JPH08186016A - Bonded magnet having plating film and manufacturing method thereof - Google Patents

Bonded magnet having plating film and manufacturing method thereof

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JPH08186016A
JPH08186016A JP6328743A JP32874394A JPH08186016A JP H08186016 A JPH08186016 A JP H08186016A JP 6328743 A JP6328743 A JP 6328743A JP 32874394 A JP32874394 A JP 32874394A JP H08186016 A JPH08186016 A JP H08186016A
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JP
Japan
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bonded magnet
conductive
coating layer
layer
resin
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JP6328743A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoshitaka Sato
義隆 佐藤
Masataka Yoshimoto
正孝 吉本
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NIPPON COATING SYST KK
Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
NIPPON COATING SYST KK
Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
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Publication date
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01FMAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F41/00Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
    • H01F41/02Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets
    • H01F41/0253Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets for manufacturing permanent magnets
    • H01F41/026Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets for manufacturing permanent magnets protecting methods against environmental influences, e.g. oxygen, by surface treatment

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Abstract

PURPOSE: To provide the title bonded magnet having plating film and manufacturing method thereof in simple procedures having excellent corrosion resistance as well as dimentional precision and beautiful appearance and formable into any complicated shape. CONSTITUTION: The title bonding magnet mainly comprising a magnetic particle body 1 and a binder represented by R-T-B (where R represents Nd or a part thereof substituted with a rare earth element, T represents Fe or a part thereof substituted with a transition element is painted with a mixture of resin 4 and conductive materials 5 so as to form a conductive film layer B on the bonding magnet base material A surface and then the surface of the conductive film layer B is smoothed to electroplate the surface of the smoothed conductive film layer B.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はめっき被膜を有するボン
ド磁石とその製造方法に関し、更に詳しくは、耐食性及
び美観に優れることは勿論のこと、寸法精度にも優れ、
また複雑形状にも対応可能であり、しかも製造手順も簡
易なめっき被膜を有するボンド磁石とこのボンド磁石を
製造する方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a bonded magnet having a plating film and a method for producing the same, and more specifically, it is excellent not only in corrosion resistance and aesthetics but also in dimensional accuracy.
Further, the present invention relates to a bond magnet having a plating film which can be used for a complicated shape and has a simple manufacturing procedure, and a method for manufacturing the bond magnet.

【0002】[0002]

【従来の技術】希土類金属と遷移金属とを主成分とする
合金磁石(以下希土類磁石という)は、従来のフェライ
ト系、アルニコ系磁石と比べて優れた磁気特性を有して
いるため、近年多方面に利用されているが、酸化され易
い欠点を有しており、特にNd−Fe−B系磁石ではそ
の傾向が著しい。かかる希土類磁性粉体を合成樹脂結合
剤で固着せしめた樹脂結合型磁石は、使用環境が高湿雰
囲気である場合には酸化による磁気特性の劣化が生じる
問題をはらんでいる。
2. Description of the Related Art Alloy magnets containing rare earth metals and transition metals as main components (hereinafter referred to as "rare earth magnets") have excellent magnetic properties as compared with conventional ferrite-based and alnico-based magnets, and thus have been widely used in recent years. Although it is used in various fields, it has a drawback that it is easily oxidized, and this tendency is remarkable especially in Nd-Fe-B magnets. The resin-bonded magnet in which such a rare earth magnetic powder is fixed with a synthetic resin binder has a problem that the magnetic characteristics are deteriorated due to oxidation when the usage environment is a high humidity atmosphere.

【0003】一方、表面に導電性を有する材料に、割
れ、欠けの防止や美観の付与を目的とした金属被膜処理
を施す方法の一つとして電気めっき法が多用されている
ことは周知の事実である。更に耐酸化性、耐腐食性を付
与することを目的としためっきを施すことも一般的に行
われている。ここで電気めっき法とは、被処理物を陰極
(カソード)とし、この上で還元反応を起こして金属を
被処理物上に析出させ、その際陽極においては陰極の被
処理物上に析出した金属を補うための金属溶解が発生す
る機構に基づく金属被膜の形成法を指している。
On the other hand, it is well known that the electroplating method is frequently used as one of the methods for applying a metal coating treatment to a material having a conductive surface so as to prevent cracking and chipping and to give an aesthetic appearance. Is. Furthermore, it is also common to carry out plating for the purpose of imparting oxidation resistance and corrosion resistance. Here, the electroplating method means that the object to be treated is a cathode (cathode), a reduction reaction is caused on this to deposit a metal on the object to be treated, and at the time of the anode, it is deposited on the object to be treated on the cathode. It refers to a method for forming a metal coating based on the mechanism of metal dissolution to supplement the metal.

【0004】本発明者らは以前より電気めっき法をボン
ド磁石に施すことを試み、耐食性付与効果の向上を目指
してきた。本発明者らはNd−Fe−B系磁石に限定さ
れず、R−T−B(RはNd又はその一部を希土類元素
で置換したもの、TはFe又はその一部を遷移金属元素
で置換したもの)で表される磁性粉体と結合剤とを主た
る構成成分としたボンド磁石(以下、R−T−B系磁石
と記す)全般を研究対象としてきた。例えば特願平1−
147380号では電気めっきによる耐食性付与を提案
し、更に特開平4−276095号では耐食性を飛躍的
に高める方法を提案した。特開平4−276095号で
は、前記特願平1−147380号で開示した技術が内
包する問題点を解消した。即ち特開平4−276095
号ではボンド磁石母材に直接電気めっきを施したとき
に、めっき被膜表面に多発する微小なピンホールの発生
原因が、めっき被膜の下地であるボンド磁石母材表面に
導電性の低い合成樹脂部分が露出しているという事実に
起因していることをつきとめ、この問題を解消する方法
として以下、列記する方法を提案した。 R−T−B系磁石の表面に無電界めっきを施したのち
電気めっきを施す方法。 R−T−B系磁石の表面に樹脂と導電性材料粉末との
混合物を塗装した後、電気めっきを施す方法。 R−T−B系磁粉を、樹脂と導電性材料粉末樹脂の混
合物を結合剤として成形せしめた後、電気めっきを施す
方法。 R−T−B系磁粉を、金属粉末を結合剤として成形せ
しめた後、電気めっきを施す方法。 これらはいずれもボンド磁石の表面に電気めっきを施し
易くするために電気めっきに先だってボンド磁石表面に
導電性を付与することを特徴としたものであり、これら
方法によって、比較的均一な電気めっき被膜の形成が可
能となり、例えば使用環境の厳しい自動車用モータ用磁
石などへの適用が可能となった。特に前記の方法は樹
脂と導電性材料粉末との混合物(以下、導電性ペースト
と称す)をスプレー塗装するだけの簡易な手法により実
現することができるため、工業的に極めて有益である。
The present inventors have previously tried to apply the electroplating method to bonded magnets, and have aimed at improving the effect of imparting corrosion resistance. The present inventors are not limited to Nd-Fe-B based magnets, and R-T-B (R is Nd or a part thereof substituted with a rare earth element, T is Fe or a part thereof is a transition metal element). The entire research target is a bonded magnet (hereinafter, referred to as an RTB-based magnet) in which a magnetic powder represented by (substituted) and a binder are main components. For example, Japanese Patent Application Hei 1
No. 147380 proposed to provide corrosion resistance by electroplating, and JP-A-4-276095 proposed a method of dramatically increasing corrosion resistance. Japanese Unexamined Patent Publication No. 4-276095 solves the problems inherent in the technique disclosed in Japanese Patent Application No. 1-147380. That is, JP-A-4-276095
In No. 6, when electroplating the bonded magnet base material directly, the cause of the small pinholes that frequently appear on the surface of the plated coating is that the surface of the bonded magnet base material, which is the base of the plated coating, is a synthetic resin part with low conductivity. It was found that the problem was caused by the fact that the exposure was exposed, and the methods listed below were proposed as a method for solving this problem. A method of electroless plating after electroless plating on the surface of the RTB magnet. A method of applying a mixture of a resin and a conductive material powder on the surface of an RTB-based magnet and then performing electroplating. A method in which an RTB-based magnetic powder is molded using a mixture of a resin and a conductive material powder resin as a binder, and then electroplating is performed. A method in which R-T-B based magnetic powder is molded using a metal powder as a binder and then electroplated. All of these are characterized by imparting conductivity to the surface of the bond magnet prior to electroplating in order to facilitate electroplating on the surface of the bond magnet. Can be formed, and it can be applied to, for example, magnets for automobile motors, which are used in severe environments. In particular, the above method is industrially extremely useful because it can be realized by a simple method of spray coating a mixture of resin and conductive material powder (hereinafter referred to as conductive paste).

【0005】の方法は図5〜図7の模式図によって説
明される。図5はボンド磁石母材表面付近の断面構造を
表す模式図であり、図中1は磁性粉体であり、図中2は
前記磁性粉体1を結合させる合成樹脂2である。ボンド
磁石母材は外形寸法を製品寸法に調整するために予備研
磨されているが、磁性粉体1と合成樹脂2とは硬度が異
なり、しかも研磨途中において磁性粉体1の脱落等もあ
ることからボンド磁石母材表面は微視的には図例のよう
に部分的に磁性粉体1が突出していたり、あるいは樹脂
層が表面露出していたりする。樹脂層が露出している部
分は導電性が低いため、電気めっきを施したときに当該
部分のめっき被膜の成長が遅く、これがピンホールの発
生原因となる。したがっての方法では図6に示すよう
に、ボンド磁石母材A表面に導電性ペースト6を塗装し
て導電性被膜層Bを形成し、そののち電気めっきを施し
て図7に示すようにめっき被膜層Cを成層している。導
電性ペースト6の塗装方法としてはスプレー塗装等の簡
易な手法を用いることができるため、導電性被膜層Bを
形成する作業は容易であり、且つ導電性被膜層B形成後
のボンド磁石表面は全体にわたって良好な導電性を発揮
するためほぼ一定膜厚のめっき被膜層Cを安定して形成
することができる。
The method (1) will be described with reference to the schematic diagrams of FIGS. FIG. 5 is a schematic diagram showing a cross-sectional structure near the surface of the bonded magnet base material. In the figure, 1 is a magnetic powder and 2 is a synthetic resin 2 for binding the magnetic powder 1. The bonded magnet base material is pre-polished to adjust the outer dimensions to the product dimensions, but the magnetic powder 1 and the synthetic resin 2 have different hardness, and the magnetic powder 1 may fall off during polishing. Microscopically, therefore, the magnetic powder 1 is partially projected or the resin layer is exposed on the surface of the bonded magnet base material as shown in the figure. Since the portion where the resin layer is exposed has low conductivity, the growth of the plated coating at that portion is slow when electroplating, which causes pinholes. In this method, as shown in FIG. 6, the surface of the bonded magnet base material A is coated with the conductive paste 6 to form the conductive coating layer B, which is then electroplated to form the plating coating as shown in FIG. Layer C is layered. Since a simple method such as spray coating can be used as the coating method of the conductive paste 6, the work of forming the conductive coating layer B is easy, and the surface of the bond magnet after the formation of the conductive coating layer B is Since good conductivity is exhibited over the entire area, it is possible to stably form the plating film layer C having a substantially constant film thickness.

