JPH08172157A - Semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device

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JPH08172157A
JPH08172157A JP33428194A JP33428194A JPH08172157A JP H08172157 A JPH08172157 A JP H08172157A JP 33428194 A JP33428194 A JP 33428194A JP 33428194 A JP33428194 A JP 33428194A JP H08172157 A JPH08172157 A JP H08172157A
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JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor device
lead
memory alloy
leads
shape memory
Prior art date
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JP33428194A
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Japanese (ja)
Inventor
Nobuyuki Tanaka
信行 田中
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Abstract

PURPOSE: To easily correct deformation when it is generated, by using shape- memory alloy as lead material which alloy has practically sufficient conductivity and thermal expansion coefficient approximate to that of sealing resin. CONSTITUTION: A specific number of leads 2 composed of shape-memory alloy are led out from a resin-molded package. The leads 2 are formed by molding work at a room temperature. In this case, as the shape-memory alloy, the following are used; Fe-Ni based alloy, Ti-Ni based alloy (e.g. Ti of 49.6wt.% and Ni of 50.4wt.%), and Ni-Al based alloy (e.g. Ni of 55.7wt.% and Al of 44.3wt.%). Thereby, when leads 2a, 2b of a part of the leads 2 are deformed by a cause and have abnormal forms, the deformation can be easily corrected by heating the leads at a temperature higher than the shape changing temperature.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、半導体装置に関し、
例えば、樹脂封止型半導体装置に適用して好適なもので
ある。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device,
For example, it is suitable for application to a resin-sealed semiconductor device.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、半導体装置、特に樹脂封止型半導
体装置は、小型化の進展によりリードピッチが狭くなっ
たことに伴い、組立時や組立後にリード変形が起きやす
くなっている。このため、組立時や組立後の半導体装置
の取り扱いにより注意を払ってリード変形が起きないよ
うにしたり、リード変形が起きた場合にはリード変形修
正機によりその変形を修正するようにしていた。
2. Description of the Related Art In recent years, a semiconductor device, particularly a resin-sealed semiconductor device, is apt to be deformed during or after assembling because the lead pitch has become narrower due to the progress of miniaturization. For this reason, attention has been paid to prevent lead deformation from occurring during assembly and after handling the semiconductor device, and when lead deformation occurs, the lead deformation correcting machine corrects the deformation.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
ようにリード変形修正機によりリードの変形を修正する
場合には、リード変形修正機の導入コストがかかった
り、半導体装置の製造工程が増えることにより、製造コ
ストが高くなってしまう。また、組立時や組立後に半導
体装置の取り扱いに必要以上に注意を払わなければなら
ないため、煩雑であった。さらに、半導体装置を使用す
る側でも、リード変形を起こした半導体装置を基板に実
装する際に、リード間のショートやリードと基板のラン
ドとの間のはんだ付け不良などが起きないように注意を
払う必要があり、煩雑であった。
However, when the lead deformation correction machine is used to correct the lead deformation as described above, the lead deformation correction machine is expensive to introduce and the number of semiconductor device manufacturing steps is increased. However, the manufacturing cost becomes high. In addition, since it is necessary to take extra care in handling the semiconductor device during and after assembly, it is complicated. Furthermore, on the side that uses the semiconductor device, when mounting a semiconductor device with deformed leads on the board, be careful not to cause short circuits between leads or defective soldering between the leads and the land of the board. It had to be paid and was complicated.

【0004】したがって、この発明の目的は、リードの
変形が起きても容易にその変形を修正することができる
半導体装置を提供することにある。
Therefore, it is an object of the present invention to provide a semiconductor device which can easily correct the deformation of the lead even if the deformation occurs.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、この発明は、リードを有する半導体装置において、
リードが形状記憶合金からなることを特徴とするもので
ある。
In order to achieve the above object, the present invention provides a semiconductor device having a lead,
The lead is made of a shape memory alloy.

【0006】この発明において、形状記憶合金として
は、リードの材料として実用上十分な導電性を有するも
のであれば、基本的にはどのようなものでも用いること
ができるが、実際上は、半導体装置の種類などに応じて
最適なものが用いられる。例えば、樹脂封止型半導体装
置の場合には、好適には、使用される樹脂と熱膨張係数
ができるだけ近い形状記憶合金が用いられる。
In the present invention, basically any shape memory alloy can be used as long as it has a practically sufficient conductivity as a material of the lead, but in reality, it is a semiconductor. The most suitable one is used according to the type of device. For example, in the case of a resin-sealed semiconductor device, a shape memory alloy whose thermal expansion coefficient is as close as possible to that of the resin used is preferably used.

