ：フェニル基（該フェニル基は炭素数１から４の
   アルキル基、炭素数１から４のアルコキシ基、炭素数６
   から１０のアリール基、炭素数８から１２のアラルキル
   基、ハロゲン原子もしくはそれらの２種以上の組み合わ
   せで置換されてもよい） ｘ、ｙ：樹脂中での繰り返し単位のモル分率で、ｘ＝
   ０．８５〜０．５５、ｙ＝０．１５〜０．４５ を表す。〕
2. 【請求項２】 （１）光重合開始剤もしくは光重合開始
   剤系、 （２）エチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性モ
   ノマー、及び （３）（ａ）少なくとも下記一般式（Ｉ）及び（ＩＩ）
   で示される繰り返し単位を有する、数平均分子量が５０
   ０〜３０，０００の樹脂と（ｂ）同一分子中に１級アミ
   ノ基とエチレン性不飽和二重結合を有する化合物及び下
   記一般式（ＩＩＩ）で示される１級アミンとの合計量が
   無水物基の１当量に対して１．０から０．１当量の比率
   で反応して得られる樹脂、を含む事を特徴とする光重合
   性組成物。 【化２】 〔式中、 Ａｒ¹ ：フェニル基（該フェニル基は炭素数１から４の
   アルキル基、炭素数１から４のアルコキシ基、炭素数６
   から１０のアリール基、炭素数８から１２のアラルキル
   基、ハロゲン原子またはそれらの２種以上の組み合わせ
   で置換されてもよい） ｘ、ｙ：樹脂中での繰り返し単位のモル分率で、ｘ＝
   ０．８５〜０．５５、ｙ＝０．１５〜０．４５ を表す。〕 Ｒ−ＮＨ₂ （ＩＩＩ） 〔式中、 Ｒ：炭素数１から１２のアルキル基、炭素数７から１６
   のアラルキル基、炭素数６から１８のアリール基を表
   す。（該アルキル基、アラルキル基、アリール基はそれ
   ぞれ分岐を有してもよく、更に炭素数１から４のアルキ
   ル基、炭素数１から６のアルコキシ基、炭素数６から１
   ０のアリール基、炭素数７から１２のアラルキル基、ハ
   ロゲン原子またはそれらの２種以上の組み合わせで置換
   されてもよい）を表す。〕
3. 【請求項３】 請求項１もしくは請求項２において、該
   同一分子中に１級アミノ基とエチレン性不飽和二重結合
   を有する化合物がアミノメチルスチレンである事を特徴
   とする光重合性組成物。
4. 【請求項４】 請求項１もしくは請求項２において、該
   １級アミンが下記一般式（ＩＶ）で示されるアラルキル
   アミンである事を特徴とする光重合性組成物。 Ａｒ²−Ｒ'−ＮＨ₂ （ＩＶ） 〔式中、 Ｒ’：分岐を有してもよい炭素数１から６のアルキレ
   ン、 Ａｒ² ：アリール基（該アリール基は炭素数１から４の
   アルキル基、炭素数１から６のアルコキシ基、炭素数６
   から１０のアリール基、炭素数７から１２のアラルキル
   基、ハロゲン原子またはそれらの２種以上の組み合わせ
   で置換されてもよい）を表す。〕
5. 【請求項５】 透明基板上に少なくとも赤、緑、青色の
   画素がマトリックス状に配置された多色層の上に、請求
   項１〜請求項４のいずれかに記載の光重合性組成物の硬
   化物から成る保護層を有することを特徴とするカラーフ
   ィルター。
6. 【請求項６】 透明基板上に少なくとも赤、緑、青色の
   画素がマトリックス状に配置された多色層の上に、請求
   項１〜請求項４のいずれかに記載の光重合性組成物の層
   を形成し、露光し、アルカリ水溶液を用いて未露光部を
   除去し、次いで露光部を加熱により硬化することを特徴
   とするカラーフィルターの製造方法。
7. 【請求項７】 透明基板上に少なくとも赤、緑、青色の
   画素がマトリックス状に配置された多色層の上に、仮支
   持体上に請求項１〜請求項４のいずれかに記載の光重合
   性組成物の層を有する感光材料を密着させ、該光重合性
   組成物の層を該多色層上に転写し、露光し、アルカリ水
   溶液を用いて未露光部を除去し、次いで露光部を加熱に
   より硬化することを特徴とするカラーフィルターの製造
   方法。