【0006】ボンド磁石表面に導電性を付与する方法と
しては他の方法も提案されており、例えば特開平5−3
02176号で開示された技術がある。ここには、ボン
ド磁石の表面にめっき被膜を形成するに際し、ボンド磁
石母材表面に粘着性を有する樹脂層を形成したのち、金
属粉体等をまぶし、金属粉体が付着状態となったボンド
磁石を振動あるいは攪拌させたり、スチールボール等の
メディアを表面に叩きつけて打撃力を与えることにより
ボンド磁石表面に金属粉体を固定させ、導電性を付与す
る方法が提案されている。
Another method has been proposed as a method for imparting conductivity to the surface of a bonded magnet, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 5-3.
There is a technique disclosed in No. 02176. Here, when forming a plating film on the surface of the bonded magnet, after forming a resin layer having adhesiveness on the surface of the bonded magnet base material, it is sprinkled with metal powder etc. A method has been proposed in which a metal powder is fixed to the surface of a bonded magnet by vibrating or stirring a magnet or hitting a medium such as a steel ball on the surface to give a striking force to impart conductivity.

【0007】この方法は図8〜図12として示す模式図
によって説明される。本方法はボンド磁石母材Aの上層
に図9に示すように粘着性に優れた樹脂成分100%の
樹脂層Dを成層し、この樹脂層Dの上層に図10に示す
ように金属粉体3をまぶして付着させ、次いでかかる状
態のボンド磁石を容器内で振動又は攪拌させたり、更に
はスチールボール等の金属メディアや軟質プラスチック
等の軟質メディアをボンド磁石に叩きつけることにより
図11に示すように金属粉体3の一部を樹脂層Dの表層
部に侵入させて金属粉体3を樹脂層表層内外に固定させ
る。また樹脂層Dによる捕捉能力を超える金属粉体3の
余剰分は払い落とされる。このような手順を経て、ボン
ド磁石母材Aの上に樹脂Richな樹脂層D、樹脂層内
に金属粉体3がその含有量を漸次的に変化した状態で混
在している遷移層D’、金属粉体3のRichな導電性
被膜層Eとが積層状態となり、この導電性被膜層Eの上
層にめっき被膜層Cが形成され、ピンホールの存在しな
いめっき被膜を有するボンド磁石が作製される。
This method is illustrated by the schematic diagrams shown in FIGS. In this method, as shown in FIG. 9, a resin layer D containing 100% of a resin component having excellent adhesiveness is formed on the upper layer of the bonded magnet base material A, and a metal powder as shown in FIG. As shown in FIG. 11, by sprinkling 3 onto the bonded magnet, and then vibrating or stirring the bonded magnet in such a state in the container, or by hitting a metal medium such as a steel ball or a soft medium such as soft plastic onto the bonded magnet. Then, a part of the metal powder 3 is caused to enter the surface layer portion of the resin layer D to fix the metal powder 3 inside and outside the resin layer. Further, the surplus amount of the metal powder 3 which exceeds the capturing ability of the resin layer D is removed. Through such a procedure, the resin Rich resin layer D on the bonded magnet base material A, and the transition layer D ′ in which the metal powder 3 is mixed in the resin layer in a state in which the content thereof is gradually changed. , The Rich conductive coating layer E of the metal powder 3 is laminated, the plating coating layer C is formed on the conductive coating layer E, and a bond magnet having a plating coating without pinholes is produced. It

【0008】このようにピンホールのないめっき被膜層
を有するボンド磁石の製造方法の代表例としては上記2
種類のものがある。これらはいずれも形状が多様で、曲
面や凹凸面があること、またコスト的に不利になること
の理由によりめっき被膜層C形成後に再研磨等による寸
法調整や最終仕上げ加工が行われることはなく、めっき
被膜層Cが形成された段階で完成品となる。
As a typical example of the method for producing the bonded magnet having the plating film layer having no pinhole, the above-mentioned 2 is used.
There are different types. All of these have various shapes, and there is no need for dimensional adjustment or final finishing by re-polishing after forming the plating film layer C due to the fact that they have curved surfaces and uneven surfaces and are disadvantageous in terms of cost. A finished product is obtained when the plating film layer C is formed.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】上記2方法によりピン
ホールのないめっき被膜層を有するボンド磁石を得るこ
とが可能となるが、これらめっき法にはいずれも解決す
べき課題が残されていた。
Although it is possible to obtain a bonded magnet having a plating film layer without pinholes by the above-mentioned two methods, there are still problems to be solved in these plating methods.

【0010】先ず前者については、図7に示すようにめ
っき被膜層C表面に導電性被膜層Bの表面起伏状態が反
映されるため、めっき被膜層C表面を均一な平滑面とす
ることができない問題がある。めっき被膜層Cの表面起
伏は導電性被膜層Bの表面起伏がそのまま反映されるの
ではなく、起伏の高低差がやや緩和された形態で反映さ
れるものの、めっき被膜層C表面を均一平滑面とするこ
とが困難なことに変わりはなく、この表面起伏が製品の
表面磁力特性の均一性や美観に悪影響を及ぼすことが懸
念される。また導電性被膜層Bは単にスプレー塗装され
ているだけであり導電性被膜層Bはその濡れ性によって
ボンド磁石母材Aを被覆しているだけであるから、導電
性被膜層Bのボンド磁石母材Aに対する密着性がやや不
足する傾向がある。また導電性ペーストを塗装する場
合、濡れ性を高めて密着性を向上させるためには導電性
材料粉末の充填密度をあまり高くすることはできず、こ
のため導電性ペーストを塗装したとしても、その導電性
向上効果には限界がある。まためっき被膜層C形成後に
最終仕上げ加工を行うことはなくめっき被膜層C形成直
後の形状がそのまま最終製品の形状となることは上述し
たとおりであるが、本技術では導電性ペーストを単にス
プレー塗装した上にめっき被膜層Cを成層するわけであ
るから、導電性被膜層Bとめっき被膜層Cとの合計膜厚
の平均厚みが比較的厚く、ボンド磁石母材Aの外形寸法
からの隔たりが大きくなって、ボンド磁石母材Aの外形
寸法とほぼ一致することを前提として設計された最終製
品の外形寸法との隔たりが大きくなる傾向にある。
First, as for the former, as shown in FIG. 7, the surface of the plating film layer C reflects the surface undulation state of the conductive film layer B, so that the surface of the plating film layer C cannot be made a uniform smooth surface. There's a problem. The surface undulations of the plating film layer C do not reflect the surface undulations of the conductive film layer B as they are, but the difference in height of the undulations is reflected in a slightly relaxed form. However, there is a concern that this surface undulation may adversely affect the uniformity of the surface magnetic property of the product and the aesthetics. Further, since the conductive coating layer B is merely spray-painted and the conductive coating layer B only covers the bond magnet base material A due to its wettability, the bond coating of the conductive coating layer B is not limited. The adhesiveness to the material A tends to be slightly insufficient. Further, when the conductive paste is applied, the packing density of the conductive material powder cannot be increased so much in order to improve the wettability and the adhesion, and therefore even if the conductive paste is applied, There is a limit to the effect of improving conductivity. Further, as described above, the shape immediately after the formation of the plating film layer C becomes the shape of the final product without performing the final finishing process after forming the plating film layer C. However, in the present technology, the conductive paste is simply spray coated. Since the plating film layer C is formed on top of the above, the average thickness of the total film thickness of the conductive film layer B and the plating film layer C is relatively large, and the deviation from the outer dimensions of the bonded magnet base material A is relatively large. As the size increases, the distance from the external dimensions of the final product designed on the assumption that the external dimensions of the bonded magnet base material A are substantially the same tends to increase.