【0007】この形状記憶合金の具体的な例をいくつか
挙げると、鉄−ニッケル(Fe−Ni)系合金、チタン
−ニッケル(Ti−Ni)系合金、ニッケル−アルミニ
ウム(Ni−Al)系合金などである。このうちTi−
Ni系合金の一例はTiが49.6重量%、Niが5
0.4重量%のものであり、その形状変化温度は80℃
である。また、Ni−Al系合金の一例はNiが55.
7重量%、Alが44.3重量%のものであり、その形
状変化温度は60℃である。
Some specific examples of the shape memory alloy are iron-nickel (Fe-Ni) alloys, titanium-nickel (Ti-Ni) alloys, nickel-aluminum (Ni-Al) alloys. And so on. Of these Ti-
An example of a Ni-based alloy is 49.6% by weight of Ti and 5% of Ni.
0.4% by weight, its shape change temperature is 80 ℃
Is. Further, in an example of the Ni-Al alloy, Ni is 55.
7% by weight and 44.3% by weight of Al, and the shape change temperature thereof is 60 ° C.

【0008】この発明の一実施形態においては、半導体
装置の組立工程において形状記憶合金からなるリードフ
レームを成形加工することによりリードを形成した後、
半導体装置を基板に実装する前に、その形状記憶合金の
形状変化温度以上の温度に加熱することによりリードの
変形を修正する。
In one embodiment of the present invention, after forming a lead by forming a lead frame made of a shape memory alloy in a semiconductor device assembling process,
Before mounting the semiconductor device on the substrate, the lead is deformed by heating it to a temperature not lower than the shape change temperature of the shape memory alloy.

【0009】この発明の他の一実施形態においては、は
んだペーストが塗布された基板に半導体装置を搭載した
後、形状記憶合金の形状変化温度以上の温度に加熱され
たはんだリフロー炉の中に基板を通すことにより、リー
ドをはんだ付けするとともにリードの変形を修正する。
In another embodiment of the present invention, after mounting a semiconductor device on a substrate coated with a solder paste, the substrate is placed in a solder reflow furnace heated to a temperature higher than the shape change temperature of the shape memory alloy. The lead is soldered and the deformation of the lead is corrected.

【0010】この発明は、樹脂封止型半導体装置に好適
に適用されるが、基本的には、リードを有する半導体装
置全般に適用することが可能である。また、この発明
は、集積回路などの多数のリードを有する半導体装置に
特に好適に適用される。
Although the present invention is preferably applied to a resin-sealed semiconductor device, it can be basically applied to all semiconductor devices having a lead. The present invention is particularly preferably applied to a semiconductor device having a large number of leads such as an integrated circuit.

【0011】[0011]

【作用】上述のように構成されたこの発明による半導体
装置によれば、リードが形状記憶合金からなることによ
り、このリードはリードフレームの成形加工により形成
されたときの形状を記憶している。このため、半導体装
置の組立時や組立後にリード変形が起きても、その形状
記憶合金の形状変化温度以上の温度に半導体装置を加熱
することにより、容易にリードの変形を修正することが
できる。
According to the semiconductor device of the present invention configured as described above, since the lead is made of the shape memory alloy, the lead stores the shape of the lead frame formed by the molding process. Therefore, even if lead deformation occurs during or after assembly of the semiconductor device, the lead deformation can be easily corrected by heating the semiconductor device to a temperature not lower than the shape change temperature of the shape memory alloy.

【0012】[0012]

【実施例】以下、この発明の一実施例について図面を参
照しながら説明する。図1にこの発明の一実施例による
樹脂封止型半導体装置を示す。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 shows a resin-sealed semiconductor device according to an embodiment of the present invention.

【0013】図1に示すように、この一実施例による樹
脂封止型半導体装置においては、樹脂モールドによるパ
ッケージ1から、形状記憶合金からなるリード2が所定
本数引き出されている。これらのリード2は、その形状
記憶合金からなるリードフレームを例えば室温で成形加
工することにより形成されたものである。
As shown in FIG. 1, in the resin-sealed semiconductor device according to this embodiment, a predetermined number of leads 2 made of a shape memory alloy are drawn out from a package 1 made of a resin mold. These leads 2 are formed by molding a lead frame made of the shape memory alloy at room temperature, for example.

【0014】この場合、この形状記憶合金としては、F
e−Ni系合金、Ti−Ni系合金(例えば、Tiが4
9.6重量%、Niが50.4重量%のもの)、Ni−
Al系合金(例えば、Niが55.7重量%、Alが4
4.3重量%のもの)などが用いられる。
In this case, the shape memory alloy is F
e-Ni-based alloy, Ti-Ni-based alloy (for example, Ti is 4
9.6 wt%, Ni 50.4 wt%), Ni-
Al-based alloy (for example, Ni 55.7 wt%, Al 4
4.3% by weight) and the like are used.