【0011】一方、特開平5−302176号で開示さ
れた技術にも解決すべき問題点がある。先ずこの技術に
おいては金属粉体3を表面付着させたボンド磁石を容器
内で振動又は攪拌させたり、あるいはスチールボール等
の金属メディアをボンド磁石に叩きつけたりするため、
金属粉体3付着後の表面起伏(図11参照)は前述した
特開平4−276095号のにおける導電性被膜層B
形成直後の表面起伏(図7参照)に比べれば多少なだら
かとはなるものの、振動、攪拌の付与及び金属メディア
による打撃の目的が、粘着性を有する樹脂層Dに金属粉
体3を付着させることにあるため、金属粉体付着表面へ
の加圧力は比較的軽度であり、このためその表面起伏を
平滑化することはできない。また、この技術はボンド磁
石母材Aの上層に樹脂層Dを成層したのち金属粉体3を
集積させて導電性被膜層Eを積層するものであるから、
全表面にわたって金属粉体3が存在することが必須であ
り、したがってこの意味からもボンド磁石母材Aが一部
露出するような強い加圧力を及ぼすことは想定されてい
ず、導電性被膜層E表面を平滑化することは不可能であ
る。したがってこの技術においても図12に示すように
めっき被膜層C表面を平滑化することはできない。ま
た、ボンド磁石母材Aの上層に樹脂層Dと導電性被膜層
Eの2層構造が必ず形成されたのち、そのうえにめっき
被膜層Cが形成されるから、樹脂層D、導電性被膜層E
及びめっき被膜層Cの3層の合計膜厚の平均厚は相当大
きく、完成品としてのめっき被膜形成品の外形寸法とボ
ンド磁石母材Aの外形寸法との隔たりが大きくなり、寸
法精度の確保が困難となる問題がある。またこの技術で
は樹脂層Dと導電性被膜層Eとの間に金属粉体3の配合
量が漸次的に増加する遷移層D´が存在するものの、樹
脂層Dとめっき被膜層Cとの間には樹脂層D及びめっき
被膜層Cのいずれに対しても異質な金属粉体3の凝集層
が介在し、しかもこの金属粉体3の凝集層は樹脂層Dの
粘着力のみによって固定されているだけであるから、金
属粉体3の凝集層を境界にしてめっき被膜層Cが剥離脱
落しやすいという問題もある。更に、ボンド磁石母材A
が奥深い凹部を有し、この凹部内にもめっき被膜層Cを
形成する必要がある場合などを想定したとき、樹脂は粘
度を調整することで濡れ性を利用して凹部内奥まで到達
させることができるが、金属粉体3はこのような部分に
まんべんなく到達させることは困難であり、この結果、
部分的にめっき被膜の非存在部分が形成されるおそれが
ある。このことは当該技術が複雑形状を有するボンド磁
石には適用しがたいことを意味しており、製品の多様性
が制限される点で問題を残している。また、本技術は樹
脂層D形成用樹脂と金属粉体3とを別々に取扱い、また
樹脂層D上層に金属粉体3による導電性被膜層Eを形成
する等、作業工程の管理が煩雑であるという問題もあ
る。更にこの技術では樹脂層D表面にまぶした金属粉体
3に打撃を与える媒体としてスチールボール等の金属メ
ディアや軟質プラスチック等の軟質メディアが利用でき
るとその公報では説明されているが、現実的には形成し
た金属粉体による導電性被覆層が逆に破損するとの理由
から軟質メディアのみしか利用できず、メディアの選択
巾が限られているという問題もある。
On the other hand, the technique disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 5-302176 also has a problem to be solved. First, in this technique, in order to vibrate or agitate the bond magnet having the metal powder 3 adhered on the surface in the container, or to hit a metal medium such as a steel ball onto the bond magnet,
The surface undulation (see FIG. 11) after deposition of the metal powder 3 is the conductive coating layer B in the above-mentioned JP-A-4-276095.
Although it is slightly gentler than the surface undulation immediately after formation (see FIG. 7), the purpose of vibrating, stirring, and hitting with a metal medium is to attach the metal powder 3 to the adhesive resin layer D. Therefore, the pressure applied to the surface on which the metal powder is adhered is relatively low, and therefore the surface undulation cannot be smoothed. Further, in this technique, since the resin layer D is formed on the bonded magnet base material A, the metal powder 3 is accumulated and the conductive coating layer E is laminated.
It is essential that the metal powder 3 be present over the entire surface. Therefore, also from this point of view, it is not assumed that a strong pressure is exerted such that the bonded magnet base material A is partially exposed. It is impossible to smooth the surface. Therefore, even with this technique, the surface of the plating film layer C cannot be smoothed as shown in FIG. Moreover, since the two-layer structure of the resin layer D and the conductive coating layer E is always formed on the upper layer of the bonded magnet base material A, and the plating coating layer C is formed thereon, the resin layer D and the conductive coating layer E are formed.
The average thickness of the total thickness of the three layers of the plating film layer C and the plating film layer C is considerably large, and the gap between the external dimensions of the plated film forming product as a finished product and the external dimensions of the bonded magnet base material A is large, and dimensional accuracy is ensured. There is a problem that becomes difficult. Further, in this technique, there is a transition layer D ′ between the resin layer D and the conductive coating layer E in which the blending amount of the metal powder 3 is gradually increased, but between the resin layer D and the plating coating layer C. There is an aggregated layer of the metal powder 3 which is different from the resin layer D and the plating layer C, and the aggregated layer of the metal powder 3 is fixed only by the adhesive force of the resin layer D. Therefore, there is also a problem that the plating film layer C is easily peeled off at the boundary of the agglomerated layer of the metal powder 3. Furthermore, the bonded magnet base material A
Has a deep recess, and assuming that the plating film layer C needs to be formed in this recess as well, the resin should be wettable by adjusting the viscosity to reach the deep inside of the recess. However, it is difficult for the metal powder 3 to reach such a part uniformly, and as a result,
There is a possibility that a non-existing portion of the plating film may be partially formed. This means that the technology is difficult to apply to bonded magnets having a complicated shape, and leaves a problem in that the variety of products is limited. Further, according to the present technology, the resin for forming the resin layer D and the metal powder 3 are separately handled, and the conductive coating layer E made of the metal powder 3 is formed on the resin layer D. There is also the problem that there is. Further, in this technique, a metal medium such as a steel ball or a soft medium such as a soft plastic can be used as a medium for hitting the metal powder 3 sprinkled on the surface of the resin layer D, but the publication describes that it is practical. However, since the conductive coating layer formed by the formed metal powder is conversely damaged, only soft media can be used, and there is a problem that the selection range of media is limited.

【0012】本発明はかかる現況に鑑みてなされたもの
であり、前記両技術が内包する問題点を特開平4−27
6095号において提案された技術を基礎として改良す
ることにより克服せんとしたものであり、耐食性及び美
観に優れることは勿論のこと、寸法精度にも優れ、また
複雑形状にも対応可能であり、しかも製造手順も簡易な
めっき被膜を有するボンド磁石とこのボンド磁石を製造
する方法を提供せんとするものである。
The present invention has been made in view of the present situation, and the problems inherent in both of the above techniques are disclosed in JP-A-4-27.
It is an attempt to overcome it by improving it based on the technology proposed in No. 6095, and it is excellent not only in corrosion resistance and aesthetics but also in dimensional accuracy and capable of handling complicated shapes. The manufacturing procedure is also to provide a bonded magnet having a simple plated coating and a method for manufacturing the bonded magnet.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段及び作用】かかる問題を解
決すべく本発明者等は鋭意検討したところ、ボンド磁石
母材表面に成層した導電性被膜層の表面を平滑処理する
ことを着想した。このような着想に基づき完成された本
発明のめっき被膜を有するボンド磁石は、R−T−B
(RはNd又はその一部を希土類元素で置換したもの、
TはFe又はその一部を遷移金属元素で置換したもの)
で表される磁性粉体と結合剤とを主たる構成成分として
なるボンド磁石母材と、樹脂に導電性材料粉末を均一分
散した単一層であって、その表面が基準長さを25mm
としたとき最大高さ(Rmax )が400μm以下となる
ように表面粗さが設定された導電性被膜層と、前記導電
性被膜層の上に形成された電気めっき層とよりなるめっ
き被膜を有することを特徴としている。
MEANS TO SOLVE THE PROBLEMS The present inventors have made diligent studies in order to solve such problems, and as a result, have come up with the idea of smoothing the surface of the conductive coating layer formed on the surface of the bonded magnet base material. The bonded magnet having the plating film of the present invention completed based on such an idea is R-T-B.
(R is Nd or a part thereof substituted with a rare earth element,
T is Fe or part of it replaced by a transition metal element)
Is a single layer in which a magnetic powder and a binder are mainly composed of a magnetic powder and a binder, and a conductive material powder is uniformly dispersed in a resin, the surface of which has a reference length of 25 mm.
And a conductive coating layer whose surface roughness is set so that the maximum height (R max ) is 400 μm or less and an electroplating layer formed on the conductive coating layer. It is characterized by having.

【0014】また同ボンド磁石の製造方法は、R−T−
B(RはNd又はその一部を希土類元素で置換したも
の、TはFe又はその一部を遷移金属元素で置換したも
の)で表される磁性粉体と結合剤とを主たる構成成分と
してなるボンド磁石において、樹脂と導電性材料粉末と
の混合物を塗装してボンド磁石母材表面に導電性被膜層
を形成した後、導電性被膜層の表面平滑処理を行い、平
滑化された導電性被膜層の表面に電気めっきを施すこと
を特徴としている。
The method of manufacturing the bonded magnet is RT-T-
A magnetic powder represented by B (R is Nd or a part thereof is replaced with a rare earth element, T is Fe or a part thereof is replaced with a transition metal element) and a binder are main components. In the bonded magnet, after coating a mixture of resin and conductive material powder to form a conductive coating layer on the surface of the bond magnet base material, the conductive coating layer is subjected to a surface smoothing treatment to smooth the conductive coating. It is characterized in that the surface of the layer is electroplated.

【0015】本発明のボンド磁石の製造方法は図1〜図
4で示す模式図によって次のように説明される。先ずボ
ンド磁石母材Aの表面に樹脂4と導電性材料粉末5の混
合物である導電性ペースト6を塗装する。塗装方法は様
々な塗装方法が適用できるが特にスプレー塗装や浸漬塗
装が簡易である観点から好適である。導電性ペースト6
は、その流動性によってボンド磁石母材表面の空孔やピ
ンホールに侵入するが、導電性ペーストの粘性が高い場
合は塗装作業だけで必ずしも全ての空孔やピンホールが
塞がれるわけではない。例えば塗装によって形成される
導電性被膜層の表面抵抗をより低くする目的で導電性ペ
ーストに含まれる導電性材料粉末を多くした場合、導電
性ペーストの粘性は高くなり、単なる塗装だけでは空孔
内奥への侵入は困難となる。またボンド磁石母材表面が
極端に入り組んでいる場合やボンド磁石母材表面に油分
等が付着してボンド磁石母材表面が発水性を有している
場合等においては導電性ペーストの島状孤立部分や樹脂
玉等の不連続部分が発生し、導電性被膜層が途切れるこ
ともある。また単なる塗装のみでは、やや緩和された形
態ではあるものの塗装表面にボンド磁石母材表面の起伏
の痕跡が反映され導電性被膜層B表面は不均一層とな
る。特に導電性ペースト6の粘性が高い場合、この傾向
は顕著である。
The method of manufacturing the bonded magnet of the present invention will be described as follows with reference to the schematic diagrams shown in FIGS. First, a conductive paste 6 which is a mixture of a resin 4 and a conductive material powder 5 is applied on the surface of the bonded magnet base material A. Various coating methods can be applied, but spray coating and dip coating are particularly preferable from the viewpoint of simplicity. Conductive paste 6
Owing to its fluidity, it penetrates into the holes and pinholes on the surface of the bonded magnet base material, but if the viscosity of the conductive paste is high, all the holes and pinholes may not be blocked by just painting. . For example, if the amount of conductive material powder contained in the conductive paste is increased in order to lower the surface resistance of the conductive coating layer formed by coating, the viscosity of the conductive paste will increase, and the mere coating will cause the inside of the pores to become It is difficult to penetrate deep inside. Also, if the surface of the bonded magnet base material is extremely complicated or if the surface of the bonded magnet base material is water-soluble due to the adhesion of oil etc., the conductive paste islands are isolated. In some cases, discontinuous parts such as parts and resin balls are generated, and the conductive coating layer is interrupted. Further, if the coating is simple, the surface of the conductive coating layer B becomes a non-uniform layer due to the traces of the undulations on the surface of the bonded magnet base material being reflected on the coating surface although the coating surface is slightly relaxed. This tendency is remarkable especially when the conductive paste 6 has a high viscosity.

【0016】本発明では導電性被膜層Bに対して表面平
滑処理を施すことによって、ボンド磁石母材A表面の平
滑化と同時に、ボンド磁石母材A表面における導電性ペ
ースト6の未充填部分への充填、導電性ペースト6の島
状孤立部分の解消をはかるものである。表面平滑処理の
具体的方法は様々であるが、重要なのはこの表面平滑処
理が表面加圧を伴う表面平滑処理であって切削や研削等
は含まないという点である。即ち、ボンド磁石母材A表
面における特定箇所に過剰付着している導電性ペースト
6をボンド磁石母材A表面から取り除くのではなく、過
剰部分は加圧してボンド磁石母材A表面の凹部に押し込
んだり隣接部分へ移動させたりすることで塗装表面を均
して平準化をはかるということである。表面平滑処理
は、具体的には金属メディア又はセラミックスメディア
を導電性ペーストの塗装表面に打ちつけることにより表
面起伏を均して表面を面一化する打撃処理や、あるいは
金属メディア又はセラミックスメディアを導電性ペース
トを塗装したボンド磁石と一緒に容器内に投入し、攪拌
動作、回転動作、又は振動動作を与えることによって平
滑化処理することなどが採用できる。
In the present invention, the surface smoothing treatment is applied to the conductive coating layer B to smooth the surface of the bonded magnet base material A and at the same time to the unfilled portion of the conductive paste 6 on the surface of the bonded magnet base material A. And the island-shaped isolated portions of the conductive paste 6 are eliminated. Although there are various specific methods for the surface smoothing treatment, the important point is that this surface smoothing treatment is a surface smoothing treatment involving surface pressing and does not include cutting or grinding. That is, the conductive paste 6 excessively adhered to a specific portion on the surface of the bonded magnet base material A is not removed from the surface of the bonded magnet base material A, but the excess portion is pressed and pushed into the concave portion of the surface of the bonded magnet base material A. That is, the coating surface is leveled by moving it to an adjacent part. The surface smoothing treatment is, specifically, a hitting treatment in which a metal medium or a ceramics medium is struck on a coated surface of a conductive paste so that the surface undulations are leveled and the surface is flattened. It is possible to employ a method in which the paste is put into a container together with the coated bond magnet, and a smoothing process is performed by applying a stirring operation, a rotating operation, or a vibrating operation.

【0017】表面平滑処理後の状態は図3で示される。
表面平滑処理した結果、周囲より盛り上がっていた部分
の導電性ペースト6は隣接部分に移動して低く均され、
反対に周囲より窪んだ部分には隣接部分から移動してき
た導電性ペースト6が補充されて高く均される。このよ
うにして導電性被膜層表面の表面高さが揃えられ、導電
性被膜層B表面の均一化(面一化)がなされる。そして
ここで重要なことは、本発明においては表面平滑処理後
の表面起伏の度合いを示す表面粗さの最大高さ
(Rmax )は、ボンド磁石母材Aの表面粗さの最大高さ
(Rmax )より必ず低くなるということである。特開平
5−302176号で開示された技術のようにボンド磁
石母材表面に粘着性を有する樹脂層を形成したのち、金
属粉体等をまぶし、そののち金属粉付着表面に対して付
着強化や金属粉の樹脂内への一部侵入固定化のみを目的
とした軽度の打撃力を与える場合には、打撃処理後の表
面粗さの最大高さ(Rmax )は、ボンド磁石母材Aの表
面粗さの最大高さ(Rmax )よりも低くなるとは限らな
い。表面平滑処理後の表面粗さは、例えば基準長さを2
5mmとしたときに導電性被膜層の最大高さ(Rmax
が、400μm以下となるように設定される。導電性被
膜層の最大高さ(Rmax )が、400μmを超えるとそ
の突起部に集中的にめっき被膜が形成されるため、外観
上、寸法精度上、好ましくない。
The state after the surface smoothing treatment is shown in FIG.
As a result of the surface smoothing treatment, the conductive paste 6 in the portion that is raised from the surroundings moves to the adjacent portion and is leveled low,
On the other hand, the conductive paste 6 that has moved from the adjacent portion is replenished to the portion that is recessed from the surroundings and is leveled high. In this way, the surface height of the conductive coating layer surface is made uniform, and the surface of the conductive coating layer B is made uniform (flat). What is important here is that in the present invention, the maximum height of surface roughness (R max ) indicating the degree of surface undulation after surface smoothing is the maximum height of surface roughness of the bonded magnet base material A ( R max ). As in the technique disclosed in JP-A-5-302176, after forming a resin layer having an adhesive property on the surface of the bonded magnet base material, it is sprinkled with a metal powder or the like, and then the adhesion of the metal powder to the surface is enhanced. When a slight impact force is applied only for the purpose of partially infiltrating and fixing the metal powder into the resin, the maximum height (R max ) of the surface roughness after the impact treatment is the same as that of the bonded magnet base material A. It is not always lower than the maximum height of surface roughness (R max ). For the surface roughness after the surface smoothing treatment, for example, the reference length is 2
Maximum height of conductive coating layer (R max ) when 5 mm
Is set to be 400 μm or less. When the maximum height (R max ) of the conductive coating layer exceeds 400 μm, the plating coating is concentratedly formed on the protrusions, which is not preferable in terms of appearance and dimensional accuracy.

【0018】本発明では導電性被膜層形成後の表面が平
滑であることが重要なのであって、平滑後の表面が導電
性被膜層によって完全被覆されていることを必ずしも必
要としない。例えば図3に示すように、表面平滑処理の
結果、磁性粉体1が部分的に露出していてもかまわな
い。通常、Nd−Fe−B系磁粉1粒の電気抵抗は急冷
粉の場合、10-8オーダーであり、充分な導電性を有し
ている。問題となるのはボンド磁石母材における結合材
の露出である。結合材である樹脂の露出部分が存在する
とこの部分は導電性が低いためめっき層の成長がやや不
良となる。金属メディア又はセラミックスメディアを導
電性ペーストの塗装表面に打ちつけて表面起伏を均して
表面を面一化する打撃処理や、あるいは金属メディア又
はセラミックスメディアを導電性ペーストを塗装したボ
ンド磁石と一緒に容器内に投入し、攪拌動作、回転動
作、又は振動動作を与えることによって平滑化処理して
いる限りにおいては、磁性粉体1に比べて柔らかい結合
剤樹脂が平滑処理後の表面にそのまま残存することはほ
とんど有り得ない。また万が一、結合剤樹脂が露出して
いたとしても、平滑処理後の表面抵抗が0.05〜10
0Ω/sq(又はΩ/□)の範囲にある限りめっき層の
形成には支障がないことを本発明者等は確認している。
そして、現実的には平滑処理後の表面抵抗値はほとんど
上記範囲を満足している。
In the present invention, it is important that the surface after the formation of the conductive coating layer is smooth, and it is not always necessary that the smoothed surface is completely covered with the conductive coating layer. For example, as shown in FIG. 3, the magnetic powder 1 may be partially exposed as a result of the surface smoothing treatment. Usually, the electric resistance of one grain of Nd-Fe-B type magnetic powder is in the order of 10 -8 in the case of the quenched powder, and it has sufficient conductivity. The problem is the exposure of the binder in the bonded magnet base material. If there is an exposed portion of the resin that is the binder, this portion has a low conductivity, and thus the growth of the plating layer becomes somewhat defective. Battering treatment in which metal media or ceramics media is struck on the surface of the conductive paste to even out the surface unevenness to make the surface flat, or a container with metal or ceramic media together with a bond magnet coated with the conductive paste. The binder resin that is softer than the magnetic powder 1 remains on the surface after the smoothing treatment as long as the smoothing treatment is performed by throwing it into the container and applying a stirring operation, a rotation operation, or a vibration operation. Is almost impossible. Even if the binder resin is exposed, the surface resistance after smoothing is 0.05 to 10
The present inventors have confirmed that there is no hindrance to the formation of the plating layer as long as it is in the range of 0 Ω / sq (or Ω / □).
In reality, the surface resistance value after the smoothing treatment almost satisfies the above range.

【0019】稀なケースであるが、表面平滑処理後の表
面に窪み部が存在し、この窪み部の底部に磁性粉体1が
露出しているケースがある。このときはこの窪み部に酸
性めっき液が滞留するおそれがあり発錆に繋がる懸念が
ある。したがって、本発明における表面平滑処理では、
このような磁性粉体1が底部に露出した窪み部が発生し
ないように注意が払われ、この観点から上記した表面平
滑処理の具体的手法が選択されている。上記した表面平
滑処理法によれば導電性ペーストはボンド磁石母材表面
の窪み部に優先的に充填されることになるので、ボンド
磁石母材露出部が窪み部に位置することはほとんどな
い。
Although it is a rare case, there is a case in which a recess is present on the surface after the surface smoothing treatment, and the magnetic powder 1 is exposed at the bottom of this recess. At this time, there is a possibility that the acidic plating solution may stay in this recess, which may lead to rusting. Therefore, in the surface smoothing treatment of the present invention,
Care has been taken to prevent such a recessed portion where the magnetic powder 1 is exposed at the bottom, and from this viewpoint, the specific method of the surface smoothing treatment is selected. According to the above-described surface smoothing method, the conductive paste is preferentially filled in the recessed portion on the surface of the bonded magnet base material, so that the exposed portion of the bonded magnet base material is rarely located in the recessed portion.

【0020】表面平滑処理によって平滑化された導電性
被膜層Bの上層には図4に示すようにめっき被膜層Cが
形成される。めっき被膜層Cは電気めっきにより形成さ
れるため比較的厚肉で且つ堅固である。めっき被膜層C
の表面形状には導電性被膜層Bの平滑表面が反映され
て、表面平滑なめっき被膜を有するボンド磁石が得られ
る。また表面平滑処理によって導電性ペーストはボンド
磁石母材の表面起伏部に圧入されており、その導電性材
料粉末の充填密度も高く導電性も優れているのでめっき
被膜層Cと下地の導電性被膜層Bとの密着性は極めて高
く、外部応力等が作用しても剥離することはない。そし
て、導電性被膜層Bは表面平滑処理によって膜厚が薄く
なっているから、導電性被膜層Bとめっき被膜層Cとの
合計膜厚の平均厚は、導電性被膜層Bの表面平滑処理を
施していない従来磁石に比べて薄く、ボンド磁石母材と
の外形寸法の隔たりが小さいので寸法精度の確保も容易
である。
On the upper surface of the conductive coating layer B smoothed by the surface smoothing treatment, a plating coating layer C is formed as shown in FIG. Since the plating film layer C is formed by electroplating, it is relatively thick and firm. Plating coating layer C
The smooth surface of the conductive coating layer B is reflected in the surface shape of, and a bonded magnet having a plated coating with a smooth surface is obtained. Further, the conductive paste is pressed into the surface undulations of the bonded magnet base material by the surface smoothing treatment, and since the packing density of the conductive material powder is high and the conductivity is excellent, the plating film layer C and the underlying conductive film are The adhesiveness with the layer B is extremely high, and it does not peel off even when an external stress or the like acts. Since the conductive coating layer B is thinned by the surface smoothing treatment, the average thickness of the total thickness of the conductive coating layer B and the plating coating layer C is the surface smoothing treatment of the conductive coating layer B. It is thinner than a conventional magnet that is not subjected to the heat treatment, and the gap between the outer dimensions of the magnet and the bonded magnet base material is small, so that it is easy to secure dimensional accuracy.