【0015】次に、この一実施例による樹脂封止型半導
体装置のリード2の変形を修正する方法について説明す
る。
Next, a method of correcting the deformation of the lead 2 of the resin-sealed semiconductor device according to this embodiment will be described.

【0016】今、図2に示すように、何らかの原因でリ
ード2の一部のリード2a、2bが変形して正規の形状
でなくなったとする。そこで、これらのリード2a、2
bの変形を修正するために、この樹脂封止型半導体装置
を、リード2の材料として用いられた形状記憶合金の形
状変化温度よりも高い温度に加熱する。すると、この形
状記憶合金からなるリード2は、リードフレームの成形
加工により形成されたときの正規な形状を記憶している
ため、この元の正規な形状に戻る。これによって、リー
ド2a、2bの変形が修正される。
It is assumed that, as shown in FIG. 2, some of the leads 2a, 2b of the lead 2 are deformed for some reason and are no longer in a regular shape. Therefore, these leads 2a, 2
In order to correct the deformation of b, the resin-sealed semiconductor device is heated to a temperature higher than the shape change temperature of the shape memory alloy used as the material of the lead 2. Then, the lead 2 made of this shape memory alloy remembers the regular shape when it is formed by the molding process of the lead frame, and thus returns to this original regular shape. As a result, the deformation of the leads 2a and 2b is corrected.

【0017】また、この樹脂封止型半導体装置を基板に
実装するときにリード2a、2bの変形を発見したよう
な場合には、次のようにしてその変形を修正することも
できる。
If a deformation of the leads 2a, 2b is found when the resin-encapsulated semiconductor device is mounted on a substrate, the deformation can be corrected as follows.

【0018】今、はんだリフロー法によりこの樹脂封止
型半導体装置を基板にはんだ付けして実装する場合を考
える。この場合、まず、あらかじめはんだペーストが塗
布された基板の所定位置にこの樹脂封止型半導体装置を
搭載した後、はんだリフロー炉の中にこの基板を通す。
このはんだリフロー炉の温度は例えば220℃程度であ
り、通常、形状記憶合金の形状変化温度よりも十分に高
い。このため、このはんだリフロー炉の中に基板を通す
と、はんだリフローが起きてリード2がはんだ付けされ
ると同時に、上述と同様にしてリード2a、2bが正規
の形状に戻ってその変形が修正される。これによって、
リード2間のショートや、リード2と基板のランドとの
間のはんだ未接合などのはんだ付け不良が防止され、樹
脂封止型半導体装置は高い信頼性で基板に確実に実装さ
れる。
Now, consider a case where this resin-sealed semiconductor device is soldered and mounted on a substrate by the solder reflow method. In this case, first, the resin-encapsulated semiconductor device is mounted at a predetermined position on the substrate to which the solder paste has been applied in advance, and then the substrate is passed through a solder reflow furnace.
The temperature of this solder reflow furnace is, for example, about 220 ° C., which is usually sufficiently higher than the shape change temperature of the shape memory alloy. Therefore, when the substrate is passed through this solder reflow furnace, the solder reflow occurs and the leads 2 are soldered, and at the same time, the leads 2a and 2b return to their normal shapes in the same manner as described above, and their deformation is corrected. To be done. by this,
A short circuit between the leads 2 and a soldering failure such as unbonded solder between the leads 2 and the land of the substrate are prevented, and the resin-sealed semiconductor device is reliably mounted on the substrate with high reliability.

【0019】以上のように、この一実施例によれば、樹
脂封止型半導体装置のリード2が形状記憶合金からなる
ことにより、組立時や組立後に何らかの原因でリード2
の変形が起きても、その形状記憶合金の形状変化温度以
上の温度にこの樹脂封止型半導体装置を加熱することに
より、容易にその変形を修正することができる。
As described above, according to this embodiment, since the leads 2 of the resin-sealed semiconductor device are made of a shape memory alloy, the leads 2 may be assembled for some reason during or after the assembly.
Even if the deformation occurs, the deformation can be easily corrected by heating the resin-sealed semiconductor device to a temperature equal to or higher than the shape change temperature of the shape memory alloy.