【0021】[0021]

【実施例】次に本発明の詳細を実施例に即して説明す
る。本発明が対象とする希土類ボンド磁石とは、R−T
−B(RはNd又はその一部を希土類元素で置換したも
の、TはFe又はその一部を遷移金属元素で置換したも
の)で表される磁性粉体と結合剤である合成樹脂との配
合物を成形して得ることができるものを指している。上
記樹脂には、汎用される熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂あ
るいはゴムから成形法を考慮し適宜選択して使用され
る。本発明で使用する熱可塑性樹脂としてはフェノール
樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂等が例示でき、また
熱可塑性樹脂とてはナイロン6、ナイロン12等のポリ
アミド、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフ
ィン、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、ポリフェニレン
サルファイド等が例示できる。また、紫外線硬化型樹脂
なども使用しうる。本発明はボンド磁石母材表面に表面
均一な導電性被膜層を形成することによって電気めっき
によるめっき被膜の成長を促進することが目的であるか
ら結合剤としては樹脂を用いることが基本であるが、本
発明は結合剤として比較的融点の低い金属を使用する場
合にも適用できる。この場合、導電性被膜層の形成は磁
性粉体と結合剤金属との導電性のばらつきを均一化する
機能を担うことになる。
EXAMPLES Next, details of the present invention will be described with reference to examples. The rare-earth bonded magnet targeted by the present invention is RT
A magnetic powder represented by -B (R is Nd or a part thereof is replaced with a rare earth element, T is Fe or a part thereof is replaced with a transition metal element) and a synthetic resin as a binder. It refers to what can be obtained by molding the compound. The above-mentioned resin is appropriately selected from commonly used thermoplastic resins, thermosetting resins or rubber in consideration of the molding method. Examples of the thermoplastic resin used in the present invention include phenol resin, epoxy resin, and melamine resin, and examples of the thermoplastic resin include polyamide such as nylon 6 and nylon 12, polyolefin such as polyethylene and polypropylene, polyvinyl chloride, and the like. Examples thereof include polyester and polyphenylene sulfide. Also, an ultraviolet curable resin or the like may be used. The purpose of the present invention is to promote the growth of the plated coating by electroplating by forming a uniform conductive coating layer on the surface of the base material of the bonded magnet. Therefore, it is fundamental to use a resin as the binder. The present invention can also be applied when a metal having a relatively low melting point is used as a binder. In this case, the formation of the conductive coating layer has the function of equalizing the variation in conductivity between the magnetic powder and the binder metal.

【0022】結合剤として使用可能な金属粉末にはZ
n、Sn、Pb粉末等が例示できるが、結合剤として金
属を使用する場合の成形法は圧縮成形法に限定される。
圧縮成形法に用いられる結合剤は圧縮成形時に変形する
ことが成形体密度を向上させる上で重要であり、この意
味において上記金属は比較的柔らかいものが好ましく、
総じて低融点金属が好ましい。低融点金属には、ローゼ
合金、ニュートン合金、ウッド合金、ポヴィッツ合金な
どが例示できる。
Z is a metal powder that can be used as a binder.
Although n, Sn, Pb powder and the like can be exemplified, the molding method when a metal is used as the binder is limited to the compression molding method.
It is important that the binder used in the compression molding method is deformed during compression molding in order to improve the density of the molded body, and in this sense, the metal is preferably relatively soft,
Low melting point metals are generally preferred. Examples of the low melting point metal include Rose alloy, Newton alloy, Wood alloy, Povits alloy and the like.

【0023】本発明に用いられる磁性粉末と結合剤樹脂
との混合物からボンド磁石母材を得るための成形方法と
しては、圧縮成形、射出成形、押し出し成形、カレンダ
ー成形などが例示できる。
As a molding method for obtaining the bonded magnet base material from the mixture of the magnetic powder and the binder resin used in the present invention, compression molding, injection molding, extrusion molding, calender molding and the like can be exemplified.

【0024】また本発明に用いられる電気めっきの金属
種には、Ni、Cu、Cr、Fe、Zn、Cd、Sn、
Pb、Al、Au,Ag,Pd,Pt,Rhなどが例示
できるが、特にNiであることが好ましい。電気めっき
では一般に、上述のごとくCu、Ni、Zn、Sn、A
g、Au、Pt金属及びその合金の金属被覆処理が可能
である。構造用材料のように、めっき層が犠牲腐食する
ことによって被処理材を保護するような機構を目的とし
た場合にはZn、Snめっきなどでも充分な効果を発揮
するが、特に電子部品のようにめっき層、被処理材とも
に酸化、腐食することが許容され得ない場合にはめっき
後、樹脂塗装、無機材料コーティング等が必要であり、
効率的とはいえない。この点においてはCuも同様であ
り、貴金属であるにもかかわらず表面に黒色の酸化銅や
緑青が発生しやすい欠点を有している。一方Au、A
g、Ptめっきは防食に極めて有効ではあるが、高価で
あり、工業的に有用である場合が少ない。以上の点から
Ni及びその合金めっきが最も有効な手段であることは
明かであり、本発明の好ましい態様の一つとなる。
The metal species for electroplating used in the present invention include Ni, Cu, Cr, Fe, Zn, Cd, Sn, and
Pb, Al, Au, Ag, Pd, Pt, Rh and the like can be exemplified, but Ni is particularly preferable. In electroplating, generally, Cu, Ni, Zn, Sn, and A as described above are used.
Metal coating treatment of g, Au, Pt metals and their alloys is possible. When the purpose is to protect the material to be treated by sacrificial corrosion of the plating layer, such as structural materials, Zn, Sn plating, etc. will also exhibit sufficient effects, but especially for electronic parts. If oxidation and corrosion of both the plating layer and the material to be treated cannot be tolerated, it is necessary to apply resin coating, inorganic material coating, etc. after plating.
It is not efficient. In this respect, Cu is also the same, and has a defect that black copper oxide or patina is likely to be generated on the surface even though it is a noble metal. On the other hand, Au, A
Although g and Pt plating are extremely effective in preventing corrosion, they are expensive and often industrially useful. From the above points, it is clear that Ni and its alloy plating are the most effective means, which is one of the preferable embodiments of the present invention.

【0025】本発明に用いられる電気めっき用水溶液に
は、金属種、陽極金属種によって適宜選択でき、シアン
化銅浴、ピロりん酸銅浴、硫酸銅浴、無光沢Ni浴、ワ
ット浴、スルファミン酸浴、ウッドストライク浴、イマ
ージョンNi浴、6価Cr低濃度浴、6価Crサージェ
ント浴、6価Crふっ化物含有浴、高シアン化物アルカ
リZnめっき浴、中シアン化物アルカリZnめっき浴、
低シアン化物アルカリZnめっき浴、ジンケート浴、シ
アン化Cdめっき浴、ほうふっ化Cdめっき浴、硫酸酸
性Snめっき浴、ほうふっ酸Snめっき浴、ほうふっ酸
Pbめっき浴、スルファミン酸Pbめっき浴、メタンス
ルホン酸Pbめっき浴、ほうふっ酸はんだめっき浴、フ
ェノールスルホン酸はんだめっき浴、アルカノールスル
ホン酸はんだめっき浴、塩化物Feめっき浴、硫酸塩F
eめっき浴、ほうふっ化物Feめっき浴、スルファミン
酸塩Feめっき浴、Sn−Co合金スタネート浴、Sn
−Co合金ピロりん酸浴、Sn−Co合金ふっ化物浴、
Sn−Ni合金ピロりん酸浴、Sn−Ni合金ふっ化物
浴などが例示でき、さらに光沢剤、レベラー剤、ピット
防止剤、梨地形成剤、アノード溶解剤、PH緩衝剤、安
定剤等の添加剤を加えることもできる。また、前処理と
して洗浄工程、表面活性化処理工程など及び後工程とし
て水洗、湯洗、封孔処理工程等を目的に応じて付加する
こともできる。
The aqueous solution for electroplating used in the present invention can be appropriately selected depending on the metal species and the anode metal species. Copper cyanide bath, copper pyrophosphate bath, copper sulfate bath, matte Ni bath, Watt bath, sulfamine Acid bath, wood strike bath, immersion Ni bath, hexavalent Cr low concentration bath, hexavalent Cr sergent bath, hexavalent Cr fluoride-containing bath, high cyanide alkali Zn plating bath, medium cyanide alkali Zn plating bath,
Low cyanide alkali Zn plating bath, zincate bath, cyanide Cd plating bath, borofluoride Cd plating bath, sulfuric acid Sn plating bath, borofluoric acid Sn plating bath, borofluoric acid Pb plating bath, sulfamic acid Pb plating bath, Methanesulfonic acid Pb plating bath, borofluoric acid solder plating bath, phenolsulfonic acid solder plating bath, alkanolsulfonic acid solder plating bath, chloride Fe plating bath, sulfate F
e plating bath, borofluoride Fe plating bath, sulfamate Fe plating bath, Sn-Co alloy stannate bath, Sn
-Co alloy pyrophosphoric acid bath, Sn-Co alloy fluoride bath,
Examples include Sn-Ni alloy pyrophosphoric acid baths, Sn-Ni alloy fluoride baths, and the like, and further additives such as brighteners, levelers, pit inhibitors, satin-forming agents, anode dissolving agents, PH buffers, stabilizers, etc. Can also be added. Further, a washing step, a surface activation treatment step, etc. as a pretreatment and a water washing, hot water washing, sealing treatment step etc. as a post step can be added depending on the purpose.

【0026】本発明における被処理物である希土類ボン
ド磁石は錆やすい特性を有しているが、ボンド磁石母材
表面には導電性ペーストが塗装されることから、酸性め
っき浴を特に避ける必要性はないが、それでも表面平滑
処理後の導電性被膜層の一部にボンド磁石母材表面が露
出する可能性に配慮すれば、めっき浴はPHを中性領域
に近いほど、また塩素含有量が少なくしておくことが好
ましいことはいうまでもない。
The rare earth bonded magnet, which is the object to be treated in the present invention, has the property of easily rusting, but since the conductive paste is applied to the surface of the base material of the bonded magnet, it is necessary to avoid the acidic plating bath. However, in consideration of the possibility that the surface of the bonded magnet base material is exposed to a part of the conductive coating layer after the surface smoothing treatment, the closer the PH is to the neutral region of the plating bath, and the chlorine content is higher. Needless to say, it is preferable to reduce the amount.

【0027】また、電気めっき処理に際しては前処理工
程、後処理工程を設けることもでき、前処理には浸漬脱
脂、電解脱脂、浴剤脱脂、酸処理、アルカリ処理、パラ
ジウム処理、水洗等が例示でき、後処理工程にはクロメ
ート処理、水洗、湯洗などが例示できる。
A pretreatment step and a posttreatment step may be provided in the electroplating treatment, and examples of the pretreatment include immersion degreasing, electrolytic degreasing, bath agent degreasing, acid treatment, alkali treatment, palladium treatment, and water washing. The post-treatment process can be exemplified by chromate treatment, water washing, hot water washing and the like.

【0028】次に樹脂と導電性材料粉末との混合物であ
る導電性ペーストについて説明する。導電性ペーストに
含まれる樹脂としては、ボンド磁石の結合剤樹脂と同じ
ものなどが例示できる。また導電性材料粉末には、A
g、Ni、Cu粉末等の金属粉やカーボン粉末、合金粉
末、更には導電性を有する金属酸化物の粉末などが例示
でき、分散性や得ようとする導電性ペーストの導電性な
どを考慮して材質、粒形、粒径が適宜選択される。ま
た、これら導電性粉末を樹脂中に分散させるために、導
電性材料粉末にカップリング剤処理や表面活性処理を施
したり、分散性を向上させ得る成分を樹脂中に添加する
こともできる。
Next, the conductive paste, which is a mixture of resin and conductive material powder, will be described. Examples of the resin contained in the conductive paste include the same as the binder resin of the bond magnet. The conductive material powder contains A
Examples thereof include metal powders such as g, Ni, and Cu powders, carbon powders, alloy powders, and powders of conductive metal oxides. Considering the dispersibility and the conductivity of the conductive paste to be obtained. The material, grain shape, and grain size are appropriately selected. Further, in order to disperse these conductive powders in the resin, the conductive material powder may be subjected to a coupling agent treatment or a surface activation treatment, or a component capable of improving dispersibility may be added to the resin.

【0029】表面平滑処理としては、金属メディア又は
セラミックスメディアあるいはゴム材のような軟質メデ
ィアを用いた打撃処理、あるいはこれらメディアを伴う
攪拌動作、回転動作、又は振動動作による平滑研磨作用
などが採用できる。打撃処理の具体例としてはショット
ピーニングなどが挙げられ、攪拌動作、回転動作、又は
振動動作による平滑研磨作用の具体例としては回転バレ
ルや振動バレルが挙げられる。
As the surface smoothing treatment, a hitting treatment using a metal medium, a ceramics medium, or a soft medium such as a rubber material, a smoothing action by a stirring operation, a rotation operation, or a vibration operation involving these media can be adopted. . Shot peening is a specific example of the hitting process, and a rotary barrel and a vibrating barrel are specific examples of the smooth polishing action by the stirring operation, the rotating operation, or the vibrating operation.

【0030】金属メディアとしては、亜鉛塊、鋳鉄ボー
ル等の金属製ボールが挙げられ、セラミックスメディア
としてはガラス製ボールやその他各種セラミックのボー
ル体が挙げられる。またこれらメディアは球体である以
外に、立方体、多角形、不定形である場合もある。また
比較的粒径の大きい粉体も含まれる。また金属メディア
やセラミックスメディア以外のものも利用可能であり、
有機物の皮屑、おが屑、もみ、ふすま、果実の殻、フェ
ルトくず、ナイロンくず、とうもろこしの軸や研磨石等
も加工対象に応じて適宜選択される。
Examples of the metal media include metal balls such as zinc lumps and cast iron balls, and examples of the ceramic media include glass balls and various other ceramic balls. Besides being spherical, these media may be cubic, polygonal, or irregular. Further, powder having a relatively large particle size is also included. Also, media other than metal media and ceramic media are available,
Organic matter such as shavings, sawdust, chaff, bran, fruit shells, felt scraps, nylon scraps, corn shafts and polishing stones are appropriately selected according to the object to be processed.

【0031】本発明で用いられる被処理物はボンド磁石
であり、その磁力を利用する部品である。したがって、
その利用できる磁力は被覆膜の膜厚が増加するにつれて
低下することはまぬがれない。被膜膜厚は薄いほど有効
に磁力を利用できるが、反面本発明の目的である耐食性
が低下するため目的に応じて被覆膜厚を調整しなければ
ならない。この意味において本発明で施される導電性被
膜層+電気めっき膜厚の総計は5μm以上100μm以
下であることが好ましい。
The object to be processed used in the present invention is a bond magnet, and is a part utilizing its magnetic force. Therefore,
It is unavoidable that the available magnetic force decreases as the coating film thickness increases. The thinner the coating film thickness, the more effectively the magnetic force can be used, but on the other hand, the corrosion resistance, which is the object of the present invention, decreases, so the coating film thickness must be adjusted according to the purpose. In this sense, the total of the electroconductive coating layer + electroplating film thickness applied in the present invention is preferably 5 μm or more and 100 μm or less.

【0032】以下、本発明を実施例及び比較例を挙げて
更に詳細に説明するが、本発明はこれらにより何ら制限
されない。 (実施例及び比較例)32メッシュパスしたNdFeB
系等方性磁粉(ゼネラルモータース社製MQP−B)9
7wt%とエポキシ系接着剤3wt%からなる磁粉コン
パウンドを成形圧力5t/cm2 でプレス成形し、アル
ゴン雰囲気下で180℃で1時間キュアし、φ8mm×
9mmの円柱状のボンド磁石(サンプル)を得た。次い
で導電性ペーストを塗装する前処理としてボンド磁石母
材の予備バレル研磨処理を行った。予備バレル研磨処理
は、3リットル容積の小型振動バレルにφ3.2mmの
スチールボール(見掛け容積2.0リットル)を投入
し、300個のサンプルを投入して10分間行った。小
型振動バレルの振幅は5mm/サイクルであり、振動数
は60Hzである。予備バレル研磨処理を終えたサンプ
ルに対して以下の試験を行った。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited thereto. (Examples and Comparative Examples) NdFeB passed 32 mesh
System isotropic magnetic powder (MQP-B manufactured by General Motors) 9
A magnetic powder compound consisting of 7 wt% and an epoxy adhesive 3 wt% was press-molded at a molding pressure of 5 t / cm 2 and cured under argon atmosphere at 180 ° C. for 1 hour, φ8 mm ×
A 9 mm cylindrical bonded magnet (sample) was obtained. Next, as a pretreatment for coating the conductive paste, a pre-barrel polishing treatment of the bonded magnet base material was performed. The preliminary barrel polishing treatment was carried out by introducing φ3.2 mm steel balls (apparent volume 2.0 liter) into a small oscillating barrel having a volume of 3 liters, and introducing 300 samples for 10 minutes. The small vibrating barrel has an amplitude of 5 mm / cycle and a frequency of 60 Hz. The following tests were performed on the samples that had undergone the preliminary barrel polishing process.

【0033】先ず導電性ペーストとして次の〜を用
意し、それぞれを実施例1,2,3とした。 (実施例1)<フェノール樹脂+銀粉> フェノール樹脂成分 5wt% 銀粉(粒径0.5μm以下) 15wt% MEK(メチルエチルケトン)80wt% (実施例2)<エポキシ樹脂+ニッケル粉> エポキシ樹脂成分(商品名:エピコート1001−B80) 7wt% 硬化剤(商品名:BMI−12) 0.5wt% ニッケル粉(粒径0.7μm以下) 15wt% BGE(ブチルグリシジルエーテル) 77.5wt% (実施例3)<アクリル樹脂+亜鉛> アクリル樹脂成分 30wt% 亜鉛粉(粒径0.5μm以下)20wt% 水 50wt%
First, the following materials (1) to (3) were prepared as conductive pastes, and each of them was used as Examples 1, 2 and 3. (Example 1) <Phenol resin + silver powder> Phenolic resin component 5 wt% Silver powder (particle size 0.5 μm or less) 15 wt% MEK (methyl ethyl ketone) 80 wt% (Example 2) <Epoxy resin + nickel powder> Epoxy resin component (commodity) Name: Epicoat 1001-B80) 7 wt% Curing agent (Brand name: BMI-12) 0.5 wt% Nickel powder (particle size 0.7 μm or less) 15 wt% BGE (Butyl glycidyl ether) 77.5 wt% (Example 3) <Acrylic resin + zinc> Acrylic resin component 30 wt% Zinc powder (particle size 0.5 μm or less) 20 wt% Water 50 wt%

【0034】〜で記載した各液をそれぞれ調整混合
した後、30分以上攪拌してサンプルを浸漬した。浸漬
時間は5分である。浸漬後、ザルカゴにて液切りした
後、直ちに導電性被膜層の表面平滑処理としてのバレル
研磨処理を実施した。導電性被膜層の膜厚は約12μm
である。
After adjusting and mixing the respective liquids described in 1 to 3, the samples were immersed by stirring for 30 minutes or more. The immersion time is 5 minutes. After the immersion, the solution was drained with a basket and immediately subjected to barrel polishing treatment as surface smoothing treatment for the conductive coating layer. The thickness of the conductive coating layer is about 12 μm
Is.

【0035】バレル研磨処理は3リットル容積の小型振
動バレルにφ2.5mmの粒径のスチールボールを(見
掛け容積2.0リットル)を投入し、300個のサンプ
ルを投入して20分間行った。小型振動バレルの振幅は
5mm/サイクルであり、振動数は60Hzである。予
備バレル研磨処理を終えたサンプルに対して以下の試験
を行った。バレル研磨後、メディアであるスチールボー
ルとサンプルを分離してサンプルをキュアーした。キュ
アー条件は次のとおりである。 (実施例1)<フェノール樹脂+銀粉> 150℃ 30分 (実施例2)<エポキシ樹脂+ニッケル粉> 150℃ 30分 (実施例3)<アクリル樹脂+亜鉛> 100℃ 10分
The barrel polishing treatment was carried out by introducing 300 balls of steel balls (apparent volume of 2.0 liters) having a particle diameter of 2.5 mm into a small vibration barrel having a volume of 3 liters, and introducing 300 samples for 20 minutes. The small vibrating barrel has an amplitude of 5 mm / cycle and a frequency of 60 Hz. The following tests were performed on the samples that had undergone the preliminary barrel polishing process. After the barrel polishing, the steel balls as the medium were separated from the sample to cure the sample. The curing conditions are as follows. (Example 1) <Phenol resin + silver powder> 150 ° C 30 minutes (Example 2) <Epoxy resin + nickel powder> 150 ° C 30 minutes (Example 3) <Acrylic resin + zinc> 100 ° C 10 minutes

【0036】導電性被膜層を形成した実施例1,2,3
のボンド磁石の表面抵抗値と同ボンド磁石の各処理段階
における表面抵抗値を測定した。結果を「表1」に示
す。尚、各実施例のサンプル数はそれぞれ500個であ
り、表にはその平均値を示した。
Examples 1, 2, 3 in which a conductive coating layer is formed
The surface resistance value of the bonded magnet and the surface resistance value of the bonded magnet at each treatment step were measured. The results are shown in "Table 1". The number of samples in each example was 500, and the average value is shown in the table.