【0020】また、リード変形修正機を用いる必要がな
くなるので、このリード変形修正機を用いることによる
樹脂封止型半導体装置の製造コストの増加を防止するこ
とができる。さらに、この樹脂封止型半導体装置の組立
後にリード2の変形を容易に修正することができること
により、この樹脂封止型半導体装置の組立時や組立後に
その取り扱いに必要以上に注意を払う必要がなくなり、
従来に比べてその取り扱いが簡単になる。
Further, since it is not necessary to use the lead deformation correcting machine, it is possible to prevent the manufacturing cost of the resin-sealed semiconductor device from increasing due to the use of the lead deformation correcting machine. Furthermore, since the deformation of the leads 2 can be easily corrected after the resin-sealed semiconductor device is assembled, it is necessary to take extra care when handling the resin-sealed semiconductor device during or after the assembly. Disappeared
It is easier to handle than before.

【0021】以上、この発明の一実施例について具体的
に説明したが、この発明は、上述の実施例に限定される
ものではなく、この発明の技術的思想に基づく各種の変
形が可能である。
Although one embodiment of the present invention has been specifically described above, the present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications can be made based on the technical idea of the present invention. .

【0022】例えば、上述の一実施例においては、この
発明を樹脂封止型半導体装置に適用した場合について説
明したが、この発明は、例えばセラミックパッケージ型
半導体装置に適用することも可能である。
For example, although the case where the present invention is applied to the resin-encapsulated semiconductor device has been described in the above-mentioned embodiment, the present invention can also be applied to, for example, a ceramic package-type semiconductor device.

【0023】[0023]

【発明の効果】以上述べたように、この発明によれば、
リードが形状記憶合金からなることにより、リードの変
形が起きても、その形状記憶合金の形状変化温度以上の
温度に加熱することにより、容易にその変形を修正する
ことができる。
As described above, according to the present invention,
Since the lead is made of a shape memory alloy, even if the lead is deformed, the deformation can be easily corrected by heating to a temperature equal to or higher than the shape change temperature of the shape memory alloy.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明の一実施例による樹脂封止型半導体装
置を示す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing a resin-sealed semiconductor device according to an embodiment of the present invention.

【図2】この発明の一実施例による樹脂封止型半導体装
置の一部のリードが変形した状態を示す一部拡大斜視図
である。
FIG. 2 is a partially enlarged perspective view showing a state in which some leads of the resin-encapsulated semiconductor device according to one embodiment of the present invention are deformed.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 パッケージ 2 リード 2a、2b 変形したリード 1 Package 2 Lead 2a, 2b Deformed lead

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 リードを有する半導体装置において、 上記リードが形状記憶合金からなることを特徴とする半
導体装置。
1. A semiconductor device having a lead, wherein the lead is made of a shape memory alloy.
【請求項2】 上記形状記憶合金は鉄−ニッケル系合金
であることを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the shape memory alloy is an iron-nickel alloy.
【請求項3】 上記形状記憶合金はチタン−ニッケル系
合金であることを特徴とする請求項1記載の半導体装
置。
3. The semiconductor device according to claim 1, wherein the shape memory alloy is a titanium-nickel alloy.
【請求項4】 上記形状記憶合金はニッケル−アルミニ
ウム系合金であることを特徴とする請求項1記載の半導
体装置。
4. The semiconductor device according to claim 1, wherein the shape memory alloy is a nickel-aluminum alloy.
【請求項5】 上記半導体装置の組立工程において上記
形状記憶合金からなるリードフレームを成形加工するこ
とにより上記リードを形成した後、上記半導体装置を基
板に実装する前に、上記形状記憶合金の形状変化温度以
上の温度に加熱することにより上記リードの変形を修正
するようにしたことを特徴とする請求項1記載の半導体
装置。
5. The shape of the shape memory alloy is formed after forming the leads by forming a lead frame made of the shape memory alloy in the assembling process of the semiconductor device and before mounting the semiconductor device on a substrate. The semiconductor device according to claim 1, wherein the deformation of the lead is corrected by heating to a temperature equal to or higher than the changing temperature.
【請求項6】 はんだペーストが塗布された基板に上記
半導体装置を搭載した後、上記形状記憶合金の形状変化
温度以上の温度に加熱されたはんだリフロー炉の中に上
記基板を通すことにより、上記リードをはんだ付けする
とともに、上記リードの変形を修正するようにしたこと
を特徴とする請求項1記載の半導体装置。
6. The semiconductor device is mounted on a substrate coated with a solder paste, and then the substrate is passed through a solder reflow furnace heated to a temperature not lower than the shape change temperature of the shape memory alloy. The semiconductor device according to claim 1, wherein the lead is soldered and the deformation of the lead is corrected.
【請求項7】 上記半導体装置は樹脂封止型半導体装置
であることを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
7. The semiconductor device according to claim 1, wherein the semiconductor device is a resin-sealed semiconductor device.
JP33428194A 1994-12-16 1994-12-16 Semiconductor device Pending JPH08172157A (en)

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