【0037】[0037]

【表1】 [Table 1]

【0038】また比較例として、ボンド磁石母材表面に
浸漬塗装によりフェノール樹脂層を形成したのち、銀粉
(粒径0.5μm以下)をまぶしたサンプル300個を
前記実施例で使用した小型振動バレル機に投入し、実施
例で使用したメディアと同じメディアを使用して同条件
でバレル研磨処理を行った。結果を「表2」に示す。
In addition, as a comparative example, a small vibrating barrel was used in the above-mentioned embodiment, in which 300 samples, each of which had a phenol resin layer formed on the surface of a bonded magnet base material by dip coating and sprinkled with silver powder (particle size: 0.5 μm or less) It was put into a machine and barrel polishing was performed under the same conditions using the same media as those used in the examples. The results are shown in "Table 2".

【0039】[0039]

【表2】 [Table 2]

【0040】「表1」に示した実施例1,2,3のいず
れもが「表2」として示した比較例1に比べてキュアー
後の表面抵抗値が格段に小さく、優れた導電性を有して
いることが確認された。
Compared to Comparative Example 1 shown in "Table 2", all of Examples 1, 2 and 3 shown in "Table 1" had a remarkably smaller surface resistance value after curing, and had excellent conductivity. It was confirmed to have.

【0041】また、このようにして得られた実施例1,
2,3のサンプルと比較例のサンプルを1%ピロリン酸
カリウム水溶液にて洗浄したのち、従来手法によって電
気めっきを施しニッケルめっき被膜を形成した。膜厚
は、導電性材料含有樹脂塗装が約5μm、全サンプルに
ついて被覆膜厚の総計が30μmになるよう電気めっき
膜厚を調整した。めっき後に洗浄を行い乾燥させたの
ち、完成しためっき被膜を有するボンド磁石を観察し
た。その結果、実施例1,2,3のサンプル表面は極め
て平滑でピンホールがないものが得られた。一方、比較
例1のものも実施例1,2,3のサンプル表面に比べれ
ば若干劣るものの比較的平滑でピンホールのないものが
得られた。比較例1のものが表面平滑度において比較的
良好な結果が得られたのは、そのバレル研磨処理の内容
を表面平滑化を目的とした本発明と同じ内容としたため
であると判断される。
In addition, Example 1 thus obtained
After washing a few samples and comparative samples with a 1% potassium pyrophosphate aqueous solution, electroplating was performed by a conventional method to form a nickel plating film. Regarding the film thickness, the electrocoating film thickness was adjusted so that the conductive material-containing resin coating was about 5 μm and the total coating film thickness was 30 μm for all samples. After washing and drying after plating, the bonded magnet having the completed plating film was observed. As a result, the sample surfaces of Examples 1, 2, and 3 were extremely smooth and free from pinholes. On the other hand, the sample of Comparative Example 1 was relatively inferior to the sample surfaces of Examples 1, 2, and 3, but was relatively smooth and free of pinholes. The reason why the comparative example 1 obtained relatively good results in terms of surface smoothness is considered to be because the content of the barrel polishing treatment was the same as that of the present invention for the purpose of surface smoothing.

【0042】また表面平滑処理(バレル研磨処理)を行
わないことのみが実施例1と相違する比較例2のサンプ
ルを作製して、めっき被膜形成後の表面を観察したとこ
ろ、実施例1,2,3及び比較例1に比べて平滑性に劣
っていることが確認された。
Further, when a sample of Comparative Example 2 which is different from Example 1 only in that the surface smoothing treatment (barrel polishing treatment) is not performed and the surface after the plating film formation was observed, Examples 1 and 2 were obtained. , 3 and Comparative Example 1 were confirmed to be inferior in smoothness.

【0043】次に、実施例1,2,3のサンプルと比較
例1,2のサンプルを切断してその断面構造を観察し
た。この結果、実施例1,2,3のものはいずれもボン
ド磁石母材表面からめっき被膜表面までの平均膜厚が2
3μmであったのに対し、比較例1では31μm、比較
例2では39μmであることが確認された。このことか
ら実施例1,2,3のものはめっき被膜形成後のサンプ
ルの外形寸法とボンド磁石母材の外形寸法との隔たりが
小さく、優れた寸法精度が確保されていることが確認さ
れた。
Next, the samples of Examples 1, 2 and 3 and the samples of Comparative Examples 1 and 2 were cut and their cross-sectional structures were observed. As a result, in each of Examples 1, 2, and 3, the average film thickness from the surface of the bonded magnet base material to the surface of the plating film was 2
It was confirmed to be 31 μm in Comparative Example 1 and 39 μm in Comparative Example 2 while it was 3 μm. From this, it was confirmed that in Examples 1, 2 and 3, there was a small gap between the outer dimensions of the sample after the plating film was formed and the outer dimensions of the bonded magnet base material, and excellent dimensional accuracy was ensured. .

【0044】続いてめっき被膜の剥離試験を行った。剥
離試験方法は、「引き剥がし試験法」で行った。その結
果、めっき被膜を剥離するのに実施例1,2,3では2
9Kgfの引き剥がし力を必要としたのに対し、比較例
1では17Kgfの引き剥がし力、比較例2では11K
gf程度の引き剥がし力でも比較的容易に剥離できるこ
とがわかった。また、比較例1のものは断面構造がボン
ド磁石母材の上に、樹脂層、金属粉層、めっき被膜層が
3層構造となっていることが確認された。比較例1の剥
離強度が弱いのはこの3層構造に起因するものと推測さ
れる。
Then, a peeling test of the plating film was conducted. The peeling test method was the "peeling test method". As a result, it is necessary to remove the plating film in Examples 1, 2 and 3 by 2
A peeling force of 9 Kgf was required, whereas a peeling force of 17 Kgf was used in Comparative Example 1 and 11 K in Comparative Example 2.
It has been found that the peeling force of about gf can be relatively easily peeled. It was also confirmed that the cross-sectional structure of Comparative Example 1 had a three-layer structure of a resin layer, a metal powder layer, and a plating film layer on the bonded magnet base material. The weak peel strength of Comparative Example 1 is presumed to be due to this three-layer structure.

【0045】また実施例1,2,3及び比較例1,2の
サンプルを、80℃×90%RH×600時間の条件で
耐湿試験し、肉眼にて発錆状況について観察を行ったと
ころ、全てのサンプルとも発錆はなく、耐食性について
はいずれのサンプルも合格品であることが確認された。
Further, the samples of Examples 1, 2 and 3 and Comparative Examples 1 and 2 were subjected to a moisture resistance test under the conditions of 80 ° C. × 90% RH × 600 hours, and the rusting condition was visually observed. All samples did not rust, and it was confirmed that all samples were acceptable products in terms of corrosion resistance.

【0046】最後に、上記実施例1,2,3のワークを
作製するに際して要した各段階の時間を示しておく。予
備バレル研磨処理(10分)→導電性ペースト液浸漬
(5分)→バレル研磨処理(20分)→キュアー(〜3
0分)→水洗,ピロリン酸カリウム水溶液による洗浄
(ピロリン酸カリウム水溶液:1分,水洗:2分)→ニ
ッケル電気めっき処理(〜3時間)→水洗,乾燥(水
洗:3分を3回,乾燥:50℃で10分)
Finally, the time of each step required for producing the works of Examples 1, 2 and 3 will be shown. Preliminary barrel polishing treatment (10 minutes) → immersion in conductive paste solution (5 minutes) → barrel polishing treatment (20 minutes) → cure (~ 3)
Washing with water, washing with potassium pyrophosphate aqueous solution (potassium pyrophosphate aqueous solution: 1 minute, washing with water: 2 minutes) → nickel electroplating treatment (up to 3 hours) → washing with water (washing with water: washing with 3 minutes 3 times, drying) : 10 minutes at 50 ° C)

【0047】[0047]

【発明の効果】本発明によれば表面平滑で、耐食性及び
美観に優れるめっき被膜を有するボンド磁石を得ること
ができる。しかもこのボンド磁石はめっき被膜形成後の
外形寸法とボンド磁石母材の外形寸法との隔たりが少な
く寸法精度にも優れるとともに複雑形状にも対応可能で
あり、加えてめっき被膜の密着性にも優れている。また
製造手順も簡易であるから工業的に極めて有益である。
According to the present invention, it is possible to obtain a bonded magnet having a plated film having a smooth surface and excellent corrosion resistance and aesthetics. Moreover, this bond magnet has excellent separation accuracy between the outer dimensions of the bond magnet base material and the outer dimensions of the bond magnet base material, and is capable of handling complex shapes, and also has excellent adhesion of the plating coating. ing. Further, since the manufacturing procedure is simple, it is extremely useful industrially.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明のめっき被膜を有するボンド磁石の製
造方法を示す模式図であり、導電性被膜層形成前の状態
を示す模式図
FIG. 1 is a schematic diagram showing a method for producing a bonded magnet having a plated coating of the present invention, showing a state before forming a conductive coating layer.

【図2】 本発明のめっき被膜を有するボンド磁石の製
造方法を示す模式図であり、導電性被膜層を形成した状
態を示す模式図
FIG. 2 is a schematic diagram showing a method for producing a bonded magnet having a plated coating of the present invention, showing a state in which a conductive coating layer is formed.

【図3】 本発明のめっき被膜を有するボンド磁石の製
造方法を示す模式図であり、導電性被膜層に表面平滑処
理を施した状態を示す模式図
FIG. 3 is a schematic diagram showing a method for producing a bonded magnet having a plated coating of the present invention, showing a state in which a conductive coating layer is subjected to surface smoothing treatment.

【図4】 本発明のめっき被膜を有するボンド磁石の製
造方法を示す模式図であり、めっき被膜層を形成した状
態を示す模式図
FIG. 4 is a schematic diagram showing a method for producing a bonded magnet having a plating film of the present invention, showing a state in which a plating film layer is formed.

【図5】 従来のめっき被膜を有するボンド磁石の製造
方法を示す模式図であり、導電性被膜層形成前の状態を
示す模式図
FIG. 5 is a schematic diagram showing a conventional method for manufacturing a bonded magnet having a plated coating, showing a state before forming a conductive coating layer.

【図6】 従来のめっき被膜を有するボンド磁石の製造
方法を示す模式図であり、導電性被膜層を形成した状態
を示す模式図
FIG. 6 is a schematic diagram showing a conventional method for producing a bonded magnet having a plated coating, showing a state in which a conductive coating layer is formed.

【図7】 従来のめっき被膜を有するボンド磁石の製造
方法を示す模式図であり、めっき被膜層を形成した状態
を示す模式図
FIG. 7 is a schematic diagram showing a conventional method for producing a bonded magnet having a plating film, showing a state in which a plating film layer is formed.

【図8】 従来のめっき被膜を有するボンド磁石の製造
方法を示す模式図であり、導電性被膜層形成前の状態を
示す模式図
FIG. 8 is a schematic diagram showing a conventional method for producing a bonded magnet having a plated coating, showing a state before forming a conductive coating layer.

【図9】 従来のめっき被膜を有するボンド磁石の製造
方法を示す模式図であり、樹脂層を形成した状態を示す
模式図
FIG. 9 is a schematic diagram showing a conventional method for producing a bonded magnet having a plated coating, showing a state in which a resin layer is formed.

【図10】 従来のめっき被膜を有するボンド磁石の製
造方法を示す模式図であり、樹脂層のうえに金属粉体を
まぶした状態を示す模式図
FIG. 10 is a schematic diagram showing a conventional method for manufacturing a bonded magnet having a plated coating, showing a state in which a metal powder is sprinkled on a resin layer.

【図11】 従来のめっき被膜を有するボンド磁石の製
造方法を示す模式図であり、金属粉体を樹脂層に一部侵
入させた状態を示す模式図
FIG. 11 is a schematic diagram showing a conventional method for producing a bonded magnet having a plated coating, showing a state in which a metal powder is partially infiltrated into a resin layer.

【図12】 従来のめっき被膜を有するボンド磁石の製
造方法を示す模式図であり、めっき被膜層を形成した状
態を示す模式図
FIG. 12 is a schematic diagram showing a conventional method for producing a bonded magnet having a plating film, showing a state in which a plating film layer is formed.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

A ボンド磁石母材 B 導電性被膜層 C めっき被膜層 D 樹脂層 D’遷移層 E 導電性被膜層 1 磁性粉体 2 合成樹脂 3 金属粉体 4 樹脂 5 導電性材料粉末 6 導電性ペース
A Bonded magnet base material B Conductive coating layer C Plating coating layer D Resin layer D'Transition layer E Conductive coating layer 1 Magnetic powder 2 Synthetic resin 3 Metal powder 4 Resin 5 Conductive material powder 6 Conductive paste

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01F 41/02 G ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Office reference number FI technical display location H01F 41/02 G

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 R−T−B(RはNd又はその一部を希
土類元素で置換したもの、TはFe又はその一部を遷移
金属元素で置換したもの)で表される磁性粉体と結合剤
とを主たる構成成分としてなるボンド磁石母材と、樹脂
に導電性材料粉末を均一分散した単一層であって、その
表面が基準長さを25mmとしたとき最大高さ
(Rmax )が400μm以下となるように表面粗さが設
定された導電性被膜層と、前記導電性被膜層の上に形成
された電気めっき層とよりなるめっき被膜を有するボン
ド磁石。
1. A magnetic powder represented by RTB (where R is Nd or a part thereof is replaced by a rare earth element, and T is Fe or a part thereof is replaced by a transition metal element). A bonded magnet base material mainly composed of a binder and a single layer in which a conductive material powder is uniformly dispersed in a resin, the surface of which has a maximum height (R max ) when the reference length is 25 mm. A bonded magnet having a plated coating film comprising a conductive coating layer having a surface roughness of 400 μm or less and an electroplating layer formed on the conductive coating layer.
【請求項2】 R−T−B(RはNd又はその一部を希
土類元素で置換したもの、TはFe又はその一部を遷移
金属元素で置換したもの)で表される磁性粉体と結合剤
とを主たる構成成分としてなるボンド磁石において、樹
脂と導電性材料粉末との混合物を塗装してボンド磁石母
材表面に導電性被膜層を形成した後、導電性被膜層の表
面平滑処理を行い、平滑化された導電性被膜層の表面に
電気めっきを施すことを特徴とするめっき被膜を有する
ボンド磁石の製造方法。
2. A magnetic powder represented by R-T-B (R is Nd or a part thereof is replaced with a rare earth element, and T is Fe or a part thereof is replaced with a transition metal element). In a bond magnet having a binder as a main component, a mixture of resin and conductive material powder is applied to form a conductive coating layer on the surface of the bond magnet base material, and then the surface of the conductive coating layer is smoothed. A method for producing a bonded magnet having a plated coating, which comprises performing electroplating on the surface of the smoothed conductive coating layer.
【請求項3】 表面平滑処理後の導電性被膜層の表面抵
抗が0.05〜100Ω/sqである請求項2記載のめ
っき被膜を有するボンド磁石の製造方法。
3. The method for producing a bonded magnet having a plated coating according to claim 2, wherein the surface resistance of the conductive coating layer after the surface smoothing treatment is 0.05 to 100 Ω / sq.
【請求項4】 表面平滑処理後の表面起伏の最大高さ
(Rmax )が、ボンド磁石母材の表面起伏の最大高さ
(Rmax )より低いことを特徴とする請求項2又は3記
載のめっき被膜を有するボンド磁石の製造方法。
4. The maximum height (R max ) of surface undulations after the surface smoothing treatment is lower than the maximum height (R max ) of surface undulations of the bonded magnet base material. A method for producing a bonded magnet having a plating film according to claim 1.
【請求項5】 基準長さを25mmとしたときの表面平
滑処理後の導電性被膜層の最大高さ(Rmax )が、40
0μm以下となるように表面粗さが設定された請求項2
〜4のいずれか1項に記載のめっき被膜を有するボンド
磁石の製造方法。
5. The maximum height (R max ) of the conductive coating layer after the surface smoothing when the reference length is 25 mm is 40.
The surface roughness is set so as to be 0 μm or less.
5. A method for manufacturing a bonded magnet having the plating film according to any one of 4 to 4.
【請求項6】 樹脂と導電性材料粉末との混合物の塗装
方法としてスプレー塗装、又は浸漬塗装を採用してなる
請求項2〜5のいずれか1項に記載のめっき被膜を有す
るボンド磁石の製造方法。
6. Production of a bonded magnet having a plating film according to any one of claims 2 to 5, wherein spray coating or dip coating is adopted as a method for coating the mixture of resin and conductive material powder. Method.
【請求項7】 表面平滑処理が金属メディア又はセラミ
ックスメディアを用いた打撃処理によることを特徴とす
る請求項2〜6のいずれか1項に記載のめっき被膜を有
するボンド磁石の製造方法。
7. The method for producing a bonded magnet having a plated coating according to claim 2, wherein the surface smoothing treatment is a hitting treatment using a metal medium or a ceramic medium.
【請求項8】 表面平滑処理が金属メディア又はセラミ
ックスメディアを伴う攪拌動作、回転動作、又は振動動
作による平滑研磨作用によるものであることを特徴とす
る請求項2〜7のいずれか1項に記載のめっき被膜を有
するボンド磁石の製造方法。
8. The surface smoothing treatment is performed by a smooth polishing action by a stirring action, a rotating action, or a vibrating action involving a metal medium or a ceramic medium, according to any one of claims 2 to 7. A method for producing a bonded magnet having a plating film according to claim 1.
【請求項9】 表面平滑処理後の導電性被膜層の一部に
母材露出部が存在する請求項2〜8のいずれか1項に記
載のめっき被膜を有するボンド磁石の製造方法。
9. The method for producing a bonded magnet having a plated coating according to claim 2, wherein the exposed portion of the base material is present in a part of the conductive coating layer after the surface smoothing treatment.
JP6328743A 1994-12-28 1994-12-28 Bonded magnet having plating film and manufacturing method thereof Pending JPH08186016A (en)

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Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6399150B1 (en) 1999-01-27 2002-06-04 Sumitomo Special Metals Co., Ltd. Rare earth metal-based permanent magnet, and process for producing the same
WO2003038157A1 (en) * 2001-10-29 2003-05-08 Sumitomo Special Metals Co., Ltd. Method for forming electroplated coating on surface of article
US6777097B2 (en) * 2001-06-14 2004-08-17 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Corrosion resistant rare earth magnet and its preparation
EP1455368A1 (en) * 2001-11-20 2004-09-08 Shin-Etsu Chemical Company, Ltd. CORROSION&minus;RESISTANT RARE EARTH ELEMENT MAGNET
US7045923B2 (en) 2003-07-01 2006-05-16 Nidec Corporation Magnetizing method and permanent magnet magnetized thereby
JP2006148157A (en) * 2006-01-26 2006-06-08 Daido Electronics Co Ltd Rare-earth bonded magnet
JP2008184019A (en) * 2007-01-30 2008-08-14 Railway Technical Res Inst Energization rotation device
JP2009152320A (en) * 2007-12-19 2009-07-09 Tdk Corp Rare earth magnet
US20220084746A1 (en) * 2018-12-25 2022-03-17 Daicel Miraizu Ltd. Rare earth magnet precursor or rare earth magnet molded body having roughened structure on surface and method for manufacturing same

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7053745B2 (en) 1999-01-27 2006-05-30 Neomax Co., Ltd. Rare earth metal-based permanent magnet, and process for producing the same
US6399150B1 (en) 1999-01-27 2002-06-04 Sumitomo Special Metals Co., Ltd. Rare earth metal-based permanent magnet, and process for producing the same
US6777097B2 (en) * 2001-06-14 2004-08-17 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Corrosion resistant rare earth magnet and its preparation
WO2003038157A1 (en) * 2001-10-29 2003-05-08 Sumitomo Special Metals Co., Ltd. Method for forming electroplated coating on surface of article
US7449100B2 (en) 2001-10-29 2008-11-11 Hitachi Metals, Ltd. Method for forming electroplating film on surfaces of articles
EP1455368A1 (en) * 2001-11-20 2004-09-08 Shin-Etsu Chemical Company, Ltd. CORROSION&minus;RESISTANT RARE EARTH ELEMENT MAGNET
US7156928B2 (en) 2001-11-20 2007-01-02 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Corrosion-resistant rare earth element magnet
EP1455368A4 (en) * 2001-11-20 2005-03-23 Shinetsu Chemical Co Corrosion-resistant rare earth element magnet
US7045923B2 (en) 2003-07-01 2006-05-16 Nidec Corporation Magnetizing method and permanent magnet magnetized thereby
JP2006148157A (en) * 2006-01-26 2006-06-08 Daido Electronics Co Ltd Rare-earth bonded magnet
JP2008184019A (en) * 2007-01-30 2008-08-14 Railway Technical Res Inst Energization rotation device
JP2009152320A (en) * 2007-12-19 2009-07-09 Tdk Corp Rare earth magnet
US20220084746A1 (en) * 2018-12-25 2022-03-17 Daicel Miraizu Ltd. Rare earth magnet precursor or rare earth magnet molded body having roughened structure on surface and method for manufacturing same
US11810713B2 (en) * 2018-12-25 2023-11-07 Daicel Miraizu Ltd. Rare earth magnet precursor or rare earth magnet molded body having roughened structure on surface and method for manufacturing same

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